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KR102917801B1 - Composition, curing agent and organic EL display device - Google Patents

Composition, curing agent and organic EL display device

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KR102917801B1
KR102917801B1 KR1020237011513A KR20237011513A KR102917801B1 KR 102917801 B1 KR102917801 B1 KR 102917801B1 KR 1020237011513 A KR1020237011513 A KR 1020237011513A KR 20237011513 A KR20237011513 A KR 20237011513A KR 102917801 B1 KR102917801 B1 KR 102917801B1
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fine particles
organic
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마나부 미우라
야스노리 이시다
히로유키 쿠리무라
유키히코 야마시타
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덴카 주식회사
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Abstract

중합성 화합물과, 무기 미립자와, 광중합 개시제를 함유하고, 상기 무기 미립자의 함유량이 30부피% 이상이며, 파장 365nm, 조사량 600mJ/㎠의 광 조사를 행하고, 80℃에서 30분 정치했을 때의 경화 심도가 100㎛ 이상인 조성물.A composition containing a polymerizable compound, inorganic fine particles, and a photopolymerization initiator, wherein the content of the inorganic fine particles is 30% by volume or more, and when irradiated with light having a wavelength of 365 nm and an irradiation amount of 600 mJ/cm2 and left to stand at 80°C for 30 minutes, the depth of curing is 100 μm or more.

Description

조성물, 경화체 및 유기 EL 표시장치Composition, curing agent and organic EL display device

본 발명은 조성물, 경화체 및 유기 EL 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a composition, a cured product, and an organic EL display device.

최근, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시소자나 유기 박막 태양 전지 소자 등의 유기 박막 소자를 이용한 유기 광디바이스의 연구가 진행되고 있다.Recently, research is being conducted on organic optical devices using organic thin-film elements such as organic electroluminescent (organic EL) display elements and organic thin-film solar cell elements.

유기 EL 표시소자는 서로 대향하는 한 쌍의 전극 사이에 유기 발광 재료층이 협지된 박막 구조체를 갖는다. 유기 발광 재료층에 한쪽의 전극으로부터 전자가 주입됨과 동시에, 다른 쪽 전극으로부터 정공이 주입됨으로서 유기 발광 재료층 내에서 전자와 정공이 결합하여 자기 발광을 행한다. 유기 EL 표시소자는 백라이트를 필요로 하는 액정 표시소자 등과 비교하여 시인성이 좋고, 보다 박형화가 가능하고, 또한 직류 저전압 구동이 가능하다는 이점을 갖는다.Organic EL display devices have a thin film structure in which an organic light-emitting material layer is sandwiched between a pair of opposing electrodes. Electrons are injected into the organic light-emitting material layer from one electrode, while holes are simultaneously injected from the other electrode. As a result, the electrons and holes combine within the organic light-emitting material layer to emit light. Compared to liquid crystal displays and other devices that require a backlight, organic EL display devices have the advantages of superior visibility, the ability to be thinner, and the ability to be driven by low-voltage DC.

그러나, 이러한 유기 EL 표시소자는 유기 발광 재료층이나 전극이 외기에 노출되면 그 발광 특성이 급격하게 열화되어 수명이 짧아지는 문제가 있었다. 따라서, 유기 EL 표시소자의 안정성 및 내구성을 높이는 것을 목적으로 유기 EL 표시소자에 있어서는 유기 발광 재료층이나 전극을 대기 중의 수분이나 산소로부터 차단하는 밀봉 기술이 불가결해져 있다.However, these organic EL displays have the problem that their luminescent properties deteriorate rapidly when the organic light-emitting material layer or electrodes are exposed to the outside air, shortening their lifespan. Therefore, in order to increase the stability and durability of organic EL displays, sealing technology that blocks the organic light-emitting material layer or electrodes from moisture and oxygen in the air has become essential.

예를 들면, 특허문헌 1에는 상면 발광형 유기 EL 표시소자 등에 있어서, 유기 EL 표시소자 기판 사이에 광경화성의 밀봉제를 채우고, 광을 조사하여 밀봉하는 방법이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a method of filling a photocurable sealant between organic EL display substrates and sealing them by irradiating light, in a top-emitting organic EL display device, etc.

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2001-357973호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Publication No. 2001-357973

최근, 유기 EL 표시장치(특히 유기 EL 텔레비젼)의 대형화에 수반하여 보다 높은 방습성 및 장기 신뢰성을 실현가능한 밀봉재가 요구되고 있다.Recently, with the increase in the size of organic EL displays (especially organic EL televisions), there is a demand for sealants that can realize higher moisture resistance and long-term reliability.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 방습성 및 장기 신뢰성이 우수한 밀봉재를 형성가능한 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 해당 조성물의 경화체, 및 상기 조성물을 사용하여 형성되는 밀봉 구조를 구비하는 유기 EL 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a composition capable of forming a sealant with excellent moisture resistance and long-term reliability. Furthermore, the present invention aims to provide an organic EL display device comprising a cured product of the composition and a sealing structure formed using the composition.

본 발명은 예를 들면, 하기 <1> ~ <18>에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, the following <1> to <18>.

<1> 중합성 화합물과, 무기 미립자와, 광중합 개시제를 함유하고, 상기 무기 미립자의 함유량이 30부피% 이상이며, 파장 365nm, 조사량 600mJ/㎠의 광 조사를 행하고, 80℃에서 30분 정치했을 때의 경화 심도(深度)가 100㎛ 이상인 조성물.<1> A composition containing a polymerizable compound, inorganic fine particles, and a photopolymerization initiator, wherein the content of the inorganic fine particles is 30% by volume or more, and the composition is irradiated with light having a wavelength of 365 nm and an irradiation amount of 600 mJ/cm2, and has a curing depth of 100 μm or more when left to stand at 80°C for 30 minutes.

<2> 중합성 화합물이 탄소-탄소 이중 결합 및 환상 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합성기를 갖는 <1>에 기재된 조성물.<2> The composition described in <1>, wherein the polymerizable compound has at least one polymerizable group selected from the group consisting of carbon-carbon double bonds and cyclic ethers.

<3> 상기 무기 미립자가 상기 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1과의 차의 절대값(|n1-n2|)이 0.5 이하가 되는 굴절률 n2를 갖는 무기 미립자인 < 1> 또는 <2>에 기재된 조성물.<3> The composition described in <1> or <2>, wherein the inorganic fine particles are inorganic fine particles having a refractive index n 2 such that the absolute value of the difference (|n 1 -n 2 |) between the inorganic fine particles and the refractive index n 1 of the polymer of the polymerizable compound is 0.5 or less.

<4> 상기 무기 미립자의 굴절률 n2가 1.4 이상인 <1> ~ <3> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<4> A composition according to any one of <1> to <3>, wherein the refractive index n 2 of the above-mentioned inorganic fine particles is 1.4 or more.

<5> 상기 무기 미립자의 평균 원형도가 0.7 이상 1.0 이하인, <1> ~ <4> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<5> A composition according to any one of <1> to <4>, wherein the average circularity of the inorganic fine particles is 0.7 or more and 1.0 or less.

<6> 상기 무기 미립자가 구상 실리카 및 구상 알루미나로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 <1> ~ <5> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<6> A composition according to any one of <1> to <5>, wherein the inorganic fine particles comprise at least one selected from the group consisting of spherical silica and spherical alumina.

<7> 두께 100㎛당의 전광선 투과율 T0(%)와 전광선 반사율 R0(%)의 합(T0+R0)이 50% 이상인 <1> ~ <6> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<7> A composition according to any one of <1> to <6>, wherein the sum of the total light transmittance T 0 (%) and the total light reflectance R 0 (%) per 100㎛ of thickness (T 0 + R 0 ) is 50% or more.

<8> 상기 광중합 개시제가 하기 식 (1)로 표시되는 화합물을 포함하는 <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<8> A composition according to any one of <1> to <7>, wherein the photopolymerization initiator comprises a compound represented by the following formula (1).

[식(1) 중, R1은 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타내고, X-는 1가의 음이온을 나타낸다. 복수 존재하는 R1은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.][In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and X - represents a monovalent anion. Multiple R 1s may be the same or different.]

<9> 하기 식 (2)로 표시되는 광 증감제를 더 함유하는 <1> ~ <8> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<9> A composition according to any one of <1> to <8>, further containing a photosensitizer represented by the following formula (2).

[식(2) 중, R2는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 R2는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.][In formula (2), R 2 represents an alkyl group that may have a substituent. Multiple R 2s may be the same or different.]

<10> JIS Z0208에 준거하여, 온도 85℃, 상대습도 85%의 조건하에서 측정되는 두께 100㎛당 투습도가 100g/(㎡·24시간) 이하의 경화체를 형성하기 위한 조성 물인 <1> ~ <9> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<10> A composition according to any one of <1> to <9> for forming a cured body having a moisture permeability of 100 g/(㎡·24 hours) or less per 100 ㎛ of thickness measured under conditions of a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% in accordance with JIS Z0208.

<11> 온도 85℃, 상대 습도 85%, 24시간에서의 흡수율이 3% 이하의 경화체를 형성하기 위한 조성물인 <1> ~ <10> 중 어느 하나에 기재된 조성물 .<11> A composition according to any one of <1> to <10> for forming a cured body having an absorption rate of 3% or less at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% for 24 hours.

<12> 유기 EL 표시소자용 밀봉제인 <1> ~ <11> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<12> A composition according to any one of <1> to <11>, which is a sealant for an organic EL display device.

<13> 댐·필 방식의 댐 형성용 밀봉제인 <1> ~ <12> 중 어느 하나에 기재된 조성물.<13> A composition according to any one of <1> to <12>, which is a sealant for forming a dam using a dam-fill method.

<14> 중합성 화합물과, 상기 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1과의 차의 절대값(|n1-n2|)이 0.5 이하가 되는 굴절률 n2를 갖는 무기 미립자와, 광중합 개시제를 함유하고, 상기 무기 미립자의 함유량이 30부피% 이상이고, 상기 광중합 개시제의 함유량이 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여 0.3질량부 이상이며, 상기 무기 미립자의 평균 원형도가 0.7 이상 1.0 이하인 조성물.<14> A composition containing a polymerizable compound, inorganic fine particles having a refractive index n 2 such that the absolute value of the difference (|n 1 -n 2 |) between the polymerizable compound and the refractive index n 1 of the polymer is 0.5 or less, and a photopolymerization initiator, wherein the content of the inorganic fine particles is 30% by volume or more, the content of the photopolymerization initiator is 0.3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound, and the average circularity of the inorganic fine particles is 0.7 or more and 1.0 or less.

<15> <1> ~ <14> 중 어느 하나에 기재된 조성물의 경화체.<15> A cured product of the composition described in any one of <1> to <14>.

<16> 유기 EL 표시소자와, 상기 유기 EL 표시소자를 밀봉하는 댐 및 필제로 이루어지는 밀봉 구조를 구비하고, 상기 댐이 <15>에 기재된 경화체를 포함하는 유기 EL 표시장치.<16> An organic EL display device comprising a sealing structure including an organic EL display element, a dam for sealing the organic EL display element, and a filler, wherein the dam includes a cured material as described in <15>.

<17> 유기 EL 텔레비전인 <16>에 기재된 유기 EL 표시장치.<17> An organic EL display device described in <16>, which is an organic EL television.

본 발명에 따르면 방습성 및 장기 신뢰성이 우수한 밀봉재를 형성가능한 조성물이 제공된다. 또한, 본 발명에 따르면, 해당 조성물의 경화체, 및 상기 조성물을 사용하여 형성되는 밀봉 구조를 구비하는 유기 EL 표시장치가 제공된다.According to the present invention, a composition capable of forming a sealant with excellent moisture resistance and long-term reliability is provided. Furthermore, according to the present invention, an organic EL display device comprising a cured product of the composition and a sealing structure formed using the composition is provided.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 관해 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

본 실시형태의 조성물은 중합성 화합물, 무기 미립자 및 광중합 개시제를 함유한다. 본 실시형태의 조성물에 있어서, 무기 미립자의 함유량은 30부피% 이상이다. 본 실시형태의 조성물은 파장 365nm, 조사량 600mJ/㎠의 광 조사를 행하고, 80℃에서 30분 정치했을 때의 경화 심도가 100㎛ 이상이다.The composition of the present embodiment contains a polymerizable compound, inorganic fine particles, and a photopolymerization initiator. In the composition of the present embodiment, the content of the inorganic fine particles is 30% by volume or more. The composition of the present embodiment has a curing depth of 100 μm or more when subjected to light irradiation at a wavelength of 365 nm and an irradiation dose of 600 mJ/cm2 and left to stand at 80°C for 30 minutes.

본 실시형태의 조성물에 의하면 방습성 및 장기 신뢰성이 우수한 밀봉재를 형성할 수 있다. 이 때문에 본 실시형태의 조성물은 밀봉제(바람직하게는 유기 EL 표시소자용 밀봉제, 특히 바람직하게는 유기 EL 텔레비젼용 밀봉제)로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 조성물은 댐·필 방식(댐 및 필제로 이루어지는 밀봉 구조)에서의 댐을 형성하기 위한, 댐 형성용 밀봉제로서 특히 바람직하게 사용할 수 있다.The composition of the present embodiment can form a sealant with excellent moisture resistance and long-term reliability. Therefore, the composition of the present embodiment can be preferably used as a sealant (preferably a sealant for organic EL display elements, and particularly preferably a sealant for organic EL televisions). Furthermore, the composition of the present embodiment can be particularly preferably used as a sealant for forming a dam in a dam-fill method (a sealing structure composed of a dam and a filler).

본 실시형태의 조성물에 의해 상기 효과가 발휘되는 이유는 반드시 한정되는 것은 아니지만, 이하와 같이 생각된다. 본 실시형태의 조성물에 의하면 수지 재료와 비교하여 투습성이 낮은 무기 미립자를 많이 포함하는 경화체가 형성된다.또한, 조성물 중의 무기 미립자의 함유량을 많게 하면 무기 미립자에 의해 광 조사가 저해되어 경화체 중의 미반응 모노머(미반응의 중합성 화합물)의 양이 증가하는 경향이 있다. 그러나, 본 실시형태에서는 상술한 경화 심도를 갖기 때문에 밀봉시의 광 조사에 의해 미반응 모노머가 충분히 저감되고, 미반응 모노머에 기인하는 방습성 및 신뢰성의 저하가 억제된다. 바꾸어 말하자면, 본 실시형태에서는 충분한 무기 미립자를 배합하면서 소정의 경화 심도를 갖는 조성물로 함으로써 우수한 방습성 및 장기 신뢰성이 실현된다고 생각된다.The reason why the composition of the present embodiment exhibits the above-described effect is not necessarily limited, but is thought to be as follows. According to the composition of the present embodiment, a cured product containing a large amount of inorganic fine particles having lower moisture permeability than the resin material is formed. Furthermore, when the content of inorganic fine particles in the composition is increased, the inorganic fine particles tend to inhibit light irradiation, thereby increasing the amount of unreacted monomer (unreacted polymerizable compound) in the cured product. However, in the present embodiment, since it has the above-described depth of curing, the unreacted monomer is sufficiently reduced by light irradiation during sealing, and the deterioration of moisture resistance and reliability due to the unreacted monomer is suppressed. In other words, in the present embodiment, it is thought that excellent moisture resistance and long-term reliability are realized by formulating a composition having a predetermined depth of curing while blending sufficient inorganic fine particles.

본 실시형태에 있어서, 중합성 화합물은 중합성기를 갖는 화합물이라고 할 수 있다. 중합성 화합물은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.In the present embodiment, the polymerizable compound may be referred to as a compound having a polymerizable group. One type of the polymerizable compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.

중합성 화합물로서는 탄소-탄소 이중 결합 및 환상 에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합성기를 갖는 것이 바람직하다.As a polymerizable compound, it is preferable to have at least one polymerizable group selected from the group consisting of carbon-carbon double bonds and cyclic ethers.

탄소-탄소 이중 결합은 라디칼 중합성 또는 양이온 중합성을 갖는 탄소-탄소 이중 결합이면 된다. 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물로서는 예를 들면, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기, 비닐에테르기, 비닐에스테르기 등의 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있고, 이들 중 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물((메트)아크릴레이트 화합물)이 바람직하다.The carbon-carbon double bond may be a carbon-carbon double bond having radical polymerization or cationic polymerization. Examples of compounds having a carbon-carbon double bond include compounds having polymerizable groups such as a (meth)acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, a vinyl ether group, and a vinyl ester group. Among these, compounds having a (meth)acryloyl group ((meth)acrylate compounds) are preferred.

(메트)아크릴레이트 화합물로서는 예를 들면, (메트)아크릴로일기를 하나 갖는 단관능 (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of (meth)acrylate compounds include monofunctional (meth)acrylates having one (meth)acryloyl group, polyfunctional (meth)acrylates having two or more (meth)acryloyl groups, etc.

단관능 (메트)아크릴레이트로서는 예를 들면 알킬(메트)아크릴레이트(예를 들면 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트 등), 벤질(메트)아크릴레이트, 에톡시화-o-페닐페놀(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of monofunctional (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates (e.g., ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, etc.), benzyl (meth)acrylate, ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylate, etc.

다관능 (메트)아크릴레이트로서는 예를 들면, 알칸디올디(메트)아크릴레이트(예를 들면, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메트)아크릴레이트, 1,12-도데칸디올디(메트)아크릴레이트 등), 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of multifunctional (meth)acrylates include alkanediol di(meth)acrylates (e.g., 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate, etc.), tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, etc.

