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KR20100014122A - Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display - Google Patents

Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display Download PDF

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KR20100014122A
KR20100014122A KR1020090063914A KR20090063914A KR20100014122A KR 20100014122 A KR20100014122 A KR 20100014122A KR 1020090063914 A KR1020090063914 A KR 1020090063914A KR 20090063914 A KR20090063914 A KR 20090063914A KR 20100014122 A KR20100014122 A KR 20100014122A
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photosensitive resin
meth
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아키라 가타노
야스히데 오후치
이사오 다테노
요시노리 다도코로
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도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
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Abstract

과제assignment

도막을 감압 건조했을 때의 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제하는 것이 가능한 착색 감광성 수지 조성물, 그 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터 및 그 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이를 제공한다.Provided is a colored photosensitive resin composition capable of effectively suppressing surface defects and surface roughness of a coating film when the coating film is dried under reduced pressure, a color filter having a pattern formed using the colored photosensitive resin composition, and a liquid crystal display display having the color filter. do.

해결 수단Resolution

본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물(A), 광중합 개시제(B), 착색제(C) 및 용제(S)를 함유한다. 용제(S)는 대기압에서의 비점이 170℃ 미만인 1종 이상의 저비점 용제(L)와, 대기압에서의 비점이 170℃ 이상 180℃ 미만인 1종 이상의 제1 고비점 용제(H1)와, 대기압에서의 비점이 180℃ 이상인 1종 이상의 제2 고비점 용제(H2)로 이루어지며, 용제(S) 중의 상기 제1 고비점 용제(H1)의 비율은 60 중량% 이상이다.The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention contains a photopolymerizable compound (A), a photoinitiator (B), a coloring agent (C), and a solvent (S). The solvent (S) is at least one low boiling point solvent (L) having a boiling point of less than 170 ° C at atmospheric pressure, at least one first boiling point solvent (H1) having a boiling point of at least 170 ° C and less than 180 ° C, and at atmospheric pressure. A boiling point consists of at least 1 type 2 high boiling point solvent (H2) which is 180 degreeC or more, and the ratio of the said 1st high boiling point solvent (H1) in a solvent (S) is 60 weight% or more.

Description

착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 액정 표시 디스플레이{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display display {COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 그 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터 및 그 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter having a pattern formed using the colored photosensitive resin composition, and a liquid crystal display display having the color filter.

액정 표시 디스플레이 등의 표시체는 서로 대향하여 쌍을 이루는 전극이 형성된 2매의 기판 사이에 액정층을 끼워 넣는 구조로 되어 있다. 그리고 한쪽 기판의 내측에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 등의 각 색의 화소 영역으로 이루어진 컬러 필터가 형성되어 있다. 이 컬러 필터에는 통상 적색, 녹색 및 청색의 각 화소 영역을 구획하도록 블랙 매트릭스가 형성되어 있다.A display such as a liquid crystal display has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates on which paired electrodes are formed to face each other. A color filter including pixel regions of each color such as red (R), green (G), and blue (B) is formed inside one substrate. In this color filter, a black matrix is formed so as to partition each pixel area of red, green, and blue.

일반적으로, 컬러 필터는 리소그래피법에 의해 제조된다. 이 리소그래피법에서는, 우선 기판상에 흑색의 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고, 도막을 진공 건조 장치(VCD)에 의해 감압 건조한 후, 노광·현상하여 블랙 매트릭스를 형성한다. 뒤이어서, 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 착색 감광성 수지 조성물마다 도포, 건조, 노광 및 현상을 반복하여, 각 색의 화소 영역을 소정 위치에 형성하여 컬러 필 터를 제조한다.Generally, a color filter is manufactured by the lithographic method. In this lithography method, black coloring photosensitive resin composition is first apply | coated on a board | substrate, and a coating film is dried under reduced pressure with a vacuum drying apparatus (VCD), and it exposes and develops and forms a black matrix. Subsequently, coating, drying, exposure, and development are repeated for each of the colored photosensitive resin compositions of each color of red, green, and blue, and pixel regions of each color are formed at predetermined positions to produce color filters.

또, 근래에는 컬러 필터의 생산성을 향상시키기 위해서 잉크제트 방식으로 컬러 필터를 제조하는 방법이 검토되고 있다. 이 잉크제트 방식에서는 먼저 리소그래피법에 의해 블랙 매트릭스를 형성한다. 다음에, 블랙 매트릭스에 의해 구획된 각 화소 영역에 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 착색 감광성 수지 조성물을 잉크제트 노즐로부터 토출하고, 모여진 착색 감광성 수지 조성물을 열 또는 빛으로 경화시킴으로써 컬러 필터를 제조한다.Moreover, in recent years, the method of manufacturing a color filter by the inkjet system is examined in order to improve the productivity of a color filter. In this inkjet method, a black matrix is first formed by the lithography method. Next, the colored photosensitive resin composition of each color of red, green, and blue is discharged from an inkjet nozzle to each pixel area partitioned by the black matrix, and a color filter is manufactured by hardening the gathered colored photosensitive resin composition with heat or light. do.

특허 문헌 1: 일본 특개 2006-349981호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-349981

그러나 상기와 같이, 기판상에 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 후에는 도막을 진공 건조 장치(VCD)에 의해 감압 건조하게 되지만, 도막을 감압 건조하면 용제의 돌비나 착색제의 응집 등이 원인이 되어, 도막에 표면 결함이나 표면 거칠어짐이 발생한다고 하는 문제가 있었다.However, as mentioned above, after apply | coating a coloring photosensitive resin composition on a board | substrate, although a coating film is dried under reduced pressure by a vacuum drying apparatus (VCD), when drying a coating film under reduced pressure, it becomes the cause of dolby of a solvent, aggregation of a coloring agent, etc., There existed a problem that surface defect and surface roughening generate | occur | produce in a coating film.

따라서, 종래 용제의 돌비를 방지하기 위해서 용매 중에 디프로필렌글리콜디메틸에테르를 5 중량% 이상 40 중량% 이하의 비율로 포함하는 착색 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다(특허 문헌 1 참조).Therefore, in order to prevent the dolby of a conventional solvent, the coloring photosensitive resin composition which contains dipropylene glycol dimethyl ether in the ratio of 5 weight% or more and 40 weight% or less is disclosed (refer patent document 1).

그러나 이 특허 문헌 1에 개시되어 있는 용제 조성에 의해서도 여전히 도막에 발생하는 표면 결함이나 표면 거칠어짐 억제 효과가 충분하지 않았다. 특히, 착색제의 함유량이 많은 경우나, 택트(tact) 단축을 위해서 감압 속도를 올렸을 경우에는 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐이 눈에 띄게 된다.However, even with the solvent composition disclosed in this patent document 1, the surface defect and surface roughness suppression effect which generate | occur | produce still in a coating film were not enough. In particular, when there is much content of a coloring agent, or when the decompression rate is raised for shortening a tact, surface defects and surface roughness of a coating film become conspicuous.

본 발명은 이상의 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 도막을 감압 건조했을 때의 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제하는 것이 가능한 착색 감광성 수지 조성물, 그 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터 및 그 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the above subject, The color filter which has the coloring photosensitive resin composition which can effectively suppress the surface defect and surface roughness of the coating film at the time of drying under reduced pressure, and the pattern formed using this coloring photosensitive resin composition. And a liquid crystal display having the color filter.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 열심히 연구를 거듭하였다. 그 결 과, 착색 감광성 수지 조성물 중의 용제를 특정한 조성으로 함으로써 상기 과제를 해결할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는 본 발명은 이하와 같은 것을 제공한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly researched in order to solve the said subject. As a result, the inventors have found that the above problems can be solved by setting the solvent in the colored photosensitive resin composition to a specific composition, and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

본 발명의 제1 태양은 광중합성 화합물(A), 광중합 개시제(B), 착색제(C) 및 용제(S)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 용제(S)는 대기압에서의 비점이 170℃ 미만인 1종 이상의 저비점 용제(L)와, 대기압에서의 비점이 170℃ 이상 180℃ 미만인 1종 이상의 제1 고비점 용제(H1)와, 대기압에서의 비점이 180℃ 이상인 1종 이상의 제2 고비점 용제(H2)로 이루어지며, 상기 용제(S) 중의 상기 제1 고비점 용제(H1)의 비율이 60 중량% 이상인 착색 감광성 수지 조성물이다.The 1st aspect of this invention is a coloring photosensitive resin composition containing a photopolymerizable compound (A), a photoinitiator (B), a coloring agent (C), and a solvent (S), The said solvent (S) has a boiling point in atmospheric pressure 170 1 or more types of low boiling point solvents (L) less than degrees C, 1 or more types of 1st high boiling point solvents (H1) whose boiling point in atmospheric pressure is 170 degreeC or more and less than 180 degreeC, and 1 or more types of 2nd high boiling points whose boiling point in atmospheric pressure is 180 degreeC or more. It consists of a point solvent (H2), and is the coloring photosensitive resin composition whose ratio of the said 1st high boiling point solvent (H1) in the said solvent (S) is 60 weight% or more.

