KR20100076610A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 컬럼 퓨즈회로에 리페어 블록 선택신호를 전달하는 기술에 관한 것으로, 서로 이웃하는 메모리 뱅크의 리페어 블록 선택신호를 조합하여 전송함으로서 전송라인의 수를 감소시킨 반도체 메모리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. 이를 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 다수의 셀 블록을 포함하는 메모리 뱅크를 구비한 반도체 메모리 장치에 있어서, 제1 메모리 뱅크의 블록 어드레스와 상기 제1 메모리 뱅크의 셀 블록 위치에 대응하는 제2 메모리 뱅크의 블록 어드레스에 각각 응답하여 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 생성하기 위한 블록 선택신호 생성부와, 상기 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 다수의 전송라인과, 액세스 될 메모리 뱅크의 위치정보신호에 응답하여 상기 다수의 전송라인을 통해서 전송된 상기 다수의 공통 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력하기 위한 컬럼 퓨즈부를 구비하는 반도체 메모리 장치가 제공된다.The present invention relates to a technology for transmitting a repair block selection signal to a column fuse circuit, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which reduces the number of transmission lines by combining and repairing a repair block selection signal of neighboring memory banks. It is done. According to an aspect of the present invention, a semiconductor memory device having a memory bank including a plurality of cell blocks, the second address corresponding to the block address of the first memory bank and the cell block position of the first memory bank A block selection signal generator for generating a plurality of common repair block selection signals in response to block addresses of the memory banks, a plurality of transmission lines for transmitting the plurality of common repair block selection signals, and a plurality of transmission lines for accessing the memory banks; A semiconductor memory device including a column fuse unit for outputting a column repair address corresponding to the plurality of common repair block selection signals transmitted through the plurality of transmission lines in response to a location information signal is provided.
Description
본 발명은 반도체 설계기술에 관한 것으로서, 컬럼 퓨즈회로에 리페어 블록 선택신호를 전달하는 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
반도체 메모리 장치(SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE)의 고집적화 기술이 발전함에 따라 하나의 반도체 메모리 장치에 들어가는 메모리 셀(CELL)과 신호선의 수가 급격하게 증가하고 있으며, 한정된 공간 내에서 집적하기 때문에 내부회로의 선폭이 좁아지고 메모리 셀의 크기도 점점 작아지고 있다. 상기와 같은 이유로 반도체 메모리 장치의 메모리 셀(CELL)의 불량 가능성이 높아지게 되는데 셀의 결함이 있음에도 불구하고 기대하는 용량을 가진 메모리가 높은 수율을 가지고 출하될 수 있는 것은 반도체 메모리 장치 내부에 불량 메모리 셀을 구제하는 리던던시 회로(REDUNDANCY CIRCUIT)가 있기 때문이다. 리던던시 회로는 리던던시 메모리 셀과 불량 메모리 셀에 해당하는 리페어 어드레스(REPAIR ADDRESS)를 프로그래밍 하기 위한 퓨즈(FUSE) 등을 구비하고 있다. 일반적으로 웨이퍼 공정(WAFER PROCESS)이 종료되면 각종 테스트를 수행하게 되는데 불량으로 판독된 메모리 셀 중에서 수리가 가능한 경우는 리던던시 메모리 셀로 치환하는 방식 등을 통해 불량을 구제하게 된다. 즉, 불량 메모리 셀에 해당하는 어드레스를 리던던시 메모리 셀의 어드레스로 바꾸어 주기 위한 프로그래밍을 내부회로에서 행하며 이에 따라 불량 메모리 셀에 해당하는 어드레스가 입력되면 리던던시 메모리 셀로 대체되어 정상적인 동작을 수행하게 된다. 불량 메모리 셀에 해당하는 어드레스 정보를 프로그래밍 하기 위해서, 퓨즈 프로그래밍(Fuse Programming)방식을 주로 이용한다. 퓨즈는 레이저 빔(LASER BEAM) 또는 전기적인 스트레스를 인가받을 경우에 퓨즈의 전기적 특성이 변화하면서 전기저항이 변하게 된다. 이러한 퓨즈의 전기적인 연결상태를 이용하여 어드레스를 프로그래밍 한다.As the integration technology of the semiconductor memory device (SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE) is advanced, the number of memory cells (CELL) and signal lines in a semiconductor memory device is rapidly increasing, and the line width of the internal circuit is narrow because it is integrated in a limited space. The size of memory cells is also getting smaller. For this reason, the possibility of failure of the memory cell CELL of the semiconductor memory device increases. Even though the cell is defective, the memory having the expected capacity can be shipped with a high yield. This is because there is a redundancy circuit (REDUNDANCY CIRCUIT) to save. The redundancy circuit includes a fuse (FUSE) for programming a repair address (REPAIR ADDRESS) corresponding to the redundancy memory cell and the defective memory cell. In general, when the wafer process (WAFER PROCESS) is completed, various tests are performed. When repair is possible among the memory cells read as defective, the defect is repaired by replacing the memory with a redundant memory cell. That is, the internal circuit performs programming to change the address corresponding to the bad memory cell to the address of the redundancy memory cell. Accordingly, when an address corresponding to the bad memory cell is input, the redundancy memory cell is replaced to perform a normal operation. In order to program address information corresponding to a bad memory cell, a fuse programming method is mainly used. When the fuse is subjected to a laser beam or electrical stress, the electrical resistance of the fuse changes as the electrical characteristics of the fuse change. The electrical connection of these fuses is used to program the address.
