KR20020002500A

KR20020002500A - 광학 저장 매체용 기재

Info

Publication number: KR20020002500A
Application number: KR1020017014348A
Authority: KR
Inventors: 폴커 베게; 프리드리히-카를 브루더; 랄프 두야르딘; 윤 첸
Original assignee: 빌프리더 하이더; 바이엘 악티엔게젤샤프트; 이타가키 히로시; 테이진 가부시키가이샤
Priority date: 1999-05-12
Filing date: 2000-05-02
Publication date: 2002-01-09
Also published as: AU4560100A; CA2373712A1; DE19921943A1; HK1048389A1; JP2003500784A; ZA200108239B; BR0010493A; EP1185981A1; CN1363090A; WO2000070607A1

Abstract

본 발명은 공단량체가 올레핀, 아크릴산 유도체, 말레산 유도체, 비닐 에테르 및 비닐 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되거나 또는 이들 2종 이상의 공단량체를 포함하는 혼합물인, 비닐시클로헥산의 단독중합체, 공중합체 및 블록 중합체가 기부를 이루는 기재에 관한 것이다. 본 발명의 기재는 관성 모멘트가 280 내지 50 g·cm²이고 밀도가 1 내지 0.8 g·cm³인 것을 특징으로 한다.

Description

광학 저장 매체용 기재 {Substrates for Optical Storage Media}

방향족 폴리카르보네이트, 폴리(메틸 메타크릴레이트) 또는 폴리스티렌과 같은 플라스틱이 광학 데이타 메모리용 기재로서 사용될 수 있다. 또한, 에틸렌과 노르보르넨 유도체 또는 테트라시클로도데센 유도체로부터 형성된 추가 공중합체 및 또한 노르보르넨- 또는 테트라시클로도데센으로부터 형성된 탈고리화 복분해의 수소화 생성물이 적합하다.

그러나, 매우 고밀도의 저장 데이타(120 mm 직경의 웨이퍼를 기준으로 >5, 특히 >10 Gbyte)의 경우, 어떠한 통상의 기재 재료도 제한하지 않고서는 사용될 수 없다. 이 목적상, 매우 낮은 복굴절률, 매우 낮은 관성 모멘트, 매우 낮은 물 흡수도 및 높은 열 뒤틀림 온도가 필요하며 동시에 적절한 기계적 특성 및 낮은 용융 점도가 수반될 필요가 있다.

방향족 폴리카르보네이트는 매우 양호한 기계적 특성 및 열 뒤틀림 온도를 갖지만, 너무 높은 복굴절률 및 물 흡수도를 갖는다.

폴리스티렌은 너무 높은 복굴절률 및 너무 낮은 열 뒤틀림 온도를 갖는다.

폴리(메틸 메타크릴레이트)는 너무 높은 물 흡수도 및 너무 낮은 치수 안정성을 갖는다.

에틸렌과 비극성 노르보르넨- 또는 테트라시클로도데센으로부터 형성된 추가공중합체는 낮은 복굴절률을 가지며 물 흡수도가 거의 없다.

그러나, 상기 재료는 제조하기에 매우 값비싸다. 이 재료는 결국 광학적으로 순수한 품질을 제조하기에 어려울 수 있다. 마찬가지로 겔 성분의 존재로 인해 그의 광학 재료로서의 용도가 감소된다. 촉매 및 조촉매의 제거는 상당한 기술적 비용과 관련된다.

특히, 비대칭성 구조의 광학 데이타 매체(예를 들어, CD, MO, MD, ASMD, DVR)의 경우, 기재 재료의 물 흡수도 및 그와 관련된 팽윤은 추가 변형(예를 들어 각 경사도의 증가)을 초래한다. 이는 판독 신호의 손상(보다 큰 지터(jitter), 높은 혼선)을 초래하고, 따라서 최대 허용가능한 데이타 밀도가 허용되지 않거나 값비싼 전자/광학 교정 모듈(틸트서보(tiltservo))을 요구한다(문헌(F.Bruder, R. Plaetschke, H. Schmid, Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 37(1998) 2120)).

