KR20120028741A - Light emitting device - Google Patents
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Abstract
실시예는 기판에 형성되는 패턴을 복층으로 형성하여 기판으로 흡수되거나, 기판에서 전반사를 이루는 빛을 감소시키며, 발광 되는 빛의 광 추출효율을 최대화하는 발광 소자를 제안한다. The embodiment proposes a light emitting device in which a pattern formed on a substrate is formed in multiple layers to reduce light absorbed into the substrate or total reflection from the substrate, and maximize light extraction efficiency of the emitted light.
Description
실시예는 기판 방향으로 흡수, 및 손실되는 광의 손실을 최소화한다.The embodiment minimizes absorption in the direction of the substrate and loss of light lost.
통상, 질화물 계열의 발광 소자는 자외선 내지 녹색 영역에 대응하는 파장의 빛을 생성하는 발광 구조물과, 발광 구조물을 지지하는 기판을 포함한다. 발광 구조물은 전 방향으로 빛을 방출하며, 일부는 기판 방향으로 진행하여 기판에 흡수되거나, 또는 산란되어 발광 소자의 광 추출 효율을 떨어뜨리고 있다. In general, the nitride-based light emitting device includes a light emitting structure for generating light having a wavelength corresponding to an ultraviolet to green region, and a substrate supporting the light emitting structure. The light emitting structure emits light in all directions, and part of the light emitting structure travels in the direction of the substrate and is absorbed or scattered by the substrate to reduce light extraction efficiency of the light emitting device.
현재, 기판에는 발광 구조물과 이웃하는 접합 면에 요철 구조의 패턴을 형성하여 발광 구조물에서 입사되는 빛을 발광 구조물 방향으로 반사하는 방법이 적용되고 있다. 그러나, 기판에 입사된 빛의 일부는 발광 구조물로 향하지 않고, 재차 기판에 흡수되거나, 기판과 발광 구조물 사이에서 전반사를 반복하여 발광 소자의 전체 광 추출 효율을 감소시키는 경향이 있다. 이에, 기판을 향하는 빛을 외부로 추출하기 위한 새로운 구조의 기판이 요구되고 있다.Currently, a method of reflecting light incident from the light emitting structure toward the light emitting structure by forming a pattern of an uneven structure on a junction surface adjacent to the light emitting structure is applied to the substrate. However, some of the light incident on the substrate does not direct to the light emitting structure, but is absorbed by the substrate again, or the total reflection between the substrate and the light emitting structure tends to reduce the overall light extraction efficiency of the light emitting device. Accordingly, there is a need for a substrate having a new structure for extracting light directed toward the substrate to the outside.
실시예는 기판에 형성되는 패턴을 2중으로 형성하여 기판으로 흡수되거나, 기판에서 전반사를 이루는 빛의 광 추출효율을 최대화한다.The embodiment maximizes the light extraction efficiency of light absorbed into the substrate by forming a double pattern formed on the substrate or total reflection on the substrate.
실시예에 따른 발광 소자는, 기판, 및 상기 기판에 적층되며, 활성층에 캐리어를 제공하는 제1도전성 반도체층, 및 제2도전성 반도체층을 구비하는 발광 구조물을 포함하며, 상기 기판은, 상기 발광 구조물과 이웃하는 접합 면에 형성되는 제1 광추출패턴, 및 바닥면에 형성되는 제2 광추출패턴을 포함한다. A light emitting device according to an embodiment includes a substrate, and a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer stacked on the substrate and providing a carrier to an active layer, and a second conductive semiconductor layer, wherein the substrate emits light. It includes a first light extraction pattern formed on the bonding surface adjacent to the structure, and a second light extraction pattern formed on the bottom surface.
여기서, 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴은 동일 패턴이거나 서로 다른 패턴일 수 있으며, 동일 패턴일 경우, 상호 어긋나게 배열될 수 있다.Here, the first light extraction pattern and the second light extraction pattern may be the same pattern or different patterns, and in the case of the same pattern, they may be arranged to be offset from each other.