환상 에테르는 양이온 중합성을 갖는 환상 에테르이면 된다. 환상 에테르를 갖는 화합물로서는 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.The cyclic ether can be any cyclic ether with cationic polymerization. Examples of compounds containing cyclic ether include epoxy compounds and oxetane compounds.

에폭시 화합물로서는 예를 들면, 에폭시기를 갖는 지환식 화합물(지환식 에폭시 화합물), 에폭시기를 갖는 방향족 화합물(방향족 에폭시 화합물), 에폭시기를 갖는 비환식 화합물(비환식 에폭시 화합물) 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 1종 이상을 선택하여 사용해도 된다.Examples of epoxy compounds include alicyclic compounds having an epoxy group (alicyclic epoxy compounds), aromatic compounds having an epoxy group (aromatic epoxy compounds), and acyclic compounds having an epoxy group (acyclic epoxy compounds). One or more of these compounds may be selected and used.

지환식 에폭시 화합물로서는 예를 들면, 적어도 1개의 시클로알켄환(예를 들면, 시클로헥센환, 시클로펜텐환, 피넨환 등)을 갖는 화합물을 과산화수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화하는 것에 의해 얻어지는 화합물 또는 이의 유도체를 들 수 있다. 또한, 지환식 에폭시 화합물로서는 예를 들면 방향족 에폭시 화합물(예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물 등)을 수소화하여 얻어지는 수소화 에폭시 화합물도 들 수 있다.Examples of the alicyclic epoxy compound include a compound obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkene ring (e.g., a cyclohexene ring, a cyclopentene ring, a pinene ring, etc.) with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or a peracid, or a derivative thereof. In addition, examples of the alicyclic epoxy compound include a hydrogenated epoxy compound obtained by hydrogenating an aromatic epoxy compound (e.g., a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, etc.).

지환식 에폭시 화합물로서는 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실알킬(메트)아크릴레이트(예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 등), (3,3',4,4'-디에폭시)비시클로헥실, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 F형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of alicyclic epoxy compounds include 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylalkyl(meth)acrylate (e.g., 3,4-epoxycyclohexylmethyl(meth)acrylate, etc.), (3,3',4,4'-diepoxy)bicyclohexyl, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, and hydrogenated bisphenol F type epoxy resin.

지환식 에폭시 화합물 중에서, 1,2-에폭시시클로헥산 구조를 갖는 지환식 에폭시 화합물이 바람직하다. 1,2-에폭시시클로헥산 구조를 갖는 지환식 에폭시 화합물 중에서는 하기 식 (A1-1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.Among the alicyclic epoxy compounds, an alicyclic epoxy compound having a 1,2-epoxycyclohexane structure is preferred. Among the alicyclic epoxy compounds having a 1,2-epoxycyclohexane structure, a compound represented by the following formula (A1-1) is preferred.

식 (A1-1) 중, X는 단결합 또는 연결기(1 이상의 원자를 갖는 2가의 기)를 나타낸다.In formula (A1-1), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms).

연결기는 2가의 탄화수소기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드 결합, 또는 이들이 복수개 연결한 기인 것이 바람직하다.The connecting group is preferably a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide bond, or a group in which multiple of these are connected.

X는 연결기가 바람직하다. 연결기로서는 에스테르 결합을 갖는 기가 바람직하다. 연결기로서 에스테르 결합을 갖는 기를 갖는 화합물로서는 예를 들면 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트를 들 수 있다.X is preferably a linking group. As the linking group, a group having an ester bond is preferable. As a compound having a group having an ester bond as the linking group, an example thereof is 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate.

지환식 에폭시 화합물의 분자량은 경화체의 방습성이 보다 향상되는 점 및 조성물의 보존 안정성이 보다 향상되는 점에서 1000 이하가 바람직하고, 450 이하가 보다 바람직하고, 400 이하가 더욱 바람직하고, 300 이하가 한층 바람직하고, 100 ~ 280이 특히 바람직하다. 즉, 지환식 에폭시 화합물의 분자량은 예를 들면, 100 ~ 1000, 100 ~ 450, 100 ~ 400, 100 ~ 300 또는 100 ~ 280이어도 된다.The molecular weight of the alicyclic epoxy compound is preferably 1000 or less, more preferably 450 or less, even more preferably 400 or less, still more preferably 300 or less, and particularly preferably 100 to 280, from the viewpoint of further improving the moisture resistance of the cured product and further improving the storage stability of the composition. That is, the molecular weight of the alicyclic epoxy compound may be, for example, 100 to 1000, 100 to 450, 100 to 400, 100 to 300, or 100 to 280.

지환식 에폭시 화합물이 분자량 분포를 갖는 경우에는 지환식 에폭시 화합물의 수평균 분자량이 상기 범위인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서 중, 수평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 하기 측정 조건으로 측정되는 폴리스티렌 환산의 값을 나타낸다.When the alicyclic epoxy compound has a molecular weight distribution, it is preferable that the number average molecular weight of the alicyclic epoxy compound is within the above range. In addition, in this specification, the number average molecular weight represents a value converted to polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following measurement conditions.

ㆍ용매(이동상): THFㆍSolvent (mobile phase): THF

ㆍ탈기 장치: ERMA사 제조 ERC-3310Degassing device: ERC-3310 manufactured by ERMA

ㆍ펌프: 일본분광사 제조 PU-980Pump: PU-980 manufactured by Nippon Kogakusha

ㆍ유속: 1.0ml/minㆍFlow rate: 1.0ml/min

ㆍ오토샘플러: 도소사 제조 AS-8020ㆍAuto sampler: AS-8020 manufactured by Dososa

ㆍ컬럼 오븐: 히타치제작소 제조 L-5030Column oven: L-5030 manufactured by Hitachi, Ltd.

ㆍ설정 온도: 40℃ㆍSet temperature: 40℃

ㆍ컬럼 구성: 토소사 제조 TSK guard column MP(×L) 6.0mmID×4.0cm 2개, 및 토소사 제조 TSK-GELMULTIPORE HXL-M 7.8mmID×30.0cm 2개, 총 4개ㆍColumn configuration: 2 TSK guard columns MP(×L) 6.0mmID×4.0cm manufactured by Tosoh Corporation, and 2 TSK-GELMULTIPORE HXL-M 7.8mmID×30.0cm manufactured by Tosoh Corporation, total of 4

ㆍ검출기: RI 히타치 제작소제 L-3350Detector: RI Hitachi L-3350

ㆍ데이터 처리: SIC480 데이터스테이션ㆍData processing: SIC480 data station

방향족 에폭시 화합물로서는 모노머, 올리고머 또는 폴리머 중 어느 것도 사용가능하고, 테트라브로모비스페놀 A 디글리시딜에테르 등의 브롬화비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 노볼락페놀형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 페닐글리시딜 에테르 및 이들의 변성물 등을 들 수 있다.Any of monomers, oligomers, or polymers can be used as the aromatic epoxy compound, and examples thereof include brominated bisphenol A type epoxy resins such as tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, fluorene type epoxy resins, novolac phenol type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, phenyl glycidyl ethers, and modified products thereof.

방향족 에폭시 화합물로서는 비스페놀 구조를 갖는 방향족 에폭시 화합물이 바람직하다. 비스페놀 구조를 갖는 방향족 에폭시 화합물 중에서는 하기 식 (A2-1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.As an aromatic epoxy compound, an aromatic epoxy compound having a bisphenol structure is preferable. Among aromatic epoxy compounds having a bisphenol structure, a compound represented by the following formula (A2-1) is preferable.

식 (A2-1) 중, n은 0~30을 나타내고, R21, R22, R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다. n은 0.1 이상이어도 된다.In formula (A2-1), n represents 0 to 30, and R 21 , R 22 , R 23 , and R 24 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent. n may be 0.1 or more.

R21, R22, R23 및 R24는 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다. R21, R22, R23 및 R24는 각각 동일해도 되고 상이해도 되지만, 동일한 것이 바람직하다.R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are preferably hydrogen atoms or methyl groups. R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different, but are preferably the same.

비스페놀 구조를 갖는 방향족 에폭시 화합물은 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.It is preferable that the aromatic epoxy compound having a bisphenol structure is at least one selected from the group consisting of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin.

방향족 에폭시 화합물의 분자량은 경화체의 방습성이 보다 향상되는 점에서, 100 ~ 5000이 바람직하고, 150 ~ 1000이 보다 바람직하고, 200 ~ 450이 더욱 바람직하다.즉, 방향족 에폭시 화합물의 분자량은 예를 들면 100 ~ 5000, 100 ~ 1000, 100 ~ 450, 150 ~ 5000, 150 ~ 1000, 150 ~ 450, 200 ~ 5000, 200 ~ 1000 또는 200 ~ 450이어도 된다.The molecular weight of the aromatic epoxy compound is preferably 100 to 5000, more preferably 150 to 1000, and even more preferably 200 to 450, from the viewpoint of further improving the moisture resistance of the cured product. That is, the molecular weight of the aromatic epoxy compound may be, for example, 100 to 5000, 100 to 1000, 100 to 450, 150 to 5000, 150 to 1000, 150 to 450, 200 to 5000, 200 to 1000, or 200 to 450.

방향족 에폭시 화합물이 분자량 분포를 갖는 경우에는 방향족 에폭시 화합물의 수평균 분자량이 상기 범위인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서 중, 수평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 상술한 측정 조건으로 측정되는 폴리스티렌 환산의 값을 나타낸다.When the aromatic epoxy compound has a molecular weight distribution, it is preferable that the number average molecular weight of the aromatic epoxy compound is within the above range. In addition, in this specification, the number average molecular weight refers to a polystyrene equivalent value measured under the above-described measurement conditions by gel permeation chromatography (GPC).

비환식 에폭시 화합물로서는 예를 들면 알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르(예를 들면, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜에테르 등), 다가 알콜의 폴리글리시딜에테르(예를 들어, 글리세린 또는 그의 알킬렌옥사이드 부가체의 디 또는 트리글리시딜에테르 등), 폴리알킬렌 글리콜의 디글리시딜에테르(예를 들어, 폴리에틸렌글리콜 또는 그의 알킬렌 옥사이드 부가체의 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜 또는 그의 알킬렌 옥사이드 부가체의 디글리시딜에테르 등) 등을 들 수 있다. 여기서, 알킬렌옥사이드로서는 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다.Examples of acyclic epoxy compounds include diglycidyl ethers of alkylene glycols (e.g., ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, etc.), polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols (e.g., di- or triglycidyl ethers of glycerin or its alkylene oxide adducts, etc.), diglycidyl ethers of polyalkylene glycols (e.g., diglycidyl ethers of polyethylene glycol or its alkylene oxide adducts, diglycidyl ethers of polypropylene glycol or its alkylene oxide adducts, etc.). Here, examples of alkylene oxides include ethylene oxide and propylene oxide.

옥세탄 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄(도아합성(주) 제조 상품명 아론옥세탄 OXT-101 등), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠(상동 OXT-121 등), 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄(상동 OXT-211 등), 디(1-에틸-(3-옥세타닐))메틸에테르(상동 OXT-221 등), 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄(상동 OXT-212 등) 등을 들 수 있다. 옥세탄 화합물은 분자 내에 1개 이상의 옥세탄 고리를 갖는 화합물을 말한다.Examples of oxetane compounds include, but are not particularly limited to, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (product name: Alonoxetane OXT-101, manufactured by Doah Synthetic Co., Ltd., etc.), 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene (same as OXT-121, etc.), 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane (same as OXT-211, etc.), di(1-ethyl-(3-oxetanyl))methyl ether (same as OXT-221, etc.), 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane (same as OXT-212, etc.). An oxetane compound refers to a compound having one or more oxetane rings in the molecule.

중합성 화합물로서는 탄소-탄소 이중 결합 및 환상 에테르 모두를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 탄소-탄소 이중 결합 및 환상 에테르를 갖는 중합성 화합물로서는 예를 들면, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 에폭시시클로헥실(메트)아크릴레이트, 3-에틸옥세탄3-일메틸(메트)아크릴레이트, 에폭시-4-비닐시클로헥산, 3-에틸옥세탄3-일메틸비닐에테르 등을 들 수 있다.As polymerizable compounds, compounds having both carbon-carbon double bonds and cyclic ethers can be used. Examples of polymerizable compounds having carbon-carbon double bonds and cyclic ethers include glycidyl (meth)acrylate, epoxycyclohexyl (meth)acrylate, 3-ethyloxetan-3-ylmethyl (meth)acrylate, epoxy-4-vinylcyclohexane, and 3-ethyloxetan-3-ylmethylvinyl ether.

광중합 개시제로서는 광 양이온 중합 개시제, 광라디칼 중합 개시제, 광음이온 중합 개시제 등을 들 수 있다. 본 실시형태의 조성물이 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 화합물을 함유하는 경우 광중합 개시제는 광라디칼 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 실시형태의 조성물이 환상 에테르를 갖는 중합성 화합물을 함유하는 경우 광중합 개시제는 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the photopolymerization initiator include a photocationic polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator, and a photoanionic polymerization initiator. When the composition of the present embodiment contains a polymerizable compound having a carbon-carbon double bond, the photopolymerization initiator preferably includes a photoradical polymerization initiator. Furthermore, when the composition of the present embodiment contains a polymerizable compound having a cyclic ether, the photopolymerization initiator preferably includes a photocationic polymerization initiator.

광 양이온 중합 개시제는 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 아릴술포늄염 유도체(예를 들면, 다우케미칼사 제조의 사이라큐어 UVI-6990, 사이라큐어 UVI-6974, 아데카사 제조의 아데카옵토머 SP-150, 아데카옵토머 SP-152, 아데카옵토머 SP-170, 아데카옵토머 SP-172, 산아프로사 제조의 CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, CPI-210S, CPI-310B, CPI-310FG, CPI-400S. LW-S1, 더블본드사 제조의 치바큐어 1190 등), 아릴요오도늄염 유도체(예를 들면, 치바스페셜티케미컬즈사 제조의 이르가큐어 250, 로디아·재팬사 제조의 RP-2074), 알렌-이온 착체 유도체, 디아조늄염 유도체 , 트리아진계 개시제 및 기타 할로겐화물 등의 산발생제 등을 들 수 있다.The photocationic polymerization initiator is not particularly limited and includes, for example, arylsulfonium salt derivatives (for example, Cyracure UVI-6990 and Cyracure UVI-6974 manufactured by Dow Chemical Company, Adeka Optomer SP-150, Adeka Optomer SP-152, Adeka Optomer SP-170 and Adeka Optomer SP-172 manufactured by Adeka Corporation, CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, CPI-210S, CPI-310B, CPI-310FG, CPI-400S. LW-S1 manufactured by San-Apro Corporation, Chiba Cure 1190 manufactured by Double Bond Corporation, etc.), aryliodonium salt derivatives (for example, Irgacure 250 manufactured by Chiba Specialty Chemicals, Rhodia Japan, etc.) Examples thereof include acid generators such as RP-2074), allene-ion complex derivatives, diazonium salt derivatives, triazine-based initiators, and other halogenated compounds.

광 양이온 중합 개시제로서는 예를 들면, 식 (B-1)로 표시되는 오늄염을 들 수 있다.As a photo-cationic polymerization initiator, an onium salt represented by formula (B-1) can be mentioned, for example.

[식 (B-1) 중,[In formula (B-1),

A는 VIA족 내지 VIIA족의 원자가 m의 원소를 나타내고,A represents an element of group VIA to VIIA with valence m,

m은 1 ~ 2를 나타내고,m represents 1 to 2,

p는 0 ~ 3을 나타내고,p represents 0 to 3,

R은 A에 결합하고 있는 유기기를 나타내고,R represents the organic group bonded to A,

D는 하기 식(B-1-1):D is the following formula (B-1-1):

로 표시되는 2가의 기 (식 (B-1-1) 중, E는 2가의 기를 나타내고, G는 -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -NH-, -NR'-, -CO-, -COO-, -CONH-, 탄소수 1 ~ 3의 알킬렌 또는 페닐렌기(R'는 탄소수 1 ~ 5의 알킬기 또는 탄소수 6 ~ 10의 아릴기)를 나타내고, a는 0 ~ 5를 나타낸다. a+1개의 E 및 a개의 G는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다)를 나타내고, X-는 오늄의 반대이온이다.)A divalent group represented by (Formula (B-1-1) in which E represents a divalent group, G represents -O-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -NH-, -NR'-, -CO-, -COO-, -CONH-, an alkylene or phenylene group having 1 to 3 carbon atoms (R' represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms), a represents 0 to 5. a+1 E and a G may be the same or different), and X - is a counterion of onium.)

식(B-1)의 오늄 이온은 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 4-(페닐티오)페닐디페닐술포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]술피드, 비스[4-{비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]술포니오}페닐]설파이드, 비스{4-[비스(4-플루오로페닐)술포니오]페닐}설파이드, 4-(4-벤조일-2-클로로페닐티오)페닐비스(4-플루오로페닐)술포늄, 4-(4-벤조일페닐티오)페닐디페닐술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디-p-톨릴술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디페닐술포늄, 2-[(디-p-톨릴)술포니오]티옥산톤, 2-[(디페닐)술포니오]티옥산톤, 4-[4-(4-tert-부틸벤조일)페닐티오]페닐디-p-톨릴술포늄, 4-(4-벤조일페닐티오)페닐디페닐술포늄, 5-(4-메톡시페닐)티아안트레늄, 5-페닐티아안트레늄, 디페닐페나실술포늄, 4-히드록시페닐메틸벤질술포늄, 2-나프틸메틸(1-에톡시카르보닐)에틸술포늄, 4-히드록시페닐메틸페나실술포늄, 옥타데실메틸페나실술포늄 등을 들 수 있다.The onium ion of formula (B-1) is not particularly limited and includes, for example, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, Examples thereof include 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio]thioxanthone, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thianthrenium, 5-phenylthiaanthrenium, diphenylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, and octadecylmethylphenacylsulfonium.

