[go: up one dir, main page]

KR102903506B1 - Semiconductor memory device and driviing method thereof - Google Patents

Semiconductor memory device and driviing method thereof

Info

Publication number
KR102903506B1
KR102903506B1 KR1020240064415A KR20240064415A KR102903506B1 KR 102903506 B1 KR102903506 B1 KR 102903506B1 KR 1020240064415 A KR1020240064415 A KR 1020240064415A KR 20240064415 A KR20240064415 A KR 20240064415A KR 102903506 B1 KR102903506 B1 KR 102903506B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transistor
memory cell
back gate
gate node
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020240064415A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20250164976A (en
Inventor
최병덕
유용상
이동민
Original Assignee
한양대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한양대학교 산학협력단 filed Critical 한양대학교 산학협력단
Priority to KR1020240064415A priority Critical patent/KR102903506B1/en
Publication of KR20250164976A publication Critical patent/KR20250164976A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102903506B1 publication Critical patent/KR102903506B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4096Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4094Bit-line management or control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4097Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/14Word line organisation; Word line lay-out

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Databases & Information Systems (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되는 복수의 메모리 셀을 포함하는 메모리 셀 어레이, 상기 복수의 워드 라인에 연결되는 워드 라인 구동 회로, 상기 복수의 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로 및 상기 복수의 워드라인과 상기 복수의 비트라인에 인가되는 신호를 생성하는 컨트롤러를 포함하고, 상기 복수의 메모리 셀 각각은 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되는 제1 트랜지스터 및 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 상기 제1트랜지스터의 타 단에 게이트 노드가 연결되고, 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하고, 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성될 수 있다.According to one embodiment of the disclosed invention, a semiconductor memory device includes a memory cell array including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines, a word line driving circuit connected to the plurality of word lines, a sense amplifier circuit connected to the plurality of bit lines, and a controller for generating signals applied to the plurality of word lines and the plurality of bit lines, wherein each of the plurality of memory cells includes a first transistor having a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in the memory cell, and a second transistor having a gate node connected to the other end of the first transistor and one end connected to the bit line and the other end connected to the word line to read data stored in the memory cell, wherein the first transistor and the second transistor may be configured as a four-terminal element including a back gate node.

Description

반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법{SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND DRIVIING METHOD THEREOF}Semiconductor memory device and driving method thereof {SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND DRIVIING METHOD THEREOF}

본 발명은 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법에 관한 발명으로서, 보다 상세하게는 트랜지스터의 백 게이트 라인을 이용하여 메모리 셀의 구동 능력을 향상 시킬 수 있는 기술에 관한 발명이다.The present invention relates to a semiconductor memory device and a driving method thereof, and more specifically, to a technology capable of improving the driving capability of a memory cell by using a back gate line of a transistor.

DRAM은 "Dynamic Random Access Memory"의 약자로, 컴퓨터 메모리의 일종이다.DRAM stands for "Dynamic Random Access Memory" and is a type of computer memory.

이러한 DRAM은 컴퓨터에서 사용되는 RAM(랜덤 액세스 메모리)의 한 형태로, 주로 주기억장치로 사용된다.This DRAM is a form of RAM (random access memory) used in computers, primarily as main memory.

또한, DRAM은 데이터를 임시로 저장하고 빠르게 접근할 수 있는 기억 장치로, CPU가 프로그램을 실행하거나 데이터를 처리하는 동안 필요한 정보를 저장한다.Additionally, DRAM is a memory device that temporarily stores data and allows for quick access, storing information needed while the CPU executes a program or processes data.

종래의 1T 1C 구조의 DRAM은 하나의 트랜지스터와 하나의 커패시터로 이루어진 메모리 셀을 포함하며, 트랜지스터는 각 메모리 셀의 접근을 제어하는 역할을 수행한다.A conventional 1T 1C structure DRAM includes a memory cell composed of one transistor and one capacitor, and the transistor controls access to each memory cell.

이러한 트랜지스터는 메모리 셀에 연결되는 워드 라인과 비트 라인 사이의 데이터 플로우를 제어하도록 구성된다.These transistors are configured to control the flow of data between word lines and bit lines that connect to memory cells.

또한, 커패시터는 전하에 축적에 따라 데이터를 저장하도록 구성되며, 축적된 전하는 플립플롭이나 레지스터와 같은 장치를 통해 인출되어 CPU 또는 다른 장치에 제공될 수 있다.Additionally, the capacitor is configured to store data by accumulating charge, and the accumulated charge can be withdrawn through a device such as a flip-flop or register and provided to a CPU or other device.

이러한 구조의 DRAM은 비교적 간단하고 소형화가 가능한 메모리 셀을 구현할 수 있으나, 충전된 커패시터의 전하가 시간이 지나면서 점차 소멸되는 문제점이 존재하고, 주기적인 리프레시 과정을 거쳐야 하는 단점이 존재한다.DRAMs with this structure can implement relatively simple and miniaturized memory cells, but they have the disadvantage of having the charge of the charged capacitor gradually disappear over time and requiring a periodic refresh process.

종래 하나의 트랜지스터 및 하나의 커패시터로 구성되는 메모리 장치의 경우, 커패시터의 충전 상태에 의존하는 메모리 장치로서 충전된 전하가 시간이 지나면서 유출되는 문제점이 존재하며, 누설 전류가 발생하는 문제점이 존재한다.In the case of a conventional memory device composed of one transistor and one capacitor, there is a problem that the charged charge leaks out over time as a memory device that depends on the charge state of the capacitor, and there is a problem that leakage current occurs.

또한, 종래 2개의 트랜지스터로 구성되는 메모리 셀을 포함하는 DRAM의 경우, 기존의 구조에 비해 트랜지스터가 1개 더 추가되고, 와이어 수의 증가로 인한 레이아웃 면적이 증가되는 문제점이 존재한다.In addition, in the case of DRAMs that include memory cells that are conventionally composed of two transistors, there is a problem that one more transistor is added compared to the conventional structure, and the layout area increases due to the increase in the number of wires.

또한, 종래 기술에 따른 백 게이트 컨트롤 기반의 메모리 셀의 경우, 데이터를 읽어내는 읽기 작업 이후에 데이터를 다시 쓰는 작업이 필요하게 되고, 이는 전력의 소모를 야기하게 되는 문제점이 존재한다.In addition, in the case of memory cells based on back gate control according to the prior art, there is a problem in that a data rewriting operation is required after a read operation to read data, which causes power consumption.

또한, 종래 기술에 따른 백 게이트 컨트롤 기반의 메모리 셀은 비트 라인의 커패시터와 메모리 셀의 커패시터가 전하를 쉐어링하기 때문에, 비트 라인의 커패시터의 크기가 너무 클 경우 센스 앰프가 비트 라인과 상보 비트 라인의 전압 차이를 감지할 수 없는 문제점이 존재한다.In addition, since the memory cell based on back gate control according to the prior art shares charges between the capacitor of the bit line and the capacitor of the memory cell, there is a problem in that the sense amplifier cannot detect the voltage difference between the bit line and the complementary bit line if the size of the capacitor of the bit line is too large.

대한민국 공개 공보 제10-2012-0022481호(동적 래치 및 이를 포함하는 데이터 출력 장치)Republic of Korea Public Notice No. 10-2012-0022481 (Dynamic latch and data output device including the same) 대한민국 공개 공보 제10-2019-0175250(비휘발성 메모리 장치 및 그 동작 방법)Republic of Korea Publication No. 10-2019-0175250 (Non-volatile memory device and its operating method)

따라서, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 창작된 발명으로서, 보다 상세하게는 메모리 셀을 구성하는 트랜지스터의 구동 능력을 백 게이트 라인을 통해 조절함으로써 누설 전류를 최소화 하고 구동 능력이 향상된 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법을 제공하는 데 목적이 존재한다.Accordingly, a semiconductor memory device and a driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention are inventions created to solve the problems of the above-described prior art, and more specifically, the purpose is to provide a semiconductor memory device and a driving method thereof in which leakage current is minimized and driving ability is improved by controlling the driving ability of a transistor constituting a memory cell through a back gate line.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 2개의 트랜지스터를 이용하여 메모리 셀을 구성하되 각각의 트랜지스터가 비트 라인과 워드 라인을 공유하는 형태로 구성하여 면적이 감소된 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법을 제공하는 데 목적이 존재한다.In addition, the purpose of the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention is to provide a semiconductor memory device and a driving method thereof having a reduced area by configuring a memory cell using two transistors, each transistor sharing a bit line and a word line.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 트랜지스터의 백 게이트 라인을 워드 라인 및 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치시켜 면적 효율성이 증대된 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법을 제공하는 데 목적이 존재한다.In addition, the purpose of the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention is to provide a semiconductor memory device and the driving method thereof with increased area efficiency by positioning the back gate line of the transistor in a lower layer of the layer where the word line and the bit line are positioned.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되는 복수의 메모리 셀을 포함하는 메모리 셀 어레이, 상기 복수의 워드 라인에 연결되는 워드 라인 구동 회로, 상기 복수의 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로 및 상기 복수의 워드라인과 상기 복수의 비트라인에 인가되는 신호를 생성하는 컨트롤러를 포함하고, 상기 복수의 메모리 셀 각각은 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되는 제1 트랜지스터 및 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 상기 제1트랜지스터의 타 단에 게이트 노드가 연결되고, 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하고, 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성될 수 있다.According to one embodiment of the disclosed invention, a semiconductor memory device includes a memory cell array including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines, a word line driving circuit connected to the plurality of word lines, a sense amplifier circuit connected to the plurality of bit lines, and a controller for generating signals applied to the plurality of word lines and the plurality of bit lines, wherein each of the plurality of memory cells includes a first transistor having a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in the memory cell, and a second transistor having a gate node connected to the other end of the first transistor and one end connected to the bit line and the other end connected to the word line to read data stored in the memory cell, wherein the first transistor and the second transistor may be configured as a four-terminal element including a back gate node.