기재 층의 팽윤, 특히 정보 층 및 보호 층과의 계면에서의 팽윤은 기재 층으로부터의 정보 층의 분리를 가속화시키는 기계적 응력을 초래할 수 있다.

본 발명은 비닐-시클로헥산의 단독중합체 및(또는) 공중합체가 기부를 이루는 기재에 관한 것이며, 이 때 공단량체는 올레핀, 아크릴산 유도체, 말레산 유도체, 비닐 에테르 및 비닐 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 또는 이들의 2종 이상의 공단량체를 포함하는 혼합물이고, 기재의 관성 모멘트는 비틀림 진동으로부터 측정할 때 일반적으로 280 내지 50 g·cm², 특히 바람직하게는 260 내지 100 g·cm², 매우 특히 바람직하게는 250 내지 150 g·cm²이고, 밀도는 1내지 0.8 g·cm³, 바람직하게는 0.98 내지 0.90 g·cm³이다.

또한, 본 발명은 기재에 입사하는 빛의 경로차가 수직각들 및 그로부터 27°이하로 벗어나는 각들에 대한 입사각의 함수로서 일반적으로 0 내지 60 nm, 바람직하게는 0 내지 50 nm, 매우 특히 바람직하게는 0 내지 40 nm의 경로차 차이를 갖는 것을 특징으로 하는, 복굴절률로 인한 간섭이 매우 낮은, 특히 고도의 집중 광학(높은 천공수 >45)의 경우에 그러한 광학 기재에 관한 것이다.

본 발명에 따른 기재는 높은 치수 안정성, 높은 투명성, 낮은 복굴절률 및 높은 열 뒤틀림 온도에 대해 두드러지고, 따라서 광학 데이타 메모리용 기재 재료로서 뛰어나게 적합하다. 본 발명에 따른 기재는 특히 높은 저장 밀도를 갖는 광학 저장 매체를 제조하는데 적합하다.

데이타 매체의 진동은 예를 들어 현재 사용되는 폴리카르보네이트와 비교하여 감소된다.

본 발명에 따른 광학 저장 매체의 예비 형성체의 포화 물 흡수도는 일반적으로 DIN 53 495에 따라 측정할 때 0.5％ 미만, 바람직하게는 0.2％ 미만, 매우 특히 바람직하게는 0.1％ 미만, 특히 0.06％ 미만이다.

본 재료는 높은 탄성률을 갖는다. 따라서 치수적으로 안정한 기재 디스크의 구조를 허용하는 높은 굴곡 강도가 그와 관련된다. 보다 얇은 기재 두께의 경우 높은 천공수 NA 및 낮은 레이저 파장 λ을 갖는 광학이 덜 중요해지기 때문에 보다 높은 데이타 밀도가 허용된다(스폿 직경 ∼λ/NA, 문헌(G. Bouwkuis, J. Braat, A.Huijser, J. Pasman, G. van Rosmaten, K. Schonhauer, Immiuk, Principles of Optical Disc Systems(Adams Hilger Ltd, 1995))).

광학 디스크의 높은 회전 속도에서 정보층의 약간의 팽창이 방사상 방향으로 일어난다. 이는 특히 정보의 높은 읽기 및 쓰기 신뢰성을 위해 높은 데이타 밀도의 경우 중요하다.

400 nm보다 큰 파장의 경우, 광학 투과도는 89％보다 크다. 따라서, 본 발명의 재료는 단파장 및 장파장 빛, 특히 300 내지 800 nm의 파장에 대해 바람직한 광학 재료이다.