참고적으로 반도체 메모리 장치는 내부 메모리 영역을 다수의 뱅크로 구분하고 있으며 또한 뱅크는 다수의 셀 블록으로 구분된다. 셀 블록을 단위 셀 매트릭스(Unit Cell Matrix), 서브 셀 어레이(Sub Cell Array), 매트(MAT) 라고 지칭하기도 한다.For reference, a semiconductor memory device divides an internal memory area into a plurality of banks, and a bank is divided into a plurality of cell blocks. The cell block may also be referred to as a unit cell matrix, a sub cell array, or a mat.
도 1은 종래기술의 반도체 메모리 장치에 대한 구성도이다.1 is a block diagram of a semiconductor memory device of the prior art.
도 1을 참조하면, 다수의 셀 블록을 포함하는 메모리 뱅크를 구비한 반도체 메모리 장치는 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 어드레스에 대응하는 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호를 생성하기 위한 제1 뱅크 블록 선택신호 생성부와, 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 다수의 전송라인과, 제2 메모 리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스에 대응하는 다수의 제2 리페어 블록 선택신호를 생성하기 위한 제2 뱅크 블록 선택신호 생성부와, 다수의 제2 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 다수의 전송라인과, 전송라인을 통해서 전송된 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력하기 위한 제1 뱅크 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)와, 전송라인을 통해서 전송된 다수의 제2 뱅크 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력하기 위한 제2 뱅크 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a semiconductor memory device having a memory bank including a plurality of cell blocks may include a first signal for generating a plurality of first bank repair block selection signals corresponding to a block address of a first memory bank Bank0. A bank block selection signal generation unit, a plurality of transmission lines for transmitting a plurality of first bank repair block selection signals, and a plurality of second repair block selection signals corresponding to the block addresses of the second memory bank Bank1; A second bank block selection signal generation unit for generating, a plurality of transmission lines for transmitting the plurality of second repair block selection signals, and a column corresponding to the plurality of first bank repair block selection signals transmitted through the transmission lines A first bank column fuse set for outputting a repair address and a column corresponding to a plurality of second bank repair block selection signals transmitted through a transmission line A second bank column fuse unit for outputting a repair address is provided.
제1 뱅크 블록 선택신호 생성부는 제1 메모리 뱅크(Bank0)에 할당된 로우 디코더(X-Dec)의 내부에 위치하여 생성된 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호를 전송라인을 통해서 리피터(Repeater, RPT)로 전송하며, 다시 리피터(Repeater, RPT)에서 제1 뱅크 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)로 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호를 전달하게 된다.The first bank block selection signal generation unit may include a plurality of first bank repair block selection signals generated in the row decoder X-Dec allocated to the first memory bank Bank0 through a transmission line. RPT), and a plurality of first bank repair block selection signals are transmitted from the repeater (RPT) to the first bank column fuse set.
또한, 제2 뱅크 블록 선택신호 생성부는 제2 메모리 뱅크(Bank1)에 할당된 로우 디코더(X-Dec)의 내부에 위치하여 생성된 다수의 제2 뱅크 리페어 블록 선택신호를 전송라인을 통해서 리피터(Repeater, RPT)로 전송하며, 다시 리피터(Repeater, RPT)에서 제2 뱅크 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)로 다수의 제2 뱅크 리페어 블록 선택신호를 전달하게 된다. In addition, the second bank block selection signal generation unit may include a plurality of second bank repair block selection signals generated in the row decoder X-Dec allocated to the second memory bank Bank1 through a transmission line. And a plurality of second bank repair block selection signals from the repeater (RPT) to the second bank column fuse unit (Fuse Set).
각 메모리 뱅크에 할당된 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)는 자신의 메모리 뱅크가 액세스 될 때, 다수의 제1 뱅크 리페어 블록 선택신호 또는 다수의 제2 뱅크 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력한다.The column fuse unit assigned to each memory bank outputs a column repair address corresponding to a plurality of first bank repair block selection signals or a plurality of second bank repair block selection signals when its memory bank is accessed. do.
상기와 같이 구성되는 반도체 메모리 장치의 세부구성과 주요동작을 살펴보면 다음과 같다.The detailed configuration and main operations of the semiconductor memory device configured as described above are as follows.
도 2는 블록 선택신호 생성부에 대한 회로도이다.2 is a circuit diagram of a block select signal generator.