R은 A에 결합하고 있는 유기기이다. R은 예를 들면, 탄소수 6 ~ 30의 아릴기, 탄소수 4 ~ 30의 복소환기, 탄소수 1 ~ 30의 알킬기, 탄소수 2 ~ 30의 알케닐기 또는 탄소수 2 ~ 30의 알키닐기를 나타내고, 이들은 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기로서는 예를 들면 알킬기, 히드록시기, 알콕시기, 알킬카르보닐기, 아릴카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 아릴티오카르보닐기, 아실옥시기, 아릴티오기, 알킬티오기, 아릴기, 복소환기, 아릴옥시기, 알킬술피닐기, 아릴술피닐기, 알킬술포닐기, 아릴술포닐기, 알킬렌옥시기, 아미노기, 시아노기, 니트로기, 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 된다.R is an organic group bonded to A. R represents, for example, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, and these may have a substituent. As a substituent, for example, at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylthiocarbonyl group, an acyloxy group, an arylthio group, an alkylthio group, an aryl group, a heterocyclic group, an aryloxy group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an alkyleneoxy group, an amino group, a cyano group, a nitro group, and a halogen can be mentioned.

R의 개수는 m+p(m-1)+1이며, 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, 2개 이상의 R은 서로 직접 또는 -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -NH-, -NR'-, -CO-, -COO-, -CONH-, 탄소수 1 ~ 3의 알킬렌 혹은 페닐렌기를 통해 결합하여 원소 A를 포함하는 고리 구조를 형성하고 있어도 된다. 여기서, R'은 탄소수 1 ~ 5의 알킬기 또는 탄소수 6 ~ 10의 아릴기이다.The number of R is m+p(m-1)+1, and they may be the same or different. In addition, two or more R may be bonded to each other directly or through -O-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -NH-, -NR'-, -CO-, -COO-, -CONH-, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, or a phenylene group to form a ring structure containing element A. Here, R' is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

탄소수 6 ~ 30의 아릴기로서는 페닐기 등의 단환식 아릴기, 및 나프틸기, 안트라세닐기, 페난스레닐기, 피레닐기, 크리세닐기, 나프타세닐기, 벤즈안트라세닐기, 안트라퀴놀릴기, 플루오레닐기, 나프토퀴논기 및 안트라퀴논기 등의 축합 다환식 아릴기를 들 수 있다.Examples of aryl groups having 6 to 30 carbon atoms include monocyclic aryl groups such as a phenyl group, and condensed polycyclic aryl groups such as a naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, benzanthracenyl group, anthraquinolyl group, fluorenyl group, naphthoquinone group, and anthraquinone group.

탄소수 6 ~ 30의 아릴기, 탄소수 4 ~ 30의 복소환기, 탄소수 1 ~ 30의 알킬기, 탄소수 2 ~ 30의 알케닐기 또는 탄소수 2 ~ 30의 알키닐기는 적어도 1종의 치환기를 가져도 된다. 치환기의 예로서, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 옥틸, 데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥다데실 등의 탄소수 1 ~ 18의 직쇄 알킬기;An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms may have at least one substituent. Examples of the substituent include straight-chain alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, and oxadecyl;

이소프로필, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 이소헥실 등의 탄소수 1 ~ 18의 분기 알킬기;Branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, and isohexyl;

시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 등의 탄소수 3 ~ 18의 시클로알킬기;Cycloalkyl groups having 3 to 18 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl;

히드록시기;hydroxyl group;

메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, tert-부톡시, 헥실옥시, 데실옥시, 도데실옥시 등의 탄소수 1 ~ 18의 직쇄 또는 분지의 알콕시기;A straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, hexyloxy, decyloxy, and dodecyloxy;

아세틸, 프로피오닐, 부타노일, 2-메틸프로피오닐, 헵타노일, 2-메틸부타노일, 3-메틸부타노일, 옥타노일, 데카노일, 도데카노일, 옥타데카노일 등의 탄소수 2 ~ 18의 직쇄 또는 분지의 알킬카르보닐기 ;A straight-chain or branched alkylcarbonyl group having 2 to 18 carbon atoms, such as acetyl, propionyl, butanoyl, 2-methylpropionyl, heptanoyl, 2-methylbutanoyl, 3-methylbutanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl, and octadecanoyl;

벤조일, 나프토일 등의 탄소수 7 ~ 11의 아릴카르보닐기;Arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, such as benzoyl and naphthoyl;

메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, 부톡시카르보닐, 이소부톡시카르보닐, sec-부톡시카르보닐, tert-부톡시카르보닐, 옥틸옥시카르보닐, 테트라데실옥시카르보닐, 옥타데실옥시카르보닐 등의 탄소수 2 ~ 19의 직쇄 또는 분지의 알콕시카르보닐기;A straight-chain or branched alkoxycarbonyl group having 2 to 19 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, octyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl, or octadecyloxycarbonyl;

페녹시카르보닐, 나프톡시카르보닐 등의 탄소수 7 ~ 11의 아릴옥시카르보닐기;Aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl and naphthoxycarbonyl;

페닐티오카르보닐, 나프톡시티오카르보닐 등의 탄소수 7 ~ 11의 아릴티오카르보닐기;Arylthiocarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, such as phenylthiocarbonyl and naphthoxycarbonyl;

아세톡시, 에틸카르보닐옥시, 프로필카르보닐옥시, 이소프로필카르보닐옥시, 부틸카르보닐옥시, 이소부틸카르보닐옥시, sec-부틸카르보닐옥시, tert-부틸카르보닐옥시, 옥틸카르보닐옥시, 테트라데실카르보닐옥시, 옥타데실카르보닐옥시 등의 탄소수 2 ~ 19의 직쇄 또는 분지의 아실옥시기;A straight-chain or branched acyloxy group having 2 to 19 carbon atoms, such as acetoxy, ethylcarbonyloxy, propylcarbonyloxy, isopropylcarbonyloxy, butylcarbonyloxy, isobutylcarbonyloxy, sec-butylcarbonyloxy, tert-butylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, tetradecylcarbonyloxy, or octadecylcarbonyloxy;

페닐티오, 2-메틸페닐티오, 3-메틸페닐티오, 4-메틸페닐티오, 2-클로로페닐티오, 3-클로로페닐티오, 4-클로로페닐티오, 2-브로모페닐티오, 3-브로모페닐티오, 4-브로모페닐티오, 2-플루오로페닐티오, 3-플루오로페닐티오, 4-플루오로페닐티오, 2-히드록시페닐티오, 4-히드록시페닐티오, 2-메톡시페닐티오, 4-메톡시페닐티오, 1-나프틸티오, 2-나프틸티오, 4-[4-(페닐티오)벤조일]페닐티오, 4-[4-(페닐티오)페녹시]페닐티오, 4-[4-(페닐티오)페닐]페닐티오, 4-(페닐티오)페닐티오, 4-벤조일페닐티오, 4-벤조일-2-클로로페닐티오, 4-벤조일-3-클로로페닐티오, 4-벤조일-3-메틸티오페닐티오, 4-벤조일-2-메틸티오페닐티오, 4-(4-메틸티오벤조일)페닐티오, 4-(2-메틸티오벤조일)페닐티오, 4-(p-메틸벤조일)페닐티오, 4-(p-에틸벤조일)페닐티오 4-(p-이소프로필벤조일)페닐티오, 4-(p-tert-부틸벤조일)페닐티오 등의 탄소수 6 ~ 20의 아릴티오기;Phenylthio, 2-methylphenylthio, 3-methylphenylthio, 4-methylphenylthio, 2-chlorophenylthio, 3-chlorophenylthio, 4-chlorophenylthio, 2-bromophenylthio, 3-bromophenylthio, 4-bromophenylthio, 2-fluorophenylthio, 3-fluorophenylthio, 4-fluorophenylthio, 2-hydroxyphenylthio, 4-hydroxyphenylthio, 2-methoxyphenylthio, 4-methoxyphenylthio, 1-naphthylthio, 2-naphthylthio, 4-[4-(phenylthio)benzoyl]phenylthio, 4-[4-(phenylthio)phenoxy]phenylthio, 4-[4-(phenylthio)phenyl]phenylthio, 4-(phenylthio)phenylthio, Arylthio groups having 6 to 20 carbon atoms, such as 4-benzoylphenylthio, 4-benzoyl-2-chlorophenylthio, 4-benzoyl-3-chlorophenylthio, 4-benzoyl-3-methylthiophenylthio, 4-benzoyl-2-methylthiophenylthio, 4-(4-methylthiobenzoyl)phenylthio, 4-(2-methylthiobenzoyl)phenylthio, 4-(p-methylbenzoyl)phenylthio, 4-(p-ethylbenzoyl)phenylthio 4-(p-isopropylbenzoyl)phenylthio, and 4-(p-tert-butylbenzoyl)phenylthio;

메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, 부틸티오, 이소부틸티오, sec-부틸티오, tert-부틸티오, 펜틸티오, 이소펜틸티오, 네오펜틸티오, tert-펜틸티오, 옥틸티오, 데실티오, 도데실티오 등의 탄소수 1 ~ 18의 직쇄 또는 분지의 알킬티오기;A straight-chain or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, pentylthio, isopentylthio, neopentylthio, tert-pentylthio, octylthio, decylthio, or dodecylthio;

페닐, 톨릴, 디메틸페닐, 나프틸 등의 탄소수 6 ~ 10의 아릴기;Aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, tolyl, dimethylphenyl, and naphthyl;

티에닐, 푸라닐, 피라닐, 피롤릴, 옥사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리미딜, 피라지닐, 인돌릴, 벤조푸라닐, 벤조티에닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 카르바졸릴, 아크리디닐, 페노티아지닐, 페나지닐, 크산테닐, 티안트레닐, 페녹사지닐, 페녹사티이닐, 크로마닐, 이소크로마닐, 디벤조티에닐, 크산토닐, 티옥산토닐, 디벤조푸라닐 등의 탄소수 4 ~ 20의 복소환기;Heterocyclic groups having 4 to 20 carbon atoms, such as thienyl, furanyl, pyranyl, pyrrolyl, oxazolyl, thiazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, indolyl, benzofuranyl, benzothienyl, quinolyl, isoquinolyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, carbazolyl, acridinyl, phenothiazinyl, phenazinyl, xanthenyl, thianthrenyl, phenoxazinyl, phenoxathiinyl, chromanyl, isochromanyl, dibenzothienyl, xanthonyl, thioxanthonyl, and dibenzofuranyl;

페녹시, 나프틸옥시 등의 탄소수 6 ~ 10의 아릴옥시기; Aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenoxy and naphthyloxy;

메틸술피닐, 에틸술피닐, 프로필술피닐, 이소프로필술피닐, 부틸술피닐, sec-부틸술피닐, tert-부틸술피니일, 펜틸술피닐, 이소펜틸술피닐, 네오펜틸술피닐, tert-펜틸술피닐, 옥틸술피닐 등의 탄소수 1 ~ 18의 직쇄 또는 분지의 알킬술피닐기;A straight-chain or branched alkylsulfinyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, propylsulfinyl, isopropylsulfinyl, butylsulfinyl, sec-butylsulfinyl, tert-butylsulfinyl, pentylsulfinyl, isopentylsulfinyl, neopentylsulfinyl, tert-pentylsulfinyl, and octylsulfinyl;

페닐술피닐, 톨릴술피닐, 나프틸술피닐 등의 탄소수 6 ~ 10의 아릴술피닐기;Arylsulfinyl group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylsulfinyl, tolylsulfinyl, and naphthylsulfinyl;

메틸술포닐, 에틸술포닐, 프로필술포닐, 이소프로필술포닐, 부틸술포닐, 이소부틸술포닐, sec-부틸술포닐, tert-부틸술포닐, 펜틸술포닐, 이소펜틸술포닐, 네오펜틸술포닐, tert-펜틸술포닐, 옥틸술포닐 등의 탄소수 1 ~ 18의 직쇄 또는 분지의 알킬술포닐기;A straight-chain or branched alkylsulfonyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, neopentylsulfonyl, tert-pentylsulfonyl, and octylsulfonyl;

페닐술포닐, 톨릴술포닐(토실기), 나프틸술포닐 등의 탄소수의 6 ~ 10의 아릴술포닐기;Arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylsulfonyl, tolylsulfonyl (tosyl group), and naphthylsulfonyl;

식(B-1-2):Formula (B-1-2):

로 표시되는 알킬렌옥시기(Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, k는 1 ~ 5의 정수를 나타낸다);An alkyleneoxy group represented by (Q represents a hydrogen atom or a methyl group, and k represents an integer from 1 to 5);

비치환된 아미노기;Unsubstituted amino group;

탄소수 1 ~ 5의 알킬 및/또는 탄소수 6 ~ 10의 아릴로 모노치환 혹은 디치환되어 있는 아미노기;An amino group mono- or disubstituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and/or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms;

시아노기;cyano group;

니트로기;Nitro;

불소, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 등을 들 수 있다.Examples include halogens such as fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

식 (B-1) 중의 p는 [DA+Rm-1] 결합의 반복 단위수를 나타내고, 0 ~ 3의 정수인 것이 바람직하다.In formula (B-1), p represents the number of repeating units of the [DA + R m-1 ] bond, and is preferably an integer from 0 to 3.

식 (B-1) 중의 오늄 이온 [A+]로서 바람직한 것은 술포늄, 요오도늄, 셀레늄이지만, 대표예로서는 이하의 것을 들 수 있다.Preferred onium ions [A + ] in formula (B-1) are sulfonium, iodonium, and selenium, but representative examples include the following.

술포늄 이온으로서는 트리페닐술포늄, 트리-p-톨릴술포늄, 트리-o-톨릴술포늄, 트리스(4-메톡시페닐)술포늄, 1-나프틸디페닐술포늄, 2-나프틸디페닐술포늄, 트리스(4-플루오로페닐)술포늄, 트리-1-나프틸술포늄, 트리-2-나프틸술포늄, 트리스(4-히드록시페닐)술포늄, 4-(페닐티오)페닐디페닐술포늄, 4-(p-톨릴티오)페닐디-p-톨릴술포늄, 4-(4-메톡시페닐티오)페닐비스(4-메톡시페닐)술포늄, 4-(페닐티오)페닐비스(4-플루오로페닐)술포늄, 4-(페닐티오)페닐비스(4-메톡시페닐)술포늄, 4-(페닐티오)페닐디-p-톨릴설포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]설파이드, 비스[4-{비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]설포니오}페닐]설파이드, 비스{4-[비스(4-플루오로페닐)설포니오]페닐}설파이드, 비스{4-[비스(4-메틸페닐)설포니오]페닐}설파이드, 비스{4-[비스(4-메톡시페닐)설포니오]페닐}설파이드, 4-(4-벤조일-2-클로로페닐티오)페닐비스(4-플루오로페닐)설포늄, 4-(4-벤조일-2-클로로페닐티오)페닐디페닐술포늄, 4-(4-벤조일페닐티오)페닐비스(4-플루오로페닐)술포늄, 4-(4-벤조일페닐티오)페닐디페닐술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디-p-톨릴술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디페닐술포늄, 2-[(디-p-톨릴)설포니오]티옥산톤, 2-[(디페닐)설포니오]티옥산톤, 4-[4-(4-t-부틸벤조일)페닐티오]페닐디-p-톨릴술포늄, 4-[4-(4-tert-부틸벤조일)페닐티오]페닐디페닐술포늄, 4-[4-(벤조일페닐티오)]페닐디-p-톨릴설포늄, 4-[4-(벤조일페닐티오)]페닐디페닐술포늄, 5-(4-메톡시페닐)티아안트레늄, 5-페닐티아안트레늄, 5-톨릴티아안트레늄, 5-(4-에톡시페닐)티아안트레늄, 5-(2,4,6-트리메틸페닐)티아안트레늄 등의 트리아릴술포늄;As sulfonium ions, triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, tri-o-tolylsulfonium, tris(4-methoxyphenyl)sulfonium, 1-naphthyldiphenylsulfonium, 2-naphthyldiphenylsulfonium, tris(4-fluorophenyl)sulfonium, tri-1-naphthylsulfonium, tri-2-naphthylsulfonium, tris(4-hydroxyphenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 4-(p-tolylthio)phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-(4-methoxyphenylthio)phenylbis(4-methoxyphenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenylbis(4-methoxyphenyl)sulfonium, 4-(Phenylthio)phenyldi-p-tolylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, bis{4-[bis(4-methylphenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, bis{4-[bis(4-methoxyphenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-Isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-Isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio]thioxanthone, 4-[4-(4-t-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldiphenylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thianthrenium, Triarylsulfoniums such as 5-phenylthiuanthreonium, 5-tolylthiuanthreonium, 5-(4-ethoxyphenyl)thiuanthreonium, and 5-(2,4,6-trimethylphenyl)thiuanthreonium;

디페닐페나실술포늄, 디페닐4-니트로페나실술포늄, 디페닐벤질술포늄, 디페닐메틸술포늄 등의 디아릴술포늄;Diarylsulfoniums such as diphenylphenacylsulfonium, diphenyl4-nitrophenacylsulfonium, diphenylbenzylsulfonium, and diphenylmethylsulfonium;

페닐메틸벤질술포늄, 4-히드록시페닐메틸벤질술포늄, 4-메톡시페닐메틸벤질술포늄, 4-아세토카르보닐옥시페닐메틸벤질술포늄, 2-나프틸메틸벤질술포늄, 2-나프틸메틸(1-에톡시카르보닐)에틸술포늄, 페닐메틸페나실술포늄, 4-히드록시페닐메틸페나실술포늄, 4-메톡시페닐메틸페나실술포늄, 4-아세토카르보닐옥시페닐메틸페나실술포늄, 2-나프틸메틸페나실술포늄, 2-나프틸옥타데실페나실술포늄, 9-안트라세닐메틸페나실술포늄 등의 모노아릴술포늄;Monoarylsulfoniums such as phenylmethylbenzylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, phenylmethylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-methoxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylphenacylsulfonium, 2-naphthylmethylphenacylsulfonium, 2-naphthyloctadecylphenacylsulfonium, and 9-anthracenylmethylphenacylsulfonium;

디메틸페나실술포늄, 페나실테트라히드로티오페늄, 디메틸벤질술포늄, 벤질테트라히드로티오페늄, 옥타데실메틸페나실술포늄 등의 트리알킬설포늄; 등을 들 수 있다.Trialkylsulfoniums such as dimethylphenacylsulfonium, phenacyltetrahydrothiophenium, dimethylbenzylsulfonium, benzyltetrahydrothiophenium, and octadecylmethylphenacylsulfonium; etc.

