[go: up one dir, main page]

KR102900929B1 - 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법 - Google Patents

고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법

Info

Publication number
KR102900929B1
KR102900929B1 KR1020240103450A KR20240103450A KR102900929B1 KR 102900929 B1 KR102900929 B1 KR 102900929B1 KR 1020240103450 A KR1020240103450 A KR 1020240103450A KR 20240103450 A KR20240103450 A KR 20240103450A KR 102900929 B1 KR102900929 B1 KR 102900929B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glass fiber
mol
low
glass
cao
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020240103450A
Other languages
English (en)
Inventor
김진호
이지선
Original Assignee
한국세라믹기술원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국세라믹기술원 filed Critical 한국세라믹기술원
Priority to KR1020240103450A priority Critical patent/KR102900929B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102900929B1 publication Critical patent/KR102900929B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/07—Controlling or regulating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합한 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 SiO2 50 ~ 70 mol%; Al2O3 5 ~ 15 mol%; B2O3 10 ~ 30 mol%; CaO 10 ~ 15mol%; 및 BaO 0.1 ~ 5 mol%;를 포함하며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖는 것을 특징으로 한다.

Description

고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법{LOW-DIELECTRIC GLASS FIBER WITH HIGH TRANSMITTANCE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF}
본 발명은 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합한 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
유리섬유는 무기섬유로서 결정이 존재하지 않는 유리질의 규사, 알루미나 등의 원료로 열처리 공정을 거쳐 섬유상으로 제조한 실 형태의 유리 제품이다.
이러한 유리섬유는 섬유의 가공 형태에 따라 크게 실 형태인 원사형과 원단 형태인 직물형이 포함되며, 원사형의 경우 섬유의 길이에 따라 장섬유와 단섬유로 세분화 된다.
장섬유은 고온에서 용융된 유리물이 부싱(bushing)을 통과하여 고속으로 인장시켜 권취한 것으로 제품상에서는 글라스 얀(Glass yarn)과 글라스 로빙(Glass roving)으로 분류될 수 있다.
단섬유는 원료를 고온에서 녹여 액화한 후 고속 회전체와 접속시켜 섬유화되는데, 섬유화시 분사된 바인더를 경화시켜서 여러 형태의 단열재로 생산하며, 필요에 따라 다양한 부착물을 제품 표면에 부착시켜 보드 또는 블랑켓 형태의 단열재 등으로 사용되는 유리솜(glass wool)을 의미한다.
유리의 종류에 따라 분류하면, E-글래스(E-glass)는 전기적 물성, 내구성, 강도 등 일반 용도에 적합한 조성의 유리이고, AR-글래스(AR-glass)는 알칼리 침식에 강한 조성의 유리이며, C-글래스(C-glass)는 산 침식에 강한 조성의 유리이고, D-글래스(D-glass)는 낮은 유전율을 가진 조성의 유리이며, R-글래스(R-glass)는 높은 인장강도와 산에 침식되지 않는 조성의 유리이고, S-글래스(S-glass)는 높은 인장강도, 탄성률, 사용온도가 높은 조성의 유리이다.
초고속 통신 기판용 복합소재 기술은 통신의 고속 및 대용량화와 밀리미터파대의 이용 확대에 따라 광대역 고속 신호를 손실 없이 전달하기 위하여 유전율을 낮춰 유전손실을 줄이면서 기판 두께를 줄이는 기술이 필요하다. 초고속 통신용 기판(PCB)을 생산하기 위해서는 다양한 저유전율 소재가 필요하며, 특히 핵심소재인 10㎛ 이하의 저유전 유리섬유 제조에 관한 핵심기술 확보가 필요하다.
인쇄회로기판의 주소재인 CCL(copper clad laminate)을 제조하기 위한 핵심 원소재인 유리섬유, 수지, 필러, 난연제 등은 대부분이 수입에 의존하고 있으므로 핵심소재의 국산화를 해결하기 위해서는 10㎛ 이하의 저유전율 유리섬유가 필수적이다.