도 2를 참조하면, 블록 선택신호 생성부(200)는 액티브 동작모드에서 해당 메모리 뱅크의 블록 어드레스(XMATB<0:15>)에 대응하는 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 생성하기 위한 다수의 논리 조합부(200_1,200_2,…,200_16)로 구성된다.Referring to FIG. 2, the block
상기의 다수의 논리 조합부(200_1,200_2,…,200_16)는 각각 동일한 회로로 구성되므로, 대표적으로 제1 논리 조합부(200_1)를 자세히 살펴보기로 한다.Since the plurality of logic combination units 200_1, 200_2,..., 200_16 are configured with the same circuit, the first logical combination unit 200_1 will be described in detail.
제1 논리 조합부(200_1)는 액티브 신호(R2ACB)와 리프레시 신호(REFDD)를 입력으로 하는 제1 부정논리합 수단(NOR1)과, 제1 부정논리합 수단(NOR1)의 출력신호를 입력으로 하는 제1 인버터(INV1)와, 제1 인버터(INV1)의 출력신호 및 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB<0>)를 입력으로 하는 제2 부정논리합 수단(NOR2)과, 제2 부정논리합 수단(NOR2)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제2 인버터(INV2)와, 제2 인버터(INV2)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제3 인버터(INV3)로 구성된다.The first logic combiner 200_1 receives a first negative logic means NOR1 for inputting an active signal R2ACB and a refresh signal REFDD, and an output signal for the first negative logic means NOR1 for input. Second negative logic means NOR2 for inputting the first inverter INV1, the output signal of the first inverter INV1, and the first block address bit signal XMATB <0>, and the second negative logic means NOR2. A second inverter (INV2) for inputting a signal output from the () and a third inverter (INV3) for inputting the signal output from the second inverter (INV2).
상기의 제1 논리 조합부(200_1)는 액티브 신호(R2ACB)가 로우레벨로 활성화 되고, 리프레시 신호(REFDD)가 로우레벨로 비활성화 되었을 때, 즉 액티브 동작모드에서 액세스 되는 메모리 뱅크의 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB<0>)가 활성화 되었을 때 제1 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)를 활성화 하여 출력한다. 따라 서 블록 선택신호 생성부(200)는 반도체 메모리 장치가 액티브 동작모드로 동작할 때, 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 생성하게 된다.The first logic combination unit 200_1 may be configured to have a first block address of a memory bank accessed when the active signal R2ACB is activated at a low level and the refresh signal REFDD is deactivated at a low level, that is, in an active operation mode. When the bit signal XMATB <0> is activated, the first repair block selection signal XMATYF <0> is activated and output. Accordingly, the block
여기에서 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)는 메모리 뱅크별로 생성되어 각각의 전송라인을 통해서 전송되므로, 각 메모리 뱅크별 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 전송하기 위한 전송라인이 각각 배치되어야 한다.In this case, since the plurality of repair block selection signals XMATYF <0:15> are generated for each memory bank and transmitted through each transmission line, the repair block selection signals XMATYF <0:15> for each memory bank are transmitted. Each transmission line should be arranged.
도 3은 도 1의 컬럼 퓨즈부에 대한 회로도이다.3 is a circuit diagram of the column fuse of FIG. 1.
도 3을 참조하면, 컬럼 퓨즈부(300)는 다수의 퓨즈셋(300_1,300_2,…,300_6)을 구비하는데, 다수의 퓨즈셋(300_1,300_2,…,300_6)은 각각 동일한 회로로 구성되므로, 대표적으로 제1 퓨즈셋(300_1)을 자세히 살펴보기로 한다. 참고적으로 퓨즈셋(SET)의 수는 리페어 어드레스의 비트 수와 동일하다. 본 실시예에서 퓨즈셋(SET)의 개수는 총 6개 이므로 컬럼 리페어 어드레스(YRA<0:5>)의 비트 수는 총 6 비트 일 것이다. 또한, 퓨즈셋 내부의 퓨즈의 수는 본 예시에서는 메모리 뱅크에 할당된 셀 블록의 수와 동일하다. 따라서 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>) 중 제1 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)가 활성화 되었을 경우에는 제1 내지 제6 퓨즈셋(300_1,300_2,…,300_6)의 각각의 첫 번째 퓨즈의 전기적인 상태에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스(YRA<0:5>)가 출력될 것이다.Referring to FIG. 3, the
제1 퓨즈셋(300_1)은 프리차지신호(WLCBYFB)에 응답하여 공통노드(N0)를 프리차지 시키기 위한 프리차지부(310)와, 공통노드(N0)에 접속되며 서로 병렬로 연결된 다수의 퓨즈(320)와, 다수의 퓨즈(320)에 접속되어 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)에 응답하여 다수의 퓨즈(320)의 연결노드를 선택적으로 풀다운 시키기 위한 풀다운 구동부(330)와, 공통노드(N0)에 접속되어 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)를 출력하기 위한 출력부(340)로 구성된다.The first fuse set 300_1 includes a
본 실시예에서 프리차지부(310)는 전원전압단(VDD)과 공통노드(N0) 사이에 접속되어 프리차지신호(WLCBYFB)의 제어를 받는 NMOS 트랜지스터(MN0)로 구성된다. 프리차지신호(WLCBYFB)는 액티브 동작모드에 비활성화 되며 활성화 될 경우에는 공통노드(N0)를 전원전압(VDD)으로 프리차지 시키게 된다. 또한, 풀다운 구동부(330)는 일단은 다수의 퓨즈(320)의 연결노드 각각에 접속되며 타단은 접지전압단(VSS)에 접속되어 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)의 제어를 받는 다수의 NMOS 트랜지스터로 구성된다. 또한, 출력부(340)는 공통노드(N0)에서 출력되는 신호를 래칭하기 위한 래치부(341)와, 래치부(341)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 인버터(INV3)로 구성된다.In the present exemplary embodiment, the