이들 오늄 이온 중에서는 술포늄 이온과 요오도늄 이온으로 이루어지는 1종 이상이 바람직하고, 술포늄 이온이 보다 바람직하다. 술포늄 이온으로서는 트리페닐술포늄, 트리-p-톨릴술포늄, 4-(페닐티오)페닐디페닐술포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]술피드, 비스[4-{비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]술포니오}페닐]설파이드, 비스{4-[비스(4-플루오로페닐)술포니오]페닐}설파이드, 4-(4-벤조일-2-클로로페닐티오)페닐비스(4-플루오로페닐)술포늄, 4-(4-벤조일페닐티오)페닐디페닐술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디-p-톨릴술포늄, 7-이소프로필-9-옥소-10-티아-9,10-디히드로안트라센-2-일디페닐술포늄, 2-[(디-p-톨릴)술포니오]티옥산톤, 2-[(디페닐)술포니오]티옥산톤, 4-[4-(4-tert)-부틸벤조일)페닐티오]페닐디-p-톨릴술포늄, 4-[4-(벤조일페닐티오)]페닐디페닐술포늄, 5-(4-메톡시페닐)티아안트레늄, 5-페닐티아안트레늄, 디페닐페나실술포늄, 4-히드록시페닐메틸벤질술포늄, 2-나프틸메틸(1-에톡시카르보닐)에틸술포늄, 4-히드록시페닐메틸페나실술포늄 및 옥타데실메틸페나실술포늄으로 이루어지는 1종 이상이 바람직하다.Among these onium ions, at least one composed of a sulfonium ion and an iodonium ion is preferable, and a sulfonium ion is more preferable. As sulfonium ions, triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, At least one selected from the group consisting of 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio]thioxanthone, 4-[4-(4-tert)-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thianthrenium, 5-phenylthiaanthrenium, diphenylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, and octadecylmethylphenacylsulfonium is preferred.

식 (B-1)에서 X-는 반대 이온이다. 그 개수는 분자당 p + 1이다. 반대이온은 특별히 한정되지 않지만, 붕소 화합물, 인 화합물, 안티몬 화합물, 비소 화합물, 알킬술폰산 화합물 등의 할로겐화물, 메티드 화합물 등을 들 수 있다. X-로서는 예를 들면, F-, Cl-, Br-, I- 등의 할로겐 이온; OH-; ClO4 -; FSO3 -, ClSO3 -, CH3SO3-, C6H5SO3 -, CF3SO3 - 등의 술폰산 이온류; HSO4 -, SO4 2- 등의 황산 이온류; HCO3 -, CO3 2- 등의 탄산 이온류; H2PO4 -, HPO4 2-, PO4 3- 등의 인산 이온류; PF6 -, PF5OH-, 불소화 알킬플루오로인산 이온 등의 플루오로인산 이온류; BF4 -, B(C6F5)4 -, B(C6H4CF3)4 - 등의 붕산 이온류; AlCl4 -; BiF6 - 등을 들 수 있다. 그 밖에, SbF6 -, SbF5OH- 등의 플루오로안티몬산 이온류, AsF6 -, AsF5OH- 등의 플루오로비소산 이온류 등을 들 수 있다.In formula (B-1), X - is a counterion. The number of counterions is p + 1 per molecule. The counterion is not particularly limited, but may include halides such as boron compounds, phosphorus compounds, antimony compounds, arsenic compounds, alkylsulfonic acid compounds, methide compounds, etc. As X - , for example, halogen ions such as F - , Cl - , Br - , I - ; OH - ; ClO 4 - ; sulfonic acid ions such as FSO 3 - , ClSO 3 - , CH 3 SO 3 - , C 6 H 5 SO 3 - , CF 3 SO 3 - ; sulfate ions such as HSO 4 - , SO 4 2- ; carbonate ions such as HCO 3 - , CO 3 2- ; phosphate ions such as H 2 PO 4 - , HPO 4 2- , PO 4 3- ; Examples include fluorophosphate ions such as PF 6 - , PF 5 OH - , and fluorinated alkylfluorophosphate ions; boric acid ions such as BF 4 - , B(C 6 F 5 ) 4 - , and B(C 6 H 4 CF 3 ) 4 - ; AlCl 4 - ; and BiF 6 - . In addition, examples include fluoroantimonic acid ions such as SbF 6 - , SbF 5 OH - , and fluoroarsenic acid ions such as AsF 6 - , AsF 5 OH - .

불소화 알킬플루오로인산 이온으로서는 식 (B-1-3) 등으로 표시되는 불소화 알킬플루오로인산 이온 등을 들 수 있다.Examples of the fluorinated alkylfluorophosphate ion include fluorinated alkylfluorophosphate ions represented by formula (B-1-3), etc.

[(Rf)bPF6-b]- (B-1-3)[(Rf) b PF 6-b ] - (B-1-3)

식 (B-1-3)에 있어서, Rf는 불소 원자로 치환된 알킬기를 나타낸다. Rf의 개수 b는 1 ~ 5이며, 정수인 것이 바람직하다. b개의 Rf는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. Rf의 개수 b는 2 ~ 4가 보다 바람직하고, 2 ~ 3이 가장 바람직하다.In formula (B-1-3), Rf represents an alkyl group substituted with a fluorine atom. The number b of Rf is 1 to 5, and is preferably an integer. The b Rfs may be the same or different. The number b of Rf is more preferably 2 to 4, and most preferably 2 to 3.

식 (B-1-3)으로 표시되는 불소화 알킬플루오로인산 이온에 있어서, Rf는 불소 원자로 치환된 알킬기를 나타내고, 바람직한 탄소수는 1 ~ 8, 더욱 바람직한 탄소수는 1 ~ 4이다. 알킬기로서는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 옥틸 등의 직쇄 알킬기; 이소프로필, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸 등의 분기 알킬기; 나아가 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 등의 시클로알킬기 등을 들 수 있다. Rf의 구체예로서는 CF3, CF3CF2, (CF3)2CF, CF3CF2CF2, CF3CF2CF2CF2, (CF3)2CFCF2, CF3CF2(CF3)CF, (CF3)3C 등을 들 수 있다.In the fluorinated alkylfluorophosphate ion represented by formula (B-1-3), Rf represents an alkyl group substituted with a fluorine atom, and the preferred number of carbon atoms is 1 to 8, and more preferred number of carbon atoms is 1 to 4. Examples of the alkyl group include straight-chain alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, and octyl; branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, and tert-butyl; and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. Specific examples of Rf include CF 3 , CF 3 CF 2 , (CF 3 ) 2 CF, CF 3 CF 2 CF 2 , CF 3 CF 2 CF 2 , (CF 3 ) 2 CFCF 2 , CF 3 CF 2 (CF 3 )CF, (CF 3 ) 3 C, etc.

바람직한 불소화 알킬플루오로인산 음이온의 구체예로서는 [(CF3CF2)2PF4]-, [(CF3CF2)3PF3]-, [((CF3)2CF)2PF4]-, [((CF3)2CF)3PF3]-, [(CF3CF2CF2)2PF4]-, [(CF3CF2CF2)3PF3]-, [((CF3)2CFCF2)2PF4]-, [((CF3)2CFCF2)3PF3]-, [(CF3CF2CF2CF2)2PF4]- 및 [(CF3CF2CF2CF2)3PF3]- 등을 들 수 있다.Specific examples of preferred fluorinated alkylfluorophosphate anions include [(CF 3 CF 2 ) 2 PF 4 ]-, [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] - , [((CF 3 ) 2 CF) 2 PF 4 ] - , [((CF 3 ) 2 CF) 3 PF 3 ] - , [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 2 PF 4 ] - , [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] - , [((CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 3 PF 3 ] - , [( CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 2 PF 4 ] - and [(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] - can be mentioned.

광 양이온 중합 개시제는 중합성 화합물과의 혼합을 용이하게 하기 위해 미리 용제류에 용해한 것을 사용해도 된다. 용제류로서는 예를 들면 프로필렌카보네이트, 에틸렌카보네이트, 1,2-부틸렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트 등의 카보네이트류 등을 들 수 있다.The photocationic polymerization initiator may be dissolved in a solvent in advance to facilitate mixing with the polymerizable compound. Examples of such solvents include carbonates such as propylene carbonate, ethylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, dimethyl carbonate, and diethyl carbonate.

광 양이온 중합 개시제로서는 화학식 (1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.식 (1)로 표시되는 화합물로서는 트리아릴술포늄트리스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리아릴술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리아릴술포늄헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있다.As a photo-cationic polymerization initiator, a compound represented by the chemical formula (1) is preferable. Examples of the compound represented by the chemical formula (1) include triarylsulfonium tris(pentafluorophenyl)borate, triarylsulfonium hexafluoroantimonate, and triarylsulfonium hexafluorophosphate.

식 (1) 중, R1은 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타내고, X-는 1가의 음이온을 나타낸다. 복수 존재하는 R1은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and X - represents a monovalent anion. Multiple R 1s may be the same or different.

R1에 있어서의 알킬기로서는 상기 R에서의 탄소수 1 ~ 30의 알킬기와 동일한 것을 예시할 수 있다. 또한, R1에서의 아릴기로서는 상기 R에서의 탄소수 6 ~ 30의 아릴기와 동일한 것을 예시할 수 있다.As the alkyl group in R 1 , the same group as the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms in R can be exemplified. In addition, as the aryl group in R 1 , the same group as the aryl group having 6 to 30 carbon atoms in R can be exemplified.

X-로서는 상기와 동일한 것을 예시할 수 있다.X - The same can be exemplified as above.

R1은 바람직하게는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기이며, 보다 바람직하게는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기이다.R 1 is preferably an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and more preferably an aryl group which may have a substituent.

광 라디칼 중합 개시제로서는 특별히 한정되지 않지만,There is no particular limitation on the photo-radical polymerization initiator, but

벤조페논 및 그 유도체;Benzophenone and its derivatives;

벤질 및 그 유도체;Benzyl and its derivatives;

안트라퀴논 및 그 유도체;Anthraquinone and its derivatives;

벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인형 광중합 개시제;Benzoin-type photopolymerization initiators such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal;

디에톡시아세토페논, 4-tert-부틸트리클로로아세토페논 등의 아세토페논형 광중합 개시제;Acetophenone type photopolymerization initiators such as diethoxyacetophenone and 4-tert-butyltrichloroacetophenone;

2-디메틸아미노에틸벤조에이트;2-Dimethylaminoethylbenzoate;

p-디메틸아미노에틸벤조에이트;p-dimethylaminoethylbenzoate;

디페닐디설파이드;diphenyl disulfide;

티옥산톤 및 그 유도체;Thioxanthone and its derivatives;

캄퍼퀴논, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복실산, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1] 헵탄-1-카르복시-2-브로모에틸에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복시-2-메틸에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-카르복실산 클로라이드 등의 캄파퀴논형 광중합 개시제;Camphorquinone-type photopolymerization initiators such as camphorquinone, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-bromoethyl ester, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-methyl ester, and 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid chloride;

2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 등의 α-아미노알킬페논형 광중합 개시제;α-Aminoalkylphenone type photopolymerization initiators such as 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, etc.;

벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 벤조일디에톡시포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디메톡시페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드형 광중합 개시제;Acylphosphine oxide type photopolymerization initiators such as benzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, benzoyldiethoxyphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldimethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiethoxyphenylphosphine oxide, and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide;

페닐-글리옥실릭애시드-메틸에스테르;Phenyl-glyoxylic acid-methyl ester;

옥시-페닐-아세틱애시드 2-[2-옥소-2-페닐-아세톡시-에톡시]-에틸에스테르;Oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy]-ethyl ester;

옥시-페닐-아세틱애시드 2-[2-히드록시-에톡시]-에틸에스테르; 등을 들 수 있다.Oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-hydroxy-ethoxy]-ethyl ester; etc.

광중합 개시제의 함유량은 중합성 화합물 100질량부에 대하여 0.01질량부 이상이 바람직하고, 0.1질량부 이상이 보다 바람직하고, 0.3질량부 이상이 더욱 바람직하고, 0.5질량부 이상이 한층 더 바람직하다. 이에 의해 경화성이 더욱 향상된다. 또한, 중합 개시제의 함유량은 중합성 화합물 100질량부에 대하여 5질량부 이하가 바람직하고, 3질량부 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해 보다 장기 보관에서의 신뢰성이 우수한 밀봉재를 형성할 수 있다. 즉, 광중합 개시제의 함유량은 중합성 화합물 100질량부에 대하여 예를 들면, 0.01 ~ 5질량부, 0.01 ~ 3질량부, 0.1 ~ 5질량부, 0.1 ~ 3질량부, 0.3 ~ 5질량부, 0.3 ~ 3질량부, 0.5 ~ 5질량부 또는 0.5 ~ 3질량부이어도 된다.The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.1 parts by mass or more, still more preferably 0.3 parts by mass or more, and still more preferably 0.5 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. This further improves curability. Furthermore, the content of the polymerization initiator is preferably 5 parts by mass or less, and still more preferably 3 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. This makes it possible to form a sealant with excellent reliability for long-term storage. That is, the content of the photopolymerization initiator may be, for example, 0.01 to 5 parts by mass, 0.01 to 3 parts by mass, 0.1 to 5 parts by mass, 0.1 to 3 parts by mass, 0.3 to 5 parts by mass, 0.3 to 3 parts by mass, 0.5 to 5 parts by mass, or 0.5 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound.

무기 미립자로서는 결정성 실리카, 비정성 실리카, 알루미나, 마그네시아, 지르코니아, 활석, 운모, 점토(clay), 카올린, 루틸형 산화티탄, 아나타제형 산화티탄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 황산바륨, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등을 사용할 수 있다. 무기 미립자로서는 구상 실리카, 구상 알루미나, 구상 마그네시아, 구상 지르코니아 등의 구상 무기 미립자를 적합하게 사용할 수 있다. 무기 미립자가 구상이면 조사광이 조성물 중의 중합성 화합물과 무기 미립자의 계면에서 난반사하여 조성물의 심부까지 조사광이 도달하기 쉬워져 상술한 적합한 경화 심도를 보다 만족시키기 쉬워지는 경향이 있다.As the inorganic fine particles, crystalline silica, amorphous silica, alumina, magnesia, zirconia, talc, mica, clay, kaolin, rutile type titanium dioxide, anatase type titanium dioxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, magnesium sulfate, barium sulfate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, etc. can be used. As the inorganic fine particles, spherical inorganic fine particles such as spherical silica, spherical alumina, spherical magnesia, and spherical zirconia can be suitably used. If the inorganic fine particles are spherical, the irradiation light is diffusely reflected at the interface between the polymerizable compound in the composition and the inorganic fine particles, making it easier for the irradiation light to reach deep into the composition, and thus tends to more easily satisfy the above-described suitable curing depth.

무기 미립자의 평균 원형도(진원도)는 바람직하게는 0.7 이상이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상, 더욱 바람직하게는 0.85 이상이다. 이에 의해 상술한 난반사에 의한 효과가 보다 현저하게 얻어지는 경향이 있다. 무기 미립자의 평균 원형도는 1.0 이하이어도 된다.The average circularity (roundness) of the inorganic fine particles is preferably 0.7 or greater, more preferably 0.8 or greater, and even more preferably 0.85 or greater. This tends to more significantly achieve the aforementioned diffuse reflection effect. The average circularity of the inorganic fine particles may be 1.0 or less.

또한, 본 명세서 중 무기 미립자의 평균 원형도는 현미경 관찰에 의해 관측되는 무기 미립자의 1차 입자에 대해서 투영 면적 및 주위 길이를 계측하고, 이하의 식을 이용하여 산출한 값을 개수 평균한 값이다.In addition, the average circularity of the inorganic fine particles in this specification is the average value calculated by measuring the projected area and perimeter length of the primary particles of the inorganic fine particles observed by microscopic observation and using the following formula.

