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KR20080067533A - Semiconductor package having flow-inducing grooves, laminated structure thereof and manufacturing method thereof - Google Patents

Semiconductor package having flow-inducing grooves, laminated structure thereof and manufacturing method thereof Download PDF

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KR20080067533A
KR20080067533A KR1020070004942A KR20070004942A KR20080067533A KR 20080067533 A KR20080067533 A KR 20080067533A KR 1020070004942 A KR1020070004942 A KR 1020070004942A KR 20070004942 A KR20070004942 A KR 20070004942A KR 20080067533 A KR20080067533 A KR 20080067533A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor package
package
slit
semiconductor
encapsulant
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Withdrawn
Application number
KR1020070004942A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
황현익
김길백
정용진
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
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Publication of KR20080067533A publication Critical patent/KR20080067533A/en
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    • H10W74/00
    • H10W72/865
    • H10W90/734
    • H10W90/754

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

반도체 패키지 및 그 적층 구조 및 그 제조방법에 관하여 개시한다. 반도체 패키지에서, 패키지 기판은 슬릿 및 흘러내림 유도 홈을 갖는다. 반도체 칩은 상기 패키지 기판 상에 실장된다. 와이어는 상기 반도체 칩 및 상기 패키지 기판을 상기 슬릿을 통하여 전기적으로 연결한다. 그리고, 봉지재는 상기 와이어를 둘러싸도록 상기 슬릿 내에 형성되고, 상기 흘러 내림 유도 홈의 적어도 일부분을 채운다. 이에 따르면, 봉지재의 두께를 제어함으로써 반도체 패키지의 두께를 낮추고, 적층형 반도체 패키지의 적층 및 연결 신뢰성을 높일 수 있다.A semiconductor package, a laminated structure thereof, and a manufacturing method thereof are disclosed. In a semiconductor package, the package substrate has slits and run-in guide grooves. The semiconductor chip is mounted on the package substrate. Wires electrically connect the semiconductor chip and the package substrate through the slits. An encapsulant is then formed in the slit to surround the wire and fills at least a portion of the runoff induction groove. Accordingly, by controlling the thickness of the encapsulant, the thickness of the semiconductor package can be reduced, and the stacking and connection reliability of the stacked semiconductor package can be improved.

Description

흘러내림 유도 홈을 구비한 반도체 패키지, 그 적층 구조 및 그 제조 방법 {Semiconductor package having an flowing guide groove and method of fabricating the same}Semi-conductor package having an flowing guide groove and method of fabricating the same}

도 1 및 도 2는 통상적인 적층형 반도체 패키지 구조를 나타낸 단면도들이고;1 and 2 are cross-sectional views showing a conventional stacked semiconductor package structure;

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이고;3 is a plan view schematically showing a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 도 3의 반도체 패키지의 IV-IV'선에서 절취한 단면도이고;4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of the semiconductor package of FIG. 3;

도 5는 도 3의 반도체 패키지의 V-V'선에서 절취한 단면도이고;FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV ′ of the semiconductor package of FIG. 3; FIG.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이고;6 is a plan view schematically showing a semiconductor package according to a second embodiment of the present invention;

도 7은 도 6의 반도체 패키지의 VII-VII'선에서 절취한 단면도이고;FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII ′ of the semiconductor package of FIG. 6; FIG.

도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이고; 그리고8 is a plan view schematically showing a semiconductor package according to a third embodiment of the present invention; And

도 9 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 보여주는 단면도들이다. 9 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

<도면에 주요 부분에 대한 설명><Description of main parts in the drawing>

104...흘러내림 유도 홈 106...반도체 칩104 ... shedding groove 106 ... semiconductor chip

108...패드 110...패키지 기판108 Pad 110 ... Package Board

112...접착 부재 114...회로 패턴112 ... Adhesive member 114 ... Circuit pattern

115...슬릿 116...와이어115 ... Slit 116 ... Wire

118...절연층 120...봉지재118 Insulation layer 120 Encapsulant

본 발명은 반도체 패키지의 구조 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 와이어볼 그리드 어레이(wire ball grid array; WBGA) 구조의 반도체 패키지의 구조 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a structure of a semiconductor package and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a structure of a semiconductor package having a wire ball grid array (WBGA) structure and a method of manufacturing the same.