우선, 제1 퓨즈셋(300_1)은 프리차지신호(WLCBYFB)가 활성화 되면 공통노드(N0)를 전원전압(VDD)을 이용하여 프리차지 시키므로 출력부(340)에서는 공통노드(N0)에서 출력되는 신호를 래칭하고 최종적으로 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)가 초기값인 하이레벨로 출력된다.First, when the precharge signal WLCBYFB is activated, the first fuse set 300_1 precharges the common node N0 using the power supply voltage VDD, so that the
다음으로, 액티브 동작모드로 진입하게 되면 프리차지신호(WLCBYFB)가 비활성화 되어 공통노드(N0)에 대한 프리차지 동작이 중지되며, 다수의 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>) 중 활성화된 리페어 블록 선택신호(XMATYF<i>)와 퓨즈의 전기적인 상태에 의해 공통노드(N0)의 전압레벨이 변경되어 그 전압레벨에 따라 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)의 논리레벨이 결정된다. 예를 들어 제1 리 페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)가 활성화 되고 첫 번째 퓨즈가 연결되어 있다고 가정한다면, 공통노드(N0)의 전위레벨은 풀다운 동작으로 인하여 접지전압 레벨로 하강하게 되고, 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)는 로우레벨로 출력된다. 이와 같은 동작을 제1 내지 제6 퓨즈셋(300_1~300_6)에서 동시에 수행되면서 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0:5>)가 출력된다.Next, when entering the active operation mode, the precharge signal WLCBYFB is deactivated to stop the precharge operation on the common node N0 and is activated among the plurality of repair block selection signals XMATYF <0:15>. The voltage level of the common node N0 is changed by the repair block selection signal XMATYF <i> and the electrical state of the fuse, and the logic level of the first column repair address bit signal YRA <0> is changed according to the voltage level. This is determined. For example, assuming that the first repair block selection signal XMATYF <0> is activated and the first fuse is connected, the potential level of the common node N0 is lowered to the ground voltage level due to a pull-down operation. The first column repair address bit signal YRA <0> is output at a low level. This operation is simultaneously performed on the first to sixth fuse sets 300_1 to 300_6, and the column repair address bit signals YRA <0: 5> are output.
즉, 상술한 바와 같은 종래의 반도체 메모리 장치는 메모리 뱅크의 블록 어드레스에 대응하는 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 전송라인을 각 메모리 뱅크별로 구비하고 있다. 따라서 많은 수의 전송라인으로 인하여 반도체 메모리 장치의 크기를 감소시키는데 한계가 발생하게 된다.That is, the conventional semiconductor memory device as described above includes a transmission line for each memory bank for transmitting a repair block selection signal corresponding to the block address of the memory bank. As a result, a large number of transmission lines may limit the size of the semiconductor memory device.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 서로 이웃하는 메모리 뱅크의 리페어 블록 선택신호를 조합하여 전송함으로서 전송라인의 수를 감소시킨 반도체 메모리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device which reduces the number of transmission lines by combining and transmitting repair block selection signals of neighboring memory banks. .
상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 다수의 셀 블록을 포함하는 메모리 뱅크를 구비한 반도체 메모리 장치에 있어서, 제1 메모리 뱅크의 블록 어드레스와 상기 제1 메모리 뱅크의 셀 블록 위치에 대응하는 제2 메모리 뱅크의 블록 어드레스에 각각 응답하여 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 생성하기 위한 블록 선택신호 생성부; 상기 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 다수의 전송라인; 및 액세스 될 메모리 뱅크의 위치정보신호에 응답하여 상기 다수의 전송라인을 통해서 전송된 상기 다수의 공통 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력하기 위한 컬럼 퓨즈부를 구비하는 반도체 메모리 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem, in a semiconductor memory device having a memory bank including a plurality of cell blocks, the block address of the first memory bank and the cell block of the first memory bank A block selection signal generator for generating a plurality of common repair block selection signals in response to block addresses of a second memory bank corresponding to a position; A plurality of transmission lines for transmitting the plurality of common repair block selection signals; And a column fuse unit configured to output column repair addresses corresponding to the plurality of common repair block selection signals transmitted through the plurality of transmission lines in response to the position information signals of the memory banks to be accessed. .
