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KR20090072391A - LCD and its manufacturing method - Google Patents

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KR20090072391A
KR20090072391A KR1020070140486A KR20070140486A KR20090072391A KR 20090072391 A KR20090072391 A KR 20090072391A KR 1020070140486 A KR1020070140486 A KR 1020070140486A KR 20070140486 A KR20070140486 A KR 20070140486A KR 20090072391 A KR20090072391 A KR 20090072391A
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KR
South Korea
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substrate
color filter
black matrix
filter pattern
disposed
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Withdrawn
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KR1020070140486A
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Korean (ko)
Inventor
전용원
이재균
오재영
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 컬러필터 패턴 및 블랙매트릭스의 중첩으로 발생하는 단차부와 대응하여 쇼트방지 부재를 구비함에 따라, 전도성 이물질에 의한 화소전극과 공통전극간의 쇼트를 방지하며, 셀갭을 줄일 수 있어 불량 및 응답속도를 개선할 수 있는 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공함에 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and has a short prevention member corresponding to a step portion generated by overlapping a color filter pattern and a black matrix, thereby preventing a short between a pixel electrode and a common electrode due to a conductive foreign material, and preventing a cell gap. The present invention provides a liquid crystal display and a method of manufacturing the same, which can reduce the number of defects and improve the response speed.

Description

액정표시장치 및 이의 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}Liquid crystal display and its manufacturing method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

액정표시장치에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 이물질에 의한 불량을 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof capable of reducing defects caused by foreign substances.

오늘날, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device ; LCD)는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display) 소자로 각광받고 있다. Today, liquid crystal display devices (LCDs) are spotlighted as next generation advanced display devices with low power consumption, good portability, technology intensive, and high added value.

상기 액정표시장치는 박막트랜지스터 어레이 기판, 컬러필터 어레이 기판 및 상기 두 기판사이에 개재된 액정층을 포함한다. 이와 같은 액정표시장치는 상기 액정층의 액정에 전계를 인가하여 상기 액정의 광투과율을 조절함으로써, 다양한 영상을 표시할 수 있다.The liquid crystal display device includes a thin film transistor array substrate, a color filter array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. Such a liquid crystal display device may display various images by applying an electric field to the liquid crystal of the liquid crystal layer to adjust the light transmittance of the liquid crystal.

도 1은 종래 액정표시장치의 일부분을 확대한 단면도이다.1 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a conventional liquid crystal display.

도 1을 참조하면, 종래 액정표시장치는 서로 마주하는 컬러필터 어레이 기판 과 박막트랜지스터 어레이 기판 및 상기 컬러필터 어레이 기판과 상기 박막트랜지스터 어레이 기판사이에 액정층이 개재되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional liquid crystal display device includes a liquid crystal layer interposed between a color filter array substrate, a thin film transistor array substrate, and the color filter array substrate and the thin film transistor array substrate facing each other.

상기 박막트랜지스터 어레이 기판은 박막트랜지스터(Tr), 상기 박막트랜지스터(Tr)와 전기적으로 연결된 화소전극(8), 상기 화소전극(8)상에 배치된 배향막(9)을 포함할 수 있다.The thin film transistor array substrate may include a thin film transistor Tr, a pixel electrode 8 electrically connected to the thin film transistor Tr, and an alignment layer 9 disposed on the pixel electrode 8.

상기 컬러필터 어레이 기판은 기판(1)상에 배치된 블랙매트릭스(2), 컬러필터 패턴(3), 공통전극(5) 및 배향막(6)을 포함한다. 상기 블랙매트리스(2)는 개구를 가지며 기판(1)상에 배치되어 있다. 상기 컬러필터 패턴(3)은 상기 블랙매트릭스(2)와 일부 중첩되며 상기 개구에 배치되어 있다. 이때, 상기 블랙매트릭스(2)와 상기 컬러필터 패턴(3)의 중첩부가 돌출되어 있을 수 있다. The color filter array substrate includes a black matrix 2, a color filter pattern 3, a common electrode 5, and an alignment layer 6 disposed on the substrate 1. The black mattress 2 has an opening and is disposed on the substrate 1. The color filter pattern 3 partially overlaps the black matrix 2 and is disposed in the opening. In this case, an overlapping portion of the black matrix 2 and the color filter pattern 3 may protrude.

이와 같은 액정표시장치를 제조함에 있어, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 컬러필터 어레이 기판사이에 전도성 이물질(10)이 개재될 수 있다. 상기 전도성 이물질(10)에 의해 상기 공통전극(5)과 상기 화소전극(8)이 쇼트되어, 휘점 불량과 같은 화질 불량을 일으킬 수 있다.In manufacturing such a liquid crystal display device, a conductive foreign material 10 may be interposed between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate. The common electrode 5 and the pixel electrode 8 may be shorted by the conductive foreign material 10, resulting in poor image quality such as bright point defect.

이와 같은 쇼트불량을 방지하기 위해, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 컬러필터 어레이 기판은 일정한 셀갭을 가져야 한다. 여기서, 상기 블랙매트릭스(2)와 상기 컬러필터 패턴(3)의 중첩부가 다른 영역에 비해 돌출됨에 따라, 상기 중첩부에 대응한 셀갭은 다른 영역에 비해 작을 수 있다. 이로써, 상기 중첩부에 대응한 셀갭을 고려할 경우, 상기 쇼트불량을 방지하기 위해 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 상기 컬러필터 어레이 기판의 전체적인 셀갭은 더욱 커질 수 밖에 없다.In order to prevent such short defects, the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate should have a constant cell gap. Here, as the overlapping portion of the black matrix 2 and the color filter pattern 3 protrudes from other regions, the cell gap corresponding to the overlapping portion may be smaller than that of the other regions. Thus, in consideration of the cell gap corresponding to the overlapping portion, the overall cell gap of the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate may be further increased to prevent the short defect.

그러나, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 상기 컬러필터 어레이 기판의 전체적인 셀갭이 커질 경우, 상기 액정표시장치의 응답속도가 낮아질 수 있다. 또한, 상기 셀갭이 커질 경우, 상기 액정표시장치의 두께가 커지게 되므로, 오늘날 박형화의 추세와 역행하게 된다.However, when the overall cell gap of the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate increases, the response speed of the liquid crystal display may be lowered. In addition, when the cell gap is increased, the thickness of the liquid crystal display device is increased, thereby countering the trend of thinning today.

본 발명의 하나의 과제는 이물질에 의한 쇼트 불량을 방지할 수 있는 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공함에 있다.One object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can prevent a short defect caused by foreign matter.