평균 원형도 = 4×π×(투영 면적)/(주위 길이)2 Average circularity = 4 × π × (projected area) / (perimeter) 2

무기 미립자는 중합성 화합물의 굴절률에 가까운 굴절률을 갖는 것이 바람직하다. 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1과 무기 미립자의 굴절률 n2의 차의 절대값(|n1-n2|)은 예를 들면 0.6 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5 이하, 보다 바람직하게는 0.4 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 이하, 한층 더욱 바람직하게는 0.25 이하이고, 0.2 이하, 0.15 이하 또는 0.1 이하이어도 된다. 무기 미립자가 중합성 화합물의 굴절률과 가까운 굴절률을 가짐으로써 무기 미립자와 중합성 화합물의 계면에서 조사광의 반사가 일어나기 어려워져 조성물의 심부까지 조사광이 도달하기 쉬워져 상술한 적합한 경화 심도를 보다 만족시키기 쉬워지는 경향이 있다.It is preferable that the inorganic fine particles have a refractive index close to that of the polymerizable compound. The absolute value of the difference between the refractive index n 1 of the polymer of the polymerizable compound and the refractive index n 2 of the inorganic fine particles (|n 1 -n 2 |) may be, for example, 0.6 or less, preferably 0.5 or less, more preferably 0.4 or less, even more preferably 0.3 or less, still more preferably 0.25 or less, and may also be 0.2 or less, 0.15 or less, or 0.1 or less. Since the inorganic fine particles have a refractive index close to that of the polymerizable compound, reflection of irradiation light is less likely to occur at the interface between the inorganic fine particles and the polymerizable compound, making it easier for irradiation light to reach deep into the composition, and thus tends to more easily satisfy the above-described suitable curing depth.

또한, 본 명세서 중, 무기 미립자의 굴절률 n2는 기지의 굴절률 n의 액체를 표준 시료로 하고, 표준 시료에 무기 미립자를 소정의 부피 분율 v로 분산시킨 혼합물의 굴절률 n'을 굴절률계를 이용하여 측정하고, 이하의 식을 이용하여 산출한 값이다.In addition, in this specification, the refractive index n 2 of the inorganic fine particles is a value calculated using the following equation, by measuring the refractive index n' of a mixture in which a liquid having a known refractive index n is used as a standard sample, and inorganic fine particles are dispersed in the standard sample at a predetermined volume fraction v using a refractometer.

n2=(n'-n)/v+nn 2 =(n'-n)/v+n

본 실시형태의 조성물이 복수 종류의 무기 미립자를 포함하는 경우 가장 함유량이 많은 무기 미립자(예를 들면, 무기 미립자의 총량 기준으로 50부피% 이상, 60부피% 이상, 70부피% 이상, 80부피% 이상 또는90 부피% 이상)의 |n1-n2|가 상기 범위인 것이 바람직하고, 모든 무기 미립자의 |n1-n2|가 상기 범위 인 것이보다 바람직하다.When the composition of the present embodiment includes multiple types of inorganic fine particles, it is preferable that |n 1 -n 2 | of the inorganic fine particles having the highest content (for example, 50 vol% or more, 60 vol% or more, 70 vol% or more, 80 vol% or more, or 90 vol% or more based on the total amount of inorganic fine particles) is within the above range, and it is more preferable that |n 1 -n 2 | of all inorganic fine particles is within the above range.

무기 미립자의 굴절률 n2는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 1.3 이상이며, 바람직하게는 1.4 이상이다. 또한, 무기 미립자의 굴절률 n2는 예를 들면 2.5 이하이며, 바람직하게는 2.3 이하, 보다 바람직하게는 2.0 이하, 더욱 바람직하게는 1.8 이하, 한층 더 바람직하게는 1.6 이하이고, 1.5 이하이어도 된다. 무기 미립자의 굴절률 n2는 예를 들면 아베식 굴절률계에 의해 측정된다. 즉, 무기 미립자의 굴절률 n2는 예를 들면 1.3 ~ 2.5, 1.3 ~ 2.3, 1.3 ~ 2.0, 1.3 ~ 1.8, 1.3 ~ 1.6, 1.3 ~ 1.5, 1.4 ~ 2.5, 1.4 ~ 2.3, 1.4 ~ 2.0, 1.4 ~ 1.8, 1.4 ~ 1.6 또는 1.4 ~ 1.5이어도 된다.The refractive index n 2 of the inorganic fine particles is not particularly limited, and is, for example, 1.3 or more, preferably 1.4 or more. In addition, the refractive index n 2 of the inorganic fine particles is, for example, 2.5 or less, preferably 2.3 or less, more preferably 2.0 or less, even more preferably 1.8 or less, still more preferably 1.6 or less, and may be 1.5 or less. The refractive index n 2 of the inorganic fine particles is measured, for example, by an Abbe refractometer. That is, the refractive index n 2 of the inorganic fine particles may be, for example, 1.3 to 2.5, 1.3 to 2.3, 1.3 to 2.0, 1.3 to 1.8, 1.3 to 1.6, 1.3 to 1.5, 1.4 to 2.5, 1.4 to 2.3, 1.4 to 2.0, 1.4 to 1.8, 1.4 to 1.6 or 1.4 to 1.5.

무기 미립자의 평균 입자경은 예를 들면 0.1㎛ 이상이어도 되고, 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상이다. 무기 미립자의 평균 입자경이 크면 경화체 중에서의 수분의 투과를 저해하는 효과가 얻어지기 쉬워진다. 또한, 무기 미립자의 평균 입자경은 예를 들면 50㎛ 이하이어도 되고, 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 무기 미립자의 평균 입자경이 작으면 조성물 중에서 무기 미립자가 분리되기 어려워져 보다 균일한 경화체가 얻어지기 쉬워져서 장기 신뢰성이 보다 향상되는 경향이 있다. 즉, 무기 미립자의 평균 입자경은 예를 들면, 0.1 ~ 50㎛, 0.1 ~ 30㎛, 0.1 ~ 10㎛, 0.5 ~ 50㎛, 0.5 ~ 30㎛, 0.5 ~ 10㎛, 1~ 50㎛, 1 ~ 30㎛ 또는 1 ~ 10㎛이어도 된다.The average particle size of the inorganic fine particles may be, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1 μm or more. When the average particle size of the inorganic fine particles is large, the effect of inhibiting moisture penetration in the cured body is more easily obtained. In addition, the average particle size of the inorganic fine particles may be, for example, 50 μm or less, preferably 30 μm or less, and more preferably 10 μm or less. When the average particle size of the inorganic fine particles is small, it is difficult for the inorganic fine particles to be separated from the composition, making it easier to obtain a more uniform cured body, which tends to further improve long-term reliability. That is, the average particle size of the inorganic fine particles may be, for example, 0.1 to 50 μm, 0.1 to 30 μm, 0.1 to 10 μm, 0.5 to 50 μm, 0.5 to 30 μm, 0.5 to 10 μm, 1 to 50 μm, 1 to 30 μm, or 1 to 10 μm.

또한, 본 명세서 중 무기 미립자의 평균 입자경은 마이크로트랙 입도 분포 장치를 이용하여 레이저회절·산란법에 의해 측정되는 값을 나타낸다.In addition, the average particle diameter of the inorganic fine particles in this specification represents a value measured by laser diffraction/scattering using a microtrack particle size distribution device.

무기 미립자의 함유량은 30부피% 이상이고, 바람직하게는 32부피% 이상, 보다 바람직하게는 35부피% 이상이며, 40부피% 이상 또는 45부피% 이상이어도 된다. 충분한 경화 심도를 유지하면서 무기 미립자의 함유량을 많게 함으로써 경화체의 투습성이 보다 저하되는 경향이 있다. 무기 미립자의 함유량의 상한은 상술한 경화 심도를 유지할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 무기 미립자의 함유량은 예를 들면, 80부피% 이하이어도 되고, 바람직하게는 70부피% 이하, 보다 바람직하게는 65부피% 이하이고, 60부피% 이하, 55부피% 이하 또는 50부피% 이하이어도 된다. 무기 미립자의 함유량을 적게 함으로써 상술한 경화 심도를 보다 만족시키기 쉬워지는 경향이 있다. 즉, 무기 미립자의 함유량은 예를 들면, 30 ~ 80부피%, 30 ~ 70부피%, 30 ~ 65부피%, 30 ~ 60부피%, 30 ~ 55부피%, 30 ~ 50부피%, 32 ~ 80 부피%, 32 ~ 70부피%, 32 ~ 65부피%, 32 ~ 60부피%, 32 ~ 55부피%, 32 ~ 50부피%, 35 ~ 80부피%, 35 ~ 70부피%, 35 ~ 65부피% , 35 ~ 60부피%, 35 ~ 55부피%, 35 ~ 50부피%, 40 ~ 80부피%, 40 ~ 70부피%, 40 ~ 65부피%, 40 ~ 60부피%, 40 ~ 55부피%, 40 ~ 50 부피%, 45 ~ 80 부피%, 45 ~ 70 부피%, 45 ~ 65 부피%, 45 ~ 60 부피%, 45 ~ 55 부피% 또는 45 ~ 50 부피%이어도 된다.The content of inorganic fine particles is 30 vol% or more, preferably 32 vol% or more, more preferably 35 vol% or more, and may also be 40 vol% or more or 45 vol% or more. By increasing the content of inorganic fine particles while maintaining a sufficient depth of curing, the moisture permeability of the cured body tends to decrease further. The upper limit of the content of inorganic fine particles is not particularly limited as long as the above-described depth of curing can be maintained. The content of inorganic fine particles may be, for example, 80 vol% or less, preferably 70 vol% or less, more preferably 65 vol% or less, and may also be 60 vol% or less, 55 vol% or less, or 50 vol% or less. By decreasing the content of inorganic fine particles, the above-described depth of curing tends to be more easily satisfied. That is, the content of inorganic fine particles is, for example, 30 to 80 vol%, 30 to 70 vol%, 30 to 65 vol%, 30 to 60 vol%, 30 to 55 vol%, 30 to 50 vol%, 32 to 80 vol%, 32 to 70 vol%, 32 to 65 vol%, 32 to 60 vol%, 32 to 55 vol%, 32 to 50 vol%, 35 to 80 vol%, 35 to 70 vol%, 35 to 65 vol%, 35 to 60 vol%, 35 to 55 vol%, 35 to 50 vol%, 40 to 80 vol%, 40 to 70 vol%, 40 to 65 vol%, It may be 40 to 60 vol%, 40 to 55 vol%, 40 to 50 vol%, 45 to 80 vol%, 45 to 70 vol%, 45 to 65 vol%, 45 to 60 vol%, 45 to 55 vol% or 45 to 50 vol%.

본 실시형태의 조성물은 광증감제를 더 포함하고 있어도 된다. 광증감제란 에너지선을 흡수하여 중합 개시제로부터 반응종(예를 들면, 광 양이온 중합 개시제로부터 발생하는 양이온, 광 라디칼 중합 개시제로부터 발생하는 라디칼)을 효율적으로 발생시킬 수 있는 화합물을 나타낸다.The composition of the present embodiment may further comprise a photosensitizer. The photosensitizer refers to a compound that can absorb energy rays and efficiently generate reactive species (e.g., cations generated from a photo-cationic polymerization initiator, radicals generated from a photo-radical polymerization initiator) from a polymerization initiator.

광증감제는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 벤조페논 유도체, 페노티아진 유도체, 페닐케톤 유도체, 나프탈렌 유도체, 안트라센 유도체, 페난트렌 유도체, 나프타센 유도체, 크리센 유도체, 페릴렌 유도체, 펜타센 유도체, 아크리딘 유도체, 벤조티아졸 유도체, 벤조인 유도체, 플루오렌 유도체, 나프토퀴논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 크산텐 유도체, 크산톤 유도체, 티옥산텐 유도체, 티옥산톤 유도체, 쿠마린 유도체, 케토쿠마린 유도체, 시아닌 유도체, 아진 유도체, 티아진 유도체, 옥사진 유도체, 인돌린 유도체, 아줄렌 유도체, 트리알릴메탄 유도체, 프탈로시아닌 유도체, 스피로피란 유도체, 스피로옥사진 유도체, 티오스피로피란 유도체, 유기 루테늄 착체 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 등의 페닐케톤 유도체, 9,10-디부톡시안트라센 등의 안트라센 유도체가 바람직하고, 안트라센 유도체가 보다 바람직하다. 안트라센 유도체 중에서는 9,10-디부톡시안트라센이 바람직하다. 광증감제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The photosensitizer is not particularly limited, and examples thereof include benzophenone derivatives, phenothiazine derivatives, phenylketone derivatives, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, phenanthrene derivatives, naphthacene derivatives, chrysene derivatives, perylene derivatives, pentacene derivatives, acridine derivatives, benzothiazole derivatives, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthene derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, triallylmethane derivatives, phthalocyanine derivatives, spiropyran derivatives, spiroxazine derivatives, thiosspiropyran derivatives, and organic ruthenium complexes. Among these, phenyl ketone derivatives such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and anthracene derivatives such as 9,10-dibutoxyanthracene are preferable, and anthracene derivatives are more preferable. Among the anthracene derivatives, 9,10-dibutoxyanthracene is preferable. The photosensitizer may be used alone or in combination of two or more.

적합한 감광제로서는 예를 들면, 하기 식 (2)로 표시되는 감광제를 들 수 있다. 하기 식 (2)로 표시되는 광증감제로서는 예를 들어 디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.Suitable photosensitizers include, for example, photosensitizers represented by the following formula (2). Photosensitizers represented by the following formula (2) include, for example, dibutoxyanthracene.

식 (2) 중, R2는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다.In formula (2), R 2 represents an alkyl group that may have a substituent.

R2의 알킬기의 탄소수는 예를 들면 1 ~ 10이어도 되고, 바람직하게는 2 ~ 8, 보다 바람직하게는 2 ~ 6이다. 즉, R2의 알킬기의 탄소수는 예를 들면 1 ~ 10, 1 ~ 8, 1 ~ 6, 2 ~ 10, 2 ~ 8 또는 2 ~ 6이어도 된다.The number of carbon atoms in the alkyl group of R 2 may be, for example, 1 to 10, preferably 2 to 8, and more preferably 2 to 6. That is, the number of carbon atoms in the alkyl group of R 2 may be, for example, 1 to 10, 1 to 8, 1 to 6, 2 to 10, 2 to 8, or 2 to 6.

본 실시형태의 조성물이 광증감제를 포함하는 경우, 광증감제의 함유량은 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 예를 들어 0.01질량부 이상이어도 되고, 0.05질량부 이상이어도 된다. 또한, 광증감제의 함유량은 저장 안정성의 관점에서는 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 예를 들어 5질량부 이하이어도 되고, 3질량부 이하가 바람직하다. 즉, 광증감제의 함유량은 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 예를 들면 0.01 ~ 5질량부, 0.01 ~ 3 질량부, 0.05 ~ 5 질량부, 또는 0.05 ~ 3 질량부이어도 된다.When the composition of the present embodiment includes a photosensitizer, the content of the photosensitizer may be, for example, 0.01 parts by mass or more, or 0.05 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound. In addition, from the viewpoint of storage stability, the content of the photosensitizer may be, for example, 5 parts by mass or less, or preferably 3 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound. That is, the content of the photosensitizer may be, for example, 0.01 to 5 parts by mass, 0.01 to 3 parts by mass, 0.05 to 5 parts by mass, or 0.05 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound.

본 실시형태의 조성물은 상기 이외의 다른 성분을 더 포함하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는 예를 들면, 밀봉제 분야에서 사용되는 공지의 첨가제를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 다른 성분으로서는 예를 들어, 실란 커플링제, 산화 방지제, 수지 입자, 금속 불활성화제, 충전제, 안정제, 중화제, 활제, 항균제 등을 들 수 있다.The composition of the present embodiment may further include other components in addition to those mentioned above. Examples of these other components include, without limitation, known additives used in the field of sealants. Examples of these other components include silane coupling agents, antioxidants, resin particles, metal deactivators, fillers, stabilizers, neutralizers, lubricants, antibacterial agents, and the like.

다른 성분의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 조성물의 전량 기준으로, 예를 들면 10질량% 이하이어도 되고, 5질량% 이하이어도 되고, 1질량% 이하이어도 된다.The content of other ingredients is not particularly limited, and may be, for example, 10 mass% or less, 5 mass% or less, or 1 mass% or less based on the total amount of the composition.

본 실시형태의 조성물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 상기 각 성분이 충분히 혼합되는 교반 능력을 갖는 혼합 방법으로, 상술한 각 성분을 혼합하면 된다. 혼합 방법으로서는 예를 들면 교반 날개, 스크류, 마그네틱 교반기 등의 교반자에 회전력을 부여하여 교반하는 방법, 텀블러 믹서, 유성식 교반기 등의 용기 회전에 의해 교반하는 방법, 비스밀 등의 교반 구에 의한 전단력을 이용하여 교반하는 방법, 롤밀 등의 압축력을 이용하여 교반하는 방법, 진탕기 등의 진동력을 이용하여 교반하는 방법, 볼텍스 믹서 등의 혼합물 자신의 난류를 이용하여 교반하는 방법, 초음파 교반기 등의 초음파를 이용하여 교반하는 방법 등, 공지의 분산기를 이용하는 방법 등을 들 수 있다. 이들 중, 상술한 각 성분을 충분히 또한 안전하게 혼합할 수 있고, 교반자 등의 불순물을 최소한으로 할 수 있는 관점에서 유성식 교반기 등의 용기 회전에 의해 교반하는 방법이 바람직하다. 용기 회전에 의해 교반하는 방법으로서는 진공 자전 공전 믹서를 사용하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the composition of the present embodiment is not particularly limited, and the above-described components may be mixed by a mixing method having a stirring ability that sufficiently mixes the above-described components. Examples of the mixing method include a method of stirring by applying rotational force to a stirrer such as a stirring blade, screw, or magnetic stirrer; a method of stirring by rotating a container such as a tumbler mixer or a planetary stirrer; a method of stirring by utilizing the shear force of a stirring ball such as a bismill; a method of stirring by utilizing the compressive force of a roll mill; a method of stirring by utilizing the vibrational force of a shaker or the like; a method of stirring by utilizing the turbulence of the mixture itself such as a vortex mixer; a method of stirring by utilizing ultrasonic waves such as an ultrasonic stirrer; and a method of using a known disperser. Among these, a method of stirring by rotating a container such as a planetary stirrer is preferable from the viewpoint of sufficiently and safely mixing the above-described components and minimizing impurities in the stirrer or the like. A method of stirring by rotating a container includes a method using a vacuum autorotational revolution mixer.