여기서, 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴은, 접합 면 방향, 또는 접합 면과 반대되는 방향으로 돌출되는 요철구조일 수 있다.Here, the first light extraction pattern and the second light extraction pattern may be a concave-convex structure protruding in the bonding surface direction or in a direction opposite to the bonding surface.
또한, 바닥면에는 요철 구조 사이는 Al, Ag, 및 이들에 대한 금속 산화물을 충진하여 반사층을 형성할 수도 있다. In addition, the bottom surface may be filled with Al, Ag, and metal oxides thereof between the uneven structures to form a reflective layer.
실시예에 따르면, 기판을 향하는 빛을 외부로 추출하여 발광 소자의 전체 광 추출효율을 증가시킬 수 있다.According to the embodiment, the light toward the substrate can be extracted to the outside to increase the overall light extraction efficiency of the light emitting device.
도 1은 실시예에 따른 발광 구조물에 대한 개념도,
도 2 내지 도 7은 실시예에 따른 발광 소자의 패턴 구조에 대한 제1, 내지 제7 실시예에 대한 참조도면, 그리고
도 8 내지 도 11은 실시예에 따른 광추출패턴의 다른 예를 도시한다.1 is a conceptual diagram of a light emitting structure according to an embodiment;
2 to 7 are reference drawings for the first to seventh embodiments of the pattern structure of the light emitting device according to the embodiment, and
8 to 11 show another example of the light extraction pattern according to the embodiment.
실시예에 대한 설명에서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴이나 타 구조물의 "위(on)"에, "아래(under)"에, 상측(upper)에, 또는 하측(lower)에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)", "아래(under)", 상측(upper), 및 하측(lower)은 "직접(directly)" 또는 "다른 층, 또는 구조물을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure is “under” a substrate, each layer (film), region, pad, or “on” of a pattern or other structure. In the case of being described as being formed on the upper or lower, the "on", "under", upper, and lower are "direct" "directly" or "indirectly" through other layers or structures.
또한 각 층, 또는 구조물들간의 위치관계에 대한 설명은 본 명세서, 또는 본 명세서에 첨부되는 도면을 참조하도록 한다. In addition, the description of the positional relationship between each layer or structure, please refer to this specification, or drawings attached to this specification.
도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기와 면적은 실제크기나 면적을 전적으로 반영하는 것은 아니다.
The thickness and size of each layer in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. In addition, the size and area of each component does not necessarily reflect the actual size or area.
이하, 첨부되는 도면을 참조하여 실시예에 따른 발광 소자에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, a light emitting device according to an embodiment will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 실시예에 따른 발광 구조물에 대한 개념도를 나타낸다. 1 illustrates a conceptual diagram of a light emitting structure according to an embodiment.