일반적인 WBGA 반도체 패키지의 조립 공정에서, 반도체 웨이퍼는 단위 반도체 칩으로 절단된다 (웨이퍼 소잉 단계). 이어서, 절단된 반도체 칩을 패키지 기판 위에 부착한다(다이 접착(die attach) 단계). 이어서, 반도체 칩과 패키지 기판을 와이어를 이용하여 전기적으로 연결한다(와이어 본딩(wire bonding) 단계). 이어서, 반도체 칩, 와이어 및 패키지 기판의 일부를 봉지재로 덮는다(밀봉(encapsulation) 단계). 그리고, 패키지 기판 아래에 있는 솔더볼 패드에 솔더볼을 부착한다(솔더볼 부착 단계).In the assembly process of a typical WBGA semiconductor package, the semiconductor wafer is cut into unit semiconductor chips (wafer sawing step). Subsequently, the cut semiconductor chip is attached onto the package substrate (die attach step). Subsequently, the semiconductor chip and the package substrate are electrically connected using a wire (wire bonding step). Subsequently, a portion of the semiconductor chip, the wire and the package substrate are covered with an encapsulant (encapsulation step). Then, the solder ball is attached to the solder ball pad under the package substrate (solder ball attaching step).

도 1 및 도 2는 통상적인 적층형 반도체 칩 패키지를 나타낸 단면도들이다. 1 and 2 are cross-sectional views illustrating a conventional stacked semiconductor chip package.

도 1을 참조하면, 적층형 반도체 패키지(10)는 상하로 적층된 WBGA 타입의 상부 반도체 패키지와 하부 반도체 패키지를 포함할 수 있다. 상부 반도체 패키지의 솔더볼(21)과 하부 반도체 패키지의 패키지 기판(15)을 전기적으로 연결함으로써, 상부 반도체 패키지와 하부 반도체 패키지는 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 1, the stacked semiconductor package 10 may include an upper semiconductor package and a lower semiconductor package of a WBGA type stacked up and down. By electrically connecting the solder balls 21 of the upper semiconductor package and the package substrate 15 of the lower semiconductor package, the upper semiconductor package and the lower semiconductor package may be electrically connected.

상부 및 하부 반도체 패키지들은 반도체 칩(12, 22)을 실장할 수 있고, 중앙부에 슬릿(slit)을 갖는 패키지 기판(15, 25)을 기본 골격재로 사용한다. 반도체 칩(12, 22)은 외부 단자로 이용되는 패드(미도시)가 패키지 기판(15, 25)을 향하도록 접착 부재(13, 23)를 이용하여 패키지 기판(15, 25)에 탑재될 수 있다. 와이어(14,24)는 슬릿을 통하여 패키지 기판(15, 25)과 반도체 칩(12, 22)을 연결할 수 있다. 슬릿에 의해 노출된 반도체 칩(12, 22)의 패드와 와이어(14, 24)는 봉지재(16, 26)에 의하여 밀봉(sealing)될 수 있다. 패키지 기판(15, 25)의 하부면에는 외부회로장치와 연결이 가능하도록 솔더볼(11, 21)이 부착될 수 있다. The upper and lower semiconductor packages can mount the semiconductor chips 12 and 22, and use the package substrates 15 and 25 having slits in the center as basic skeletons. The semiconductor chips 12 and 22 may be mounted on the package substrates 15 and 25 by using the adhesive members 13 and 23 so that pads (not shown) used as external terminals face the package substrates 15 and 25. have. The wires 14 and 24 may connect the package substrates 15 and 25 and the semiconductor chips 12 and 22 through slits. The pads and wires 14 and 24 of the semiconductor chips 12 and 22 exposed by the slit may be sealed by the encapsulant 16 and 26. Solder balls 11 and 21 may be attached to lower surfaces of the package substrates 15 and 25 so as to be connected to an external circuit device.

부가적으로, 상부 반도체 패키지의 경우 반도체 칩(22)을 외부의 충격으로부터 보호하고 그 신뢰성을 향상시키기 위해 패키지 기판(25) 및 반도체 칩(22) 상부에 몰딩재(27)를 더 형성할 수 있다.In addition, in the case of the upper semiconductor package, a molding material 27 may be further formed on the package substrate 25 and the semiconductor chip 22 to protect the semiconductor chip 22 from external impact and improve its reliability. have.

도 2를 참조하면, 적층형 반도체 패키지(30)는 하부 반도체 패키지와 상부 반도체 패키지 구조가 동일하다는 점을 빼고는 도 1의 적층형 반도체 패키지(10)와 유사하다. 반도체 칩들(32, 42)은 패키지 기판(35, 45) 상에 탑재될 수 있다. 와이어(14, 44)는 슬릿을 통하여 패키지 기판(35, 45)과 반도체 칩(32,42)을 연결할 수 있다. 슬릿에 의해 노출된 반도체 칩(32, 42)의 패드와 와이어(34, 44)는 봉지재(36, 46)에 의해 밀봉될 수 있다. 솔더볼(31,41)은 패키지 기판(35,45)의 하부면 에 부착될 수 있다. 부가적으로, 반도체 칩(42)을 외부로부터 보호하기 위해 상부 반도체 패키지 상부에 솔더볼(51)에 의해 지지되는 보호판(52)을 더 배치할 수 있다.Referring to FIG. 2, the stacked semiconductor package 30 is similar to the stacked semiconductor package 10 of FIG. 1 except that the structure of the lower semiconductor package and the upper semiconductor package is the same. The semiconductor chips 32 and 42 may be mounted on the package substrates 35 and 45. The wires 14 and 44 may connect the package substrates 35 and 45 and the semiconductor chips 32 and 42 through slits. The pads and wires 34 and 44 of the semiconductor chips 32 and 42 exposed by the slits may be sealed by the encapsulants 36 and 46. The solder balls 31 and 41 may be attached to the lower surfaces of the package substrates 35 and 45. In addition, a protective plate 52 supported by the solder ball 51 may be further disposed on the upper semiconductor package to protect the semiconductor chip 42 from the outside.