본 발명의 제2 태양은 본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터이다.The 2nd aspect of this invention is a color filter which has a pattern formed using the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention.

본 발명의 제3 태양은 본 발명에 관한 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이이다.A third aspect of the present invention is a liquid crystal display having a color filter according to the present invention.

본 발명에 의하면, 도막을 감압 건조했을 때의 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제하는 것이 가능한 착색 감광성 수지 조성물, 그 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터 및 그 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이를 제공할 수 있다.According to this invention, it has a coloring photosensitive resin composition which can effectively suppress the surface defect and surface roughness of a coating film when drying a coating film under reduced pressure, the color filter which has a pattern formed using this coloring photosensitive resin composition, and its color filter A liquid crystal display can be provided.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시 형태로 전혀 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment at all.

<착색 감광성 수지 조성물><Coloring Photosensitive Resin Composition>

본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물(A), 광중합 개시제(B), 착색제(C) 및 용제(S)를 함유하는 것이다. 이하, 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention contains a photopolymerizable compound (A), a photoinitiator (B), a coloring agent (C), and a solvent (S). Hereinafter, each component contained in a coloring photosensitive resin composition is explained in full detail.

[(A) 광중합성 화합물][(A) Photopolymerizable Compound]

광중합성 화합물(A)로는 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지 또는 모노머가 바람직하며, 이들을 조합하는 것이 보다 바람직하다. 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지와 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머를 조합함으로써 경화성을 향상시켜 패턴 형성을 용이하게 할 수 있다. 또한, 본 명세서에서는, 에틸렌성 불포화기를 가지는 화합물 중 중량 평균 분자량이 1,000 이상인 것을 「에틸렌성 불포화기를 가지는 수지」라고 칭하고, 중량 평균 분자량이 1,000 미만인 것을 「에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머」라고 칭하기로 한다.As a photopolymerizable compound (A), resin or monomer which has an ethylenically unsaturated group is preferable, and it is more preferable to combine these. By combining the resin which has an ethylenically unsaturated group, and the monomer which has an ethylenically unsaturated group, hardenability can be improved and pattern formation can be made easy. In addition, in this specification, what has a weight average molecular weight of 1,000 or more among the compounds which have an ethylenically unsaturated group is called "resin which has an ethylenically unsaturated group", and what has a weight average molecular weight of less than 1,000 is called "monomer having an ethylenically unsaturated group". .

(에틸렌성 불포화기를 가지는 수지)(Resin having an ethylenically unsaturated group)

에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로는 (메타)아크릴산, 푸말산, 말레산, 푸말산 모노메틸, 푸말산 모노에틸, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 (메타)아크릴레이트, 글리세롤 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 에틸 렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 카르도에폭시 디아크릴레이트 등이 중합한 올리고머류; 다가 알코올류와 1염기산 또는 다염기산을 축합하여 얻어지는 폴리에스테르프리폴리머에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리올과 2개의 이소시아네이트기를 가지는 화합물을 반응시킨 후, (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트; 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 레졸형 에폭시 수지, 트리페놀 메탄형 에폭시 수지, 폴리카르복시산 폴리글리시딜에테르, 폴리올폴리글리시딜에스테르, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민 에폭시 수지, 디히드록시 벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 또한, 에폭시(메타)아크릴레이트 수지에 다염기산 무수물을 반응시킨 수지를 적합하게 이용할 수 있다.Examples of the resin having an ethylenically unsaturated group include (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, monomethyl fumaric acid, monoethyl fumaric acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate. , Ethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Tetraethylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol dimethacrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Tetramethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meta Oligomers into which acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cardoepoxy diacrylate, and the like are polymerized; After (meth) acrylic acid is reacted with a polyester (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing polyhydric alcohols with monobasic acid or polybasic acid, a compound having a polyol and two isocyanate groups Polyurethane (meth) acrylate obtained by making it react; Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolak type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ether, polyol polyglycol The epoxy (meth) acrylate resin etc. which are obtained by making (meth) acrylic acid react with epoxy resins, such as a cydyl ester, an aliphatic or alicyclic epoxy resin, an amine epoxy resin, and a dihydroxy benzene type epoxy resin, are mentioned. Moreover, resin which made polybasic acid anhydride react with epoxy (meth) acrylate resin can be used suitably.

또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로는 에폭시 화합물과 불포화기 함유 카르복시산 화합물의 반응물을 다염기산 무수물과 추가로 반응시킴으로써 얻어지는 수지를 적합하게 이용할 수 있다.Moreover, as resin which has an ethylenically unsaturated group, resin obtained by further reacting the reaction material of an epoxy compound and an unsaturated group containing carboxylic acid compound with a polybasic acid anhydride can be used suitably.

그 중에서도, 하기 식 (a1)로 표시되는 화합물이 바람직하다. 이 식 (a1)로 표시되는 화합물은 그 자체가 광경화성이 높다는 점에서 바람직하다.Especially, the compound represented by following formula (a1) is preferable. The compound represented by this formula (a1) is preferable at the point which itself has high photocurability.

Figure 112009042669112-PAT00001
Figure 112009042669112-PAT00001

상기 식 (a1) 중, X는 하기 식 (a2)로 표시되는 기를 나타낸다.In said formula (a1), X represents group represented by a following formula (a2).

Figure 112009042669112-PAT00002
Figure 112009042669112-PAT00002

상기 식 (a2) 중, R1a는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 탄화수소기 또는 할로겐 원자를 나타내고, R2a는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, W는 단결합 또는 하기 식 (a3)으로 표시되는 기를 나타낸다.In said formula (a2), R <1a> represents a hydrogen atom, a C1-C6 hydrocarbon group, or a halogen atom each independently, R <2a> represents a hydrogen atom or a methyl group each independently, W represents a single bond or the following formula ( The group represented by a3) is shown.

Figure 112009042669112-PAT00003
Figure 112009042669112-PAT00003

또, 상기 식 (a1) 중, Y는 디카르복시산 무수물로부터 산무수물기(-CO-O-CO-)를 뺀 잔기를 나타낸다. 디카르복시산 무수물의 예로는 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸 엔도 메틸렌 테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸테트라히 드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.In addition, in said formula (a1), Y represents the residue remove | excluding the acid anhydride group (-CO-O-CO-) from dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl endo methylene tetrahydrophthalic anhydride, chloric anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, Glutaric anhydride etc. are mentioned.

또, 상기 식 (a1) 중, Z는 테트라카르복시산 2무수물로부터 2개의 산무수물기를 뺀 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2무수물의 예로는 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 비페닐테트라카르복시산 2무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2무수물 등을 들 수 있다.In addition, in said formula (a1), Z represents the residue remove | excluding two acid anhydride groups from tetracarboxylic dianhydride. Examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride and the like.

또, 상기 식 (a1) 중, m은 0~20의 정수를 나타낸다.In addition, in said formula (a1), m shows the integer of 0-20.