상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 각각의 백 게이트 노드를 통해 문턱 전압이 조절될 수 있다.The threshold voltages of the first transistor and the second transistor can be controlled through their respective back gate nodes.

상기 제1 트랜지스터가 ON되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 낮아지고, 상기 제1 트랜지스터가 OFF되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 높아질 수 있다.When the first transistor is turned on, the threshold voltage of the first transistor may be lowered, and when the first transistor is turned off, the threshold voltage of the first transistor may be higher.

상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인 및 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인은 상기 워드 라인 및 상기 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치될 수 있다.A first back gate line connected to the back gate node of the first transistor and a second back gate line connected to the back gate node of the second transistor may be located in a lower layer of the layer where the word line and the bit line are located.

상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 데이터가 충전되도록 상기 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고 상기 비트 라인에 데이터 신호를 인가하며, 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가할 수 있다.When a write operation of the memory cell is performed, the controller may apply a HIGH signal to the word line and a data signal to the bit line so that data is charged to the gate node of the second transistor, apply a HIGH signal to the back gate node of the first transistor, and apply a LOW signal to the back gate node of the second transistor.

상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 낮아질 수 있다.When a write operation of the above memory cell is performed, the threshold voltage of the first transistor may be lowered.

상기 메모리 셀의 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고 상기 비트 라인을 통해 저장된 데이터를 읽어내며, 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가할 수 있다.When a read operation of the memory cell is performed, the controller can apply a HIGH signal to the word line and read stored data through the bit line, apply a LOW signal to the back gate node of the first transistor, and apply a HIGH signal to the back gate node of the second transistor.

상기 메모리 셀의 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 높아질 수 있다.When a read operation of the above memory cell is performed, the threshold voltage of the first transistor may increase.

상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 상기 워드 라인과 상기 비트 라인을 공유하고, 상기 메모리 셀은 2-WIRE 구조일 수 있다.The first transistor and the second transistor share the word line and the bit line, and the memory cell may have a 2-WIRE structure.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되고, 제1 트랜지스터 및 상기 제1 트랜지스터에 게이트 노드가 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하는 복수의 메모리 셀을 포함하는 메모리 셀 어레이, 상기 복수의 워드 라인에 연결되는 워드 라인 구동 회로, 상기 복수의 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로 및 상기 복수의 워드라인과 상기 복수의 비트라인에 신호를 인가하도록 구성되고, 상기 복수의 메모리 셀 각각의 쓰기 작업(write operation) 및 읽기 작업(read operation)에 따라 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하도록 구성되는 컨트롤러를 포함할 수 있다.A semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention may include a memory cell array including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines, the memory cells including a first transistor and a second transistor having a gate node connected to the first transistor, a word line driving circuit connected to the plurality of word lines, a sense amplifier circuit connected to the plurality of bit lines, and a controller configured to apply signals to the plurality of word lines and the plurality of bit lines, and configured to adjust threshold voltages of the first transistor and the second transistor according to a write operation and a read operation of each of the plurality of memory cells.

상기 제1 트랜지스터는 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되고, 상기 제2 트랜지스터는 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되어 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어낼 수 있다.The first transistor has a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in a memory cell, and the second transistor has one end connected to the bit line and the other end connected to the word line to read data stored in the memory cell.

상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성될 수 있다.The first transistor and the second transistor may be configured as four-terminal devices including a back gate node.

상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인 및 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인은 상기 워드 라인 및 상기 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치될 수 있다.A first back gate line connected to the back gate node of the first transistor and a second back gate line connected to the back gate node of the second transistor may be located in a lower layer of the layer where the word line and the bit line are located.

상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가할 수 있다.When a write operation of the above memory cell is performed, the controller can apply a HIGH signal to the back gate node of the first transistor and a LOW signal to the back gate node of the second transistor.

복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되고, 제1 트랜지스터 및 상기 제1 트랜지스터에 게이트 노드가 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하는 복수의 메모리 셀 중 하나의 메모리 셀을 선택하는 단계, 상기 선택된 메모리 셀에 데이터를 저장하는 쓰기 작업(write operation)을 수행하는 단계, 상기 선택된 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내는 읽기 작업(read operation)을 수행하는 단계 및 상기 선택된 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation) 및 읽기 작업(read operation)에 따라 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계를 포함할 수 있다.The method may include a step of selecting one memory cell among a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines and including a first transistor and a second transistor having a gate node connected to the first transistor, a step of performing a write operation for storing data in the selected memory cell, a step of performing a read operation for reading data stored in the selected memory cell, and a step of adjusting threshold voltages of the first transistor and the second transistor according to the write operation and the read operation of the selected memory cell.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 메모리 셀을 구성하는 트랜지스터의 구동 능력을 백 게이트 라인을 통해 조절함으로써 누설 전류를 최소화 하고 구동 능력이 향상되는 장점이 존재한다.A semiconductor memory device and a driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have the advantage of minimizing leakage current and improving driving ability by controlling the driving ability of a transistor constituting a memory cell through a back gate line.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 트랜지스터의 백 게이트 라인을 워드 라인 및 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치시켜 면적 효율성이 증대될 수 있는 장점이 존재한다.In addition, the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have an advantage in that area efficiency can be increased by positioning the back gate line of the transistor in a lower layer of the layer where the word line and bit line are positioned.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 2개의 트랜지스터를 이용하여 메모리 셀을 구성하되 각각의 트랜지스터가 비트 라인과 워드 라인을 공유하는 형태로 구성하여 면적이 감소될 수 있는 장점이 존재한다.In addition, the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have the advantage of being able to reduce the area by configuring a memory cell using two transistors, but configuring it in a form in which each transistor shares a bit line and a word line.

도 1은 종래 기술에 따른 2 T 구조의 메모리 셀을 나타낸 도면이다.
도 2는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 메모리 셀의 구성을 나타낸 도면이다.
도 4는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 메모리 셀의 단면도를 나타낸 도면이다.
도 5는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우 인접하게 배치된 복수의 메모리 셀의 동작을 나타낸 도면이다.
도 6은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우 인접하게 배치된 복수의 메모리 셀의 동작을 나타낸 도면이다.
도 7은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 비트 라인과 상보적 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로를 나타낸 도면이다.
도 8은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구동 방법을 나타낸 순서도이다.
도 9는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 쓰기 작업 수행 시 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다.
도 10은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 읽기 작업 수행 시 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다.
Figure 1 is a drawing showing a memory cell of a 2 T structure according to the prior art.
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 3 is a drawing showing the configuration of a memory cell in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 4 is a drawing showing a cross-sectional view of a memory cell in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 5 is a diagram illustrating the operation of a plurality of memory cells arranged adjacently when a write operation is performed in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 6 is a diagram illustrating the operation of a plurality of memory cells arranged adjacently when a read operation is performed in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 7 is a diagram showing a sense amplifier circuit connected to a bit line and a complementary bit line in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 8 is a flowchart illustrating a method for driving a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 9 is a diagram showing a simulation result when a write operation is performed on a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.
FIG. 10 is a diagram showing a simulation result when a read operation is performed on a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.

본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 개시된 발명의 바람직한 일 예에 불과할 뿐이며, 본 출원의 출원시점에 있어서 본 명세서의 실시예와 도면을 대체할 수 있는 다양한 변형 예들이 있을 수 있다.The embodiments described in this specification and the configurations illustrated in the drawings are merely preferred examples of the disclosed invention, and there may be various modified examples that can replace the embodiments and drawings of this specification at the time of filing of this application.