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 발광 소자는 발광 구조물(110), 및 기판(120)을 구비한다. 발광 구조물(110)은 외부 전원에 의해 구동되는 활성층(112), 활성층(112)의 하측과 상측에 마련되어 활성층(112)으로 캐리어를 제공하는 제1도전성 반도체층(111)과 제2도전성 반도체층(113), 및 활성층(112)에서 생성된 빛을 외부로 투과하는 투광성 전극층(114)을 포함할 수 있다. 이 외에, 발광 구조물은 제2도전성 반도체층(113)에서 제1도전성 반도체층(111)으로 향하는 캐리어를 확산하기 위한 전류 확산층(미도시), 또는 외부 ESD(ElectroStatic Discharge)에 저항하기 위한 ESD 저항층을 더 포함할 수 있으나, 이에 한정하지 않는다.Referring to FIG. 1, the light emitting device according to the embodiment includes a
기판(120)은 발광 구조물(110)을 지지하며, 발광 구조물(110)에서 생성된 빛 중 기판(120)을 향하는 빛을 산란시켜 광 추출효율을 증가시킨다. 기판(120)은 발광 구조물(110)의 두께 대비 10배 이사의 두께로 형성될 수 있다. 기판(120)의 두께는 제2 광추출패턴(124)의 형성을 위해 충분히 확보되어야 하며, 바닥면(122)의 요철구조가 외부로 돌출되는 형태일 경우, 더 두꺼운 두께가 요구될 수 있다. 예컨대, 발광 구조물(110)이 7㎛ ? 8㎛의 두께인 경우, 기판(120)은 70㎛ ? 80㎛의 두께, 또는 그 이상의 두께로 형성될 수 있다. The
기판(120)은 발광 구조물(110)과 이웃하는 접합 면(121), 및 패키지 몸체(미도시)에 마운트할 바닥면(122)을 구비하며, 접합 면(121)과 바닥면(122)에는 광 추출을 위한 패턴이 형성될 수 있다. 접합 면(121)에 형성되는 패턴(이하, "제1 광추출패턴"이라 한다)은 발광 구조물(110)에서 기판(120)으로 향하는 빛을 산란하기 위해 마련되고, 바닥면(122)에 형성되는 패턴(이하, "제2 광추출패턴"이라 한다)은 제1 광추출패턴(123)을 투과하여 바닥면(122)를 향하는 빛을 발광 소자의 측면, 또는 발광 구조물(110) 방향으로 산란하기 위해 마련된다.The
제1 광추출패턴(123)은 발광 구조물(110)을 적층하기 이전에, 그리고 제2 광추출패턴(124)은 기판(120)에 발광 구조물(110)을 적층하기 이전, 또는 이후에 캐미컬 에칭, 드라이 에칭, 레이저 빔을 이용한 스크래칭, 또는 다이아몬드 팁이나 다이아몬드 블레이드를 이용하여 기판(120)의 표면을 긁어서 형성할 수 있다.The first
제1 광추출패턴(123)과 제2 광추출패턴(124)은 기판(120)에 발광 구조물(110)을 적층하기 이전에 캐미컬 애칭, 레이저 빔을 이용한 스크래칭, 또는 다이아몬드 팁이나 다이아몬드 블레이드를 이용하여 기판(120)의 표면을 긁어서 형성할 수 있다. 제1 광추출패턴(123)은 발광 구조물(110) 방향으로 돌출되는 요철 형상을 갖거나, 또는 바닥면(123) 방향으로 돌출되는 요철 형태로 형성될 수 있다. 마찬가지로, 제2 광추출패턴(124) 또한, 발광 구조물(110) 방향으로 돌출되는 요철 형태이거나, 발광 구조물(110)에서 기판(120)을 향하는 방향에 따라 돌출되는 요철 형태일 수 있다. The first
제1 광추출패턴(123)과 제2 광추출패턴(124)은 발광 구조물(110)에서 방출되는 빛이 기판(120)과 발광 구조물(110) 사이에서 전반사를 이루지 않도록 한다. 제2 광추출패턴(124)은 제1 광추출패턴(123), 및 기판(120)의 좌측, 및 우측 측면 중 어느 한 방향으로 빛을 산란시켜 발광 구조물(110)에서 생성된 빛이 최대한 외부로 향하도록 한다. The first
한편, 제2 광추출패턴(124)을 구성하는 요철 구조 사이의 폭이나, 요철 구조의 깊이는 발광 구조물(110), 및 기판(120)의 임계각을 고려하여 결정될 수 있다. 이때, 제1 광추출패턴(123)과 제2 광추출패턴(124)의 요철 구조 사이의 간격은 임계각으로 입사되는 빛의 파장보다 더 큰 폭과 간격을 가지는 것이 바람직하며, 폭은 0.001㎛ ? 10㎛의 범위로 형성될 수 있고, 간격은 0.05㎛ ? 1.5㎛로 형성될 수 있다. Meanwhile, the width between the uneven structures constituting the second
도 2 내지 도 7은 실시예에 따른 발광 소자의 패턴 구조에 대한 제1, 내지 제7 실시예를 도시한다. 2 to 7 illustrate first and seventh embodiments of the pattern structure of the light emitting device according to the embodiment.