빛의 입사각의 함수로서 낮은 경로차 차이를 갖는 기재는 특히 광학 전자 쓰기 및 읽기 신호를 개선시키는데 적합하고, 단지 읽기만 가능한 데이타 매체, 쓰기가능한 데이타 매체 및 다시 쓰기가능한 데이타 매체에 대한 이상적인 기재이다.

본 발명의 재료는 높은 열 뒤틀림 온도 T_g를 가지며, 높은 작업 및 동작 온도를 허용한다.

다른 재료가 표면을 예비 처리하거나 하지 않고서 광학 디스크상에 침적될 수 있다. 필요한 경우, 표면을 개질하는데 특히 적합한 것은 플라즈마 공정 및 습윤 화학 공정이다.

침적을 위해 바람직한 재료는 금속, 금속 화합물 및 염료이다.

금속으로서 특히 적합한 것은 알루미늄, 금, 은, 구리, 주석, 아연, 게르마늄, 안티몬, 텔루륨, 테르븀, 셀레늄, 철, 코발트, 가돌리늄 및 이들의 합금이다.

금속 화합물로서 특히 적합한 것은 산화주석, 산화규소, 규소 질소 화합물 및 황화아연이다.

염료로서 적합한 것은 시아닌, 프탈로시아닌 및 아조 염료이다.

상기 물질은 스핀 코팅 및 스퍼터링 과정에 의해 도포될 수 있다.

광학 데이타 메모리로서, 하기가 예를 들어 언급된다:

- 자기-광학 디스크(MO 디스크)

- 미니 디스크(MD)

- ASMO(MO-7)("진보된 저장 자기-광학(advanced storage magneto-optic)")

- DVR(12 Gbyte 디스크)

- MAMMOS("자기 증폭 자기-광학 시스템(magnetic amplifying magneto-optical system)")

- SIL 및 MSR("고체 침지 렌즈(solid immersion lens)" 및 "자기 초-해상도(magnetic super-resolution)")

- CD-ROM(판독 전용 기억장치)

- CD, CD-R(기록가능(recordable)), CD-RW(다시쓰기가능(rewritable)), CD-I(상호 작용), 광-CD(photo-CD)

- 수퍼 오디오 CD

- DVD, DVD-R(기록가능), DVD-RAM(임의 접근 기억장치)

- DVD=디지탈 만능 디스크(digital versatile disc)

- DVD-RW(다시쓰기가능)

- PC + RW(상변화 및 다시쓰기가능)

- MMVF(멀티미디어 비디오 파일 시스템)

바람직한 기재는 하기 화학식 I의 반복 구조 단위를 함유하는 비닐시클로헥산이 기부를 이루는 중합체로부터 형성된 기재이다.

식중, R¹및 R²는 각각 독립적으로 수소 또는 C₁내지 C₆알킬, 바람직하게는 C₁내지 C₄알킬이고,

R³및 R⁴는 각각 독립적으로 수소 또는 C₁내지 C₆알킬, 바람직하게는 C₁내지 C₄알킬, 특히 메틸 및(또는) 에틸이거나, R³과 R⁴는 함께 알킬렌, 바람직하게는 C₃또는 C₄알킬렌(융합된 5원 또는 6원의 지환족 고리)을 나타내고,

R⁵는 수소 또는 C₁내지 C₆알킬, 바람직하게는 C₁내지 C₄알킬을 나타내고,

R¹, R²및 R³은 각각 독립적으로 특히 수소 또는 메틸이다.

입체규칙성 머리 대 꼬리의 결합 이외에, 결합은 작은 비율의 머리 대 머리의 결합을 나타낼 수 있다. 비닐시클로헥산이 기부를 이루는 무정형, 주로 신디오택틱 중합체는 중심을 통해 분지화될 수 있고 예를 들어 별모양 구조를 가질 수 있다.

