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KR20100085128A - Substrate transfer apparatus, substrate transfer method and vacuum processing apparatus - Google Patents

Substrate transfer apparatus, substrate transfer method and vacuum processing apparatus Download PDF

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KR20100085128A
KR20100085128A KR1020107011326A KR20107011326A KR20100085128A KR 20100085128 A KR20100085128 A KR 20100085128A KR 1020107011326 A KR1020107011326 A KR 1020107011326A KR 20107011326 A KR20107011326 A KR 20107011326A KR 20100085128 A KR20100085128 A KR 20100085128A
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KR
South Korea
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substrate
frame
carrier
adsorption
vertical state
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Application number
KR1020107011326A
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Korean (ko)
Inventor
요시히로 투야마
Original Assignee
가부시키가이샤 알박
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Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 알박 filed Critical 가부시키가이샤 알박
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Abstract

기판을 수직상태로 반송하는 캐리어의 경량화를 도모하는 기판반송장치를 개시한다. 평판형상의 기판(W)을 수직상태로 반송하는 캐리어(23)로 기판을 받아 넘기는 기판반송장치(11)는, 이송 기구(22)를 구비한다. 이송 기구(22)는, 직사각형 형상의 테두리체를 가지며, 수평방향으로 연장되는 회동축(L)을 중심으로 회동이 가능한 프레임(37)과, 프레임에 설치되어, 기판(W)을 흡착하는 복수의 흡착 패드(46)와, 프레임을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부(35)를 포함한다. 이송 기구(22)는, 수평상태에 있는 기판(W)을 프레임의 수평상태로 복수의 흡착 패드에 의해 흡착하고, 프레임에 기판을 지지한 채 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 기판(W)을 캐리어(23)로 받아 넘긴다. Disclosed is a substrate conveying apparatus for reducing the weight of a carrier for conveying a substrate in a vertical state. The board | substrate conveying apparatus 11 which receives a board | substrate with the carrier 23 which conveys the flat board | substrate W in a vertical state is equipped with the conveyance mechanism 22. As shown in FIG. The transfer mechanism 22 has a rectangular frame and is capable of being rotated around a rotational axis L extending in the horizontal direction, and a plurality of frames provided on the frame to suck the substrate W. Suction pad 46 and a drive unit 35 for rotating the frame between a horizontal state and a vertical state. The transfer mechanism 22 adsorbs the substrate W in a horizontal state by a plurality of suction pads in a horizontal state of the frame, and rotates the frame from a horizontal state to a vertical state while supporting the substrate in the frame, thereby maintaining a vertical state. The substrate W on the substrate 23 is delivered to the carrier 23.

Description

기판반송장치, 기판반송방법 및 진공처리장치{SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD AND VACUUM PROCESSING APPARATUS}SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD AND VACUUM PROCESSING APPARATUS

본 발명은, 기판반송장치, 기판반송방법 및 상기 기판반송장치를 구비한 진공처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer apparatus, a substrate transfer method, and a vacuum processing apparatus including the substrate transfer apparatus.

종래에는, 액정 디스플레이 등의 평판 패널 디스플레이에 채용되는 대형 유리 기판에 대하여, 스퍼터링에 의해 박막을 형성하는 등의 진공 처리를 실시하는 진공처리장치가 있었다. 최근에는, 이러한 진공처리장치로서, 생산 효율을 향상시키기 위해서, 복수의 진공처리실로 기판을 순차적으로 반송해서 연속적으로 처리하는 소위 인라인식의 진공처리장치가 많이 채용되고 있다. 그리고 예를 들면 특허문헌 1에는, 각 진공처리실과, 해당 진공처리실에, 기판을 수직으로 세운 상태로 반송하는 직사각형 테두리 형상의 캐리어를 구비한 진공처리장치가 개시되어 있다. 이와 같이, 캐리어가 기판을 수직으로 세운 상태에서 진공처리실로 반송함으로써, 기판이 대형화되었을 경우라도 진공처리장치의 설치 스페이스의 증대를 억제하면서, 다수의 캐리어를 배치하는 것이 가능하게 되어, 생산 효율의 향상이 도모되고 있다.Conventionally, there existed a vacuum processing apparatus which vacuum-processes, such as forming a thin film by sputtering, with respect to large glass substrates employ | adopted for flat panel displays, such as a liquid crystal display. In recent years, as such a vacuum processing apparatus, in order to improve production efficiency, many so-called inline vacuum processing apparatuses which sequentially convey a board | substrate to several vacuum processing chambers and process them continuously are employ | adopted. For example, Patent Literature 1 discloses a vacuum processing apparatus including a vacuum frame and a rectangular frame carrier for conveying the substrate in a vertical state in the vacuum processing chamber. In this way, by transporting the substrate to the vacuum processing chamber in a state in which the carrier is placed vertically, a large number of carriers can be arranged while suppressing an increase in the installation space of the vacuum processing apparatus even when the substrate is enlarged. Improvement is planned.

그런데, 상기 특허문헌 1에서는, 캐리어에 기판을 주고받을 때, 반송 로봇이 소정 위치에 저장된 처리 전의 기판을 받으며, 수평으로 넘어진 상태(수평상태)의 캐리어 상에 기판을 얹어둔다. 그리고 캐리어에 기판을 지지시킨 후에, 해당 캐리어를 회동 기구에 의해 회동시켜서 직립시킴으로써, 기판이 수직으로 세워진 상태(수직상태)에서 캐리어에 지지되도록 되어 있다. 즉, 상기 종래의 구성에서는 캐리어가 수평상태와 수직상태 사이에서 회동하게 된다. 이 때문에, 캐리어가 회동할 때의 휨을 저감시키기 위해서 캐리어를 구성하는 부재를 두껍게 해서 그 강성을 높일 필요가 있어, 캐리어의 중량이 증대한다는 문제가 있다. 그 결과, 각 캐리어의 제조비용이 증대함과 동시에, 캐리어를 회동시킬 때나 진공처리실에 기판을 반송할 때에 필요한 전력이 증대함으로써 기판의 생산비용이 증대해 버리는 문제가 있었다.By the way, in the said patent document 1, when conveying a board | substrate to a carrier, a conveyance robot receives the board | substrate before a process stored in the predetermined position, and places a board | substrate on the carrier of the horizontal fall state (horizontal state). After the substrate is supported by the carrier, the carrier is rotated by the rotating mechanism to stand upright, so that the substrate is supported by the carrier in a vertically standing state (vertical state). That is, in the above conventional configuration, the carrier rotates between the horizontal state and the vertical state. For this reason, in order to reduce the curvature when a carrier rotates, it is necessary to thicken the member which comprises a carrier, and to increase its rigidity, and there exists a problem that the weight of a carrier increases. As a result, there has been a problem that the production cost of each carrier increases as the manufacturing cost of each carrier increases, and the power required to rotate the carrier or convey the substrate to the vacuum processing chamber increases.

[특허문헌 1] 특개 2006-114675호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2006-114675

본 발명은, 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어의 경량화를 도모할 수 있는 기판반송장치, 기판반송방법 및 진공처리장치를 제공한다.The present invention provides a substrate transport apparatus, a substrate transport method, and a vacuum processing apparatus capable of reducing the weight of a carrier for transporting a substrate in a vertical state.

본 발명의 제1의 형태는, 기판반송장치이다. 평판형상의 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어로 기판을 받아넘기는 기판반송장치는, 직사각형 형상의 테두리체를 가지며, 수평방향으로 연장되는 회동축을 중심으로 회동이 가능한 프레임과, 상기 프레임에 설치되어 상기 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드들과, 상기 프레임을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부를 포함하는 이송 기구를 포함하고, 상기 이송 기구는, 수평상태에 있는 기판을 상기 프레임의 수평상태에서 복수의 흡착 패드들에 의해 흡착하고, 상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 기판을 상기 캐리어로 받아 넘긴다.A first aspect of the present invention is a substrate transfer device. A substrate transport apparatus for flipping a substrate to a carrier for transporting a flat substrate in a vertical state includes a frame having a rectangular frame and capable of rotating about a rotation axis extending in a horizontal direction, and provided in the frame. And a transfer mechanism including a plurality of suction pads for adsorbing the substrate, and a drive unit for rotating the frame between a horizontal state and a vertical state, wherein the transfer mechanism includes a substrate in a horizontal state. Is adsorbed by a plurality of adsorption pads and rotates the frame from a horizontal state to a vertical state while supporting the substrate in the frame, thereby passing the substrate in a vertical state to the carrier.

본 발명의 제2의 형태는, 기판반송방법이다. 평판형상의 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어로 기판반송장치로부터 상기 기판을 받아 넘기는 기판반송방법은, 복수의 흡착 패드들을 갖는 프레임을 상기 기판반송장치 내에서 수평상태를 유지하는 단계, 수평상태에 있는 기판을 프레임의 수평상태에서 복수의 흡착 패드들에 의해 흡착하는 단계, 프레임에 기판을 지지한 채 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시키는 단계, 및 수직상태에 있는 기판을 캐리어로 받아 넘기는 단계를 포함한다.A second aspect of the present invention is a substrate transport method. In a substrate transport method of receiving a substrate from a substrate transport apparatus by a carrier for transporting a flat substrate in a vertical state, the method may include: maintaining a horizontal state in the substrate transport apparatus with a frame having a plurality of suction pads; Adsorbing the substrate with a plurality of adsorption pads in the horizontal state of the frame, rotating the frame from the horizontal state to the vertical state while supporting the substrate in the frame, and passing the substrate in the vertical state to the carrier It includes.

본 발명의 제3의 형태는, 진공처리장치이다. 진공처리장치는, 평판형상의 기판을 진공 처리하는 진공처리실과, 상기 진공처리실로 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어와, 상기 캐리어로 상기 기판을 받아 넘기는 기판반송장치를 포함하고, 상기 기판반송장치는, 직사각형 형상의 테두리체를 가지며, 수평방향으로 연장되는 회동축을 중심으로 회동 가능한 프레임과, 상기 프레임에 설치되어 상기 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드들과, 상기 프레임을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부를 갖는 이송 기구와, 상기 구동부 및 복수의 상기 흡착 패드들을 제어하는 제어장치를 포함하고, 상기 이송 기구는, 수평상태에 있는 기판을 상기 프레임의 수평상태에서 복수의 흡착 패드들에 의해 흡착하고, 상기 프레임에 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 기판을 캐리어로 받아 넘긴다.A third aspect of the present invention is a vacuum processing apparatus. The vacuum processing apparatus includes a vacuum processing chamber for evacuating a flat substrate, a carrier for conveying the substrate in a vertical state to the vacuum processing chamber, and a substrate conveying apparatus for receiving the substrate through the carrier, wherein the substrate conveying apparatus The frame has a rectangular frame and can be rotated around a horizontal axis extending in a horizontal direction, a plurality of suction pads mounted on the frame to adsorb the substrate, and the frame is in a horizontal state and a vertical state. A transfer mechanism having a drive unit rotating between the drive unit and a control unit for controlling the drive unit and the plurality of suction pads, wherein the transfer mechanism includes a plurality of suction pads in a horizontal state of the frame with a substrate in a horizontal state; The frame is rotated from the horizontal state to the vertical state while supporting the substrate in the frame The substrate in the vertical state is delivered to the carrier.

도 1은 진공처리장치의 개략구성도이다.
도 2는 기판반송장치의 개략구성도이다.
도 3은 이송 기구의 개략구성을 나타내는 우측면도이다.
도 4는 이송 기구의 개략구성을 나타내는 평면도이다.
도 5는 이송 기구의 개략구성을 나타내는 정면도이다.
도 6은 캐리어의 개략구성을 나타내는 정면도이다.
도 7은 프레임 상에 형성된 흡착 영역을 나타내는 모식도이다.
도 8은 흡착 패드의 개략구성을 내보이는 단면도이다.
도 9a 내지 도 9e는 캐리어로 기판을 받아 넘기는 동작을 나타내는 동작 설명도이다.
도 10a 내지 도 10d은 캐리어로부터 기판을 받는 동작을 나타내는 동작 설명도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a vacuum processing apparatus.
2 is a schematic configuration diagram of a substrate transfer device.
3 is a right side view showing the schematic configuration of the transfer mechanism.
4 is a plan view showing a schematic configuration of a transfer mechanism.
5 is a front view illustrating a schematic configuration of a transfer mechanism.
6 is a front view illustrating a schematic configuration of a carrier.
It is a schematic diagram which shows the adsorption area formed on the frame.
8 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the suction pad.
9A to 9E are operation explanatory diagrams showing an operation of turning over a substrate to a carrier.
10A to 10D are operation explanatory diagrams showing an operation of receiving a substrate from a carrier.

이하, 일 실시형태의 진공처리장치(1)를 도면을 따라 설명한다. 예를 들면, 상기 진공처리장치(1)는, 복수의 진공처리실로 기판을 순차 반송해서 연속적으로 처리하는, 소위 인라인식의 진공처리장치로 구체화되어 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the vacuum processing apparatus 1 of one Embodiment is demonstrated with reference to drawings. For example, the said vacuum processing apparatus 1 is embodied as what is called an inline type vacuum processing apparatus which conveys a board | substrate to a several vacuum processing chamber one by one, and processes it continuously.

도 1에서 나타내는 진공처리장치(1)는, 액정 디스플레이 등의 평판 패널 디스플레이에 채용할 수 있는 대형 유리 기판(예를 들면, 한 변이 2m 이상)에 대하여, 스퍼터링 등에 의해 소정의 박막을 형성하는 등의 처리를 실시한다.The vacuum processing apparatus 1 shown in FIG. 1 forms a predetermined | prescribed thin film by sputtering etc. with respect to the large glass substrate (for example, 2 m or more of one side) which can be employ | adopted for flat panel displays, such as a liquid crystal display, etc. Will be processed.