본 발명의 다른 하나의 과제는 셀갭을 줄일 수 있는 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device which can reduce a cell gap.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 투과부와 차단부가 정의된 제 1 기판, 상기 차단부에 배치된 박막트랜지스터, 상기 투과부에 배치되며, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극, 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판, 상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 블랙 매트릭스, 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 컬러필터 패턴, 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 배치된 제 2 전극, 상기 차단부와 대응된 상기 제 2 전극상에 배치되어 상기 제 1 및 제 2 전극간의 쇼트를 방지하는 쇼트방지 부재, 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 개재된 액정층을 포함한다.In order to achieve the above technical problem, an aspect of the present invention provides a liquid crystal display device. The liquid crystal display includes a first substrate having a transmissive part and a blocking part, a thin film transistor disposed at the blocking part, a first electrode disposed at the transmissive part and electrically connected to the thin film transistor, and a second facing the first substrate. A substrate, a black matrix disposed on the second substrate corresponding to the blocking unit, at least a portion of the black matrix overlapping the black matrix, a color filter pattern disposed on the second substrate corresponding to the transmission unit, and the color filter pattern A second electrode disposed on a second substrate, a short preventing member disposed on the second electrode corresponding to the blocking part to prevent a short between the first and second electrodes, and the first and second And a liquid crystal layer interposed between the two electrodes.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 상기 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 투과부와 차단부가 정의된 제 1 및 제 2 기판을 각각 제공하는 단계, 상기 제 1 기판의 상기 차단부에 박막트랜지스터를 형성하는 단계, 상기 제 1 기판의 상기 투과부에 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극을 형성하는 단계, 상기 제 2 기판의 상기 차단부에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계, 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 제 2 기판의 상기 투과부상에 컬러필터 패턴을 형성하는 단계, 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 제 2 전극을 형성하는 단계, 상기 차단부와 대응된 상기 제 2 전극상에 상기 제 1 및 제 2 전극간의 쇼트를 방지하는 쇼트방지 부재를 형성하는 단계, 및 상기 제 1 및 제 2 전극이 마주하도록 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함한다.Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides a method for manufacturing the liquid crystal display device. The manufacturing method includes providing first and second substrates each having a transmissive part and a blocking part defined therein, forming a thin film transistor on the blocking part of the first substrate, and the thin film transistor on the transmissive part of the first substrate. Forming a first electrically connected electrode, forming a black matrix on the blocking portion of the second substrate, at least a portion of the black matrix overlapping the color matrix, and forming a color filter pattern on the transmission portion of the second substrate Forming a second electrode on a second substrate including the color filter pattern; preventing a short between the first and second electrodes on the second electrode corresponding to the blocking part; Forming a member, and bonding the first and second substrates so that the first and second electrodes face each other and forming a liquid crystal layer between the first and second electrodes. Steps.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 또 다른 일 측면은 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 투과부와 차단부가 정의된 제 1 기판, 상기 차단부에 배치된 박막트랜지스터, 상기 투과부에 배치되며, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극, 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판, 상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 블랙 매트릭스, 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 컬러필터 패턴, 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 배치된 제 2 전극, 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 개재된 액정층을 포함하며, Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides a liquid crystal display device. The liquid crystal display includes a first substrate having a transmissive part and a blocking part, a thin film transistor disposed at the blocking part, a first electrode disposed at the transmissive part and electrically connected to the thin film transistor, and a second facing the first substrate. A substrate, a black matrix disposed on the second substrate corresponding to the blocking unit, at least a portion of the black matrix overlapping the black matrix, a color filter pattern disposed on the second substrate corresponding to the transmission unit, and the color filter pattern A second electrode disposed on a second substrate, and a liquid crystal layer interposed between the first and second electrodes,

상기 블랙매트릭스와 중첩된 컬러필터 패턴은 상기 투과부에 배치된 컬러필터 패턴에 비해 작은 두께를 갖는 것을 특징으로 한다.The color filter pattern overlapping the black matrix may have a smaller thickness than the color filter pattern disposed on the transmission part.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 또 다른 일 측면은 상기 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 투과부와 차단부가 정의된 제 1 및 제 2 기판을 각각 제공하는 단계, 상기 제 1 기판의 상기 차단부에 박막트랜지스터를 형성하는 단계, 상기 제 1 기판의 상기 투과부에 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극을 형성하는 단계, 상기 제 2 기판의 상기 차단부에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계, 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 제 2 기판의 상기 투과부상에 컬러필터 패턴을 형성하는 단계, 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 제 2 전극을 형성하는 단계, 및 상기 제 1 및 제 2 전극이 마주하도록 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides a method of manufacturing the liquid crystal display device. The manufacturing method includes providing first and second substrates each having a transmissive part and a blocking part defined therein, forming a thin film transistor on the blocking part of the first substrate, and the thin film transistor on the transmissive part of the first substrate. Forming a first electrically connected electrode, forming a black matrix on the blocking portion of the second substrate, at least a portion of the black matrix overlapping the color matrix, and forming a color filter pattern on the transmission portion of the second substrate Forming a second electrode on the second substrate including the color filter pattern, and bonding the first and second substrates to each other so that the first and second electrodes face each other. Forming a liquid crystal layer between the two electrodes,

상기 블랙매트릭스와 중첩된 컬러필터 패턴은 상기 투과부에 배치된 컬러필터 패턴에 비해 작은 두께를 가지도록 형성한다.The color filter pattern overlapping the black matrix is formed to have a smaller thickness than the color filter pattern disposed on the transmission part.

본 발명의 액정표시장치는 쇼트방지 부재를 구비하여, 이물질에 의한 공통전극과 화소전극간의 쇼트 불량을 방지할 수 있으며, 이와 동시에 셀갭을 줄일 수 있 어 응답속도를 개선할 수 있다.The liquid crystal display of the present invention includes a short prevention member, thereby preventing short defects between the common electrode and the pixel electrode due to foreign matters, and simultaneously reducing the cell gap, thereby improving the response speed.

본 발명의 액정표시장치의 쇼트방지 부재는 셀갭 유지부를 포함하여, 별도의 스페이서를 구비하지 않아도 되므로, 공정 수를 저감하며 공정 단가를 낮출 수 있다.Since the short prevention member of the liquid crystal display device of the present invention does not need to include a separate spacer including a cell gap holding part, the number of steps can be reduced and the unit cost can be reduced.

본 발명의 액정표시장치는 블랙매트릭스와 중첩되는 컬러필터의 두께를 줄여, 이물질에 의한 공통전극과 화소전극간의 쇼트불량을 방지할 수 있으며, 이와 동시에 셀갭을 줄일 수 있다.The liquid crystal display of the present invention can reduce the thickness of the color filter overlapping the black matrix, thereby preventing short defects between the common electrode and the pixel electrode due to foreign matters, and at the same time reducing the cell gap.