먼저, 도 2를 참조하면, 발광 구조물(120) 방향으로 돌출되는 제1 광추출패턴(123)과 기판(110)의 하측에 형성되는 제2 광추출패턴(124)은 동일한 형태의 패턴으로 구성되는 2중 구조를 갖는다. 제1 광추출패턴(123)과 제2 광추출패턴(124)이 동일한 형태로 형성됨에 따라, 제1 광추출패턴(123)과 제2 광추출패턴(124)은 동일한 식각 공정이나 레이저 공정에 의해 용이하게 구현될 수 있다.First, referring to FIG. 2, the first
다음으로, 도 3을 참조하면, 제1 광추출패턴(211)과 제2 광추출패턴(212)는 동일한 형태의 패턴을 가지는 2중 구조이며, 서로 반대 방향으로 돌출된다. 제1 광추출패턴(211)은 발광 구조물(220) 방향으로 돌출되고, 제2 광추출패턴(212)은 기판(210)의 하측으로 돌출되도록 배열된다. 이때, 제1 광추출패턴(211)과 제2 광추출패턴(212)의 돌출 영역은 서로 어긋나게 배열될 수 있다. 발광 구조물(220)에서 수직하게 직하하여 제1 광추출패턴(211)의 비 돌출영역으로 향하는 라인(L1)을 기준으로 볼 때, 제2 광추출패턴(212)의 돌출영역이 라인(L1)에 대응하며, 발광 구조물(220)에서 직하하는 빛(L1)이 제2 광추출패턴(212)에서 재차 산란하도록 유도할 수 있다. Next, referring to FIG. 3, the first
다음으로, 도 4를 참조하면, 제1 광추출패턴(231)과 제2 광추출패턴(232)는 서로 상이한 형태를 가질 수 있다. 제1 광추출패턴(231)은 원형 도트(dot)가 발광 구조물(240) 방향으로 돌출되는 형태를 가지고, 제2 광추출패턴(232)은 삼각 패턴이 기판(230)의 하측 방향으로 돌출되어 구성될 수 있다.Next, referring to FIG. 4, the first
다음으로, 도 5는 기판(250)의 하단에 레이저 빔, Ion-beam, E-beam등을 조사하여 형성한 광 추출패턴의 일 예를 도시한다. 도 5는 기판(250)의 하단에 레이저 빔, Ion-beam, E-beam 등을 조사하여 기판(250) 하단에, 단면이 사각인 제2 광추출패턴(252)을 구현하고 있다. 제2 광추출패턴(252)의 상측 방향에는 발광 구조물(260) 방향으로 돌출되는 제1 광추출패턴(251)이 형성되어 이중 패턴을 구성하고 있다.Next, FIG. 5 illustrates an example of a light extraction pattern formed by irradiating a laser beam, an ion beam, an E-beam, and the like on the lower end of the
다음으로, 도 6을 참조하면, 발광 구조물(280) 방향으로 돌출되는 제1 광추출패턴(271)과, 기판(270)의 하측으로 돌출되는 사다리꼴 형상의 제2 광추출패턴(272)이 예시된다. 제2 광추출패턴(272)은 기판(270)의 하측 면을 캐미컬 식각하여 형성한 것으로, 기판(270)의 하측 면에서 발광 구조물(280) 방향으로 음각 처리될 수 있다. Next, referring to FIG. 6, the first
다음으로, 도 7은 발광 구조물(300) 방향으로 돌출되는 제1 광추출패턴(291), 및 기판(290)의 하측으로 돌출되는 제2 광추출패턴(292)이 2중 광추출패턴을 형성하는 일 예를 도시한다. 도 7에서, 제2 광추출패턴(292)은 기판(290)의 하측 면을 양각으로 식각하여 형성한 패턴으로, 도 6에 도시된 제2 광추출패턴(272)과는 달리 패턴의 형상이 기판(290)의 내측으로 향하지 않도록 형성된다. Next, FIG. 7 shows the first
