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KR20070011394A - 차아염소산염의 희석법 - Google Patents

차아염소산염의 희석법 Download PDF

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KR20070011394A
KR20070011394A KR1020067021983A KR20067021983A KR20070011394A KR 20070011394 A KR20070011394 A KR 20070011394A KR 1020067021983 A KR1020067021983 A KR 1020067021983A KR 20067021983 A KR20067021983 A KR 20067021983A KR 20070011394 A KR20070011394 A KR 20070011394A
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KR
South Korea
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solution
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less
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effective chlorine
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Withdrawn
Application number
KR1020067021983A
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English (en)
Inventor
스티븐 이 브롬버그
엘라이스 에이 섀힌
윌리암 엘 스미스
케네스 비에이라
Original Assignee
더 클로록스 캄파니
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Filing date
Publication date
Priority claimed from US10/806,522 external-priority patent/US7527783B2/en
Priority claimed from US10/828,571 external-priority patent/US20050232847A1/en
Application filed by 더 클로록스 캄파니 filed Critical 더 클로록스 캄파니
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Abstract

본 발명은 안정한 조성물을 생성하기 위하여 차아염소산염 및 차아염소산 조성물을 희석시키는 방법에 관한 것이다. 이들 조성물은 표면을 포함하는 알레르겐, 경질 표면, 식품 접촉면, 병원 표면, 식품 표면, 부엌 표면, 욕실 표면, 사람 표면, 동물 표면, 군장비, 운반 장비, 어린이용품, 식물 표면, 종자, 외부 표면, 연질 표면, 에어, 상처 및 의료 기구를 처리하는데 사용될 수 있다.
차아염소산염, 차아염소산 조성물의 희석법, 알레르겐, 이온 교환법

Description

차아염소산염의 희석법{Method for diluting hypochlorite}
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 "알레르겐의 탈활성화 및 질환의 예방법"이란 제목으로, 2004년 3월 23일자로 출원되고, 본 명세서에 혼입된 공계류중인 출원(Docket No. 340.182)의 부분 계속 출원이다.
본 발명은 차아할로산(hypohalous acid), 차아할로산염 및 이들 활성 물질을 함유하는 조성물의 희석법에 관한 것이다. 생성된 조성물은 소독(예를 들면, 물, 환경적인 경질 및 연질 표면, 사람 및 동물의 표면), 위생, 의료 기구의 멸균, 방향 조절, 알레르겐의 탈활성화 및 곰팡이 방제에 유용하다. 생성된 조성물은 증발, 분무, 침지 및 함침 기판에 의한 적용을 포함한, 다양한 방법에 의해 적용시킬 수 있다. 생성된 조성물은 경질 표면, 연질 표면에 및 에어(air) 중에 적용시킬 수 있다.
본 발명의 조성물은 일반적으로 피부에 대해 해가없고, 무자극성이며, 예민 하지 않고, 눈에 무자극성이며, 삼키는 경우에 해가 없고, 돌연변이 활성에 대한 증거를 나타내지 않는다. 미합중국 특허원 제2002/0182262호(Selkon)는 고농도의 차아염소산 이온이 이들의 자극적이고 통증성인 효과 및 이들의 치료학적 가치를 더 높이는 세포 성장의 결함으로 인하여 다리 궤양의 치료시 사용하기 위해 더 이상 권장되지 않고, 이에 따라 이들 제제에서 사용할 수 없게 됨을 언급하고 있다. 예를 들면, 적절한 완충제의 사용에 의해 이들 용액의 높은 차아염소산 이온 함량의 알칼리성 효과를 감소시키기 위한 시도가 있었지만, 이러한 상황에서는 비효과적인 것으로 밝혀졌다. 미합중국 특허원 제2002/0179884호(Hoshino et al.)는 안전성을 보장하고, 대상에 대한 손상을 방지하기 위한 시도로 염소 화합물의 농도 감도는 만족스러운 저장 안정성을 갖는 제형을 수득하기 어려움을 포함한다고 밝히고 있다. 즉, 활성은 주위 온도, 빛(자외선), 용기 등에 부착되는 제3 성분, 용기 물질에 존재하는 안료 등등, 및 염소 화합물의 분해와 함께 염소 기체의 생성으로 인하여 상당히 감소된다. 따라서, 염소 화합물 수용액을 포함하는 소독 탈취제를 사용하여 안전성 등에 대한 요건을 만족시키기 위한 저농도 범위에서 충분한 소독 및 탈취 효과를 성취하기가 어렵다. 미합중국 특허원 제2002/0179884호(Hoshino et al.)는 또한 조성물이 바람직하게는 pH 9.5 내지 11인 것으로 밝혀졌다. pH가 8 미만이면, 소독 탈취제는 염소 함유 산화제의 분해로 염소 기체가 생성되는 위험성을 가지며, 충분한 저장 안정성을 갖지 못한다. 미합중국 특허 제5,281,280호(Lisowski et al.)는 2.75% 미만의 농도가 곰팡이, 백분병균 및 조류에 대해 비효과적임을 밝혔다.
본 조성물 및 방법에 대한 잠재적 용도에는 식기 세척[예: 미합중국 특허원 제2003/0216271호(Scheper et al.)]; 병원 환경 및 의료 기구[예: 미합중국 특허 제6,632,347호(Buckley et al.) 및 미합중국 특허 제6,126,810호(Fricker et al.)]; 상처 치유[예: 미합중국 특허원 제2003/0185704호(Bernard et al.) 및 미합중국 특허 제6,426,066호(Najafi et al.)]; 의료 기구와 같은 물건의 소독 또는 멸균(예: 미합중국 특허 제6,623,695호; Malchesky et al.); 에어 소독 및 탈취(예: 미합중국 특허원 제2002/0179884호; Hoshino et al.); 물 정제(예: 미합중국 특허 제6,296,744호; Djeiranishili et al.); 곰팡이 및 백분병균의 제거(예: 미합중국 특허 제5,281,280호; Lisowski et al.)가 포함된다.
선행 기술 분야의 예를 근거로 하여, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들 활성 물질을 함유하는 조성물에 대한 다양한 신규 제형 및 방법을 발견하였다.
발명의 요약
상기 목적 및 하기에서 언급되고 분명해질 목적에 따르면, 본 발명의 한 측면은
a. 차아할로산, 차아할로산염, 차아할로산 생성 그룹, 차아할로산염 생성 그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 활성 물질의 공급원을 제공하는 단계 및
b. 공급원을 정제수로 희석하여 안정한 희석된 조성물을 제공하는 단계를 포함하며,
c. 여기서, 안정한 희석된 조성물의 유효 염소 농도는 1.0 내지 약 1200 ppm인, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
상기 목적 및 하기에서 언급되고 분명해질 목적에 따르면, 본 발명의 다른 측면은,
a. 활성 할로겐 함량이 유효 염소로서 약 0.5% 보다 큰 제1 용액을 제조하는 단계 및
b. 제1 용액을 정제수로 희석하여 제2 용액을 제공하는 단계를 포함하며,
c. 이때 제2 용액의 유효 염소 농도는 1.0 내지 약 1200 ppm이고,
d. 제2 용액이 70 ℉의 저장 온도에서 27일 동안 90% 이상의 유효 염소 농도를 보유하는, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법을 포함한다.
상기 목적 및 하기에서 언급되고 분명해질 목적에 따르면, 본 발명의 다른 측면은,
a. 활성 할로겐 함량이 유효 염소로서 약 0.5% 보다 큰 제1 용액을 제조하는 단계 및
b. 제1 용액을 정제수로 희석하여 제2 용액을 제공하는 단계를 포함하며,
c. 이때 제2 용액의 유효 염소 농도는 1.0 내지 약 1200 ppm이고,
d. 제2 용액의 pH는 pH 5 이상, pH 8 미만인, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법 을 포함한다.
본 발명의 다른 특징 및 이점은 하기의 바람직한 양태의 상세한 설명에 비추어 당해 분야의 통상의 숙련가에게 명확할 것이다.
본 발명의 상세히 설명하기 전에, 본 발명은 특별히 예시된 시스템 또는 물론, 변할 수 있는 공정 파라미터로 제한되지 않음을 이해해야 한다. 또한, 본 명세서에 사용된 용어는 단지 본 발명의 특별한 양태를 기술하고자 함이지, 어떠한 방법으로든 본 발명의 범위를 제한하고자 함은 아님을 이해해야 한다.
본 명세서에 인용된 모든 문헌, 특허 및 특허출원은 상기 또는 하부이든지 간에, 각각의 개개 문헌, 특허 또는 특허출원이 구체적으로 및 개별적으로 참조로 인용되는 것과 동일한 정도로 본 명세서에 참조로 인용된다.
본 명세서 및 첨부된 청구의 범위에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 내용이 달리 명확히 나타내지 않는 한, 복수의 개념을 포함함을 주지해야 한다. 따라서, 예를 들면, "계면 활성제"에 대한 기준에는 둘 이상의 이러한 계면 활성제를 포함한다.
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당해 분야의 통상의 숙련가에게 통상 이해되는 바와 동일한 의미를 갖는다. 본 명세서에 기술된 것과 유사하거나 동등한 수많은 방법 및 물질이 본 발명의 실행시 사용될 수 있지만, 바람직한 물질 및 방법이 본 명세서에 기술된다.
본 원에서, 유효량은 일반적으로 이에 따르는, 설명에서 성분의 범위 또는 수준으로서 제시된 양이다. 달리 언급이 없는 한, %로 제시된 양은 세정 조성물 단독의 중량 %(100% 활성을 기준으로 함)로, 기판 중량은 고려되지 않았다. 주목되는 세정 조성물 성분 및 기판 각각이 하기에서 상세히 논의된다.
본 명세서에 사용된 바와 같이, 용어 "기판"은 제품 또는 표면을 세정하는데 사용되는 웹을 포함하고자 한다. 세정 시트의 예로는 이로써 제한되는 것은 아니지만, 손으로 표면을 세정하는데 사용되는 물질의 단일 시트 또는 화장실 세정 장치와 같이, 대걸레, 핸들 또는 수동 유지 세정 기구와 같은 세정 용구에 부착될 수 있는 물질 시트를 함유하는 물질의 미트(mitt), 웹이 포함된다.
본 명세서에 사용된 바와 같이, "와이핑(wiping)"은 표적 표면과 접하면서, 기판이 수행하는 전단 작용을 의미한다. 이는 손 또는 몸 운동, 표면에 대한 기판-용구 운동, 또는 에너지 원(예: 초음파, 기계 진동, 전자기)을 통한 기판의 섭동 등을 포함한다.
본 명세서에 사용된 바와 같은 용어 "세정 조성물"은 하나 이상의 계면 활성제를 갖는 세정 제형을 의미하고 포함한다.
본 명세서에 사용된 바와 같은 용어 "계면 활성제"는 물 또는 수용액에 용해되는 경우에 표면 장력을 감소시키고, 두 액체 사이 또는 액체와 고체 사이의 계면 장력을 감소시키는 물질 또는 화합물을 의미하고 포함한다. 따라서, 용어 "계면 활성제"는 음이온성, 비이온성 및/또는 양쪽성 제제를 포함한다.
차아할로산 및 염
적절한 차아할로산 및 염은 포지티브 할라이드 이온 및/또는 차아할로산 이온; 차아할로산, 차아할로산염, 차아할로산 생성 그룹, 차아할로산염 생성 그룹의 형성을 유도하는 조성물 및 클로로이소시아누레이트, 할로아민, 할로이민, 할로이미드 및 할로아미드나, 이들의 혼합물과 같은 할라이드의 유기 기본 공급원인 조성물을 포함한 다양한 공급원에 의해 제공될 수 있다. 이들 조성물은 또한 동일 반응계 내에서 차아할로산 또는 차아할로산염 그룹을 생성할 수 있다. 본 발명에 사용하기에 적절한 차아할로산 및 염은 알칼리 금속 및 알칼리 토 금속 차아염소산염, 차아브롬산염, 차아요오드산염, 염소화 인산삼나트륨 십일수화물, 칼륨 및 나트륨 디클로로이소시아누레이트, 칼륨 및 나트륨 트리클로로시아누레이트, N-클로로이미드, N-클로로아미드, N-클로로설파미드, N-클로로아민, 클로로히단토인(예: 디클로로디메틸 히단토인 및 클로로브로모 디메틸히단토인), 상기 클로로-화합물에 상응하는 브로모-화합물 및, 상응하는 차아할로산을 생성하는 조성물 또는, 이들의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 조성물이 액체인 한 양태에 있어서, 차아할로산염 조성물은 알칼리 금속 및/또는 알칼리 토 금속 차아염소산염이나, 이들의 혼합물을 포함한다. 조성물은 차아염소산나트륨, 차아염소산칼륨, 차아염소산마그네슘, 차아염소산리튬 및 차아염소산칼슘이나, 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 알칼리 금속 및/또는 알칼리 토 금속 차아염소산염을 포함할 수 있다.
차아할로산 및 염 조성물은 차아염소산 및 차아염소산나트륨의 평형 혼합물일 수 있다. 활성 그룹은 조성물의 약 0 내지 약 15 중량%, 또는 조성물의 약 0.001(10 ppm) 내지 약 10 중량%, 또는 조성물의 약 0.005(50 ppm) 내지 약 5 중량%의 양으로 존재한다.
조성물중 유효 할로겐 산화제의 양은 조성물 샘플을 증류수 약 50 ㎖에 넣은 다음, 요오드화칼륨 10 중량/중량% 용액 약 10 ㎖를 가하고, 황산의 10 용적% 용액 약 10 ㎖를 가한 다음, 생성된 혼합물을 잘 교반하여 측정한다. 그 다음에, 이의 색깔이 분자 요오드(I2)에 대한 유리 요오드 이온(I-)의 산화 결과인, 생성된 황색 대 갈색 용액은 표준화된 0.1 Molar 티오황산나트륨(Na2S2O3) 적정 시약을 가하여 필수적으로 무색 엔드포인트로 용적에 의해 적정한다. 이어서, 계산은 유효 분자 염소(Cl2)의 %로서 결과를 나타내며, 즉 적정된 차아할로산염 산화제 mole 당 2당량에 상응한다. 그 다음에, 안정성 결과는 초기에 측정된 출발 유효 염소의 100% 예로 정규화된, 동일한 조성물로부터 생성된 동일하게 제조된 샘플을 사용하여 시간에 따른 반복된 분석에 의해 나타낸다.