이하, 본 발명의 실시예들은 액정표시장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings of the liquid crystal display. The following embodiments are provided as examples to sufficiently convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like numbers refer to like elements throughout.

도 2 및 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치를 설명하기 위해 도시한 도면들이다.2 and 3 are diagrams for explaining a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치에 구비된 다수의 화소들 중 서로 인접한 두 화소를 확대하여 도시한 평면도이다.2 is an enlarged plan view illustrating two adjacent pixels among a plurality of pixels included in the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치는 서로 마주하는 제 1 및 제 2 기판(100, 200), 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)사이에 개재된 액정층(260)을 포함한다.2 and 3, a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention includes a first and second substrates 100 and 200 facing each other and between the first and second substrates 100 and 200. The liquid crystal layer 260 is interposed therebetween.

상기 제 1 기판(100)은 광을 투과하는 투과부와 광을 차단하는 차단부가 정의되어 있을 수 있다. 상기 제 1 기판(100)의 차단부에 다수의 배선, 예컨대 게이트 배선, 데이터 배선등과 박막트랜지스터(Tr)가 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 기판(100)의 투과부에 상기 박막트랜지스터(Tr)와 전기적으로 연결된 화소전극(130)이 배치될 수 있다.The first substrate 100 may have a transmission portion that transmits light and a blocking portion that blocks light. A plurality of wires, for example, gate wires, data wires, and the like, and the thin film transistor Tr may be disposed in the blocking portion of the first substrate 100. In addition, the pixel electrode 130 electrically connected to the thin film transistor Tr may be disposed in the transmission portion of the first substrate 100.

자세하게, 상기 제 1 기판(100)상에 제 1 방향으로 배열된 다수의 게이트 배선(101)들이 배치되어 있다. 상기 다수의 게이트 배선(101)들의 각 끝단은 게이트 패드부(미도시함)과 전기적으로 연결되어 있다. 상기 게이트 패드부는 외부 구동회로부로부터 제공된 게이트 신호를 상기 게이트 배선(101)으로 인가하고, 상기 게이트 배선(101)은 상기 게이트 신호를 후술 될 박막트랜지스터(Tr)에 인가하여, 상기 박막트랜지스터(Tr)를 온(on)시킬 수 있다. In detail, a plurality of gate lines 101 arranged in the first direction are disposed on the first substrate 100. Each end of the plurality of gate wires 101 is electrically connected to a gate pad part (not shown). The gate pad unit applies a gate signal provided from an external driving circuit unit to the gate wiring 101, and the gate wiring 101 applies the gate signal to a thin film transistor Tr, which will be described later, and the thin film transistor Tr. Can be turned on.

상기 제 1 기판(100)상에 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배열된 다수의 데이터 배선(102)들이 배치되어 있다. 상기 다수의 게이트 배선(101)들과 상기 다수의 데이터 배선(102)들의 교차에 의해, 상기 제 1 기판(100)은 다수의 화소들이 정의된다. 상기 다수의 데이터 배선(102)들의 각 끝단은 데이터 패드부(미도시함)과 전기적으로 연결되어 있다. 상기 데이터 패드부는 외구 구동회로부로부터 상기 데이터 배선(102)에 데이터 신호를 인가하고, 상기 데이터 배선(102)은 상 기 게이트 신호가 인가되어 온(on)된 박막트랜지스터(Tr)에 상기 데이터 신호를 인가한다.A plurality of data lines 102 arranged in the second direction crossing the first direction are disposed on the first substrate 100. By the intersection of the plurality of gate lines 101 and the plurality of data lines 102, the first substrate 100 defines a plurality of pixels. Each end of the plurality of data lines 102 is electrically connected to a data pad unit (not shown). The data pad unit applies a data signal to the data line 102 from an external driving circuit unit, and the data line 102 transmits the data signal to the thin film transistor Tr on which the gate signal is applied. Is authorized.

상기 게이트 배선(101)과 상기 데이터 배선(102)은 그 사이에 개재된 게이트 절연막(110)에 의해 서로 절연된다. 상기 게이트 절연막(110)은 산화실리콘 또는 질화실리콘으로 이루어질 수 있다.The gate wiring 101 and the data wiring 102 are insulated from each other by the gate insulating film 110 interposed therebetween. The gate insulating layer 110 may be made of silicon oxide or silicon nitride.

상기 각 화소에는 박막트랜지스터(Tr) 및 상기 박막트랜지스터(Tr)와 전기적으로 연결된 화소전극(130)이 배치되어 있다. 상기 박막트랜지스터(Tr)는 상기 게이트 배선(101)의 게이트 신호에 의해 온(on) 되어, 상기 데이터 배선(102)으로부터 인가된 데이터 신호에 의해 상기 화소전극(130)에 화소전압을 인가한다.Each pixel includes a thin film transistor Tr and a pixel electrode 130 electrically connected to the thin film transistor Tr. The thin film transistor Tr is turned on by the gate signal of the gate line 101 and applies a pixel voltage to the pixel electrode 130 by a data signal applied from the data line 102.

상기 박막트랜지스터(Tr)는 상기 게이트 배선(101)으로부터 분기된 게이트 전극(111), 게이트 절연막(110)을 사이에 두고 상기 게이트 전극(111)과 중첩된 반도체 패턴(121, 131), 상기 반도체 패턴(121, 131)상에 배치되며 상기 데이터 배선(102)과 전기적으로 연결된 소스전극(141), 상기 반도체 패턴(121, 131)상에 배치되며 상기 소스전극(141)과 이격된 드레인 전극(151)을 포함한다. The thin film transistor Tr includes the semiconductor electrodes 121 and 131 overlapping the gate electrode 111 with the gate electrode 111 branched from the gate wiring 101, the gate insulating layer 110 interposed therebetween, and the semiconductor. Source electrodes 141 disposed on the patterns 121 and 131 and electrically connected to the data lines 102, and drain electrodes disposed on the semiconductor patterns 121 and 131 and spaced apart from the source electrodes 141. 151).

상기 반도체 패턴(121, 131)은 제 1 및 제 2 반도체 패턴(121, 131)을 포함한다. 상기 제 1 반도체 패턴(121)은 비정질 실리콘으로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 제 1 반도체 패턴(121)은 상기 소스전극(141)과 상기 드레인 전극(151)사이와 대응된 채널을 구비한다. 상기 제 2 반도체 패턴(131)은 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어질 수 있다. 상기 제 2 반도체 패턴(131)은 상기 제 2 반도체 패턴(131)과 금속 전극, 즉, 상기 소스전극(141)과 상기 드레인 전극(151)사이의 오 믹 콘택을 형성시킨다.The semiconductor patterns 121 and 131 include first and second semiconductor patterns 121 and 131. The first semiconductor pattern 121 may be made of amorphous silicon. In addition, the first semiconductor pattern 121 has a channel corresponding to between the source electrode 141 and the drain electrode 151. The second semiconductor pattern 131 may be formed of amorphous silicon doped with impurities. The second semiconductor pattern 131 forms an ohmic contact between the second semiconductor pattern 131 and the metal electrode, that is, the source electrode 141 and the drain electrode 151.