이러한 구조에서, 제2 광추출패턴(292)을 구성하는 각 패턴 사이에는 Ag, Al, 또는 이들의 산화물이 충진되어 반사층을 형성할 수 있으며, 광 추출 효율을 더욱 증가시킬 수 있다.In this structure, Ag, Al, or an oxide thereof may be filled between the patterns constituting the second
여기서, 도 2 내지 도 6에서 언급된 제2 광추출패턴(122, 212, 232, 252) 또한, 기판의 하측에 노출되는 패턴 사이에 Ag, Al, 또는 이들의 산화물이 충진되어 반사층을 형성할 수도 있다. Here, the second
또한, 도 2 내지 도 7에 언급된 제1 광추출패턴(123, 211, 231, 251, 271)과 제2 광추출패턴(122, 212, 232, 252, 272)은 캐미컬 식각, 드라이 식각, 또는 레이저 빔에 의한 레이저 스크래치에 의해 형성 가능하나, 제조상의 편의성에 따라 선택적으로 이용되거나 함께 이용될 수 있음은 물론이다 In addition, the first
도 8 내지 도 11은 실시예에 따른 광추출패턴의 다른 예를 도시한다.8 to 11 show another example of the light extraction pattern according to the embodiment.
도 8 내지 도 11에 도시된 광추출패턴은 도 2 내지 도 7에 도시된 제1 광추출패턴(123, 211, 231, 251, 271, 이하 생략함), 또는 제2 광추출패턴(122, 212, 232, 252, 272, 이하 생략함)에 적용될 수 있으며, 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴이 동일 형상이거나, 또는 다른 형상이어도 무방하다. 다만 이에 한정하지는 않는다. The light extraction patterns illustrated in FIGS. 8 to 11 may include the first
먼저, 도 8은, 제1, 또는 제2 광추출패턴 중 하나가 사각의 격자 형태를 갖는 일 예를 도시하며, 도 9는 사선의 체크 무늬로 형성되는 일 예를 나타내고, 도 10은 원형의 도트 무늬로 형성되는 일 예를 나타내며, 도 11은 벌집 형태의 육각 패턴에 대한 일 예를 나타낸다. 도시된 패턴들은 도 2 내지 도 7을 통해 설명된 구조에서 제1 광추출패턴에 대응하거나, 또는 제2 광추출패턴에 대응될 수 있다. 도 8, 또는 도 9의 격자 형태나 체크무늬 형태는 레이저 빔을 이용하거나 다이아몬드 팁이나 다이아몬드 블레이드로 긁어서 형성할 수 있다. 다만, 이에 한정하지는 않는다. First, FIG. 8 illustrates an example in which one of the first and second light extraction patterns has a rectangular lattice shape, FIG. 9 illustrates an example of forming a diagonal checkered pattern, and FIG. 10 illustrates a circular shape. An example of forming a dot pattern is illustrated, and FIG. 11 illustrates an example of a hexagonal pattern in the form of a honeycomb. The illustrated patterns may correspond to the first light extraction pattern or the second light extraction pattern in the structure described with reference to FIGS. 2 to 7. 8 or 9 may be formed by using a laser beam or by scraping with a diamond tip or a diamond blade. However, it is not limited thereto.