또한, 본 명세서의 각 도면에서 제시된 동일한 참조번호 또는 부호는 실질적으로 동일한 기능을 수행하는 부품 또는 구성요소를 나타낸다.Additionally, the same reference numbers or symbols presented in each drawing of this specification represent parts or components that perform substantially the same function.

또한, 본 명세서에서 사용한 용어는 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 개시된 발명을 제한 및/또는 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Additionally, the terminology used herein is for the purpose of describing embodiments and is not intended to limit and/or restrict the disclosed invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는다.In this specification, terms such as “include” or “have” are intended to specify the presence of a feature, number, step, operation, component, part or combination thereof described in the specification, but do not preclude the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof.

또한, 본 명세서에서 사용한 "제1", "제2" 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않으며, 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. Additionally, terms including ordinal numbers such as “first,” “second,” etc., used herein may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms, and the terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. "및/또는" 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.For example, without departing from the scope of the present invention, a first component could be referred to as a second component, and similarly, a second component could also be referred to as a first component. The term "and/or" includes any combination of a plurality of related listed items or any one of a plurality of related listed items.

이하에서는 본 발명에 따른 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1은 종래 기술에 따른 2 T 구조의 메모리 셀을 나타낸 도면이다.Fig. 1 is a drawing showing a memory cell of a 2 T structure according to the prior art.

도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 2T 구조의 메모리 셀은 제1 트랜지스터(WTR) 및 제2 트랜지스터(RTR)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a memory cell of a 2T structure according to the prior art may include a first transistor (WTR) and a second transistor (RTR).

보다 상세하게는, 제1 트랜지스터(WTR)는 게이트 노드가 쓰기 워드 라인(WWL)과 연결되고, 일 단이 쓰기 비트 라인(WBL)과 연결되어 데이터를 저장하도록 구성될 수 있다.More specifically, the first transistor (WTR) can be configured to store data by having a gate node connected to a write word line (WWL) and one end connected to a write bit line (WBL).

또한, 제2 트랜지스터(RTR)는 게이트 노드가 제1 트랜지스터(WTR)의 타 단에 연결되고, 일 단이 읽기 워드 라인(RWL)에 연결되며 타 단이 읽기 비트 라인(RBL)에 연결될 수 있다.Additionally, the second transistor (RTR) may have a gate node connected to the other end of the first transistor (WTR), one end connected to a read word line (RWL), and the other end connected to a read bit line (RBL).

종래 기술에 따른 1T 1C 구조의 메모리 셀을 포함하는 DRAM은 전하 분배를 통해 DRAM의 메모리 셀 내부의 전하를 비트 라인과 공유할 수 있다.A DRAM including a memory cell of a 1T 1C structure according to a prior art can share charges inside the memory cell of the DRAM with a bit line through charge distribution.

이 때, 비트 라인과 상보적 비트 라인 발생하는 전압의 차이를 센스 앰프 회로가 감지함으로써 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어낼 수 있다.At this time, the sense amplifier circuit detects the difference in voltage generated between the bit line and the complementary bit line, thereby allowing the data stored in the memory cell to be read.

그러나, 종래 2T 구조의 메모리 셀을 포함하는 DRAM의 경우, 데이터를 읽어내는 트랜지스터인 제2 트랜지스터(RTR)에 흐르는 전류를 통해 메모리 셀에 저장된 데이터의 유무를 확인할 수 있다.However, in the case of a DRAM including a conventional 2T structure memory cell, the presence or absence of data stored in the memory cell can be confirmed through the current flowing through the second transistor (RTR), which is a transistor that reads data.

따라서, 종래 2T 구조의 메모리 셀의 경우 읽기 동작 수행 이후 데이터를 다시 쓰는 동작을 수행할 필요가 없으며, 이로 인해 전력, 메모리 보유 시간 및 비트 라인 커패시턴스에 있어서 장점을 가진다.Therefore, in the case of a conventional 2T structure memory cell, there is no need to perform an operation to rewrite data after performing a read operation, which has advantages in terms of power, memory retention time, and bit line capacitance.

그러나, 종래 2T 구조의 메모리 셀의 경우 기존의 1T 1C 구조의 메모리 셀과 비교하였을 때, 트랜지스터의 개수가 1개 더 추가되고, 트랜지스터와 연결되는 와이어(WIRE) 수의 증가로 인해 레이아웃 면적이 증가되고, 기생 커패시턴스가 증가하는 문제점이 존재한다.However, in the case of a conventional 2T structure memory cell, compared to a conventional 1T 1C structure memory cell, there is a problem in that the number of transistors is increased by one, the number of wires connected to the transistors increases, and the layout area increases, and parasitic capacitance increases.

이러한 문제점은 집적도가 중요한 메모리 장치에 있어서 치명적인 단점으로 작용할 수 있다.This problem can be a fatal drawback in memory devices where integration is important.

또한, 이와 달리 종래 1T 1C 구조의 백 게이트를 활용한 메모리 셀의 경우, 누설 전류를 줄여 데이터 보유 시간을 길게 확보할 수 있는 장점이 존재하지만, 백 게이트를 컨트롤하는 동작 외에 기존의 1T 1C 구조와 동작이 동일하기 대문에, 데이터 읽기 동작 수행 시 메모리 셀의 커패시터에 저장된 전하를 비트 라인 커패시터와 쉐어링하게 된다.In addition, unlike this, in the case of a memory cell utilizing a back gate of a conventional 1T 1C structure, there is an advantage of securing a long data retention time by reducing leakage current, but since the operation is the same as that of the conventional 1T 1C structure except for the operation of controlling the back gate, the charge stored in the capacitor of the memory cell is shared with the bit line capacitor when a data read operation is performed.

이에 따라, 종래 1T 1C 구조의 백 게이트를 활용한 메모리 셀의 경우, 전하 쉐어링에 따라 감소된 전하를 다시 충전해야 하는 다시 쓰기 작업을 수행해야 하므로, 전력 소모가 발생하게 되는 문제점이 존재한다.Accordingly, in the case of a memory cell utilizing a back gate of a conventional 1T 1C structure, there is a problem of power consumption because a rewrite operation must be performed to recharge the charge reduced by charge sharing.

또한, 종래 1T 1C 구조의 백 게이트를 활용한 메모리 셀의 경우 전하 공유 시 비트 라인의 커패시턴스가 너무 큰 경우, 센스 앰프 회로가 비트 라인과 상보적 비트 라인의 전압 차이를 감지할 수 없어 매트릭스(MATRIX)를 크게 형성할 수 없는 문제점이 존재한다.In addition, in the case of a memory cell utilizing a back gate of a conventional 1T 1C structure, if the capacitance of the bit line is too large during charge sharing, there is a problem in that the sense amplifier circuit cannot detect the voltage difference between the bit line and the complementary bit line, and thus the matrix cannot be formed in a large size.

따라서, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100) 및 이의 구동 방법은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 보다 상세하게는 2개의 트랜지스터를 이용한 메모리 셀을 구현하되 트랜지스터와 연결되는 와이어의 개수를 최소화 하고, 백 게이트 컨트롤을 위한 백 게이트 라인을 워드 라인 및 비트 라인이 배치되는 레이어와 다른 레이어에 배치함으로써 면적의 효율성을 증대시킬 수 있는 기술적 효과가 존재한다.Accordingly, a semiconductor memory device (100) and a driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention are intended to solve the problems of the above-described prior art, and more specifically, there is a technical effect of implementing a memory cell using two transistors while minimizing the number of wires connected to the transistors, and increasing area efficiency by placing a back gate line for back gate control in a layer different from the layer where a word line and a bit line are placed.

이와 관련한 자세한 내용은 후술한다.More details on this will be provided later.

도 2는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성을 나타낸 도면이다. 도 3은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 메모리 셀의 구성을 나타낸 도면이다. 도 4는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 메모리 셀의 단면도를 나타낸 도면이다.FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention. FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a memory cell in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention. FIG. 4 is a diagram showing a cross-sectional view of a memory cell in a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.

도 2를 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 반도체 소자를 기반으로 하는 저장 장치일 수 있다. Referring to FIG. 2, a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may be a storage device based on a semiconductor element.

이러한 반도체 메모리 장치(100)는 DRAM(Dynamic Random Access Memory), SDRAM(Synchronous DRAM), SRAM(Static RAM), DDR SDRAM(Double Date Rate SDRAM), DDR2 SDRAM, DDR3 SDRAM, PRAM(Phase-change RAM), MRAM(Magnetic RAM), RRAM(Resistive RAM) 등과 같은 랜덤 액세스 메모리(RAM, Random Access Memory) 장치일 수 있다. These semiconductor memory devices (100) may be random access memory (RAM) devices such as DRAM (Dynamic Random Access Memory), SDRAM (Synchronous DRAM), SRAM (Static RAM), DDR SDRAM (Double Date Rate SDRAM), DDR2 SDRAM, DDR3 SDRAM, PRAM (Phase-change RAM), MRAM (Magnetic RAM), RRAM (Resistive RAM), etc.