에틸렌성 불포화기를 가지는 수지의 산가는 수지 고형분으로 10~150 mgKOH/g인 것이 바람직하며, 70~110 mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 산가를 10 mgKOH/g 이상으로 함으로써 현상액에 대한 충분한 용해성을 얻을 수 있다. 또, 산가를 150 mgKOH/g 이하로 함으로써 충분한 경화성을 얻을 수 있어 표면성을 양호하게 할 수 있다.It is preferable that it is 10-150 mgKOH / g in resin solid content, and, as for the acid value of resin which has an ethylenically unsaturated group, it is more preferable that it is 70-110 mgKOH / g. By making the acid value 10 mgKOH / g or more, sufficient solubility in a developer can be obtained. Moreover, by setting an acid value to 150 mgKOH / g or less, sufficient sclerosis | hardenability can be obtained and surface quality can be made favorable.

또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지의 중량 평균 분자량은 1,000~40,000인 것이 바람직하고, 2,000~30,000인 것이 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량을 1,000 이상으로 함으로써 내열성, 막 강도를 향상시킬 수 있다. 또, 중량 평균 분자량을 40,000 이하로 함으로써 현상액에 대한 충분한 용해성을 얻을 수 있다.Moreover, it is preferable that it is 1,000-40,000, and, as for the weight average molecular weight of resin which has an ethylenically unsaturated group, it is more preferable that it is 2,000-30,000. By setting the weight average molecular weight to 1,000 or more, heat resistance and film strength can be improved. Moreover, sufficient solubility to a developing solution can be obtained by making a weight average molecular weight 40,000 or less.

(에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머)(Monomer having an ethylenically unsaturated group)

에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머에는 단관능 모노머와 다관능 모노머가 있다.Monomers and monomers having an ethylenically unsaturated group include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

단관능 모노머로는 (메타)아크릴아미드, 메틸올 (메타)아크릴아미드, 메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, 에톡시메틸 (메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸 (메타)아 크릴아미드, 부톡시메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-메틸올 (메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸 (메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸말산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산, tert-부틸아크릴아미드설폰산, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-히드록시프로필프탈레이트, 글리세린 모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸 (메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필 (메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 조합하여 이용해도 된다.As monofunctional monomer, (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymeth Methoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride , Citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamidesulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl ( Meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) a Acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl ( Meta) acrylates, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylates, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylates, and half (meth) acrylates of phthalic acid derivatives; Can be mentioned. These monofunctional monomers may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.

한편, 다관능 모노머로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴 레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 디(메타)아크릴레이트, 프탈산 디글리시딜에스테르 디(메타)아크릴레이트, 글리세린 트리아크릴레이트, 글리세린 폴리글리시딜에테르 폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄 (메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트와 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 반응물, 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독으로 이용해도 되고 2종 이상 조합하여 이용해도 된다.On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di ( Meta) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (Meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipene Taerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2 -Hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid Diglycidyl ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (i.e. tolylene diisocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate Reactant of hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether, the axis of polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide Multi-functional monomers, such as water or the like can be given triacrylate formal. These polyfunctional monomers may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.

광중합성 화합물(A)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 5~50 중량%인 것이 바람직하고, 10~40 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써 감도, 현상성 및 해상성의 균형을 맞추기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 5-50 weight% with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, and, as for content of a photopolymerizable compound (A), it is more preferable that it is 10-40 weight% or less. It exists in the tendency to balance the sensitivity, developability, and resolution by making it into the said range.

[광중합 개시제(B)][Photopolymerization Initiator (B)]

광중합 개시제(B)로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1- 온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(o-아세틸옥심), 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸설피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, o-벤조일벤조산메틸, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘퍼옥시드, 2-메르캅토벤조이미달, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 및 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 등을 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 옥심계의 광중합 개시제를 이용하는 것이 감도면에서 특히 바람직하다. 이들 광중합 개시제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the photopolymerization initiator (B) include 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2. -Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, ethanone-1 -[9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (o-acetyloxime), 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphineoxide, 4- Benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid, ethyl 4-dimethylaminobenzoic acid, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4- Dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methok Ethyl acetal, benzyl dimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chloroti Oxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 1-chloro-4-propoxy city oxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthiooxane Ten, 2-isopropyl thioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene Peroxide, 2-mercaptobenzoimidal, 2-mercaptobenzooxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imida Zolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl -4-methoxy benzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether Le, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropy Ophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α- Dichloro-4-phenoxycetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosveron, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1 , 7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine , 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran- 2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tria Gin, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl ) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3- Bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis -Trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine and 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) Styrylphenyl-s-triazine and the like can be used. Among these, it is especially preferable in terms of sensitivity to use an oxime-type photoinitiator. These photoinitiators may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

광중합 개시제(B)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 0.5~30 중량%인 것이 바람직하고, 1~20 중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위 로 함으로써 충분한 내열성 및 내약품성을 얻을 수 있으며, 또 도막 형성능을 향상시켜 광경화 불량을 억제할 수 있다.It is preferable that it is 0.5-30 weight% with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, and, as for content of a photoinitiator (B), it is more preferable that it is 1-20 weight%. By setting it as said range, sufficient heat resistance and chemical-resistance can be obtained, and a film formation ability can be improved and a photocuring defect can be suppressed.

[착색제(C)]Colorant (C)

착색제(C)로는 예를 들어 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되고 있는 화합물, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여되어 있는 것 등을 이용할 수 있다. 이 착색제는 단독으로 이용해도 되고, 색조를 정돈하기 위해서 2종 이상 혼합하여 이용해도 된다.As the coloring agent (C), for example, a compound classified as a pigment in a color index (CI; issued by The'Society 'of' Dyers' and 'Colourists'), specifically, the following color index (CI) number is given. It can be used. This coloring agent may be used independently, and may be used in mixture of 2 or more type in order to adjust color tone.

C.I. 피그먼트 옐로 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로」는 마찬가지로 번호만 기재한다), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 185;C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "CI Pigment Yellow" likewise describes numbers only), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61 , 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120 , 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 185;

C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 마찬가지로 번호만 기재한다), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 73;C.I. Pigment orange 1 (hereinafter, "CI pigment orange" lists only the numbers similarly), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55 59, 61, 63, 64, 71, 73;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 마찬가지로 번호만 기재한다), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50;C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Violet" likewise describes numbers only), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50;

C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 마찬가지로 번호만 기재한다), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265;C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, "CI Pigment Red" likewise describes numbers only), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17 , 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2 , 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1 , 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170 , 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220 , 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265;

C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 마찬가지로 번호만 기재한다), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66;C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Blue" likewise describes numbers only), 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66;

C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37;C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment green 37;

C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28;C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Pigment brown 28;

C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7.C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7.

또, 컬러 필터에서의 블랙 매트릭스를 형성하는 경우에는 착색제(C)로 흑색 안료가 이용된다.Moreover, when forming the black matrix in a color filter, a black pigment is used as a coloring agent (C).

흑색 안료로는 카본 블랙이나 티탄 블랙을 이용하는 것이 바람직하다. 이 외, Cu, Fe, Mn, Cr, Co, Ni, V, Zn, Se, Mg, Ca, Sr, Ba, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hg, Pb, Bi, Si 및 Al 등의 각종 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등의 무기 안료도 이용할 수 있다.It is preferable to use carbon black or titanium black as a black pigment. Other than Cu, Fe, Mn, Cr, Co, Ni, V, Zn, Se, Mg, Ca, Sr, Ba, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hg, Pb, Bi, Si and Al Inorganic pigments, such as various metal oxides, complex oxides, metal sulfides, metal sulfates, or metal carbonates, can also be used.