그러나, 국내에는 아직 15㎛ 이상의 E-글래스 파이버(E-glass fiber) 제조 및 그에 관한 연구가 주를 이루고 있으며, 10㎛ 이하의 저유전 유리섬유 제조기술 개발 연구는 거의 진행되고 있지 않아 일본, 미국 등과의 기술 격차가 심화하고 있다.
5G 통신 이상의 고속 및 대용량화와 밀리미터파대의 이용 확대에 따라, 기판 재료를 중심으로 전자기기 재료로의 저유전성 요구가 높아지고 있는 상황에서 유리섬유 원소재 및 신시장 선점을 위해서는 10㎛ 이하의 저유전 유리섬유 소재에 대한 국산화 개발이 필요한 상황이다.
관련 선행 문헌으로는 대한민국 공개특허공보 제10-2023-0077655호(2023.06.01. 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 미세기포를 포함하는 저유전성 유리섬유 및 이의 제조방법이 기재되어 있다.
본 발명의 목적은 저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합한 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 SiO2 50 ~ 70 mol%; Al2O3 5 ~ 15 mol%; B2O3 10 ~ 30 mol%; CaO 10 ~ 15mol%; 및 BaO 0.1 ~ 5 mol%;를 포함하며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는 0.3 ~ 0.5의 범위를 만족한다.
상기 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는 0.5 ~ 0.9의 범위를 만족한다.
상기 CaO는 11 ~ 13.5mol%로 첨가되는 것이 보다 바람직하다.
상기 BaO는 0.5 ~ 3 mol%로 첨가되는 것이 보다 바람직하다.
상기 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92% 이상을 갖는다.
상기 유리섬유는 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전손실(Df) 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 이다.
상기 유리섬유는 15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26이고, 유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법은 (a) SiO2 50 ~ 70 mol%, Al2O3 5 ~ 15 mol%, B2O3 10 ~ 30 mol%, CaO 10 ~ 15mol% 및 BaO 0.1 ~ 5 mol%를 포함하는 유리 조성물용 배치를 용융하는 단계; (b) 상기 유리 조성물용 배치를 복수의 노즐 구멍이 형성된 구조의 부싱을 이용하여 실 형태로 방사하는 단계; (c) 상기 방사된 실 형태의 용융물을 냉각하는 단계; (d) 상기 냉각된 실 형태의 유리섬유를 개더링슈를 통해 집속하는 단계; 및 (e) 상기 집속된 유리섬유를 권취하는 단계;를 포함하며, 상기 (e) 단계 이후, 상기 유리섬유는 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 (a) 단계에서, 상기 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는 0.3 ~ 0.5의 범위를 만족한다.
상기 (a) 단계에서, 상기 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는 0.5 ~ 0.9의 범위를 만족한다.
상기 (a) 단계에서, 상기 CaO는 11 ~ 13.5mol%로 첨가하는 것이 보다 바람직하다.
상기 (a) 단계에서, 상기 BaO는 0.5 ~ 3 mol%로 첨가하는 것이 보다 바람직하다.
상기 (e) 단계에서, 상기 권취는 1,000 ~ 2,500rpm의 속도로 실시한다.
상기 (e) 단계 이후, 상기 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92% 이상을 갖는다.
상기 (e) 단계 이후, 상기 유리섬유는 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전손실(Dk) 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 이다.
상기 (e) 단계 이후, 상기 유리섬유는 15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26이고, 유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 이다.
본 발명에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합하다.
이 결과, 본 발명에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 유전율을 낮추면서 유리의 용융성을 향상시키기 위해, SiO2-Al2O3-B2O3계 유리 조성물에 CaO 11 ~ 13.5 mol%와 BaO 0.5 ~ 3mol%의 함량비로 최적화하는 것에 의해, 10GHz에서 측정된 유전상수 4.5 이하 및 유전손실 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3의 낮은 유전상수 및 유전손실을 나타내어, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판의 보강제로 사용하기에 적합한 물성을 갖는다.