이들의 알레르겐 탈활성화 능력을 위해 다양한 산화제 및 살균제를 평가하는 과정중에, 주로 차아염소산의 매우 희석된 용액(40 내지 80 ppm)이 알레르겐을 효과적으로 탈활성화시킬 수 있음을 발견하였다. 아마도, 낮은 수준의 산화제는 여전히 알레르겐 단백질을 분해시킬 수 있고, 이들을 생물학적으로 불활성으로 만들 수 있다.
여전히 상당히 효과적이지만, 저농도 및 거의 중성의 pH(6.9)인 차아염소산은 표면 손상을 실제로 제거한다. 직물의 촉감에 영향을 줄 수 있는 끈끈한 잔여물이 남지 않으며, 최소한의 염료 손상이 존재할 수 있다. 용액은 에어를 직접 처리하거나, 표면에 적용시키기 위하여 에어로졸화할 수 있다.
에어로졸은 변성제와 알레르겐 입자 사이에 낮은 충돌 속도를 갖는 것으로 공지되고 있다. 결과적으로, 변성제는 효과적이기 위하여 고농도로 사용되어야 한다. 높은 수준에서 자극적이거나 향이 날 수 있는 통상의 변성제를 사용하는 이러한 접근을 사용하면 건강상의 문제점을 유발할 수 있다.
부직포 기판
한 양태로, 본 발명의 기판은 부직포 또는 종이로 구성된다. 용어 부직포는 문헌(참조: "Nonwoven Fabrics Handbook"; published by the Association of the Nonwoven Fabric Industry)에 의해 제공되는 통상 공지된 정의에 따라 정의된다.
부직포의 제조 방법은 당해 분야에 잘 공지되어 있다. 일반적으로, 이들 부직포는 에어-레잉(air-laying), 용융취입법, 공성형(coforming), 방사결합 또는, 섬유 또는 필라멘트를 먼저 긴 스트랜드로부터 원하는 길이로 절단하고, 물 또는 에어 스트림으로 통과시킨 다음, 섬유-부하 에어 또는 물이 통과되는 스크린 위로 침착시키는 카아딩 공정에 의해 제조할 수 있다. 에어-레잉 공정은 미합중국 특허원 제2003/0036741호(Abba 등) 및 미합중국 특허원 제2003/0118825호(Melius 등)에 기술되어 있다. 그 다음에, 생성된 층은 이의 제조 방법 또는 조성과 무관하게, 하나 이상의 몇몇 형태의 결합 작업에 적용시켜 개개 섬유를 함께 고정하여 자체-유지 기판을 형성한다. 본 발명에서, 부직 기판은 이로써 제한되는 것은 아니지만, 에어-인탱글먼트(air-entanglement), 하이드로인탱글먼트(hydroentanglement), 열결합 및 이들 공정의 조합을 포함하는, 다양한 공정에 의해 제조할 수 있다.
한 측면으로, 무수 세정 기판에는 다성분, 멀티로발 섬유 층 위에 또는 내부에 피복된 무수 또는 거의 무수인 세정 또는 소독제가 제공될 수 있다. 또한, 세정 기판은 예비 습윤시키고/시키거나, 포화 상태로 제공될 수 있다. 습윤 세정 기판은 시간이 경과함에 따라 밀봉 가능한 용기에, 예를 들면, 부착 가능한 뚜껑, 밀봉 가능한 플라스틱 주머니나 백, 깡통, 자아 및 통 등과 함께 버킷내에 유지할 수 있다. 바람직하게는, 습윤된 스택 세정 기판은 재밀봉 가능한 용기에 유지한다. 재밀봉 가능한 용기의 사용은 특히, 휘발성 액체 조성물을 사용하는 경우에 바람직한데, 이는 액체의 실질적인 양은 증발될 수 있는 반면에, 제1 기판을 사용함으로써, 나머지 기판에 액체가 거의 남지 않기 때문이다. 예시적인 재밀봉 가능한 용기 및 분배기에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 각각 본 명세서에 참조로 인용된 미합중국 특허 제4,171,047호(Doyle 등), 미합중국 특허 제4,353,480호(McFadyen), 미합중국 특허 제4,778,048호(Kaspar 등), 미합중국 특허 제4,741,944호(Jackson 등) 및 미합중국 특허 제5,595,786호(McBride 등)에 기술된 것이 포함된다. 세정 기판은 용기 내에 원하는 대로 및/또는 원하는 대로 접혀서 삽입되거나 배향되어 당해 분야에 공지된 바와 같이 사용 또는 제거의 용이성을 개선시킬 수 있다. 본 발명의 세정 기판은 키트 형태로 제공될 수 있고, 이때 다수의 세정 기판 및 세정 도구가 단일 패키지에 제공된다. 적절한 시스템이 본 명세서에 인용되고, 2003년 8월 1일자로 출원된 함께 계류중인 특허원 제10/632,573호(제목: "Disinfecting article with extended efficacy")에 기술되어 있다.
계면 활성제
본 발명의 조성물은 계면 활성제를 함유할 수 있다. 계면 활성제는 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액을 사용 전에 생성하는 경우에, 안정성이 덜한 계면 활성제를 사용할 수 있다. 비교적 양호한 안정성을 갖는 계면 활성제의 예를 미합중국 특허 제6,413,925호 및 제5,851,421호에서 확인할 수 있다.
조성물은 음이온성, 비이온성, 양이온성, 양쪽성 및 쯔비터 이온성 계면 활성제와 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 계면 활성제를 함유할 수 있다. 음이온성, 비이온성, 양쪽성 및 쯔비터 이온성 그룹의 통상의 예 및 이들 계면 활성제 그룹이 미합중국 특허 제3,929,678호(Laughlin and Heuring)에 제시되어 있다. 적절한 양이온성 계면 활성제의 리스트가 미합중국 특허 제4,259,217호(Murphy)에 제시되어 있다. 존재한다면, 양쪽성(ampholytic, amphoteric) 및 쯔비터 이온성 계면 활성제가 일반적으로 하나 이상의 음이온성 및/또는 비이온성 계면 활성제와 함께 사용된다. 계면 활성제는 약 0 내지 90 중량%, 또는 약 0.001 내지 50 중량% 또는 약 0.01 내지 약 25 중량%의 수준으로 존재할 수 있다.
조성물은 음이온성 계면 활성제를 포함할 수 있다. 필수적으로, 세제용으로 유용한 음이온성 계면 활성제가 세정 조성물에 포함될 수 있다. 이들은 음이온성 설페이트, 설포네이트, 카복실레이트 및 사르코시네이트 계면 활성제의 염(예를 들면, 모노-, 디- 및 트리-에탄올아민 염과 같은, 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 치환된 암모늄 염)을 포함할 수 있다. 음이온성 계면 활성제는 설포네이트 또는 설페이트 계면 활성제를 포함할 수 있다. 음이온성 계면 활성제는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 알킬 설페이트, 직쇄 또는 측쇄형의 알킬 벤젠 설포네이트 또는, 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트를 포함할 수 있다.
다른 음이온성 계면 활성제에는 이세티오네이트(예: 아실 이세티오네이트), N-아실 타우레이트, 메틸 타우리드의 지방산 아미드, 알킬 석시네이트 및 설포석시네이트, 설포석시네이트의 모노에스테르(예: 포화 및 불포화 C12-18 모노에스테르), 설포석시네이트의 디에스테르(예: 포화 및 불포화 C6-14 디에스테르), N-아실 사르코시네이트가 포함된다. 송진, 수소화 송진 및, 공업용 우지에 존재하거나 이로부터 유도되는 수지산과 수소화 수지산과 같은, 수지산 및 수소화 수지산이 또한 적합하다. 본 발명에 사용하기에 적합한 음이온성 설페이트 계면 활성제에는 직쇄 및 측쇄형의 1급 및 2급 알킬 설페이트, 알킬 에톡시설페이트, 지방 올레오일 글리세롤 설페이트, 알킬 페놀 에틸렌 옥사이드 에테르 설페이트, C5-C17 아실-N-(C1-C4 알킬) 및 -N-(C1-C2 하이드록시알킬) 글루카민 설페이트, 및 알킬폴리사카나이드의 설페이트(예: 알킬폴리글루코시드의 설페이트)(비이온성 비황산화 화합물이 본 명세서에 기술되어 있다)가 포함된다. 알킬 설페이트 계면 활성제는 직쇄 및 측쇄형의 1급 C10-C18 알킬 설페이트, C11-C15 측쇄형의 알킬 설페이트 및 C12-C14 직쇄형의 알킬 설페이트로부터 선택될 수 있다.
알킬 에톡시설페이트 계면 활성제는 분자당 0.5 내지 20 mole의 에틸렌 옥사이드에 의해 에톡시화된 C10-C18 알킬 설페이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 알킬 에톡시설페이트 계면 활성제는 분자당 0.5 내지 7, 또는 1 내지 5 mole의 에틸렌 옥사이드에 의해 에톡시화된 C11-C18 또는 C11-C15 알킬 설페이트일 수 있다. 본 발명의 한 측면은 알킬 설페이트 및/또는 설포네이트와 알킬 에톡시설페이트 계면 활성제의 혼합물을 사용한다. 이러한 혼합물이 PCT 특허원 제WO 93/18124호에 기술되어 있다.
본 발명에 사용하기에 적합한 음이온성 설포네이트 계면 활성제에는 C5-C20 직쇄형 알킬벤젠 설포네이트, 알킬 에스테르 설포네이트, C6-C22 1급 또는 2급 알칸 설포네이트, C6-C24 올레핀 설포네이트, 설폰화 폴리카복실산, 알킬 글리세롤 설포네이트, 지방 아실 글리세롤 설포네이트, 지방 올레일 글리세롤 설포네이트 및 이들의 혼합물이 포함된다. 적절한 음이온성 카복실레이트 계면 활성제에는 알킬 에톡시 카복실레이트, 알킬 폴리에톡시 폴리카복실레이트 계면 활성제 및 비누('알킬 카복실'), 특히 본 명세서에 기술한 바와 같은 특정한 2급 비누가 포함된다. 적절한 알킬 에톡시 카복실레이트에는 화학식 RO(CH2CH2O)xCH2COO-M+의 화합물(여기서, R은 C6-C18 알킬 그룹이고, x는 0 내지 10의 범위이며, 에톡실레이트 분포는 중량을 기준으로 하여, x가 0인 물질의 양이 20% 미만이 되도록 하고, M은 양이온이다)이 포함된다. 적절한 알킬 폴리에톡시폴리카복실레이트 계면 활성제에는 화학식 RO-(CHR1-CHR2-O)-R3의 화합물(여기서, R은 C6 내지 C18의 알킬 그룹이며, x는 1 내지 25이고, R1 및 R2는 수소, 메틸산 라디칼, 석신산 라디칼, 하이드록시석신산 라디칼 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, R3은 수소, 탄소수가 1 내지 8인 치환되거나 치환되지 않은 탄화수소 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다)이 포함된다.
적절한 비누 계면 활성제에는 2급 탄소에 결합된 카복실 단위를 함유하는 2급 비누 계면 활성제가 포함된다. 본 발명에 사용하기에 적절한 2급 비누 계면 활성제는 2-메틸-1-운데카노산, 2-에틸-1-데카노산, 2-프로필-1-노나노산, 2-부틸-1-옥타노산 및 2-펜틸-1-헵타노산의 수용성 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 수용성 그룹이다. 거품 억제제와 같은 특정 비누가 또한 포함될 수 있다.
다른 적절한 음이온성 계면 활성제는 화학식 R-CON(R1)CH-)COOM의 알칼리 금속 사르코시네이트(여기서, R은 C5-C17 직쇄 또는 측쇄형의 알킬 또는 알케닐 그룹이고, R1은 C1-C4 알킬 그룹이며, M은 알칼리 금속 이온이다)이다. 그 예로 이들의 나트륨 염의 형태인 미리스틸 및 올레오일 메틸 사르코시네이트가 있다.
필수적으로 알콕시화 비이온성 계면 활성제, 예를 들면, 에톡시화 및 프로폭시화 비이온성 계면 활성제가 본 발명에서 적합하다. 캡핑된 비이온성 그룹과 같은, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대한 안정성을 갖는 비이온성 계면 활성제가 특히 적합하다. 알콕시화 계면 활성제는 아킬 페놀의 비이온성 축합물, 비이온성 에톡시화 알코올, 비이온성 에톡시화/프로폭시화 지방 알코올, 프로필렌 글리콜과의 비이온성 에톡실레이트/프로폭실레이트 축합물 및 프로필렌 옥사이드/에틸렌 디아민 부가물과의 비이온성 에톡실레이트 축합 생성물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.
1 내지 25 mole의 알킬렌 옥사이드, 특히 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드를 갖는 지방족 알코올의 축합 생성물이 본 발명에서 사용하기에 적합하다. 지방족 알코올의 알킬 쇄는 직쇄 또는 측쇄형의, 1급 또는 2급일 수 있고, 일반적으로 6 내지 22개의 탄소 원자를 함유할 수 있다. 탄소수가 8 내지 20인 알킬 그룹을 갖고, 알코올 mole 당 2 내지 10 mole의 에틸렌 옥사이드를 갖는 알코올의 축합 생성물이 또한 적합하다.