진공처리장치(1)는 기판반송장치(11)를 갖추고, 해당 기판반송장치(11)는, 반송로(12)를 이동하는 캐리어(23)(도 2 참조) 사이에서 평판형상의 기판의 수수 및 수취를 실시한다. 일 실시 형태에서는, 반송로(12) 상에 복수의 캐리어(23)가 설치되어 있다. 캐리어(23)는, 반송로(12)를 따라 이동하고 (도 1에 있어서 오른쪽으로 회전), 기판반송장치(11)로부터 기판을 받는다. 그 후, 캐리어(23)는 회전 기구(13a)를 통해서 예비실(14a), 진공처리실(15, 16, 17) 및 예비실(14b) 순서대로 이동하고, 회전 기구(13b) 통해서 기판반송장치(11)까지 되돌아온다. 기판반송장치(11)로 되돌아온 캐리어(23)는, 처리 후의 기판을 기판반송장치(11)로 넘긴다.예비실(14a)에서는, 실내를 진공 배기하여 고진공화한 후에 캐리어(23)가 진공처리실(15) 안으로 반입된다. 예비실(14b)에서는, 실내를 대기 개방하여 대기압화가 된 후에 캐리어(23)가 반출된다. 각 진공처리실(15, 16, 17)에서는, 캐리어(23)에 의해 반송된 기판에, 진공조건하에서 가열이나 스퍼터링 등의 각종 처리가 실시된다. 게다가, 진공처리장치(1)는, 제어장치(18)를 구비하고, 각 제어장치(18)는, 기판반송장치(11), 캐리어(23), 반송로(12), 회전 기구(13a, 13b), 예비실(14a, 14b), 및 진공처리실(15, 16, 17)의 동작을 제어한다. 그리고 진공처리장치(1)는, 유리기판 제조라인의 상류측에서 반송된 처리 전의 기판에 대하여 소정의 진공 처리를 실시하고, 처리 후의 기판을 유리기판 제조라인의 하류측으로 반출한다. The vacuum processing apparatus 1 is equipped with the board | substrate conveying apparatus 11, The board | substrate conveying apparatus 11 receives the flat board-shaped board | substrate between the carriers 23 (refer FIG. 2) which moves the conveyance path 12. As shown in FIG. And receiving. In one embodiment, the some carrier 23 is provided on the conveyance path 12. The carrier 23 moves along the conveyance path 12 (rotates to the right in FIG. 1), and receives the substrate from the substrate conveying apparatus 11. Thereafter, the carrier 23 moves in the order of the preliminary chamber 14a, the vacuum processing chambers 15, 16, 17 and the preliminary chamber 14b through the rotating mechanism 13a, and the substrate transport apparatus through the rotating mechanism 13b. Return to (11). The carrier 23 returned to the substrate conveying apparatus 11 passes the processed substrate to the substrate conveying apparatus 11. In the preliminary chamber 14a, the carrier 23 evacuates the room and high-vacuums, after which the carrier 23 vacuum-processes the chamber. (15) Bring in. In the preliminary chamber 14b, the carrier 23 is carried out after the interior of the room is opened to the atmosphere to become atmospheric pressure. In each vacuum processing chamber 15, 16, 17, various processes such as heating and sputtering are performed on the substrate conveyed by the carrier 23 under vacuum conditions. Moreover, the vacuum processing apparatus 1 is equipped with the control apparatus 18, and each control apparatus 18 is the board | substrate conveyance apparatus 11, the carrier 23, the conveyance path 12, the rotation mechanism 13a, 13b), the operations of the preliminary chambers 14a and 14b and the vacuum processing chambers 15, 16 and 17 are controlled. And the vacuum processing apparatus 1 performs a predetermined | prescribed vacuum process with respect to the board | substrate before a process conveyed in the upstream of a glass substrate manufacturing line, and carries out the processed board | substrate to the downstream side of a glass substrate manufacturing line.

도 2는, 기판반송장치(11)의 개략 구성도를 나타낸다. 기판반송장치(11)는, 유리기판 제조라인의 상류측에서 처리 전의 기판을 반송하는 상류측 컨베이어(21)로부터 기판을 받는 로드용 이송 기구(22)를 구비하고 있다. 이송 기구(22)는 반송로(12)와 대향하여 배치되어 캐리어(23)로 기판을 받아 넘긴다. 또한, 상류측 컨베이어(21)는, 롤러 컨베이어로 구성되어 있다. 또한, 기판반송장치(11)는, 반송로(12)를 따라 이송 기구(22)와 나란히 설치되면서 동시에 테스트 기판을 수용하는 더미 카세트(24)와, 반송로(12)를 따라 더미 카세트(24)와 나란히 설치되면서 동시에 로드용 이송 기구(22)와 동일하게 구성된 언로드용 이송 기구(25)를 구비하고 있다. 한편, 더미 카세트(24)는, 이송 기구(22, 25) 사이에서 테스트 기판을 반송하는 롤러 컨베이어를 구비하고 있다. 이송 기구(25)를 사이에 둔 반송로(12)의 반대측에는, 처리 후의 기판을 이송 기구(25)로부터 받으며, 유리기판 제조라인의 하류측에서 해당 기판을 반송하는 하류측 컨베이어(26)가 배치되어 있다. 즉, 본 실시형태에서는 진공처리장치(1)는, 로드용의 이송 기구(22)에 의해 캐리어(23)에 기판을 넘겨받고, 언로드용의 이송 기구(25)에 의해 캐리어(23)로부터 기판을 받는, 소위 원쓰루(one-through) 타입의 진공처리장치로 구성되어 있다. 상류측 컨베이어(21), 이송 기구(22), 캐리어(23), 더미 카세트(24), 이송 기구(25) 및 하류측 컨베이어(26)는, 제어장치(18)에 접속되어, 그 동작이 제어된다. 한편, 하류측 컨베이어(26)는, 롤러 컨베이어로 구성되어 있다. 또한, 더미 카세트(24)에 수용된 테스트 기판은, 진공처리실(15, 16, 17)에서의 성막 조건을 변경했을 경우나, 장치의 시동을 개시할 시에, 원하는 성막이 행해지는지 여부를 확인하기 위한 것 등에 사용할 수 있다. 2 shows a schematic configuration diagram of the substrate transport apparatus 11. The board | substrate conveying apparatus 11 is equipped with the rod feed mechanism 22 which receives a board | substrate from the upstream conveyor 21 which conveys a board | substrate before a process in the upstream of a glass substrate manufacturing line. The transfer mechanism 22 is disposed to face the transfer path 12, and takes the substrate over the carrier 23. In addition, the upstream conveyor 21 is comprised by the roller conveyor. Moreover, the board | substrate conveying apparatus 11 is installed in parallel with the conveyance mechanism 22 along the conveyance path 12, and simultaneously receives the dummy cassette 24 which accommodates a test board, and the dummy cassette 24 along the conveyance path 12. As shown in FIG. ) Is provided side by side and at the same time has an unloading transfer mechanism 25 configured in the same manner as the load transfer mechanism 22. On the other hand, the dummy cassette 24 is equipped with the roller conveyor which conveys a test board | substrate between the transfer mechanisms 22 and 25. As shown in FIG. On the opposite side of the conveying path 12 with the conveying mechanism 25 interposed, the downstream conveyor 26 receiving the processed substrate from the conveying mechanism 25 and conveying the substrate on the downstream side of the glass substrate manufacturing line is provided. It is arranged. That is, in this embodiment, the vacuum processing apparatus 1 receives a board | substrate to the carrier 23 by the feed mechanism 22 for loading, and the board | substrate 23 from the carrier 23 by the feed mechanism 25 for unloading. It consists of a so-called one-through vacuum processing apparatus. The upstream side conveyor 21, the transfer mechanism 22, the carrier 23, the dummy cassette 24, the transfer mechanism 25, and the downstream conveyor 26 are connected to the control apparatus 18, and the operation | movement is Controlled. On the other hand, the downstream conveyor 26 is comprised by the roller conveyor. In addition, the test substrate accommodated in the dummy cassette 24 confirms whether desired film formation is performed when the film forming conditions in the vacuum processing chambers 15, 16, and 17 are changed or when the apparatus is started. It can be used for things.

도 3은, 로드용의 이송 기구(22) 및 캐리어(23)의 개략구성을 나타낸다. 또한, 이해를 쉽게 하기 위해서, 도 3에서는 이송 기구(22)의 일부 구성만을 나타내고 있다. 또한, 언로드용의 이송 기구(25)에 대해서는, 로드용의 이송 기구(22)와 동일하게 구성되어 있기 때문에 설명을 생략한다. 이송 기구(22)는, 사각형상의 바닥판(32)을 구비한 케이스(31)를 갖는다. 바닥판(32) 위에는 복수의 지지봉(33)이 설치됨과 동시에, 해당 지지봉(33)의 상단에는 평판형상의 천판(34)이 마련되어 있다. 즉, 케이스(31)는, 측면이 개구된 직방체 형상으로 형성되어 있다. 바닥판(32) 위에 배치된 구동부(35)에는, 천판(34)의 상방에 위치하는 프레임(37)이 지지 부재(36)를 통해서 마련되어 있다. 지지 부재(36) 및 프레임(37)은, 구동부(35)에 의해, 수평방향(지면수직방향)으로 연장되는 회동축(L) 주변에, 수평으로 넘어진 상태(이하, 수평상태라고 한다)와 수직으로 선 상태(이하, 수직상태라고 한다) 사이에서 회동이 가능하도록 되어 있다. 또한, 지지 부재(36) 및 프레임(37)은, 구동부(35)에 의해, 캐리어(23)에 대하여 수평방향(도 3에 있어서 좌우 방향, 이하 y방향이라고 한다)을 따라 전후 이동 및 수직방향(도 3에 있어서 상하 방향, 이하 z방향이라고 한다)를 따라 상하 이동이 가능하도록 지지되어 있다. 회동축(L)은 지지 부재(36)에 배치되어 있다. 회동축(L)을 중심으로 해서 지지 부재(36)가 구동부(35)에 의해 회동되면, 프레임(37)이 지지 부재(36)와 일체로 회동한다. 구동부(35)는 제어장치(18)에 접속되어, 프레임(37)의 y방향 및 z방향의 이동 및 회동축(L)의 회동이 제어된다. 또한, 구동부(35)는, 예를 들면 모터에 의해 중공 샤프트를 회전시킴으로써 볼 나사를 직선 운동시키는 볼 나사 기구 등으로 구성되어 있다. 3 shows a schematic configuration of the transfer mechanism 22 and the carrier 23 for rods. In addition, in order to understand easily, only some structure of the conveyance mechanism 22 is shown in FIG. In addition, about the unloading feed mechanism 25, since it is comprised similarly to the load feed mechanism 22, description is abbreviate | omitted. The transfer mechanism 22 has a case 31 provided with a rectangular bottom plate 32. A plurality of support rods 33 are provided on the bottom plate 32, and a flat top plate 34 is provided on the upper end of the support rods 33. That is, the case 31 is formed in the rectangular parallelepiped shape by which the side surface opened. In the drive part 35 arrange | positioned on the bottom plate 32, the frame 37 located above the top plate 34 is provided through the support member 36. As shown in FIG. The supporting member 36 and the frame 37 are horizontally fallen (hereinafter referred to as a horizontal state) by the drive part 35 around the rotational axis L extending in the horizontal direction (ground vertical direction). It is possible to rotate between the vertical states (hereinafter referred to as vertical states). In addition, the support member 36 and the frame 37 are moved back and forth and vertical in the horizontal direction (left and right direction in FIG. 3, hereinafter referred to as a y direction) with respect to the carrier 23 by the drive part 35. It is supported so that it can move up and down along (it is called an up-down direction and a z direction below in FIG. 3). The rotation shaft L is disposed on the support member 36. When the support member 36 is rotated by the drive part 35 around the rotation shaft L, the frame 37 rotates integrally with the support member 36. The drive part 35 is connected to the control apparatus 18, and the movement of the frame 37 in the y direction and z direction, and rotation of the rotational axis L are controlled. Moreover, the drive part 35 is comprised with the ball screw mechanism etc. which linearly move a ball screw, for example by rotating a hollow shaft by a motor.

도 4에서 나타내듯이, 프레임(37)은, 수직상태로 위쪽에 위치하는 상측 테두리(41), 수직상태로 하측에 위치하는 하측 테두리(42), 상측 테두리(41)의 일단과 하단 테두리(42)의 일단을 연결하는 우측 테두리(43)(도 4에 있어서 오른쪽), 및 상측 테두리(41)의 타단과 하측 테두리(42)의 타단을 연결하는 좌측 테두리(44)(도 4에 있어서 왼쪽)로 이루어지는 프레임을 갖고 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 프레임(37)은, 우측 테두리(43)와 좌측 테두리(44) 사이에 평행으로 배치되며, 상측 테두리(41)와 하측 테두리(42)를 연결하는 복수(본 실시형태에서는 4개)의 장대부(45)를 구비하고 있다. 따라서 프레임(37)은 울타리 형상으로 형성되어 있다. 상측 테두리(41), 하측 테두리(42), 우측 테두리(43), 및 좌측 테두리(44)에는, 복수의 흡착 패드(46)가 마련되어 있다. 흡착 패드(46)는, 제어장치(18)에 접속되어, 기판(W)을 흡착하는 기능을 갖는다. As shown in FIG. 4, the frame 37 includes an upper edge 41 positioned vertically upward, a lower edge 42 positioned vertically downward, and one end and a lower edge 42 of the upper edge 41 vertically. Right edge 43 (the right in FIG. 4) which connects one end of), and left edge 44 (the left in FIG. 4) which connects the other end of the upper edge 41 and the other end of the lower edge 42 It has a frame consisting of. In addition, in this embodiment, the frame 37 is arrange | positioned in parallel between the right edge 43 and the left edge 44, and the plurality which connects the upper edge 41 and the lower edge 42 (this embodiment) Four poles 45 are provided. Therefore, the frame 37 is formed in the shape of a fence. A plurality of suction pads 46 are provided on the upper edge 41, the lower edge 42, the right edge 43, and the left edge 44. The adsorption pad 46 is connected to the control apparatus 18, and has a function which adsorb | sucks the board | substrate W. As shown in FIG.

