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KR20040034744A - Fabrication method for Liquid crystal display - Google Patents

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KR20040034744A
KR20040034744A KR1020020062782A KR20020062782A KR20040034744A KR 20040034744 A KR20040034744 A KR 20040034744A KR 1020020062782 A KR1020020062782 A KR 1020020062782A KR 20020062782 A KR20020062782 A KR 20020062782A KR 20040034744 A KR20040034744 A KR 20040034744A
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백동기
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 소정의 전극패턴을 갖는 제 1기판과, 상기 전극패턴에 대응하는 접속단자를 갖는 제 2기판을 마련하는 단계와; 상기 두 기판 중 어느 하나의 기판 위에 도전막을 증착하는 단계와; 상기 도전막을 패터닝하여 상기 제 1기판의 전극패턴과 상기 제 2기판의 접속단자를 전기적으로 접속시키는 도통영역을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the steps of: preparing a first substrate having a predetermined electrode pattern and a second substrate having a connection terminal corresponding to the electrode pattern; Depositing a conductive film on one of the two substrates; Patterning the conductive film to form a conductive region electrically connecting the electrode pattern of the first substrate and the connection terminal of the second substrate; Characterized in that it comprises a.

여기서, 상기 도통영역의 내부영역 또는 상기 도통영역의 내부영역에 대응하는 다른 기판의 소정영역에는 상기 두 기판을 합착시키기 위한 씰영역이 추가로 형성됨을 특징으로 한다. 이때, 상기 씰영역은 동일한 선폭을 갖고 형성됨을 특징으로 한다.Here, a seal region for joining the two substrates may be further formed in a predetermined region of another substrate corresponding to the inner region of the conductive region or the conductive region. At this time, the seal region is characterized in that it is formed with the same line width.

이와 같은 본 발명은, 상기 기판의 외부 둘레에 형성되는 도통영역의 폭을 감소시킴으로써, 감소된 영역만큼 실제 영상표시영역을 확대할 수 있는 장점이 있다.As described above, the present invention has the advantage that the actual image display area can be enlarged by the reduced area by reducing the width of the conductive area formed around the outer side of the substrate.

Description

액정표시장치의 제조방법{Fabrication method for Liquid crystal display}Fabrication method for liquid crystal display

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 특히 동일한 기판 크기에서 보다 넓은 영상표시영역을 확보하는데 적당한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a method for manufacturing a liquid crystal display device suitable for securing a wider image display area at the same substrate size.

액정표시장치는 컬러 필터 및 공통전극이 형성된 제 1기판과, 상기 제 1기판과 마주보며, TFT(Thin Film Transistor) 및 화소전극이 배열된 제 2기판, 그리고 양 기판 사이에 주입되는 액정물질을 포함하는 장치로써, 그 내부에 주입된 액정물질의 광 스위칭(switching) 성질을 이용한 디스플레이 장치이다. 이러한, 액정표시장치는 전력소모가 적고 경박단소화가 가능하여 오늘날 CRT 모니터를 대체할 차세대 디스플레이 장치로 각광을 받고 있다.The liquid crystal display includes a first substrate on which a color filter and a common electrode are formed, a second substrate facing the first substrate, a thin film transistor (TFT) and an array of pixel electrodes, and a liquid crystal material injected between both substrates. Including a device, a display device using the light switching properties of the liquid crystal material injected therein. The liquid crystal display device has been in the spotlight as the next generation display device to replace the CRT monitor because of its low power consumption and light weight.

이러한, 액정표시장치의 제조 공정의 하나인 기판 합착공정은 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 일정한 내부공간(cell gap; 이하 '쎌갭')이 형성되도록 접착하고, 그 내부공간에 액정을 주입하여, 상기 제 1, 제 2기판을 전기적으로 도통시키는 공정이다. 이 과정에서 씰(seal)제, 간극제, 도통제 등이 사용된다.The substrate bonding process, which is one of manufacturing processes of the liquid crystal display, is bonded to form a predetermined cell gap (hereinafter, referred to as a 'gap gap') between the first substrate and the second substrate, and injects liquid crystal into the inner space. In this way, the first and second substrates are electrically conductive. In this process, a sealant, a gap agent, a conductive agent and the like are used.