본 발명에 사용하기에 적합한 폴리하이드록시 지방산 아미드는 화학식 R2CONR1Z의 화합물(여기서, R1은 H, C1-C4 하이드로카빌, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 에톡시, 프로폭시 또는 이들의 혼합물, 예를 들면, C1-C4 알킬 또는 C1이나 C2 알킬이며, R2는 C5-C31 하이드로카빌, 예를 들면, 직쇄형의 C5-C19 알킬 또는 알케닐 또는, 직쇄형의 C9-C17 알킬 또는 알케닐, 또는, 직쇄형의 C11-C17 알킬 또는 알케닐이나, 이들의 혼합물이고, Z는 3개 이상의 하이드록실이 직접 쇄에 결합된 직쇄형 하이드로카빌을 갖는 폴리하이드록시하이드로카빌 또는 이의 알콕시화 유도체(예: 에톡시화 또는 프로폭시화)이다)이다. Z는, 예를 들면, Z가 글리시틸인 경우에, 환원성 아민화 반응에서 환원당으로부터 유도될 수 있다.
적절한 지방산 아미드 계면 활성제에는 화학식 R1CON(R2)2의 화합물[여기서, R1은 탄소수가 7 내지 21 또는 탄소수가 9 내지 17인 알킬 그룹이며, R2는 각각 수소, C1-C4 알킬, C1-C4 하이드록시알킬 및 -(C2H4O)xH(여기서, x는 1 내지 3의 범위이다)로 이루어진 그룹으로부터 선택된다]이 포함된다.
탄소수가 6 내지 30인 소수성 그룹 및 1.3 내지 10개의 사카라이드 단위를 함유하는 친수성 그룹인, 폴리사카라이드(예: 폴리글리코시드)를 갖는, 본 발명에 사용하기에 적합한 알킬폴리사카라이드가 미합중국 특허 제4,565,647호(Llenado)에 기술되어 있다. 알킬폴리글리코시드는 화학식 R2O(CnH2nO)t(글리코실)x(여기서, R2는 알킬, 알킬페닐, 하이드록시알킬, 하이드록시알킬페닐 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 이때 알킬 그룹은 탄소수가 10 내지 18이며, n은 2 또는 3이고, t는 0 내지 10이며, x는 1.3 내지 8이다)를 가질 수 있다. 글리코실은 글루코즈로부터 유도될 수 있다.
본 발명에 사용하기에 적합한 양쪽성 계면 활성제에는 아민 옥사이드 계면 활성제 및 알킬 암포카복실산이 포함된다. 적절한 아민 옥사이드에는 화학식 R3(OR4)xNO(R5)2의 화합물이 포함되며, 이때 R3은 알킬, 하이드록시알킬, 아실아미도프로필 및 알킬페닐 그룹이나, 이들의 혼합물로부터 선택되며, 탄소수가 8 내지 26이고, R4는 탄소수가 2 내지 3인 알킬렌 또는 하이드록시알킬렌 그룹이나, 이들의 혼합물이며, x는 0 내지 5, 바람직하게는 0 내지 3이고, R5는 각각 탄소수가 1 내지 3인 알킬 또는 하이드록시알킬 또는, 1 내지 3개의 에틸렌 옥사이드 그룹을 함유하는 폴리에틸렌 옥사이드 그룹이다. 적절한 아민 옥사이드는 C10-C18 알킬 디메틸아민 옥사이드 및 C10-C18 아실아미도 알킬 디메틸아민 옥사이드이다. 알킬 암포디카복실산의 적절한 예로는 Miranol(TM) C2M Conc.(제조원: Miranol, Inc., Dayton, NJ)이 있다.
쯔비터 이온성 계면 활성제가 또한 세정 조성물에 혼입될 수 있다. 이들 계면 활성제는 2급 및 3급 아민의 유도체, 헤테로사이클릭 2급 및 3급 아민의 유도체 또는, 4급 암모늄, 4급 포스포늄 또는 3급 설포늄 화합물의 유도체로서 광범위하게 기술될 수 있다. 베타인 및 설타인 계면 활성제가 본 발명에 사용하기 위한 예시적 쯔비터 이온성 계면 활성제이다.
적절한 베타인은 화학식 R(R1)2N+R2COO-의 화합물(여기서, R은 C6-C18 하이드로카빌 그룹이고, 각각의 R1은 통상 C1-C3 알킬이며, R2는 C1-C5 하이드로카빌 그룹이다)이다. 적절한 베타인은 C12-18 디메틸-암모니오 헥사노에이트 및 C10-18 아실아미도프로판(또는 에탄) 디메틸(또는 디에틸) 베타인이다. 착화합물 베타인 계면 활성제가 또한 본 발명에 사용하기에 적합하다.
본 발명에 사용하기에 적합한 양이온성 계면 활성제에는 4급 암모늄 계면 활성제가 포함된다. 4급 암모늄 계면 활성제는 모노 C6-C16 또는 C6-C10 N-알킬 또는 알케닐 암모늄 계면 활성제일 수 있으며, 이때 잔류하는 N-위치는 메틸, 하이드록시에틸 또는 하이드록시프로필 그룹에 의해 치환된다. 모노-알콕시화 및 비스-알콕시화 아민 계면 활성제가 또한 적합하다.
세정 조성물에 사용될 수 있는 양이온성 계면 활성제의 다른 적절한 그룹은 양이온성 에스테르 계면 활성제이다. 양이온성 에스테르 계면 활성제는 하나 이상의 에스테르(즉, -COO-) 결합 및 하나 이상의 양이온적으로 하전된 그룹을 포함하는 계면 활성제 특성을 갖는 화합물이다. 콜린 에스테르 계면 활성제를 포함한, 적절한 양이온성 에스테르 계면 활성제가, 예를 들면, 미합중국 특허 제4,228,042호, 제4,239,660호 및 제4,260,529호에 기술되어 있다. 에스테르 결합 및 양이온적으로 하전된 그룹은 3개 이상의 원자(즉, 3개 원자쇄 길이의) 또는, 3 내지 8개의 원자 또는, 3 내지 5개의 원자나, 3개의 원자를 포함하는 쇄로 이루어진 스페이서 그룹에 의해 계면 활성제 분자에서 서로로부터 분리될 수 있다. 스페이서 그룹 쇄를 형성하는 원자는 탄소, 질소 및 산소 원자와, 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 단 쇄에서 질소 또는 산소 원자는 쇄에서 단지 탄소 원자와만 결합된다. 따라서, 예를 들면, -O-O-(즉, 퍼옥사이드), -N-N- 및 -N-O- 결합을 갖는 스페이서 그룹은 배제되는 반면에, 예를 들면, -CH2O-, CH2- 및 -CH2-NH-CH2- 결합을 갖는 스페이서 그룹은 포함된다. 스페이서 그룹 쇄는 단지 탄소 원자만을 포함할 수 있거나, 쇄는 하이드로카빌 쇄이다.
조성물은, 예를 들면, 화학식 R1R2R3N+ApR4X-의 양이온성 모노-알콕시화 아민 계면 활성제를 포함할 수 있으며, 이때 R1은 탄소수가 약 6 내지 약 18, 약 6 내지 약 16 또는 약 6 내지 약 14인 알킬 또는 알케닐 잔기이고, R2 및 R3은 서로 독립적으로, 탄소수가 1 내지 약 3인 알킬 그룹(예: 메틸), 예를 들면, R2 및 R3이 모두 메틸 그룹이고, R4는 수소, 메틸 및 에틸로부터 선택되며, X-는 음이온(예: 클로라이드, 브로마이드, 메틸설페이트, 설페이트 등)이어서 전기적으로 중성을 제공하고, A는 알콕시 그룹, 특히 에톡시, 프로폭시 또는 부톡시 그룹이며, p는 0 내지 약 30, 2 내지 약 15 또는 2 내지 약 8이다. 화학식에서 ApR4 그룹은 p=1을 가질 수 있고, 탄소수가 6 이하인 하이드록시알킬 그룹으로, 이에 따라 -OH 그룹은 3개 이하의 탄소 원자에 의해 4급 암모늄 질소 원자로부터 분리된다. 적절한 ApR4 그룹은 -CH2CH2-OH, -CH2CH2CH2-OH, -CH2CH(CH3)-OH 및 -CH(CH3)CH2-OH이다. 적절한 R1 그룹은 직쇄형 알킬 그룹, 예를 들면, 탄소수가 8 내지 14인 직쇄형 R1 그룹이다.
본 발명에 사용하기에 적합한 양이온성 모노-알콕시화 아민 계면 활성제는 화학식 R1(CH3)(CH3)N+(CH2CH2O)2-5HX-이며, 이때 R1은 C10-C18 하이드로카빌 및 이들의 혼합물, 특히 C10-C14 알킬 또는 C10 및 C12 알킬이고, X는 전하 밸런스를 제공하는 용이한 음이온으로, 예를 들면, 클로라이드 또는 브로마이드이다.
알 수 있는 바와 같이, 전술한 형태의 화합물은 에톡시(CH2CH2O) 단위(EO)가 부톡시, 이소프로폭시[CH(CH3)CH2O] 및 [CH2CH(CH3)O] 단위(i-Pr) 또는 n-프로폭시 단위(Pr)나, EO 및/또는 Pr 및/또는 i-Pr 단위의 혼합물에 의해 치환되는 화합물을 포함한다.
양이온성 비스-알콕시화 아민 계면 활성제는 화학식 R1R2N+ApR3A'qR4X-를 가질 수 있으며, 이때 R1은 탄소수가 약 8 내지 약 18, 10 내지 약 16 또는 약 10 내지 약 14인 알킬 또는 알케닐 잔기이고, R2는 탄소수가 1 내지 3인 알킬 그룹, 예를 들면, 메틸이며, R3 및 R4는 독립적으로 상이할 수 있고, 수소, 메틸 및 에틸로부터 선택되며, X-는 전기적으로 중성을 제공하기에 충분한 음이온(예: 클로라이드, 브로마이드, 메틸설페이트, 설페이트 등)이다. A 및 A'는 독립적으로 상이할 수 있고, 각각 C1-C4 알콕시, 예를 들면, 에톡시(즉, -CH2CH2O-), 프로폭시, 부톡시 및 이들의 혼합물로부터 선택되며, p는 1 내지 약 30 또는 1 내지 약 4이고, q는 1 내지 약 30, 1 내지 약 4이거나, p 및 q는 모두 1이다.
본 발명에 사용하기에 적합한 양이온성 비스-알콕시화 아민 계면 활성제는 화학식 R1CH3N+(CH2CH2OH)(CH2CH2OH)X-이며, 이때 R1은 C10-C18 하이드로카빌 및 이들의 혼합물, 또는 C10, C12, C14 알킬 및 이들의 혼합물이고, X-는 전하 밸런스를 제공하는 용이한 음이온으로, 예를 들면, 클로라이드이다. 상기 제시된 바와 같은 일반적인 양이온성 비스-알콕시화 아민 계면 활성제에 있어서, 한 예시 화합물에서, R1이 (코코넛) C12-C14 알킬 분획 지방산으로부터 유도되기 때문에, R2는 메틸이고, ApR3 및 A'qR4는 각각 모노에톡시이다.
본 발명에 유용한 다른 양이온성 비스-알콕시화 아민 계면 활성제는 화학식 R1R2N+-(CH2CH2O)pH-(CH2CH2O)qHX-의 화합물을 포함하며, 이때 R1은 C10-C18 하이드로카빌 또는 C10-C14 알킬이고, p는 독립적으로 1 내지 약 3이며, q는 1 내지 약 3이고, R2는 C1-C3 알킬, 예를 들면, 메틸이며, X-는 음이온으로, 예를 들면, 클로라이드 또는 브로마이드이다.
상기 형태의 다른 화합물에는 에톡시(CH2CH2O) 단위(EO)가 부톡시(Bu), 이소프로폭시[CH(CH3)CH2O] 및 [CH2CH(CH3)O] 단위(i-Pr) 또는 n-프로폭시 단위(Pr)나, EO 및/또는 Pr 및/또는 i-Pr 단위의 혼합물에 의해 치환되는 화합물이 포함된다.
본 조성물은 본 명세서에 교시된 수성 조성물, 종종 세제 계면 활성제를 추가로 포함하지 않거나, 추가로 유기 용매나, 이 둘 모두를 포함하지 않는 조성물에서 가용성이거나 분산성인 비이온성 플루오로 계면 활성제, 양이온성 플루오로 계면 활성제 및 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 플루오로 계면 활성제를 포함할 수 있다. 적절한 비이온성 플루오로 계면 활성제 화합물은 상표명 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00001
(ex. 3M Corp.)로 현재 시판중인 물질중에서 발견된다. 예시적인 플루오로 계면 활성제는 일반적으로 플루오르화 알킬 에스테르로 기술되는 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00002
FC-740; 일반적으로 플루오르화 알킬 에스테르로 기술되는 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00003
FC-430; 일반적으로 플루오르화 알킬 에스테르로 기술되는 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00004
FC-431; 및 일반적으로 플루오르화 알킬 폴리옥시에틸렌 에탄올로 기술되는 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00005
FC-170-C를 포함한다.
적절한 비이온성 플루오로 계면 활성제 화합물은 다음 식에 따르는 것으로 여겨지는 화합물을 포함한다: CnF2n +1SO2N(C2H5)(CH2CH2O)xCH3[여기서, n은 1 내지 12 또는 4 내지 12나, 8의 값을 가지며, x는 4 내지 18, 4 내지 10 또는 7의 값을 가지고, 이는 비이온성 플루오르화 알킬 알콕실레이트로 기술되고 있으며, 이는 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00006
FC-171(ex: 3M Corp., 전에는 Minnesota Mining and Manufacturing Co.)로서 시판중이다].