출발 중합체(임의로 치환된 폴리스티렌)의 중합에서, 하기 물질이 바람직하게는 공단량체로서 사용되어 중합체중에 혼입될 수 있다: 일반적으로 2 내지 10개의 탄소원자를 함유하는 올레핀, 예를 들어 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 이소부틸렌, 부타디엔, 아크릴산 또는 메타크릴산의 C₁-C₈-알킬 에스테르, 바람직하게는 C₁-C₄-알킬 에스테르, 불포화 지환족 탄화수소, 예를 들어 시클로펜타디엔, 시클로헥센, 시클로헥사디엔, 임의로 치환된 노르보르넨, 디시클로펜타디엔, 디히드로시클로펜타디엔, 임의로 치환된 테트라시클로도데센, 고리-알킬화 스티렌, α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 비닐 에스테르, 비닐산, 비닐 에테르, 비닐 아세테이트, 비닐 시아나이드, 예를 들어 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 말레산 무수물 및 이들 단량체의 혼합물.

무정형 비닐시클로헥산 중합체로서, 2차원 NMR 분광법에 의해 측정할 때 50.1 내지 74％, 바람직하게는 52％ 내지 70％의 신디오택틱 디아드 성분을 갖는 중합체가 사용될 수 있다. 중합체 골격의 메틸렌 탄소 원자의¹³C-¹H 상관 분광법에 기초하여 미세 구조를 밝히는 방법은 일반적으로 공지되어 있고 예를 들어 문헌(A.M.P. Ros 및 O. Sudmeijer, Int.J.Polym. Anal. Charakt.(1997), 4, 39)에 기재되어 있다.

유동-광학 상수 C_R을 기초하여 측정된 기재상에서 결정된 복굴절률은 -0.3 GPa^-1이하이고, 이 양은 폴리카르보네이트(CR=+5.4 GPa^-1)에 대한 것보다 10배 이상 적다. 유동-광학 상수의 측정 방법은 EP-A 0 621 297호에 기재되어 있다. 이 목적을 위해 필요한 평면 평행한 150 내지 1000 ㎛ 시험 조각을 용융 압착 또는 필름 주조에 의해 제조할 수 있다. 폴리카르보네이트와 비교하여 이 재료는 복굴절률이 거의 없는 것으로 간주될 수 있다.

비닐시클로헥산 (공)중합체의 절대 중량 평균 분자량 M_w는 광산란에 의해 측정할 때 일반적으로 1000 내지 10,000,000, 바람직하게는 60,000 내지 1,000,000, 매우 바람직하게는 70,000 내지 600,000이다.

특히 바람직하게는, 비닐시클로헥산 (공)중합체의 절대 분자량 M_w는 70,000 내지 450,000 g/mol, 특히 100,000 내지 450,000 g/mol이다. 분자량 분포는 바람직하게는 1 내지 3의 다분산도 지수(PDI=M_w/M_n)를 특징으로 하며, 분자량 2000 이하의 임의의 올리고머 성분은 다분산도 지수를 계산하는데 고려되지 않는다. M_w3000 이하의 임의의 올리고머 성분은 중합체의 중량을 기준으로 5％ 미만이다.

공중합체는 랜덤 공중합체 또는 블록 공중합체일 수 있다.

중합체는 선형 사슬 구조를 가질 수 있고, 또한 공 단위로 인해 분지점을 가질 수 있다(예를 들어, 그래프트 공중합체). 분지 중심은 예를 들어 별모양 또는 분지된 중합체를 포함한다. 본 발명에 따른 중합체는 나선형, 이중 나선형, 절첩된 잎사귀형 등으로 연결될 수 있는 1차, 2차, 3차 또는 임의로는 4차 중합체 구조 또는 이들 구조의 혼합인 다른 기하학적 형태로 이루어질 수 있다.

특히 바람직한 것은 스티렌-이소프렌 공중합체, 특히 폴리(스티렌-블록-코-이소프렌) 및 별모양 폴리(스티렌-블록-코-이소프렌)이다.

블록 공중합체는 이블록, 삼블록, 다블록 또는 별모양 블록 공중합체를 포함한다.