이송 기구(22)로는, 상류측 컨베이어(21)로부터 공급된 기판(W)은, 프레임(37)의 상측 테두리(41)로부터 하측 테두리(42)(도 4에 있어서 상측에서 하측)를 향해서 반송된다. 또한, 더미 카세트(24)로부터 공급된 테스트 기판은, 좌측 테두리(44)에서 우측 테두리(43)(도 4에 있어서 좌측에서 우측)를 향해서 반송된다. 또한, 프레임(37)으로의 기판반입 (및 프레임(37)으로부터의 기판 반출)은 프레임(37)의 수평상태로 행하여진다. 프레임(37)의 테두리체의 내측에는, 상류측 컨베이어(21)로부터 공급된 기판(W)을 프레임(37)의 상방에서 반송하는 복수의 제1 반송부(47)과, 더미 카세트(24)로부터 공급된 테스트 기판을 프레임(37)의 상방에서 반송하는 복수의 제2 반송부(48)가 마련되어 있다. 제1 및 제2 반송부(47, 48)는 각각 하나씩일 수 있다. 본 실시형태에서는, 제1 및 제2 반송부(47, 48)에 의해 반송 수단이 구성된다. 각 제1 반송부(47)에는, y방향(도 4에 있어서 상하 방향)을 따라 전동(轉動)이 가능한 복수의 롤러가 y방향으로 배치되어 있다. 즉, 제1 반송부(47)는, 기판을 y방향을 따라 반송할 수 있는 롤러 컨베이어로 구성된다. 제1 반송부(47)는, 우측 테두리(43)와 장대부(45) 사이, 및 장대부(45)와 좌측 테두리(44) 사이에, x방향(도 4 에 있어서 좌우 방향)으로 실질적으로 거의 같은 간격으로 배치되어 있다. 한편, 각 제2 반송부(48)에는, x방향을 따라 전동이 가능한 복수의 롤러가 x방향으로 배치되어 있다. 다시 말해, 제2 반송부(48)는, 기판을 x방향을 따라 반송이 가능한 롤러 컨베이어로 이루어진다. 제2 반송부(48)는, 상측 테두리(41)와 하측 테두리(42) 사이에, y방향으로 실질적으로 거의 같은 간격이 되도록 배치되어 있다. As the transfer mechanism 22, the substrate W supplied from the upstream conveyor 21 is conveyed from the upper edge 41 of the frame 37 toward the lower edge 42 (upper side in the lower side in FIG. 4). do. In addition, the test board supplied from the dummy cassette 24 is conveyed toward the right edge 43 (left to right in FIG. 4) from the left edge 44. In addition, board | substrate loading into the frame 37 (and board | substrate carrying out from the frame 37) is performed in the horizontal state of the frame 37. As shown in FIG. Inside the frame of the frame 37, a plurality of first conveying units 47 and a dummy cassette 24 for conveying the substrate W supplied from the upstream conveyor 21 from above the frame 37. The some 2nd conveyance part 48 which conveys the test board supplied from the upper side of the frame 37 is provided. The first and second carriers 47 and 48 may each be one. In this embodiment, a conveyance means is comprised by the 1st and 2nd conveyance parts 47 and 48. FIG. In each 1st conveyance part 47, the some roller which can be rolled along the y direction (up-down direction in FIG. 4) is arrange | positioned in the y direction. That is, the 1st conveyance part 47 is comprised by the roller conveyor which can convey a board | substrate along the y direction. The 1st conveyance part 47 is substantially in the x direction (left-right direction in FIG. 4) between the right edge 43 and the rod 45, and between the pole 45 and the left edge 44. FIG. They are arranged at about the same interval. On the other hand, in each 2nd conveyance part 48, the some roller which can be rolled along an x direction is arrange | positioned in the x direction. In other words, the 2nd conveyance part 48 consists of a roller conveyor which can convey a board | substrate along an x direction. The 2nd conveyance part 48 is arrange | positioned between the upper edge 41 and the lower edge 42 so that it may become substantially equally spaced in a y direction.

도 5에서 나타내듯이, 본 실시형태에서는, 각 제1 반송부(47)를 지지하는 베이스(49)는 케이스(31)의 천판(34) 상에 고정되며, 그에 의해, 각 제1 반송부(47)가 z방향으로 이동이 불가능하도록 마련되어 있다. 한편, 각 제2 반송부(48)를 지지하는 베이스(51)는, 케이스(31)의 천판(34) 상에 고정된 제1 액추에이터(50)로 연결되어 있다. 따라서 각 제2 반송부(48)는 제1 액추에이터(50)에 의해 z방향으로 이동이 가능하도록 마련되어 있다. 제1 반송부(47), 제2 반송부(48) 및 제1 액추에이터(50)는, 제어장치(18)에 접속되어, 그 동작이 제어된다. 또한, 본 실시형태에서는, 제1 반송부(47)는, 베이스(49) 상에 설치된 원기둥 형상의 지지 부재에 의해 지지됨과 동시에, 제2 반송부(48)는, 베이스(51) 상에 설치된 원기둥 형상의 지지 부재에 의해 지지되어 있다. 베이스(51)는, 각 제2 반송부(48)를 연결하도록 격자무늬 형상으로 형성됨과 동시에, 제1 반송부(47)를 지지하는 지지 부재 사이에 배치되어 있다. 따라서 베이스(51)는, 제1 반송부(47)에 간섭하는 일없이 z방향으로 이동이 가능하다. 제1 액추에이터(50)는, 구동부(35)와 동일하게, 모터나 볼 나사 등으로 구성되어 있다. As shown in FIG. 5, in this embodiment, the base 49 which supports each 1st conveyance part 47 is fixed on the top plate 34 of the case 31, whereby each 1st conveyance part ( 47) is provided so that movement in the z direction is impossible. On the other hand, the base 51 which supports each 2nd conveyance part 48 is connected by the 1st actuator 50 fixed on the top plate 34 of the case 31. As shown in FIG. Therefore, each 2nd conveyance part 48 is provided so that the 1st actuator 50 can move to az direction. The 1st conveyance part 47, the 2nd conveyance part 48, and the 1st actuator 50 are connected to the control apparatus 18, and the operation is controlled. In addition, in this embodiment, the 1st conveyance part 47 is supported by the cylindrical support member provided on the base 49, and the 2nd conveyance part 48 is provided on the base 51. As shown in FIG. It is supported by the cylindrical support member. The base 51 is formed in a lattice pattern so as to connect the second conveyance portions 48, and is disposed between the support members that support the first conveyance portion 47. Therefore, the base 51 can move in a z direction without interfering with the 1st conveyance part 47. FIG. Like the drive part 35, the 1st actuator 50 is comprised by a motor, a ball screw, etc.

또한, 도 4에서 나타내듯이, 프레임(37)의 테두리체 내측에는, 프레임(37) 상에 반송된 기판(W)을 들어 올리는 복수의 바늘 형상의 리프트 핀(52)이 마련되어 있다. 복수의 리프트 핀(52)은, 이웃하는 리프트 핀(52)과의 간격이 실질적으로 거의 같은 간격이 되도록 격자무늬 형상으로 배치되어 있다. 도 5에서 나타내듯이, 각 리프트 핀(52)을 지지하는 베이스(54)는, 케이스(31)의 천판(34) 상에 고정된 제2 액추에이터(53)에 연결되며, 그로 의해 각 리프트 핀(52)이 z방향으로 동시에 이동이 가능하도록 되어 있다. 또한, 프레임(37)의 외측에 있어서, 천판(34)의 외주변에는 제3 액추에이터(55)를 통해서 복수(본 실시형태에서는, 각 변에 2개씩)의 얼라인먼트 핀(56)이 마련되어 있다(도 4참조). 각 제3 액추에이터(55)는, 얼라인먼트 핀(56)을, z방향으로 이동이 가능함과 동시에, x방향 또는 y방향으로 이동이 가능하도록 구성되어 있다. 구체적으로, 상측 테두리(41) 및 하측 테두리(42)의 외측에 마련된 얼라인먼트 핀(56)은, z방향 및 y방향으로 이동이 가능하도록 마련되어, 우측 테두리(43) 및 좌측 테두리(44)의 외측에 마련된 얼라인먼트 핀(56)은, z방향 및 x방향으로 이동이 가능하도록 마련되어 있다. 또, 제2 및 제3액추에이터( 55)는, 제어장치(18)에 접속되어, 그 동작이 제어된다. 한편, 본 실시형태에서는, 베이스(54)는, 각 리프트 핀(52)이 연결되도록 격자무늬 형상으로 형성되어, 제1 반송부(47)를 지지하는 지지 부재 사이, 및 제2 반송부(48)를 지지하는 지지 부재 사이에 배치되어 있다. 따라서 베이스(54)(즉 각 리프트 핀(52))는, 제1 및 제2 반송부(47, 48)에 간섭하는 일없이 z방향으로 이동이 가능하다. 복수의 얼라인먼트 핀(56)은 각각 독립적으로 이동이 가능하도록 되어 있다. 제2 및 제3 액추에이터(53, 55)는, 구동부(35)와 동일하게, 모터나 볼 나사 등으로 구성되어 있다. In addition, as shown in FIG. 4, the plurality of needle-like lift pins 52 for lifting the substrate W conveyed on the frame 37 are provided inside the frame body of the frame 37. The plurality of lift pins 52 are arranged in a lattice pattern such that the distance between the lift pins 52 adjacent to each other is substantially the same. As shown in FIG. 5, the base 54 supporting each lift pin 52 is connected to a second actuator 53 fixed on the top plate 34 of the case 31, whereby each lift pin ( 52 can be moved simultaneously in the z direction. In addition, on the outer side of the frame 37, a plurality of alignment pins 56 are provided on the outer periphery of the top plate 34 via the third actuator 55 (two in each side in this embodiment) ( See FIG. 4). Each 3rd actuator 55 is comprised so that the alignment pin 56 can be moved to a z direction, and can also be moved to an x direction or a y direction. Specifically, the alignment pin 56 provided on the outer side of the upper edge 41 and the lower edge 42 is provided to be movable in the z direction and the y direction, and the outer side of the right edge 43 and the left edge 44. The alignment pin 56 provided in the is provided so that a movement to a z direction and an x direction is possible. In addition, the second and third actuator ( 55 is connected to the control apparatus 18, and the operation is controlled. On the other hand, in this embodiment, the base 54 is formed in grid | lattice form so that each lift pin 52 may connect, between the support members which support the 1st conveyance part 47, and the 2nd conveyance part 48 ) Is arranged between the supporting members. Therefore, the base 54 (namely, each lift pin 52) can move in a z direction, without interfering with the 1st and 2nd conveyance parts 47 and 48. FIG. The plurality of alignment pins 56 are each independently movable. The 2nd and 3rd actuators 53 and 55 are comprised with the motor, the ball screw, etc. similarly to the drive part 35. As shown in FIG.

도 3에서 나타내듯이, 캐리어(23)는, 수직상태로 반송로(12)를 이동한다. 도 6에서 나타내듯이, 캐리어(23)는 직사각형 테두리 형상으로 형성됨과 동시에, 그 내주변(61)은 외주변(62)보다도 가깝게 형성되어 있다. 또한, 수직상태로 회동된 이송 기구(22)의 프레임(37)과 대면하는 캐리어(23)의 대향면(즉, 기판 지지면)에는, 사각 테두리 형상의 오목부(63)가 형성되어 있다. 이 오목부(63)에는, 2개의 측변부(좌변부, 우변부)와 하변부를 가지며, 내주변(61)의 폭보다도 작은 폭으로 형성된 기판받이(64)가 고정되어 있다. 이 기판받이(64)는, 기판(W)을 기판받이(64) 하변부의 상단면(장착면65) 상에 장착한 상태에서 수용이 가능하다. 다시 말해, 기판(W)은 장착면(65)에 장착되어서 캐리어(23) 내로 수용된다. 기판받이(64)는, 베스펠(등록상표) 등의 수지재료로 이루어진다. As shown in FIG. 3, the carrier 23 moves the conveyance path 12 in a vertical state. As shown in FIG. 6, the carrier 23 is formed in a rectangular rim shape, and the inner periphery 61 thereof is formed closer than the outer periphery 62. In addition, a rectangular edge-shaped recess 63 is formed on an opposing surface (that is, a substrate supporting surface) of the carrier 23 facing the frame 37 of the conveying mechanism 22 rotated in a vertical state. The substrate support 64 which has two side parts (left side part, right side part) and a lower side part, and formed in the width | variety smaller than the width | variety of the inner periphery 61 is being fixed to this recessed part 63. As shown in FIG. The substrate holder 64 can be accommodated in a state in which the substrate W is mounted on the upper end surface (mounting surface 65) of the lower side of the substrate holder 64. In other words, the substrate W is mounted on the mounting surface 65 and received in the carrier 23. The substrate support 64 is made of a resin material such as Vespel (registered trademark).