또한, 본 발명에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 초고속 통신 기판소재 소자에 저유전 특성 유리섬유 소재로 사용이 가능하고, 통신기판용 재료 외에 공기청정필터, 자동차배기필터, 배터리 분리막 등 유리섬유 복합 응용소자 분야에 활용이 가능하다.
따라서, 본 발명에 따르면, 5G 네트워크 등에 광범위하게 적용될 수 있고, 향후 지속적인 수요증가가 예상되는 저유전 유리섬유의 국산화를 통한 수입대체로 핵심 소재의 공급안정성이 확보될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법을 나타낸 공정 순서도.
도 2는 실시예 1에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 3은 실시예 2에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 4는 실시예 3에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 5는 실시예 4에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 6은 실시예 5에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 7은 실시예 6에 따라 제조된 모유리를 나타낸 사진.
도 8은 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 가시광 영역에서의 평균 광투과율 측정 결과를 나타낸 그래프.
도 9는 실시예 1에 따라 제조된 모유리에 대한 XRD 분석 결과를 나타낸 그래프.
도 10은 유전특성 측정시 사용된 유전율 분석기를 나타낸 사진.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
고투과율을 갖는 저유전 유리섬유
본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 SiO2 50 ~ 70 mol%; Al2O3 5 ~ 15 mol%; B2O3 10 ~ 30 mol%; CaO 10 ~ 15mol%; 및 BaO 0.1 ~ 5 mol%;를 포함하며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖는다.
SiO2는 유리를 형성하는 산화물이며, 유리의 골격을 형성하기 위한 성분이다. 또한, SiO2는 그 함량을 조절하여 유리의 점도를 조절하기가 쉽고, 내실투성(resistance to devitrification)을 향상시키기 위해서 유효한 성분이다.
이러한 SiO2의 함량은 50 ~ 70 mol%의 범위인 것이 바람직하고, 55 ~ 65mol%인 것이 보다 바람직하다. SiO2의 함량이 50 mol% 미만으로 너무 적으면 내실투성이 나빠질 수 있고 굴절률이 낮아질 수 있다. 반대로, SiO2의 함량이 70 mol%를 초과하여 너무 많으면 유리전이온도(Tg)나 유리의 점도가 높아지기 쉽고, 미용해물이 발생하기 쉽다.
Al2O3는 유리전이온도와 연화점을 증가시키지만, 화학적 내구성을 증진하는 역할을 한다.
이러한 Al2O3의 함량은 5 ~ 15 mol%의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6 ~ 10 mol%인 것이 좋다. Al2O3의 함량이 5 mol% 미만으로 너무 적을 경우에는 투과율이 개선되지만 화학적 내구성이 감소할 수 있다. 반대로, Al2O3의 함량이 15 mol%를 초과하여 너무 많을 경우에는 화학적 내구성이 증가 하지만 투과율이 좋지 않을 수 있다.
B2O3는 유리전이온도(Tg)를 낮아지게 하고 연화온도도 낮아지게 하는 역할을 한다. 또한, B2O3를 첨가하게 되면, 굴절률은 감소하고 아베수는 증가하는 경향을 나타낸다. 이를 고려하여, B2O3의 함량은 10 ~ 30 mol%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 ~ 25 mol%인 것이 좋다.
이러한 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는 0.3 ~ 0.5의 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
CaO는 내화학적 안정성을 높이고 융점을 낮추는 역할을 한다. 또한, CaO는 유리의 유전율을 낮추는데 기여한다.
이러한 CaO의 함량은 10 ~ 15 mol%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 11 ~ 13.5 mol%인 것이 좋다. CaO의 함량이 10 mol% 미만으로 너무 낮을 경우에는 내화학적 안정성이 낮을 수 있고 높은 온도에서 용융시켜 저유전 유리섬유를 형성해야 하는 단점이 있을 수 있다. 반대로, CaO의 함량이 15 mol%를 초과하여 너무 많으면 화학적 내구성이 증가하지만 투과율이 좋지 않을 수 있다.