상기 박막트랜지스터(Tr)과 상기 화소전극(130)은 사이에 개재된 보호막(120)에 의해 서로 절연된다. 상기 보호막(120)은 상기 박막트랜지스터(Tr)에 구비된 드레인 전극(151)의 일부를 노출하는 콘택홀을 구비하며, 상기 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터(Tr)과 상기 화소전극(130)은 서로 전기적으로 연결될 수 있다.The thin film transistor Tr and the pixel electrode 130 are insulated from each other by the passivation layer 120 interposed therebetween. The passivation layer 120 includes a contact hole exposing a portion of the drain electrode 151 provided in the thin film transistor Tr, and the thin film transistor Tr and the pixel electrode 130 are formed through the contact hole. It can be electrically connected to each other.

한편, 상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판(200)상에 광 누설을 방지하기 위해 블랙매트릭스(210)가 배치되어 있다. 즉, 상기 블랙매트릭스(210)는 상기 데이터 배선(102), 상기 게이트 배선(101) 및 상기 박막트랜지스터(Tr)와 대응될 수 있다. 또한, 상기 블랙매트릭스(210)는 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판(200)을 노출하는 개구를 가질 수 있다.Meanwhile, a black matrix 210 is disposed on the second substrate 200 corresponding to the blocking unit to prevent light leakage. That is, the black matrix 210 may correspond to the data line 102, the gate line 101, and the thin film transistor Tr. In addition, the black matrix 210 may have an opening exposing the second substrate 200 corresponding to the transmission part.

상기 투과부의 상기 제 2 기판상에 특정한 파장을 필터링하는 컬러필터 패턴(220)이 배치되어 있다. 상기 컬러필터 패턴(220)의 에지부는 상기 블랙매트릭스(210)와 중첩될 수 있다. 이때, 상기 에지부는 상기 블랙매트릭스(210)에 의해 자연적으로 돌출될 수 있다. 즉, 상기 컬러필터 패턴(220)은 상기 블랙매트릭스(210)에 의해 단차부를 가질 수 있다.A color filter pattern 220 for filtering a specific wavelength is disposed on the second substrate of the transmission part. An edge portion of the color filter pattern 220 may overlap the black matrix 210. In this case, the edge portion may naturally protrude by the black matrix 210. That is, the color filter pattern 220 may have a stepped portion by the black matrix 210.

상기 블랙매트릭스(210) 및 컬러필터 패턴(220)을 포함하는 제 2 기판(200)의 전체면에 공통전극(230)이 배치되어 있다. 상기 공통전극(230)은 투명한 도전 재질, 예컨대 ITO 또는 IZO로 이루어질 수 있다.The common electrode 230 is disposed on the entire surface of the second substrate 200 including the black matrix 210 and the color filter pattern 220. The common electrode 230 may be made of a transparent conductive material, for example, ITO or IZO.

상기 차단부와 대응된 상기 공통전극(230)상에 쇼트방지 부재(240)가 배치되 어 있다. 상기 쇼트방지 부재(240)는 상기 블랙매트릭스(210)와 상기 컬러필터 패턴(220)의 중첩에 의해 돌출된 영역, 즉 상기 컬러필터 패턴(220)의 단차부상에 배치될 수 있다. 상기 쇼트방지 부재(240)는 상기 화소전극(130)과 상기 공통전극(230)간의 쇼트를 방지하는 역할을 한다. 상기 쇼트방지 부재(240)는 절연물질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 쇼트방지 부재(240)를 형성하는 재질은 아크릴계 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아릴에테르 수지, 헤테로사이클릭 폴리머 수지, 파릴렌 수지, 벤조사이클로부틴계 수지, 폴리아크릴리니트릴 수지등일 수 있다.The short prevention member 240 is disposed on the common electrode 230 corresponding to the blocking unit. The short prevention member 240 may be disposed on an area protruded by the overlap of the black matrix 210 and the color filter pattern 220, that is, on the stepped portion of the color filter pattern 220. The short prevention member 240 serves to prevent a short between the pixel electrode 130 and the common electrode 230. The short prevention member 240 may be made of an insulating material. For example, the material for forming the short prevention member 240 may be acrylic resin, polystyrene resin, polyamide resin, polyimide resin, polyarylether resin, heterocyclic polymer resin, parylene resin, benzocyclobutyne resin, poly Acrylonitrile resin and the like.

상기 쇼트방지 부재(240)는 그 일부가 돌출된 셀갭 유지부(250)를 포함할 수 있다. 상기 셀갭 유지부(250)는 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)간의 셀갭을 일정하게 유지하는 역할을 한다. The short prevention member 240 may include a cell gap holding part 250 protruding from a part thereof. The cell gap maintaining part 250 serves to maintain a constant cell gap between the first and second substrates 100 and 200.

이에 따라, 적어도 다른 영역에 비해 작은 셀갭을 갖는 영역, 즉 컬러필터 패턴(220)과 블랙매트릭스(210)의 중첩영역에 쇼트방지 부재(240)를 구비함에 따라, 상기 셀갭 내에 전도성 이물질이 배치되어도 상기 전도성 이물질에 의해 화소전극(130)과 공통전극(230)이 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)간의 셀갭을 감소시킬지라도, 상기 쇼트방지 부재(240)에 의해 상기 화소전극(130)과 공통전극(230)의 쇼트 불량을 방지할 수 있다. 다시 말해, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 쇼트방지 부재(240)를 구비함에 따라, 화소전극(130)과 공통전극(230)의 쇼트 불량을 방지하며, 이와 동시에 제 1 및제 2 기판(100, 200)간의 셀 갭을 감소시킬 수 있다. 이로써, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 휘점 불량을 방지함과 더불어 응답 속도를 향상시킬 수 있다.Accordingly, since the short prevention member 240 is disposed in an area having a smaller cell gap than at least another area, that is, an overlapping area of the color filter pattern 220 and the black matrix 210, even if conductive foreign matter is disposed in the cell gap. It is possible to prevent the pixel electrode 130 and the common electrode 230 from being shorted by the conductive foreign material. Accordingly, even if the cell gap between the first and second substrates 100 and 200 is reduced, the short failure of the pixel electrode 130 and the common electrode 230 can be prevented by the short prevention member 240. have. In other words, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes the short prevention member 240, thereby preventing short defects between the pixel electrode 130 and the common electrode 230, and at the same time, the first and second substrates. It is possible to reduce the cell gap between (100, 200). As a result, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention can prevent bright spots and improve response speed.