본 발명을 적용한 반도체 메모리 장치는 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 전송라인의 수를 감소시킬 수 있으므로 반도체 메모리 장치의 전체적인 크기 를 감소시킬 수 있다. 따라서 하나의 웨이퍼(Wafer)로 제조할 수 있는 반도체 메모리 장치의 개수 즉,'NET DIE' 를 증가시킴으로서 비용측면에서 보다 유리하다.The semiconductor memory device to which the present invention is applied can reduce the number of transmission lines for transmitting the repair block selection signal, thereby reducing the overall size of the semiconductor memory device. Therefore, it is more advantageous in terms of cost by increasing the number of semiconductor memory devices that can be manufactured with one wafer, that is, 'NET DIE'.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 참고적으로, 도면 및 상세한 설명에서 소자, 블록 등을 지칭할 때 사용하는 용어, 기호, 부호등은 필요에 따라 세부단위별로 표기할 수도 있으므로, 동일한 용어, 기호, 부호가 전체회로에서 동일한 소자 등을 지칭하지 않을 수도 있음에 유의하자.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. . For reference, in the drawings and detailed description, terms, symbols, symbols, etc. used to refer to elements, blocks, etc. may be represented by detailed units as necessary, and therefore, the same terms, symbols, symbols, etc. are the same in the entire circuit. Note that it may not refer to.
일반적으로 회로의 논리신호는 전압레벨에 대응하여 하이레벨(HIGH LEVEL, H) 또는 로우레벨(LOW LEVEL, L)로 구분하며, 각각 '1' 과 '0' 등으로 표현하기도 한다. 또한, 필요에 따라 추가적으로 하이임피던스(High Impedance, Hi-Z) 상태 등을 가질 수 있다고 정의하고 기술한다. 또한, 본 실시예에서 사용하는 용어인 PMOS(P-channel Metal Oxide Semiconductor)와 NMOS(N-channel Metal Oxide Semiconductor)는 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor)의 한 종류임을 미리 밝혀둔다.In general, the logic signal of the circuit is divided into a high level (HIGH LEVEL, H) or a low level (LOW LEVEL, L) corresponding to the voltage level, and may be expressed as '1' and '0', respectively. In addition, it is defined and described that it may additionally have a high impedance (Hi-Z) state and the like. In addition, PMOS (P-channel Metal Oxide Semiconductor) and N-channel Metal Oxide Semiconductor (NMOS), which are terms used in the present embodiment, are known to be a type of MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor).
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 다수의 셀 블록을 포함하는 메모리 뱅크를 구비한 반도체 메모리 장치는 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 어드레스와 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 셀 블록 위치에 대응하는 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스에 각각 응답하여 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 생성하기 위한 블록 선택신호 생성부와, 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 전송하기 위한 다수의 전송라인과, 액세스 될 메모리 뱅크의 위치정보신호에 응답하여 다수의 전송라인을 통해서 전송된 다수의 공통 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력하기 위한 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)를 구비한다.Referring to FIG. 4, a semiconductor memory device having a memory bank including a plurality of cell blocks may include a second memory corresponding to a block address of a first memory bank Bank0 and a cell block position of a first memory bank Bank0. A block selection signal generator for generating a plurality of common repair block selection signals in response to the block addresses of the bank Bank1, a plurality of transmission lines for transmitting the plurality of common repair block selection signals, and a memory bank to be accessed And a column fuse unit for outputting a column repair address corresponding to the plurality of common repair block selection signals transmitted through the plurality of transmission lines in response to the position information signal of the plurality of transmission lines.
블록 선택신호 생성부는 로우 디코더(X-Dec)의 내부에 위치하여 생성된 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 전송라인을 통해서 리피터(Repeater, RPT)로 전송하며, 다시 리피터(Repeater, RPT)에서 각 뱅크에 할당된 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)로 다수의 공통 리페어 블록 선택신호를 전달하게 된다.The block select signal generator transmits a plurality of common repair block select signals generated by being located inside the row decoder X-Dec to a repeater (RPT) through a transmission line, and then again in each of the repeaters (RPT). A plurality of common repair block selection signals are transmitted to a column fuse set allocated to the bank.