상기 씰제는 에폭시(epoxy) 수지와 같은 열 경화성 수지 물질로, 상기 제 1기판 또는 제 2기판의 외곽 둘레에 라인 형상(이하 '씰라인(seal)')으로 형성되어, 상기 두 기판을 접착시키는 역할과 함께 상기 두 기판 사이의 쎌갭에 주입된 액정층에 외부 물질이 유입되는 것을 방지한다.The sealant is a thermosetting resin material such as an epoxy resin, and is formed in a line shape (hereinafter, referred to as 'seal') around the periphery of the first or second substrate to bond the two substrates together. In addition to the role, the foreign material is prevented from entering the liquid crystal layer injected into the gap between the two substrates.

상기 간극제는, 플라스틱 볼이나 글라스 파이버와 같은 물질로, 상기 씰라인 내부영역에 위치하여 합착된 상기 두 기판사이의 간격을 일정하게 유지시킨다.The gap agent is made of a material such as a plastic ball or glass fiber, which is located in the inner region of the seal line to maintain a constant gap between the two bonded substrates.

상기 도통제는, 니켈, 은과 같은 도전성 물질로, 상기 씰라인의 외부영역에 위치하여 상기 제 1기판의 공통전극에서 인출된 패드패턴을 상기 제 2기판의 접속단자에 전기적으로 접속시킨다.The conductive agent is a conductive material such as nickel or silver, and is electrically connected to a connection terminal of the second substrate, the pad pattern drawn out of the common electrode of the first substrate and positioned at an outer region of the seal line.

한편, 도 1은 종래의 액정표시장치용 기판에 형성된 씰영역과 도통영역을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a seal region and a conductive region formed on a conventional liquid crystal display substrate.

도 1을 참조하면, 상기 기판의 테두리에 씰제가 인쇄되어 씰영역(120)을 형성하고, 상기 씰영역의 외부 영역에 도통제가 도팅되어 도통영역(110)을 형성한다.Referring to FIG. 1, a sealant is printed on an edge of the substrate to form a seal region 120, and a conductive agent is coated on an outer region of the seal region to form a conductive region 110.

이때 상기 씰영역(120)과 도통영역(110)은 서로 겹치지 않아야 하는데, 이는 씰영역(120)에 도통제가 겹쳐질 경우 접착성이 약화되기 때문이다. 이로 인해 도통영역(110)에서는 씰라인의 굴곡이 생기게 되고, 그 결과 실제 이용되는 영상표시영역(Pa)이 기판면적에 비해 작아지는 문제점이 생긴다.In this case, the seal region 120 and the conductive region 110 should not overlap each other, because when the conductive agent overlaps the seal region 120, the adhesiveness is weakened. As a result, bending of the seal line occurs in the conductive region 110. As a result, the image display region Pa actually used becomes smaller than the substrate area.

한편, 도 2는 종래의 다른 액정표시장치용 기판에 형성된 씰영역과 도통영역을 나타낸 도면이다.2 is a view showing a seal region and a conductive region formed on another conventional liquid crystal display substrate.

도 2를 참조하면, 상기 기판의 경우 영상표시영역(Pa')을 희생하지 않기 위하여 도통영역(210)이 위치한 부분에서의 씰라인 선폭을 줄여 형성하였다. 그 결과기판 합착시 상기 도통영역(210)이 있는 부분과 없는 부분에 따라 기판 접착력이 달라지게 되는데, 이러한 기판 접착력의 차이는 상기 두 기판 사이의 쎌갭 확보를 어렵게 한다. 상기 쎌갭이 일정하지 않으면 그 부분을 통과하는 빛의 투과도가 달라져 공간적으로 불균일한 밝기를 나타내는 유니포머티(Uniformity) 불량이 나타난다. 또한, 상기 기판 접착력의 차이는 도통영역(210)에 의한 상기 두 기판간의 전기적 접속을 불안정하게 하여 화면의 영상이 떨리는 플리커(flicker) 현상이 나타난다.Referring to FIG. 2, in order to avoid sacrificing the image display area Pa ′, the substrate is formed by reducing the line width of the seal line at the portion where the conductive area 210 is located. As a result, when the substrate is bonded, the substrate adhesion force varies depending on the portion with and without the conductive region 210. This difference in substrate adhesion makes it difficult to secure the gap between the two substrates. If the gap is not constant, the transmittance of light passing through the portion is changed, resulting in uniformity defects indicating spatially uneven brightness. In addition, the difference in the adhesive strength of the substrate may cause an unstable electrical connection between the two substrates by the conductive region 210, resulting in a flicker phenomenon in which an image of the screen is shaken.