카본 블랙으로는 채널 블랙, 퍼니스 블랙(furnace black), 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수 있으나, 특히 채널 블랙은 차광성이 뛰어나기 때문에 적합하게 이용할 수 있다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 이용할 수도 있다. 구체적으로는, 카본 블랙과 카본 블랙 표면에 존재하는 카르복실기, 히드록실기, 카르보닐기와의 반응성을 가지는 수지를 혼합하고, 50~380℃에서 가열하여 얻은 수지 피복 카본 블랙이나, 물-유기용제 혼합계 또는 물-계면활성제 혼합계에 에틸렌성 모노머를 분산하고, 중합 개시제의 존재하에서 라디칼 중합 또는 라디칼 공중합시켜 얻은 수지 피복 카본 블랙 등을 들 수 있다. 이 수지 피복 카본 블랙은 수지 피복이 없는 카본 블랙에 비해 도전성이 낮기 때문에 컬러 필터에 이용했을 경우에 전류의 누출이 적어, 신뢰성 높은 저소비 전력의 액정 표시 디스플레이를 형성할 수 있다.As carbon black, well-known carbon black, such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black, can be used, but channel black can be suitably used because of its excellent light shielding properties. Moreover, resin coated carbon black can also be used. Specifically, a resin-coated carbon black obtained by mixing a resin having reactivity with a carboxyl group, a hydroxyl group, and a carbonyl group present on the surface of the carbon black and the carbon black and heating at 50 to 380 ° C. or a water-organic solvent mixture system Or resin-coated carbon black obtained by dispersing an ethylenic monomer in a water-surfactant mixed system and radical polymerization or radical copolymerization in the presence of a polymerization initiator. Since the resin-coated carbon black has lower conductivity than that of the carbon black without resin coating, when used in a color filter, there is little leakage of current, and a highly reliable low power consumption liquid crystal display display can be formed.

또, 상기의 무기 안료에 보조 안료로서 유기 안료를 첨가해도 된다. 유기 안료는 무기 안료의 보색을 띠는 것을 적절히 선택하여 첨가함으로써 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다. 예를 들어, 카본 블랙은 불그스름한 흑색을 띤다. 따라서, 카본 블랙에 보조 안료로서 적색의 보색인 청색을 띠는 유기 안료를 첨가함으로써 카본 블랙의 붉은 빛이 사라져 전체적으로 보다 바람직한 흑색을 띤다. 유기 안료는 무기 안료와 유기 안료의 총합 100 중량부에 대해서 10~80 중량부 범위에서 이용하는 것이 바람직하고, 20~60 중량부 범위가 보다 바람직하며, 20~40 중량부 범위가 가장 바람직하다.Moreover, you may add an organic pigment as said auxiliary pigment to said inorganic pigment. The organic pigment can obtain the following effects by appropriately selecting and adding those having the complementary color of the inorganic pigment. For example, carbon black has a reddish black color. Therefore, the addition of the blue-pigmented organic pigment, which is a red complementary color, to the carbon black causes the redness of the carbon black to disappear, thereby making the overall black more desirable. It is preferable to use an organic pigment in 10-80 weight part with respect to a total of 100 weight part of an inorganic pigment and an organic pigment, 20-60 weight part is more preferable, 20-40 weight part is the most preferable.

상기의 무기 안료 및 유기 안료로는 분산제를 이용하여 안료를 적당한 농도로 분산시킨 용액을 이용할 수 있다. 예를 들어, 무기 안료로는 미쿠니 색소사제의 카본 분산액 CF 블랙(카본 농도 20% 함유), 미쿠니 색소사제 카본 분산액 CF 블랙(고저항 카본 24% 함유), 미쿠니 색소사제 티탄 블랙 분산액 CF 블랙(흑티탄 안료 20% 함유) 등을 들 수 있다. 또, 유기 안료로는 예를 들어 미쿠니 색소사제의 블루 안료 분산액 CF 블루(블루 안료 20% 함유), 미쿠니 색소사제 바이올렛 안료 분산액(바이올렛 안료 10% 함유) 등을 들 수 있다. 또, 분산제로는 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계 고분자 분산제가 바람직하게 이용된다.As said inorganic pigment and organic pigment, the solution which disperse | distributed the pigment to appropriate density | concentration using the dispersing agent can be used. For example, as the inorganic pigment, carbon dispersion CF black (containing 20% carbon concentration) manufactured by Mikuni Dyestuffs Co., carbon dispersion CF black (containing 24% high resistance carbon) manufactured by Mikuni Dyestuffs Co., Ltd. titanium black dispersion CF black (black) manufactured by Mikuni Dyestuffs Co., Ltd. Titanium pigment 20%), etc. are mentioned. Moreover, as an organic pigment, the blue pigment dispersion liquid CF blue (20% of blue pigment containing) made by Mikuni dyestuff company, the violet pigment dispersion liquid (10% containing of violet pigment) made by Mikuni dyestuff company, etc. are mentioned, for example. As the dispersant, polyethyleneimine-based, urethane resin-based, and acrylic resin-based polymer dispersants are preferably used.

착색제(C)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 1~70 중량%인 것이 바람직하고, 20~60 중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써 경화 불량을 일으키는 것을 억제하면서 착색 성능을 향상시킬 수 있다.It is preferable that it is 1-70 weight% with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, and, as for content of a coloring agent (C), it is more preferable that it is 20-60 weight%. By setting it as the said range, coloring performance can be improved, suppressing generation of hardening defect.

또, 착색제(C)로 흑색 안료를 이용하는 경우에는 형성되는 막의 막 두께 1㎛당 OD(Optical Density) 값이 3.5 이상, 바람직하게는 4.0 이상이 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 막 두께 1㎛당 OD 값이 3.5 이상이면, 컬러 필터의 블랙 매트릭스로 이용했을 경우에, 충분한 표시 콘트라스트를 얻을 수 있어, 필요한 성능이 얻어진다.In addition, when using a black pigment as a coloring agent (C), it is preferable to adjust so that OD (Optical_Density) value per 1 micrometer of film thickness of the film formed may be 3.5 or more, Preferably it is 4.0 or more. When the OD value per 1 micrometer of film thickness is 3.5 or more, when it uses for the black matrix of a color filter, sufficient display contrast can be obtained and a required performance is obtained.

[용제(S)][Solvent (S)]

용제(S)로는 비점이 170℃ 미만인 1종 이상의 저비점 용제(L)와, 비점이 170℃ 이상 180℃ 미만인 1종 이상의 제1 고비점 용제(H1)와, 비점이 180℃ 이상인 1종 이상의 제2 고비점 용제(H2)로 이루어진 것이 이용된다. 또한, 본 명세서에서 가리키는 비점은 대기압에서의 값이다. 용제(S)가 이와 같은 조성인 것에 의해, 착색 감광성 수지 조성물의 도막을 감압 건조했을 때의 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제할 수 있다.As the solvent (S), at least one low boiling point solvent (L) having a boiling point of less than 170 ° C, at least one first boiling point solvent (H1) having a boiling point of 170 ° C or more and less than 180 ° C, and at least one type of agent having a boiling point of 180 ° C or more. What consists of 2 high boiling point solvents (H2) is used. In addition, the boiling point shown in this specification is a value in atmospheric pressure. When the solvent (S) is such a composition, the surface defect and surface roughness of the coating film at the time of drying under reduced pressure the coating film of a coloring photosensitive resin composition can be suppressed effectively.

저비점 용제(L)의 비점은 170℃ 미만이며, 160℃ 이하인 것이 바람직하다. 또, 비점은 130℃ 이상인 것이 바람직하고, 140℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 저비점 용제(L)로서 구체적으로는, 시클로헥산온(AN) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 중에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 이 중에서도, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)가 보다 바람직하다.It is preferable that the boiling point of the low boiling point solvent (L) is less than 170 degreeC, and is 160 degrees C or less. Moreover, it is preferable that boiling point is 130 degreeC or more, and it is more preferable that it is 140 degreeC or more. Specifically as such a low boiling point solvent (L), 1 or more types chosen from cyclohexanone (AN) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) are preferable. Among these, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) is more preferable.

저비점 용제(L)의 함유량은 용제(S)의 전체량에 대해서 35 중량% 미만인 것이 바람직하고, 30 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 함유량은 5 중량% 이상인 것이 바람직하고, 10 중량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 중량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 저비점 용제(L)는 착색 감광성 수지 조성물을 도포했을 때에 최초로 휘발되기 때문에, 이와 같은 함유량으로 함유함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 도막을 감압 건조시킬 때의 효율을 높일 수 있다.It is preferable that it is less than 35 weight% with respect to the whole amount of the solvent S, and, as for content of the low boiling point solvent (L), it is more preferable that it is 30 weight% or less. Moreover, it is preferable that content is 5 weight% or more, It is more preferable that it is 10 weight% or more, It is further more preferable that it is 15 weight% or more. Since the low boiling point solvent (L) volatilizes for the first time when apply | coating a coloring photosensitive resin composition, by containing in such content, the efficiency at the time of drying under reduced pressure of the coating film of a coloring photosensitive resin composition can be improved.