이러한 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는 0.5 ~ 0.9의 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
BaO는 유리의 유전율을 낮추면서, 용융성을 향상시키는 역할을 한다. 또한, BaO는 유리의 광투과율을 높이는 역할을 한다.
이러한 BaO의 함량은 0.1 ~ 5 mol%인 것이 바람직하고, 0.5 ~ 3.0 mo%인 것이 보다 바람직하고, 2.0 ~ 3.0 mol%인 것이 가장 바람직하다. BaO의 함량이 0.1 mo% 미만으로 너무 적을 경우에는 유리의 유전율을 낮추면서 투과율을 낮추기 어려울 수 있다. 반대로, BaO의 함량이 5 mol%를 초과하여 너무 많으면 내실투성이 약화되기 쉽다.
전술한 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 SiO2-Al2O3-B2O3계 유리 조성물에 CaO 11 ~ 13.5 mol%와 BaO 0.5 ~ 3mol%의 함량비로 최적화하는 것에 의해, 10GHz에서 측정된 유전상수 값이 4.5 이하를 갖고, 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz에서 측정된 유전손실 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3의 낮은 유전율을 나타낸다.
아울러, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26를 갖고, 유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 를 갖는다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92% 이상, 보다 구체적으로는 평균 광투과율 92 ~ 94%의 우수한 투과율을 나타낸다.
이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합하다.
이 결과, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 유전율을 낮추면서 유리의 용융성을 향상시키기 위해, SiO2-Al2O3-B2O3계 유리 조성물에 CaO 11 ~ 13.5 mol%와 BaO 0.5 ~ 3mol%의 함량비로 최적화하는 것에 의해, 10GHz에서 측정된 유전상수 4.5 이하 및 유전손실 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3의 낮은 유전상수 및 유전손실을 나타내어, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판의 보강제로 사용하기에 적합한 물성을 갖는다.
고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법은 용융 단계(S110), 방사 단계(S120), 냉각 단계(S130), 집속 단계(S140) 및 권취 단계(S150)를 포함한다.
용융
용융 단계(S110)에서는 SiO2 50 ~ 70 mol%, Al2O3 5 ~ 15 mol%, B2O3 10 ~ 30 mol%, CaO 10 ~ 15mol% 및 BaO 0.1 ~ 5 mol%를 포함하는 유리 조성물용 배치를 용융한다.
여기서, SiO2는 유리를 형성하는 산화물이며, 유리의 골격을 형성하기 위한 성분이다. 또한, SiO2는 그 함량을 조절하여 유리의 점도를 조절하기가 쉽고, 내실투성(resistance to devitrification)을 향상시키기 위해서 유효한 성분이다.
이러한 SiO2의 함량은 50 ~ 70 mol%의 범위인 것이 바람직하고, 55 ~ 65mol%인 것이 보다 바람직하다. SiO2의 함량이 50 mol% 미만으로 너무 적으면 내실투성이 나빠질 수 있고 굴절률이 낮아질 수 있다. 반대로, SiO2의 함량이 70 mol%를 초과하여 너무 많으면 유리전이온도(Tg)나 유리의 점도가 높아지기 쉽고, 미용해물이 발생하기 쉽다.
Al2O3는 유리전이온도와 연화점을 증가시키지만, 화학적 내구성을 증진하는 역할을 한다.
이러한 Al2O3의 함량은 5 ~ 15 mol%의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6 ~ 10 mol%인 것이 좋다. Al2O3의 함량이 5 mol% 미만으로 너무 적을 경우에는 투과율이 개선되지만 화학적 내구성이 감소할 수 있다. 반대로, Al2O3의 함량이 15 mol%를 초과하여 너무 많을 경우에는 화학적 내구성이 증가 하지만 투과율이 좋지 않을 수 있다.