이처럼, 종래의 액정표시장치에 있어서 상기 씰영역(120)(220)을 도 1 또는 도 2와 같이 형성하는 이유는 기술상의 문제로 상기 도통영역(110)(210)의 폭(또는 두께)을 줄이는데 한계가 있기 때문이다. 잘 알려진 바와 같이 상기 도통영역(110)(210)은 도통제를 기판에 찍어주는 도팅법 또는 소정의 패턴(pattern)으로 인쇄하는 인쇄법 등으로 형성되는데, 이러한 기계적 방법으로 형성된 도통영역은 통상 300 ~ 500㎛의 폭을 갖게 되며, 그 이하로 줄이는데는 한계가 있었다.As such, in the conventional liquid crystal display, the reason for forming the seal regions 120 and 220 as shown in FIG. 1 or FIG. 2 is due to a technical problem. The width (or thickness) of the conductive regions 110 and 210 may be reduced. There is a limit to the reduction. As is well known, the conduction regions 110 and 210 are formed by a dotting method that imprints a conduction agent on a substrate or a printing method that prints a predetermined pattern. The conduction region formed by such a mechanical method is generally 300. It had a width of ˜500 μm, and there was a limit to reducing it below.

이상에서 살펴본 바와 같이, 종래의 액정표시장치는 기술상의 한계로 인하여 도통영역의 폭이 컸고, 이로 인해 실제 영상표시영역이 축소되거나 기판 합착시 쎌갭의 유니포머티(Uniformity) 불량 및 플리커(flicker) 현상이 유발되는 문제점이 있었다.As described above, the conventional liquid crystal display device has a large conduction area due to technical limitations. As a result, the gap of uniformity and flicker of the gap is reduced when the actual image display area is reduced or when the substrate is bonded. There was a problem that caused the phenomenon.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 창출된 것으로서, 액정표시장치용 기판 위에 도전막을 증착하고, 사진식각(Photolithography)법과 같은 극미세화 식각기술로 도전막을 패터닝하여 형성한 극미세 도전막 패턴으로 도통영역을 형성함으로써 상기 도통영역의 폭을 감소시키고, 감소된 영역만큼 영상표시영역을 확대할 수 있는 액정표시장치의 제조방법을 제시하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention was created to solve the above problems, and conducts a conductive film pattern formed by depositing a conductive film on a substrate for a liquid crystal display device and patterning the conductive film by an extremely fine etching technique such as a photolithography method. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of reducing the width of the conductive region by forming a region and enlarging the image display region by the reduced region.

도 1은 종래의 액정표시장치용 기판에 형성된 씰영역과 도통영역을 나타낸 도면.1 is a view showing a seal region and a conductive region formed in a conventional liquid crystal display substrate.

도 2는 종래의 다른 액정표시장치용 기판에 형성된 씰영역과 도통영역을 나타낸 도면.2 is a view showing a seal region and a conductive region formed on another conventional liquid crystal display substrate.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 기판을 나타낸 도면.3 is a view showing a substrate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 Ⅰ-Ⅰ'을 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating II ′ of FIG. 3.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 기판의 제조 공정을 나타낸 도면.5A to 5F illustrate a manufacturing process of a substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 패널을 나타낸 도면.6 is a view showing a panel for a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

110, 210...도통영역120, 220...씰(seal)영역110, 210 ... conduction area 120, 220 ... seal area