제1 고비점 용제(H1)의 비점은 170℃ 이상 180℃ 미만이다. 이와 같은 제1 고비점 용제(H1)로서 구체적으로는, 3-메톡시부틸아세테이트(MA), 디프로필렌글리콜디메틸에테르(DMM) 및 시클로헥산올아세테이트(CHXA) 중에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 이 중에서도, 3-메톡시부틸아세테이트(MA) 및 시클로헥산올아세테이트(CHXA)가 보다 바람직하고, 3-메톡시부틸아세테이트(MA)가 특히 바람직하다.The boiling point of the 1st high boiling point solvent (H1) is 170 degreeC or more and less than 180 degreeC. Specifically as such a 1st high boiling point solvent (H1), 1 or more types chosen from 3-methoxybutyl acetate (MA), dipropylene glycol dimethyl ether (DMM), and cyclohexanol acetate (CHXA) are preferable. . Among these, 3-methoxy butyl acetate (MA) and cyclohexanol acetate (CHXA) are more preferable, and 3-methoxy butyl acetate (MA) is especially preferable.

제1 고비점 용제(H1)의 함유량은 용제(S)의 전체량에 대해서 60 중량% 이상이고, 63 중량% 이상이 바람직하며, 65 중량% 이상이 보다 바람직하다. 또, 함유량은 90 중량% 이하인 것이 바람직하고, 85 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The content of the first high boiling point solvent (H1) is 60% by weight or more, preferably 63% by weight or more, and more preferably 65% by weight or more based on the total amount of the solvent (S). Moreover, it is preferable that content is 90 weight% or less, and it is more preferable that it is 85 weight% or less.

제2 고비점 용제(H2)의 비점은 180℃ 이상이며, 190℃ 이상이 바람직하고, 200℃ 이상이 보다 바람직하다. 또, 비점은 250℃ 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 제2 고비점 용제(H2)로서 구체적으로는, 프로필렌글리콜디아세테이트(PGDA), 감마부티로락톤(GBL), 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(DPMA), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(EDGAC), 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트(BGDA) 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트(BDGAC) 중에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 이 중에서도 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트(BGDA) 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트(BDGAC)가 특히 바람직하다.The boiling point of the second high boiling point solvent (H2) is 180 ° C or higher, preferably 190 ° C or higher, and more preferably 200 ° C or higher. Moreover, it is preferable that boiling point is 250 degrees C or less. As such a second high boiling point solvent (H2), specifically, propylene glycol diacetate (PGDA), gamma butyrolactone (GBL), dipropylene glycol methyl ether acetate (DPMA), diethylene glycol monoethyl ether acetate (EDGAC) ), 1,3-butylene glycol diacetate (BGDA) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (BDGAC) are preferably at least one selected from the group. Among these, 1, 3- butylene glycol diacetate (BGDA) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (BDGAC) are especially preferable.

또, 제2 고비점 용제(H2)의 100℃에서의 중량 변화율은 15 TG% 이하가 바람직하고, 10 TG% 이하가 보다 바람직하며, 8 TG% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 중량 변화율은 2 TG% 이상이 바람직하고, 4 TG% 이상이 보다 바람직하다. 여기서, 「100℃에서의 중량 변화율」이란 단위 시간당 용제의 중량 변화를 가리킨다. 본 명세서에서는, 100℃로 보온한 열천칭에 용제를 첨가하고, 대기중에서 용제의 중량 변화량을 구함으로써 측정된 것이다.Moreover, 15 TG% or less is preferable, as for the weight change rate of the 2nd high boiling point solvent (H2) at 100 degreeC, 10 TG% or less is more preferable, It is still more preferable that it is 8 TG% or less. Moreover, 2 TG% or more is preferable and, as for a weight change rate, 4 TG% or more is more preferable. Here, "weight change rate in 100 degreeC" refers to the weight change of the solvent per unit time. In this specification, it is measured by adding a solvent to the heat balance heat-retained at 100 degreeC, and obtaining the weight change amount of a solvent in air | atmosphere.

또, 제2 고비점 용제(H2)는 용해 파라미터가 8.7(cal/㎤)1/2 이상인 것이 바람직하다. 제2 고비점 용제(H2)는 용제(S) 중에서 가장 휘발되기 어렵기 때문에, 진공 건조 장치(VCD) 등을 이용하여 착색 감광성 수지 조성물의 도막을 감압 건조시킬 때에, 맨 마지막까지 도막 중에 남는다. 이때 제2 고비점 용제(H2)의 용해 파라미터가 8.7(cal/㎤)1/2 이상이면, 감압 건조의 마지막까지 착색제(C)의 분산성이 양호하게 유지되어 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐이 억제된다. 이 용해 파라미터는 11(cal/㎤)1/2 이하인 것이 바람직하고, 10(cal/㎤)1/2 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, the second high boiling point solvent (H2) preferably has a dissolution parameter of 8.7 (cal / cm 3) 1/2 or more. Since the second high boiling point solvent (H2) is hardly volatilized among the solvents (S), when the coating film of the colored photosensitive resin composition is dried under reduced pressure using a vacuum drying apparatus (VCD) or the like, it remains in the coating film until the end. At this time, when the dissolution parameter of the second high boiling point solvent (H2) is 8.7 (cal / cm 3) 1/2 or more, the dispersibility of the colorant (C) is maintained satisfactorily until the end of the reduced pressure drying, resulting in surface defects and surface roughness of the coating film. This is suppressed. The solubility parameter is preferably 11 (cal / ㎤) 1/2 or less, more preferably 10 (cal / ㎤) 1/2 or less.

제2 고비점 용제(H2)의 함유량은 용제(S) 전체량에 대해서 0.1~10 중량%인 것이 바람직하고, 1~8 중량%인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 0.1-10 weight% with respect to solvent (S) whole quantity, and, as for content of 2nd high boiling point solvent (H2), it is more preferable that it is 1-8 weight%.

용제(S)의 평균 비점은 165℃ 이상인 것이 바람직하고, 167℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 168℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 평균 비점은 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 185℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 180℃ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 175℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 여기서, 「평균 비점」이란 각 용제의 비점에 용제(S) 전체량에 대한 그 용제의 함유 비율을 곱하고 평균화한 것이다.It is preferable that the average boiling point of the solvent (S) is 165 degreeC or more, It is more preferable that it is 167 degreeC or more, It is more preferable that it is 168 degreeC or more. Moreover, it is preferable that an average boiling point is 200 degrees C or less, It is more preferable that it is 185 degrees C or less, It is further more preferable that it is 180 degrees C or less, It is especially preferable that it is 175 degrees C or less. Here, an "average boiling point" multiplies and averages the boiling point of each solvent with the content rate of the solvent with respect to the solvent (S) whole quantity.

용제(S)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 농도가 1~50 중량%가 되는 양이 바람직하고, 5~30 중량%가 되는 양이 보다 바람직하다. 상기 범위로 함으로써 착색 감광성 수지 조성물에서의 막 형성능이나 도포성을 양호하게 유지할 수 있다.The content of the solvent (S) is preferably an amount of 1 to 50% by weight, and more preferably an amount of 5 to 30% by weight of the solid content concentration of the colored photosensitive resin composition. By setting it as the said range, the film formation ability and applicability | paintability in a coloring photosensitive resin composition can be kept favorable.

[그 외의 성분][Other Ingredients]

본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라서 첨가제를 함유해도 된다. 첨가제로는 열중합 금지제, 소포제, 계면활성제, 증감제, 경화촉진제, 광가교제, 분산제, 분산조제, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응 집 방지제 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention may contain an additive as needed. Examples of the additive include a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a surfactant, a sensitizer, a curing accelerator, a photocrosslinker, a dispersant, a dispersing aid, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an anticoagulant.