도 3에 도시되지 않았으나, 설명하지 않은 참조번호 122와 132는 각각 더미 제 1 및 제 2 반도체 패턴일 수 있다. 상기 더미 제 1 및 제 2 반도체 패턴이 상기 데이터 배선(102)하부에 배치되는 것은 상기 데이터 배선(102)과 상기 제 1 및 제 2 반도체 패턴(121, 131)은 동일한 마스크를 사용하여 형성될 수 있기 때문이다.Although not illustrated in FIG. 3, reference numerals 122 and 132, which are not described, may be dummy first and second semiconductor patterns, respectively. The dummy first and second semiconductor patterns may be disposed under the data line 102. The data line 102 and the first and second semiconductor patterns 121 and 131 may be formed using the same mask. Because there is.

도 4 내지 도 8들은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.4 to 8 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 액정표시장치를 제조하기 위해, 먼저 차단부와 투과부가 정의된 제 1 기판(100)을 제공한다. 상기 차단부에 다수의 배선, 예컨대 게이트 배선 및 데이터 배선과 박막트랜지스터(Tr)를 형성한다. 상기 박막트랜지스터(Tr)는 게이트 전극(111), 게이트 절연막(110), 반도체 패턴(121, 131), 소스 및 드레인 전극(141, 151)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, to manufacture a liquid crystal display, first, a first substrate 100 having a blocking portion and a transmission portion defined therein is provided. A plurality of wires, for example, gate wires, data wires, and thin film transistors Tr are formed in the blocking unit. The thin film transistor Tr may include a gate electrode 111, a gate insulating layer 110, semiconductor patterns 121 and 131, and source and drain electrodes 141 and 151.

상기 다수의 배선 및 박막트랜지스터(Tr)를 포함하는 제 1 기판(100)상에 보호막(120)을 형성한다. 상기 보호막(120)은 산화실리콘 또는 질화실리콘으로 형성할 수 있다. 상기 보호막(120)은 상기 드레인 전극(151)을 노출하는 콘택홀을 구비한다.The passivation layer 120 is formed on the first substrate 100 including the plurality of wirings and the thin film transistor Tr. The passivation layer 120 may be formed of silicon oxide or silicon nitride. The passivation layer 120 includes a contact hole exposing the drain electrode 151.

상기 투과부와 대응된 상기 보호막(120)상에 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극(151)과 전기적으로 연결된 화소전극(130)을 형성한다. 상기 화소전극(130)은 포토공정을 통해 형성할 수 있다. 상기 화소전극(130)을 형성하는 재질의 예로 서는 ITO 또는 IZO일 수 있다. The pixel electrode 130 is electrically connected to the drain electrode 151 through the contact hole on the passivation layer 120 corresponding to the transmission part. The pixel electrode 130 may be formed through a photo process. An example of a material for forming the pixel electrode 130 may be ITO or IZO.

도 5를 참조하면, 상기 제 1 기판(100)과 별도로 차단부와 투과부가 정의된 제 2 기판(200)을 제공한다.Referring to FIG. 5, a second substrate 200 in which a blocking part and a transmission part are defined separately from the first substrate 100 is provided.

상기 차단부에 블랙매트릭스(210)를 형성한다. 상기 블랙매트릭스(210)는 상기 제 2 기판(200)상에 블랙 수지막을 형성한 후, 상기 블랙 수지막을 노광 및 현상하여 형성할 수 있다. 이와 달리, 상기 블랙매트릭스(210)가 크롬과 같은 무기물질로 형성될 경우, 상기 블랙매트릭스(210)는 포토 공정을 통해 형성할 수 있다.The black matrix 210 is formed in the blocking unit. The black matrix 210 may be formed by exposing and developing the black resin film after forming a black resin film on the second substrate 200. In contrast, when the black matrix 210 is formed of an inorganic material such as chromium, the black matrix 210 may be formed through a photo process.

상기 블랙매트릭스(210)를 포함하는 제 2 기판(200)상에 컬러필터 수지막을 형성한 후, 노광 및 현상 공정을 수행하여 컬러필터 패턴(220)을 형성한다. 상기 컬러필터 패턴(220)은 상기 투과부상에 형성되며, 그 중 일부는 상기 블랙매트릭스(210)와 중첩되도록 형성될 수 있다.After the color filter resin film is formed on the second substrate 200 including the black matrix 210, the color filter pattern 220 is formed by performing exposure and development processes. The color filter pattern 220 may be formed on the transmission part, and a part of the color filter pattern 220 may be formed to overlap the black matrix 210.

상기 블랙매트릭스(210) 및 상기 컬러필터 패턴(220)을 포함하는 제 2 기판(200)상에 공통전극(230)을 형성한다. 상기 공통전극(230)은 투명한 도전막, 예컨대 ITO 또는 IZO로 형성할 수 있다.The common electrode 230 is formed on the second substrate 200 including the black matrix 210 and the color filter pattern 220. The common electrode 230 may be formed of a transparent conductive film, for example, ITO or IZO.

도 6을 참조하면, 상기 공통전극(230)을 포함하는 제 2 기판(200)상에 쇼트방지층(240a)을 형성한다. 상기 쇼트 방지층(240a)은 절연물질로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 6, a short prevention layer 240a is formed on the second substrate 200 including the common electrode 230. The short prevention layer 240a may be formed of an insulating material.

상기 절연물질의 예로서는 아크릴계 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아릴에테르 수지, 헤테로사이클릭 폴리머 수지, 파릴렌 수지, 벤조사이클로부틴계 수지, 폴리아크릴리니트릴 수지등일 수 있다.Examples of the insulating material may be an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyarylether resin, a heterocyclic polymer resin, a parylene resin, a benzocyclobutyne resin, a polyacrylonitrile resin, or the like.

상기 쇼트방지층(240a)은 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 잉크 젯 프린팅법등을 통해 형성할 수 있다.The short prevention layer 240a may be formed by spray coating, spin coating, slit coating, ink jet printing, or the like.

상기 쇼트방지층(240a)상에 투과영역(M1), 반투과영역(M2) 및 차단영역(M3)을 갖는 마스크(M)를 얼라인한 후, 노광 공정을 수행한다. 예컨대, 상기 마스크(M)는 하프톤 마스크 또는 회절 마스크일 수 있다. 여기서, 상기 반투과영역(M2) 및 차단영역(M3)은 상기 제 2 기판(200)의 차단부와 대응될 수 있다.After the mask M having the transmissive region M1, the transflective region M2, and the blocking region M3 is aligned on the short prevention layer 240a, an exposure process is performed. For example, the mask M may be a halftone mask or a diffraction mask. The transflective region M2 and the blocking region M3 may correspond to the blocking portion of the second substrate 200.