VCH (공)중합체는 금속 착물 개시제 또는 촉매를 사용하여 스티렌 유도체와 상응하는 단량체를 자유 라디칼, 음이온 또는 양이온 중합한 후, 불포화 방향족 결합을 완전히 또는 부분적으로 수소화시킴으로써 제조된다(예를 들어, WO 94/21694호, EP-A 322 731호 참조).

또한, VCH (공)중합체는 예를 들어 촉매의 존재하에 방향족 폴리스티렌 또는 그의 유도체를 수소화시킴으로써 제조될 수 있는데, 이 때 사용된 용매는 에테르 관능기에 인접한 탄소 원자상에 α-수소 원자를 갖지 않는 에테르 또는 이러한 에테르의 혼합물, 또는 상기 에테르 1종 이상과 수소화 반응에 적합한 용매와의 혼합물이다.

출발 중합체는 일반적으로 공지된 방법에 의해 수소화된다(WO 94/21 694, WO 96/34 895, EP-A 322 731). 다수의 공지된 수소화 촉매가 촉매로서 사용될 수 있다. 바람직한 금속 촉매의 예는 WO 94/21 694 또는 WO 96/34 896호에 기재되어 있다. 수소화 반응에 공지된 임의의 촉매가 촉매로서 사용될 수 있다. 큰 표면적(예를 들어, 100 내지 600 m²/g) 및 작은 평균 세공 직경(예를 들어, 20 내지 500Å)을 갖는 촉매가 적합하다. 또한, 작은 표면적(예를 들어, ≥10 m²/g) 및 세공 부피의 98％가 600Å보다 큰 세공 직경(예를 들어, 대략 1000 내지 4000Å)의 세공으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 큰 평균 세공 직경을 갖는 촉매가 적합하다(예를 들어, US-A 5,654,253, US-A 5,612,422, JP-A 03076706 참조). 특히, 라니 니켈, 이산화규소 또는 이산화규소/산화알루미늄상의 니켈, 지지체로서의 탄소상의 니켈, 및(또는) 귀금속 촉매, 예를 들어 Pt, Ru, Rh, Pd가 사용된다.

반응은 일반적으로 0 내지 500℃, 바람직하게는 20 내지 250℃, 특히 60 내지 200℃의 온도에서 수행된다.

수소화 반응용 표준 용매로서 사용될 수 있는 용매가 예를 들어 DE-AS 1 131 885에 기재되어 있다(상기 참조).

반응은 일반적으로 1 내지 1000 bar, 바람직하게는 20 내지 300 bar, 특히 40 내지 200 bar의 압력에서 수행된다.

기재는 비닐시클로헥산이 기부를 이루는 단독중합체 및(또는) 공중합체, 및 임의로는 가공 보조제 및 안정화제와 같은 추가적인 통상의 첨가제를 함유하는 열가소성 성형 조성물로부터 성형 조성물을 280℃ 이상의 온도에서 가공함으로써 제조된다.

실시예 1

40 리터 오토클레이브를 불활성 가스(질소)로 플러싱하였다. 중합체 용액 및 촉매를 첨가하였다(표 1). 밀봉한 후, 혼합물을 여러번 보호 가스 및 그 후 수소에 노출시켰다. 압력을 낮춘 후 각각의 수소 압력을 설정하고, 교반하면서 적절한 반응 온도로 가열하였다. 수소 흡수를 시작한 후, 반응 압력을 일정하게 유지하였다. 반응 시간은 혼합물 가열한 시간으로부터 수소 원자가 그의 포화값에 도달한 때까지의 시간으로 정의하였다.

반응을 완료한 후, 중합체 용액을 여과하였다. 중합체 용액을 이르가녹스(Irganox) XP 420 FF(스위스 바젤 소재의 시바 스페셜티 케미칼스) 4000 ppm으로 안정화시키고, 240℃에서 용매를 제거하고, 생성물을 추가 처리하여 과립을 형성하였다.