B2O3는 유리전이온도(Tg)를 낮아지게 하고 연화온도도 낮아지게 하는 역할을 한다. 또한, B2O3를 첨가하게 되면, 굴절률은 감소하고 아베수는 증가하는 경향을 나타낸다. 이를 고려하여, B2O3의 함량은 10 ~ 30 mol%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 ~ 25 mol%인 것이 좋다.
이러한 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는 0.3 ~ 0.5의 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
CaO는 내화학적 안정성을 높이고 융점을 낮추는 역할을 한다. 또한, CaO는 유리의 유전율을 낮추는데 기여한다.
이러한 CaO의 함량은 10 ~ 15 mol%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 11 ~ 13.5 mol%인 것이 좋다. CaO의 함량이 10 mol% 미만으로 너무 낮을 경우에는 내화학적 안정성이 낮을 수 있고 높은 온도에서 용융시켜 저유전 유리섬유를 형성해야 하는 단점이 있을 수 있다. 반대로, CaO의 함량이 15 mol%를 초과하여 너무 많으면 화학적 내구성이 증가하지만 투과율이 좋지 않을 수 있다.
이러한 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는 0.5 ~ 0.9의 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
BaO는 유리의 유전율을 낮추면서, 용융성을 향상시키는 역할을 한다. 또한, BaO는 유리의 광투과율을 높이는 역할을 한다.
이러한 BaO의 함량은 0.1 ~ 5 mol%인 것이 바람직하고, 0.5 ~ 3.0 mo%인 것이 보다 바람직하고, 2.0 ~ 3.0 mol%인 것이 가장 바람직하다. BaO의 함량이 0.1 mo% 미만으로 너무 적을 경우에는 유리의 유전율을 낮추면서 투과율을 낮추기 어려울 수 있다. 반대로, BaO의 함량이 5 mol%를 초과하여 너무 많으면 내실투성이 약화되기 쉽다.
본 단계에서, 용융은 1,200 ~ 1,400℃에서 30 ~ 90분 동안 실시하는 것이 바람직하고, 1,250 ~ 1,350℃에서 50 ~ 80분 동안 실시하는 것이 보다 바람직하다. 용융 온도가 1,200℃를 미만이거나, 용융 시간이 30분 미만일 경우에는 유리조성물이 충분히 용융되지 못하여 볼혼화될 우려가 있다. 반대로, 용융 온도가 1,400℃를 초과하거나, 용융 시간이 90분을 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 제조 비용 및 시간만을 증가시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 경제적이지 못하다.
방사
방사 단계(S120)에서는 유리 조성물용 배치를 복수의 노즐 구멍이 형성된 구조의 부싱을 이용하여 실 형태로 방사한다.
이러한 방사 단계(S120)시, 유리 조성물용 배치는 부싱 바닥에 있는 노즐 구멍을 통과하여 가느다란 실 형태의 용융물로 방사된다. 고온에서 장기간 사용시 열에 의한 수축 팽창으로 인한 균열 및 처짐 현상 등으로 인한 수명 단축을 개선하기 위하여, 부싱은 백금(Pt)과 로듐(Rh)이 혼합된 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
부싱은 고온에서도 반응하지 않고 용융 온도에서 녹지 않는 재질로 이루어지는 것이 바람직하며, 특히 산소와 반응하지 않고 고온에서도 강도가 유지되는 재질로서 백금(Pt)과 로듐(Rh)의 합금인 것이 바람직하다. 백금(Pt)과 로듐(Rh)의 합금은 백금(Pt)과 로듐(Rh)이 70 : 30 ~ 90 : 10의 중량비로 이루어진 합금일 수 있다.