하지만, 전술한 적층형 반도체 패키지(10, 30)에 있어서, 봉지재(16, 26)의 두께는 조절하기 어렵고, 상부 및 하부 반도체 패키지들의 전기적인 연결에 방해가 될 수 있다. 봉지재(16, 26, 36, 46)의 높이가 과도하게 높으면, 봉지재(16, 26, 36, 46)가 서로 접촉되어 솔더볼(21, 41)과 패키지 기판(15, 35)이 서로 접촉될 수 없게 된다(non-wet). 따라서, 상부 및 하부 반도체 패키지의 접촉 신뢰성이 크게 감소될 수 있다.However, in the above-described stacked semiconductor packages 10 and 30, the thickness of the encapsulant 16 and 26 is difficult to control and may interfere with the electrical connection of the upper and lower semiconductor packages. If the heights of the encapsulants 16, 26, 36, 46 are excessively high, the encapsulants 16, 26, 36, 46 are in contact with each other such that the solder balls 21, 41 and the package substrates 15, 35 are in contact with each other. Non-wet. Thus, the contact reliability of the upper and lower semiconductor packages can be greatly reduced.

본 발명이 이루고자 하는 기술적인 과제는, 봉지재의 두께를 제어하여 적층 신뢰성을 높일 수 있는 반도체 패키지를 제공하는데 있다. The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a semiconductor package which can increase the stacking reliability by controlling the thickness of the encapsulant.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적인 과제는 봉지재의 두께를 제어하여 적층 신뢰성을 높일 수 있는 반도체 패키지의 제조 방법을 제공하는 데 있다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor package that can increase the stacking reliability by controlling the thickness of the encapsulant.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 형태에 따른 반도체 패키지에서, 패키지 기판은 슬릿 및 흘러내림 유도 홈을 갖는다. 반도체 칩은 상기 패키지 기판 상에 실장된다. 와이어는 상기 반도체 칩 및 상기 패키지 기판을 상기 슬릿을 통하여 전기적으로 연결한다. 그리고, 봉지재는 상기 와이어를 둘러싸도록 상기 슬릿 내에 형성되고, 상기 흘러 내림 유도 홈의 적어도 일부분을 채운다.In the semiconductor package of one embodiment of the present invention for achieving the above technical problem, the package substrate has a slit and a falling guide groove. The semiconductor chip is mounted on the package substrate. Wires electrically connect the semiconductor chip and the package substrate through the slits. An encapsulant is then formed in the slit to surround the wire and fills at least a portion of the runoff induction groove.

상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿의 일부 또는 한바퀴를 둘러싸도록 배치될 수 있다.The downflow guide groove may be arranged to surround a portion or a round of the slit.

상기 흘러내림 유도 홈은 두 개 이상의 복수개로 배치될 수 있고, 나아가 상기 복수개의 흘러내림 유도 홈들의 단차는 동일할 수 있다.The downflow guide grooves may be arranged in two or more pieces, and further, the steps of the plurality of downflow guide grooves may be the same.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 형태에 따른 반도체 패키지의 적층 구조에서, 상기 반도체 패키지가 복수개로 상하로 적층된다. In the stacked structure of a semiconductor package according to another aspect of the present invention for achieving the above technical problem, a plurality of the semiconductor package is stacked up and down.