반도체 메모리 장치(100)는 외부 호스트(예를 들어, 중앙 처리 장치(CPU), 애플리케이션 프로세서(AP), 시스템 온 칩(SoC))로부터 수신된 어드레스 신호(ADDR) 및 제어 커맨드 신호(CMD)에 응답하여, 데이터 신호(DQ)를 통해 수신한 데이터를 저장하거나, 또는 데이터 신호(DQ)로 데이터를 출력할 수 있다. A semiconductor memory device (100) can store data received through a data signal (DQ) or output data as a data signal (DQ) in response to an address signal (ADDR) and a control command signal (CMD) received from an external host (e.g., a central processing unit (CPU), an application processor (AP), a system on a chip (SoC)).

따라서, 개시된 발명의 일 실시에에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 메모리 셀 어레이(10)와 주변 회로를 포함하며, 주변 회로는 워드 라인 구동 회로(20), 컨트롤러(40), 센스 앰프 회로(30) 등을 포함할 수 있다.Accordingly, a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention includes a memory cell array (10) and a peripheral circuit, and the peripheral circuit may include a word line driving circuit (20), a controller (40), a sense amplifier circuit (30), etc.

메모리 셀 어레이(10)는 복수의 메모리 셀들을 포함하며, 복수의 메모리 셀들은 복수의 워드 라인(WL)을 통해 워드 라인 구동 회로(20)와 연결되고, 복수의 비트 라인(BL)을 통해 센스 앰프 회로(30)와 연결될 수 있다. A memory cell array (10) includes a plurality of memory cells, and the plurality of memory cells can be connected to a word line driving circuit (20) through a plurality of word lines (WL) and connected to a sense amplifier circuit (30) through a plurality of bit lines (BL).

또한, 복수의 메모리 셀들 각각은 복수의 워드 라인(WL)과 복수의 비트 라인(BL)이 교차하는 지점에 위치할 수 있다. Additionally, each of the plurality of memory cells may be located at a point where a plurality of word lines (WL) and a plurality of bit lines (BL) intersect.

또한, 복수의 메모리 셀들은 메모리 셀 어레이(10)에서 매트릭스 형태로 배치될 수 있으며, 복수의 메모리 셀들 각각은 데이터를 저장하기 위한 메모리 소자를 적어도 하나 포함할 수 있다. Additionally, a plurality of memory cells may be arranged in a matrix form in the memory cell array (10), and each of the plurality of memory cells may include at least one memory element for storing data.

예를 들어, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 복수의 메모리 셀들 각각은 스위치 소자로서 트랜지스터를 포함할 수 있다. 이와 관련한 자세한 내용은 후술한다.For example, each of the plurality of memory cells of the semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a transistor as a switching element. Details regarding this will be described later.

컨트롤러(40)는 외부 호스트로부터 어드레스 신호와 제어 커맨드 신호 등을 수신할 수 있다. The controller (40) can receive address signals and control command signals, etc. from an external host.

어드레스 신호는 메모리 셀 어레이(10)에서 행을 가리키는 로우(ROW) 어드레스 및 메모리 셀 어레이(10)에서 열을 가리키는 칼럼(COLUMN) 어드레스를 포함할 수 있다. The address signal may include a row address indicating a row in the memory cell array (10) and a column address indicating a column in the memory cell array (10).

예를 들어, 워드 라인 구동 회로(20)는 로우 어드레스를 참조하여 복수의 워드 라인(WL) 중 적어도 하나를 선택하고, 칼럼 디코더는 칼럼 어드레스를 참조하여 복수의 비트 라인(BL) 중 적어도 하나를 선택할 수 있다.For example, the word line driving circuit (20) can select at least one of a plurality of word lines (WL) by referring to a row address, and the column decoder can select at least one of a plurality of bit lines (BL) by referring to a column address.

또한, 센스 앰프 회로(30)는 복수의 비트 라인들(BL)을 통해 메모리 셀 어레이(10)와 연결되는 복수의 비트 라인 감지 증폭기들을 포함할 수 있다. Additionally, the sense amplifier circuit (30) may include a plurality of bit line sense amplifiers connected to the memory cell array (10) through a plurality of bit lines (BL).

복수의 비트 라인(BL) 감지 증폭기들 중에서, 칼럼 디코더가 선택한 선택 비트 라인(BL)에 연결되는 비트 라인(BL) 감지 증폭기는, 선택 비트 라인에 연결된 메모리 셀들 중 적어도 하나의 선택 메모리 셀의 데이터를 읽어오거나, 선택 메모리 셀에 데이터를 저장할 수 있다.Among the plurality of bit line (BL) sense amplifiers, the bit line (BL) sense amplifier connected to the selected bit line (BL) selected by the column decoder can read data of at least one selected memory cell among the memory cells connected to the selected bit line, or store data in the selected memory cell.

개시된 발명의 메모리 장치의 워드 라인(WL)은 행을 선택하기 위해 사용되는 신호로서, DRAM에서 데이터는 행과 열에 저장되며, 워드 라인(WL)은 특정 행을 활성화하여 해당 행의 데이터에 액세스할 수 있도록 한다. A word line (WL) of a memory device of the disclosed invention is a signal used to select a row. In DRAM, data is stored in rows and columns, and a word line (WL) activates a specific row to enable access to data in that row.

이러한 워드 라인(WL)이 활성화되면 해당 행의 데이터가 읽혀지거나 쓰여질 수 있게 된다.When these word lines (WLs) are activated, the data in that row can be read or written.

개시된 발명의 메모리 장치의 비트 라인(BL)은 데이터가 읽히거나 쓰여지는 데 사용되는 신호선이다.The bit line (BL) of the memory device of the disclosed invention is a signal line used to read or write data.

DRAM에서 데이터는 비트 단위로 저장되며, 비트 라인(BL)은 특정 비트를 선택하여 해당 비트의 데이터를 읽거나 쓸 수 있도록 한다. In DRAM, data is stored in bit units, and a bit line (BL) selects a specific bit to read or write the data of that bit.

비트 라인(BL)은 주로 읽기 및 쓰기 동작에 관련된 데이터 전송에 사용될 수 있다.Bit lines (BL) can be used primarily for data transfer related to read and write operations.

따라서, 선택 워드 라인의 전압이 액티브 레벨로 유지되는 동안, 선택 메모리 셀과 연결된 센스 앰프 회로(30)가 선택 비트 라인(BL)을 통해 선택 메모리 셀의 데이터를 읽어오거나, 선택 메모리 셀에 데이터를 기록할 수 있다.Accordingly, while the voltage of the selected word line is maintained at an active level, the sense amplifier circuit (30) connected to the selected memory cell can read data of the selected memory cell or write data to the selected memory cell through the selected bit line (BL).

도 3을 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 메모리 셀 어레이(10)는 복수의 워드 라인(WL)들 및 복수의 비트 라인(BL)들에 연결되는 복수의 메모리 셀(11)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, a memory cell array (10) of a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a plurality of memory cells (11) connected to a plurality of word lines (WL) and a plurality of bit lines (BL).

보다 상세하게는, 복수의 메모리 셀 각각은, 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 구성되는 제1 트랜지스터(WTR) 및 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 구성되는 제2 트랜지스터(RTR)를 포함할 수 있다.More specifically, each of the plurality of memory cells may include a first transistor (WTR) configured to store data in the memory cell and a second transistor (RTR) configured to read data stored in the memory cell.

예를 들어, 제1 트랜지스터(WTR)는 게이트 노드가 워드 라인(WL)과 연결되고 일 단이 비트 라인(BL)과 연결될 수 있다.For example, the first transistor (WTR) may have a gate node connected to a word line (WL) and one end connected to a bit line (BL).

또한, 제1 트랜지스터(WTR)의 타 단은 제2 트랜지스터(RTR)의 게이트 노드와 연결될 수 있다.Additionally, the other terminal of the first transistor (WTR) can be connected to the gate node of the second transistor (RTR).

또한, 제2 트랜지스터(RTR)는 제1 트랜지스터(WTR)의 타 단에 게이트 노드가 연결되고, 일 단이 비트 라인(BL)에 연결되고 타 단이 워드 라인(WL)에 연결될 수 있다.Additionally, the second transistor (RTR) may have a gate node connected to the other end of the first transistor (WTR), one end connected to a bit line (BL), and the other end connected to a word line (WL).

이러한 제1 트랜지스터(WTR)와 제2 트랜지스터(RTR)는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성될 수 있다.These first transistor (WTR) and second transistor (RTR) can be configured as four-terminal devices including a back gate node.