300, 500...기판310...씰라인(seal line)300, 500 ... 310 substrate ... Seal line

320...기판 도통부330, 520...보호막320 ... board conduction part 330, 520 ... shield

330a, 521...콘택홀501...블랙매트릭스(BM)330a, 521.Contact hole 501.Black matrix (BM)

502...컬러필터(color filter)510...공통전극(ITO)502 color filter 510 common electrode (ITO)

530a...도전막530b...도전막 패턴530a ... Conductor 530b ... Conductor Pattern

540a...포토레지스트 막540b...포토레지스트 패턴540a ... photoresist film 540b ... photoresist pattern

600...기판610...화소전극600 substrate 610 pixel electrode

620...접속단자630...간극제(spacer)620 ... Connector 630 ... Spacer

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은,Method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object,

소정의 전극패턴을 갖는 제 1기판과, 상기 전극패턴에 대응하는 접속단자를 갖는 제 2기판을 마련하는 단계와;Providing a first substrate having a predetermined electrode pattern and a second substrate having a connection terminal corresponding to the electrode pattern;

상기 두 기판 중 어느 하나의 기판 위에 도전막을 증착하는 단계와;Depositing a conductive film on one of the two substrates;

상기 도전막을 패터닝하여 상기 제 1기판의 전극패턴과 상기 제 2기판의 접속단자를 전기적으로 접속시키는 도통영역을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.Patterning the conductive film to form a conductive region electrically connecting the electrode pattern of the first substrate and the connection terminal of the second substrate; Characterized in that it comprises a.

여기서, 상기 제 2기판의 접속단자는 그 일단이 전원부와 전기적으로 접속되어 있고, 타단이 도통영역과 전기적으로 접속되어 있다.Here, one end of the connection terminal of the second substrate is electrically connected to the power supply unit, and the other end is electrically connected to the conduction area.

그리고, 상기 도통영역의 내부영역 또는 상기 도통영역의 내부영역에 대응하는 다른 기판의 소정영역에는 상기 두 기판을 합착시키기 위한 씰영역이 추가로 형성됨을 특징으로 한다.Further, a seal region for joining the two substrates may be further formed in a predetermined region of another substrate corresponding to the inner region of the conductive region or the conductive region.

특히, 상기 씰영역은 동일한 선폭을 갖고 형성되고, 상기 씰영역은 굴곡이 없는 일직선으로 형성됨을 특징으로 한다.In particular, the seal area is formed with the same line width, the seal area is characterized in that formed in a straight line without bending.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 기판을 나타낸 도면이고, 도 4는 도 3의 Ⅰ-Ⅰ'을 나타낸 단면도이다.3 is a view showing a substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating II ′ of FIG. 3.

도 3을 참조하면, 상기 기판(300)은 그 외곽부를 따라 씰라인(310)이 형성되어 씰영역을 정의하고, 상기 씰영역의 외부에 다수의 기판 도통부(320)가 패터닝 형성되어 도통영역을 정의한다. 그리고, 상기 씰영역의 내부에 소정의 전극패턴(미도시)이 형성되어 영상표시영역(A)을 정의한다.Referring to FIG. 3, the substrate 300 has a seal line 310 formed along an outer portion thereof to define a seal region, and a plurality of substrate conduction portions 320 are patterned outside the seal region to form a conductive region. Define. A predetermined electrode pattern (not shown) is formed inside the seal area to define the image display area A. FIG.

한편, 도 4를 참조하면 상기 기판 도통부(320a)의 일단은 콘택홀(330a)을 통해 상기 영상표시영역(A)의 전극패턴과 전기적으로 접속되어 있으며, 타단은 상기 기판(300)에 대응하여 합착되는 다른 기판(미도시)의 접속단자와 전기적으로 접속된다.Meanwhile, referring to FIG. 4, one end of the substrate conducting portion 320a is electrically connected to the electrode pattern of the image display area A through the contact hole 330a, and the other end corresponds to the substrate 300. And is electrically connected to a connection terminal of another substrate (not shown) bonded together.