상기 복수개의 반도체 패키지들 가운데, 상부의 반도체 패키지의 봉지재가 하부의 반도체 패키지와 접촉하지 않도록 상기 흘러 내림 유도 홈의 크기가 조절될 수 있다.Among the plurality of semiconductor packages, the size of the induction groove may be adjusted so that the encapsulant of the upper semiconductor package does not contact the lower semiconductor package.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 형태에 따른 반도체 패키지의 제조 방법이 제공된다. 패키지 기판 내부에 슬릿을 형성한다. 상기 패키지 기판의 하부면에 흘러내림 유도 홈을 형성한다. 상기 패키지 기판의 상부면에 반도체 칩을 실장한다. 상기 반도체 칩 및 상기 패키지 기판을 상기 슬릿을 관통하는 와이어로 연결한다. 그리고, 상기 와이어를 감싸도록 상기 슬릿을 채우고, 상기 흘러내림 유도 홈의 적어도 일 부분을 채우도록 봉지재를 형성한다.The manufacturing method of the semiconductor package which concerns on one form of this invention for achieving the said another technical subject is provided. Slits are formed in the package substrate. A flow guide groove is formed in the lower surface of the package substrate. The semiconductor chip is mounted on an upper surface of the package substrate. The semiconductor chip and the package substrate are connected with a wire passing through the slit. Then, the slit is filled to surround the wire, and an encapsulant is formed to fill at least a portion of the downflow guide groove.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 첨부된 도면에서 여러 층과 영역들의 두께 는 명료성을 위해서 강조되었다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. In the accompanying drawings, the thicknesses of various layers and regions are highlighted for clarity.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 4는 도 3의 반도체 패키지의 IV-IV'선에 절취한 단면도이고, 도 5는 도 3의 반도체 패키지의 V-V'선에서 절취한 단면도이다.3 is a plan view schematically illustrating a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of the semiconductor package of FIG. 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V ′ of the semiconductor package of FIG. 3.

도 3 내지 도 5를 참조하면, 반도체 패키지(100)는 내부에 슬릿(slit, 115)이 형성되어 있는 패키지 기판(110)을 기본 골격재로 사용할 수 있다. 예를 들어, 패키지 기판(110)은 인쇄회로기판(printed circuit board; PCB)을 참조할 수 있다. 패키지 기판(110)은 배선 패턴들(114)을 포함할 수 있으며, 배선 패턴들(114)은 절연층(118)에 의해 전기적으로 분리될 수 있다.3 to 5, the semiconductor package 100 may use a package substrate 110 having slits 115 formed therein as a basic skeleton material. For example, the package substrate 110 may refer to a printed circuit board (PCB). The package substrate 110 may include wiring patterns 114, and the wiring patterns 114 may be electrically separated by the insulating layer 118.

패키지 기판(110)은 슬릿(115)의 일부분을 둘러싸도록 배치된 흘러내림 홀(104)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 흘러내림 홀(104)은 슬릿(115)의 양끝 부근에 대칭적으로 배치될 수 있다. 바람직하게는, 흘러내림 홀(104)은 슬릿(115)의 모양을 따라서 슬릿(115)의 양끝 부근에 배치될 수 있다.The package substrate 110 may include a flow down hole 104 disposed to surround a portion of the slit 115. For example, the downflow hole 104 may be symmetrically disposed near both ends of the slit 115. Preferably, the downflow hole 104 may be disposed near both ends of the slit 115 along the shape of the slit 115.

반도체 칩(106)은 패키지 기판(110) 상에 실장될 수 있다. 반도체 칩(106)은 패키지 기판(110)과 전기적으로 연결될 수 있도록 패드(108)를 가질 수 있다. 예를 들어, 패드(108)가 슬릿(115)에 노출될 수 있도록, 반도체 칩(106)은 접착 부재(112)에 의해 패키지 기판(110) 상에 부착될 수 있다. 반도체 칩(106)과 패키지 기판(110)은 슬릿(115)을 관통해 신장하는 와이어(108)에 의해서 전기적으로 연결될 수 있다. 솔더볼(102)은 외부회로장치와 연결될 수 있도록 패키지 기판(110)의 하부에 부착될 수 있다.The semiconductor chip 106 may be mounted on the package substrate 110. The semiconductor chip 106 may have a pad 108 to be electrically connected to the package substrate 110. For example, the semiconductor chip 106 may be attached on the package substrate 110 by the adhesive member 112 so that the pad 108 may be exposed to the slit 115. The semiconductor chip 106 and the package substrate 110 may be electrically connected by a wire 108 extending through the slit 115. The solder ball 102 may be attached to the bottom of the package substrate 110 to be connected to the external circuit device.

봉지재(120)는 와이어(108) 및 패드(108)를 둘러싸고 밀봉하도록 슬릿(115)을 채울 수 있다. 나아가, 봉지재(120)는 흘러내림 유도 홈(104)의 적어도 일부를 더 채우도록 신장될 수 있다. 흘러내림 유도 홈(104)에 채워진 봉지재(120)의 두께는 슬릿(115)에 채워진 봉지재(120)의 두께보다 작을 수 있다. 흘러내림 유도 홈(104)은 슬릿(115)을 채우는 봉지재(120)가 넘쳐서 패키지 기판(110) 상으로 높게 쌓이는 것을 막아줄 수 있다.Encapsulant 120 may fill slit 115 to surround and seal wire 108 and pad 108. Furthermore, the encapsulant 120 can be elongated to further fill at least a portion of the downflow guide groove 104. The thickness of the encapsulant 120 filled in the flow-inducing groove 104 may be smaller than the thickness of the encapsulant 120 filled in the slit 115. The flow-inducing groove 104 may prevent the encapsulant 120 filling the slit 115 from overflowing and stacking high on the package substrate 110.