본 실시형태의 조성물을 경화함으로써 중합성 화합물의 중합체 및 무기 미립자를 포함하는 경화체를 얻을 수 있다. 해당 경화체는 투습성이 낮고, 밀봉재(특히, 유기 EL 표시소자용 밀봉재, 댐·필 밀봉 구조의 댐)로서 바람직하게 사용할 수 있다.By curing the composition of the present embodiment, a cured product comprising a polymer of a polymerizable compound and inorganic fine particles can be obtained. The cured product has low moisture permeability and can be suitably used as a sealant (particularly, a sealant for an organic EL display element, a dam in a dam-fill sealing structure).

본 실시형태의 조성물은 예를 들면 에너지선의 조사에 의해 경화할 수 있다. 에너지선으로서는 반응 효율 및 안전성의 관점에서는 자외광 및 가시광이 바람직하게 사용된다. 본 실시형태의 조성물의 경화에 사용되는 광원으로서는 특별히 한정되지 않지만, 할로겐 램프, 메탈할라이드 램프, 고전력 메탈 할라이드 램프(인듐 등을 함유함), 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 크세논 엑시머 램프, 크세논 플래시 램프, 라이트이미팅 다이오드 (이하, LED라고 함) 등을 들 수 있다. 또한, 자연광(태양광)도 반응개시 광원이 될 수 있다.이들 광원 중 목적으로 하는 파장을 선택적으로 조사 할 수 있기 때문에 LED 광원이 바람직하다.The composition of the present embodiment can be cured, for example, by irradiation with energy rays. As the energy rays, ultraviolet light and visible light are preferably used from the viewpoints of reaction efficiency and safety. The light source used for curing the composition of the present embodiment is not particularly limited, but may include a halogen lamp, a metal halide lamp, a high-power metal halide lamp (containing indium, etc.), a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a xenon excimer lamp, a xenon flash lamp, a light-emitting diode (hereinafter referred to as “LED”), and the like. In addition, natural light (sunlight) can also be a reaction initiation light source. Among these light sources, an LED light source is preferable because it can selectively irradiate a target wavelength.

상기 광원의 파장은 특별히 한정되지 않고, 상기 광원은 중합 개시제의 반응 파장 등에 의해 적절히 선택된다. 그 파장은 반응성의 효율의 면으로부터 400nm 이하로 할 수 있고, 바람직하게는 395nm 이하이고, 보다 바람직하게는 385nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 365nm 이하이다. 또한, 경화 심도의 효율의 면으로부터 300nm 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 320nm 이상이고, 보다 바람직하게는 340nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 365nm 이상이다. 즉, 상기 광원의 파장은 예를 들면 300 ~ 400nm, 300 ~ 395nm, 300 ~ 385nm, 300 ~ 365nm, 320 ~ 400nm, 320 ~ 395nm, 320 ~ 385nm, 320 ~ 365nm, 340 ~ 400nm, 340 ~ 395nm, 340 ~ 385nm, 340 ~ 365nm, 365 ~ 400nm, 365 ~ 395nm 또는 365 ~ 385nm이어도 된다.The wavelength of the light source is not particularly limited, and the light source is appropriately selected depending on the reaction wavelength of the polymerization initiator, etc. From the viewpoint of reactivity efficiency, the wavelength can be 400 nm or less, preferably 395 nm or less, more preferably 385 nm or less, and even more preferably 365 nm or less. Furthermore, from the viewpoint of curing depth efficiency, the wavelength can be 300 nm or more, preferably 320 nm or more, more preferably 340 nm or more, and even more preferably 365 nm or more. That is, the wavelength of the light source may be, for example, 300 to 400 nm, 300 to 395 nm, 300 to 385 nm, 300 to 365 nm, 320 to 400 nm, 320 to 395 nm, 320 to 385 nm, 320 to 365 nm, 340 to 400 nm, 340 to 395 nm, 340 to 385 nm, 340 to 365 nm, 365 to 400 nm, 365 to 395 nm or 365 to 385 nm.

상기 광원에 의한 조사 방법은 직접 조사이어도 되고, 반사경, 파이버 등에 의한 집광 조사이어도 된다. 또한, 저파장 컷 필터, 열선 컷 필터, 콜드 미러 등을 이용한 조사이어도 된다.The irradiation method using the above light source may be direct irradiation or focused irradiation using a reflector, fiber, etc. In addition, irradiation using a low wavelength cut filter, a heat ray cut filter, a cold mirror, etc. may also be used.

상기 광원의 조사량은 조성물의 두께에 따라 적절히 선택해도 된다. 예를 들면, 두께 100㎛의 조성물에 대한 조사량은 600mJ/㎠ 이상인 것이 바람직하고, 1000mJ/㎠ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 두께가 100㎛보다 작은 조성물에 대해서는 그 두께에 따라 (예를 들면 두께에 비례하도록) 조사량을 적절히 조정해도 된다.The irradiance of the above light source may be appropriately selected depending on the thickness of the composition. For example, the irradiance for a composition having a thickness of 100 μm is preferably 600 mJ/cm2 or more, and more preferably 1000 mJ/cm2 or more. Furthermore, for a composition having a thickness of less than 100 μm, the irradiance may be appropriately adjusted depending on the thickness (e.g., proportionally to the thickness).

본 실시형태의 조성물의 경화에 있어서는 광조사 후, 경화 촉진을 위해서 후 가열 처리를 해도 된다. 후 가열의 온도는 유기 EL 표시소자에의 영향을 피하는 관점에서 150℃ 이하가 바람직하고, 100℃ 이하가 보다 바람직하고, 90℃ 이하 또는 80℃ 이하여도 된다. 후 가열의 온도는 40℃ 이상이 바람직하고, 50℃ 이상, 60℃ 이상, 70℃ 이상 또는 80℃ 이상이어도 된다. 즉, 후가열의 온도는 예를 들면, 40 ~ 150℃, 40 ~ 100℃, 40 ~ 90℃, 40 ~ 80℃, 50 ~ 150℃, 50 ~ 100℃, 50 ~ 90℃, 50 ~ 80℃, 60 ~ 150℃, 60 ~ 100℃, 60 ~ 90℃, 60 ~ 80℃, 70 ~ 150℃, 70 ~ 100℃, 70 ~ 90℃ 또는 70 ~ 80℃이어도 된다. 또한, 후처리의 시간은 유기 EL 표시소자에의 영향을 피하는 관점에서 120분 이하가 바람직하고, 60분 이하가 보다 바람직하고, 30분 이하가 더욱 바람직하다. 후처리의 시간은 5분 이상이어도 되고, 10분 이상이어도 되고, 20분 이상이 바람직하고, 30분 이상이 보다 바람직하다. 즉, 후처리의 시간은 예를 들면, 5 ~ 120분, 5 ~ 60분, 5 ~ 30분, 10 ~ 120분, 10 ~ 60분, 10 ~ 30분, 20 ~ 120분, 20 ~ 60분, 20 ~ 30분, 30 ~ 120분 또는 30 ~ 60분이어도 된다.In curing the composition of the present embodiment, post-heating treatment may be performed after light irradiation to promote curing. The temperature of the post-heating is preferably 150°C or lower, more preferably 100°C or lower, and may be 90°C or lower or 80°C or lower, from the viewpoint of avoiding influence on the organic EL display element. The temperature of the post-heating is preferably 40°C or higher, and may be 50°C or higher, 60°C or higher, 70°C or higher, or 80°C or higher. That is, the temperature of the post-heating may be, for example, 40 to 150°C, 40 to 100°C, 40 to 90°C, 40 to 80°C, 50 to 150°C, 50 to 100°C, 50 to 90°C, 50 to 80°C, 60 to 150°C, 60 to 100°C, 60 to 90°C, 60 to 80°C, 70 to 150°C, 70 to 100°C, 70 to 90°C, or 70 to 80°C. In addition, the time of the post-treatment is preferably 120 minutes or less, more preferably 60 minutes or less, and even more preferably 30 minutes or less from the viewpoint of avoiding influence on the organic EL display element. The post-processing time may be 5 minutes or more, 10 minutes or more, preferably 20 minutes or more, and more preferably 30 minutes or more. That is, the post-processing time may be, for example, 5 to 120 minutes, 5 to 60 minutes, 5 to 30 minutes, 10 to 120 minutes, 10 to 60 minutes, 10 to 30 minutes, 20 to 120 minutes, 20 to 60 minutes, 20 to 30 minutes, 30 to 120 minutes, or 30 to 60 minutes.

본 실시형태의 조성물은 접착제로서 사용할 수도 있다. 본 실시형태의 조성물은 예를 들면, 유기 EL 표시소자 등의 패키지 등의 접착에 적합하게 사용할 수 있다.The composition of the present embodiment can also be used as an adhesive. The composition of the present embodiment can be suitably used for bonding, for example, packages such as organic EL display elements.

본 실시형태의 조성물을 사용하여 2개의 부재를 접착하는 방법으로서는 예를 들면, 조성물을 제1 부재의 전면 또는 일부에 도포하는 공정과, 제1 부재 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 공정과, 광이 조사된 조성물이 경화될 때까지의 사이에 조성물을 통해 제1 부재와 제2 부재를 접착시키는 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다. 이러한 방법에 의하면 제 2 부재를 광 및 열에 노출시키지 않고 제 1 부재 상에 접착할 수 있다. 이 때문에 상기 방법은 배면판과 유기 EL 표시소자의 접착에 적합하게 사용할 수 있다.As a method for bonding two members using the composition of the present embodiment, a method including, for example, a step of applying the composition to the entire surface or a portion of a first member, a step of irradiating the composition applied onto the first member with light, and a step of bonding the first member and the second member via the composition until the composition that has been irradiated with light is cured. According to this method, the second member can be bonded onto the first member without being exposed to light or heat. Therefore, the method can be suitably used for bonding a back plate and an organic EL display element.

본 실시형태의 조성물을 이용하여 유기 EL 표시장치를 제조하는 방법으로서는 예를 들면, 배면판 상에 조성물을 도포하는 공정과, 배면판 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 공정과, 광을 차단하고 조성물을 통하여 배면판과 유기 EL 표시소자를 형성한 기판을 접착시키는 공정을 포함하는 제조 방법을 들 수 있다. 이러한 방법에 의하면 유기 EL 표시소자를 광 및 열에 노출시키지 않고 밀봉할 수 있다.As a method for manufacturing an organic EL display device using the composition of the present embodiment, for example, a manufacturing method including a step of applying the composition onto a back plate, a step of irradiating light onto the composition applied onto the back plate, and a step of blocking the light and bonding the back plate and a substrate forming the organic EL display element via the composition can be exemplified. According to this method, the organic EL display element can be sealed without being exposed to light or heat.

또한, 본 실시형태의 조성물을 이용하여 유기 EL 표시장치를 제조하는 방법으로서는 예를 들면, 한쪽 기판에 조성물을 도포하는 공정과, 조성물을 통하여 한쪽 기판과 다른쪽의 기판을 접착시키는 공정과, 기판간의 조성물에 광을 조사하여 조성물을 경화시키는 공정을 포함하는 제조 방법도 들 수 있다.In addition, as a method for manufacturing an organic EL display device using the composition of the present embodiment, a manufacturing method including, for example, a step of applying the composition to one substrate, a step of bonding one substrate and another substrate using the composition, and a step of curing the composition by irradiating light to the composition between the substrates may also be mentioned.

본 실시형태의 조성물은 파장 365nm, 조사량 600mJ/㎠의 광 조사를 행하고, 80℃에서 30분 정치했을 때의 경화 심도가 100㎛ 이상이다. 해당 경화 심도는 바람직하게는 120㎛ 이상, 보다 바람직하게는 140㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 160㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 180㎛ 이상이며, 200㎛ 이상, 250㎛ 이상, 300㎛ 이상, 350㎛ 이상, 400㎛ 이상, 450㎛ 이상 또는 500㎛ 이어도 된다. 경화 심도의 값이 크면 미반응 모노머의 잔존에 기인하는 방습성 및 신뢰성의 저하가 억제되어 보다 우수한 방습성 및 장기 신뢰성이 실현되는 경향이 있다. 상기 경화 심도의 상한은 특별히 한정되지 않는다. 상기 경화 심도는 예를 들어 1000㎛ 이하이어도 되고, 바람직하게는 800㎛ 이하, 보다 바람직하게는 700㎛ 이하이어도 된다. 즉, 상기 경화 심도는 예를 들면, 100 ~ 1000㎛, 100 ~ 800㎛, 100 ~ 700㎛, 120 ~ 1000㎛, 120 ~ 800㎛, 120 ~ 700㎛, 140 ~ 1000㎛, 140 ~ 800㎛, 140 ~ 700㎛, 160 ~ 1000㎛, 160 ~ 800㎛, 160 ~ 700㎛, 180 ~ 1000㎛, 180 ~ 800㎛, 180 ~ 700㎛, 200 ~ 1000㎛, 200 ~ 800㎛, 200 ~ 700㎛, 250 ~ 1000㎛, 250 ~ 800㎛, 250 ~ 700㎛, 300 ~ 1000㎛, 300 ~ 800㎛, 300 ~ 700㎛, 350 ~ 1000㎛, 350 ~ 800㎛, 350 ~ 700㎛, 400 ~ 1000㎛, 400 ~ 800㎛, 400 ~ 700㎛, 450 ~ 1000㎛, 450 ~ 800㎛, 450 ~ 800㎛, 450 ~ 700㎛, 500 ~ 1000㎛, 500 ~ 800㎛, 또는 500 ~ 700㎛이어도 된다.The composition of the present embodiment has a curing depth of 100 μm or more when irradiated with light having a wavelength of 365 nm and an irradiation dose of 600 mJ/cm2 and left to stand at 80°C for 30 minutes. The curing depth is preferably 120 μm or more, more preferably 140 μm or more, even more preferably 160 μm or more, and still more preferably 180 μm or more, and may also be 200 μm or more, 250 μm or more, 300 μm or more, 350 μm or more, 400 μm or more, 450 μm or more, or 500 μm. When the value of the curing depth is large, the deterioration of moisture resistance and reliability due to the residue of unreacted monomer is suppressed, and better moisture resistance and long-term reliability tend to be realized. The upper limit of the curing depth is not particularly limited. The curing depth may be, for example, 1000 μm or less, preferably 800 μm or less, and more preferably 700 μm or less. That is, the above-mentioned hardening depth is, for example, 100 to 1000 μm, 100 to 800 μm, 100 to 700 μm, 120 to 1000 μm, 120 to 800 μm, 120 to 700 μm, 140 to 1000 μm, 140 to 800 μm, 140 to 700 μm, 160 to 1000 μm, 160 to 800 μm, 160 to 700 μm, 180 to 1000 μm, 180 to 800 μm, 180 to 700 μm, 200 to 1000 μm, 200 to 800 μm, 200 to 700 μm, 250 to 1000 μm, 250 to 800 μm, 250 to It may be 700㎛, 300 ~ 1000㎛, 300 ~ 800㎛, 300 ~ 700㎛, 350 ~ 1000㎛, 350 ~ 800㎛, 350 ~ 700㎛, 400 ~ 1000㎛, 400 ~ 800㎛, 400 ~ 700㎛, 450 ~ 1000㎛, 450 ~ 800㎛, 450 ~ 800㎛, 450 ~ 700㎛, 500 ~ 1000㎛, 500 ~ 800㎛, or 500 ~ 700㎛.

본 실시형태의 조성물은 경화 심도가 상기 범위가 되도록 각 성분의 종류 및 함유량이 적절히 조정되어 있어도 된다.The composition of the present embodiment may have the types and contents of each component appropriately adjusted so that the curing depth falls within the above range.

본 실시형태의 조성물의 경화체(이하, 간단히 본 실시형태의 경화체라고도 한다.)의 비중은 예를 들면 1.3 이상이며, 바람직하게는 1.5 이상이며, 보다 바람직하게는 1.7 이상이다. 또한, 본 실시형태의 경화체의 비중은 예를 들면 5.0 이하이어도 되고, 바람직하게는 3.0 이하이다. 즉, 본 실시형태의 경화체의 비중은 예를 들면, 1.3 ~ 5.0, 1.3 ~ 3.0, 1.5 ~ 5.0, 1.5 ~ 3.0, 1.7 ~ 5.0 또는 1.7 ~ 3.0이어도 된다. 또한, 경화체의 비중은 JIS K7112 B법에 준거하고, 침지액으로서 23℃의 물을 사용하여 측정되는 값을 나타낸다.The specific gravity of the cured product of the composition of the present embodiment (hereinafter also simply referred to as the cured product of the present embodiment) is, for example, 1.3 or more, preferably 1.5 or more, and more preferably 1.7 or more. In addition, the specific gravity of the cured product of the present embodiment may be, for example, 5.0 or less, and preferably 3.0 or less. That is, the specific gravity of the cured product of the present embodiment may be, for example, 1.3 to 5.0, 1.3 to 3.0, 1.5 to 5.0, 1.5 to 3.0, 1.7 to 5.0, or 1.7 to 3.0. In addition, the specific gravity of the cured product is a value measured using water at 23°C as an immersion liquid in accordance with JIS K7112 B method.

본 실시형태의 조성물은 경화체의 비중이 상기 범위가 되도록 각 성분의 종류 및 함유량이 적절히 조정되어 있어도 된다.In the composition of the present embodiment, the type and content of each component may be appropriately adjusted so that the specific gravity of the cured body is within the above range.