[착색 감광성 수지 조성물의 조제 방법][Preparation method of colored photosensitive resin composition]

본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물은, 상기 각 성분을 모두 교반기로 혼합함으로써 얻을 수 있다. 또한, 얻어진 혼합물이 균일해지도록 필터를 이용하여 여과해도 된다.The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention can be obtained by mixing each said component with a stirrer. Moreover, you may filter using a filter so that the obtained mixture may become uniform.

본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물에 의하면, 감압 건조시 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다. 그 중에서도 착색제(C)로서 흑색 안료를 이용했을 경우에는 특히 유효하다. 흑색 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 상술한 바와 같이 고(高)OD 값을 갖는 것이 바람직하지만, 용제(S)가 상기의 조건을 만족함으로써 고OD화를 위해서 흑색 안료의 함유량을 증가시키더라도 표면 결함이나 표면 거칠어짐의 발생 리스크를 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.According to the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention, it is possible to suppress surface defects and surface roughness of a coating film at the time of pressure reduction drying effectively. Especially, when a black pigment is used as a coloring agent (C), it is especially effective. The colored photosensitive resin composition containing the black pigment preferably has a high OD value as described above. However, even if the solvent (S) satisfies the above conditions, the content of the black pigment is increased for higher OD. It is possible to effectively suppress the risk of occurrence of surface defects and surface roughness.

<컬러 필터><Color filter>

본 발명에 관한 컬러 필터는 본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 것이다. 이 컬러 필터는 예를 들어 이하와 같이 하여 제조할 수 있다.The color filter which concerns on this invention has a pattern formed using the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention. This color filter can be manufactured as follows, for example.

우선 본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물을, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나, 스피너(회전식 도포 장치), 슬릿 코터, 커텐 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하여 기판상에 도포한다. 기판의 재료로는 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 등을 들 수 있다.First, the colored photosensitive resin composition which concerns on this invention uses a contact transfer type | mold coating apparatus, such as a roll coater, a reverse coater, and a bar coater, and a non-contact type coating apparatus, such as a spinner (rotary coating apparatus), a slit coater, and a curtain flow coater, and a board | substrate. Apply on the top. Glass, polyethylene terephthalate, an acrylic resin, polycarbonate, etc. are mentioned as a material of a board | substrate.

뒤이어서, 착색 감광성 수지 조성물의 도막을 건조시킨다. 건조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 진공 건조 장치(VCD)를 이용하여 실온에서 감압 건조하고, 그 후 핫 플레이트에서 80~120℃, 바람직하게는 90~100℃의 온도에서 60~120초간 건조하는 방법을 들 수 있다. 본 발명에 관한 착색 감광성 수지 조성물에 의하면, 이와 같이 도막을 감압 건조하더라도, 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제할 수 있다.Subsequently, the coating film of a coloring photosensitive resin composition is dried. Although a drying method is not specifically limited, For example, it vacuum-drys at room temperature using a vacuum drying apparatus (VCD), and for 60 to 120 second at the temperature of 80-120 degreeC, Preferably it is 90-100 degreeC on a hotplate after that. A method of drying is mentioned. According to the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention, even if it dried under reduced pressure in this way, the surface defect and surface roughness of a coating film can be suppressed effectively.

그 다음에, 이 도막에 네거티브형 마스크를 통하여 자외선, 엑시머 레이저광 등의 활성 에너지선을 조사하여 선택적으로 노광한다. 조사하는 에너지선량은 착색 감광성 수지 조성물의 조성에 따라서도 다르지만, 예를 들어 30~2,000 mJ/㎠인 것이 바람직하다.Next, this coating film is selectively exposed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light through a negative mask. Although the energy dose to irradiate changes also with the composition of a coloring photosensitive resin composition, it is preferable that it is 30-2,000 mJ / cm <2>, for example.

뒤이어서, 노광 후의 도막을 현상액에 의해 현상함으로써 원하는 형상으로 패터닝한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 현상액으로는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다.Subsequently, the coating film after exposure is patterned with a developing solution to pattern into a desired shape. The image development method is not specifically limited, For example, an immersion method, a spray method, etc. can be used. Examples of the developing solution include organic compounds such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia and quaternary ammonium salts.

계속해서, 현상 후의 패턴을 220~250℃ 정도, 바람직하게는 230~240℃ 정도에서 포스트 베이크를 실시한다. 이때, 형성된 패턴을 전면 노광하는 것이 바람직하다. 이상에 의해 소정의 패턴 형상을 가지는 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다.Subsequently, post-baking is performed about 220-250 degreeC, Preferably it is 230-240 degreeC about the pattern after image development. At this time, it is preferable to expose the formed pattern to the whole surface. As mentioned above, the black matrix which has a predetermined pattern shape can be formed.

이상의 조작을 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 착색 감광성 수지 조성물에 대 해 실시하여, 각 색의 화소 패턴을 형성한다. 이에 의해 컬러 필터가 형성된다.The above operation is performed with respect to the coloring photosensitive resin composition of each color of red, green, and blue, and the pixel pattern of each color is formed. As a result, a color filter is formed.

또한, 컬러 필터를 제조할 때에는, 블랙 매트릭스에 의해서 구획된 각 화소 영역에 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 잉크를 잉크제트 노즐로부터 토출하고, 모여진 잉크를 열 또는 빛으로 경화시킬 수도 있다.In addition, when manufacturing a color filter, the ink of each color of red, green, and blue may be discharged from an ink jet nozzle to each pixel area partitioned by the black matrix, and the collected ink may be hardened by heat or light.

<액정 표시 디스플레이><Liquid crystal display display>

본 발명에 관한 액정 표시 디스플레이는 본 발명에 관한 컬러 필터를 갖는 것이다. 이 액정 표시 디스플레이를 제조하기 위해서는, 우선 한쪽 기판상에 상기 컬러 필터를 형성하고, 뒤이어서 전극, 스페이서 등을 순차적으로 형성한다. 그리고 다른 한쪽의 기판상에 전극 등을 형성하고, 양자를 붙여 맞추어 소정량의 액정을 주입, 봉지하면 된다.The liquid crystal display display which concerns on this invention has a color filter which concerns on this invention. In order to manufacture this liquid crystal display, first, the said color filter is formed on one board | substrate, and then an electrode, a spacer, etc. are formed sequentially. What is necessary is just to form an electrode etc. on the other board | substrate, and to inject | pour and seal a predetermined amount of liquid crystals by sticking both together.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하겠으나, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, examples of the present invention will be described, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

<실시예 1><Example 1>

[광중합성 화합물의 합성]Synthesis of Photopolymerizable Compound

우선, 500㎖의 4구 플라스크 중에 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지 235g(에폭시 당량 235)과 테트라메틸암모늄클로라이드 110㎎, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 100㎎ 및 아크릴산 72.0g을 넣고, 이것에 25㎖/분의 속도로 공기를 불어넣으면서 90℃~100℃로 가열 용해하였다. 다음으로, 용액이 백탁된 상태인 채로 서서히 승온시키고, 120℃로 가열하여 완전하게 용해시켰다. 여기서 용액은 점차로 투명 점조(粘稠)로 되었으나, 그대로 교반을 계속하였다. 이 동안, 산가를 측정하여, 1.0 ㎎KOH/g 미만이 될 때까지 가열 교반을 계속하였다. 산가가 목표에 도달할 때까지 12시간을 필요로 하였다. 그리고 실온까지 냉각하여 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.First, 235 g (epoxy equivalent 235) of bisphenol fluorene type epoxy resin, 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and 72.0 g of acrylic acid were put into a 500 ml four-neck flask. It heated and melt | dissolved at 90 degreeC-100 degreeC, blowing air into this at the rate of 25 ml / min. Next, the solution was gradually warmed up in a cloudy state and heated to 120 ° C to completely dissolve it. The solution gradually became a clear viscous solution, but the stirring was continued as it was. In the meantime, the acid value was measured and heating and stirring were continued until it became less than 1.0 mgKOH / g. It took 12 hours to reach the target. And it cooled to room temperature and obtained bisphenol fluorene type epoxy acrylate.