왜냐하면, 봉지재(120)가 흘러내림 유도 홈(104)으로 흘러 들어 갈 수 있기 때문이다. 따라서, 흘러내림 유도 홈(104)은 봉지재(120)의 두께를 감소시킬 수 있으며, 흘러내림 유도 홈(104)의 깊이를 조절할 경우, 전체적인 봉지재(120)의 두께 제어가 가능하다. 따라서, 흘러내림 유도 홈(104)은 봉지재(120)의 높이를 감소시키고 반도체 패키지(100)의 전체 높이를 줄이는 데 기여할 수 있다.This is because the encapsulant 120 can flow into the downflow guide groove 104. Therefore, the downflow guide groove 104 may reduce the thickness of the encapsulation material 120. When the depth of the downflow guide groove 104 is adjusted, the overall thickness of the encapsulation material 120 may be controlled. Thus, the downflow guide groove 104 may contribute to reducing the height of the encapsulant 120 and reducing the overall height of the semiconductor package 100.

이 실시예의 반도체 패키지(100)는 도 1 또는 도 2에서 설명한 바와 같이 적층형 반도체 패키지의 상부 또는 하부 반도체 패키지로 이용될 수 있다. 예를 들어, 이 실시예의 반도체 패키지(100)가 복수개로 상하로 적층되어 적층형 반도체 패키지를 형성할 수 있다. 이러한 적층형 반도체 패키지에서, 상부 반도체 패키지의 봉지재(120)는 하부 반도체 패키지와 접촉되지 않도록 흘러내림 유도 홈(104)의 크기는 조정될 수 있다. 이에 따라, 종래와는 달리, 상부 반도체 패키지의 솔더볼(102)이 하부 반도체 패키지와 신뢰성 있게 연결될 수 있다.The semiconductor package 100 of this embodiment may be used as the upper or lower semiconductor package of the stacked semiconductor package as described with reference to FIG. 1 or 2. For example, a plurality of semiconductor packages 100 of this embodiment may be stacked vertically to form a stacked semiconductor package. In such a stacked semiconductor package, the encapsulant 120 of the upper semiconductor package may be adjusted in size so that the encapsulant 120 does not come into contact with the lower semiconductor package. Accordingly, unlike the related art, the solder balls 102 of the upper semiconductor package may be reliably connected to the lower semiconductor package.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 7은 도 6의 반도체 패키지의 VII-VII'선에서 절취한 단면도이다. 이 실시예에 따른 반도체 패키지는 도 3 내지 도 5의 반도체 패키지에서 흘러내림 홈의 모양을 변형시킨 것과 유사하다. 따라서, 두 실시예들에서 중복된 설명은 생략된다.6 is a plan view schematically illustrating a semiconductor package according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII ′ of the semiconductor package of FIG. 6. The semiconductor package according to this embodiment is similar to that of the shape of the downflow grooves in the semiconductor package of FIGS. 3 to 5. Thus, duplicate descriptions are omitted in both embodiments.

도 6 및 도 7을 참조하면, 반도체 패키지(300)에서, 한 쌍의 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)은 슬릿(115) 주위의 패키지 기판(110)에 배치될 수 있다. 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)은 슬릿(115)의 일부분, 예컨대 양끝 부분을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)의 적어도 일부분은 봉지재(120)로 채워질 수 있다. 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)은 슬릿(115) 양끝 부분에서 봉지재(120)의 두께를 감소시켜 봉지재(120)가 뭉치거나 그 두께가 증가하는 현상을 방지할 수 있다. 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)의 단차는 동일할 수 있으며, 봉지재(120)의 두께도 슬릿(120)을 중심으로 순차적으로 감소될 수 있다.6 and 7, in the semiconductor package 300, a pair of downflow guide grooves 104a and 104b may be disposed in the package substrate 110 around the slit 115. Flowing guide grooves 104a and 104b may be arranged to surround a portion of the slit 115, such as both ends. At least a portion of the flow guide grooves 104a and 104b may be filled with the encapsulant 120. The flow-inducing grooves 104a and 104b may reduce the thickness of the encapsulant 120 at both ends of the slit 115 to prevent the encapsulant 120 from agglomerating or increasing its thickness. Steps of the flow-inducing grooves 104a and 104b may be the same, and the thickness of the encapsulant 120 may be sequentially reduced with respect to the slit 120.