또한 적절한 비이온성 플루오로 계면 활성제 화합물은 상표명 ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00007
(DuPont Performance Chemicals)로 시판되는 물질중에서 발견된다. 이들은, 예를 들면, ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00008
FSO 및 ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00009
FSN을 포함한다. 이들 화합물은 하기 화학식을 갖는다: RfCH2CH2O(CH2CH2O)xH(여기서, Rf는 F(CF2CF2)y이다). ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00010
FSO의 경우에, x는 0 내지 약 15이고, y는 1 내지 약 7이다. ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00011
FSN의 경우에, x는 0 내지 약 25이고, y는 1 내지 약 9이다.
적절한 양이온성 플루오로 계면 활성제 화합물의 예는 하기 화학식을 갖는다: CnF2n +1SO2NHC3H6N+(CH3)3I-(여기서, n은 ∼8이다). 이러한 양이온성 플루오로 계면 활성제는 상표명 Fluorad
Figure 112006076338793-PCT00012
FC-135(제조원: 3M)로 시판중이다. 적절한 양이온성 플루오로 계면 활성제의 다른 예는 F3-(CF2)n-(CH2)mSCH2CHOH-CH2-N+R1R2R3Cl-(여기서, n은 5 내지 9이고, m은 2이며, R1, R2 및 R3은 -CH3이다)이다. 이러한 양이온성 플루오로 계면 활성제는 상표명 ZONYL
Figure 112006076338793-PCT00013
FSD(제조원: DuPont, 2-하이드록시-3-((감마-오메가-퍼플루오로-C6 -20-알킬)티오)-N,N,N-트리메틸-1-프로필 암모늄 클로라이드로서 기술됨)로 시판중이다. 본 발명에 사용하기에 적합한 다른 양이온성 플루오로 계면 활성제가 또한 EP 제866,115호(Leach 및 Niwata)에 기술되어 있다.
비이온성 플루오로 계면 활성제, 양이온성 플루오로 계면 활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 플루오로 계면 활성제는 0.001 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1 중량% 및 보다 바람직하게는 0.01 내지 0.5 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
용매
본 발명의 조성물은 용매를 함유할 수 있다. 용매는 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액이 사용 전에 생성되는 경우에는, 안정성이 덜한 용매를 사용할 수 있다.
적절한 유기 용매에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, C1 -6 알칸올, C1 -6 디올, 알킬렌 글리콜의 C1 -10 알킬 에스테르, C3 -24 알킬렌 글리콜 에테르,폴리알킬렌 글리콜, 단쇄 카복실산, 단쇄 에스테르, 이소파라핀계 탄화수소, 무기 주정, 알킬 방향족 화합물, 테르펜, 테르펜 유도체, 테르페노이드, 테르페노이드 유도체, 포름알데히드 및 피롤리돈이 포함된다. 알칸올에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 펜탄올 및 헥산올과, 이들의 이성체가 포함된다. 디올에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌 및 부틸렌 글리콜이 포함된다. 알킬렌 글리콜 에테르에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노헥실 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노헥실 에테르, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 n-프로필 에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 3급 부틸 에테르, 디- 또는 리-폴리프로필렌 글리콜 메틸이나 에틸 또는 프로필이나 부틸 에테르, 아세테이트 및 글리콜 에테르의 프로피오네이트 에스테르가 포함된다. 단쇄 카복실산에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 아세트산, 글리콜산, 락트산 및 프로피온산이 포함된다. 단쇄 에스테르에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 글리콜 아세테이트 및 사이클릭 또는 직쇄형의 휘발성 메틸실옥산이 포함된다. 수불용성 용매(예: 이소파라핀계 탄화수소, 무기 주정, 알킬 방향족 화합물, 테르페노이드, 테르페노이드 유도체, 테르펜 및 테르펜 유도체)는 사용시 수용성 용매와 혼합할 수 있다.
증기압이 0.1 mmHg(20 ℃) 미만인 유기 용매의 예로는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 디프로필렌 글리콜 n-프로필 에테르, 디프로필렌 글리콜 3급 부틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 프로필 에테르, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 및 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트(모두 ARCO Chemical Company에서 시판중)가 포함된다.
용매는 0.001 내지 10 중량%, 0.01 내지 10 중량% 또는 1 내지 4 중량%의 수준으로 존재할 수 있다.
추가 부가제
조성물은 임의로 하나 이상의 하기 부가제를 함유한다: 얼룩 및 오물 반발제, 윤활제, 방향 조절제, 향료, 방향제 및 방향 방출제, 광택제 및 형광 표백제. 다른 부가제에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 산, 전해질, 염료 및/또는 착색제, 가용화 물질, 안정화제, 농후화제, 소포제, 하이드로트로프(hydrotropes), 구름점 개질제, 방부제 및 다른 중합체가 포함된다. 사용시, 가용화 물질에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 하이드로트로프(예: 저분자량 유기산의 수용성 염, 예를 들면, 톨루엔, 쿠멘 및 크실렌 설폰산의 나트륨 및/또는 칼륨 염)가 포함된다. 산에는, 사용시, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 무기산, 유기 하이드록시산, 시트르산 및 케토산 등이 포함된다. 전해질에는 사용시, 염화칼슘, 염화나트륨 및 염화칼륨이 포함된다. 농후화제에는 사용시, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 폴리아크릴산, 크산탄 고무, 탄산칼슘, 산화알루미늄, 알기네이트, 구아 고무, 메틸, 에틸, 점토 및/또는 프로필하이드록시셀룰로즈가 포함된다. 소포제에는 사용시, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 실리콘, 아미노실리콘, 실리콘 혼합물 및/또는 실리콘/탄화수소 혼합물이 포함된다.
방부제에는 사용시, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 곰팡이 저지제 또는 세균발육 저지제, 메틸, 에틸 및 프로필 파라벤, 포스페이트(예: 인산삼나트륨), 단쇄 유기산(예: 아세트산, 락트산 및/또는 글리콜산), 비스구아니딘 화합물(예: Dantagard 및/또는 Glydant) 및/또는 단쇄 알코올(예: 에탄올 및/또는 IPA)이 포함된다. 곰팡이 저지제 또는 세균발육 저지제에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, Kathon GC, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, KATHON ICP, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온 및 이들의 혼합물과, KATHON 886, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(모두 Rohm and Haas Company에서 시판중); BRONOPOL, 2-브로모-2-니트로프로판 1,3-디올(제조원: Boots Company Ltd.), PROXEL CRL, 프로필-p-하이드록시벤조에이트(제조원: ICI PLC); NIPASOL M, o-페닐-페놀, Na+ 염(제조원: Nipa Laboratories Ltd.), Nipacides(제조원: Clariant) 및 IRGASAN DP 200, 2,4,4'-트리클로로-2-하이드록시디페닐에테르(제조원: Ciba-Geigy A.G.)를 포함한 곰팡이 저지제(비-이소티아졸론 화합물을 포함함)가 포함된다.
항미생물제
본 발명의 조성물은 항미생물제를 함유할 수 있다. 항미생물제는 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액을 사용 전에 생성하는 경우에는, 안정성이 덜한 항미생물제가 사용될 수 있다.
항미생물제에는 4급 암모늄 화합물 및 페놀성 화합물이 포함된다. 이들 4급 화합물의 비제한적 예로는 벤즈알코늄 클로라이드 및/또는 치환된 벤즈알코늄 클로라이드, 디(C6-C14)알킬 디 단쇄(C1 -4 알킬 및/또는 하이드록시알킬) 4급 암모늄 염, N-(3-클로로알킬)헥사미늄 클로라이드, 벤즈에토늄 클로라이드, 메틸벤즈에토늄 클로라이드 및 세틸피리디늄 클로라이드가 포함된다. 다른 4급 화합물에는 디알킬디메틸 암모늄 클로라이드, 알킬 디메틸벤질암모늄 클로라이드, 디알킬메틸벤질암모늄 클로라이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹이 포함된다. 이로써 제한되는 것은 아니지만, 폴리헥사메틸렌 비구아니드 하이드로클로라이드, p-클로로페닐 비구아니드, 4-클로로벤즈하이드릴 비구아니드, 할로겐화 헥시딘[예: 이로써 제한되는 것은 아니지만, 클로르헥시딘(1,1'-헥사메틸렌-비스-5-(4-클로로페닐 비구아니드)] 및 이의 염을 포함한, 비구아니드 항미생물 활성 물질이 또한 이 그룹에 속한다.
증강제/ 완충제
본 발명의 조성물은 증강제 또는 완충제를 함유할 수 있다. 증강제 또는 완충제는 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액을 사용 전에 생성하는 경우에는, 안정성이 덜한 증강제 또는 완충제가 사용될 수 있다.
조성물은 조성물중 pH 조절제로서 또는 포촉제로서 사용될 수 있는 증강제 또는 완충제를 포함할 수 있다. 다양한 증강제 또는 완충제가 사용될 수 있으며, 이들은, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 포스페이트-실리케이트 화합물, 이산화탄소 또는 카보네이트, 제올라이트, 알칼리 금속, 암모늄 및 치환된 암모늄 폴리아세테이트, 니트릴로트리아세트산의 트리알칼리 염, 카복실레이트, 폴리카복실레이트, 카보네이트, 바이카보네이트, 폴리포스페이트, 아미노폴리카복실레이트, 폴리하이드록시설포네이트 및 전분 유도체를 포함한다.
증강제 또는 완충제는 또한 폴리아세테이트 및 폴리카복실레이트를 포함할 수 있다. 폴리아세테이트 및 폴리카복실레이트 화합물에는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 에틸렌디아민 테트라아세트산, 에틸렌디아민 트리아세트산, 에틸렌디아민 테트라프로피온산, 디에틸렌트리아민 펜타아세트산, 니트릴로트리아세트산, 옥시디석신산, 이미노디석신산, 멜리트산, 폴리아크릴산 또는 폴리메타크릴산 및 공중합체, 벤젠 폴리카복실산, 글루콘산, 설팜산, 옥살산, 인산, 포스폰산, 유기 포스폰산, 아세트산 및 시트르산의 나트륨, 칼륨, 리튬, 암모늄 및 치환된 암모늄 염이 포함된다. 이들 증강제 또는 완충제는 또한 부분적으로 또는 전적으로 수소 이온 형태로 존재할 수 있다.
증강제는 EDTA의 나트륨 및/또는 칼륨 염 및 치환된 암모늄 염을 포함할 수 있다. 치환된 암모늄 염은 이로써 제한되는 것은 아니지만, 메틸아민, 디메틸아민, 부틸아민, 부틸렌디아민, 프로필아민, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민, 에틸렌디아민 테트라아세트산 및 프로판올아민의 암모늄 염을 포함한다.
완충 및 pH 조절제는 사용시, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 유기산, 무기산, 실리케이트, 메타실리케이트, 폴리실리케이트, 보레이트, 하이드록시드, 카보네이트, 카바메이트, 포스페이트, 폴리포스페이트, 파이로포스페이트, 트리포스페이트, 테트라포스페이트, 암모니아, 하이드록시드, 모노에탄올아민, 모노프로판올아민, 디에탄올아민, 디프로판올아민, 트리에탄올아민 및 2-아미노-2-메틸프로판올의 알칼리 금속 및 알칼리 토 염을 포함한다. 본 발명의 조성물에 대한 바람직한 완충제는 질소 함유 물질이다. 그 예로 아미노산(예: 리신) 또는 저급 알코올 아민(예: 모노-, 디- 및 트리-에탄올아민)이 있다. 다른 바람직한 질소 함유 완충제는 트리(하이드록시메틸)아미노 메탄(TRIS), 2-아미노-2-에틸-1,3-프로판디올, 2-아미노-2-메틸-프로판올, 2-아미노-2-메틸-1,3-프로판올, 이나트륨 글루타메이트, N-메틸 디에탄올아르니드, 2-디메틸아미노-2-메틸프로판올(DMAMP), 1,3-비스(메틸아민)-사이클로헥산, 1,3-디아미노-프로판올-N,N'-테트라메티-1,3-디아미노-2-프로판올, N,N-비스(2-하이드록시에틸)글리신(비신) 및 N-트리스(하이드록시메틸)메틸 글리신(트리신)이다. 다른 적절한 완충제는 암모늄 카바메이트, 시트르산, 아세트산을 포함한다. 상기의 혼합물이 또한 허용된다. 유용한 무기 완충제/알칼리성 공급원은 암모니아, 알칼리 금속 카보네이트 및 알칼리 금속 포스페이트(예: 탄산나트륨, 다중인산나트륨)를 포함한다. 부가 완충제의 경우, 본 명세서에 참조로 인용된 제WO 95/07971호를 참조한다. 다른 바람직한 pH 조절제는 수산화나트륨 또는 수산화칼륨을 포함한다.
사용시, 증강제, 완충제 또는 pH 조절제는 세정 조성물의 약 0.001% 이상, 통상 약 0.01 내지 5%를 포함한다. 바람직하게는, 증강제 또는 완충제는 약 0.01 내지 2%이다.
안전한 것으로 일반적으로 인정된 물질
본 발명에 따르는 물질은 에센셜 오일, 올레오 수지(용매-부재) 및 천연 추출물(증류물 포함)과, 합성 방향 물질 및 보조제를 포함한, 일반적으로 안전한 것으로 인정된 물질(GRAS; Generally Recognized As Safe)을 포함할 수 있다. 조성물은 또한 건조 식품으로 이동되는 것으로 밝혀진 목면, 목면 텍스타일, 종이 및 판지 스톡 건조 식품 포장재(본 명세서에서 기판으로 언급함)에서 통상 발견되는 GRAS 물질을 포함할 수 있으며, 추론해 보면, 이들 포장재를 본 조성물에 대한 기판으로서 사용하는 경우에 본 조성물로 이동될 수 있다.
본 발명의 조성물은 GRAS 물질을 함유할 수 있다. GRAS 물질은 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액을 사용 전에 생성하는 경우에는, 안정성이 덜한 GRAS 물질이 사용될 수 있다.