또한, 도 4를 참조하면, 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인(BG) 및 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인(BG2)은 워드 라인 및 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치될 수 있다.Also, referring to FIG. 4, a first back gate line (BG) connected to the back gate node of the first transistor (WTR) and a second back gate line (BG2) connected to the back gate node of the second transistor (RTR) may be located in a lower layer of a layer where a word line and a bit line are located.

이를 통해, 개시된 발명은 백 게이트 컨트롤을 이용한 메모리 셀을 구현하되, 면적 효율성이 증대된 반도체 메모리 장치(100) 및 이의 구동 방법을 제공할 수 있다.Through this, the disclosed invention can provide a semiconductor memory device (100) and a driving method thereof that implement a memory cell using back gate control and has increased area efficiency.

따라서, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 제1 트랜지스터와 제2 트랜지스터가 워드 라인과 비트 라인을 공유함으로써, 2-WIRE 구조의 메모리 셀을 구현할 수 있다.Accordingly, a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention can implement a memory cell of a 2-WIRE structure by having the first transistor and the second transistor share a word line and a bit line.

트랜지스터의 백 게이트(Back Gate)는 일반적으로 MOSFET(금속-산화물-반도체 필드 효과 트랜지스터)에서 찾을 수 있는 구성 요소이다. The back gate of a transistor is a component commonly found in a MOSFET (metal-oxide-semiconductor field-effect transistor).

이러한 MOSFET의 백 게이트는 채널 형성에 사용되는 게이트와는 반대쪽에 위치하며, 서로 다른 작동 모드에서 MOSFET의 특성을 제어할 수 있다.The back gate of these MOSFETs is located on the opposite side from the gate used to form the channel, which allows controlling the characteristics of the MOSFET in different operating modes.

또한, 백 게이트의 역할은 MOSFET의 특성을 조절하여 전기적인 특성을 개선하거나 조작하는 것이다. Additionally, the role of the back gate is to control the characteristics of the MOSFET to improve or manipulate its electrical characteristics.

특히 백 게이트는 트랜지스터의 고전도성(Conductance)와 전류 흐름을 조절함으로써 트랜지스터의 동작을 최적화할 수 있다.In particular, the back gate can optimize the operation of the transistor by controlling the high conductivity and current flow of the transistor.

도 5는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우 인접하게 배치된 복수의 메모리 셀의 동작을 나타낸 도면이다. 도 6은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우 인접하게 배치된 복수의 메모리 셀의 동작을 나타낸 도면이다. 도 7은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치에 있어서, 비트 라인과 상보적 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로를 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating the operation of a plurality of memory cells arranged adjacently when a write operation is performed in a semiconductor memory device according to an embodiment of the disclosed invention. FIG. 6 is a diagram illustrating the operation of a plurality of memory cells arranged adjacently when a read operation is performed in a semiconductor memory device according to an embodiment of the disclosed invention. FIG. 7 is a diagram illustrating a sense amplifier circuit connected to a bit line and a complementary bit line in a semiconductor memory device according to an embodiment of the disclosed invention.

도 5를 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 쓰기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)는 제2 트랜지스터(RTR)의 게이트 노드에 데이터가 충전되도록 선택된 메모리 셀(11a)의 워드 라인(WL)에는 HIGH 신호를 인가하고, 비트 라인(BL)에는 데이터 신호를 인가할 수 있다.Referring to FIG. 5, in a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention, when a write operation is performed, the controller (40) can apply a HIGH signal to a word line (WL) of a selected memory cell (11a) so that data is charged to the gate node of the second transistor (RTR), and can apply a data signal to a bit line (BL).

이를 통해, 데이터를 읽어내는 트랜지스터인 제2 트랜지스터(RTR)의 게이트 노드에 데이터가 충전될 수 있다.Through this, data can be charged to the gate node of the second transistor (RTR), which is a transistor that reads data.

또한, 컨트롤러(40)는 선택되지 않은 메모리 셀(11b)의 워드 라인(WL)에는 LOW신호를 인가할 수 있다.Additionally, the controller (40) can apply a LOW signal to the word line (WL) of an unselected memory cell (11b).

이러한 쓰기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)는 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가할 수 있다.When such a write operation is performed, the controller (40) can apply a HIGH signal to the back gate node of the first transistor (WTR) and a LOW signal to the back gate node of the second transistor (RTR).

이를 통해, 개시된 발명은 쓰기 작업이 수행되는 경우 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 신호를 높게 조절함으로써 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압 Vth를 낮춰 제1 트랜지스터(WTR)의 구동 능력을 향상시키고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 신호를 낮게 조절하여 제2 트랜지스터(RTR)의 문턱 전압 Vth를 높여 다른 메모리 셀로 데이터가 유실되는 것을 방지할 수 있다.Through this, the disclosed invention can improve the driving capability of the first transistor (WTR) by lowering the threshold voltage Vth of the first transistor (WTR) by adjusting the back gate signal of the first transistor (WTR) high when a write operation is performed, and can prevent data from being lost to other memory cells by raising the threshold voltage Vth of the second transistor (RTR) by adjusting the back gate signal of the second transistor (RTR) low.

이에 따라, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 제1 백 게이트 라인과 제2 백 게이트 라인을 통해 데이터를 쓰는 트랜지스터인 제1 트랜지스터(WTR)가 ON 상태일 때 제1 트랜지스터(WTR)의 구동 능력을 높이고, 제1 트랜지스터(WTR)가 OFF 상태일 때는 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압 Vth를 높임으로써 누설 전류에 따른 데이터 손실을 최소화 할 수 있는 기술적 효과가 존재한다.Accordingly, the semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention has a technical effect of minimizing data loss due to leakage current by increasing the driving capability of the first transistor (WTR) when the first transistor (WTR), which is a transistor that writes data through the first back gate line and the second back gate line, is in an ON state, and increasing the threshold voltage Vth of the first transistor (WTR) when the first transistor (WTR) is in an OFF state.

이 때, 백 게이트 라인은 워드 라인, 비트 라인 및 트랜지스터가 배치되는 레이어와 다른 레이어에 배치되므로, 단일 메모리 셀의 면적에 영향을 주지 않는 기술적 효과가 존재한다.At this time, since the back gate line is placed on a different layer from the layer where the word line, bit line, and transistor are placed, there is a technical effect that does not affect the area of a single memory cell.

도 6을 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 읽기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)는 선택된 메모리 셀(11a)의 워드 라인(WL)에는 HIGH 신호를 인가하고, 비트 라인(BL)을 통해 저장된 데이터를 읽어낼 수 있다.Referring to FIG. 6, in a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention, when a read operation is performed, the controller (40) applies a HIGH signal to the word line (WL) of the selected memory cell (11a) and reads stored data through the bit line (BL).

이 때, 비트 라인(BL)에는 도 7에 도시된 센스 앰프 회로(30)가 연결되어 있다.At this time, the sense amplifier circuit (30) shown in Fig. 7 is connected to the bit line (BL).

또한, 컨트롤러(40)는 선택되지 않은 메모리 셀(11b)의 워드 라인(WL)에는 LOW신호를 인가할 수 있다.Additionally, the controller (40) can apply a LOW signal to the word line (WL) of an unselected memory cell (11b).

이러한 읽기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)는 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가할 수 있다.When such a read operation is performed, the controller (40) can apply a LOW signal to the back gate node of the first transistor (WTR) and a HIGH signal to the back gate node of the second transistor (RTR).

이를 통해, 개시된 발명은 읽기 작업이 수행되는 경우, 쓰기 작업이 수행되는 경우와 반대로, 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 신호를 낮게 조절함으로써 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압 Vth를 높여 제1 트랜지스터(WTR)의 데이터 유실을 방지하고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 신호를 높게 조절하여 제2 트랜지스터(RTR)의 문턱 전압 Vth를 낮춰 제2 트랜지스터(RTR)의 구동 능력을 향상시킬 수 있다.Through this, the disclosed invention can prevent data loss of the first transistor (WTR) by lowering the back gate signal of the first transistor (WTR) when a read operation is performed, as opposed to when a write operation is performed, thereby increasing the threshold voltage Vth of the first transistor (WTR), and can improve the driving capability of the second transistor (RTR) by lowering the back gate signal of the second transistor (RTR) when a read operation is performed, as opposed to when a write operation is performed.

이에 따라, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 제1 백 게이트 라인과 제2 백 게이트 라인을 통해 데이터를 쓰는 트랜지스터인 제1 트랜지스터(WTR)가 ON 상태일 때 제1 트랜지스터(WTR)의 구동 능력을 높이고, 제1 트랜지스터(WTR)가 OFF 상태일 때는 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압 Vth를 높임으로써 누설 전류에 따른 데이터 손실을 최소화 할 수 있는 기술적 효과가 존재한다.Accordingly, the semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention has a technical effect of minimizing data loss due to leakage current by increasing the driving capability of the first transistor (WTR) when the first transistor (WTR), which is a transistor that writes data through the first back gate line and the second back gate line, is in an ON state, and increasing the threshold voltage Vth of the first transistor (WTR) when the first transistor (WTR) is in an OFF state.