계속해서, 이와 같이 하여 얻어진 상기 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트 307.0g에 3-메톡시부틸아세테이트 600g을 첨가하여 용해한 후, 벤조페논 테트라카르복시산 2 무수물 80.5g 및 브롬화 테트라에틸암모늄 1g을 혼합하고, 서서히 승온시켜 110℃~115℃에서 4시간 반응시켰다. 산무수물의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로 무수 프탈산 38.0g을 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜, 수지 A-1(중량 평균 분자량: 3,400)을 얻었다. 산무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다.Subsequently, 600 g of 3-methoxybutyl acetate is added to and dissolved in 307.0 g of the bisphenol fluorene type epoxy acrylate thus obtained, followed by dissolving 80.5 g of benzophenone tetracarboxylic acid anhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide, and gradually It heated up and made it react at 110 degreeC-115 degreeC for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydro phthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C for 6 hours to obtain Resin A-1 (weight average molecular weight: 3,400). Loss of acid anhydride was confirmed by IR spectrum.

[착색 감광성 수지 조성물의 조제][Preparation of Colored Photosensitive Resin Composition]

이하의 성분을 고형분 농도가 18 중량%가 되도록 혼합하고, 교반기로 2 시간 교반한 후, 5㎛ 멤브레인 필터로 여과하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. 착색 감광성 수지 조성물의 조제에 이용한 각 용제의 대기압하에서의 비점, 용해 파라미터 및 100℃에서의 중량 변화율은 표 1에 나타내는 바와 같다.The following components were mixed so that solid content concentration might be 18 weight%, and it stirred with the stirrer for 2 hours, and filtered with a 5 micrometer membrane filter, and obtained the coloring photosensitive resin composition. The boiling point under atmospheric pressure of each solvent used for preparation of a coloring photosensitive resin composition, a dissolution parameter, and the weight change rate in 100 degreeC are as showing in Table 1.

(A): 수지 A-1(고형분: 55%, 용제: 3-메톡시부틸아세테이트) … 23.6 중량부(A): Resin A-1 (solid content: 55%, solvent: 3-methoxybutyl acetate). 23.6 parts by weight

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 … 4.8 중량부Dipentaerythritol hexaacrylate 4.8 parts by weight

(B): IRGACURE OXE 02(치바 스페셜티 케미컬스사제) … 1.4 중량부(B): IRGACURE® OXE # 02 (made by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.4 parts by weight

(C): 카본 분산액(「CF 블랙 EX-1455」, 미쿠니 색소사제, 고저항 카본: 24%, 분산제: 5%, 용제: 3-메톡시부틸아세테이트) … 100 중량부(C): Carbon dispersion liquid ("CF black EX-1455", the Mikuni dye company, high resistance carbon: 24%, dispersing agent: 5%, solvent: 3-methoxybutyl acetate)... 100 parts by weight

(S): 3-메톡시부틸아세테이트/시클로헥산온/프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트/1,3-부틸렌글리콜디아세테이트 = 65:15:13:7(중량비)(S): 3-methoxybutyl acetate / cyclohexanone / propylene glycol monomethyl ether acetate / 1,3-butylene glycol diacetate = 65: 15: 13: 7 (weight ratio)

<실시예 2~12, 비교예 1~11><Examples 2-12, Comparative Examples 1-11>

용제(S)의 조성을 표 2, 3과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 착색 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 또한, 실시예·비교예에 이용한 착색 감광성 수지 조성물의 OD 값은 4.5이다. 착색 감광성 수지 조성물의 조제에 이용한 각 용제의 대기압하에서의 비점, 용해 파라미터 및 100℃에서의 중량 변화율은 표 1에 나타내는 바와 같다.A colored photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the solvent (S) was changed as in Tables 2 and 3. In addition, the OD value of the coloring photosensitive resin composition used for the Example and the comparative example is 4.5. The boiling point under atmospheric pressure of each solvent used for preparation of a coloring photosensitive resin composition, a dissolution parameter, and the weight change rate in 100 degreeC are as showing in Table 1.

Figure 112009042669112-PAT00004
Figure 112009042669112-PAT00004

여기서, 중량 변화율은 100℃로 보온한 열천칭(「TG/DTA6200(상품명)」, SII 나노테크놀로지사제)에 용제를 첨가하고, 대기중에서 용제의 중량 변화량을 구함으로써 측정하였다.Here, the weight change rate was measured by adding a solvent to the thermal balance ("TG / DTA6200 (brand name), the product made by SII Nanotechnology, Inc.) insulated at 100 degreeC, and obtaining the weight change amount of the solvent in air | atmosphere.

<평가><Evaluation>

실시예 1~12, 비교예 1~11에서 조제한 착색 감광성 수지 조성물을, 680㎜×880㎜의 유리 기판상에 도포한 후, 66Pa로 30초간 감압 건조하고, 계속해서 110℃에서 120초간 프리베이크하여 약 1.0㎛의 막 두께를 가지는 도막을 얻었다. 이 도막에 대해서 표면 결함 및 표면 거칠어짐을 이하와 같이 하여 평가하였다.After apply | coating the coloring photosensitive resin composition prepared in Examples 1-12 and Comparative Examples 1-11 on the glass substrate of 680 mm x 880 mm, it dried under reduced pressure at 66 Pa for 30 second, and then prebaked at 110 degreeC for 120 second. Thus, a coating film having a film thickness of about 1.0 μm was obtained. About this coating film, surface defect and surface roughness were evaluated as follows.

[표면 결함의 평가][Evaluation of Surface Defects]

표면 결함 측정 장치(제품명:「KLA-213X」, KLA-Tencor사제)를 이용하여 도막 표면의 결함 수를 측정하였다. 결과를 표 2, 3에 나타낸다.The number of defects on the coating film surface was measured using the surface defect measuring apparatus (product name: "KLA-213X", the KLA-Tencor company make). The results are shown in Tables 2 and 3.

[표면 거칠어짐의 평가][Evaluation of Surface Roughness]

원자간력 현미경(SII 나노테크놀로지사제)을 이용하여 도막의 표면 거칠어짐(Ra)을 평가하였다. 결과를 표 2, 3에 나타낸다. 또한, 비교예 3~11에서는 도막 표면의 결함 수가 현저하게 많았기 때문에 표면 거칠어짐의 평가를 실시하지 않았다.The surface roughness (Ra) of the coating film was evaluated using the atomic force microscope (SII nanotechnology company make). The results are shown in Tables 2 and 3. In Comparative Examples 3 to 11, the surface roughness was not evaluated because the number of defects on the surface of the coating film was remarkably large.

Figure 112009042669112-PAT00005
Figure 112009042669112-PAT00005

Figure 112009042669112-PAT00006
Figure 112009042669112-PAT00006

표 2, 3으로부터 알 수 있듯이, 비점이 170℃ 미만인 1종 이상의 저비점 용제(L)와, 비점이 170℃ 이상 180℃ 미만인 1종 이상의 제1 고비점 용제(H1)와, 비점이 180℃ 이상인 1종 이상의 제2 고비점 용제(H2)로 이루어지며, 또한 제1 고비점 용제(H1)의 비율이 60 중량% 이상인 용제(S)를 함유하는 실시예 1~12의 착색 감광성 수지 조성물을 이용했을 경우에는, 도막을 감압 건조했을 때의 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 효과적으로 억제할 수 있었다. 특히, 제2 고비점 용제(H2)의 비율을 증가시킴으로써, 표면 결함이나 표면 거칠어짐의 억제 효과가 향상되었다(실시예 1~4, 실시예 5~7).As can be seen from Tables 2 and 3, at least one low boiling point solvent (L) having a boiling point of less than 170 ° C, at least one first boiling point solvent (H1) having a boiling point of 170 ° C or more and less than 180 ° C, and a boiling point of 180 ° C or more Using the coloring photosensitive resin composition of Examples 1-12 which consists of 1 or more types of 2nd high boiling point solvents (H2), and also contains the solvent (S) whose ratio of a 1st high boiling point solvent (H1) is 60 weight% or more. When it did, the surface defect and surface roughness of the coating film at the time of drying under reduced pressure could be suppressed effectively. In particular, the effect of suppressing surface defects and surface roughness was improved by increasing the ratio of the second high boiling point solvent (H2) (Examples 1 to 4 and 5 to 7).