상기 씰영역은 상기 기판(300)과 이에 대응하는 다른 기판(미도시)을 합착시키며, 합착된 두 기판 사이에 주입된 액정층에 외부 물질이 유입되는 것을 방지한다. 이러한 씰영역은 상기 기판(300) 대신 이에 대응하는 다른 기판에 형성될 수 있다.The seal region bonds the substrate 300 and another substrate (not shown) corresponding thereto, and prevents foreign substances from flowing into the liquid crystal layer injected between the two bonded substrates. The seal region may be formed on another substrate corresponding thereto instead of the substrate 300.

그럼, 이와 같은 액정표시장치용 기판을 제조하는 공정에 대해 도 5a 내지 도 5e를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 기판의 제조 공정을 나타낸 도면이다.Next, a process of manufacturing the liquid crystal display substrate will be described with reference to FIGS. 5A to 5E. 5A to 5E are views illustrating a manufacturing process of a substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저, 유리나 플라스틱과 같은 절연성 기판(500)이 제공되면, 상기 기판(500)의 소정 영역에 크롬막을 증착한 후 이를 패터닝하여 블랙매트릭스(501)를 형성하고, 그 위에 R, G, B 컬러필터(502)를 형성한 다음 ITO(Indium TinOxide)와 같은 투명 도전 물질을 증착하여 공통전극(510)을 형성한다(도 5a).First, when an insulating substrate 500 such as glass or plastic is provided, a chromium film is deposited on a predetermined area of the substrate 500 and then patterned to form a black matrix 501, and R, G, and B color filters are formed thereon. After forming 502, a common conductive material 510 is formed by depositing a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) (FIG. 5A).

이어서, 상기 블랙매트릭스(501)의 외부 영역에 형성된 공통전극(510) 위에 비도전성 물질을 증착하여 보호막(520)을 형성하고, 상기 보호막(520)을 패터닝하여, 상기 공통전극(510)의 표면 일부를 노출시키는 공통전극 콘택홀(contact hole)(521)을 형성한다(도 5b).Subsequently, a non-conductive material is deposited on the common electrode 510 formed in the outer region of the black matrix 501 to form a passivation layer 520, and the passivation layer 520 is patterned to form a surface of the common electrode 510. A common electrode contact hole 521 exposing a portion is formed (FIG. 5B).

계속하여, 상기 보호막(520) 위에 구리나 알루미늄과 같은 도전성 물질을 증착하여 소정의 두께를 갖는 도전막(530a)을 형성한다(도 5c). 이때, 상기 도전막(530a)은 공통전극 콘택홀(521)에 의해 그 하부의 공통전극(510)과 전기적으로 접속된 상태이다.Subsequently, a conductive material such as copper or aluminum is deposited on the protective film 520 to form a conductive film 530a having a predetermined thickness (FIG. 5C). In this case, the conductive layer 530a is electrically connected to the lower common electrode 510 by the common electrode contact hole 521.

한편, 상기 도전막(530a)은 패터닝 공정을 거치면서 그 일부가 소정의 패턴으로 남게 되고, 이러한 도전막 패턴에 의해 상기 기판(500)은 합착되는 다른 기판과 접속되므로, 상기 도전막(530a)은 적어도 두 기판의 쎌갭(통상 4.5um ~ 5.0um) 보다는 두껍게 형성되어야 한다.Meanwhile, a portion of the conductive film 530a is left in a predetermined pattern through a patterning process, and the substrate 500 is connected to another substrate to which the conductive film pattern is bonded, and thus, the conductive film 530a. Should be formed thicker than the gap between at least two substrates (usually 4.5um to 5.0um).

이후, 상기 도전막(530a)을 패터닝하여 기판 도통부를 형성한다. 이때는 사진식각법과 같은 극미세화 식각기술이 사용되는데, 이에 대해 설명하면 다음과 같다.Subsequently, the conductive layer 530a is patterned to form a substrate conductive portion. In this case, an ultra-fine etching technique such as photolithography is used, which will be described below.