이 때, 백 게이트 라인은 워드 라인, 비트 라인 및 트랜지스터가 배치되는 레이어와 다른 레이어에 배치되므로, 단일 메모리 셀의 면적에 영향을 주지 않는 기술적 효과가 존재한다.At this time, since the back gate line is placed on a different layer from the layer where the word line, bit line, and transistor are placed, there is a technical effect that does not affect the area of a single memory cell.

도 7을 참조하면, DRAM (Dynamic Random Access Memory) 구조에서 센스 앰프 회로(30)는 CSA(Column Sense Amplifier, 이하 센스 앰프 회로로 명명)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7, in a DRAM (Dynamic Random Access Memory) structure, a sense amplifier circuit (30) may include a CSA (Column Sense Amplifier, hereinafter referred to as a sense amplifier circuit).

이러한 센스 앰프 회로(30)는 DRAM 셀로부터 읽은 데이터를 증폭하여 외부 회로로 전달할 수 있다.This sense amplifier circuit (30) can amplify data read from a DRAM cell and transmit it to an external circuit.

또한, 센스 앰프 회로(30)는 각 열의 데이터를 측정하고, 그 값을 증폭하여 잡음에 대응하고 데이터를 외부에 전달할 수 있다. Additionally, the sense amplifier circuit (30) can measure data of each column, amplify the value to respond to noise, and transmit the data to the outside.

이러한 센스 앰프 회로(30)는 비트 라인 및 상보적 비트 라인에 연결되고, 복수의 트랜지스터와 1세트의 연결 라인을 포함할 수 있다.This sense amplifier circuit (30) is connected to a bit line and a complementary bit line, and may include a plurality of transistors and a set of connection lines.

도 8은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구동 방법을 나타낸 순서도이다.FIG. 8 is a flowchart illustrating a method for driving a semiconductor memory device according to one embodiment of the disclosed invention.

도 8을 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 구동 방법은 복수의 메모리 셀 중 선택 메모리 셀을 결정하는 단계(S110)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8, a method for driving a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a step (S110) of determining a selected memory cell among a plurality of memory cells.

보다 상세하게는, 복수의 메모리 셀 중 선택 메모리 셀을 결정하는 단계(S110)는 선택 메모리 셀의 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하는 단계를 포함할 수 있다.More specifically, the step (S110) of determining a selected memory cell among a plurality of memory cells may include a step of applying a HIGH signal to a word line of the selected memory cell.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 구동 방법은 선택된 메모리 셀(11a)에 데이터를 저장하는 쓰기 작업(WRITE OPERATION)을 수행하는 단계(S120)를 포함할 수 있다.A method for driving a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a step (S120) of performing a write operation (WRITE OPERATION) for storing data in a selected memory cell (11a).

보다 상세하게는, 선택된 메모리 셀(11a)에 데이터를 저장하는 쓰기 작업(WRITE OPERATION)을 수행하는 단계(S120)는 선택된 메모리 셀(11a)의 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고, 비트 라인으로 데이터 신호를 인가하는 단계를 포함할 수 있다.More specifically, the step (S120) of performing a write operation (WRITE OPERATION) to store data in the selected memory cell (11a) may include a step of applying a HIGH signal to a word line of the selected memory cell (11a) and applying a data signal to a bit line.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 구동 방법은 선택된 메모리 셀(11a)에 저장된 데이터를 읽어내는 읽기 작업(READ OPERATION)을 수행하는 단계(S130)를 포함할 수 있다.A method for driving a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a step (S130) of performing a read operation (READ OPERATION) for reading data stored in a selected memory cell (11a).

보다 상세하게는, 선택된 메모리 셀(11a)에 저장된 데이터를 읽어내는 읽기 작업(READ OPERATION)을 수행하는 단계(S130)는 선택된 메모리 셀(11a)의 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고, 비트 라인을 통해 저장된 데이터를 읽어내는 단계를 포함할 수 있다.More specifically, the step (S130) of performing a read operation (READ OPERATION) to read data stored in the selected memory cell (11a) may include a step of applying a HIGH signal to a word line of the selected memory cell (11a) and reading the stored data through a bit line.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 구동 방법은 선택된 메모리 셀(11a)의 쓰기 작업(WRITE OPERATION) 및 읽기 작업(READ OPERATION)에 따라 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계(S140)를 포함할 수 있다.A method for driving a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention may include a step (S140) of adjusting a threshold voltage of a transistor according to a write operation and a read operation of a selected memory cell (11a).

보다 상세하게는, 선택된 메모리 셀(11a)의 쓰기 작업(WRITE OPERATION) 및 읽기 작업(READ OPERATION)에 따라 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계(S140)는 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인(BG) 및 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인(BG2)을 이용하여 각각의 트랜지스터에 백 게이트 신호를 인가하는 단계를 포함할 수 있다.More specifically, the step (S140) of controlling the threshold voltage of the transistor according to the write operation (WRITE OPERATION) and read operation (READ OPERATION) of the selected memory cell (11a) may include a step of applying a back gate signal to each transistor using a first back gate line (BG) connected to the back gate node of the first transistor (WTR) and a second back gate line (BG2) connected to the back gate node of the second transistor (RTR).

예를 들어, 선택된 메모리 셀(11a)의 쓰기 작업(WRITE OPERATION) 및 읽기 작업(READ OPERATION)에 따라 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계(S140)는 메모리 셀의 쓰기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)가 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하는 단계를 포함할 수 있다.For example, the step (S140) of adjusting the threshold voltage of the transistor according to the write operation (WRITE OPERATION) and read operation (READ OPERATION) of the selected memory cell (11a) may include a step of the controller (40) applying a HIGH signal to the back gate node of the first transistor (WTR) and applying a LOW signal to the back gate node of the second transistor (RTR) when the write operation of the memory cell is performed.

또한, 선택된 메모리 셀(11a)의 쓰기 작업(WRITE OPERATION) 및 읽기 작업(READ OPERATION)에 따라 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계(S140)는 메모리 셀의 읽기 작업이 수행되는 경우, 컨트롤러(40)가 제1 트랜지스터(WTR)의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하고, 제2 트랜지스터(RTR)의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the step (S140) of adjusting the threshold voltage of the transistor according to the write operation and read operation of the selected memory cell (11a) may include a step of the controller (40) applying a LOW signal to the back gate node of the first transistor (WTR) and applying a HIGH signal to the back gate node of the second transistor (RTR) when the read operation of the memory cell is performed.

이에 따라, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)의 구동 방법은 제1 백 게이트 라인과 제2 백 게이트 라인을 통해 데이터를 쓰는 트랜지스터인 제1 트랜지스터(WTR)가 ON 상태일 때 제1 트랜지스터(WTR)의 구동 능력을 높이고, 제1 트랜지스터(WTR)가 OFF 상태일 때는 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압 Vth를 높임으로써 누설 전류에 따른 데이터 손실을 최소화 할 수 있는 기술적 효과가 존재한다.Accordingly, a method for driving a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention has a technical effect of minimizing data loss due to leakage current by increasing the driving capability of the first transistor (WTR), which is a transistor that writes data through the first back gate line and the second back gate line, when the first transistor (WTR) is in an ON state, and increasing the threshold voltage Vth of the first transistor (WTR) when the first transistor (WTR) is in an OFF state.

이 때, 백 게이트 라인은 워드 라인, 비트 라인 및 트랜지스터가 배치되는 레이어와 다른 레이어에 배치되므로, 단일 메모리 셀의 면적에 영향을 주지 않는 기술적 효과가 존재한다.At this time, since the back gate line is placed on a different layer from the layer where the word line, bit line, and transistor are placed, there is a technical effect that does not affect the area of a single memory cell.

도 9는 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 쓰기 작업 수행 시 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다. 도 10은 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 읽기 작업 수행 시 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다.FIG. 9 is a diagram showing simulation results when a write operation is performed on a semiconductor memory device according to an embodiment of the disclosed invention. FIG. 10 is a diagram showing simulation results when a read operation is performed on a semiconductor memory device according to an embodiment of the disclosed invention.

도 9를 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 쓰기 작업 수행 시, 워드 라인(WL)과 비트 라인(BL)에 HIGH 신호가 인가된 이후 제1 트랜지스터(WTR)의 소스-드레인 전압(Vst)이 낮아지는 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 9, in a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention, it can be confirmed that the source-drain voltage (Vst) of the first transistor (WTR) decreases after a HIGH signal is applied to the word line (WL) and the bit line (BL) when a write operation is performed.