도 7을 참조하면, 상기 노광된 쇼트방지층을 현상하여, 셀갭 유지부(250)를 포함하는 쇼트방지 부재(240)를 형성할 수 있다. 예컨대, 상기 쇼트방지 부재(240)는 상기 반투과영역(M2)과 대응된 영역일 수 있으며, 상기 셀갭 유지부(250)는 상기 차단영역(M3)과 대응된 영역일 수 있다. 즉, 상기 셀갭 유지부(250)를 포함하는 쇼트방지 부재(240)는 투과부를 노출할 수 있다. Referring to FIG. 7, the exposed short prevention layer may be developed to form a short prevention member 240 including a cell gap holding part 250. For example, the short prevention member 240 may be an area corresponding to the transflective area M2, and the cell gap maintaining part 250 may be an area corresponding to the blocking area M3. That is, the short prevention member 240 including the cell gap maintaining part 250 may expose the transmission part.

상기 쇼트방지 부재(240)는 상기 제 2 기판(200)의 차단부, 즉 상기 블랙매트릭스(210)와 대응될 수 있다. The short prevention member 240 may correspond to a blocking portion of the second substrate 200, that is, the black matrix 210.

도 8을 참조하면, 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)을 서로 마주하도록 합착 및 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)사이에 액정층(260)을 형성하는 공정을 수행하여, 액정표시장치를 제조할 수 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)은 상기 셀갭 유지부(250)에 의해 셀갭을 안정적으로 유지할 수 있다.Referring to FIG. 8, bonding the first and second substrates 100 and 200 to face each other and forming a liquid crystal layer 260 between the first and second substrates 100 and 200 may be performed. A liquid crystal display device can be manufactured. In this case, the first and second substrates 100 and 200 may stably maintain the cell gap by the cell gap holding part 250.

따라서, 본 발명의 실시예에서 상기 셀갭 유지부(250)와 상기 쇼트방지 부재(240)를 동시에 형성할 수 있어, 공정 수를 절감하며 공정 단가를 낮출 수 있다.Therefore, in the embodiment of the present invention, the cell gap maintaining part 250 and the short prevention member 240 may be formed at the same time, thereby reducing the number of processes and lowering the process cost.

도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다. 여기서, 본 발명의 제 2 실시예는 컬러필터 패턴 및 쇼트방지 부재를 제외하고 앞서 설명한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치와 동일한 구성을 가진다. 따라서, 본 발명의 제 2 실시예는 본 발명의 제 1 실시예와 반복되는 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여한다.9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention. Here, the second embodiment of the present invention has the same configuration as the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention described above except for the color filter pattern and the short prevention member. Therefore, the second embodiment of the present invention will not be repeated with the first embodiment of the present invention, and the same reference numerals are assigned to the same components.

도 9를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치는 서로 마주하는 제 1 및 제 2 기판(100, 300), 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 300)사이에 개재된 액정층(260)을 포함한다.Referring to FIG. 9, the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention may be interposed between the first and second substrates 100 and 300 and the first and second substrates 100 and 300 facing each other. The liquid crystal layer 260 is included.

상기 제 1 기판(100)은 투과부와 차단부를 구비한다. 상기 차단부에 다수의 배선 및 박막트랜지스터(Tr)가 배치되어 있다. 상기 투과부에 상기 박막트랜지스터(Tr)와 전기적으로 연결된 화소전극(130)이 배치되어 있다.The first substrate 100 includes a transmission portion and a blocking portion. A plurality of wirings and thin film transistors Tr are disposed in the blocking unit. The pixel electrode 130 electrically connected to the thin film transistor Tr is disposed in the transmission part.

상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판(200)상에 블랙매트릭스(310)가 배치되어 있다. 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판(200)상에 컬러필터 패턴(320)이 배치되어 있다. 상기 컬러필터 패턴(320)은 상기 블랙매트릭스(330)와 적어도 일부가 중첩될 수 있다.The black matrix 310 is disposed on the second substrate 200 corresponding to the blocking unit. The color filter pattern 320 is disposed on the second substrate 200 corresponding to the transmission part. At least a portion of the color filter pattern 320 may overlap the black matrix 330.

상기 블랙매트릭스(310)와 중첩된 컬러필터 패턴(320)의 두께(h2)는 상기 투과부에 배치된 컬러필터 패턴(320)의 두께(h1)에 비해 작을 수 있다. 이로써, 상기 블랙매트릭스(310)와 중첩된 컬러필터 패턴(320)의 단차가 균일해지거나 작아질 수 있어, 상기 블랙매트릭스(310)와 상기 컬러필터 패턴(320)의 중첩부에서 전도성 이물질에 의해 화소전극(130)과 후술될 공통전극(330)이 쇼트되는 것을 방지할 수 있다.The thickness h2 of the color filter pattern 320 overlapping the black matrix 310 may be smaller than the thickness h1 of the color filter pattern 320 disposed on the transmission part. As a result, the step of the color filter pattern 320 overlapped with the black matrix 310 may become uniform or smaller, so that the conductive material is overlapped at the overlapping portion of the black matrix 310 and the color filter pattern 320. It is possible to prevent the pixel electrode 130 and the common electrode 330 to be described later from shorting.

상기 블랙매트릭스(310) 및 컬러필터 패턴(320)을 포함하는 제 2 기판(200)상에 공통전극(330)이 배치되어 있다.The common electrode 330 is disposed on the second substrate 200 including the black matrix 310 and the color filter pattern 320.

또한, 상기 공통전극(330)상에 셀갭 유지 부재(340)가 더 배치될 수 있다. 상기 셀갭 유지 부재(340)는 상기 블랙매트릭스(310)와 대응된 영역에 배치될 수 있다. 즉, 상기 셀갭 유지 부재(340)는 게이트 배선(101), 데이터 배선(102) 및 박막트랜지스터(Tr) 중 적어도 어느 하나와 대응될 수 있다.In addition, a cell gap retaining member 340 may be further disposed on the common electrode 330. The cell gap maintaining member 340 may be disposed in an area corresponding to the black matrix 310. That is, the cell gap holding member 340 may correspond to at least one of the gate wiring 101, the data wiring 102, and the thin film transistor Tr.