상기 도전막(530a) 위에 포토레지스트 막(540a)을 형성한 다음(도 5d), 소정의 패턴 정보를 갖는 마스크(mask)로 상기 포토레지스트 막(540a)을 노광시키고, 노광된 포토레지스트 막과 현상액을 반응시켜 마스크와 동일한 패턴 정보를 갖는 포토레지스트 패턴(540b)을 형성한다(도 5e).After forming the photoresist film 540a on the conductive film 530a (FIG. 5D), the photoresist film 540a is exposed with a mask having predetermined pattern information, and the exposed photoresist film and The developer is reacted to form a photoresist pattern 540b having the same pattern information as that of the mask (FIG. 5E).

이어서, 상기 포토레스지트 패턴(540b)을 마스크로 하여 상기 도전막(530a)을 식각하고, 상기 도전막(530a) 위에 형성된 포토레지스트 패턴(540b)을 제거하게 되면, 상기 기판(500)의 소정위치 즉, 합착되는 다른 기판의 접속단자에 대응하는 위치에는 돌출 형성된 도전막 패턴(530b)이 남게 되는데(도 5f), 이러한 패턴이 본 발명에 있어서의 각 기판 도통부(도 3의 320)를 형성한다. 이때, 각각의 기판 도통부(320)는 다수의 도전막 패턴을 조합시켜 구성할 수 있고, 도 5f에 나타낸 바와 같이 돌출 형성된 하나의 도전막 패턴(530b)만으로 구성할 수 있다.Subsequently, when the photoresist pattern 540b is used as a mask, the conductive layer 530a is etched and the photoresist pattern 540b formed on the conductive layer 530a is removed. At the position, that is, the position corresponding to the connection terminal of the other substrate to be bonded, the protruding conductive film pattern 530b is left (FIG. 5F), and this pattern is used to form each substrate conducting portion (320 in FIG. 3) according to the present invention. Form. In this case, each of the substrate conducting portions 320 may be configured by combining a plurality of conductive film patterns, and may be configured of only one conductive film pattern 530b protruding as shown in FIG. 5F.

이처럼, 사진식각법과 같은 극미세화 식각기술로 도전막을 패터닝하여 기판 도통부(530b)를 형성하게 되면, 도통영역을 정의하는 기판 도통부(530b)의 폭(L)을 원하는 수준만큼 예컨대, 50 ~ 100㎛ 이하로 감소시킬 수 있다.As such, when the conductive layer is patterned to form the substrate conduction portion 530b by using an ultra fine etching technique such as a photolithography method, the width L of the substrate conduction portion 530b defining the conduction region is set to a desired level, for example, 50 to 50. It can be reduced to 100 μm or less.

이후, 상기 도통영역의 내부영역 또는 상기 도통영역의 내부영역에 대응하는 다른 기판의 소정영역에 상기 두 기판을 합착시키기 위한 씰라인을 형성한다.Thereafter, a seal line is formed to bond the two substrates to an inner region of the conductive region or a predetermined region of another substrate corresponding to the inner region of the conductive region.

이때, 상기 씰라인은, 도 3에 나타낸 바와 같이, 동일한 선폭으로 형성되며, 기판 도통부(320)가 있는 위치에서도 굴곡이 없는 일직선으로 형성된다. 따라서, 종래 씰라인의 선폭 변화 및 굴곡 발생에 따른 접착력의 불균일도가 개선되고, 이로 인한 쎌갭의 유니포머티(Uniformity) 불량 및 플리커(flicker) 현상이 상당부분 줄어든다.At this time, the seal line, as shown in Figure 3, is formed in the same line width, even in a position where the substrate conductive portion 320 is formed in a straight line without bending. Therefore, the nonuniformity of the adhesion force due to the change in line width and the bending of the conventional seal line is improved, thereby reducing the uniformity defect and flicker phenomenon of the shock gap.

한편, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 패널을 나타낸 도면이다.6 illustrates a panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 상기 도통영역 및 씰영역이 형성된 기판(500)은 간극제 산포 공정, 기판합착 공정, 액정주입 공정 및 기판 절단 공정 등의 공지된 후속공정을 거치면서 하나의 액정표시장치용 패널로 완성된다.Referring to FIG. 6, the substrate 500 on which the conductive region and the seal region are formed is subjected to a known subsequent process such as a gap spreading process, a substrate bonding process, a liquid crystal injection process, and a substrate cutting process. Finished with a panel.