적절한 GRAS 물질이 본 명세서에 참조로 인용된 미합중국 식품의약품국(the United States Food and Drug Administration, Department of Health and Human Service, Parts 180.20, 180.40 및 180.50)의 연방 규정 코드(the Code of Federal Regulations; CFR) 타이틀 21에 제시되어 있다. 이들 적절한 GRAS 물질은 에센셜 오일, 올레오 수지(용매-부재) 및 천연 추출물(증류물 포함)을 포함한다. GRAS 물질은 조성물에 약 10 중량% 이하로, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
적절한 GRAS 물질에는 오일 및 올레오 수지(용매-부재)와 알파파, 오올스파이스, 아몬드 비터(프루스산 부재), 용연향, 앰브렛 씨드, 안젤리카, 앙고스투라(쿠스파리아 바크), 아니스, 행인(퍼식 오일), 아사페티다, 밤(레몬 밤), 발삼(페루의), 바질, 베이 릴브, 베이(미르시아 오일), 베르가못(베르가못 오렌지), 보아 드 로즈(Aniba rosacodora Ducke), 카카오, 카모마일(chamonmile) 꽃, 카난자, 고추, 카럼실, 소두구(cardamon), 유럽 콩나무, 당근, 카스커릴라피, 계피, 캐스토리움, 셀러리 종자, 실론(Cinnamomum zeylanicum Nees), 계피(껍질과 잎), 시트로넬라, 감귤 껍질, 샐비어과(clary sage), 토끼풀, 코카(탈코카인화), 커피, 코냑 오일(백색 및 녹색), 콜라 열매(kola nut), 고수, 커민(cummin), 쿠라사우 오렌지 껍질, 쿠스파리아피, 민들레, 개밀(유럽개밀, triticum), 접골 목화, 에스트라골(esdragol, esdragon, estragon, tarragon), 회향(sweet), 호로파, 양강(galangal), 제라늄, 생강, 그레이프프루트, 번석류, 히코리 껍질, 쓴박하(hoarhound), 홉, 호스민트, 히솝풀, 영구화(Helichrysum augustifolium DC), 쟈스민, 향나무속(berries), 월계수 베리 및 잎, 라벤더, 레몬, 레몬 그래스, 레몬 껍질, 라임, 보리수꽃, 로우커스트 콩, 루풀린, 메이스, 만다린(Citrus reticulata Blanco), 마요나라, 마테 차, 멘톨(멘틸 아세테이트 포함), 당밀(추출물), 사향(Tonquin musk), 겨자, 나린진, 등화(bigarade), 육두구, 양파, 오렌지(비터, 꽃, 잎, 껍질), 오리가넘, 팔마로사, 파프리카, 파슬리, 복숭아핵, 퍼스 오일, 후추(흑색, 백색), 피넛(stearine), 페퍼민트, 페루 발삼, 페티그레인 레몬, 페티그레인 만단린(또는 탕제린), 피멘타, 피멘타 잎, 큰매화노루발풀잎, 석류, 가시 서양물푸레나무피, 마르멜로씨, 장미(absolute, 향유, 봉오리, 꽃, 과일, 열매, 잎), 로즈 제라늄, 로즈마리, 사프론, 세이지, 세인트 존 브레드, 세이버리, 시너스 몰(Schinus molle L), 슬로베리, 양박하, 스파이크 라벤더, 타마린드, 탕제린, 사철쑥, 차(Thea sinensis L.), 백리향, 투베로사, 심황, 바닐라, 바이올렛(꽃, 잎), 야생 체리껍질, 일랑일랑나무 및 아술피로부터 유도된 천연 추출물(증류물 포함)이 포함된다.
적절한 합성 방향 물질 및 보조제가 본 명세서에 참조로 인용된 미합중국 식품의약품국(the United States Food and Drug Administration, Department of Health and Human Service, Parts 180.60)의 연방 규정 코드(the Code of Federal Regulations; CFR) 타이틀 21에 제시되어 있다. 이들 GRAS 물질은 조성물에 약 1 중량% 이하로, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
일반적으로 이들의 의도하는 용도에 대해 안전한 것으로 인정된 적절한 합성 방향 물질 및 보조제에는 아세트알데히드(에탄알), 아세토인(아세틸 메틸카비놀), 아네톨(파라프로페닐 아니솔), 벤즈알데히드(벤조산 알데히드), n-부티르산(부타노산), d- 또는 l-카르본(카르볼), 신남알데히드(신나믹 알데히드), 시트랄(2,6-디메틸옥타디엔-2,6-알-8, 제라-니알, 네랄), 데카날(N-데실알데히드, 카프르알데히드, 카프릭 알데히드, 카프린알데히드, 알데히드 C-10), 에틸 아세테이트, 에틸 부티레이트, 3-메틸-3-페닐 글리시드산 에틸 에스테르(에틸-메틸-페닐-글리시데이트, 소위 스트로베리 알데히드, C-16 알데히드), 에틸 바닐린, 제라니올(3,7-디메틸-2,6 및 3,6-옥타디엔-1-올), 제라닐 아세테이트(제라니올 아세테이트), 리모넨(d-, l- 및 dl-), 리날룰(리날올, 3,7-디메틸-1,6-옥타디엔-3-올), 리날릴 아세테이트(베르가몰), 메틸 안트라닐레이트(메틸-2-아미노벤조에이트), 피페로날(3,4-메틸렌디옥시-벤즈알데히드, 헬리오트로핀) 및 바닐린이 포함된다.
건조 식품 포장재에 사용되는 목면, 목면 텍스타일, 종이 및 판지 물질로 아마도 이동하는 것으로 확인된 본 발명의 조성물에 존재할 수 있는 적절한 GRAS 물질이 본 명세서에 참조로 인용된 미합중국 식품의약품국(the United States Food and Drug Administration, Department of Health and Human Service, Parts 180.70 및 180.90)의 연방 규정 코드 타이틀 21에 제시되어 있다. GRAS 물질은 부가에 의해 또는 우발적으로 기판으로부터 본 발명에 사용되는 조성물로의 이동으로 인하여 조성물에 존재하거나, 두 메카니즘 모두에 의해 존재할 수 있다. 존재한다면, GRAS 물질은 조성물에 약 1 중량% 이하의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명에서 기판으로서 사용되는 목면 또는 목면 텍스타일 물질로부터 기인하는 것으로 확인된, 본 발명에 사용하기에 적합한 GRAS 물질에는 소 우지, 카복시메틸셀룰로즈, 코코넛 오일(정제), 옥수수 전분, 젤라틴, 라아드, 돼지 기름, 올레산, 땅콩유, 감자 전분, 나트륨 아세테이트, 염화나트륨, 나트륨 실리케이트, 나트륨 트리폴리포스페이트, 콩기름(경화), 활석, 우지(경화), 우지 플레이크, 타피오카 전분, 파이로인산사나트륨, 밀 전분 및 염화아연이 포함된다.
본 발명에서 기판으로서 사용되는 종이 또는 판지 스톡 물질로부터 기인하는 것으로 확인된, 본 발명에 사용하기에 적합한 GRAS 물질에는 백반(알루미늄 및 암모늄 칼륨 또는 나트륨의 이중 황산염), 수산화알루미늄, 알루미늄 올레에이트, 알루미늄 팔미테이트, 카제인, 셀룰로즈 아세테이트, 옥수수 전분, 규조토 충전제, 에틸 셀룰로즈, 에틸 바닐린, 글리세린, 올레산, 칼륨 소르베이트, 이산화실리콘, 나트륨 알루미네이트, 염화나트륨, 나트륨 헥사메타포스페이트, 아황산수소나트륨, 나트륨 포스포알루미네이트, 나트륨 실리케이트, 나트륨 소르베이트, 나트륨 트리폴리포스페이트, 소르비톨, 대두 단백질(분리됨), 전분(산 개질되고, 예비 젤라틴화되고, 개질되지 않음), 활석, 바닐린, 아황산수소아연 및 황산아연이 포함된다.
방향제
본 발명의 조성물은 방향제를 함유할 수 있다. 방향제는 장기간 저장을 원하는 경우에, 차아할로산 또는 차아할로산염에 대해 안정해야 한다. 조성물 용액을 사용 전에 생성하는 경우에는, 안정성이 덜한 방향제가 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은 약 0.001 내지 약 5 중량%의 방향제를 포함할 수 있다. 본 발명의 조성물은 약 0.005 내지 약 2.5 중량%의 방향제를 포함할 수 있다. 본 발명의 조성물은 약 0.01 내지 약 1 중량%의 방향제를 포함할 수 있다.
본 명세서에 사용된 바와 같이, 용어 "방향제(fragrance)"는 조성물에 전반적인 좋은 방향 프로필을 부여하기 위하여 사용되는 향료 원료의 혼합물과 관련이 있다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, 용어 "향료(perfume) 원료"는 갇히지 않은 상태에서, 예를 들면, 프로-향료의 경우에, 향료 성분이 본 발명의 목적을 위해, 향료 원료인 것으로 여겨지고, 프로-화학 앵커는 갇힘 물질로 여겨지는 경우에, 오디페로스(odiferous)한 화학적 화합물과 관련이 있다. 또한, "향료 원료"는 ClogP 값이 바람직하게는 0.1보다 크고, 보다 바람직하게는 약 0.5보다 크며, 보다 더 바람직하게는 약 1.0보다 크 물질로 정의된다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, 용어 "ClogP"는 옥탄올/물 분배 계수의 기본 10에 대한 로그를 의미한다. 이는 "CLOGP"(제조원: Daylight Chemical Information Systems Inc., Irvine Calif., U.S.A.)라 불리우는 프로그램으로부터 용이하게 계산할 수 있다. 옥탄올/물 분배 계수는 미합중국 특허 제5,578,563호에 보다 상세히 기술되어 있다.
공지된 천연 오일을 포함하는 개개 향료 원료는 당해 분야의 숙련가가 통상 사용하는 저널(예: "Perfume and Flavourist" 또는 "Journal of Essential Oil Research")을 참조로 확인할 수 있다. 또한, 일부 향료 원료는 독점의 특수 제공의 형태로 혼합물로서 향료 하우스에서 공급한다. 향료 오일을 본 발명에 대한 적절한 특성과 함께 개발할 수 있기 위해서, 향료 원료는 두 개의 주요 물리적 특성을 근거로 분류된다.
(i) 1기압에서 측정되는 비점(BP). 많은 향료 물질의 비점은 문헌(참조: Perfume and Flavor Chemicals(Aroma Chemicals), Steffen Arctander (1969))에 제시되어 있다. 본 발명에 사용하기 위한 향료 원료는 휘발성 원료(이는 비점이 약 250 ℃ 미만 또는 그와 같다) 및 잔류 원료(이는 비점이 약 250 ℃보다 크고, 바람직하게는 약 275 ℃보다 크다)로 구분된다. 모든 향료 원료는 바람직하게는 비점(BP)이 약 500 ℃ 또는 그 이하이다.
(ii) 후각적으로 감지할 수 있는 물질의 최저 증기 농도로서 정의되는 방향 감지 최저선. 방향 감지 최저선 및 방향 감지 최저값이, 예를 들면, 문헌(참조: "Standardized Human Olfactory Thresholds", M. Devos et al, IRL Press at Oxford University Press, 1990 및 "Compilation of Odor and Taste Threshold Values Data", F.A. Fazzalar, editor ASTM Data Series DS 48A, American Society for Testing and Materials, 1978; 이 둘 모두 참조로 인용됨)에서 논의되고 있다. 본 발명에 사용하기 위한 향료 원료는 방향 감지 최저선이 50 ppb(parts per billion) 미만, 바람직하게는 10 ppb 미만인 물질 및 50 ppb 이상에서 감지할 수 있는 높은 방향 감지 최저선을 갖는 물질로 분류할 수 있다(상기 참조로부터 측정되는 값).
일반적으로, 향료 원료는 단일 개개 화합물을 의미하므로, 이들의 물리적 특성(예: ClogP, 비점, 방향 감지 최저선)은 상기 인용된 텍스트를 참조로 확인할 수 있다. 향료 원료가 천연 오일인 경우에, 이는 몇몇 화합물의 혼합물을 포함하며, 완전한 오일의 물리적 특성은 개개 성분의 중량 평균으로 고려해야 한다. 향료 원료가 독점 특수 제공인 경우에, 물리적 특성은 공급처로부터 얻어야 한다.
일반적으로, 광범위한 범위의 적절한 향료 원료는 미합중국 특허 제4,145,184호, 제4,209,417호, 제4,515,705호 및 제4,152,272호에서 확인할 수 있다. 본 발명을 위해 방향제를 제형화하기 위하여 혼합하는데 유용한 향료 원료의 비제한적 예가 하기에 제시된다. 당해 분야의 숙련가에게 공지된 향료 원료, 천연 오일 또는 독점 특수 공급물이 본 발명에서 사용될 수 있다.
본 발명에서 유용한 휘발성 향료 원료는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 상대 분자량이 약 200 이하인 알데히드, 상대 분자량이 약 225 이하인 에스테르, 상대 분자량이 약 200 이하인 테르펜, 상대 분자량이 약 200 이하인 알코올, 상대 분자량이 약 200 이하인 케톤, 니트릴, 피라진 및 이들의 혼합물로부터 선택된다.
방향 감지율이 낮은, 비점이 250 ℃ 이하인 휘발성 향료 원료의 예는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 아네톨, 메틸 헵틴 카보네이트, 에틸 아세토 아세테이트, 파라 시멘, 네롤, 데실 알데히드, 파라 크레졸, 메틸 페닐 카비닐 아세테이트, 이논 알파, 이논 베타, 운데실렌 알데히드, 운데실 알데히드, 2,6-노나디엔알, 노닐 알데히드, 옥틸 알데히드로부터 선택된다. 일반적으로 방향 감지 최저선이 낮은 것으로 공지된, 비점이 250 ℃ 이하인 휘발성 향료 원료의 다른 예는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 페닐 아세트알데히드, 아니스 알데히드, 벤질 아세톤, 에틸-2-메틸 부티레이트, 다마세논, 다마스콘 알파, 다마스콘 베타, 플로르 아세테이트, 프루텐, 프럭톤, 헤르바베르트, 이소사이클로 키랄, 메틸 이소부테닐 테트라하이드로 피란, 이소 프로필 퀴놀린, 2,6-노나디엔-1-올, 2-메톡시-3-(2-메틸프로필)-피라진, 메틸 옥틴 카보네이트, 트리데센-2-니트릴, 알릴 아밀 글리콜레이트, 사이클로갈바네이트, 사이크랄 C, 멜로날, 감마 노나락톤, 시스 1,3-옥사티안-2-메틸-4-프로필을 포함한다.