한편, 제2 고비점 용제(H2)를 함유하지 않는 비교예 1~5, 10의 착색 감광성 수지 조성물을 이용했을 경우에는, 도막을 감압 건조했을 때에 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐이 현저하게 발생하였다. 또, 제2 고비점 용제(H2)를 함유하였다 하더라도, 제1 고비점 용제(H1)의 비율이 55 중량%인 비교예 6~9의 착색 감광성 수지 조성물을 이용했을 경우에는, 도막을 감압 건조했을 때에 도막의 표면 결함이 현저하게 발생하였다. 이 중 비교예 8, 9의 착색 감광성 수지 조성물은 예를 들어 실시예 1, 5보다 용제(S)의 평균 비점이 높지만, 이와 같이 평균 비점이 높아도 제1 고비점 용제(H1)의 비율이 60 중량% 미만인 경우에는, 도막의 표면 결함이나 표면 거칠어짐을 억제할 수 없었다. 또, 제1 고비점 용제(H1)를 함유하지 않으며, 저비점 용제(L)의 비율이 95 중량%인 비교예 11의 착색 감광성 수지 조성물을 이용했을 경우에도, 도막을 감압 건조했을 때에 도막의 표면 결함이 현저하게 발생하였다.On the other hand, when using the colored photosensitive resin composition of Comparative Examples 1-5 and 10 which does not contain 2nd high boiling point solvent (H2), when a coating film is dried under reduced pressure, the surface defect of a coating film and surface roughening will arise remarkably. It was. Moreover, even if it contains the 2nd high boiling point solvent (H2), when using the coloring photosensitive resin composition of Comparative Examples 6-9 whose ratio of the 1st high boiling point solvent (H1) is 55 weight%, the coating film is dried under reduced pressure. When it did, the surface defect of the coating film occurred remarkably. Among these, the colored photosensitive resin compositions of Comparative Examples 8 and 9 have a higher average boiling point of the solvent (S) than, for example, Examples 1 and 5, but the ratio of the first high boiling point solvent (H1) is 60 even if the average boiling point is higher. In the case of less than% by weight, surface defects and surface roughness of the coating film could not be suppressed. Moreover, even when the coloring photosensitive resin composition of the comparative example 11 which does not contain a 1st high boiling point solvent (H1) and whose ratio of the low boiling point solvent (L) is 95 weight% is used, the surface of a coating film is dried under reduced pressure. The defect occurred remarkably.

Claims (9)

광중합성 화합물(A), 광중합 개시제(B), 착색제(C) 및 용제(S)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서,As colored photosensitive resin composition containing a photopolymerizable compound (A), a photoinitiator (B), a coloring agent (C), and a solvent (S), 상기 용제(S)는The solvent (S) is 대기압에서의 비점이 170℃ 미만인 1종 이상의 저비점 용제(L)와,At least one low boiling point solvent (L) having a boiling point of less than 170 ° C at atmospheric pressure, 대기압에서의 비점이 170℃ 이상 180℃ 미만인 1종 이상의 제1 고비점 용제(H1)와,1 or more types of 1st high boiling point solvents (H1) which have a boiling point in atmospheric pressure from 170 degreeC or more and less than 180 degreeC, 대기압에서의 비점이 180℃ 이상인 1종 이상의 제2 고비점 용제(H2)로 이루어지며,Consists of at least one second high boiling point solvent (H2) having a boiling point of at least 180 ℃ at atmospheric pressure, 상기 용제(S) 중의 상기 제1 고비점 용제(H1)의 비율이 60 중량% 이상인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition whose ratio of the said 1st high boiling point solvent (H1) in the said solvent (S) is 60 weight% or more. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 용제(S) 중의 상기 제2 고비점 용제(H2)의 비율이 0.1~10 중량%인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition whose ratio of the said 2nd high boiling point solvent (H2) in the said solvent (S) is 0.1-10 weight%. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제2 고비점 용제(H2)의 용해 파라미터가 8.7(cal/㎤)1/2 이상인 착색 감 광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition whose dissolution parameter of the said 2nd high boiling point solvent (H2) is 8.7 (cal / cm <3>) 1/2 or more. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 용제(S)의 평균 비점이 165℃ 이상인 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition whose average boiling point of the said solvent (S) is 165 degreeC or more. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 고비점 용제(H1)가 3-메톡시부틸아세테이트(MA), 디프로필렌글리콜디메틸에테르(DMM) 및 시클로헥산올아세테이트(CHXA) 중에서 선택되는 1종 이상이며,The first high boiling point solvent (H1) is at least one selected from 3-methoxybutyl acetate (MA), dipropylene glycol dimethyl ether (DMM) and cyclohexanol acetate (CHXA), 상기 제2 고비점 용제(H2)가 프로필렌글리콜디아세테이트(PGDA), 감마부티로락톤(GBL), 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(DPMA), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(EDGAC), 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트(BGDA) 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트(BDGAC) 중에서 선택되는 1종 이상인 착색 감광성 수지 조성물.The second high boiling point solvent (H2) is propylene glycol diacetate (PGDA), gamma butyrolactone (GBL), dipropylene glycol methyl ether acetate (DPMA), diethylene glycol monoethyl ether acetate (EDGAC), 1,3 The coloring photosensitive resin composition which is 1 or more types chosen from butylene glycol diacetate (BGDA) and diethylene glycol monobutyl ether acetate (BDGAC). 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 저비점 용제(L)가 시클로헥산온(AN) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 중에서 선택되는 1종 이상인 착색 감광성 수지 조성물.The said low boiling point solvent (L) is the coloring photosensitive resin composition which is 1 or more types chosen from cyclohexanone (AN) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 착색제(C)가 흑색 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition in which the said coloring agent (C) contains a black pigment. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 패턴을 가지는 컬러 필터.The color filter which has a pattern formed using the coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-7. 청구항 8에 기재된 컬러 필터를 가지는 액정 표시 디스플레이.The liquid crystal display which has a color filter of Claim 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8822127B2 (en) 2008-09-26 2014-09-02 Lg Chem, Ltd. Photosensitive resin composition for black matrix
JP2012078735A (en) * 2010-10-06 2012-04-19 Dainippon Printing Co Ltd Resin composition for forming color layer and resin composition for forming protection layer of color filter, and color filter
JP6009774B2 (en) * 2011-02-22 2016-10-19 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition, and color filter and display device using the same
JP5981159B2 (en) * 2011-02-22 2016-08-31 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition, and color filter and display device using the same
KR20130120394A (en) * 2012-04-25 2013-11-04 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition
JP6216133B2 (en) * 2013-03-25 2017-10-18 互応化学工業株式会社 Two-component mixed type main agent and curing agent, and method for producing printed wiring board
KR102480103B1 (en) * 2014-08-11 2022-12-21 제이에스알 가부시끼가이샤 Coloring composition, colored cured film, and solid-state imaging element
JP2016090797A (en) * 2014-11-05 2016-05-23 株式会社Adeka Curable composition
JP6785122B2 (en) * 2016-10-24 2020-11-18 東京応化工業株式会社 Method for forming a photosensitive composition and a cured film
KR102134633B1 (en) * 2016-11-25 2020-07-16 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
CN112415851B (en) * 2019-08-21 2022-03-25 常州强力先端电子材料有限公司 Photosensitive resin, photosensitive resin composition and application
KR102731672B1 (en) * 2021-05-25 2024-11-15 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, color filter and display device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4727344B2 (en) * 2005-06-09 2011-07-20 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition
JP4752556B2 (en) * 2005-09-22 2011-08-17 Jsr株式会社 Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter
JP4828275B2 (en) * 2006-03-30 2011-11-30 新日鐵化学株式会社 Light-shielding resin composition for color filter and color filter
JP5494479B2 (en) * 2008-04-25 2014-05-14 三菱化学株式会社 Ketoxime ester compounds and uses thereof

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