이상, 전술한 실시예에서는 도통영역을 컬러필터가 배열된 기판에 형성하는 경우만을 설명하였지만, 이와 유사한 방법으로 상기 도통영역을 TFT어레이가 배열된 기판에 형성시킬 수 있음은 당업자라면 용이하게 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 이하 첨부되는 특허청구의 범위에 의하여 정하여야만 한다.In the above-described embodiment, only the case where the conductive region is formed on the substrate on which the color filters are arranged has been described. However, it will be readily apparent to those skilled in the art that the conductive region can be formed on the substrate on which the TFT array is arranged. There will be. Accordingly, the technical scope of the present invention should be defined by the appended claims.

이상의 설명에서와 같이 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 액정표시장치의 두 기판을 전기적으로 접속시키기 위하여 씰영역의 외부 둘레에 형성되는 도통영역의 폭을 감소시킴으로써, 상기 씰영역을 보다 유연하게 설계할 수 있도록 해준다. 그 결과 상기 씰영역에 형성된 씰라인의 선폭을 균일하게 할 수 있고, 이로 인해 기판 접착력을 균일하게 유지할 수 있으므로 쎌갭 확보에 유리하다. 또한, 플리커 현상을 상당부분 감소시킬 수 있다.As described above, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention reduces the width of the conduction area formed around the outside of the seal area so as to electrically connect the two substrates of the liquid crystal display device. It allows for flexible design. As a result, the line width of the seal line formed in the seal area can be made uniform, which can maintain the substrate adhesive force uniformly, which is advantageous for securing the gap. In addition, the flicker phenomenon can be substantially reduced.

또한, 상기 씰라인을 기판의 최외곽부에 보다 근접하게 형성시킬 수 있으므로, 상기 씰라인의 내부영역에 형성되는 실제 영상표시영역을 종래 보다 확대시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, since the seal line may be formed closer to the outermost part of the substrate, the actual image display area formed in the inner region of the seal line may be enlarged than before.

Claims (7)

소정의 전극패턴을 갖는 제 1기판과, 상기 전극패턴에 대응하는 접속단자를 갖는 제 2기판을 마련하는 단계와;Providing a first substrate having a predetermined electrode pattern and a second substrate having a connection terminal corresponding to the electrode pattern; 상기 두 기판 중 어느 하나의 기판 위에 도전막을 증착하는 단계와;Depositing a conductive film on one of the two substrates; 상기 도전막을 패터닝하여 상기 제 1기판의 전극패턴과 상기 제 2기판의 접속단자를 전기적으로 접속시키는 도통영역을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Patterning the conductive film to form a conductive region electrically connecting the electrode pattern of the first substrate and the connection terminal of the second substrate; Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2기판의 접속단자는 일단이 전원부와 전기적으로 접속되고, 타단이 도통영역과 전기적으로 접속되어 있음을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And one end of the connection terminal of the second substrate is electrically connected to the power supply unit, and the other end of the connection terminal is electrically connected to the conductive region. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도통영역은 그 폭이 50 ~ 100㎛이하로 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The conducting area is a liquid crystal display device characterized in that the width is formed to 50 ~ 100㎛ or less. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도통영역의 내부영역에 상기 두 기판을 합착시키기 위한 씰영역을 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Forming a seal region for bonding the two substrates to an inner region of the conductive region; Method of manufacturing a liquid crystal display device further comprising. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도통영역의 내부영역에 대응하는 다른 기판의 소정영역에 상기 두 기판을 합착시키기 위한 씰영역을 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Forming a seal region for bonding the two substrates to a predetermined region of another substrate corresponding to an inner region of the conductive region; Method of manufacturing a liquid crystal display device further comprising. 제 4항 또는 제 5항에 있어서,The method according to claim 4 or 5, 상기 씰영역은 동일한 선폭을 갖고 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And the seal area is formed to have the same line width. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,The method according to claim 4 or 5, 상기 씰영역은 굴곡이 없는 일직선으로 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And the seal region is formed in a straight line without bending.
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