방향 감지 최저선이 높은 본 발명에 유용한, 비점이 250 ℃ 이하인 다른 휘발성 향료 원료는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 벤즈알데히드, 벤질 아세테이트, 캄포르, 카르본, 보르네올, 보닐 아세테이트, 데실 알코올, 유칼립톨, 리날룰, 헥실 아세테이트, 이소아밀 아세테이트, 티몰, 카바크롤, 리모넨, 멘톨, 이소아밀 알코올, 페닐 에틸 알코올, 알파 피넨, 알파 테르피네올, 시트로넬롤, 알파 투존, 벤질 알코올, 베타 감마 헥센올, 디메틸 벤질 카비놀, 페닐 에틸 디메틸 카비놀, 아독살, 알릴 사이클로헥산 프로피오네이트, 베타 피넨, 시트랄, 시트로넬릴 아세테이트, 시트로넬랄 니트릴, 디하이드로 미르세놀, 제라니올, 제라닐 아세테이트, 제라닐 니트릴, 하이드로퀴논 디메틸 에테르, 하이드록시시트로넬랄, 리날릴 아세테이트, 페닐 아세트알데히드 디메틸 아세탈, 페닐 프로필 알코올, 프레닐 아세테이트, 트립랄, 테트라하이드로리날룰, 베르독스 및 시스-3-헥세닐 아세테이트로부터 선택된다.
방향 감지 최저선이 낮은, 비점이 250 ℃보다 큰 잔류하는 "중간 및 기본 노트" 향료 원료의 예는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 에틸 메틸 페닐 글리시데이트, 에틸 바닐린, 헬리오트로핀, 인돌, 메틸 안트라닐레이트, 바닐린, 아밀 살리실레이트 및 쿠마린으로부터 선택된다. 비점이 250 ℃보다 큰 잔류하는 향료 원료의 다른 예는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 암브록스, 바에다놀, 벤질 살리실레이트, 부틸 안트라닐레이트, 세탈록스, 에바놀, 시스-3-헥세닐 살리실레이트, 릴리알, 감마 운데카락톤, 감마 도데카락톤, 감마 데카락톤, 칼론, 사이말, 디하이드로 이소 자스모네이트, 이소 유게놀, 리랄, 메틸 베타 나프틸 케톤, 베타 나프톨 메틸 에테르, 파라 하이드록실 페닐 부타논, 8-사이클로헥사데센-1-온, 옥소사이클로헥사데센-2-온/하바놀리드, 플로르하이드랄 및 인트렐레벤 알데히드를 포함한다.
본 발명에 유용하지만 방향 감지 최저선이 높은, 비점이 250 ℃보다 큰 다른 잔류하는 "중간 및 기본 노트" 향료 원료는, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 유게놀, 아밀 신나믹 알데히드, 헥실 신나믹 알데히드, 헥실 살리실레이트, 메틸 디하이드로 자스모네이트, 산달로레, 벨로우톤, 운데카베르톨, 엑살톨리드/사이클로펜타데카놀리드, 진게론, 메틸 세드릴론, 산델라, 디메틸 벤질 카비닐 부티레이트, 디메틸 벤질 카비닐 이소부티레이트, 트리에틸 시트레이트, 카시메란, 펜옥시 에틸 이소부티레이트, 이소유게놀 아세테이트, 헬리오날, 이소 E 수퍼, 이논 감마 메틸, 펜탈리드, 갈락솔리드 및 펜옥시 에틸 프로피오네이트로부터 선택된다.
물 및 pH
물은 약 99.999% 미만의 수준으로 존재해야 한다. 물은 탈이온화하고, 여과하여 금속 및 유기 탄소를 포함하는 불순물을 제거하고, 역삼투로 정제하거나, 증류에 의해 정제하거나, 이들의 조합으로 정제할 수 있다. 정제수는 나트륨 양이온 교환법, 수소 양이온 교환법, 역삼투법, 활성탄 처리, UV 광 처리, UVC, 오존 처리, 염소화, 한외 여과, 나노 여과, 전기투석 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 공정에 의해 제조할 수 있다. 제조 도중, 차아염소산염에 의해 산화되는 화합물의 도입을 방지하기 위하여 위생 및 격리에 대한 요구가 존재할 수 있는데, 이는 이들이 수 ppm의 손실이 중요할 수 있는 저농도에서 보다 중요해지기 때문이다.
조성물은 pH 조절제를 사용하여 pH를 조절할 수 있다. 적절한 pH 조절제에는 이산화탄소, 알칼리 금속 카보네이트, 알칼리 금속 바이카보네이트, 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 금속 하이드록사이드, 알칼리 포스페이트 염, 알칼리 토 포스페이트 염, 알칼리 보레이트 염, 염산, 질산, 황산, 알칼리 금속 황산수소, 아세트산, 다양한 공급원으로부터의 비니거, 다른 카복실산, 폴리카복실레이트, 유기 설폰산, 설팜산, 아민, 알킬 아민, 디알킬 아민 및 트리알킬 아민이 포함된다. 조성물은 1 내지 13의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 2 내지 12의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 2 내지 5의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 5 내지 8의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 6 내지 8의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 6 내지 7.5의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 9 내지 13의 pH를 가질 수 있다. 조성물은 10 내지 12의 pH를 가질 수 있다.
사용 방법
조성물은 에어로 분산시킬 수 있다. 조성물은 분무기, 증발기, 네불라이저, 레이저 생성 슬릿이 있는 호스 또는 분무 장치를 사용하여 분산시킬 수 있다. 조성물은 급습기를 사용하는 것과 같은, 연속 베이스로 전달할 수 있다. 조성물은 타이머상에 캐니스터를 사용하는 것과 같은, 펄스 베이스로 전달할 수 있다. 한 분무 장치는 제WO 0120988호에 기술된 바와 같은, 정전기적 분무기이다. 조성물은 피부 표면에 적용시킬 수 있다. 조성물은 이중 챔버 병, 트리거 분무 병, 에어로졸 캐니스터 및 표백제 펜과 같은 다양한 용기로부터 전달할 수 있다.
조성물은 유리, ABS, 폴리카보네이트, 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리프로필렌, 저밀도 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리비닐클로라이드를 포함한, 다양한 용기에 저장하거나 선적할 수 있다. 다양한 부가제가 조성물의 안정성에 영향을 줄 수 있다. 예를 들면, 폴리에틸렌 수지의 밀도는 소량의 단쇄 알킬렌(예: 부텐, 헥센 또는 옥텐)에 의해 공중합시켜 개질시킬 수 있다. 착색제, UV 차단제, 불투명화제 및 산화 방지제[예: 장애된 페놀, 예를 들면, BHT, Irganox 1010(Ciba-Geigy A.G.), Irganox 1076(Ciba-Geigy A.G.), Ionol(Shell Chemical Co.)]와 같은 다양한 다른 부가제를 가할 수 있다. 이형제 및 가소화제를, 특히 다른 형태의 플라스틱에 가할 수 있다. 용기는 저장 안정성을 증가시키기 위하여 차단 필름을 가질 수 있다. 적절한 차단 필름에는 나일론, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 플루오르화 폴리에틸렌 및 Barex(British Petroleum에서 시판중인 아크릴로니트릴 및 메틸메타크릴레이트의 공중합체)가 포함될 수 있다.
조성물은 의류, 침구, 가구, 커튼 및 카펫을 포함한 부드러운 표면에 적용시킬 수 있다. 조성물은 분무에 의해, 와이핑에 의해, 직접 도포에 의해, 침지에 의해 또는 세탁 공정의 일부로서 부드러운 표면에 적용시킬 수 있다.
조성물은 부엌 표면, 화장실 표면, 벽, 마루, 외부 표면, 자동차, 카운터탑, 식품 접촉면, 장난감, 과일 및 야채를 포함하는 식품을 포함한 단단한 표면에 적용시킬 수 있다. 조성물은 분무에 의해, 와이핑에 의해, 직접 도포에 의해, 침지에 의해 또는 통상의 세정 공정의 일부로서 단단한 표면에 적용시킬 수 있다.
조성물은 외부 피부면 및 내부 공동을 포함한, 사람 및 동물 표면에 적용시킬 수 있다. 조성물은 보다 낮은 피부 민감도를 가질 수 있고, 경구 또는 흡입에 의해 투여하는 것이 적절할 수 있다. 조성물은 분무에 의해, 와이핑에 의해, 직접 도포에 의해, 침지에 의해 또는 통상의 처리 과정의 일부로서 사람 및 동물 표면에 적용시킬 수 있다. 조성물은 진한 겔로서 적용시킬 수 있다. 조성물은 이의 도포를 유도하는 장치(예: 표백제 펜)를 사용하여 적용시킬 수 있다. 조성물은 상처 드레싱으로서 적용시킬 수 있다.
조성물은 비생물체, 마루, 카운터탑, 가구, 창, 벽을 포함한 가구 표면 및 자동차 상에 부직포 기판, 와이프 또는 세정용 패드를 사용하여 적용시킬 수 있다. 조성물은 장난감, 병, 고무 젖꼭지 등을 포함한, 아기 및 아이들용 품목에 적용시킬 수 있다. 조성물은 외부 피부 표면 및 내부 공동을 포함한, 사람 및 동물 표면에 부직포 기판, 브러시, 스폰지, 와이프 또는 세정용 패드를 사용하여 적용시킬 수 있다. 다른 표면에는 스테인레스 스틸, 크롬 및 샤워 부속물이 포함된다. 부직포 기판, 와이프 또는 세정용 패드는 개별적으로 또는 캐니스터, 터브 등에 함께 포장될 수 있다. 부직포 기판, 와이프 또는 세정용 패드는 손으로 또는 핸들이 있는 것과 같이 도구나 모터 도구에 부착된 세정용 기구의 일부로서 사용될 수 있다. 부직포 기판, 와이프 또는 패드를 사용하는 도구의 예는 미합중국 특허 제6,611,986호(Seals), 제WO 00/71012호(Belt 등), 미합중국 특허 제2002/0129835호(Pieroni and Foley) 및 제WO 00/27271호(Policicchio 등)를 포함한다.
특정 용도를 위해, 예를 들면, 사람 및 동물 표면에 대해 조성물은 농후화시킬 수 있다. 조성물은 계면 활성제 농후화제, 중합체 농후화제 또는 다른 방법을 사용하여 농후화시킬 수 있다. 농후화는 보다 조절된 적용이나, 장치로부터의 적용을 허용할 수 있다. 조성물은 40 내지 10,000 cps의 점도로 농후화시킬 수 있다. 농후화 및 비농후화 조성물의 예를 미합중국 특허 제6,162,371호, 제6,066,614호, 제6,153,120호, 제6,037,318호, 제6,313,082호, 제5,688,435호, 제6,413,925호, 제6,297,209호, 제6,100,228호, 제5,916,859호, 제5,851,421호, 제5,688,756호, 제5,767,055호, 제5,055,219호 및 제5,075,029호에서 확인할 수 있다.
전기분해 셀에서 클로라이드의 음극 산화로 차아염소산염, 클로라이트, 클로레이트 및 퍼클로레이트를 포함한 수많은 옥시염소 이온이 생성된다. 클로라이트는 클로레이트로 용이하게 산화된다. 퍼클로레이트는 이의 낮은 반응성, 높은 운동성 및 갑상샘 기능의 억제로 인하여, 환경에서 바람직하지 못한 오염물일 수 있다. 가성수의 염소화를 통한 차아염소산염의 생성이 퍼클로레이트를 형성하는 것으로 여겨지지 않는다. 이 경로는 소량의 퍼클로레이트가 바람직하지 못한 경우의 특정 용도에 대해 유용할 수 있다.
조성물은 고체 조성물과 물을 혼합하여 제조할 수 있다. 고체 조성물은 정제, 과립 조성물, 페이스트 또는 다른 고체 조성물일 수 있다. 조성물은 액체 조성물을 물로 희석하여 제조할 수 있다. 물은 정제할 수 있다. 조성물은, 예를 들면, 이중 챔버 용기 또는 이중 챔버 분무 병으로부터 두 액체를 혼합하여 제조할 수 있다.
본 발명의 조성물은 사용 전에 수돗물 또는 고순도의 물로 희석시킬 수 있다. 예를 들면, 병에 미리 희석시킴과 같이, 저장을 위한 희석된 조성물의 제조는 보다 고순도의 물을 필요로 할 수 있다. 이러한 보다 고순도의 물은, 예를 들면, 증류, 여과, 나트륨 양이온 교환(연수), 수소 양이온 교환(음이온 교환없이 탈이온수), 역삼투, 활성탄 처리, 한외 여과, 나노 여과, 전기투석 및 UV 광 처리를 포함한 다양한 공정에 의해 수득할 수 있다.
본 발명의 조성물은 사용 전에 진한 액체 또는 고체 조성물로부터 희석시킬 수 있다. 예를 들면, 임의로 5.25%의 유효 염소 농도의 계면 활성제 또는 다른 부가제를 함유하는 액체 차아염소산나트륨은 500 ppm 미만의 유효 염소 농도로 희석시킬 수 있다. 고체 차아염소산염 또는 차아염소산염 생성제를 갖는 정제 또는 분말은 물에 용해시켜 조성물을 500 ppm 미만의 농도로 만들 수 있다. 희석시킬 수 있는 조성물의 예가 미합중국 특허 제6,297,209호, 제6,100,228호, 제5,851,421호, 제5,688,756호, 제5,376,297호, 제5,034,150호, 제6,534,465호, 제6,503,877호, 제6,416,687호, 제6,180,583호 및 제6,051,676호에 기술되어 있다.