각 뱅크에 할당된 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)는 할당된 메모리 뱅크가 액세스 될 때, 다수의 전송라인을 통해서 전송된 다수의 공통 리페어 블록 선택신호에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스를 출력한다. 즉 공통 리페어 블록 선택신호는 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 어드레스와 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 위치에 대응하는 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스를 조합하여 생성되므로, 공통 리페어 블록 선택신호를 전송라인을 통해서 컬럼 퓨즈부(Fuse Set)로 전송할 때 필요한 전송라인의 수는 조합하지 않았을 때에 비해 절반으로 줄어든다.A column fuse set assigned to each bank outputs a column repair address corresponding to a plurality of common repair block selection signals transmitted through a plurality of transmission lines when the allocated memory bank is accessed. That is, the common repair block selection signal is generated by combining the block address of the first memory bank Bank0 with the block address of the second memory bank Bank1 corresponding to the block position of the first memory bank Bank0. The number of transmission lines required for transmitting the selection signal to the column fuse set through the transmission line is reduced by half compared to that without combining.
상기와 같이 구성되는 반도체 메모리 장치의 세부구성과 주요동작을 살펴보면 다음과 같다.The detailed configuration and main operations of the semiconductor memory device configured as described above are as follows.
도 5는 블록 선택신호 생성부의 실시예에 따른 회로도이다.5 is a circuit diagram according to an embodiment of a block selection signal generator.
도 5를 참조하면, 블록 선택신호 생성부(500)는 액티브 동작모드에서 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 어드레스(XMATB0<0:15>)와 제1 메모리 뱅크의 셀 블록 위치에 대응하는 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스(XMATB1<0:15>)를 각각 논리합한 결과에 대응하는 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 생성하기 위한 다수의 논리 조합부(500_1,500_2,…,500_16)로 구성된다.Referring to FIG. 5, the block
상기의 다수의 논리 조합부(500_1,500_2,…,500_16)는 각각 동일한 회로로 구성되므로, 대표적으로 제1 논리 조합부(500_1)를 자세히 살펴보기로 한다.Since the plurality of logic combination units 500_1, 500_2,..., 500_16 are each configured with the same circuit, the first logic combination unit 500_1 will be described in detail.
제1 논리 조합부(500_1)는 액티브 신호(R2ACB)와 리프레시 신호(REFDD)를 입력으로 하는 제1 부정논리합 수단(NOR1)과, 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB0<0>)와 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB1<0>)를 입력으로 하는 제2 부정논리합 수단(NOR2)과, 제1 부정논리합 수단(NOR1)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제1 인버터(INV1)와, 제2 부정논리합 수단(NOR2)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제2 인버터(INV2)와, 제1 및 제2 인버터(INV1,INV2)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제3 부정논리합 수단(NOR3)과, 제3 부정논리합 수단(NOR3)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제3 인버터(INV3)와, 제3 인버터(INV3)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제4 인버터(INV4)로 구성된다.The first logic combiner 500_1 includes a first negative logic unit NOR1 for inputting an active signal R2ACB and a refresh signal REFDD, and a first block address bit signal XMATB0 of the first memory bank Bank0. Output from the second negative logical means (NOR2) and the first negative logical means (NOR1) for inputting <0> and the first block address bit signal XMATB1 <0> of the second memory bank Bank1. Output from the first inverter INV1 that takes a signal as input, the second inverter INV2 that takes the signal output from the second negative logic means NOR2, and the first and second inverters INV1 and INV2. The third negative logic unit NOR3 that takes a signal as an input, the third inverter INV3 that receives a signal output from the third negative logic unit NOR3, and the signal output from the third inverter INV3. It consists of the 4th inverter INV4 which inputs as an input.
상기의 제1 논리 조합부(500_1)는 액티브 신호(R2ACB)가 로우레벨로 활성화 되고, 리프레시 신호(REFDD)가 로우레벨로 비활성화 되었을 때, 즉 액티브 동작모 드에서 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB0<0>)와 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 제1 블록 어드레스 비트신호(XMATB1<0>) 중 어느 하나 이상이 활성화 되었을 때 제1 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)를 활성화 하여 출력한다. 따라서 블록 선택신호 생성부(500)는 반도체 메모리 장치가 액티브 동작모드로 동작할 때, 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 생성하게 된다.The first logic combination unit 500_1 is configured to activate the first memory bank Bank0 in the active operation mode when the active signal R2ACB is activated at a low level and the refresh signal REFDD is deactivated at a low level. The first common repair block selection signal XMATYF when any one or more of the first block address bit signal XMATB0 <0> and the first block address bit signal XMATB1 <0> of the second memory bank Bank1 are activated. <0>) is activated and output. Accordingly, the block
여기에서 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)는 제1 메모리 뱅크(Bank0) 및 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스(XMATB0<0:15>·XMATB1<0:15>)를 조합하여 생성한 신호이므로, 두 블록 어드레스를 조합하지 않고 제1 메모리 뱅크(Bank0)의 블록 어드레스(XMATB0<0:15>)에 대응하는 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)와 제2 메모리 뱅크(Bank1)의 블록 어드레스(XMATB1<0:15>)에 대응하는 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)를 동시에 전송할 때보다 전송라인 수가 절반으로 감소한다.The common repair block selection signal XMATYF <0:15> may be configured to convert the block addresses XMATB0 <0:15> and XMATB1 <0:15> of the first memory bank Bank0 and the second memory bank Bank1. Since the signals are generated in combination, the repair block selection signals XMATYF <0:15> corresponding to the block addresses XMATB0 <0:15> of the first memory bank Bank0 and the second block address are not combined. The number of transmission lines is reduced by half than when the repair block selection signals XMATYF <0:15> corresponding to the block addresses XMATB1 <0:15> of the memory bank Bank1 are simultaneously transmitted.