또한, 도 10과 도 11에 도시된 원형 도트, 및 다각형 도트는 캐미컬 에칭, 또는 드라이 에칭을 통해 구현하기에 용이하다. 도 8 내지 도 11에 도시된 패턴들은 양각, 또는 음각 처리되어 기판 방향으로 삽입되거나, 또는 기판에서 돌출되는 형태로 구현될 수 있으며, 마찬가지로, 발광 구조물 방향으로 돌출되어 양각 형성되거나, 또는 발광 구조물에서 기판을 향하는 방향에 따라 음각처리될 수도 있다. In addition, the circular dots and polygonal dots shown in FIGS. 10 and 11 are easy to implement through chemical etching or dry etching. 8 to 11 may be embossed or engraved to be inserted in the direction of the substrate, or may be embodied in the form of protruding from the substrate. It may be engraved according to the direction toward the substrate.
이상에서는, 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴의 형상이 격자 무니, 체크 무늬, 원형, 및 다각형으로 형성된 것을 예시하였다. 그러나, 도 2 내지 도 11을 통해 설명된 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴의 형상은 빛의 산란 효율을 높이기 위해 불규칙 패턴으로 형성될 수도 있다. 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴이 불규칙 패턴으로 형성될 때, 기판의 양쪽 측면 방향으로 산란되는 빛이 더 증가할 수도 있으며, 불규칙 패턴의 형상은 따로 한정하지는 않는다. In the above, the shape of the first light extraction pattern and the second light extraction pattern has been exemplified by being formed into a lattice Mooney, a checkered pattern, a circle, and a polygon. However, the shapes of the first light extraction pattern and the second light extraction pattern described with reference to FIGS. 2 to 11 may be formed in an irregular pattern to increase light scattering efficiency. When the first light extraction pattern and the second light extraction pattern are formed in an irregular pattern, light scattered in both lateral directions of the substrate may further increase, and the shape of the irregular pattern is not limited.
또한, 본 실시예에서는, 레이저 빔을 이용하여 레이저 스크래칭을 수행하거나, 캐미컬 에칭, 드라이 에칭을 예시하고 있다. 그러나, 도 2 내지 도 11에 언급되는 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴은 다이아몬드 팁, 또는 다이아몬드 블레이드에 의해 기판을 직접 긁어서 형성할 수도 있다. 다만, 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴을 형성하기 위해 기판보다 더 경도가 높은 재질로 긁어서 제1 광추출패턴과 제2 광추출패턴을 형성할 수 있음은 물론이다. In this embodiment, laser scratching is performed using a laser beam, and chemical etching and dry etching are exemplified. However, the first light extraction pattern and the second light extraction pattern referred to in FIGS. 2 to 11 may be formed by directly scraping the substrate by a diamond tip or a diamond blade. However, in order to form the first light extraction pattern and the second light extraction pattern, the first light extraction pattern and the second light extraction pattern may be formed by scraping with a material having a higher hardness than the substrate.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in each embodiment may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.
또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 권리의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. In addition, the above description has been made with reference to the embodiment, which is merely an example, and is not intended to limit the present invention. Those skilled in the art to which the present invention pertains will be illustrated as above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the rights provided in the appended claims.
110 : 발광 구조물 111 : 제1도전성 반도체층
112 : 활성층 113 : 제2도전성 반도체층
114 : 투광성 전극층 120 : 기판
121 : 접합 면 122 : 바닥면
123 : 제1 광추출패턴 124 : 제2 광추출패턴110
112: active layer 113: second conductive semiconductor layer
114: transparent electrode layer 120: substrate
121: joint surface 122: bottom surface
123: first light extraction pattern 124: second light extraction pattern
Claims (10)
상기 기판에 적층되며, 제1도전성 반도체층, 활성층, 및 제2도전성 반도체층을 구비하는 발광 구조물;을 포함하며,
상기 기판은,
상기 발광 구조물과의 대향면에 위치하는 제1 광추출패턴; 및
바닥면에 위치하는 제2 광추출패턴;을 포함하는 발광 소자.Board; And
And a light emitting structure stacked on the substrate, the light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer.