따라서, 본 발명의 실시예에 상기 블랙매트릭스(310)와 상기 컬러필터 패턴(320)의 중첩에 의해 형성된 단차가 제거 또는 감소됨에 따라, 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)의 셀갭을 감소시킬지라도 전도성 이물질에 의해 공통전극(330) 및 화소전극(130)간의 쇼트 불량을 감소시킬 수 있다.Thus, as the step formed by the overlap of the black matrix 310 and the color filter pattern 320 is removed or reduced in the embodiment of the present invention, the cell gaps of the first and second substrates 100 and 200 are reduced. Even if it is reduced, short defects between the common electrode 330 and the pixel electrode 130 may be reduced by the conductive foreign matter.

도 10 내지 도 13들은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다. 여기서, 본 발명의 제 2 실시예의 제조 방법은 컬러필터 패턴 및 쇼트방지 부재를 제외하고 앞서 설명한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법과 동일하다. 따라서, 본 발명의 제 2 실시예의 제조 방법은 본 발명의 제 1 실시예의 제조 방법과 반복되는 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여한다.10 to 13 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. Here, the manufacturing method of the second embodiment of the present invention is the same as the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention described above except for the color filter pattern and the short prevention member. Therefore, in the manufacturing method of the second embodiment of the present invention, repeated description of the manufacturing method of the first embodiment of the present invention will be omitted, and the same reference numerals are assigned to the same configurations.

도 10을 참조하면, 액정표시장치를 제조하기 위해 차단부와 투과부가 정의된 제 2 기판(200)을 제공한다. 상기 차단부에 블랙매트릭스(310)를 형성한다. 상기 블랙매트릭스(310)를 포함하는 제 2 기판(200)상에 컬러필터 수지막(320a)을 형성 한다. 상기 컬러필터 수지막(320a)은 상기 블랙매트릭스(310)에 의해 단차를 가질 수 있다.Referring to FIG. 10, a second substrate 200 having a blocking portion and a transmission portion defined therein for manufacturing a liquid crystal display is provided. The black matrix 310 is formed in the blocking unit. The color filter resin film 320a is formed on the second substrate 200 including the black matrix 310. The color filter resin film 320a may have a step due to the black matrix 310.

상기 컬러필터 수지막(320a)상에 마스크를 얼라인한다. 상기 마스크(M)는 투과영역(M1), 반투과영역(M2) 및 차단영역(M3)을 갖는 마스크(M)를 얼라인한 후, 노광 공정을 수행한다. 예컨대, 상기 마스크(M)는 하프톤 마스크 또는 회절 마스크일 수 있다. 여기서, 상기 차단영역(M3)은 상기 제 2 기판(200)의 투과부와 대응될 수 있다. 또한, 상기 반투과영역(M2)은 상기 블랙매트릭스(310)와 중첩될 영역과 대응될 수 있다.The mask is aligned on the color filter resin film 320a. The mask M aligns the mask M having the transmissive region M1, the transflective region M2, and the blocking region M3, and then performs an exposure process. For example, the mask M may be a halftone mask or a diffraction mask. The blocking region M3 may correspond to the transmissive portion of the second substrate 200. In addition, the transflective area M2 may correspond to an area to overlap with the black matrix 310.

도 11을 참조하면, 노광된 컬러필터 수지막을 현상하여, 제 1 컬러필터 패턴(320R)을 형성한다. 이때, 상기 제 1 컬러필터 패턴(320R)은 상기 마스크(M)에 의해 상기 제 2 기판(200)의 투과부에 대응한 두께(h1)에 비해 상기 블랙매트릭스(310)와 중첩되는 영역의 두께(h2)가 작게 형성된다. 이로써, 상기 제 1 컬러필터 패턴(320R)은 상기 블랙매트릭스(310)에 의한 단차를 감소 및 제거할 수 있다.Referring to FIG. 11, the exposed color filter resin film is developed to form a first color filter pattern 320R. In this case, the first color filter pattern 320R has a thickness (T) of the region overlapping with the black matrix 310 compared to the thickness h1 corresponding to the transmissive portion of the second substrate 200 by the mask M. h2) is formed small. As a result, the first color filter pattern 320R may reduce and eliminate a step caused by the black matrix 310.

도 12를 참조하면, 상기 제 1 컬러필터 패턴(320R)을 형성하는 것과 같이 제 2 및 제 3 컬러필터 패턴(320G, 320B)을 형성한다. 이로써, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 컬러필터 패턴(320R, 320G, 320B)는 단차가 감소되거나 제거될 수 있다.Referring to FIG. 12, the second and third color filter patterns 320G and 320B are formed as the first color filter pattern 320R is formed. As a result, the steps of the first, second and third color filter patterns 320R, 320G, and 320B may be reduced or eliminated.

이후, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 컬러필터 패턴(320R, 320G, 320B)를 포함하는 제 2 기판상에 공통전극(330) 및 셀갭 유지부재(340)를 형성한다.Thereafter, the common electrode 330 and the cell gap retaining member 340 are formed on the second substrate including the first, second and third color filter patterns 320R, 320G, and 320B.

도 13을 참조하면, 박막트랜지스터(Tr) 및 화소전극(130)이 형성된 제 1 기판(100)을 상기 제 2 기판(300)에 합착 및 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 300)사이 에 액정층(260)을 형성하는 공정을 수행하여, 액정표시장치를 제조할 수 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 기판(100, 200)은 상기 셀갭 유지부재(340)에 의해 셀갭을 안정적으로 유지할 수 있다.Referring to FIG. 13, the first substrate 100 having the thin film transistor Tr and the pixel electrode 130 is bonded to the second substrate 300 and between the first and second substrates 100 and 300. The liquid crystal display device may be manufactured by performing the process of forming the liquid crystal layer 260. In this case, the first and second substrates 100 and 200 may stably maintain the cell gap by the cell gap holding member 340.

따라서, 본 발명의 실시예에서 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용하여, 블랙매트릭스(310)에 의한 컬러필터 패턴(320R, 320G, 320B)의 단차를 제거함에 따라, 화소전극(130)과 공통전극(230)의 쇼트 불량을 방지하며, 이에 더하여 셀 갭을 줄일 수 있어, 응답속도등을 개선할 수 있다.Therefore, the pixel electrode 130 and the common electrode are removed by removing the step difference between the color filter patterns 320R, 320G, and 320B by the black matrix 310 using the halftone mask or the diffraction mask in the exemplary embodiment of the present invention. The short defect of 230 may be prevented, and in addition, the cell gap may be reduced, thereby improving response speed and the like.

도 1은 종래 액정표시장치의 일부분을 확대한 단면도이다.1 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a conventional liquid crystal display.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치에 구비된 다수의 화소들 중 서로 인접한 두 화소를 확대하여 도시한 평면도이다.2 is an enlarged plan view illustrating two adjacent pixels among a plurality of pixels included in the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.

도 4 내지 도 8들은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.4 to 8 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다. 9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.