도 6은 도 4의 컬럼 퓨즈부의 실시예에 따른 회로도이다.6 is a circuit diagram according to an embodiment of the column fuse of FIG. 4.
도 6을 참조하면, 컬럼 퓨즈부(600)는 다수의 퓨즈셋(600_1,600_2,…,600_6)을 구비하는데, 다수의 퓨즈셋(600_1,600_2,…,600_6)은 각각 동일한 회로로 구성되므로, 대표적으로 제1 퓨즈셋(600_1)을 자세히 살펴보기로 한다. 참고적으로 퓨즈셋(SET)의 수는 리페어 어드레스의 비트 수와 동일하다. 본 실시예에서 퓨즈셋(SET)의 개수는 총 6개 이므로 컬럼 리페어 어드레스(YRA<0:5>)의 비트 수는 총 6 비트 일 것이다. 또한, 퓨즈셋 내부의 퓨즈의 수는 본 실시예에서는 메모리 뱅크 에 할당된 셀 블록의 수와 동일하다. 따라서 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>) 중 제1 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)가 활성화 되었을 경우에는 제1 내지 제6 퓨즈셋(600_1,600_2,…,600_6)의 각각의 첫 번째 퓨즈의 전기적인 상태에 대응하는 컬럼 리페어 어드레스(YRA<0:5>)가 출력될 것이다.Referring to FIG. 6, the
제1 퓨즈셋(600_1)은 프리차지신호(WLCBYFB)에 응답하여 공통노드(N0)를 프리차지 시키기 위한 프리차지부(610)와, 공통노드(N0)에 접속되며 서로 병렬로 연결된 다수의 퓨즈(620)와, 다수의 퓨즈(620)에 접속되어 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>)와 해당 메모리 뱅크의 위치정보신호(BA)에 응답하여 다수의 퓨즈(620)의 연결노드를 선택적으로 풀다운 시키기 위한 풀다운 구동부(630)와, 공통노드(N0)에 접속되어 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)를 출력하기 위한 출력부(640)로 구성된다.The first fuse set 600_1 includes a
본 실시예에서 프리차지부(610)는 전원전압단(VDD)과 공통노드(N0) 사이에 접속되어 프리차지신호(WLCBYFB)의 제어를 받는 NMOS 트랜지스터(MN0)로 구성된다. 프리차지신호(WLCBYFB)는 액티브 동작모드에 비활성화 되며 활성화 될 경우에는 공통노드(N0)를 전원전압(VDD)으로 프리차지 시키게 된다. 또한, 풀다운 구동부(630)는 다수의 퓨즈(620)의 연결노드 각각에 접속되며 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>) 제어를 받는 제1 NMOS 트랜지스터 그룹과, 일단은 제1 NMOS 트랜지스터 그룹의 각 트랜지스터와 일대일로 접속되고 타단은 접지전압단(VSS)에 접속되어 해당 메모리 뱅크의 위치정보신호(BA)의 제어를 받는 제2 NMOS 트랜지스터 그룹으로 구성된다. 또한, 출력부(640)는 공통노드(N0)에서 출력되는 신호를 래칭하 기 위한 래치부(641)와, 래치부(641)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 인버터(INV3)로 구성된다.In the present exemplary embodiment, the
우선, 제1 퓨즈셋(600_1)은 프리차지신호(WLCBYFB)가 활성화 되면 공통노드(N0)를 전원전압(VDD)을 이용하여 프리차지 시키므로 출력부(640)에서는 공통노드(N0)에서 출력되는 신호를 래칭하고 최종적으로 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)가 초기값인 하이레벨로 출력된다.First, when the precharge signal WLCBYFB is activated, the first fuse set 600_1 precharges the common node N0 using the power supply voltage VDD, so that the
다음으로, 액티브 동작모드로 진입하게 되면 프리차지신호(WLCBYFB)가 비활성화 되어 공통노드(N0)에 대한 프리차지 동작이 중지되며, 할당된 메모리 뱅크가 액세스 되어 해당 메모리 뱅크의 위치정보신호(BA)가 활성화 되면, 다수의 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0:15>) 중 활성화된 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<i>)와 퓨즈의 전기적인 상태에 의해 공통노드(N0)의 전압레벨이 변경되어 그 전압레벨에 따라 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)의 논리레벨이 결정된다. 예를 들어 제1 공통 리페어 블록 선택신호(XMATYF<0>)가 활성화 되고 첫 번째 퓨즈가 연결되어 있다고 가정한다면, 공통노드(N0)의 전위레벨은 풀다운 동작으로 인하여 접지전압 레벨로 하강하게 되고, 제1 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0>)는 로우레벨로 출력된다. 이와 같은 동작을 제1 내지 제6 퓨즈셋(600_1~600_6)에서 수행되면서 최종적으로 컬럼 리페어 어드레스 비트신호(YRA<0:5>)가 출력된다.Next, when entering the active mode, the precharge signal WLCBYFB is deactivated to stop the precharge operation on the common node N0, and the allocated memory bank is accessed to access the location information signal BA of the corresponding memory bank. When is activated, the voltage level of the common node N0 is increased by the activated common repair block selection signal XMATYF <i> and the electrical state of the fuse among the plurality of common repair block selection signals XMATYF <0:15>. The logic level of the first column repair address bit signal YRA <0> is determined according to the changed voltage level. For example, assuming that the first common repair block selection signal XMATYF <0> is activated and the first fuse is connected, the potential level of the common node N0 is lowered to the ground voltage level due to a pull-down operation. The first column repair address bit signal YRA <0> is output at a low level. This operation is performed in the first to sixth fuse sets 600_1 to 600_6, and finally the column repair address bit signals YRA <0: 5> are output.