본 실시형태의 경화체에 있어서, 중합성 화합물의 중합체의 유리 전이 온도는 예를 들어 80℃ 이상이어도 되고, 바람직하게는 85℃ 이상, 보다 바람직하게는 90℃ 이상, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상이다. 중합성 화합물의 중합체의 유리 전이 온도는 예를 들어 250℃ 이하이어도 된다.In the cured product of the present embodiment, the glass transition temperature of the polymer of the polymerizable compound may be, for example, 80°C or higher, preferably 85°C or higher, more preferably 90°C or higher, and even more preferably 100°C or higher. The glass transition temperature of the polymer of the polymerizable compound may be, for example, 250°C or lower.

또한, 본 명세서 중, 중합체의 유리 전이 온도(Tg)는 동적 점탄성 스펙트럼으로부터 구해지는 값을 나타낸다. 동적 점탄성 스펙트럼에서는 어느 온도에서 고체인 중합체에 대하여 그 온도에 있어서 응력 및 변형을 가한 후 일정한 승온 속도로 가열했을 때에 저장 탄성률의 저하와 함께 손실 정접(이하, tanδ로 약칭함)의 피크 톱을 나타내는 온도를 유리 전이 온도로 할 수 있다.In addition, in this specification, the glass transition temperature (Tg) of a polymer represents a value obtained from a dynamic viscoelastic spectrum. In a dynamic viscoelastic spectrum, for a polymer that is solid at a certain temperature, when stress and strain are applied at that temperature and then heated at a constant temperature increase rate, the temperature at which the peak top of the loss tangent (hereinafter abbreviated as tanδ) appears along with a decrease in the storage modulus can be defined as the glass transition temperature.

본 실시형태의 조성물은 중합체의 유리 전이 온도가 상기 범위가 되도록 각 성분의 종류 및 함유량이 적절히 조정되어 있어도 된다.In the composition of the present embodiment, the types and contents of each component may be appropriately adjusted so that the glass transition temperature of the polymer is within the above range.

본 실시형태의 조성물의 점도는 예를 들면 0.1Pa·s 이상이고, 바람직하게는 1Pa·s 이상, 보다 바람직하게는 10Pa·s 이상, 더욱 바람직하게는 100Pa·s 이상이다. 조성물의 점도가 높으면 조성물의 경화시에 유동이 적고 안정된 치수의 경화체가 얻어지기 쉬워진다. 본 실시형태의 조성물의 점도는 예를 들면 10000Pa·s 이하이고, 바람직하게는 1000Pa·s 이하이다. 조성물의 점도가 낮으면 조성물의 가공 및 취급이 용이해진다. 즉, 본 실시형태의 조성물의 점도는 0.1 ~ 10000Pa·s, 0.1 ~ 1000Pa·s, 1 ~ 10000Pa·s, 1 ~ 1000Pa·s, 10 ~ 10000Pa·s, 10 ~ 1000Pa·s, 100 ~ 10000Pa·s 또는 100 ~ 1000Pa·s이어도 된다. 또한, 점도는 JIS K5600 2-3법에 준거하고, 콘플레이트 점도계법을 이용하여 23℃에서 측정되는 값을 나타낸다.The viscosity of the composition of the present embodiment is, for example, 0.1 Pa·s or more, preferably 1 Pa·s or more, more preferably 10 Pa·s or more, and even more preferably 100 Pa·s or more. When the viscosity of the composition is high, the flow is reduced during curing of the composition, and it is easy to obtain a cured body with stable dimensions. The viscosity of the composition of the present embodiment is, for example, 10,000 Pa·s or less, and preferably 1,000 Pa·s or less. When the viscosity of the composition is low, processing and handling of the composition become easy. That is, the viscosity of the composition of the present embodiment may be 0.1 to 10,000 Pa·s, 0.1 to 1,000 Pa·s, 1 to 10,000 Pa·s, 1 to 1,000 Pa·s, 10 to 10,000 Pa·s, 10 to 1,000 Pa·s, 100 to 10,000 Pa·s, or 100 to 1,000 Pa·s. In addition, the viscosity is in accordance with JIS K5600 2-3 method and represents a value measured at 23°C using a cone-plate viscometer method.

본 실시형태의 경화체는 JIS Z0208에 준거하여, 온도 85℃, 상대 습도 85%의 조건 하에서 측정되는 두께 100㎛당의 투습도가 150g/(㎡·24시간) 이하인 것이 바람직하고, 130g/(㎡·24시간) 이하인 것이 보다 바람직하고, 100g/(㎡·24시간) 이하인 것이 더욱 바람직하고, 80g/(㎡·24시간) 이하인 것이 한층 더 바람직하고, 60g/(㎡·24시간) 이하여도 되고, 50g/(㎡·24시간) 이하여도 된다. 또한, 상기 투습도는 JIS Z 0208:1976에 준거하여 85℃, 85% RH의 환경하에 24시간 폭로하여 측정한 100㎛ 두께에서의 투습도(g/m2)라고 할 수도 있다. 상기 투습도는 예를 들면 0.01(g/m2·24시간) 이상이어도 되고, 0.1(g/m2·24시간) 이상이어도 되고, 1(g/m2·24시간) 이상이어도 되고, 5(g/㎡·24시간) 이상이어도 된다. 즉, 상기 투습도는 예를 들면, 0.01 ~ 150g/(㎡·24시간), 0.01 ~ 130g/(㎡·24시간), 0.01 ~ 100g/(㎡·24시간), 0.01 ~ 80g/(㎡·24시간), 0.01 ~ 60g/(㎡·24시간), 0.01 ~ 50g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 150g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 130g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 100g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 80g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 60g/(㎡·24시간), 0.1 ~ 50g/(㎡·24시간), 1 ~ 150g/(㎡·24시간), 1 ~ 130g/(㎡·24시간), 1 ~ 100g/(㎡·24시간), 1 ~ 80g/(㎡·24시간), 1 ~ 60g/(㎡·24시간), 1 ~ 50g/(㎡·24시간), 5 ~ 150g/(m2·24시간), 5 ~ 130g/(㎡·24시간), 5 ~ 100g/(㎡·24시간), 5 ~ 80g/(㎡·24시간), 5 ~ 60g/(㎡·24시간), 또는 5 ~ 50g/(㎡·24시간)이어도 된다.The cured product of the present embodiment preferably has a moisture permeability per 100 μm of thickness measured under conditions of a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% in accordance with JIS Z0208 of 150 g/(㎡·24 hours) or less, more preferably 130 g/(㎡·24 hours) or less, still more preferably 100 g/(㎡·24 hours) or less, still more preferably 80 g/(㎡·24 hours) or less, and may be 60 g/(㎡·24 hours) or less, or 50 g/(㎡·24 hours) or less. In addition, the above moisture permeability can also be referred to as a moisture permeability (g/m 2 ) at a thickness of 100 μm measured by exposing for 24 hours in an environment of 85°C and 85% RH in accordance with JIS Z 0208:1976. The above moisture permeability may be, for example, 0.01 (g/m 2 ·24 hours) or more, 0.1 (g/m 2 ·24 hours) or more, 1 (g/m 2 ·24 hours) or more, or 5 (g/㎡ ·24 hours) or more. That is, the moisture permeability is, for example, 0.01 to 150g/(㎡·24 hours), 0.01 to 130g/(㎡·24 hours), 0.01 to 100g/(㎡·24 hours), 0.01 to 80g/(㎡·24 hours), 0.01 to 60g/(㎡·24 hours), 0.01 to 50g/(㎡·24 hours), 0.1 to 150g/(㎡·24 hours), 0.1 to 130g/(㎡·24 hours), 0.1 to 100g/(㎡·24 hours), 0.1 to 80g/(㎡·24 hours), 0.1 to 60g/(㎡·24 hours), 0.1 to 50g/(㎡·24 hours), 1 to 150g/(㎡·24 hours), It may be 1 to 130g/(㎡·24 hours), 1 to 100g/(㎡·24 hours), 1 to 80g/(㎡·24 hours), 1 to 60g/(㎡·24 hours), 1 to 50g/(㎡·24 hours), 5 to 150g/(m2·24 hours), 5 to 130g/(㎡·24 hours), 5 to 100g/(㎡·24 hours), 5 to 80g/(㎡·24 hours), 5 to 60g/(㎡·24 hours), or 5 to 50g/(㎡·24 hours).

본 실시형태의 조성물은 경화체의 투습도가 상기 범위가 되도록 각 성분의 종류 및 함유량이 적절히 조정되어 있어도 된다.In the composition of the present embodiment, the types and contents of each component may be appropriately adjusted so that the moisture permeability of the cured body is within the above range.

본 실시형태의 경화체는 온도 85℃, 상대 습도 85%, 24시간에서의 흡수율이 예를 들면 15% 이하이어도 되고, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 3% 이하이고, 2% 이하, 1.5% 이하 또는 1% 이하이어도 된다. 이에 의해 경화체 중의 수분의 잔존에 기인하는 방습성 및 신뢰성의 저하가 억제되어 보다 우수한 방습성 및 장기 신뢰성이 실현되는 경향이 있다.The cured product of the present embodiment may have an absorption rate of, for example, 15% or less at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% for 24 hours, preferably 10% or less, more preferably 5% or less, even more preferably 3% or less, and may also have an absorption rate of 2% or less, 1.5% or less, or 1% or less. As a result, the deterioration of moisture resistance and reliability due to the residual moisture in the cured product is suppressed, and there is a tendency for better moisture resistance and long-term reliability to be realized.

본 실시형태의 조성물은 경화체의 흡수율이 상기 범위가 되도록 각 성분의 종류 및 함유량이 적절히 조정되어 있어도 된다.In the composition of the present embodiment, the types and contents of each component may be appropriately adjusted so that the absorption rate of the cured body is within the above range.

이상, 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다.Above, the preferred embodiments of the present invention have been described, but the present invention is not limited to the above embodiments.

예를 들어, 본 발명은 상기 조성물을 도포 및 경화하여 댐을 형성하는 공정을 포함하는 댐·필 밀봉 구조를 갖는 유기 전계발광 표시장치의 제조 방법에 관한 것이어도 된다.For example, the present invention may relate to a method for manufacturing an organic electroluminescent display device having a dam-fill sealing structure, including a process of forming a dam by applying and curing the composition.

또한, 본 발명은 댐 및 필을 구비하는 댐·필 밀봉 구조를 갖는 유기 EL 표시장치에 관한 것이도 되고, 이때 댐은 상술한 조성물의 경화체를 포함하고 있어도 된다.In addition, the present invention relates to an organic EL display device having a dam-fill sealing structure including a dam and a fill, wherein the dam may include a cured product of the above-described composition.

또한 댐·필 밀봉 구조는 공지된 댐·필 밀봉 구조이어도 되고, 필은 공지 된 필이어도 된다. 또한, 유기 EL 표시장치의 댐·필 밀봉 구조 이외의 구성은 공지의 유기 EL 표시장치와 마찬가지의 구성이어도 된다.In addition, the dam-fill sealing structure may be a known dam-fill sealing structure, and the fill may be a known fill. In addition, the configuration of the organic EL display device other than the dam-fill sealing structure may be the same as that of a known organic EL display device.

상기 유기 EL 표시소자는 유기 EL 텔레비전이어도 된다. 본 발명에 의하면 대형화가 현저한 유기 EL 텔레비젼에 있어서, 충분한 방습성 및 장기 신뢰성을 실현 가능한 밀봉제를 제공할 수 있다.The above organic EL display element may be an organic EL television. According to the present invention, a sealant capable of realizing sufficient moisture resistance and long-term reliability can be provided for an organic EL television with a significant increase in size.

[실 시 예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 실시예는 특별히 언급하지 않는 한, 23℃, 상대 습도 50질량%에서 시험하였다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, the examples were tested at 23°C and a relative humidity of 50% by mass.

실시예 및 비교예에서는 하기 화합물을 사용하였다.In the examples and comparative examples, the following compounds were used.

(A) 중합성 화합물(A) polymeric compound

(A-1) 글리시딜메타크릴레이트(쿄에이샤화학사 제조 「라이트에스테르 G」, 비중: 1.1, 굴절률: 1.45, 분자량 142)(A-1) Glycidyl methacrylate ("Light Ester G" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., specific gravity: 1.1, refractive index: 1.45, molecular weight 142)

(A-2) 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(아데카사 제조 「ED523T」, 비중: 1.1, 굴절률: 1.48, 분자량 216)(A-2) Neopentyl glycol diglycidyl ether ("ED523T" manufactured by Adeka, specific gravity: 1.1, refractive index: 1.48, molecular weight 216)

(A-3) 테트라브로모비스페놀 A 디글리시딜에테르(DIC사 제조 「에피클론 152」, 비중: 1.7, 굴절률: 1.60, 분자량 972)(A-3) Tetrabromobisphenol A diglycidyl ether ("Epiclon 152" manufactured by DIC, specific gravity: 1.7, refractive index: 1.60, molecular weight 972)

(A-4) 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(다이셀화학사 제조 「셀록사이드 2021」, 비중: 1.2, 굴절률: 1.52, 분자량 252)(A-4) 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate ("Celloxide 2021" manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd., specific gravity: 1.2, refractive index: 1.52, molecular weight 252)

(A-5) 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트(신나카무라화학사 제조 「NK 에스테르 DOD-N」, 비중: 1.0, 굴절률: 1.46)(A-5) 1,10-decanediol dimethacrylate ("NK Ester DOD-N" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., specific gravity: 1.0, refractive index: 1.46)

(B) 중합 개시제(B) polymerization initiator

(B-1) 트리아릴술포늄트리스(펜타플루오로페닐)보레이트(산아프로사 제조 「CPI-310B」)(B-1) Triarylsulfonium tris(pentafluorophenyl)borate (CPI-310B manufactured by San-Apro)

(B-2) 벤질디메틸케탈(BASF사 제조 「Irgacure TPO」)(B-2) Benzyl dimethyl ketal ("Irgacure TPO" manufactured by BASF)

(C) 무기 미립자(C) Inorganic particulate matter

(C-1) 구상 실리카(덴카사 제조 「FB-5SDC」, 평균 입자경: 4㎛, 진원도: 0.9, 굴절률: 1.44, 비중 2.1)(C-1) Spherical silica (manufactured by Denka Corporation, “FB-5SDC”, average particle size: 4 ㎛, circularity: 0.9, refractive index: 1.44, specific gravity 2.1)

(C-2) 구상 알루미나(덴카사 제조 「DAW-05」, 평균 입자경: 5㎛, 진원도: 0.95, 굴절률: 1.77, 비중 3.9)(C-2) Spherical alumina (Denka Corporation "DAW-05", average particle size: 5 ㎛, roundness: 0.95, refractive index: 1.77, specific gravity 3.9)

(C-3) 판상 활석(마츠무라산업 「하이필러 #17」, 평균 입자경: 12㎛, 진원도: 0.5, 굴절률: 1.57, 비중 2.7)(C-3) Plate-shaped talc (Matsumura Sangyo "High Filler #17", average particle size: 12 ㎛, roundness: 0.5, refractive index: 1.57, specific gravity 2.7)

(C-4) 루틸형 산화티탄(이시하라산업 「CR-EL」, 평균 입자경: 0.25㎛, 진원도: 0.7, 굴절률: 2.13, 비중 4.2)(C-4) Rutile titanium dioxide (Ishihara Sangyo "CR-EL", average particle size: 0.25 ㎛, roundness: 0.7, refractive index: 2.13, specific gravity 4.2)

(D) 광증감제(D) Photosensitizer

(D-1) 디부톡시안트라센(가와사키카세이공업 「안트라큐어 UVS-1331」)(D-1) Dibutoxyanthracene (Kawasaki Kasei Industries, Ltd. "Anthracure UVS-1331")

(실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 4)(Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4)

표 1 ~ 3에 나타내는 원재료를 표 1 ~ 3에 나타내는 비율로 계량하고, 진공 자전 공전 믹서(이엠이 「UFO-S3」)로 600rpm, 5분 교반 혼합하고, 실시예 및 비교예의 조성물을 제조했다. 또한, 배합 비율은 질량부로 나타낸다. 또한, 무기 미립자의 함유량에 대해서는 비중으로부터 부피 비율을 산출하고, 부피%로 나타낸다.The raw materials shown in Tables 1 to 3 were weighed in the proportions shown in Tables 1 to 3, and mixed at 600 rpm for 5 minutes using a vacuum rotating orbital mixer (EMI "UFO-S3") to prepare compositions of examples and comparative examples. Furthermore, the mixing ratio is expressed in parts by mass. Furthermore, the content of inorganic fine particles is expressed as a volume percentage by calculating the volume ratio from the specific gravity.

실시예 및 비교예의 각 조성물에 대하여 하기의 각 값을 구하였다. 결과를 표 1 ~ 3에 나타낸다.The following values were obtained for each composition of the examples and comparative examples. The results are shown in Tables 1 to 3.