도 10 내지 도 13들은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다. 10 to 13 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

(도면의 주요 부분에 대한 참조 부호의 설명) (Explanation of reference numerals for the main parts of the drawings)

100 : 제 1 기판 101 : 게이트 배선 100: first substrate 101: gate wiring

102 : 데이터 배선 110 : 게이트 절연막 102: data wiring 110: gate insulating film

120 : 보호막 130 : 화소전극 120: protective film 130: pixel electrode

200, 300 : 제 2 기판 210, 310 : 블랙매트릭스 200, 300: second substrate 210, 310: black matrix

220, 320 : 컬러필터 패턴 230, 330 : 공통전극 220, 320: color filter pattern 230, 330: common electrode

240 : 쇼트방지 부재 250 : 셀갭 유지부 240: short prevention member 250: cell gap holding part

350 : 셀갭 유지 부재 350: cell gap holding member

Claims (9)

투과부와 차단부가 정의된 제 1 기판;A first substrate having a transmission portion and a blocking portion defined therein; 상기 차단부에 배치된 박막트랜지스터;A thin film transistor disposed in the blocking unit; 상기 투과부에 배치되며, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극;A first electrode disposed in the transmission part and electrically connected to the thin film transistor; 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판;A second substrate facing the first substrate; 상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 블랙 매트릭스;A black matrix disposed on the second substrate corresponding to the blocking portion; 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 컬러필터 패턴;A color filter pattern overlapping at least a portion of the black matrix and disposed on the second substrate corresponding to the transmission part; 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 배치된 제 2 전극; A second electrode disposed on a second substrate including the color filter pattern; 상기 차단부와 대응된 상기 제 2 전극상에 배치되어 상기 제 1 및 제 2 전극간의 쇼트를 방지하는 쇼트방지 부재; 및A short prevention member disposed on the second electrode corresponding to the blocking unit to prevent a short between the first and second electrodes; And 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 개재된 액정층을 포함하는 액정표시장치.And a liquid crystal layer interposed between the first and second electrodes. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 쇼트방지 부재는 그 일부가 돌출된 셀갭 유지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The short prevention member includes a cell gap retaining portion protruding from a portion thereof. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 쇼트방지 부재는 상기 블랙매트릭스과 대응되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the short prevention member corresponds to the black matrix. 투과부와 차단부가 정의된 제 1 및 제 2 기판을 각각 제공하는 단계;Providing first and second substrates each having a transmissive portion and a blocking portion defined therein; 상기 제 1 기판의 상기 차단부에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;Forming a thin film transistor on the blocking portion of the first substrate; 상기 제 1 기판의 상기 투과부에 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode electrically connected to the thin film transistor on the transmission portion of the first substrate; 상기 제 2 기판의 상기 차단부에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계;Forming a black matrix on the blocking portion of the second substrate; 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 제 2 기판의 상기 투과부상에 컬러필터 패턴을 형성하는 단계;Forming at least a portion of the black matrix and a color filter pattern on the transmission part of the second substrate; 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 제 2 전극을 형성하는 단계;Forming a second electrode on a second substrate including the color filter pattern; 상기 차단부와 대응된 상기 제 2 전극상에 상기 제 1 및 제 2 전극간의 쇼트를 방지하는 쇼트방지 부재를 형성하는 단계; 및Forming a short prevention member on the second electrode corresponding to the blocking part to prevent a short between the first and second electrodes; And 상기 제 1 및 제 2 전극이 마주하도록 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And bonding the first and second substrates so that the first and second electrodes face each other and forming a liquid crystal layer between the first and second electrodes. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 쇼트방지 부재를 형성하는 단계에서 상기 쇼트방지 부재의 일부가 돌출된 셀갭 유지부가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming a cell gap retaining portion protruding from a portion of the anti-short member in the forming of the anti-short member. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 쇼트방지 부재는 회절 마스크 또는 하프톤 마스크를 이용한 노광 및 현상 공정을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.The short prevention member is formed by performing an exposure and development process using a diffraction mask or a halftone mask. 투과부와 차단부가 정의된 제 1 기판;A first substrate having a transmission portion and a blocking portion defined therein; 상기 차단부에 배치된 박막트랜지스터;A thin film transistor disposed in the blocking unit; 상기 투과부에 배치되며, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극;A first electrode disposed in the transmission part and electrically connected to the thin film transistor; 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판;A second substrate facing the first substrate; 상기 차단부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 블랙 매트릭스;A black matrix disposed on the second substrate corresponding to the blocking portion; 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 투과부와 대응하는 상기 제 2 기판상에 배치된 컬러필터 패턴;A color filter pattern overlapping at least a portion of the black matrix and disposed on the second substrate corresponding to the transmission part; 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 배치된 제 2 전극; 및A second electrode disposed on a second substrate including the color filter pattern; And 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 개재된 액정층을 포함하며,A liquid crystal layer interposed between the first and second electrodes, 상기 블랙매트릭스와 중첩된 컬러필터 패턴은 상기 투과부에 배치된 컬러필터 패턴에 비해 작은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And a color filter pattern overlapping the black matrix has a smaller thickness than a color filter pattern disposed on the transmission part. 투과부와 차단부가 정의된 제 1 및 제 2 기판을 각각 제공하는 단계;Providing first and second substrates each having a transmissive portion and a blocking portion defined therein; 상기 제 1 기판의 상기 차단부에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;Forming a thin film transistor on the blocking portion of the first substrate; 상기 제 1 기판의 상기 투과부에 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 제 1 전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode electrically connected to the thin film transistor on the transmission portion of the first substrate; 상기 제 2 기판의 상기 차단부에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계;Forming a black matrix on the blocking portion of the second substrate; 상기 블랙매트릭스와 적어도 일부가 중첩되며, 상기 제 2 기판의 상기 투과부상에 컬러필터 패턴을 형성하는 단계;Forming at least a portion of the black matrix and a color filter pattern on the transmission part of the second substrate; 상기 컬러필터 패턴을 포함하는 제 2 기판상에 제 2 전극을 형성하는 단계;및Forming a second electrode on a second substrate including the color filter pattern; and 상기 제 1 및 제 2 전극이 마주하도록 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착 및 상기 제 1 및 제 2 전극사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,Bonding the first and second substrates so as to face the first and second electrodes and forming a liquid crystal layer between the first and second electrodes, 상기 블랙매트릭스와 중첩된 컬러필터 패턴은 상기 투과부에 배치된 컬러필터 패턴에 비해 작은 두께를 가지도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And a color filter pattern overlapping the black matrix is formed to have a thickness smaller than that of the color filter pattern disposed in the transmission part. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 컬러필터 패턴은 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용한 노광 및 현상공정을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.The color filter pattern is formed by performing exposure and development processes using a halftone mask or a diffraction mask.
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