캐리어(23)에는, 장착면(65)에 장착된 기판(W)을 걸어서 캐리어(23)에 기판(W)을 지지할 수 있는 복수의 클램프(66)가 마련되어 있다. 구체적으로는, 각 클램프(66)는, 캐리어(23)의 각 변에 있어서의 외주변(62)에 그 기단부(基端部)가 부착됨과 동시에, 그 선단부가 기판받이(64)의 내주단보다도 내측으로 돌출되어 있다. 각 클램프(66)는, 캐리어(23)에 대하여 평행으로 넘어진 상태와 캐리어(23)에 대하여 수직으로 선 상태 사이에서 회동이 가능하도록 마련되어 있다. 게다가, 캐리어(23)의 하부에는, 돌기부(67)가 형성되어 있다. 돌기부(67)가 반송로(12)에 마련된 협지 기구(도시 생략)로 협지되면, 캐리어(23)가 반송로(12)의 x방향에 있어서 이송 기구(22)에 대하여 위치가 맞춰지게 된다.The carrier 23 is provided with a plurality of clamps 66 that can support the substrate W on the carrier 23 by hanging the substrate W mounted on the mounting surface 65. Specifically, each clamp 66 has its proximal end attached to an outer periphery 62 at each side of the carrier 23, and its proximal end has an inner circumferential end of the substrate support 64. It protrudes inward rather than inside. Each clamp 66 is provided so that rotation is possible between the state which fell in parallel with the carrier 23, and the state which was perpendicular | vertical with respect to the carrier 23. FIG. In addition, a protruding portion 67 is formed below the carrier 23. When the projection part 67 is pinched by the clamping mechanism (not shown) provided in the conveyance path 12, the carrier 23 will be aligned with respect to the conveyance mechanism 22 in the x direction of the conveyance path 12. As shown in FIG.

도 3에서 나타내듯이, 이송 기구(22)와 캐리어(23) 사이에는, 장착면(65)의 z방향에 있어서의 위치를 검출하는 광전 센서(68)가 마련되어 있다. 위치 센서로서의 광전 센서(68)는, 제어장치(18)에 의해 제어되며, 장착면(65)의 위치를 해당 제어장치(18)로 출력한다. 또한, 광전 센서(68)는, 예를 들면, 복수의 투광 소자와 수광 소자 한쌍을 단일 유니트 내에 포함하는 다광축 광전센서에 의해 구성된다. 복수의 투광 소자와 수광 소자 한쌍은, 복수의 광축이 직선 형상으로 늘어서도록 다광축 광전센서 내에서 일렬로 배치된다. 각 투광 소자로부터 투광되어 캐리어(23) 및 기판받이(64)로 반사된 빛은 대응하는 수광 소자로 수광된다. 제어장치(18)는, 각 수광 소자의 수광량의 변화를 검출하는 것으로, 기판받이(64)의 z방향에 있어서의 위치 변화를 검출한다.As shown in FIG. 3, the photoelectric sensor 68 which detects the position in the z direction of the mounting surface 65 is provided between the transfer mechanism 22 and the carrier 23. The photoelectric sensor 68 as a position sensor is controlled by the controller 18, and outputs the position of the mounting surface 65 to the controller 18. In addition, the photoelectric sensor 68 is comprised by the multi-axis photoelectric sensor which contains a several light transmitting element and a pair of light receiving element in a single unit, for example. A plurality of light transmitting elements and a pair of light receiving elements are arranged in a line in the multi-axis photoelectric sensor so that the plurality of optical axes line up in a straight line. Light transmitted from each light transmitting element and reflected by the carrier 23 and the substrate support 64 is received by the corresponding light receiving element. The control apparatus 18 detects the change of the light reception amount of each light receiving element, and detects the position change in the z direction of the board support 64.

예를 들면, 도 7에서 나타내듯이, 프레임(37)에는, 상측 테두리(41) 및 하측 테두리(42)에 각각 12개의 흡착 패드(46)가 마련됨과 동시에, 우측 테두리(43) 및 좌측 테두리(44)에 각각 5개의 흡착 패드(46)가 마련되어 있다. 따라서 프레임(37)의 직사각형 형상의 테두리체에는 34개의 흡착 패드(46)가 배열되어 있다. 본 실시형태에서는, 프레임(37)에는, 기판(W)에 대한 복수의 흡착 영역 (예를 들면 4개의 영역(71 내지 74))이 설정되어 있다. 각 흡착 영역에는 적어도 하나의 흡착 패드(46)가 포함된다. 이 경우, 같은 흡착 영역에 포함되는 흡착 패드(46)에는 같은 부압이 (동시에) 공급되어, 각 흡착 영역의 부압은 독립적으로 제어가 가능하도록 되어 있다.For example, as shown in FIG. 7, the frame 37 is provided with 12 suction pads 46 at the upper edge 41 and the lower edge 42, respectively, and the right edge 43 and the left edge ( Five adsorption pads 46 are provided in 44 respectively. Therefore, 34 suction pads 46 are arranged in the rectangular frame of the frame 37. In this embodiment, a plurality of adsorption regions (for example, four regions 71 to 74) to the substrate W are set in the frame 37. Each adsorption zone includes at least one adsorption pad 46. In this case, the same negative pressure is supplied (at the same time) to the adsorption pad 46 included in the same adsorption region, and the negative pressure of each adsorption region can be controlled independently.

구체적으로는, 프레임(37)에는, 상측 테두리(41) 부분(상변부)에 설정된 상측 주흡착 영역(71)과, 하측 테두리(42) 부분(하변부)에 설정된 하측 주흡착 영역(72)과, 우측 테두리(43) 부분(우변부)에 설정된 우측 부흡착 영역(73)과, 좌측 테두리(44) 부분(좌변부)에 설정된 좌측 부흡착영역(74)이 구획되어 있다. 바람직하게는, 상측 주흡착 영역(71)은 그 중앙 위치에서 분할되어, 각각 분할 영역으로서의 제1 상측 주흡착 영역(75)과 제2 상측 주흡착 영역(76)으로 구성된다. 이 경우, 영역(75, 76) 각각에 적어도 하나의 흡착 패드(46)(도 7에서는, 각 영역(75, 76)에 예를 들면, 6개씩)가 배치된다. 또한, 바람직하게는, 하측 주흡착 영역(72)도 그 중앙 위치에서 분할되어, 각각 분할 영역으로서의 제1 하측 주흡착 영역(77)과 제2 하측 주흡착 영역(78)으로 구성된다. 이 경우도, 영역(77, 78)의 각각에 적어도 하나의 흡착 패드(46)(도 7에서는, 각 영역(75, 76)에 예를 들면 6개씩)가 배치된다. 따라서 본 실시형태에서는, 프레임(37)에는, 4개의 분할 영역(75 내지 78)을 포함하는 6개의 흡착 영역(73 내지 78)이 설정되어 있다. 그리고 프레임(37) 안에는, 각 흡착 영역(73 내지 78)에 포함되는 흡착 패드(46)에 부압을 공급하기 위한 6개의 관로(79a 내지 79f)가 연장되어 설치됨과 동시에, 관로(79a 내지 79f)는, 프레임(37) 밖에 설치된 6개의 밸브(80a 내지 80f)를 각각 통해서 공통의 부압원(81)에 접속되어 있다. 이로 인해, 흡착 영역(73 내지 78)의 부압이 서로 독립하여 제어되며, 흡착 영역마다 기판(W)을 흡착할 수 있도록 되어 있다. 또한, 관로(79a 내지 79f)에는, 각각 진공 센서(82a 내지 82f)가 마련되어, 각 관로(79a 내지 79f) 내의 압력이 계측된다. 밸브(80a 내지 80f), 부압원(81) 및 진공 센서(82a 내지 82f)는, 제어장치(18)에 접속되어, 그 동작이 제어된다.Specifically, in the frame 37, the upper main suction area 71 set at the upper edge 41 portion (upper edge portion) and the lower main suction area 72 set at the lower edge 42 portion (lower edge portion). And the right side adsorption area 73 set at the right side 43 part (right side part), and the left side side adsorption area 74 set at the left side edge 44 part (left side part). Preferably, the upper main adsorption area 71 is divided in the center position, and consists of the 1st upper main adsorption area 75 and the 2nd upper main adsorption area 76 as a division area, respectively. In this case, at least one suction pad 46 (in each of the regions 75 and 76 in FIG. 7, for example, six) is disposed in each of the regions 75 and 76. Further, preferably, the lower main adsorption region 72 is also divided at its center position, and each includes the first lower main adsorption region 77 and the second lower main adsorption region 78 as the divided regions. Also in this case, at least one suction pad 46 (in each of the regions 75 and 76, for example, six in each of the regions 77 and 78) is disposed. Therefore, in the present embodiment, six adsorption regions 73 to 78 including four divided regions 75 to 78 are set in the frame 37. In the frame 37, six conduits 79a to 79f for supplying negative pressure to the adsorption pads 46 included in each of the adsorption regions 73 to 78 are provided to extend, and at the same time, the conduits 79a to 79f. Is connected to a common negative pressure source 81 via six valves 80a to 80f provided outside the frame 37, respectively. For this reason, the negative pressure of the adsorption | suction area | regions 73-78 is controlled independently from each other, and can adsorb | suck the board | substrate W for every adsorption | suction area | region. Moreover, vacuum sensors 82a-82f are provided in the pipe lines 79a-79f, respectively, and the pressure in each pipe line 79a-79f is measured. The valves 80a to 80f, the negative pressure source 81, and the vacuum sensors 82a to 82f are connected to the control device 18, and their operation is controlled.

또한, 본 실시형태에서는, 제1 상측 주흡착 영역(75) 및 제2 상측 주흡착 영역(76)의 어느 한 방향과 제1 하측 주흡착 영역(77) 및 제2 하측 주흡착 영역(78)의 어느 한 방향에 의해 기판(W)이 흡착되었을 경우에는, 기판(W)이 프레임(37)으부터 낙하하는 일없이 지지가 가능하도록 되어 있다. In addition, in this embodiment, either the direction of the 1st upper main suction area | region 75 and the 2nd upper main suction area | region 76 and the 1st lower main suction area | region 77 and the 2nd lower main suction area | region 78 When the board | substrate W is adsorb | sucked in either of the directions, it is possible to support the board | substrate W without falling from the frame 37. FIG.

도 8에서 나타내듯이, 흡착 패드(46)는, 부압이 공급되는 출력관(91)과, 출력관(91)의 선단에 부착되는 주름진 패드부(92)와, 패드부(92)의 선단(도 8 중, 하단)에 부착되며, 기판(W)과의 당접부를 갖는 어태치먼트(93)를 구비하고 있다. 어태치먼트(93)는, PEEK(폴리에텔에텔케톤; Poly Ether Ether Ketone) 등으로 이루어지는 수지재료에 의해 형성되어 있다. 본 실시형태에서는, 흡착 패드(46)는, 출력관(91)이 그 축방향을 따라 이동이 가능한, 소위 버퍼 부착의 흡착 패드로 구성되어 있다. 구체적으로, 출력관(91)은, 중공 형상의 제1 샤프트(94)와, 제1 샤프트(94) 내로 삽입되는 중공 형상의 제2 샤프트(95)를 구비하고, 제1 샤프트(94)의 내주면의 축방향의 중간위치에는 직경 방향의 내측을 향해서 플랜지부(96)가 연장되어 설치되어 있다. 그리고 제1 샤프트(94) 안에는, 플랜지부(96)와 제2 샤프트(95) 사이에 코일 용수철(97)이 개재되어 있다. 이러한 구성에 의해, 흡착 패드(46)는, 프레임(37)의 기판 지지면에 대하여 직교하는 방향으로 이동이 가능하도록 되어 있다. 또한, 제1 샤프트(94)와 제2 샤프트(95) 사이에는, 씰 재료(도시 생략)가 개재됨으로써 출력관(91) 내의 기밀이 유지됨과 동시에, 제1 샤프트(94)로부터 제2 샤프트(95)가 튀어 나오지 않도록 구성되어 있다.As shown in FIG. 8, the suction pad 46 includes an output tube 91 to which negative pressure is supplied, a corrugated pad portion 92 attached to the tip of the output tube 91, and a tip of the pad portion 92 (FIG. 8). And an attachment 93 attached to the substrate W and having a contact portion with the substrate W. The attachment 93 is made of a resin material made of PEEK (Poly Ether Ether Ketone) or the like. In this embodiment, the adsorption pad 46 is comprised from the so-called buffer adsorption pad with which the output pipe 91 is movable along the axial direction. Specifically, the output tube 91 includes a hollow first shaft 94 and a hollow second shaft 95 inserted into the first shaft 94, and an inner circumferential surface of the first shaft 94. The flange portion 96 extends toward the inner side in the radial direction at an intermediate position in the axial direction. In the first shaft 94, a coil spring 97 is interposed between the flange portion 96 and the second shaft 95. By this structure, the suction pad 46 is movable in the direction orthogonal to the board | substrate supporting surface of the frame 37. FIG. In addition, the sealing material (not shown) is interposed between the first shaft 94 and the second shaft 95 to maintain the airtightness in the output pipe 91 and at the same time, the second shaft 95 from the first shaft 94. ) Is constructed so that it does not stick out.

다음으로, 상류측 컨베이어(21)로부터 반송된 기판(W)을 로드용의 이송 기구(22)로부터 캐리어(23)로 받아 넘기는 동작에 대해서, 도 9를 참조하면서 설명하고자 한다.Next, the operation | movement which takes the board | substrate W conveyed from the upstream conveyor 21 to the carrier 23 from the transfer mechanism 22 for loading is demonstrated, referring FIG.