과립으로부터, 예를 들어 숄더 로드, 광학 디스크 및 추가 시험 조각을 물리적 특성을 측정하기 위해 사출 성형에 의해 제조하였다(하기 표 2).

폴리스티렌의 수소화 반응
실시예 번호	중합체²⁾질량(kg)	용매(L)	촉매 질량(g)	반응 온도(℃)	수소 압력(bar)	반응 시간(h)	수소화도¹⁾(％)
1	4.8	15.1 시클로헥산 10.1 메틸-t-부틸 에테르	625³⁾	160	100	19	100
¹⁾ ¹H NMR 분광법에 의해 측정됨²⁾폴리스티렌 유형 158 k, 유리-투명, M_w280,000 g/mol, BASF AG(독일 루드빅샤펜)³⁾Ni-SiO₂/Al₂O₃, Ni-5136 P, 엥겔하드(Engelhard)(네덜란드 드 메른)

실시예 2

폴리(스티렌-블록-코-이소프렌)의 제조

표준 불활성 가스 기술에 의해 합성을 수행하였다. 무수 시클로헥산 138 kg을 250 L의 반응기에 위치시켰다. 무수 스티렌 6.3 kg을 실온에서 반응기에 가하였다. 온도를 55℃로 상승시키고, n-부틸리튬(n-헥산중의 23％) 102 ml(0.255 mol)을 반응기중으로 도입하였다. 반응 혼합물을 70℃로 가열하고, 30분 동안 교반하였다.

무수 이소프렌 1.4 kg 및 무수 스티렌 6.3 kg을 반응기중으로 동시에 도입하였다. 혼합물을 70℃에서 2시간 동안 유지시켰다. 반응 용액을 실온으로 냉각시키고, 시클로헥산 500 g중의 2-프로판올 10 g의 용액을 첨가하였다. 중합체 용액을 진공하에 40 내지 45℃에서 16.6 중량％로 농축시켰다.

실시예 3

수소화 폴리(스티렌-블록-코-이소프렌)의 제조

중합체 용액(실시예 5) 22 kg을 질소하에 40 L의 오토클레이브에 이송시켰다. Ni-5136 P(엥겔하드) 421.5 g을 가한 후, 오토클레이브를 여러번 질소 및 수소에 노출시켰다. 반응 용액을 100 bar에서 170℃로 가열하였다. 가열 단계 후, 압력이 일정할 때까지 반응을 150 bar에서 자동 가압 시스템에 의해 계속하면서 2시간 동안 계속하여 교반하였다.

촉매를 중합체 용액으로부터 여과하였다. 중합체 용액을 4000 ppm 이르가녹스 XP 420 FF(스위스 바젤 소재의 시바 가이기)로 안정화시키고, 240℃에서 용매를 제거하여 과립으로서 추가 처리하였다.

폴리카르보네이트의 실시예를 기준으로 하여 비닐시클로헥산이 기부를 이루는 중합체 1 및 3(실시예 B 및 C)와 비교한 통상의 광학 디스크용 기재 재료의 물리적 특성
실시예 번호	밀도¹⁾(g/cm³)	포화 물 흡수도²⁾(％)	탄성률³⁾(GPa)	관성 모멘트(g·cm²)	a)경로차⁴⁾, 수직 빛 입사(nm)	b)경로차⁴⁾, 수직으로부터 27°(nm)	차이 a)-b) (nm)	400 mm보다 큰 광학 투과도⁵⁾(％)	유동-광학 상수 CR(GPa^-1)	유리전이온도⁶⁾(Tg)(℃)
비교예 A	1.18	0.35	2.3	294	+30	+95	+65	87	+5.4	142
본 발명에 따른 B	0.94	0.03	3.2	229	-12	-19	-7	>89	-0.3	149
본 발명에 따른 C	0.94	0.03	2.3	228	+3	+2	-1	>89	+0.1	139
A 비스페놀 A 폴리카르보네이트(Makrolon CD 2005, Bayer AG)CD 예비성형체는 네스탈(Nestal)에 의해 공급되는 사출 성형기인 디스크제트(Diskjet)형 600으로 제조되었음.CD 예비성형체: 내경 15 mm, 외경 120 mm, 기재 두께 1.2 mm¹⁾DIN 53 479 방법 A에 따라 측정됨²⁾DIN 53 495에 따라 측정됨³⁾DIN 53 455에 따라 측정됨⁴⁾편광 광학에 의해 측정된 경로차⁵⁾광도계 구를 사용한 퍼킨 엘머 람다(Perkin Elmer Lambda) 900 분광광도계에 의해 측정된 광학 투과도⁶⁾시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정됨