본 발명의 조성물은, 예를 들면, 미합중국 특허 제5,954,213호, 제5,316,159호, 제WO 2004/014760호, 미합중국 특허 제6,610,254호 및 제6,550,694호에 기술된 바와 같이, 다구획 전달 시스템의 일부로서 전달할 수 있다.
본 발명의 조성물은 물을 정제하고, 소비를 위해 물을 안전하게 만들기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 식품 세정용으로, 식품 접촉면 세정용으로 및 독물학적으로 안전한 세정을 위해 사용될 수 있다. 이는 식품에 안전한 성분, GRAS 성분 또는 독물학적으로 충격이 낮은 성분의 사용을 포함할 수 있다. 이러한 사용을 기술한 방법 및 가능한 조성물은 미합중국 특허 제6,455,086호, 제6,313,049호, US 제2002/0132742호, 제2001/0014655호, 제WO 99/00025호 및 US 제2002/0151452호에서 확인할 수 있다.
본 발명의 조성물은 의료 기구를 멸균시키기 위하여 사용될 수 있다. 묽은 차아염소산염은 관 및 다른 민감한 부분을 진한 차아염소산염보다 덜한 정도로 변색시키거나 분해시킨다. 조성물은 신장 투석기에 또는 근관치료학적 처치에 세척제로서 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 종양 세포를 사멸시키고, 종양 세포 인지에 영향을 주며, 아폽토시스를 유도하기 위하여 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은 농업용으로, 예를 들면, 종자 및 씨딩 처리, 과실수용 동기살포, 저장 곡식 처리, 수확후 식물 재료 및 이들의 용기를 위한 침지 또는 분무, 땅 또는 용기 상의 오물을 위한 처리, 시장으로 운반 및 저장을 위한 처리, 시장(소매 또는 도매)에서 운반, 저장 및 디스플레이를 위한 처리, 수입 및 수출 규정을 위한 처리 및, 외래 충해 유기체의 우발적 도입을 방지하기 위한 처리에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 쇠고기, 가금, 낙농, 해산물, 및 양식 산업, 예를 들면, 장치 처리, 거처 처리, 계란 및 용기에 대한 침지나 분무, 쇠고기 및 용기에 대한 침지나 분무, 작동을 위한 처리, 시장으로 운반 및 저장을 위한 처리, 시장(소매 또는 도매)에서 운반, 저장 및 디스플레이를 위한 처리, 수입 및 수출 규정을 위한 처리, 경계 지역으로부터 외래 충해 유기체를 방지하기 위한 처리, 동물의 젖통 처리를 포함한, 살아있는 동물(육상 또는 해상)에 대한 질환 치료, 및 착유 장치, 전달 라인 및 용기에 대한 침지 또는 분무에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 자국의 안전을 위해, 예를 들면, 외래 충해 유기체 또는 죽은 사람이나 동물 유기체의 고의적 도입을 방지하기 위한 처리에 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은 새로 자른 꽃 및 다른 자른 식물들의 신선도를 보존하고 유지하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 줄기 및 절단부의 부패 및 잎과 꽃의 상태에 기여하는 미생물의 생성을 방지하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 새로 딴 과일 및 야채(예: 딴 멜론, 칸탈루프, 스트로베이, 감자 등)의 저장 기간을 보존하고 연장하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 신선한 스트로베리 및 다른 과일과 야채로부터 간염 비루스 A를 근절하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 알파파, 밀, 보리 및 모든 다른 식용 식물을 포함한 다양한 식물의 종자를 처리하여 식품-함유 질환의 발병[예: 살모넬라(Salmonella), 이. 콜라이(E. Coli), 캄필로박터(Campylobacter) 등]을 억제하기 위한 싹 산업에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 곰팡이가 슨 구두를 세척하고 처리하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 스폰지, 치즈-천, 종이 타올 및 다른 부직 제품을 사용하여 연질 및 경질 표면으로부터 곰팡이, 세균 및 비루스를 세정하고, 제거하고, 사멸하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 학교에서 곰팡이를 억제하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 분무 또는 와이프 제품으로서 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 학교에서 경질 표면상의 세균의 퍼짐을 억제하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 세균을 사멸하기 위하여 세탁시 사용할 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 환경적 표면 및 사람을 통해 전달되는 모든 세균을 사멸하기 위하여 경질 표면에 분무 또는 와이프로서 적용될 수 있는 경우에, 장기간 치료 센터 및 공공 짐에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 타올 및 세균을 옮기는 다른 제품을 소독하기 위하여 세탁시 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 질병-유발제(예: SARS, 칼리시비루스, 엔테로비루스, FMD 및 다른 비루스)를 방제하기 위하여 공원, 거리, 공공장소에서 대규모로 분무될 수 있는 경우에, 공공 지역을 위해 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 모든 환경적 표면을 소독하기 위하여 와이프 또는 스프레이로서 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 노르워크 비루스, 칼리시비루스 및 인플루엔자 비루스인 경우에 전파를 억제하기 위하여 사용될 수 있는 경우에, 배 및 크루즈 배에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 살모넬라 및 캄필로박터로 인한 교차 오염을 방제하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 생물학적 전쟁 제제(예: Anthrax, BT, Sarin, Small Pox 및 SARS 등)의 잠재적 존재하에 있는 경우, 사람(즉, 군인, 의사 등)에 분무하기 위하여 사용될 수 있는 경우에, 생물학적 전쟁으로부터 보호하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 군차량, 비행기 및 기타를 소독하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 병원균의 전파를 억제하기 위하여 비행기(내부 및 외부), 기차, 버스 및 모든 종류의 운송 수단을 소독하기 위해 사용될 수 있는 경우, 감염제의 소동을 억제하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 공항 및 다른 출입구에서 구두(침지 또는 분무의 와이프를 통해)를 소독하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 이들이, 예를 들면, 뉴질랜드 민달팽이 및 다른 민달팽이나 해충을 방제하기 위하여 스프레이로서 사용될 수 있는 경우, 해충을 방제하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 벼룩을 죽이기 위해 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 이들이 경질 표면 및 연질 표면 상의 동물 및 새 비루스를 방제하기 위하여 사용될 수 있는 경우, 동물 및 곤충 병원균을 방제하는데 사용될 수 있다. 이러한 비루스에는 SARS, 새 플루 비루스, 칼리시비루스, 광우병 비루스, 파르보비루스 및 펠린 비루스 등이 포함된다. 또한, 이들은 다양한 병원균을 억제하기 위하여 유두를 침지시키기 위하여 사용될 수 있다.
조성물은 액체 조성물을 포함하는 용기; 일련의 지침서 및 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 알레르겐 중화제를 포함하는 액체 조성물을 포함하는 제조 제품의 일부일 수 있으며, 이때 일련의 지침서는 경질 표면, 연질 표면 또는 에어로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 표적을 그 자체로, 또는 희석된 형태의 액체 조성물과 접촉시켜 질병 또는 이의 조합을 방지하기 위한 지침서를 포함한다.
조성물은 제조 제품의 일부일 수 있으며, 이때 제조 제품은 사용 지침서 외에, 건강, 헬시어(healthier), 질병의 발생 감소, 가정에서 질병의 퍼짐 억제, 질병으로부터 각자 가족의 보호, 가정의 헬시어 유지, 가족을 잘 유지, 가정에서 질병의 사이클 파괴, 통상의 질병의 위험 감소 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 부분을 포함하는 부가의 지침서를 포함한다.
조성물은 제조 제품의 일부일 수 있으며, 이때 제조 제품은 사용 지침서 이외에, 곰팡이 알레르겐의 중화, 곰팡이로부터 독성의 변성, 곰팡이로부터 독성의 중화, 단백질 알레르겐의 중화, 알레르겐 억제, 세정에 의한 알레르겐의 제거, 와이핑에 의한 알레르겐의 제거, 세탁시 알레르겐의 제거, 호흡기 질병의 감소, 건초열의 감초, 장기결석의 감소, 곰팡이 알레르겐의 변성, 알레르겐성 반응의 방지, 사람에서 알레르기성 반응의 방지, 곰팡이로 인한 알레르기성 증상의 방지, 곰팡이 박멸, 곰팡이 포자의 파괴, 건강상 역효과를 유발하는 곰팡이 포자의 파괴, 동물에서 곰팡이-촉발 알레르기 민감성의 방지로 입증됨, 곰팡이-촉발 알러지 민감성의 위험성의 감소, 곰팡이-촉발 알레르기 반응 위험성의 감소, 알레르기 증상을 유도하는 곰팡이 포자의 파괴, 곰팡이 특정 항원의 중화 및 곰팡이에 대한 비-면역 염증 반응의 방지로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 부분을 포함하는 부가의 지침서를 포함한다.
조성물은 제조 제품의 일부일 수 있다. 제조 제품은 일련의 지침서를 포함할 수 있다. 일련의 지침서는 대중에게 용기와, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 알레르겐 중화제를 포함하는 액체 조성물을 포함하는 제조 제품의 사용을 위한 일련의 지침서를 제공함으로써 대중에 지침을 주는 방법에 의해 사용될 수 있으며, 이때 일련의 지침서는 경질 표면, 연질 표면 또는 에어로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 표적을 그 자체로, 또는 희석된 형태의 액체 조성물과 접촉시켜 질병 또는 이의 조합을 방지하기 위한 지침서를 포함한다. 지침서는 차아할로산염 조성물을 포함하는 액체 조성물에 의해 질병의 확산을 방지하는 것과 관련될 수 있다. 대중에 대한 지시 방법은 알레르기성 반응이 꽃가루, 먼지 응애 또는 곰팡이 알레르겐에 대한 반응을 나타내는 정보를 포함할 수 있다. 일련의 지침서는 전자 및/또는 인쇄 매체를 통해 대중에 제공될 수 있다. 일련의 지침서는 패키지에 인접한 판매 지점에 붙일 수 있다. 일련의 지침서는 액체 조성물, 표적 표면 또는 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터의 제품과 관련된 주소로 글로벌 컴퓨터 네트워크 상에 위치할 수 있다.
차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 알레르겐 중화제를 포함하는 액체 조성물의 사용 촉진 방법은 알레르기성 반응 및/또는 질병을 방지하는 사용 지침서를 포함할 수 있으며, 본 방법은 경질 표면, 연질 표면 또는 에어로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 표적을 조성물로 처리하여 알레르기성 반응 및/또는 질병을 감소시키고/시키거나 방지함을 대중에 알리는 단계를 포함한다. 조성물의 사용 촉진 방법은 전자 및/또는 인쇄 매체를 통해 소비자에게 알리는 단계를 포함할 수 있다.
조성물의 용도에는 동물에서 알레르기성 반응을 시험하기 위한 생체내 시험 방법을 포함할 수 있으며, 이때 시험 방법은 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물로 처리한 알레르겐의 피하 주사를 포함한다.
표 I은 희석된 차아염소산염 용액은 특히, 금속 이온, 염 및 전체 유기 탄소(TOC; total organic carbon)(표 II)가 비교적 존재하지 않는 물로 희석시키는 경우에, 거의 중성 pH에서 양호한 안정성을 가짐을 나타낸다. 진한 차아염소산나 트륨의 초기 농도는 6.24% 차아염소산나트륨이고, 안정성 샘플은 174 oz. Clorox
Figure 112006076338793-PCT00014
표백제 병에 저장한다.
초기 유효 염소 9.9일후 120℉에서의 손실률 19.7일후 120℉에서의 손실률 30.7일후 120℉에서의 손실률
진한 차아염소산염 및 수돗물 84.2(pH 7.53) 17.1% 23.7% 33.4%(pH 7.84)
진한 차아염소산염 및 연수a 83.0(pH 7.53) 19.3% 22.8% 26.0%(pH 8.11)
진한 차아염소산염 및 DDI 수b 82.3(pH 7.53) 11.7% 17.7% 23.1%(pH 7.10)
진한 차아염소산염 및 DI 수c 83.3(pH 7.53) 10.9% 16.9% 22.0%(pH 7.18)
진한 차아염소산염 및 RO 수d 83.0(pH 7.53) 11.0% 15.9% 19.4%(pH 7.52)
진한 차아염소산염 및 RO/DI 수e 85.0(pH 7.53) 11.8% 17.3% 22.1%(pH 7.20)
a. 나트륨 양이온 교환 공정으로부터 수득한 연수.
b. DDI는 탈이온화된 다음, 물을 증류한다.
c. DI는 수소 양이온 교환 공정으로부터 수득한다.
d. RO는 역삼투 공정으로부터 수득한다.
e. RO/DI는 역삼투 공정에 이어서, 수소 양이온 교환 공정으로부터 수득한다.
물 공급원 TOC, ppm Cu, ppb
수돗물 0.702 129
연수 3.030 <70
DDI 수 측정되지 않음 측정되지 않음
DI 수 0.065 <70
RO 수 0.052 <70
RO/DI 수 0.059 <70
표 III은 희석된 차아염소산염 용액은 특히, 금속 이온 및 염이 비교적 존재하지 않는 물로 희석시키는 경우에, 거의 중성 pH에서 양호한 안정성을 가짐을 나타낸다. 용액은 또한 킬레이트화제(예: 파이로포스페이트 및 오르토포스페이트)의 존재하에 양호한 안정성을 갖는다. 진한 차아염소산나트륨의 초기 농도는 6.448% 차아염소산나트륨이다.