따라서, 개시된 발명은 메모리 셀의 데이터 쓰기 작업 수행 시 제1 트랜지스터(WTR)의 문턱 전압을 조절하여 제1 트랜지스터(WTR)의 구동 능력을 높일 수 있다.Accordingly, the disclosed invention can increase the driving capability of the first transistor (WTR) by controlling the threshold voltage of the first transistor (WTR) when performing a data write operation of a memory cell.

도 10을 참조하면, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 읽기 작업 수행 시, 메모리 셀에서 데이터를 읽어오기 위한 제2 트랜지스터(RTR)의 전류 Irtr가 종래 기술에 비해 증가한 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 10, it can be confirmed that in a semiconductor memory device (100) according to one embodiment of the disclosed invention, when a read operation is performed, the current Irtr of the second transistor (RTR) for reading data from a memory cell has increased compared to the prior art.

개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 메모리 셀을 구성하는 트랜지스터의 구동 능력을 백 게이트 라인을 통해 조절함으로써 누설 전류를 최소화 하고 구동 능력이 향상되는 장점이 존재한다.A semiconductor memory device and a driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have the advantage of minimizing leakage current and improving driving ability by controlling the driving ability of a transistor constituting a memory cell through a back gate line.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 2개의 트랜지스터를 이용하여 메모리 셀을 구성하되 각각의 트랜지스터가 비트 라인과 워드 라인을 공유하는 형태로 구성하여 면적이 감소될 수 있는 장점이 존재한다.In addition, the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have the advantage of being able to reduce the area by configuring a memory cell using two transistors, but configuring it in a form in which each transistor shares a bit line and a word line.

또한, 개시된 발명의 일 실시예에 따른 반도체 메모리 장치 및 이의 구동 방법은 트랜지스터의 백 게이트 라인을 워드 라인 및 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치시켜 면적 효율성이 증대될 수 있는 장점이 존재한다.In addition, the semiconductor memory device and the driving method thereof according to one embodiment of the disclosed invention have an advantage in that area efficiency can be increased by positioning the back gate line of the transistor in a lower layer of the layer where the word line and bit line are positioned.

이상에서 설명된 장치는 하드웨어 구성요소, 소프트웨어 구성요소, 및/또는 하드웨어 구성요소 및 소프트웨어 구성요소의 조합으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 실시예들에서 설명된 장치 및 구성요소는, 예를 들어, 프로세서, 컨트롤러, ALU(arithmetic logic unit), 디지털 신호 프로세서(digital signal processor), 마이크로컴퓨터, FPA(field programmable array), PLU(programmable logic unit), 마이크로프로세서, 또는 명령(instruction)을 실행하고 응답할 수 있는 다른 어떠한 장치와 같이, 하나 이상의 범용 컴퓨터 또는 특수 목적 컴퓨터를 이용하여 구현될 수 있다. 처리 장치는 운영 체제(OS) 및 운영 체제 상에서 수행되는 하나 이상의 소프트웨어 애플리케이션을 수행할 수 있다. 또한, 처리 장치는 소프트웨어의 실행에 응답하여, 데이터를 접근, 저장, 조작, 처리 및 생성할 수도 있다. 이해의 편의를 위하여, 처리 장치는 하나가 사용되는 것으로 설명된 경우도 있지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 처리 장치가 복수 개의 처리 요소(processing element) 및/또는 복수 유형의 처리 요소를 포함할 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 처리 장치는 복수 개의 프로세서 또는 하나의 프로세서 및 하나의 컨트롤러를 포함할 수 있다. 또한, 병렬 프로세서(parallel processor)와 같은, 다른 처리 구성(processing configuration)도 가능하다.The devices described above may be implemented as hardware components, software components, and/or a combination of hardware components and software components. For example, the devices and components described in the embodiments may be implemented using one or more general-purpose computers or special-purpose computers, such as, for example, a processor, a controller, an arithmetic logic unit (ALU), a digital signal processor, a microcomputer, a field programmable array (FPA), a programmable logic unit (PLU), a microprocessor, or any other device capable of executing instructions and responding to them. The processing device may execute an operating system (OS) and one or more software applications running on the operating system. Furthermore, the processing device may access, store, manipulate, process, and generate data in response to the execution of the software. For ease of understanding, the processing device is sometimes described as being used singly; however, those skilled in the art will appreciate that the processing device may include multiple processing elements and/or multiple types of processing elements. For example, the processing device may include multiple processors, or one processor and one controller. Additionally, other processing configurations, such as parallel processors, are also possible.

소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치에 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.Software may include a computer program, code, instructions, or a combination of one or more of these, which may configure a processing device to perform a desired operation or may independently or collectively command the processing device. The software and/or data may be embodied in any type of machine, component, physical device, virtual equipment, computer storage medium, or device for interpretation by the processing device or for providing instructions or data to the processing device. The software may also be distributed over networked computer systems and stored or executed in a distributed manner. The software and data may be stored on one or more computer-readable recording media.

실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disK)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다.The method according to the embodiment may be implemented in the form of program commands that can be executed through various computer means and recorded on a computer-readable medium. The computer-readable medium may include program commands, data files, data structures, etc., alone or in combination. The program commands recorded on the medium may be those specially designed and configured for the embodiment or may be those known and available to those skilled in the art of computer software. Examples of the computer-readable recording medium include magnetic media such as hard disks, floppy disks, and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, magneto-optical media such as floptical disks, and hardware devices specially configured to store and execute program commands such as ROMs, RAMs, and flash memories. Examples of program commands include not only machine language codes such as those generated by a compiler, but also high-level language codes that can be executed by a computer using an interpreter, etc.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. 그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다. Although the embodiments have been described with limited examples and drawings, those skilled in the art will appreciate that various modifications and variations can be made based on the above teachings. For example, appropriate results can be achieved even if the described techniques are performed in a different order than described, and/or components of the described systems, structures, devices, circuits, etc. are combined or combined in a different manner than described, or are replaced or substituted with other components or equivalents. Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents of the claims also fall within the scope of the claims described below.

100; 반도체 메모리 장치
10; 메모리 셀 어레이
11; 메모리 셀
20; 워드 라인 구동 회로
30; 센스 앰프 회로
40; 컨트롤러
WTR; 제1 트랜지스터
RTR; 제2 트랜지스터
WL; 워드 라인
BL; 비트 라인
BG; 제1 백 게이트 라인
BG2; 제2 백 게이트 라인
100; semiconductor memory device
10; memory cell array
11; memory cell
20; Word line driver circuit
30; Sense amplifier circuit
40; controller
WTR; first transistor
RTR; second transistor
WL; word line
BL; bit line
BG; 1st Back Gate Line
BG2; 2nd Back Gate Line

Claims (15)