캐리어(23)로의 기판(W)의 수수에 앞서, 캐리어(23)의 돌기부(67)는 반송로(12)의 협지 기구(도시 생략)에 협지된다. 그 결과, 기판(W)을 지지하고 있지 않은 캐리어(23)가 로드용의 이송 기구(22)에 대하여 위치가 맞추어져 정지한다. 이 때, 이송 기구(22)에서는, 리프트 핀(52) 및 얼라인먼트 핀(56)은, 제1 반송부(47)보다도 하방에 위치하고 있다. 또한, 제2 반송부(48)는, 상류측 컨베이어(21)로부터 반송된 기판(W)을 캐리어(23)로 받아 넘길 때는 사용되지 않고, 제1 반송부(47)보다도 하측에 위치한 채이기 때문에, 도 9에서는 제2 반송부(48)를 생략하고 있다.Prior to the delivery of the substrate W to the carrier 23, the protrusion 67 of the carrier 23 is sandwiched by a clamping mechanism (not shown) of the carrier path 12. As a result, the carrier 23 which does not support the board | substrate W is aligned with respect to the feed mechanism 22 for rods, and stops. At this time, in the transfer mechanism 22, the lift pins 52 and the alignment pins 56 are located below the first transfer section 47. In addition, since the 2nd conveyance part 48 is not used when receiving the board | substrate W conveyed from the upstream conveyor 21 by the carrier 23, since it is located below the 1st conveyance part 47, it remains. 9, the 2nd conveyance part 48 is abbreviate | omitted.

도 9a에서 나타내듯이, 하측 테두리(42)의 외측에 마련된 얼라인먼트 핀(56)(도면에서, 왼쪽)만이 제1 반송부(47)보다도 상방으로 돌출되고, 이 상태에서, 상류측 컨베이어(21)로부터 공급된 기판(W)이 제1 반송부(47)에 의해 프레임(37)보다도 상방에서 반송된다. 제1 반송부(47)에 의해 반송된 기판(W)은, 하측 테두리(42)의 외측에 마련된 얼라인먼트 핀(56)에 당접됨으로써 정지한다.As shown in FIG. 9A, only the alignment pin 56 (left side in the drawing) provided on the outside of the lower edge 42 protrudes upwardly from the first conveying portion 47, and in this state, the upstream conveyor 21 The board | substrate W supplied from the 1st conveyance part 47 is conveyed above the frame 37. As shown in FIG. The board | substrate W conveyed by the 1st conveyance part 47 stops by contacting the alignment pin 56 provided in the outer side of the lower edge 42.

다음으로, 도 9b에서 나타내듯이, 리프트 핀(52)이 제1 반송부(47)보다도 상방으로 상승해서 기판(W)을 지지함과 동시에, 상측 테두리(41), 우측 테두리(43) 및 좌측 테두리(44) 각각의 외측에 마련된 얼라인먼트 핀(56)이 상승한다. 또한, 도 9b에는, 상측 테두리(41) 외측의 얼라인먼트 핀(56)(도면에서, 오른쪽)과, 하측 테두리(42) 외측의 얼라인먼트 핀(56)(도면에서 왼쪽)만을 나타내고 있다. 그리고 각 얼라인먼트 핀(56)이 x방향 또는 y방향으로 이동하는 것으로, 프레임(37)과 기판(W)과의 상대적인 위치 맞춤을 실시한다.Next, as shown in FIG. 9B, the lift pin 52 rises above the first conveying portion 47 to support the substrate W, and at the same time, the upper edge 41, the right edge 43, and the left side. The alignment pin 56 provided in the outer side of each edge 44 rises. 9B, only the alignment pin 56 (right side in the figure) outside the upper edge 41 and the alignment pin 56 (left side in the figure) outside the lower edge 42 are shown. Each alignment pin 56 is moved in the x direction or the y direction, so that relative alignment between the frame 37 and the substrate W is performed.

프레임(37)과 기판(W)과의 상대적인 위치 맞춤이 완료하면, 그 다음에, 도 9c에서 나타내듯이, 프레임(37)이 상승해서 흡착 패드(46)에 의해 기판(W)을 흡착하고, 리프트 핀(52) 및 얼라인먼트 핀(56)이 하강한다.When the relative alignment between the frame 37 and the substrate W is completed, as shown in FIG. 9C, the frame 37 is raised to adsorb the substrate W by the suction pad 46. Lift pin 52 and alignment pin 56 are lowered.

제어장치(18)는, 흡착 패드(46)에 의해 기판(W)의 흡착을 시작하고 나서 소정의 시간이 경과한 후에, 각 관로(79a 내지 79f)의 압력이 소정 값 이하가 되어 있는 것인지 아닌지, 즉 각 흡착 영역(73 내지 78)에 포함되는 흡착 패드(46)의 흡착력을 판정한다. 이 때, 압력이 소정 값 이하로 되어 있지 않은 관로가 있을 경우에는, 제어장치(18)는, 그 관로에 대응하는 밸브를 닫고, 대응하는 흡착 영역 내에 포함되어 있는 흡착 패드(46)의 흡착 동작을 정지한다. 그리고 제어장치(18)는, 소정 값 이하의 압력으로 되어 있는 관로에 접속된 흡착 영역 내의 흡착 패드(46)만으로 기판(W)을 흡착한다. 이 때, 제1 상측 주흡착 영역(75) 및 제2 상측 주흡착 영역(76)의 어느 일방과 제1 하측 주흡착 영역(77) 및 제2 하측 주흡착 영역(78)의 어느 일방에 의해 기판(W)이 흡착되었을 경우에는, 제어장치(18)는, 기판(W)을 지지할 수 있다고 판단하여 다음 동작을 실시한다. 한편, 제어장치(18)는, 기판(W)의 깨어짐 등에 의해, 예를 들면 좌측 부흡착 영역(74)만으로 기판(W)이 흡착되었을 경우 등에는, 기판(W)을 지지할 수 없다고 판단하여 기판(W)을 바꾼다.The controller 18 determines whether or not the pressure in each of the conduits 79a to 79f is equal to or less than a predetermined value after a predetermined time has elapsed since the adsorption pad 46 starts adsorption of the substrate W. That is, the adsorption force of the adsorption pad 46 contained in each adsorption area 73-78 is determined. At this time, when there is a pipeline in which the pressure is not lower than or equal to a predetermined value, the controller 18 closes the valve corresponding to the pipeline, and the adsorption operation of the adsorption pad 46 included in the corresponding adsorption region. Stop. And the control apparatus 18 adsorb | sucks the board | substrate W only by the adsorption pad 46 in the adsorption | suction area | region connected to the piping which is set to the pressure below a predetermined value. At this time, either one of the first upper main suction area 75 and the second upper main suction area 76, and either of the first lower main suction area 77 and the second lower main suction area 78 When the board | substrate W is adsorbed, the control apparatus 18 judges that the board | substrate W can be supported, and performs the following operation. On the other hand, the control apparatus 18 judges that the board | substrate W cannot support the board | substrate W, for example, when the board | substrate W is adsorbed only by the left side adsorption | suction area | region 74, etc. by the crack of the board | substrate W, etc. The substrate W is replaced.

그 다음, 도 9d에서 나타내듯이, 프레임(37)이 지지 부재(36)의 회동축(L)을 중심으로 해서 수평상태에서 수직상태로 회동한다. 나아가, 프레임(37)이, 수직상태인 채로, 광전 센서(68)에 의해 검출된 장착면(65)의 높이에 근거해서 z방향 및 y방향으로 이동하고, 기판(W)의 하단이 장착면(65)과 접촉하지 않도록 해서 캐리어(23)의 오목부(63) 내로 기판(W)을 이동시킨다. 또한, 본 실시형태에서는, 프레임(37)은, 장착면(65)보다도 소정 거리(H)(본 실시형태에서는, 2mm)만큼만 상방이 되는 위치로 기판(W)을 이동시킨다.Next, as shown in FIG. 9D, the frame 37 rotates from the horizontal state to the vertical state around the rotation axis L of the support member 36. Furthermore, the frame 37 moves in the z direction and the y direction based on the height of the mounting surface 65 detected by the photoelectric sensor 68 while the frame 37 is in a vertical state, and the lower end of the substrate W is mounted on the mounting surface. The substrate W is moved into the recess 63 of the carrier 23 so as not to contact 65. In addition, in this embodiment, the frame 37 moves the board | substrate W to the position which becomes only upwards only predetermined distance H (2 mm in this embodiment) from the mounting surface 65. FIG.

그리고 클램프(66)가 캐리어(23)와 평행하도록 누워서 기판(W)을 건 후, 흡착 패드(46)에 의한 진공흡착이 해제된다. 그러면, 도 9e에서 나타내듯이, 기판(W)이 자연낙하해서 기판받이(64)의 장착면(65) 상에 장착되어, 캐리어(23)의 기판받이(64) 내로 기판(W)이 넘겨진다.Then, the clamp 66 is laid in parallel with the carrier 23 to hang the substrate W, and vacuum suction by the suction pad 46 is released. Then, as shown in FIG. 9E, the substrate W falls naturally and is mounted on the mounting surface 65 of the substrate holder 64, and the substrate W is turned into the substrate holder 64 of the carrier 23. .

또한, 더미 카세트(24)로부터 테스트 기판이 이송 기구(22) 위로 반송될 경우에는, 제2 반송부(48)가 제1 반송부(47)보다도 상방에 위치함과 동시에, 우측 테두리(43)보다도 외측에 위치하는 얼라인먼트 핀(56)이 제2 반송부(48)보다도 상방으로 이동한다. 이 상태에서, 테스트 기판이 제2 반송부(48)에 의해 좌측 테두리(44)로부터 우측 테두리(43)를 향해서 반송된다. 그 후, 프레임(37)과 테스트 기판과의 상대적인 위치 맞춤 처리, 및 프레임(37)으로부터 캐리어(23)로의 테스트 기판의 수수 처리에 대해서는, 상기 설명한 기판(W)에 대하여 행하여지는 처리(도 9b∼도 9e)와 같다.In addition, when the test substrate is conveyed from the dummy cassette 24 onto the transfer mechanism 22, the second transfer portion 48 is located above the first transfer portion 47, and the right edge 43 is provided. The alignment pin 56 located outside the upper side moves above the second conveying unit 48. In this state, the test substrate is conveyed from the left edge 44 to the right edge 43 by the second transfer portion 48. Subsequently, the relative alignment processing between the frame 37 and the test substrate and the transfer processing of the test substrate from the frame 37 to the carrier 23 are performed on the substrate W described above (FIG. 9B). To Fig. 9E).

그 다음, 진공 처리된 기판(W)을 캐리어(23)로부터 언로드용 이송 기구(25)로 받는 동작에 대해서, 도 10을 참조하면서 설명하고자 한다. 또한, 도 10에서 나타내는 언로드용 이송 기구(25)에 있어서, 로드용의 이송 기구(22)와 같은 구성 부분에는 동일부호를 첨부해서 설명한다.Next, an operation of receiving the vacuum processed substrate W from the carrier 23 to the unloading transfer mechanism 25 will be described with reference to FIG. 10. In addition, in the unloading feed mechanism 25 shown in FIG. 10, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the same component part as the feed mechanism 22 for rods.

이송 기구(25)에서는, 캐리어(23)로부터의 기판(W)을 수취함에 앞서, 캐리어(23)의 돌기부(67)가 반송로(12)의 협지 기구(도면 생략)에 협지된다. 이로 인해, 진공 처리된 기판(W)을 반송하는 캐리어(23)가 언로드용 이송 기구(25)에 대하여 위치 맞춤되어 정지한다. 이 때, 이송 기구(25)에서는, 리프트 핀(52) 및 얼라인먼트 핀(56)은, 제1 반송부(47)보다도 하방에 위치하고 있다. 한편, 제2 반송부(48)는, 캐리어(23)를 통해서 하류측 컨베이어(26)로 기판(W)을 반출할 때는 사용되지 않고, 제1 반송부(47)보다도 하방에 위치한 채이기 때문에, 도 10에서는 제2 반송부(48)를 생략하고 있다.In the transfer mechanism 25, the projection 67 of the carrier 23 is sandwiched by the clamping mechanism (not shown) of the carrier path 12 before receiving the substrate W from the carrier 23. For this reason, the carrier 23 which conveys the vacuum processed board | substrate W is aligned with respect to the unloading feed mechanism 25, and stops. At this time, in the transfer mechanism 25, the lift pins 52 and the alignment pins 56 are located below the first transfer unit 47. On the other hand, since the 2nd conveyance part 48 is not used when carrying out the board | substrate W to the downstream conveyor 26 through the carrier 23, since it is located below the 1st conveyance part 47, In FIG. 10, the 2nd conveyance part 48 is abbreviate | omitted.

이 상태에서, 도 10a에서 나타내듯이, 프레임(37)이 수직하게 서며, 캐리어(23) 내에 수직상태로 지지된 기판(W)의 흡착면(Wa)을 흡착 패드(46)로 흡착한다. 이 때, 회동축(L)은, 캐리어(23)에 대하여 프레임(37)보다도 떨어진 위치에서, 기판받이(64)의 장착면(65)보다도 하측에 위치하고 있다. 이 위치 관계를 실현하기 위해서는, 예를 들면 지지 부재(36)를 도 10에서 나타내듯이 단면을 L자형으로 형성할 수 있다. 그 다음으로, 클램프(66)가 캐리어(23)의 기판 지지면에 대한 평행 상태에서 수직상태로 회동하여, 기판(W)의 지지를 해제한다. 그 다음으로, 회동축(L)을 지점으로 하여 프레임(37)이 수직상태에서 수평상태로 회동한다. 그 결과, 기판(W)은, 흡착 패드(46)에 의해 지지된 채, 프레임(37)에 수평상태로 지지된다.In this state, as shown in FIG. 10A, the frame 37 stands vertically, and the suction surface Wa of the substrate W held vertically in the carrier 23 is sucked by the suction pad 46. At this time, the rotation shaft L is located below the mounting surface 65 of the substrate support 64 at a position away from the frame 37 with respect to the carrier 23. In order to realize this positional relationship, for example, the supporting member 36 can be formed in an L-shaped cross section as shown in FIG. Next, the clamp 66 rotates in a vertical state in a parallel state with respect to the substrate support surface of the carrier 23 to release the support of the substrate W. As shown in FIG. Next, the frame 37 rotates from the vertical state to the horizontal state with the rotation axis L as the point. As a result, the substrate W is supported in the horizontal state by the frame 37 while being supported by the suction pad 46.