The substrate,
A first light extraction pattern positioned on an opposite surface to the light emitting structure; And
Light emitting device comprising a; second light extraction pattern located on the bottom surface.
상기 제1 광추출패턴과 상기 제2 광추출패턴은,
서로 다른 패턴인 발광 소자.The method of claim 1,
The first light extraction pattern and the second light extraction pattern,
Light emitting elements that are different patterns.
상기 제1 광추출패턴과 상기 제2 광추출패턴은,
동일 패턴인 발광 소자.The method of claim 1,
The first light extraction pattern and the second light extraction pattern,
The light emitting element which is the same pattern.
상기 제1 광추출패턴과 상기 제2 광추출패턴은,
동일 패턴이 상호 어긋나게 배열되는 발광 소자. The method of claim 3,
The first light extraction pattern and the second light extraction pattern,
The light emitting element in which the same pattern is mutually shift | deviated.
상기 제1 광추출패턴과 상기 제2 광추출패턴은,
양각, 및 음각 중 어느 하나로 형성되는 발광 소자. The method of claim 1,
The first light extraction pattern and the second light extraction pattern,
A light emitting device formed of any one of embossed and intaglio.
상기 제1 광추출패턴과 상기 제2 광추출패턴은,
상기 기판에 대한 캐미컬 에칭, 드라이 에칭, 및 레이저 스크래칭 중 어느 하나에 의해 형성되는 발광 소자.The method of claim 1,
The first light extraction pattern and the second light extraction pattern,
A light emitting device formed by any one of chemical etching, dry etching, and laser scratching on the substrate.
상기 바닥면은,
상기 제2 광추출패턴의 요철 구조 사이에 충진되어 형성되는 반사층;을 더 포함하는 발광 소자. The method of claim 1,
The bottom surface is,
And a reflective layer filled and formed between the uneven structures of the second light extraction pattern.
상기 반사층은,
Al, Ag, 및 이들에 대한 금속 산화물 중 어느 하나인 발광 소자.The method of claim 7, wherein
The reflective layer,
A light emitting device, which is any one of Al, Ag, and metal oxides thereof.
상기 제1 광추출패턴, 및 상기 제2 광추출패턴은,
패턴의 형태가 체크무늬 패턴, 격자무늬 패턴, 사선 패턴, 비정형 패턴, 도트 패턴, 및 다각형 패턴 중 어느 하나인 발광 소자. The method of claim 1,
The first light extraction pattern, and the second light extraction pattern,
A light emitting element in which the pattern is any one of a checkered pattern, a plaid pattern, an oblique pattern, an atypical pattern, a dot pattern, and a polygonal pattern.
상기 기판은,
상기 발광 구조물의 두께 대비 10배 이상의 두께인 발광 소자.The method of claim 1,
The substrate,
Light emitting device having a thickness of at least 10 times the thickness of the light emitting structure.
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|---|---|---|---|
| KR1020100090759A KR20120028741A (en) | 2010-09-15 | 2010-09-15 | Light emitting device |
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|---|---|---|---|
| KR1020100090759A KR20120028741A (en) | 2010-09-15 | 2010-09-15 | Light emitting device |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120028741A true KR20120028741A (en) | 2012-03-23 |
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| KR (1) | KR20120028741A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018014421A (en) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 株式会社ディスコ | Light emitting diode chip manufacturing method and light emitting diode chip |
| JP2018186165A (en) * | 2017-04-25 | 2018-11-22 | 株式会社ディスコ | Method for manufacturing light-emitting diode chip and light-emitting diode chip |
| US12422592B2 (en) | 2020-03-05 | 2025-09-23 | Xinmei Fontana Holding (Hong Kong) Limited | Anti-glare film, polarizing plate and display apparatus |
-
2010
- 2010-09-15 KR KR1020100090759A patent/KR20120028741A/en not_active Ceased
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