초기 유효 염소 (ppm)(pH) 27일후 70℉에서의 손실률 27일후 120℉에서의 손실률
진한 차아염소산염 및 수돗물 79(pH 7.6) 7% 52%
진한 차아염소산염 및 증류된 탈이온수 77(pH 7.5) 0% 22%
진한 차아염소산염, 23ppm 오르토포스페이트, 증류된 탈이온수 81(pH 7.6) 6% 25%
진한 차아염소산염, 11.5ppm 파이로포스페이트, 증류된 탈이온수 80(pH 7.6) 4% 29%
표 IV는 불순물 농도를 갖는 본 발명의 조성물을 나타낸다. 이들 불순물의 저농도는 조성물의 안정성을 향상시킬 수 있다. 어떤 경우에, 불순물의 초기 농도는 더 높을 수 있고, 불순물은 시간이 경과함에 따라, 덜 반응성이거나 불활성으로 만들 수 있다. 이들 경우에 있어서, 조성물은 노화시 증가된 안정성을 가질 수 있다.
희석된 차아염소산염 희석된 차아염소산염
유효 염소, ppm 200ppm 40ppm
pH 7.9 5.1
구리 <100ppb <80ppb
니켈 <10ppb <8ppb
코발트 <30ppb <20ppb
전체 유기 탄소 <500ppb <200ppb
표 V는 먼지 응액 알레르겐이 희석된 차아염소산염 용액에 의해 5 ppm 까지의 유효 염소로 효과적으로 변성됨을 나타낸다. 4 ppm에서 희석된 차아염소산염 용액에 대해 수득된 pH는 6.51이다. 조성물은 또한 30초 이내에 알레르겐에 대해 효과적이다.
생성물 효능 스크리닝은 개질된 항체 포착 ELISA(이때 재조합 항원은 폴리스티렌 위로 피복시키고, 생성물은 소정의 웰에 직접 가하여, 선택된 기간 동안 배양하며, 생성물 처리 웰의 결과는 비처리 웰의 것에 대해 비교하고, 농도는 표준 곡선에 대해 계산한다)를 사용하여 수행한다. 이 방법은 항체-항원 착화합물에 영향을 주는 생성물 간섭은 고려하지 않는데, 이는 생성물을 항원/알레르겐에 직접 가하기 때문이며, 웰은 과량의 생성물로 세척하고, 표지된 항체는 항원의 나머지에서 배양함이 항원 포착 ELISA와 상이하다. 단백질 절단은 SDS-PAGE 법에 의해 설명되며, 알레르기 활성(항원에 결합하는 항체)의 손실률은 웨스턴 블롯(Western blot)(면역 블롯)으로 관찰한다.
유효 염소, ppm 먼지 응액 알레르겐, %감소
희석된 차아염소산염 0.77 75
4.0 98
7.8 99
19.4 100
38.4 100
57.7 100
77 100(30 sec)
표 VI은 희석된 차아염소산염이 스타필로코쿠스 아우레우스(Staphylococcus aureus)에 대한 효능으로 측정되는 바와 같이 위생 및 소독에 효과적임을 나타낸다. 시험은 AOAC 살균 분무 제품 시험법(Germicidal Spray Products test method(AOAC 961.02, 15th edition, SOP No. 001-057-06)을 사용하여 수행한다. AOAC 합성 브로스에서 성장시킨 대략 48시간의 스타필로코쿠스 아우레우스 현탁액을 시험에 사용한다. 배양 농도는 건조시 슬라이드당 4 x 104의 표적물을 수득하도록 조절한다. 유기 오물 부하로 수행되는 수행을 위해, 별도의 박테리아 현탁액은 태아 소 혈청을 사용하여 제조하며, 이때 혈청 부하는 5%이다. 0.01 ㎖의 용적을 유리 슬라이드 마다 접종한다. 멸균된 휜 니들을 사용하여 종균을 가장자리로부터 1/8" 이내로 퍼지도록 한다. 각각의 접종 수행시, 슬라이드는 완전히 건조될 때 까지 35 ℃의 배양기에서 건조시킨다. 시험 전에, 병 캡을 트리거 분무기로 대체한다. 트리거를 장착하고, 6 내지 8 ㎝ 거리로부터 2 내지 3초 동안 오염된 표면을 분무하여 시험을 개시한다. 표면은 약 3 내지 4회의 꽉찬 펌프에 의해 완전히 습윤된다. 트리거당 분배되는 생성물의 양은 2.24 내지 2.90 g의 범위이다. 오염된 표면 위로 피펫팅되는 샘플의 경우, 분배 용적은 슬라이드 마다 2.5 ㎖(필터 페이퍼 있음) 및 슬라이드 마다 5 ㎖(필터 페이퍼 없음)이다.
유효 염소, ppm pH 잔류 박테이라를 갖는 샘플
희석된 차아염소산염 707.6 9.70 0/60
1개월 동안 120℉에서 저장한 후 희석된 차아염소산염 63.4 7.36 0/60
표 VII은 조성물이 다양한 비루스 및 포자를 사멸하는데 효과적임을 나타낸다.
희석된 차아염소산염
폴리오 I 비루스 효과적
인플루엔자 A 비루스 효과적
조성물은 곰팡이 성장을 억제하는데 효과적이다. 페트리 디쉬에서 페니실륨 곰팡이에 대해 시험된 희석된 차아염소산염은 성장 억제를 제공한다.
희석된 차아염소산염 조성물은 냄새를 조절하는데 효과적이다. 희석된 차아염소산염은 냄새 분자 자체를 산화시키고, 이들을 보다 작은 무향 성분으로 분해할 뿐만 아니라, 냄새-유발 박테리아를 사멸함으로써 냄새를 조절할 수 있다. 초기 시험은 작은 플라스틱 용기에 마늘 쥬스를 사용하여 수행한다. 마늘 쥬스 한 방울을 실온에서 두 개의 플라스틱 용기에 각각 가한 다음, 10분 동안 평형화시킨다. 그 다음에, 용기를 개방하고, 하나는 희석된 차아염소산염으로, 하나는 담수로 분무한다. 이어서, 용기를 밀폐시키고, 다시 10분 동안 평형화시킨다. 그 다음에, 용기의 코너를 개방하여 내용물의 냄새를 맡는다. 희석된 차아염소산염으로 분무한 용기는 물로 분무한 것보다 마늘 냄새가 덜하다.
본 발명의 조성물은 다른 차아염소산염 조성물에 비하여, 최소한의 직물 손상을 제공할 수 있다. 목면, 레이온 및 모는 젖을 때 까지 희석된 차아염소산염으로 분무하고, 분무 사이에 건조시킨다. 시험은 20+ 이상 분무에 대해 반복한다. 가시적 손상은 관찰되지 않는다. 표백제 민감한 청색-염색된 목면 견본(Intralite Turquoise GL)을 희석된 차아염소산염 용액에서 침지시킨다. 견본은 수 시간 동안 변색을 나타내지 않는다. 보다 오랫동안 침지시키는 경우에 일부 표백이 관찰되며, 24시간 후에 용이하게 관찰할 수 있다.
본 발명의 조성물은 용액에서 아스퍼질러스 푸미가투스 코니디아 포자를 사멸시키고, 용액에서 아스퍼질러스 푸미가투스 코니디아 항원을 비활성화시키는 것으로 밝혀졌다. 조성물은 또한 경질 표면에서 시험한다. 본 발명의 조성물은 물(무)에 비하여 드라이월 상의 곰팡이 성장을 6log 감소시키는 것으로 밝혀졌다. 본 발명의 조성물은 물(무)에 비하여 플라이우드 상의 곰팡이 성장을 6log 감소시키는 것으로 밝혀졌다. 본 발명의 조성물은 물(무)에 비하여 배향된 스트랜드 보드 상의 곰팡이 성장을 6log 이상 감소시키는 것으로 밝혀졌다. 본 발명의 조성물은 사람에서 생체내 알레르기성 반응에 대해 시험하며, 이때 시험 방법은 조성물로 처리하는 알레르겐의 피하 주사를 포함한다. 배향된 스트랜드 판 상의 처리 후에 잔사는 아스퍼질러스 푸미가투스에 대한 포지티브 피부 찌름의 히스토리를 갖는 시험 대상에 대해 시험한 피부를 찌름으로써 평가한다.
생체내 시험으로부터의 결과는 본 발명의 조성물이 알레르겐에 의해 유발되는 호흡성 질환을 감소시키거나 방지하고, 알레르기를 감소시키거나 방지한다고 제시하고 있다.
본 발명은 당해 분야의 숙련가에게 신규 원리를 적용시키고 필요한 전문화된 성분을 제조하고 사용하는 것과 관련된 정보를 제공하기 위하여 본 명세서에 상당히 상세히 기술하였다. 그러나, 본 발명은 상이한 장치, 물질 및 장치에 의해 수행될 수 있고, 장치 및 작동 방법에 대한 다양한 변형이 본 발명의 범위 자체를 벗어남이 없이 성취될 수 있음을 알아야 한다. 또한, 이들 변화 및 변형은 하기의 청구 범위의 완전 동등한 범위 내에서 적절히, 공정하게 하고자 한다.

Claims (26)

  1. a. 차아할로산, 차아할로산염, 차아할로산 생성 그룹, 차아할로산염 생성 그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 활성 물질의 공급원을 제공하는 단계 및
    b. 공급원을 정제수로 희석하여 안정한 희석된 조성물을 제공하는 단계를 포함하며,
    c. 여기서, 안정한 희석된 조성물의 유효 염소 농도가 1.0 내지 약 1200 ppm인, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법.
  2. a. 활성 할로겐 함량이 유효 염소로서 약 0.5% 보다 큰 제1 용액을 제조하는 단계 및
    b. 제1 용액을 정제수로 희석하여 제2 용액을 제공하는 단계를 포함하며,
    c. 여기서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 1.0 내지 약 1200 ppm이고,
    d. 제2 용액이 70 ℉의 저장 온도에서 27일 동안 90% 이상의 유효 염소 농도를 보유하는, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 제2 용액이 120 ℉의 저장 온도에서 30.7일 동안 70% 이상 의 유효 염소 농도를 추가로 보유하는 방법.
  4. 제2항에 있어서, 제2 용액의 pH가 pH 5 보다 크고 pH 10 미만인 방법.
  5. 제2항에 있어서, 제2 용액의 pH가 pH 5 보다 크고 pH 9 미만인 방법.
  6. 제2항에 있어서, 제2 용액의 pH가 pH 5 보다 크고 pH 8 미만인 방법.
  7. 제2항에 있어서, 제2 용액의 pH가 pH 5 보다 크고 pH 7 미만인 방법.
  8. 제2항에 있어서, 제2 용액의 pH가 pH 6 보다 크고 pH 8 미만인 방법.
  9. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 800 ppm 미만인 방법.
  10. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 500 ppm 미만인 방법.
  11. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 200 ppm 미만인 방법.
  12. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 100 ppm 미만인 방법.
  13. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 80 ppm 미만인 방법.
  14. 제2항에 있어서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 40 ppm 미만인 방법.
  15. 제2항에 있어서, 제2 용액의 점도가 40 내지 10,000 cps인 방법.
  16. 제2항에 있어서, 정제수가 나트륨 양이온 교환법, 수소 양이온 교환법, 역삼투법, 활성탄 처리, UV 광 처리, 한외 여과, 나노 여과, 전기투석 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 공정에 의해 제조되는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 정제수가 이온 교환법에 의해 제조되는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 정제수가 이온 교환 공정에 이어서, 활성탄, UV 광 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 공정에 의한 처리에 의해 제조되는 방법.
  19. 제2항에 있어서, 제2 용액이 약 100 ppb 미만의 구리, 약 100 ppb 미만의 니켈, 약 30 ppb 미만의 코발트 및 약 500 ppb 미만의 전체 유기 탄소를 포함하는 방법.
  20. 제2항에 있어서, 제2 용액이 알레르겐을 처리하는데 사용되는 방법.
  21. 제2항에 있어서, 제2 용액이 경질 표면, 식품 접촉면, 병원 표면, 식품 표면, 부엌 표면, 욕실 표면, 사람 표면, 종양 세포, 피부 표면, 동물 표면, 군장비, 운반 장비, 어린이용품, 식물 표면, 종자, 외부 표면, 연질 표면, 에어(air), 상처, 의료 기구 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 표면을 처리하는데 사용되는 방법.
  22. a. 활성 할로겐 함량이 유효 염소로서 약 0.5% 보다 큰 제1 용액을 제조하는 단계 및
    b. 제1 용액을 정제수로 희석하여 제2 용액을 제공하는 단계를 포함하며,
    c. 여기서, 제2 용액의 유효 염소 농도가 1.0 내지 약 1200 ppm이고,
    d. 제2 용액의 pH가 pH 5 보다 크고 pH 8 미만인, 차아할로산, 차아할로산염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정한 희석된 조성물의 제조 방법.
  23. 제22항에 있어서, 제1 용액이 상기 pH 범위를 성취하기 위하여 pH 조절제를 추가로 포함하는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 제1 용액이 이산화탄소, 알칼리 금속 카보네이트, 알칼리 금속 바이카보네이트, 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 금속 하이드록사이드, 알칼리 포스페이트 염, 알칼리 토 포스페이트 염, 알칼리 보레이트 염, 염산, 질산, 황산, 알칼리 금속 황산수소, 아세트산, 다른 카복실산, 폴리카복실레이트, 유기 설폰산, 설팜산 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 pH 조절제를 포함하는 방법.
  25. 제22항에 있어서, 정제수가 상기 pH 범위를 성취하기 위하여 pH 조절제를 포함하는 방법.
  26. 제25항에 있어서, 제1 용액이 이산화탄소, 알칼리 금속 카보네이트, 알칼리 금속 바이카보네이트, 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 금속 하이드록사이드, 알칼리 포스페이트 염, 알칼리 토 포스페이트 염, 알칼리 보레이트 염, 염산, 질산, 황산, 알칼리 금속 황산수소, 아세트산, 다른 카복실산, 폴리카복실레이트, 유기 설폰산, 설팜산 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 pH 조절제를 포함하는 방법.
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Patent event date: 20061023

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

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