이상, 본 발명의 실시예에 따라 구체적인 설명을 하였다. 본 발명의 기술적 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.In the above, the specific description was made according to the embodiment of the present invention. Although the technical spirit of the present invention has been described in detail according to the above preferred embodiment, it should be noted that the above embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, it will be understood by those skilled in the art that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
예컨대, 신호 및 회로의 활성화 상태를 나타내기 위한 액티브 하이(Active High) 또는 액티브 로우(Active Low)의 구성은 실시예에 따라 달라질 수 있다. 또한, 동일한 기능을 구현하기 위해 필요에 따라 트랜지스터의 구성은 변경될 수 있다. 즉, PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터의 구성은 서로 대체될 수 있을 것이며, 필요에 따라 다양한 트랜지스터를 이용하여 구현될 수 있다. For example, the configuration of an active high or an active low to indicate an activation state of a signal and a circuit may vary according to embodiments. In addition, the configuration of the transistor may be changed as necessary to implement the same function. That is, the configurations of the PMOS transistor and the NMOS transistor may be replaced with each other, and may be implemented using various transistors as necessary.
특히, 실시예에서 본 발명의 기술적 사상을 명확하게 설명하기 위해 메모리 뱅크의 수, 메모리 뱅크에 할당된 블록 어드레스 수, 리페어 어드레스 비트수, 퓨즈셋의 퓨즈 수 등을 특정하고 설명하였으나, 이는 실시예에 따라 달라질 수 있을 것이다. 이러한 회로의 변경은 너무 경우의 수가 많고, 이에 대한 변경은 통상의 전문가라면 누구나 쉽게 유추할 수 있기에 그에 대한 열거는 생략하기로 한다.In particular, in order to clearly describe the technical idea of the present invention, the number of memory banks, the number of block addresses allocated to the memory banks, the number of repair address bits, the number of fuses of the fuse set, etc. are specified and described. Will vary. Such a change in the circuit is too many cases, and the change can be easily inferred by a person skilled in the art, so the enumeration thereof will be omitted.
도 1은 종래기술의 반도체 메모리 장치에 대한 구성도이다.1 is a block diagram of a semiconductor memory device of the prior art.
도 2는 블록 선택신호 생성부에 대한 회로도이다.2 is a circuit diagram of a block select signal generator.
도 3은 도 1의 컬럼 퓨즈부에 대한 회로도이다.3 is a circuit diagram of the column fuse of FIG. 1.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 5는 블록 선택신호 생성부의 실시예에 따른 회로도이다.5 is a circuit diagram according to an embodiment of a block selection signal generator.
도 6은 도 4의 컬럼 퓨즈부의 실시예에 따른 회로도이다.6 is a circuit diagram according to an embodiment of the column fuse of FIG. 4.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
500 : 블록 선택신호 생성부500: block selection signal generation unit
610 : 프리차지부610: precharge unit
620 : 다수의 퓨즈 620: multiple fuses
630 : 풀다운 구동부630: pull-down drive unit
도면에서 PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터는 각각 MPi, MNi (i=0,1,2, … ) 으로 표시함.In the figure, PMOS transistors and NMOS transistors are denoted by MPi and MNi (i = 0, 1, 2, ...), respectively.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080134718A KR20100076610A (en) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080134718A KR20100076610A (en) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
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|---|---|
| KR20100076610A true KR20100076610A (en) | 2010-07-06 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080134718A Withdrawn KR20100076610A (en) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20100076610A (en) |
-
2008
- 2008-12-26 KR KR1020080134718A patent/KR20100076610A/en not_active Withdrawn
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