흡착 패드(46)에 기판(W)을 흡착할 때에, 제어장치(18)는, 기판(W)을 흡착 패드(46)에 의한 흡착을 시작하고 나서 소정의 시간이 경과한 후에, 관로(79a 내지 79f) 중 압력이 소정 값 이하로 되어 있지 않은 관로에 대응하는 밸브를 닫고, 압력이 소정 값 이하로 된 관로에 접속된 흡착 패드(46)만으로 기판(W)을 흡착한다.When the substrate W is adsorbed on the suction pad 46, the controller 18 passes the substrate W after the predetermined time has elapsed since the adsorption pad 46 starts adsorption by the suction pad 46. The valve W corresponding to the pipeline in which the pressure is not lower than or equal to the predetermined value is closed, and the substrate W is adsorbed only by the suction pad 46 connected to the pipeline in which the pressure is lower than or equal to the predetermined value.

또한, 상기한 바와 같이, 프레임(37)이 캐리어(23) 내에 지지된 기판(W)을 흡착할 때, 회동축(L)은, 캐리어(23)에 대하여 프레임(37)보다도 떨어진 위치에서, 기판받이(64)의 장착면(65)보다도 하측에 위치하고 있다. 이 때문에, 기판(W)의 흡착 후, 프레임(37)이 회동하는 것만으로, 기판(W)의 비흡착면(Wb)이 캐리어(23)에 지지된 상태에서, 기판(W)의 상단 및 하단이 각각 화살표(Y1, Y2)로 나타내는 것처럼 이동한다. 따라서 프레임(37)이 수직상태에서 수평상태로 회동할 때, 프레임(37)을 상하 이동 및 수평 이동시키지 않아도, 기판(W)이 캐리어(23)(예를 들면 장착면(65) 등)에 접촉해서 손상되는 것을 방지할 수 있다.In addition, as mentioned above, when the frame 37 adsorb | sucks the board | substrate W supported in the carrier 23, the rotation shaft L is located in the position which is farther from the frame 37 with respect to the carrier 23, It is located below the mounting surface 65 of the substrate support 64. For this reason, only after the adsorption of the board | substrate W, the frame 37 rotates only, and the upper end of the board | substrate W and the non-adsorption surface Wb of the board | substrate W are supported by the carrier 23, and The lower end moves as indicated by arrows Y1 and Y2, respectively. Therefore, when the frame 37 is rotated from the vertical state to the horizontal state, the substrate W is moved to the carrier 23 (for example, the mounting surface 65, etc.) without moving the frame 37 up and down and horizontally. It can prevent contact and damage.

다음으로, 도 10b에서 나타내듯이, 수평상태로 회동된 프레임(37)이 제1 반송부(47)보다도 상방에서 기판(W)을 지지하는 상태에서, 흡착 패드(46)에 의한 흡착이 해제된다. 그 다음에, 도 10c에서 나타내듯이, 리프트 핀(52)이 프레임(37)보다도 상방으로 상승해서 기판(W)을 지지함과 동시에, 각 얼라인먼트 핀(56)이 기판(W)과 접촉하지 않도록 그 외측으로 상승한다. 그리고 각 얼라인먼트 핀(56)이 x방향 또는 y방향으로 이동하는 것으로, 프레임(37)과 기판(W)과의 상대적인 위치 맞춤이 행하여진다.Next, as shown in FIG. 10B, the suction by the suction pad 46 is released while the frame 37 rotated in the horizontal state supports the substrate W above the first transport portion 47. . Next, as shown in FIG. 10C, the lift pins 52 are raised above the frame 37 to support the substrate W, and the alignment pins 56 do not contact the substrate W. It rises outward. Each alignment pin 56 is moved in the x direction or the y direction, so that relative alignment between the frame 37 and the substrate W is performed.

그리고 도 10d에서 나타내듯이, 프레임(37), 리프트 핀(52) 및 얼라인먼트 핀(56)이 제1 반송부(47)보다도 하방으로 내려가고, 기판(W)이 제1 반송부(47) 상에 장착된다. 그리고 제1 반송부(47)가 구동됨으로써, 기판(W)이 이송 기구(25)에서 하류측 컨베이어(26)로 반송된다.And as shown in FIG. 10D, the frame 37, the lift pin 52, and the alignment pin 56 descend below the 1st conveyance part 47, and the board | substrate W is on the 1st conveyance part 47. As shown in FIG. Is mounted on. And the board | substrate W is conveyed by the conveyance mechanism 25 to the downstream conveyor 26 by the 1st conveyance part 47 being driven.

따라서 캐리어(23)를 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키지 않기(즉, 캐리어(23)가 수직상태로 유지된 상태이다) 위해서, 캐리어(23)를 구성하는 부재를 두껍게 해서 그 강성을 높게 할 필요가 없어지고, 캐리어(23)의 경량화를 도모할 수 있다.Therefore, in order not to rotate the carrier 23 between the horizontal state and the vertical state (that is, the state in which the carrier 23 is maintained in the vertical state), the member constituting the carrier 23 is made thick to increase its rigidity. There is no need, and the carrier 23 can be reduced in weight.

일 실시형태의 기판반송장치(11)는, 이하와 같은 이점을 갖는다.The substrate transport apparatus 11 of one embodiment has the following advantages.

(1)기판반송장치(11)는, 직사각형 형상의 테두리체를 갖고, 수평방향을 따라 연장되는 테두리체와 평행하는 회동축(L)에 회동이 가능하도록 지지된 프레임(37)과, 프레임(37)에 설치되어 기판(W)을 흡착하는 복수의 흡착 패드(46)와, 프레임(37)을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부(35)를 갖는 이송 기구(22)와, 이송 기구(22)를 제어하는 제어장치(18)를 구비했다. 이송 기구(22)는, 수평상태의 프레임(37)으로 기판(W)을 흡착하고, 프레임(37)을 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 기판(W)을 캐리어(23)로 받아 넘긴다. 이 캐리어(23)는, 기판(W)을 수직상태로 반송한다. 따라서 캐리어(23)로 기판(W)을 주고받을 때에, 캐리어(23)를 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키지 않도록 하기 위해서, 캐리어(23)를 구성하는 부재를 두껍게 해서 그 강성을 높게 할 필요가 없고, 캐리어(23)의 경량화를 도모할 수 있다. 그 결과, 각 캐리어(23) 제조비용의 저감이 가능하게 됨과 동시에, 캐리어(23)를 반송할 때에 필요한 전력을 저감할 수 있게 된다. 따라서 기판(W)의 생산비용을 저감할 수 있다. 또한, 프레임(37)에 의해 기판(W)만을 회동시키기 위해서, 종래와 같이 기판(W)을 지지한 캐리어를 회동시킬 경우에 비해, 기판(W)을 수평상태에서 수직상태로 할 때에 필요한 전력을 효과적으로 저감할 수 있고, 기판(W)의 생산비용 저감을 도모할 수 있다.(1) The substrate conveying apparatus 11 has a frame 37 which has a rectangular frame and which is rotatably supported on a pivot shaft L parallel to the frame extending along the horizontal direction, and a frame ( A transfer mechanism 22 having a plurality of suction pads 46 provided at 37 to adsorb the substrate W, a drive unit 35 for rotating the frame 37 between a horizontal state and a vertical state, and a transfer mechanism 22. The control apparatus 18 which controls the 22 is provided. The transfer mechanism 22 attracts the substrate W to the frame 37 in a horizontal state, rotates the frame 37 in a vertical state, and delivers the substrate W in the vertical state to the carrier 23. . The carrier 23 conveys the substrate W in a vertical state. Therefore, in order to prevent the carrier 23 from rotating between the horizontal state and the vertical state when exchanging the substrate W with the carrier 23, it is necessary to thicken the member constituting the carrier 23 to increase its rigidity. And the weight of the carrier 23 can be reduced. As a result, the manufacturing cost of each carrier 23 can be reduced, and the power required when carrying the carrier 23 can be reduced. Therefore, the production cost of the substrate W can be reduced. Moreover, in order to rotate only the board | substrate W by the frame 37, compared with the case where the carrier which supported the board | substrate W was rotated conventionally, the power required when making the board | substrate W into a vertical state from a horizontal state. Can be effectively reduced, and the production cost of the substrate W can be reduced.

(2)이송 기구(22)는, 캐리어(23)에 수직상태로 지지된 기판(W)을 수직상태의 프레임(37)으로 흡착한 후, 프레임(37)을 수평상태로 회동시킨다. 따라서 캐리어(23)로부터 기판(W)을 받을 때에 캐리어(23)를 수평상태와 수직상태 사이에서 회동 시키지 않도록 하기 위해서, 캐리어(23)를 구성하는 부재를 두껍게 해서 그 강성을 높게 할 필요가 없다. 그로 인해 캐리어(23)를 경량화 할 수 있다.(2) The transfer mechanism 22 rotates the frame 37 in a horizontal state after absorbing the substrate W supported in the vertical state to the carrier 23 into the frame 37 in the vertical state. Therefore, in order not to rotate the carrier 23 between the horizontal state and the vertical state when receiving the substrate W from the carrier 23, it is not necessary to thicken the member constituting the carrier 23 and increase its rigidity. . Therefore, the carrier 23 can be reduced in weight.

(3)이송 기구(22)는, 수평상태의 프레임(37)의 테두리체 내측에 배치되어 상류측 컨베이어(21)로부터 수평상태로 공급된 기판(W)을 프레임(37) 위에서 반송하는 제1 반송부(47)를 구비한다. 그로 인해, 종래와 같이, 반송 로봇이 외부반송기구로부터 처리 전의 기판(W)을 받아 프레임(37) 위로 반송할 경우에 비해, 반송로봇을 배치하는 스페이스가 필요 없게 되어 공간을 절약할 수 있다.(3) The conveyance mechanism 22 is a first that is disposed inside the frame of the frame 37 in a horizontal state and conveys the substrate W supplied in a horizontal state from the upstream conveyor 21 on the frame 37. The conveyance part 47 is provided. Therefore, compared with the case where the transfer robot receives the board | substrate W before a process from the external transfer mechanism, and conveys it over the frame 37, the space which arrange | positions a transfer robot is not needed, and space can be saved.

(4)제어장치(18)는, 흡착 패드(46)에 의한 기판(W)의 흡착을 시작한 후, 소정 시간 내에 관로(79a 내지 79f) 내의 압력이 소정 값 이하가 안 될 경우에는, 해당 관로에 마련된 밸브(80a∼80f)를 닫는다. 따라서 기판(W)의 휨이나 기판(W)의 파손으로 인해 기판에 밀착될 수 없는 흡착 패드(46)를 포함하는 흡착 영역이 있어도, 각 흡착 패드(46)가 기판(W)에 밀착된 흡착 영역에서는 기판(W)을 흡착할 수 있다. 그 때문에, 기판(W)의 휨이 클 경우 등에, 기판(W)의 일부를 흡착할 수 없기 때문에, 기판(W) 전체가 프레임(37) 위에 지지될 수 없게 되는 것을 저감시킬 수 있다.(4) If the pressure in the conduits 79a to 79f does not fall below a predetermined value within a predetermined time after the controller 18 starts adsorption of the substrate W by the adsorption pad 46, the conduit The valves 80a to 80f provided in the valve are closed. Therefore, even if there is an adsorption region including the adsorption pad 46 which cannot be adhered to the substrate due to the warpage of the substrate W or the breakage of the substrate W, the adsorption pads 46 adhere to the substrate W closely. In the region, the substrate W can be adsorbed. Therefore, since a part of the board | substrate W cannot be adsorb | sucked when the board | substrate W is large, etc., it can reduce that the whole board | substrate W cannot be supported on the frame 37.