부싱은 그 단면이 원료 투입부가 넓고 노즐 구멍이 있는 바닥면으로 갈수록 좁아지는 사다리꼴 형상을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 사다리꼴 형상은 유리 용융물의 원활한 하강을 도와주며, 부싱에 일정한 온도 구배를 줄 수도 있다. 극세 유리섬유를 제조하기 위해서는 내부 직경의 영향을 받기 때문에 부싱 노즐의 내부 직경 사이즈(노즐 구멍 사이즈)는 1.5φ ~ 1.9φ가 적합하다. 부싱 노즐의 길이가 짧아지면 용융물의 냉각속도가 짧아져 점도가 낮아지면서 주변 노즐에 뭉치는 현상이 발생할 수 있고, 부싱 노즐의 길이가 길어지면 용융물의 냉각속도가 길어져 점도가 높아지면서 섬유화하기 어려운 단점이 발생할 수 있으며, 이러한 점들을 고려하여 부싱 노즐의 길이는 3 ~ 7㎜인 것이 바람직하다.
부싱 내부에는 망 형태의 스크린을 설치하는 것이 바람직하다. 망 형태의 스크린을 설치함으로써 미용융된 유리물이 걸러짐으로써 균질하게 용융된 용융물만 부싱 노즐을 통과하도록 할 수 있다.
부싱 노즐을 통해서 인출되는 고온의 유리섬유의 급속한 냉각을 시킴과 동시에 고온에 의한 부싱의 열변형을 방지하며, 부싱 표면의 부위별 온도 편차로 인해 생기는 용융물의 점도 변화에 의한 섬유경의 직경, 편차 등을 감소시키기 위하여 부싱 노즐의 사이에 냉각핀을 설치하는 것이 바람직하다. 냉각핀은 열전도율이 좋은 구리 소재에 니켈 도금한 것을 사용하는 것이 바람직하다.
냉각
냉각 단계(S130)에서는 방사된 실 형태의 용융물을 냉각한다.
본 단계에서, 냉각은 노즐을 통과하여 방사되는 용융물을 에어 스프레이(Air spray), 워터 스프레이(Water spray) 또는 이들의 혼합 방식으로 실시될 수 있다.
냉각된 실 형태의 유리섬유에 대하여 사이즈 애플리케이터(Size applicator)를 통해 사이징 공정을 더 수행할 수도 있다. 사이징 공정은 용융된 유리의 섬유화 이후 가공 공정 중에 유리섬유를 보호하고, 건조 이후 가공 과정에서 취급 시 부러짐 등으로 인한 퍼즈 발생 및 복합소재 제조에 따른 기계적 특성을 향상하기 위해서 설계된 배합으로 제조된 사이즈를 유리섬유 표면에 고르게 코팅시켜 주기 위해 실시하는 공정이다.
냉각된 실 형태의 유리섬유를 사이즈 애플리케이터(Size applicator)를 통해 파라핀 및 전분으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 물질로 코팅할 수 있다. 파라핀 또는 전분 이외의 물질로서 실란(Silane) 등을 사용할 수도 있다. 실 형태의 유리섬유에 파라핀, 전분과 같은 사이징제를 코팅시킴으로써 정전기 방지에 의한 마찰을 감소시키고, 유리섬유를 부드럽게 하며, 또한 최종 사용하는 수지와의 결합을 좋게 하여 기능적 특성을 향상시켜 줄 수 있다.
집속
집속 단계(S140)에서는 냉각된 실 형태의 유리섬유를 개더링슈(Gathering shoe)를 통해 집속한다.
개더링슈(Gathering shoe)는 2개의 원형판을 포함하는 형태로 구성되어, 원형
판 사이에 섬유를 모아 집속시키는 형태로 구성될 수 있다.
권취
권취 단계(S150)에서는 집속된 유리섬유를 권취한다.