이 실시예에서, 흘러내림 유도 홈들(104a, 104b)이 2겹으로 제공됨에 따라, 봉지재(120)의 높이가 도 1 내지 도 3에 비해서 더 낮아질 수 있다. 따라서, 반도체 패키지(300)의 높이는 더욱 작아지고, 이러한 반도체 패키지(300)를 이용한 적층형 반도체 패키지의 적층 신뢰성은 더욱 높아질 수 있다.In this embodiment, as the downflow guide grooves 104a and 104b are provided in two layers, the height of the encapsulant 120 may be lower than in FIGS. 1 to 3. Therefore, the height of the semiconductor package 300 is further reduced, and the stacking reliability of the stacked semiconductor package using the semiconductor package 300 may be further increased.

이 실시예의 변형된 예에서, 흘러내림 홈들(104a, 104b)의 수는 2개에 제한되지 않고, 복수개로 제공될 수도 있음은 자명하다.In a modified example of this embodiment, it is apparent that the number of the downfall grooves 104a and 104b is not limited to two, but may be provided in plural.

도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 반도체 패키지를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 이 실시예에 따른 반도체 패키지는 도 3 내지 도 5의 반도체 패키지에서 흘러내림 홈의 모양을 변형시킨 것과 유사하다. 따라서, 두 실시예들에서 중복 된 설명은 생략된다.8 is a plan view schematically illustrating a semiconductor package according to a third exemplary embodiment of the present invention. The semiconductor package according to this embodiment is similar to that of the shape of the downflow grooves in the semiconductor package of FIGS. 3 to 5. Thus, duplicate descriptions are omitted in both embodiments.

도 8을 참조하면, 반도체 패키지(500)에서, 흘러내림 유도 홈(104c)은 슬릿(115)을 한바퀴 둘러싸도록 배치될 수 있다. 흘러내림 유도 홈(104c)이 슬릿(115) 및 반도체 기판(106)을 완전히 둘러싸고 있어 모든 위치에서의 봉지재(도 4의 120 참조)의 두께를 균일하게 유지할 수 있다. 또한, 봉지재(120)가 채워질 수 있는 전체적인 공간이 증가되었기 때문에, 흘러내림 유도 홈(104c)을 이용하면 봉지재(120)의 두께 제어가 더 용이해질 수 있다. Referring to FIG. 8, in the semiconductor package 500, the downflow guide groove 104c may be disposed to surround the slit 115. The flow-inducing groove 104c completely surrounds the slit 115 and the semiconductor substrate 106 so that the thickness of the encapsulant (see 120 in FIG. 4) at all positions can be uniformly maintained. In addition, since the overall space in which the encapsulant 120 may be filled has been increased, the thickness control of the encapsulant 120 may be easier by using the downflow guide groove 104c.

도 9 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지 제조 방법을 나타낸 단면도들이다.9 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package in accordance with an embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 패키지 기판(110) 내부에 슬릿(115)을 형성한다. 예를 들어, 슬릿(115)은 패키지 기판(110)의 중심 부근에 형성할 수 있다. 이어서, 패키지 기판(110)의 일 부분을 식각하여 흘러내림 유도 홈(104)을 형성한다. 예를 들어, 하드 마스크(미도시)를 패키지 기판(110) 상부 면에 형성하고, 포토레지스트를 하드 마스크 상부에 형성한다. 이어서, 소정 영역의 포토레지스트와 하드 마스크를 제거한 후, 건식 또는 습식 식각에 의해 패키지 기판(110)을 식각함으로써, 흘러내림 홈(104)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 9, the slit 115 is formed in the package substrate 110. For example, the slit 115 may be formed near the center of the package substrate 110. Subsequently, a portion of the package substrate 110 is etched to form a flow guide groove 104. For example, a hard mask (not shown) is formed on the upper surface of the package substrate 110, and a photoresist is formed on the hard mask. Subsequently, after removing the photoresist and the hard mask in the predetermined region, the downflow groove 104 may be formed by etching the package substrate 110 by dry or wet etching.

바람직하게는, 포토레지스트를 흘러내림 유도 홈(104)이 형성되는 패키지 기판(110) 상부 면에 형성할 수 있다. 패키지 기판(110) 식각 시, 그 내부의 배선 패턴(104)과 절연층(118)은 식각되지 않도록 식각 선택비(etch selectivity)를 확보하는 것이 바람직하다. 따라서, 배선 패턴(114)을 노출하는 형태의 흘러내림 유도 홈(104)이 형성될 수 있다.Preferably, the photoresist may be formed on the upper surface of the package substrate 110 on which the induction groove 104 is formed. When the package substrate 110 is etched, it is desirable to secure an etch selectivity so that the wiring pattern 104 and the insulating layer 118 therein are not etched. Accordingly, the downflow guide groove 104 may be formed to expose the wiring pattern 114.