(5)흡착 패드(46)는 프레임(37)에 직사각형 테두리 형상으로 배열되기 때문에, 기판(W)의 외주변이 흡착되어 해당 기판(W)의 휨을 저감시킬 수 있다. 그 결과, 예를 들면, 프레임(37)의 내측에 격자무늬 형상으로 흡착 패드(46)를 마련할 경우에 비해, 흡착 패드(46)의 수를 삭감할 수 있다. 이 경우, 프레임(37)이 수직상태가 되면, 상측 테두리(41) 및 하측 테두리(42)에 기판(W) 중량의 대부분이 작용하여, 상측 테두리(41) 및 하측 테두리(42)(상측 주흡착 영역(71) 및 하측 주흡착 영역(72))에 마련된 흡착 패드(46)에 의해 기판(W)이 흡착되어 프레임(37) 상에 지지된다. 그 때문에, 기판(W)의 휨이 클 경우 등에 상측 주흡착 영역(71) 및 하측 주흡착 영역(72)에 마련된 흡착 패드(46)가 기판(W)을 흡착할 수 없으면, 프레임(37) 상에 기판(W)을 지지하는 것이 곤란해진다. 이 점에 있어서, 본 실시형태에서는, 흡착 패드(46)는, 프레임(37) 상에 마련되어져, 프레임(37)에는, 상측 주흡착 영역(71), 하측 주흡착 영역(72), 우측 부흡착 영역(73), 좌측 부흡착 영역(74)으로 이루어지는 복수의 흡착 영역이 형성되어 있다. 게다가, 상측 주흡착 영역(71)은, 제1 상측 주흡착 영역(75)과 제2 상측 주흡착 영역(76)으로 구성됨과 동시에, 하측 주흡착 영역(72)은, 제1 하측 주흡착 영역(77)과 제2 하측 주흡착 영역(78)으로 구성되어 있다. 그 때문에, 예를 들면 제1 상측 주흡착 영역(75)에서 기판(W)을 흡착할 수 없더라도, 제2 상측 주흡착 영역(76)에서 기판(W)을 흡착할 수 있을 경우에는, 프레임(37) 상에 기판(W)을 지지하는 것이 가능하게 된다. 그 때문에, 흡착 패드(46)의 수를 삭감할 수 있으면서 동시에, 기판(W)의 휨이 클 경우 등, 기판(W)의 일부를 흡착할 수 없게 되므로, 기판(W) 전체가 프레임(37) 상에 기판을 지지할 수 없게 되는 것을 더욱 더 저감시킬 수 있다.(5) Since the adsorption pad 46 is arranged in the frame 37 in the shape of a rectangular frame, the outer periphery of the substrate W is adsorbed and the warpage of the substrate W can be reduced. As a result, the number of adsorption pads 46 can be reduced, for example, compared with the case where the adsorption pads 46 are provided in a grid pattern inside the frame 37. In this case, when the frame 37 is in the vertical state, most of the weight of the substrate W acts on the upper edge 41 and the lower edge 42, so that the upper edge 41 and the lower edge 42 (the upper main portion). The substrate W is adsorbed and supported on the frame 37 by the adsorption pads 46 provided in the adsorption region 71 and the lower main adsorption region 72. Therefore, when the suction pad 46 provided in the upper main adsorption region 71 and the lower main adsorption region 72 cannot adsorb | suck the board | substrate W, when the curvature of the board | substrate W is large, the frame 37 It becomes difficult to support the substrate W on the substrate. In this regard, in the present embodiment, the suction pad 46 is provided on the frame 37, and the frame 37 has an upper main suction area 71, a lower main suction area 72, and a right side part. A plurality of adsorption regions consisting of the adsorption region 73 and the left subadsorption region 74 are formed. In addition, the upper main suction area 71 is composed of the first upper main suction area 75 and the second upper main suction area 76, and the lower main suction area 72 is the first lower main suction area 72. It consists of 77 and the 2nd lower main adsorption area | region 78. As shown in FIG. Therefore, even if the substrate W cannot be adsorbed in the first upper main adsorption region 75, for example, the frame W can be adsorbed in the second upper main adsorption region 76. It becomes possible to support the substrate W on the substrate 37. Therefore, the number of adsorption pads 46 can be reduced and at the same time, a part of the substrate W cannot be adsorbed, such as when the warp of the substrate W is large, so that the entire substrate W is framed 37. It is possible to further reduce the inability to support the substrate on the substrate.

(6)이송 기구(25)가, 캐리어(23)에 수직상태로 지지된 기판(W)을 프레임(37)의 수직상태에서 복수의 흡착 패드(46)에 의해 흡착되어 받을 때, 회동축(L)은 캐리어(23)에 대하여 프레임(37)보다도 떨어진 위치이면서, 캐리어(23)의 장착면(65)보다도 하측에 위치한다. 그 때문에, 프레임(37)을 회동시켰을 때, 프레임(37)이 장착면(65)보다도 상방으로 이동함과 동시에, 캐리어(23)로부터 떨어진 방향으로 이동한다. 따라서 프레임(37)을 장착면(65)보다도 상방으로 수직 이동시키거나, 캐리어(23)로부터 이간 방향으로 수평 이동시키거나 할 필요가 없다. 그 결과, 프레임(37)을 회동시키는 것만으로, 기판(W)이 장착면(65) 등에 접촉해서 파손되는 것을 방지하면서, 기판(W)의 보유 상태가 수직상태에서 수평상태로 변경된다.(6) When the transfer mechanism 25 receives the substrate W supported in the perpendicular state to the carrier 23 by the plurality of suction pads 46 in the vertical state of the frame 37, the rotation shaft ( L is located below the mounting surface 65 of the carrier 23 while being located away from the frame 37 with respect to the carrier 23. Therefore, when the frame 37 is rotated, the frame 37 moves upward from the mounting surface 65 and moves away from the carrier 23. Therefore, it is not necessary to vertically move the frame 37 upwardly from the mounting surface 65 or to horizontally move it in the separation direction from the carrier 23. As a result, only by rotating the frame 37, the holding state of the substrate W is changed from the vertical state to the horizontal state while preventing the substrate W from contacting the mounting surface 65 or the like and being damaged.

(7)프레임(37)이 수직상태인 채로, 광전 센서(68)에 의해 검출된 장착면(65)의 위치에 근거해서 z방향 및 y방향으로 이동이 가능하다. 따라서 수직상태의 프레임(37)에 지지된 기판(W)의 하단이 장착면(65)과 접촉하지 않도록 프레임(37)의 이동을 제어하면서, 캐리어(23)의 오목부(63) 안에 기판(W)을 수용시킬 수 있다. 그 때문에, 균질의 박막을 형성하는 등의 목적에서 기판(W)이 가열되어, 캐리어(23)가 열팽창하여 장착면(65)의 높이가 변화되어 있을 경우이라고 하더라도, 기판(W)을 파손시키는 일없이 캐리어(23)로 받아 넘길 수 있다.(7) With the frame 37 in a vertical state, it is possible to move in the z direction and the y direction based on the position of the mounting surface 65 detected by the photoelectric sensor 68. Therefore, while controlling the movement of the frame 37 so that the lower end of the substrate W supported by the frame 37 in the vertical state does not contact the mounting surface 65, the substrate (in the recess 63 of the carrier 23) W) can be accommodated. Therefore, even when the substrate W is heated for the purpose of forming a homogeneous thin film and the carrier 23 is thermally expanded and the height of the mounting surface 65 is changed, the substrate W is damaged. It can be delivered to the carrier 23 without work.

또한, 상기 실시형태는, 이하의 형태로 실시할 수 있다.In addition, the said embodiment can be implemented with the following aspects.

· 제1 반송부(47), 제2 반송부(48) 및 리프트 핀(52)을 프레임(37)의 내측에 배치하는 것 대신, 혹은 프레임(37)의 내측에 배치하는 것에 더해, 예를 들면 기판(W)의 크기에 따라서 프레임(37)의 외측에 배치할 수 있다. 이에 의해, 기판(W)의 크기가 프레임(37)보다도 커졌을 경우라도, 보다 확실하게 프레임(37) 위로 반송할 수 있다.Instead of arranging the first conveying unit 47, the second conveying unit 48 and the lift pins 52 inside the frame 37, or in addition to arranging the inside of the frame 37, For example, it can arrange | position outside the frame 37 according to the magnitude | size of the board | substrate W. As shown in FIG. Thereby, even when the size of the board | substrate W becomes larger than the frame 37, it can convey to the frame 37 more reliably.

· 제2 반송부(48)는, 제1 반송부(47)에 간섭하는 일없이 z방향으로 이동이 가능하다면, 어떤 식으로든 제2 반송부(48)를 마련할 수 있다. 예를 들면 각 제2 반송부(48)를 개별의 액추에이터로 z방향으로 이동시킬 수 있다. 동일하게, 리프트 핀(52)을 베이스(54) 위에 지지하는 것으로 한정되지 않는다. 제1 및 제2 반송부(47, 48)에 간섭하는 일없이 z방향으로 이동이 가능하면, 어떤 식으로든 리프트 핀(52)을 마련할 수 있다.If the 2nd conveyance part 48 can move to z direction, without interfering with the 1st conveyance part 47, the 2nd conveyance part 48 can provide the 2nd conveyance part 48 in any way. For example, each 2nd conveyance part 48 can be moved to az direction by an individual actuator. Equally, it is not limited to supporting the lift pins 52 on the base 54. The lift pins 52 can be provided in any way as long as they can move in the z direction without interfering with the first and second conveyers 47 and 48.

· 제1 및 제2 반송부(47, 48)를 롤러 컨베이어 대신, 예를 들면 벨트 콘베이어로 구성할 수 있다.The first and second conveying parts 47 and 48 can be constituted by, for example, belt conveyors instead of roller conveyors.

· 흡착 패드(46)에 부압을 공급하는 것으로 기판(W)을 진공 흡착하는 것 대신, 프레임(37)에 정전 척을 마련하고, 정전흡착으로 기판(W)을 흡착할 수 있다.By supplying negative pressure to the adsorption pad 46, instead of vacuum adsorption of the substrate W, an electrostatic chuck can be provided in the frame 37, and the substrate W can be adsorbed by electrostatic adsorption.

· 관로(79a 내지 79f)를 공통의 부압원(81)에 접속하는 것 대신, 각 관로(79a 내지 79f)를 개별의 부압원에 접속할 수 있다.Instead of connecting the pipe lines 79a to 79f to the common negative pressure source 81, each pipe line 79a to 79f can be connected to an individual negative pressure source.

· 복수의 흡착 패드(46)를 프레임(37)의 테두리체에 직사각형 테두리 형상으로 배열하는 것으로 대신하여, 혹은 그에 더해, 장대부(45)를 마련하여 격자무늬 형상으로 배열할 수 있다.Instead of arranging the plurality of suction pads 46 in the frame of the frame 37 in the shape of a rectangular frame, the rod 45 can be arranged in a lattice pattern.

· 프레임(37)의 상측 테두리(41)와 하측 테두리(42)를 연결하는 복수의 장대부(45) 대신, PEEK를 코팅한 복수의 와이어를 이용할 수도 있다. 이에 의해, 장대부(45)를 채용할 경우에 비해 프레임을 경량화할 수 있다.Instead of the plurality of poles 45 connecting the upper edge 41 and the lower edge 42 of the frame 37, a plurality of wires coated with PEEK may be used. As a result, the frame can be reduced in weight as compared with the case where the rod 45 is employed.

· 프레임(37)의 수직상태에서 광전 센서(68)에 의해 검출된 장착면(65)의 높이에 근거해서 프레임(37)을 z방향으로 이동시키는 것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 얼라인먼트 핀(56)에 의해 프레임(37)과 기판(W)의 위치 맞춤 시, 광전 센서(68)에 의해 검출된 장착면(65)의 높이에 근거해서 그 위치 맞춤을 사전에 실시할 수 있다.It is not limited to moving the frame 37 in the z direction based on the height of the mounting surface 65 detected by the photoelectric sensor 68 in the vertical state of the frame 37. For example, when the frame 37 and the substrate W are aligned by the alignment pin 56, the alignment is previously determined based on the height of the mounting surface 65 detected by the photoelectric sensor 68. It can be carried out.

· 광전 센서(68) 대신, 온도 센서에 의해 검출된 캐리어(23)의 온도에 따라, 열팽창에 의한 장착면(65)의 위치를 추정할 수 있다.Instead of the photoelectric sensor 68, the position of the mounting surface 65 by thermal expansion can be estimated according to the temperature of the carrier 23 detected by the temperature sensor.

· 프레임(37)에, 제1 상측 주흡착 영역(75), 제2 상측 주흡착 영역(76), 제1 하측 주흡착 영역(77), 제2 하측 주흡착 영역(78), 우측 부흡착 영역(73) 및 좌측 부흡착 영역(74)으로 이루어지는 6개의 흡착영역을 형성했으나, 이에 한하지 않고, 흡착 영역은 어떤 식으로든 형성할 수 있다.In the frame 37, a first upper main suction area 75, a second upper main suction area 76, a first lower main suction area 77, a second lower main suction area 78, a right side suction Although six adsorption | suction regions which consist of the area | region 73 and the left side adsorption | suction area | region 74 were formed, it is not limited to this, The adsorption | suction area | region can be formed in any way.

· 기판반송장치(11)는, 더미 카세트(24)를 반드시 갖추지 않을 수 있다.The substrate transfer apparatus 11 may not necessarily be equipped with the dummy cassette 24.