본 단계에서, 집속된 유리섬유는 1,000 ~ 2,500rpm의 속도로 권취하는 것이 바람직하다. 이러한 권취 속도(와인딩 속도)에 따라 제조되는 저유전 유리섬유의 직경이 결정될 수 있다. 권취 속도가 1,000rpm 미만으로 너무 늦을 경우에는 저유전 유리섬유의 평균 직경 10㎛ 이하로 제조하는 것이 어려울 수 있다. 반대로, 권취 속도가 2,500rpm을 초과하여 너무 빠를 경우에는 생산성은 증가하나 저유전 유리섬유가 끊어질 우려가 있으므로, 바람직하지 못하다.
이상으로, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법이 종료될 수 있다.
전술한 본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조된 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 SiO2-Al2O3-B2O3계 유리 조성물에 CaO 11 ~ 13.5 mol%와 BaO 0.5 ~ 3mol%의 함량비로 최적화하는 것에 의해, 10GHz에서 측정된 유전상수 값이 4.5 이하를 갖고, 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz에서 측정된 유전손실 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3의 낮은 유전율을 나타낸다.
아울러, 본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조된 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26를 갖고, 유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 를 갖는다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조된 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92% 이상, 보다 구체적으로는 평균 광투과율 92 ~ 94%의 우수한 투과율을 나타낸다.
지금까지 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 저유전상수 및 저유전손실을 가지며, 가시광 영역에서의 광 투과율 92% 이상으로 우수한 투과율을 나타내는 것에 의해, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판(printed circuit board) 등에 대한 보강제로 사용하기에 적합하다.
이 결과, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 유전율을 낮추면서 유리의 용융성을 향상시키기 위해, SiO2-Al2O3-B2O3계 유리 조성물에 CaO 11 ~ 13.5 mol%와 BaO 0.5 ~ 3mol%의 함량비로 최적화하는 것에 의해, 10GHz에서 측정된 유전상수 4.5 이하 및 유전손실 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3의 낮은 유전상수 및 유전손실을 나타내어, 초고속 통신에 적용되는 인쇄회로기판의 보강제로 사용하기에 적합한 물성을 갖는다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법은 초고속 통신 기판소재 소자에 저유전 특성 유리섬유 소재로 사용이 가능하고, 통신기판용 재료 외에 공기청정필터, 자동차배기필터, 배터리 분리막 등 유리섬유 복합 응용소자 분야에 활용이 가능하다.
따라서, 본 발명에 따르면, 5G 네트워크 등에 광범위하게 적용될 수 있고, 향후 지속적인 수요증가가 예상되는 저유전 유리섬유의 국산화를 통한 수입대체로 핵심 소재의 공급안정성이 확보될 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 유리 조성
유리섬유를 방사하기 위한 유리조성 배합비는 표 1과 같으며, 유리 용융 시 가스배출, 탈수 현상 향상, 융점을 낮추려는 방법으로 SiO2-Al2O3-B2O3계 유리조성을 설계한 후 유리 용융온도를 낮추기 위해 BaO를 0.5 ~ 3mol%로 달리 배합하여 실시예 1 ~ 6의 유리 조성을 설계하였다.
[표 1]
2. 모유리 제조
표 1에 나타낸 조성과 같이 배치(batch)로 하여 원료를 배합하고 백금 도가니에 담은 후, 1,550℃에서 2시간 동안 용융하여 630℃로 가열된 카본 몰드에 유리 용융물을 부은 다음, 630℃에서 2시간 유지한 후 로냉하여 투명한 모유리를 제조하였다.
3. 광학적 특성 평가
표 2는 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서의 평균 광투과율 측정 결과를 나타낸 것이다. 또한, 도 2 내지 도 7은 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리들을 나타낸 각각의 사진이고, 도 8은 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 가시광 영역에서의 평균 광투과율 측정 결과를 나타낸 그래프이다.
[표 2]
표 2와 도 2 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서의 평균 광투과율 측정 결과가 나타나 있다. 2mm 두께의 시편으로 측정한 실시예 1 ~ 6의 평균 광투과율은 가시광 영역에서 92% 이상의 광투과율을 보여주는 것을 확인할 수 있다.