도 10을 참조하면, 패키지 기판(110)을 추가적으로 더 식각하여, 슬릿(115) 방향에 있는 흘러내림 유도 홈(104)의 측벽에 기울기를 형성한다. 즉, 흘러내림 유도 홈(104)은 봉지재(도 12의 120 참조)가 잘 흐를 수 있도록 슬릿(115) 방향으로 비스듬하게 배치될 수 있다. Referring to FIG. 10, the package substrate 110 is further etched to form a slope on the sidewall of the downflow guide groove 104 in the direction of the slit 115. That is, the downflow guide groove 104 may be disposed obliquely in the direction of the slit 115 so that the encapsulant (see 120 of FIG. 12) flows well.

예를 들어, 흘러내림 유도 홈(104)의 식각시 측벽이 식각 손상을 받았기 때문에, 추가 식각은 전면 식각으로 진행할 수 있다. 이 경우, 식각 손상을 받은 흘러내림 유도 홈(104) 측벽의 식각 속도가 패키지 기판(110)의 다른 부분보다 빠르기 때문에, 도 10과 같은 기울기가 형성될 수 있다. 다른 예로, 포토레지스트 공정을 사용하여 원하는 기울기 구간의 패키지 기판(110) 영역만 추가 식각하여 형성하는 방법도 가능하다. 식각 공정은 건식 및 습식 식각 모두 이용할 수 있다. For example, since the sidewalls were etched damaged during the etching of the run-down induction groove 104, further etching may proceed to the front etch. In this case, since the etching speed of the sidewalls of the flow-inducing groove 104 which is etched in damage is faster than that of the other portions of the package substrate 110, a slope as shown in FIG. 10 may be formed. As another example, a method of forming and etching only the package substrate 110 region having a desired slope section by using a photoresist process may be performed. The etching process may use both dry and wet etching.

도 11을 참조하면, 패키지 기판(110)에 접착 부재(112)를 이용하여 반도체 칩(106)을 실장한다. 이어서, 반도체 칩(106) 및 패키지 기판(110)을 전기적으로 연결하도록 슬릿(115)을 통하여 와이어(116)를 본딩한다. 와이어(116)는 반도체 칩(106)에 형성된 패드(108)와 패키지 기판(110)의 배선 패턴(114)과 물리적으로 접촉될 수 있다.Referring to FIG. 11, the semiconductor chip 106 is mounted on the package substrate 110 using the adhesive member 112. Subsequently, the wire 116 is bonded through the slit 115 to electrically connect the semiconductor chip 106 and the package substrate 110. The wire 116 may be in physical contact with the pad 108 formed on the semiconductor chip 106 and the wiring pattern 114 of the package substrate 110.

이어서, 봉지재 마스크(122)를 이용하여 와이어(116)를 완전히 감싸도록 슬릿(115)에 봉지재(120)를 채운다. 바람직하게는 봉지재 마스크(122)는 금속 마스크로 이용하고, 봉지재(120)는 프린팅 방법에 의해 형성할 수 있다.Subsequently, the encapsulant 120 is filled in the slit 115 to completely enclose the wire 116 using the encapsulant mask 122. Preferably, the encapsulant mask 122 is used as a metal mask, and the encapsulant 120 may be formed by a printing method.

도 12를 참조하면, 봉지재 마스크(122)를 제거한다. 이에 따라, 봉지재(120) 가 슬릿(115)을 중심으로 흘러내리게 된다. 이 때 흘러내린 봉지재(120)는 흘러내림 유도 홈(104)으로 흘러 들어가게 되어 전체적인 봉지재(120)의 두께가 감소되게 된다. 필요하면 큐어링(curing) 공정을 진행할 수 있다. Referring to FIG. 12, the encapsulant mask 122 is removed. Accordingly, the encapsulant 120 flows down about the slit 115. At this time, the encapsulant 120 flowed down flows into the induction groove 104 to reduce the overall thickness of the encapsulant 120. If necessary, a curing process can be performed.

이 후 도시하지는 않았으나, 도 3과 같이 패키지 기판(110) 가장자리에 솔더 볼(102)을 추가로 부착할 수 있다. 나아가, 완성된 반도체 패키지를 복수개로 적층함으로써 적층형 반도체 패키지를 형성할 수 있다. Thereafter, although not shown, the solder ball 102 may be additionally attached to the edge of the package substrate 110 as shown in FIG. 3. Furthermore, a stacked semiconductor package can be formed by stacking a plurality of completed semiconductor packages.

지금까지, 본 발명을 도면에 도시된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.So far, the present invention has been described with reference to the drawings shown in the drawings, but the embodiments of the present invention are merely exemplary, and those skilled in the art may have various modifications and other equivalent implementations therefrom. It will be appreciated that examples are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 패키지는 패키지 기판에 흘러내림 유도 홈을 갖기 때문에, 봉지재의 두께 제어를 용이하게 할 수 있다. 이에 따라, 반도체 패키지의 전체 높이를 낮출 수 있다.As described above, since the semiconductor package according to the present invention has the induction grooves flowing down the package substrate, the thickness control of the encapsulant can be facilitated. Accordingly, the overall height of the semiconductor package can be lowered.