복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되는 복수의 메모리 셀을 포함하는 메모리 셀 어레이;
상기 복수의 워드 라인에 연결되는 워드 라인 구동 회로;
상기 복수의 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로; 및
상기 복수의 워드라인과 상기 복수의 비트라인에 인가되는 신호를 생성하는 컨트롤러;를 포함하고,
상기 복수의 메모리 셀 각각은
메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되는 제1 트랜지스터; 및
상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 상기 제1트랜지스터의 타 단에 게이트 노드가 연결되고, 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되는 제2 트랜지스터;를 포함하고,
상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
A memory cell array comprising a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines;
A word line driving circuit connected to the plurality of word lines;
a sense amplifier circuit connected to the plurality of bit lines; and
a controller that generates signals applied to the plurality of word lines and the plurality of bit lines;
Each of the above plurality of memory cells
A first transistor having a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in a memory cell; and
A second transistor having a gate node connected to the other end of the first transistor to read data stored in the memory cell, one end connected to the bit line, and the other end connected to the word line;
The first transistor and the second transistor are characterized in that they are composed of four-terminal elements including a back gate node.
Semiconductor memory devices.
제1항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 각각의 백 게이트 노드를 통해 문턱 전압이 조절되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the first paragraph,
The first transistor and the second transistor are characterized in that their threshold voltages are controlled through their respective back gate nodes.
Semiconductor memory devices.
제2항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터가 ON되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 낮아지고, 상기 제1 트랜지스터가 OFF되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 높아지는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the second paragraph,
Characterized in that when the first transistor is turned on, the threshold voltage of the first transistor is lowered, and when the first transistor is turned off, the threshold voltage of the first transistor is higher.
Semiconductor memory devices.
제1항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인 및 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인은 상기 워드 라인 및 상기 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the first paragraph,
The first back gate line connected to the back gate node of the first transistor and the second back gate line connected to the back gate node of the second transistor are characterized in that they are located in a lower layer of the layer where the word line and the bit line are located.
Semiconductor memory devices.
제1항에 있어서,
상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 데이터가 충전되도록 상기 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고 상기 비트 라인에 데이터 신호를 인가하며, 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the first paragraph,
When a write operation of the memory cell is performed, the controller applies a HIGH signal to the word line and a data signal to the bit line so that data is charged to the gate node of the second transistor, applies a HIGH signal to the back gate node of the first transistor, and applies a LOW signal to the back gate node of the second transistor.
Semiconductor memory devices.
제5항에 있어서,
상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 낮아지는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In paragraph 5,
Characterized in that when a write operation of the above memory cell is performed, the threshold voltage of the first transistor is lowered.
Semiconductor memory devices.
제1항에 있어서,
상기 메모리 셀의 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 워드 라인에 HIGH 신호를 인가하고 상기 비트 라인을 통해 저장된 데이터를 읽어내며, 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the first paragraph,
When a read operation of the memory cell is performed, the controller applies a HIGH signal to the word line and reads stored data through the bit line, applies a LOW signal to the back gate node of the first transistor, and applies a HIGH signal to the back gate node of the second transistor.
Semiconductor memory devices.
제7항에 있어서,
상기 메모리 셀의 읽기 작업(read operation)이 수행되는 경우 상기 제1 트랜지스터의 문턱 전압이 높아지는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In paragraph 7,
Characterized in that when a read operation of the memory cell is performed, the threshold voltage of the first transistor increases.
Semiconductor memory devices.
제1항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 상기 워드 라인과 상기 비트 라인을 공유하고, 상기 메모리 셀은 2-WIRE 구조인 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In the first paragraph,
The first transistor and the second transistor share the word line and the bit line, and the memory cell is characterized by a 2-WIRE structure.
Semiconductor memory devices.
복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되고, 제1 트랜지스터 및 상기 제1 트랜지스터에 게이트 노드가 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하는 복수의 메모리 셀을 포함하는 메모리 셀 어레이;
상기 복수의 워드 라인에 연결되는 워드 라인 구동 회로;
상기 복수의 비트 라인에 연결되는 센스 앰프 회로; 및
상기 복수의 워드라인과 상기 복수의 비트라인에 신호를 인가하도록 구성되고, 상기 복수의 메모리 셀 각각의 쓰기 작업(write operation) 및 읽기 작업(read operation)에 따라 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하도록 구성되는 컨트롤러;를 포함하며,
상기 제1 트랜지스터는 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되고,
상기 제2 트랜지스터는 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되어 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 구성되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
A memory cell array comprising a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines, the memory cells including a first transistor and a second transistor having a gate node connected to the first transistor;
A word line driving circuit connected to the plurality of word lines;
a sense amplifier circuit connected to the plurality of bit lines; and
A controller configured to apply signals to the plurality of word lines and the plurality of bit lines, and configured to adjust threshold voltages of the first transistor and the second transistor according to a write operation and a read operation of each of the plurality of memory cells;
The first transistor has a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in a memory cell,
The second transistor is characterized in that one end is connected to the bit line and the other end is connected to the word line to read data stored in the memory cell.
Semiconductor memory devices.
삭제delete 제10항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터는 백 게이트 노드를 포함하는 4단자 소자로 구성되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In Article 10,
The first transistor and the second transistor are characterized in that they are composed of four-terminal elements including a back gate node.
Semiconductor memory devices.
제12항에 있어서,
상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제1 백 게이트 라인 및 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드와 연결되는 제2 백 게이트 라인은 상기 워드 라인 및 상기 비트 라인이 위치하는 레이어의 하부 레이어에 위치되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In paragraph 12,
The first back gate line connected to the back gate node of the first transistor and the second back gate line connected to the back gate node of the second transistor are characterized in that they are located in a lower layer of the layer where the word line and the bit line are located.
Semiconductor memory devices.
제12항에 있어서,
상기 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation)이 수행되는 경우, 상기 컨트롤러는 상기 제1 트랜지스터의 백 게이트 노드에 HIGH 신호를 인가하고, 상기 제2 트랜지스터의 백 게이트 노드에 LOW 신호를 인가하는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치.
In Article 12,
When a write operation of the memory cell is performed, the controller is characterized in that it applies a HIGH signal to the back gate node of the first transistor and applies a LOW signal to the back gate node of the second transistor.
Semiconductor memory devices.
복수의 워드 라인들 및 복수의 비트 라인들에 연결되고, 제1 트랜지스터 및 상기 제1 트랜지스터에 게이트 노드가 연결되는 제2 트랜지스터를 포함하는 복수의 메모리 셀 중 하나의 메모리 셀을 선택하는 단계;
상기 선택된 메모리 셀에 데이터를 저장하는 쓰기 작업(write operation)을 수행하는 단계;
상기 선택된 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내는 읽기 작업(read operation)을 수행하는 단계; 및
상기 선택된 메모리 셀의 쓰기 작업(write operation) 및 읽기 작업(read operation)에 따라 상기 제1 트랜지스터와 상기 제2 트랜지스터의 문턱 전압을 조절하는 단계;를 포함하며,
상기 제1 트랜지스터는 메모리 셀에 데이터를 저장하도록 게이트 노드가 워드 라인과 연결되고 일 단이 비트 라인과 연결되고,
상기 제2 트랜지스터는 일 단이 상기 비트 라인에 연결되고 타 단이 상기 워드 라인에 연결되어 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어내도록 구성되는 것을 특징으로 하는,
반도체 메모리 장치의 구동 방법.
A step of selecting one memory cell from among a plurality of memory cells, the memory cells being connected to a plurality of word lines and a plurality of bit lines, and including a first transistor and a second transistor having a gate node connected to the first transistor;
A step of performing a write operation to store data in the selected memory cell;
A step of performing a read operation to read data stored in the selected memory cell; and
A step of controlling the threshold voltages of the first transistor and the second transistor according to a write operation and a read operation of the selected memory cell;
The first transistor has a gate node connected to a word line and one end connected to a bit line to store data in a memory cell,
The second transistor is characterized in that one end is connected to the bit line and the other end is connected to the word line to read data stored in the memory cell.
A method for driving a semiconductor memory device.
KR1020240064415A 2024-05-17 2024-05-17 Semiconductor memory device and driviing method thereof Active KR102903506B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020240064415A KR102903506B1 (en) 2024-05-17 2024-05-17 Semiconductor memory device and driviing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020240064415A KR102903506B1 (en) 2024-05-17 2024-05-17 Semiconductor memory device and driviing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20250164976A KR20250164976A (en) 2025-11-25
KR102903506B1 true KR102903506B1 (en) 2025-12-23

Family

ID=97877801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020240064415A Active KR102903506B1 (en) 2024-05-17 2024-05-17 Semiconductor memory device and driviing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102903506B1 (en)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101979758B1 (en) * 2010-08-27 2019-05-17 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Memory device and semiconductor device
KR101124884B1 (en) 2010-09-02 2012-03-27 (주)웅진씽크빅 method for binding pasteboard
CN110402497B (en) * 2017-03-29 2024-08-06 株式会社半导体能源研究所 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20250164976A (en) 2025-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7154788B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
US7969808B2 (en) Memory cell structures, memory arrays, memory devices, memory controllers, and memory systems, and methods of manufacturing and operating the same
US20120176829A1 (en) Semiconductor memory device with ferroelectric device and refresh method thereof
CN107610732A (en) Memory device and its operating method
US8139404B2 (en) Semiconductor memory device
US9754664B2 (en) Semiconductor memory
US9990975B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory
JP2003346473A (en) Thin film magnetic storage device
JP2015079869A (en) Memory device and access method
US9318178B2 (en) Semiconductor storage device and data processing method
CN101393770B (en) Memory cell structures, devices, controllers, , and method for manufacturing and operating the same
JP6746522B2 (en) Semiconductor memory device
US8947950B2 (en) Semiconductor device
KR102903506B1 (en) Semiconductor memory device and driviing method thereof
TWI828179B (en) Memory device having sub wordline driver
CN108701077B (en) Memory components with efficient write operations
KR20250167681A (en) Multi-level memory device using oxide semiconductor
CN118412014B (en) Storage unit, storage array, electronic device and data processing method
US9460779B2 (en) Memory sensing method using one-time sensing table and associated memory device
US20240412773A1 (en) Semiconductor memory devices having enhanced sub-word line drivers therein
KR20260009072A (en) Memory device and refresh method thereof
KR20230172994A (en) Semiconducter device
KR20230108676A (en) Memory Device and Method of Operation thereof
JP2021170425A (en) Semiconductor storage device

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

E13-X000 Pre-grant limitation requested

St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

D22 Grant of ip right intended

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-1-2-D10-D22-EXM-PE0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

Q12 Application published

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-1-1-Q10-Q12-NAP-PG1501 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

F11 Ip right granted following substantive examination

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-4-F10-F11-EXM-PR0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

U11 Full renewal or maintenance fee paid

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-2-U10-U11-OTH-PR1002 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

Year of fee payment: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

Q13 Ip right document published

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-4-4-Q10-Q13-NAP-PG1601 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)