<중합성 화합물의 중합체의 굴절률><Refractive index of polymer of polymerizable compound>

중합성 화합물 및 중합 개시제를 표 1 ~ 3에 나타내는 비율로 계량하고, 자전 공전 믹서(싱키 「AR-250」)로 2000rpm, 5분 교반 혼합하여 혼합물을 얻었다. 이어서, 혼합물을 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 두께 100㎛가 되도록 도포하고, 파장 365nm의 LED 광원으로 조사량 600mJ/㎠의 자외광을 조사하고, 80℃에서 30분간 정치하였다. 그 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 박리하여 측정 시료를 얻었다. 얻어진 측정 시료의 굴절률을 아베식 굴절률계(아타고 「DR-M2」)로 측정하였다.Polymerizable compounds and polymerization initiators were weighed in the proportions shown in Tables 1 to 3, and stirred and mixed at 2000 rpm for 5 minutes using a rotating rotational mixer (Sinkie "AR-250") to obtain a mixture. Next, the mixture was applied to a thickness of 100 μm on a polyethylene terephthalate film, irradiated with ultraviolet light at an irradiance of 600 mJ/cm2 using an LED light source having a wavelength of 365 nm, and allowed to stand at 80°C for 30 minutes. Thereafter, the polyethylene terephthalate film was peeled off to obtain a measurement sample. The refractive index of the obtained measurement sample was measured using an Abbe refractometer (Atago "DR-M2").

<경화 심도><Depth of hardening>

알루미늄박으로 측면 및 하부를 피복한 내경 4mm, 깊이 8mm의 우레탄 튜브에 조성물을 충전하고, 80℃의 핫 플레이트상에서 튜브 상부로부터 파장 365nm의 LED 광원으로 조사량 600mJ/㎠의 자외선 빛을 조사했다. 조사 후, 80℃에서 30분간 정치한 후, 튜브 하부의 미경화 부분을 에탄올을 함침시킨 거즈로 닦아내고, 남은 경화 부분의 두께를 마이크로미터(미츠토요사 제조)로 측정했다. .The composition was filled into a 4 mm inner diameter, 8 mm deep urethane tube covered on the sides and bottom with aluminum foil, and irradiated with ultraviolet light at an irradiance of 600 mJ/cm2 from the top of the tube on a hot plate at 80°C using an LED light source with a wavelength of 365 nm. After irradiation, the tube was left to stand at 80°C for 30 minutes, and the uncured portion at the bottom of the tube was wiped with gauze soaked in ethanol, and the thickness of the remaining cured portion was measured with a micrometer (manufactured by Mitutoyo Corporation).

<전광선 투과율, 전광선 반사율><Total light transmittance, total light reflectance>

조성물을 유리 위에 두께 100㎛가 되도록 도포하고, 추가로 그 위로부터 유리를 겹쳐 유리/조성물/유리의 3층 구조로 하였다. 헤이즈 미터(니폰덴쇼쿠 「NDH-8000」)로 무도포의 2장의 유리를 사용하여 베이스 보정을 행한 후, 상기 3층 구조의 시료에 대해 전광선 투과율 및 전광선 반사율을 측정했다. .The composition was applied to a thickness of 100 μm on glass, and additional glass was overlapped on top to form a three-layer structure of glass/composition/glass. After performing base correction using two uncoated pieces of glass with a haze meter (Nippon Denshoku "NDH-8000"), the total light transmittance and total light reflectance were measured for the sample with the three-layer structure.

<경화체의 제작><Production of hardened body>

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 두께 100㎛가 되도록 조성물을 도포하였다. 이어서, 파장 365nm의 LED 광원으로 조사량 600mJ/㎠의 자외광을 조사한 후, 80℃에서 30분간 정치하였다. 그 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 박리하여 경화체를 얻었다.The composition was applied to a thickness of 100 μm on a polyethylene terephthalate film. Subsequently, the film was irradiated with ultraviolet light at a dose of 600 mJ/cm2 using an LED light source with a wavelength of 365 nm, and then left to stand at 80°C for 30 minutes. Thereafter, the polyethylene terephthalate film was peeled off to obtain a cured product.

<굴절률의 차이><Difference in refractive index>

상술한 방법으로 구한 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1 및 무기 미립자의 굴절률 n2를 이용하여 이하의 식으로부터 산출하였다. 단, 조성물이 무기 미립자를 복수 포함하는 경우에는 각 무기 미립자에 대하여 |n1-n2|를 계산하고, 최대값을 표에 기재하였다.The refractive index n 1 of the polymer of the polymerizable compound obtained by the above-described method and the refractive index n 2 of the inorganic fine particles were used to calculate the value from the following equation. However, when the composition includes multiple inorganic fine particles, |n 1 -n 2 | was calculated for each inorganic fine particle, and the maximum value was recorded in the table.

굴절률의 차이 = |n1-n2|Difference in refractive index = |n 1 -n 2 |

또한 실시예 6은 |n1-n2|의 최대값은 0.57이지만, |n1-n2|가 0.5 이하인 무기 미립자((C-1) 구상 실리카)가 무기 미립자의 대부분을 차지하고 있다.In addition, in Example 6, the maximum value of |n 1 -n 2 | is 0.57, but inorganic fine particles ((C-1) spherical silica) having |n 1 -n 2 | of 0.5 or less account for the majority of the inorganic fine particles.

<경화체의 비중><Specific gravity of hardened body>

경화체의 비중은 메틀러톨레도의 비중 측정 키트를 사용하여 측정하였다. 측정 분위기는 23℃로 하였다.The specific gravity of the cured product was measured using a Mettler Toledo specific gravity measurement kit. The measurement atmosphere was 23°C.

<투습도><Moisture permeability>

경화체의 투습도는 시험 조건을 85℃, 85% RH, 시간을 24시간으로 한 것 이외에는 JIS Z 0208의 투습컵법에 준하여 측정하였다.The moisture permeability of the cured product was measured according to the moisture permeability cup method of JIS Z 0208, except that the test conditions were 85°C, 85% RH, and the time was 24 hours.

<흡습률(흡수율)><Moisture absorption rate>

경화체를 23℃ 50% RH 분위기에서 24시간 정치한 후, 85℃, 85% RH 분위기에서 24시간 가습하고, 그 후 다시 23℃ 50% RH로 1시간 냉각한 것을 컬피셔법으로 수분율(%)을 측정하고, 이 값을 흡습률로 하였다.After the cured product was left to stand for 24 hours in an atmosphere of 23℃ and 50% RH, it was humidified for 24 hours in an atmosphere of 85℃ and 85% RH, and then cooled again to 23℃ and 50% RH for 1 hour. The moisture content (%) was measured using the Curl Fischer method, and this value was taken as the moisture absorption rate.

이어서, 실시예 및 비교예의 각 조성물에 대하여 하기의 방법으로 측면 밀봉 기판을 제작하고, 밀봉재의 경화 상태의 평가 및 신뢰성 시험을 행하였다. 결과를 표 1 ~ 3에 나타낸다.Next, for each composition of the examples and comparative examples, side sealing substrates were manufactured using the following method, and the curing state of the sealing material was evaluated and reliability tests were performed. The results are shown in Tables 1 to 3.

<측면 밀봉 기판의 제작><Manufacturing of side sealing substrate>

30mm 사방의 무알칼리 유리 위에 노즐 직경 0.2mmφ의 탁상 도포기(무사시 엔지니어링사 제조, SHOTmini)로 조성물 4mL를 약 17mm 사방의 정사각형을 그리도록 도포하고, 제1 유리 기판을 제작하였다. 이어서, 금속 칼슘을 0.2㎛ 두께, 13mm 사방의 범위로 증착한 유리 기판(Q-Lights사 제조)을 제2 유리 기판으로서 준비하고, 제1 유리 기판과 제2 유리 기판을 붙이고 첩합했다. 이때, 제1 유리 기판 상의 조성물이 제2 유리 기판 상의 금속 칼슘을 둘러싸도록 제1 유리 기판과 제2 유리 기판의 위치를 맞추었다. 그 후, 제1 유리 기판측으로부터 파장 365nm, 조사량 600mJ/㎠의 자외광을 조사한 후, 진공 프레스기로 40℃의 조건 하, 0.1MPa의 하중을 가하여 프레스했다. 이어서, 80℃의 오븐으로 30분간 가열하여 조성물의 경화체로 이루어지는 밀봉재로 측면을 밀봉한 측면 밀봉 기판을 얻었다.A 4 mL composition was applied to a 30 mm square alkali-free glass substrate using a tabletop applicator (SHOTmini manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.) with a nozzle diameter of 0.2 mmφ to form a square shape of approximately 17 mm square, thereby producing a first glass substrate. Next, a glass substrate (manufactured by Q-Lights Co., Ltd.) on which metallic calcium was deposited to a thickness of 0.2 μm over a 13 mm square area was prepared as a second glass substrate, and the first and second glass substrates were bonded together. At this time, the positions of the first and second glass substrates were aligned so that the composition on the first glass substrate surrounded the metallic calcium on the second glass substrate. Thereafter, the first glass substrate was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm and an irradiance of 600 mJ/cm2, and then pressed using a vacuum press at a temperature of 40°C and a load of 0.1 MPa. Next, a side-sealed substrate was obtained by sealing the side with a sealant made of a cured product of the composition by heating in an oven at 80°C for 30 minutes.

<경화 상태의 평가><Assessment of hardening status>

측면 밀봉 기판을 육안으로 확인하고, 밀봉재에 미경화 부분이 존재하지 않은 경우를 A, 밀봉재에 미경화 부분이 인정된 경우를 C로서 평가하였다.The side sealing substrate was visually inspected, and a case in which there was no uncured part in the sealing material was evaluated as A, and a case in which an uncured part was recognized in the sealing material was evaluated as C.

<신뢰성 시험>Reliability Test

측면 밀봉 기판을 85℃, 85% RH의 분위기 하에서 정치하였다. 흑색 금속 칼슘층이 물과의 반응에 의해 전부 백색으로 변색될 때까지의 시간을 계측하였다.The side sealing substrate was placed in an atmosphere of 85°C and 85% RH. The time until the black metallic calcium layer completely turned white due to the reaction with water was measured.

Claims (17)

지환식 에폭시 화합물 및 비환식 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 중합성 화합물과, 구상 실리카, 구상 알루미나, 구상 마그네시아 및 구상 지르코니아로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 무기 미립자와, 광중합 개시제를 함유하고,
상기 무기 미립자의 함유량이 30부피% 이상이며,
알루미늄박으로 측면 및 하부를 피복한 내경 4mm, 깊이 8mm의 우레탄 튜브에 충전하고, 80℃의 핫 플레이트상에서 튜브 상부로부터 파장 365nm의 LED 광원으로 조사량 600mJ/㎠의 자외선 빛을 조사하고, 80℃에서 30분 정치했을 때의 경화 심도가 100㎛ 이상인 조성물.
A polymerizable compound comprising at least one selected from the group consisting of an alicyclic epoxy compound and an acyclic epoxy compound, at least one inorganic fine particle selected from the group consisting of spherical silica, spherical alumina, spherical magnesia, and spherical zirconia, and a photopolymerization initiator,
The content of the above inorganic fine particles is 30% by volume or more,
A composition having a curing depth of 100㎛ or more when filled into a urethane tube having an inner diameter of 4mm and a depth of 8mm, the sides and bottom of which are covered with aluminum foil, and irradiated with ultraviolet light at an irradiance of 600mJ/cm2 from the top of the tube on a hot plate at 80℃ using an LED light source having a wavelength of 365nm, and left to stand at 80℃ for 30 minutes.
청구항 1에 있어서, 상기 무기 미립자가 상기 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1과의 차의 절대값(|n1-n2|)이 0.5 이하가 되는 굴절률 n2를 갖는 무기 미립자인 조성물.A composition according to claim 1, wherein the inorganic fine particles are inorganic fine particles having a refractive index n 2 such that the absolute value of the difference (|n 1 -n 2 |) between the inorganic fine particles and the refractive index n 1 of the polymer of the polymerizable compound is 0.5 or less. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 미립자의 굴절률 n2가 1.4 이상인 조성물.A composition according to claim 1, wherein the refractive index n 2 of the inorganic fine particles is 1.4 or more. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 미립자의 평균 원형도가 0.7 이상 1.0 이하인 조성물.A composition according to claim 1, wherein the average circularity of the inorganic fine particles is 0.7 or more and 1.0 or less. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 미립자가 구상 실리카 및 구상 알루미나로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 조성물.A composition according to claim 1, wherein the inorganic fine particles comprise at least one selected from the group consisting of spherical silica and spherical alumina. 청구항 1에 있어서, 두께 100㎛당의 전광선 투과율 T0(%)과 전광선 반사율 R0(%)의 합(T0+R0)이 50% 이상인 조성물.A composition according to claim 1, wherein the sum of the total light transmittance T 0 (%) and the total light reflectance R 0 (%) per 100㎛ of thickness (T 0 + R 0 ) is 50% or more. 청구항 1에 있어서, 상기 광중합 개시제가 하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물.
[화학식 1]

[식 (1) 중, R1은 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타내고, X-는 1가의 음이온을 나타낸다. 복수 존재하는 R1은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
A composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator comprises a compound represented by the following chemical formula (1).
[Chemical Formula 1]

[In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and X - represents a monovalent anion. Multiple R 1s may be the same or different.]
청구항 1에 있어서, 하기 식 (2)로 표시되는 광증감제를 더 함유하는 조성물.
[화학식 2]

[식(2) 중, R2는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 R2는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
A composition according to claim 1, further comprising a photosensitizer represented by the following formula (2).
[Chemical Formula 2]

[In formula (2), R 2 represents an alkyl group that may have a substituent. Multiple R 2s may be the same or different.]
청구항 1에 있어서, JIS Z0208에 준거하여 온도 85℃, 상대습도 85%의 조건하에서 측정되는 두께 100㎛당 투습도가 100g/(㎡·24시간) 이하의 경화체를 형성하기 위한 조성물인 것인 조성물.A composition according to claim 1, which is a composition for forming a cured body having a moisture permeability of 100 g/(㎡·24 hours) or less per 100 μm of thickness measured under conditions of a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% in accordance with JIS Z0208. 청구항 1에 있어서, 온도 85℃, 상대습도 85%, 24시간에서의 흡수율이 3% 이하의 경화체를 형성하기 위한 조성물인 것인 조성물.A composition according to claim 1, which is a composition for forming a cured body having an absorption rate of 3% or less at a temperature of 85°C, a relative humidity of 85%, and 24 hours. 청구항 1에 있어서, 유기 EL 표시소자용 밀봉제인 조성물.A composition according to claim 1, which is a sealant for an organic EL display device. 청구항 1에 있어서, 댐·필 방식의 댐 형성용 밀봉제인 조성물.A composition according to claim 1, which is a sealant for forming a dam in a dam-fill type. 지환식 에폭시 화합물 및 비환식 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 중합성 화합물과,
상기 중합성 화합물의 중합체의 굴절률 n1과의 차의 절대값(|n1-n2|)이 0.5 이하가 되는 굴절률 n2를 갖는, 구상 실리카, 구상 알루미나, 구상 마그네시아 및 구상 지르코니아로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 무기 미립자와,
광중합 개시제를 함유하고,
상기 무기 미립자의 함유량이 30부피% 이상이며,
상기 광중합 개시제의 함유량이 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여 0.3질량부 이상이고,
상기 무기 미립자의 평균 원형도가 0.7 이상 1.0 이하인 조성물.
A polymerizable compound comprising at least one selected from the group consisting of an alicyclic epoxy compound and an acyclic epoxy compound,
At least one inorganic fine particle selected from the group consisting of spherical silica, spherical alumina, spherical magnesia and spherical zirconia, having a refractive index n 2 such that the absolute value of the difference (|n 1 -n 2 |) between the refractive index n 1 of the polymer of the above polymerizable compound is 0.5 or less,
Contains a photopolymerization initiator,
The content of the above inorganic fine particles is 30% by volume or more,
The content of the photopolymerization initiator is 0.3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound,
A composition in which the average circularity of the above-mentioned inorganic fine particles is 0.7 or more and 1.0 or less.
청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화체.A cured product of the composition according to any one of claims 1 to 13. 유기 EL 표시소자와,
상기 유기 EL 표시소자를 밀봉하는 댐 및 필제로 이루어지는 밀봉 구조를 갖추고,
상기 댐이 청구항 14에 기재된 경화체를 포함하는 유기 EL 표시장치.
Organic EL display elements,
It has a sealing structure made of a dam and a filler that seals the above organic EL display element,
An organic EL display device comprising the cured material described in claim 14.
청구항 15에 있어서, 유기 EL 텔레비전인 유기 EL 표시장치.An organic EL display device, which is an organic EL television, according to claim 15. 삭제delete
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009531515A (en) * 2006-03-29 2009-09-03 ナショナル スターチ アンド ケミカル インベストメント ホールディング コーポレイション Radiation- or thermo-curable barrier sealant
JP2015124286A (en) * 2013-12-26 2015-07-06 株式会社ダイセル Curable composition

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653647B2 (en) * 1986-04-18 1994-07-20 而至歯科工業株式会社 Dental restoration composition
JP2001357973A (en) 2000-06-15 2001-12-26 Sony Corp Display device
JP2004123775A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive thermosetting paste composition
CN103772649B (en) * 2006-03-29 2018-09-21 汉高股份两合公司 The anti-seepage sealant of radiation or heat solidifiable
JP5713959B2 (en) * 2012-05-23 2015-05-07 株式会社東芝 Electronic device, method, and program
KR101641480B1 (en) * 2014-01-23 2016-07-20 주식회사 다이셀 Sealing composition
CN106062121B (en) * 2014-05-02 2018-03-13 三井化学株式会社 Sealing material and its cured product
CN115336389B (en) * 2020-04-01 2025-10-24 电化株式会社 Sealant, cured body, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing organic electroluminescent display device
CN116194508A (en) * 2020-10-20 2023-05-30 电化株式会社 Sealant, cured body, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing organic electroluminescent display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009531515A (en) * 2006-03-29 2009-09-03 ナショナル スターチ アンド ケミカル インベストメント ホールディング コーポレイション Radiation- or thermo-curable barrier sealant
JP2015124286A (en) * 2013-12-26 2015-07-06 株式会社ダイセル Curable composition

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