· 진공처리장치(1)는, 로드용 이송 기구(22)와 언로드용 이송 기구(22)를 구비하는 소위 원쓰루 타입의 진공처리장치에 한정되지 않는다. 예를 들면, 진공처리장치(1)는, 하나의 이송 기구(22 또는 25)에 의해 캐리어(23) 사이의 기판(W)의 수수 및 수취를 실시하는, 소위 리턴 타입의 진공처리장치로 구성될 수도 있다.The vacuum processing apparatus 1 is not limited to the so-called one-through type vacuum processing apparatus provided with the rod feed mechanism 22 and the unload transfer mechanism 22. For example, the vacuum processing apparatus 1 is comprised by the so-called return type vacuum processing apparatus which receives and receives the board | substrate W between the carriers 23 by one conveyance mechanism 22 or 25. As shown in FIG. May be

Claims (15)

평판 형상의 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어에 상기 기판을 받아 넘기는 기판반송장치로,
직사각형 형상의 테두리체를 가지며, 수평방향으로 연장되는 회동축을 중심으로 회동이 가능한 프레임;
상기 프레임에 설치되어, 상기 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드들; 및
상기 프레임을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부를 포함하는 이송 기구를 포함하고,
상기 이송 기구는, 수평상태에 있는 상기 기판을 상기 프레임의 수평상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하고, 상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 상기 기판을 상기 캐리어로 받아 넘기는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
In the substrate transfer apparatus for receiving the substrate to the carrier for transporting the flat substrate in a vertical state,
A frame having a rectangular frame and capable of rotating about a rotation axis extending in a horizontal direction;
A plurality of adsorption pads installed on the frame to adsorb the substrate; And
A transfer mechanism including a drive unit for rotating the frame between a horizontal state and a vertical state,
The transfer mechanism sucks the substrate in a horizontal state with the plurality of suction pads in a horizontal state of the frame, and rotates the frame from a horizontal state to a vertical state while supporting the substrate on the frame, thereby vertically And said substrate in a state is delivered to said carrier.
제 1 항에 있어서, 상기 이송 기구는, 상기 캐리어에 수직상태로 지지된 기판을 상기 프레임의 수직상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하여 넘겨받고, 상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수직상태에서 수평상태로 회동시키는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.The frame of claim 1, wherein the transfer mechanism absorbs and transfers the substrate supported in the vertical state to the carrier to the plurality of suction pads in the vertical state of the frame, and supports the substrate in the frame. The substrate transport apparatus, characterized in that for rotating from the vertical state to the horizontal state. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 이송 기구는, 상기 프레임 테두리체의 내측에 배치되며, 상기 프레임의 수평상태에서 상기 기판을 반송하는 반송부를 포함하고,
상기 구동부는, 상기 프레임을 수직방향을 따라 상하 이동이 가능하도록 지지하고,
상기 이송 기구는, 상기 프레임을 상기 반송부보다도 하방으로 이동시켜서 상기 반송부에 의해 상기 기판을 반송하고, 상기 프레임의 상방에 상기 기판이 위치하는 상태에서 상기 프레임을 상기 반송부보다도 상방으로 이동시켜서 상기 기판을 흡착하는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
The said conveyance mechanism is a inside of the said frame frame, The conveyance part is a conveyance part of Claim 1 or 2 which conveys the said board | substrate in the horizontal state of the said frame,
The driving unit supports the frame to be movable up and down along a vertical direction,
The conveying mechanism moves the frame below the conveying unit to convey the substrate by the conveying unit, and moves the frame above the conveying unit while the substrate is positioned above the frame. And a substrate transporting device for absorbing the substrate.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 프레임에는 상기 기판에 대한 복수의 흡착 영역들이 설정되며, 상기 각 흡착 영역에는 적어도 하나의 흡착 패드가 포함되고, 같은 흡착 영역에 포함되는 흡착 패드에는 같은 부압이 공급되어, 상기 각 흡착 영역의 부압이 독립하여 제어가 가능한 것을 특징으로 하는 기판반송장치.The adsorption apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of adsorption regions for the substrate are set in the frame, and each of the adsorption regions includes at least one adsorption pad and is included in the same adsorption region. The same negative pressure is supplied to the pad, and the negative pressure of each said adsorption | suction area | region can be controlled independently, The board | substrate conveying apparatus characterized by the above-mentioned. 제 4 항에 있어서, 상기 기판반송장치는,
상기 복수의 흡착 영역들에 대응해서 설치되며, 각각 대응하는 상기 흡착 패드에 부압을 공급하는 복수의 관로들;
상기 복수의 관로들에 접속되는 공통의 부압원;
상기 복수의 관로에 각각 접속되어, 각각 대응하는 상기 관로를 개폐하는 복수의 밸브들; 및
상기 복수의 관로들에 각각 배치되어, 각각 대응하는 상기 관로 내의 압력을 측정하는 복수의 진공 센서들을 더 포함하고,
상기 복수의 흡착 패드들에 의한 상기 기판의 흡착을 시작한 후, 소정의 시간 내에 압력이 소정 값 이하가 안 되는 관로가 있을 경우에는, 그 관로를 닫는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
The method of claim 4, wherein the substrate transfer device,
A plurality of conduits provided corresponding to the plurality of adsorption regions, each of which supplies a negative pressure to the corresponding adsorption pad;
A common negative pressure source connected to the plurality of conduits;
A plurality of valves connected to the plurality of conduits, respectively, for opening and closing the corresponding conduits; And
A plurality of vacuum sensors, each disposed in the plurality of conduits, each measuring a pressure in the corresponding conduit;
And after the adsorption of the substrate by the plurality of adsorption pads, if there is a conduit whose pressure is not less than a predetermined value within a predetermined time, the conduit is closed.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 복수의 흡착 패드들은, 상기 프레임의 테두리체에 직사각형 형상으로 배열되며,
상기 프레임의 테두리체는, 상변부, 하변부, 우변부, 좌변부로 이루어지고,
상기 복수의 흡착 영역들은, 상기 상변부에 설정된 상측 주흡착 영역과, 하변부에 설정된 하측 주흡착 영역과, 우변부에 설정된 우측 부흡착 영역과, 좌변부에 설정된 좌측 부흡착 영역을 포함하고,
상기 상측 주흡착 영역 및 하측 주흡착 영역 각각은, 적어도 2개 이상의 분할 영역들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
The method of claim 4 or 5, wherein the plurality of suction pads are arranged in a rectangular shape on the frame of the frame,
The frame of the frame is composed of an upper side, a lower side, a right side, a left side,
The plurality of adsorption zones include an upper main suction area set in the upper side, a lower main suction area set in the lower side, a right side suction area set in the right side, and a left side suction area set in the left side,
Each of the upper main suction region and the lower main suction region includes at least two divided regions.
제 2 항에 있어서, 상기 캐리어는, 수직상태에 있는 상기 기판의 하단을 지지하는 장착면을 가지며,
상기 이송 기구가, 상기 캐리어에 수직상태로 지지된 기판을, 상기 프레임의 수직상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하여 넘겨받을 때, 상기 회동축은 상기 캐리어에 대하여 상기 프레임보다도 떨어진 위치이면서, 또한 상기 캐리어의 장착면보다도 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
The method of claim 2, wherein the carrier has a mounting surface for supporting the lower end of the substrate in a vertical state,
When the transfer mechanism sucks over the substrate supported in the vertical state to the carrier with the plurality of suction pads in the vertical state of the frame, the rotational axis is a position away from the frame with respect to the carrier, The substrate transport apparatus is located below the mounting surface of the carrier.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구동부는, 상기 프레임을 수직방향을 따라 상하 이동이 가능하면서, 동시에, 상기 캐리어에 대하여 상기 프레임을 수평방향을 따라 전후 이동이 가능하도록 지지하는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.8. The drive unit according to any one of claims 1 to 7, wherein the drive unit enables the frame to be moved up and down along a vertical direction, and at the same time, the frame is supported to be moved back and forth along a horizontal direction with respect to the carrier. Substrate transport apparatus, characterized in that. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 캐리어는, 수직상태에 있는 상기 기판의 하단을 지지하는 장착면을 가지며,
상기 기판반송장치는, 상기 캐리어의 상기 장착면의 높이를 검출하는 위치 센서를 더 구비하고,
상기 구동부는, 상기 프레임을 수직방향을 따라 상하로 이동이 가능하도록 지지하고,
상기 이송 기구는, 수직상태에 있는 상기 기판을 상기 캐리어로 받아 넘길 때에 상기 기판의 하단이 상기 장착면과 접촉하지 않도록, 상기 위치 센서의 검출 결과에 근거하여 상기 프레임을 상하로 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판반송장치.
The carrier according to any one of claims 1 to 8, wherein the carrier has a mounting surface that supports a lower end of the substrate in a vertical state.
The substrate transport apparatus further includes a position sensor for detecting a height of the mounting surface of the carrier,
The driving unit supports the frame to be movable up and down along a vertical direction,
The transfer mechanism moves the frame up and down based on a detection result of the position sensor so that the lower end of the substrate does not come into contact with the mounting surface when the substrate in the vertical state is received by the carrier. Substrate conveying device.
평판형상의 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어로 기판반송장치로부터 상기 기판을 받아 넘기는 기판반송방법으로,
복수의 흡착 패드들를을갖는 프레임을 상기 기판반송장치 내에서 수평상태로 유지하고, 수평상태에 있는 상기 기판을 상기 프레임의 수평상태로 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하는 단계;
상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시키는 단계; 및
수직상태에 있는 상기 기판을 상기 캐리어로 받아 넘기는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반송방법.
In a substrate transport method for receiving the substrate from the substrate transport apparatus to a carrier for transporting the flat substrate in a vertical state,
Maintaining a frame having a plurality of adsorption pads in a horizontal state in the substrate transport apparatus, and adsorbing the substrate in a horizontal state to the plurality of adsorption pads in a horizontal state of the frame;
Rotating the frame from a horizontal state to a vertical state while supporting the substrate in the frame; And
And passing the substrate in a vertical state to the carrier.
제 10 항에 있어서, 상기 캐리어에 수직상태로 지지된 기판을 상기 프레임의 수직상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하여 받는 단계; 및
상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수직상태에서 수평상태로 회동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반송방법.
The method of claim 10, further comprising: adsorbing the substrate supported in the vertical state to the carrier with the plurality of suction pads in the vertical state of the frame; And
And rotating the frame from a vertical state to a horizontal state while supporting the substrate in the frame.
제 10 항 또는 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 흡착 패드들은, 각각 적어도 하나의 흡착패드를 포함하는 복수의 흡착 영역들에 상기 프레임 상에서 분배되어 있으며,
상기 기판반송방법은,
상기 복수의 흡착 패드들에 의해 상기 기판의 흡착을 시작하고 나서 소정의 시간 후에 상기 복수의 흡착 패드들의 흡착력을 상기 흡착 영역마다 판정하는 단계; 및
상기 흡착력의 판정 결과에 근거하여, 상기 복수의 흡착 패드들의 구동을 계속할 것인지 여부를 상기 흡착 영역마다 판정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반송방법.
12. The apparatus of claim 10 or 11, wherein the plurality of adsorption pads are distributed on the frame to a plurality of adsorption regions, each comprising at least one adsorption pad,
The substrate transport method,
Determining the adsorption force of the plurality of adsorption pads for each of the adsorption regions after a predetermined time after starting adsorption of the substrate by the plurality of adsorption pads; And
And determining for each of the adsorption regions whether to continue driving the plurality of adsorption pads, based on the result of the determination of the adsorption force.
제 11 항에 있어서, 상기 캐리어로 수직상태로 지지된 기판이 상기 프레임의 수직상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착할 때, 상기 프레임의 회동축이 상기 캐리어에 대하여 상기 프레임보다도 떨어진 위치이면서 또한 상기 캐리어의 장착면보다도 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판반송방법.12. The rotational axis of the frame according to claim 11, wherein when the substrate supported in the vertical state by the carrier is attracted to the plurality of suction pads in the vertical state of the frame, the rotational axis of the frame is located farther from the frame with respect to the carrier. Substrate transport method, characterized in that located below the mounting surface of the carrier. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 캐리어는, 수직상태에 있는 상기 기판의 하단을 지지하는 장착면을 가지며,
상기 수직상태에 있는 상기 기판을 상기 캐리어로 받아 넘기는 단계는,
상기 캐리어의 상기 장착면의 높이를 위치 센서에 의해 검출하는 단계; 및
상기 수직상태에 있는 상기 기판의 하단이 상기 장착면과 접촉하지 않도록, 상기 위치 센서의 검출 결과에 근거하여 상기 프레임을 수직방향을 따라 상하로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반송방법.
The carrier according to any one of claims 10 to 13, wherein the carrier has a mounting surface for supporting a lower end of the substrate in a vertical state.
Receiving the substrate in the vertical state to the carrier,
Detecting a height of the mounting surface of the carrier by a position sensor; And
And moving the frame up and down along the vertical direction based on a detection result of the position sensor so that the lower end of the substrate in the vertical state does not contact the mounting surface.
진공처리장치로서,
평판형상의 기판을 진공 처리하는 진공 처리실;
상기 진공 처리실에 상기 기판을 수직상태로 반송하는 캐리어; 및
상기 캐리어로 상기 기판을 받아 넘기는 기판반송장치를 포함하고, 상기 기판반송장치는,
직사각형 형상의 테두리체를 가지며, 수평방향으로 연장되는 회동축을 중심으로 회동이 가능한 프레임과, 상기 프레임에 설치되어, 상기 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드들과, 상기 프레임을 수평상태와 수직상태 사이에서 회동시키는 구동부를 갖는 이송 기구; 및
상기 구동부 및 상기 복수의 흡착 패드들을 제어하는 제어장치를 포함하고,
상기 이송 기구는, 수평상태에 있는 상기 기판을 상기 프레임의 수평상태에서 상기 복수의 흡착 패드들로 흡착하고, 상기 프레임에 상기 기판을 지지한 채 상기 프레임을 수평상태에서 수직상태로 회동시켜서, 수직상태에 있는 상기 기판을 상기 캐리어로 받아 넘기는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
As a vacuum processing apparatus,
A vacuum processing chamber for vacuum-treating a flat plate substrate;
A carrier for conveying the substrate in a vertical state to the vacuum processing chamber; And
A substrate conveying apparatus for receiving the substrate into the carrier, wherein the substrate conveying apparatus comprises:
A frame having a rectangular frame and capable of rotating about a rotation axis extending in a horizontal direction, a plurality of suction pads installed on the frame to adsorb the substrate, and the frame in a horizontal state and a vertical state A transfer mechanism having a drive unit that rotates therebetween; And
A control device for controlling the drive unit and the plurality of suction pads,
The transfer mechanism sucks the substrate in a horizontal state with the plurality of suction pads in a horizontal state of the frame, and rotates the frame from a horizontal state to a vertical state while supporting the substrate on the frame, thereby vertically And vacuuming the substrate in a state into the carrier.
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