나아가, 본 발명에 따른 반도체 패키지를 적층형 반도체 패키지로 이용하면, 봉지재의 두께를 낮추어 상부 및 하부 반도체 패키지들의 적층 및 연결 신뢰성을 높일 수 있다.Furthermore, when the semiconductor package according to the present invention is used as a stacked semiconductor package, the thickness of the encapsulant may be lowered to increase stacking and connection reliability of the upper and lower semiconductor packages.

Claims (15)

슬릿 및 흘러내림 유도 홈을 갖는 패키지 기판;A package substrate having slits and downflow guide grooves; 상기 패키지 기판 상에 실장된 반도체 칩; A semiconductor chip mounted on the package substrate; 상기 반도체 칩 및 상기 패키지 기판을 상기 슬릿을 통하여 전기적으로 연결하는 와이어; 및A wire electrically connecting the semiconductor chip and the package substrate through the slit; And 상기 와이어를 둘러싸도록 상기 슬릿 내에 형성되고, 상기 흘러 내림 유도 홈의 적어도 일부분을 채우는 봉지재를 포함하는 반도체 패키지.And an encapsulant formed in the slit to surround the wire, the encapsulant filling at least a portion of the downflow guide groove. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿의 일부를 둘러싸도록 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the flow-inducing groove is disposed to surround a portion of the slit. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿의 양끝 부분을 둘러싸도록 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The flow-inducing groove is a semiconductor package, characterized in that arranged to surround both ends of the slit. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿 방향으로 비스듬하게 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The flow-inducing groove is a semiconductor package, characterized in that arranged obliquely in the slit direction. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿을 한바퀴 둘러싸도록 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The flow-inducing groove is a semiconductor package, characterized in that arranged to surround the slit. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 흘러내림 유도 홈은 두 개 이상의 복수개로 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The flow-inducing groove is a semiconductor package, characterized in that arranged in at least two. 제6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 복수개의 흘러내림 유도 홈들의 단차는 동일한 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the steps of the plurality of falling guide grooves are the same. 제1 항의 반도체 패키지가 복수개로 상하로 적층된 반도체 패키지의 적층 구조.The laminated structure of the semiconductor package in which the semiconductor package of Claim 1 is laminated | stacked up and down in plurality. 제8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 복수개의 반도체 패키지들 가운데, 상부의 반도체 패키지의 봉지재가 하부의 반도체 패키지와 접촉하지 않도록 상기 흘러 내림 유도 홈의 크기가 조절된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 적층 구조.The stack structure of the semiconductor package, characterized in that the size of the flow guide groove is adjusted so that the encapsulant of the upper semiconductor package does not contact the lower semiconductor package of the plurality of semiconductor packages. 패키지 기판 내부에 슬릿을 형성하는 단계;Forming a slit inside the package substrate; 상기 패키지 기판의 하부면에 흘러내림 유도 홈을 형성하는 단계;Forming a flow guide groove in a lower surface of the package substrate; 상기 패키지 기판의 상부면에 반도체 칩을 실장하는 단계; Mounting a semiconductor chip on an upper surface of the package substrate; 상기 반도체 칩 및 상기 패키지 기판을 상기 슬릿을 관통하는 와이어로 연결하는 단계; 및Connecting the semiconductor chip and the package substrate with a wire passing through the slit; And 상기 와이어를 감싸도록 상기 슬릿을 채우고, 상기 흘러내림 유도 홈의 적어도 일 부분을 채우도록 봉지재를 형성하는 단계를 포함하는 반도체 패키지의 제조 방법.Filling the slit to surround the wire and forming an encapsulant to fill at least a portion of the downflow guide groove. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 슬릿의 일부 또는 전체를 둘러싸도록 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The flow-inducing groove is formed to surround part or all of the slit. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 흘러내림 유도 홈에 형성된 상기 봉지재의 두께는 상기 슬릿에 형성된 상기 봉지재의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법. The thickness of the encapsulant formed in the flow guide groove is smaller than the thickness of the encapsulant formed in the slit. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 흘러내림 유도 홈은 상기 패키지 기판을 식각하여 형성하고, 상기 흘러 내림 유도 홈은 상기 슬릿 방향으로 비스듬하게 배치되도록 더 식각된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The flow-inducing groove is formed by etching the package substrate, and the flow-inducing groove is further etched to be disposed obliquely in the slit direction. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 봉지재를 형성하는 단계는 금속 마스크를 이용한 프린팅 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.Forming the encapsulant is a manufacturing method of a semiconductor package, characterized in that using a printing method using a metal mask. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 패키지 기판의 상부면에 솔더 볼을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.Forming a solder ball on the upper surface of the package substrate further comprising the step of manufacturing a semiconductor package.
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