비스페놀 A 폴리카르보네이트(Makrolon CD 2005, Bayer AG, Leverkusen, Germany)로부터 제조된 CD 예비성형체(CD 기재)를 비교예 A로서 사용하였고, 실시예 1 및 3에 따라 폴리비닐시클로헥산이 기부를 이루는 중합체로부터 제조된 CD 예비성형체를 실시예 B 및 C로서 사용하였다. CD 예비성형체를 네스탈에 의해 공급되는 사출 성형기인 디스크제트 600으로 제조하였다. 비교예 A에 따른 통상의 기재 재료와 비교하여(표 2), 실시예 B 및 C에 따른 CD 예비성형체는 고밀도 광학 저장 매체로서의 용도를 위해 낮은 관성 모멘트, 낮은 물 흡수도, 높은 치수 안정성(높은 탄성률), 낮은 밀도, 빛의 입사각의 함수로서 낮은 경로차 차이, 단파장 및장파장에서의 높은 광학 투명도뿐만 아니라 동시에 높은 열 뒤틀림 온도에 의해 수반되는 낮은 복굴절률을 나타낸다. 실시예 C는 빛의 입사각의 함수로서 매우 낮은 경로차 차이에 의해 수반되는 더욱 최적화된 유동 광학 상수 C_R을 나타내고, 폴리카르보네이트의 수준의 유리 전이 온도를 갖는다.

Claims

관성 모멘트가 280 내지 50 g·cm²이고 밀도가 1 내지 0.8 g·cm³인 것을 특징으로 하며, 공단량체가 올레핀, 아크릴산 유도체, 말레산 유도체, 비닐 에테르 및 비닐 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되거나 또는 이들 2종 이상의 공단량체를 포함하는 혼합물인, 비닐시클로헥산의 단독중합체, 공중합체 및(또는) 블록 중합체가 기부를 이루는 기재.
제1항에 있어서, 관성 모멘트가 260 내지 100 g·cm²인 것을 특징으로 하는 기재.
제1항 또는 제2항에 있어서, 밀도가 0.98 내지 0.90 g·cm³인 것을 특징으로 하는 기재.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 화학식 I의 반복 구조 단위를 함유하는 비닐시클로헥산 (공)중합체 또는 비닐시클로헥산 (공)중합체의 혼합물이 기부를 이루는 기재.

<화학식 I>

식중, R¹및 R²는 각각 독립적으로 수소 또는 C₁내지 C₆알킬이고,

R³및 R⁴는 각각 독립적으로 수소 또는 C₁내지 C₆알킬이거나, R³과 R⁴는 함께 알킬렌을 나타내고,

R⁵는 수소 또는 C₁내지 C₆알킬을 나타낸다.
스티렌-이소프렌 블록 및(또는) 공중합체가 기부를 이루는 기재.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 기재에 입사하는 빛의 경로차가 수직각들 및 그로부터 27°이하로 벗어나는 각들에 대한 입사각의 함수로서 일반적으로 0 내지 60 nm의 경로차 차이를 갖는 것을 특징으로 하는 기재.