이와 같이, SiO2-B2O3-Al2O3계의 유리조성에서 주성분으로는 SiO2를 57 mol%, B2O3를 21 mol%, CaO를 11 ~ 13.5mol%, BaO를 0.5 ~ 3mol%의 함량 범위에서 실시예 1 ~ 6의 샘플을 제조한 결과, 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 샘플들 모두 투명한 유리로 제조된 것을 확인할 수 있었다.
위의 실험 결과를 통해 알 수 있듯이, SiO2-Al2O3-B2O3계에 CaO 13.5 mol% 이하 및 BaO 2.5 ~ 3 mol%의 함량으로 첨가된 실시예 1 ~ 2의 조성이 가장 적합한 것을 확인하였다.
4. XRD 분석
도 9는 실시예 1에 따라 제조된 모유리에 대한 XRD 분석 결과를 나타낸 그래프이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 실시예 1에 따라 제조된 모유리에 대하여 유리의 비정질상을 확인하기 위해 X-선회절장치를 사용하여 XRD 분석을 실시하였다.
XRD 분석 결과, 실시예 1에 따라 제조된 모유리 샘플의 피크는 강도(intensity) 값이 작고 백그라운드 강도(background intensity)가 큰 전형적 비정질 패턴을 나타내고 있는 것을 확인하였다.
5. 유전율 분석
표 3은 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 유전율 특성 평가 결과를 나타낸 것이고, 도 10은 유전특성 측정시 사용된 유전율 분석기를 나타낸 사진이다. 여기서, 초고속 통신에 적용되는 PCB에 사용하기 위해서는 유리섬유가 낮은 유전상수(Dk)와 유전손실(Df)을 가져야 한다. 이를 위해, 10GHz 및 15GHz에서의 유전특성을 공진기 방식의 유전율 분석기(Keysight, 8720ES)를 사용하여 측정하였고, 측정된 유전율(Dk) 및 유전손실(Df)을 표 3에 나타내었다.
[표 3]
표 3 및 도 10에 도시된 바와 같이, 실시예 1(KDGCB_B21)에 따라 제조된 모유리의 경우, 10GHz에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 만족하고, 유전손실(Df) 값이 2.0×10-3 ~ 3.0×10-3을 만족하는 것을 확인하였다.
아울러, 실시예 1 ~ 6에 따라 제조된 모유리의 경우, 15GHz에서 측정된 유전상수(Dk) 및 유전손실(Df) 값이 각각 5.04 ~ 5.26 및 1.0×10-3 ~ 3.0×10-3으로 측정되어, 초고속 통신용 저유전 유리조성으로써 충분한 특성이 있음이 확인되었다.
이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.
S110 : 용융 단계
S120 : 방사 단계
S130 : 냉각 단계
S140 : 집속 단계
S150 : 권취 단계

Claims (17)

  1. 인쇄회로기판의 보강제로 사용하기에 적합한 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유로서,
    SiO2 50 ~ 70 mol%;
    Al2O3 5 ~ 15 mol%;
    B2O3 10 ~ 30 mol%;
    CaO 10 ~ 15 mol%; 및
    BaO 2.0 ~ 3.0 mol%;를 포함하며,
    상기 유리섬유는 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖고,
    상기 유리섬유는 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전손실(Df) 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3이고,
    상기 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92 ~ 94%를 갖는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는
    0.3 ~ 0.5의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는
    0.5 ~ 0.9의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 CaO는
    11 ~ 13.5 mol%로 첨가되는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 유리섬유는
    15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26이고,
    유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 인 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유.
  9. 인쇄회로기판의 보강제로 사용하기에 적합한 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법으로서,
    (a) SiO2 50 ~ 70 mol%, Al2O3 5 ~ 15 mol%, B2O3 10 ~ 30 mol%, CaO 10 ~ 15 mol% 및 BaO 2.0 ~ 3.0 mol%를 포함하는 유리 조성물용 배치를 용융하는 단계;
    (b) 상기 유리 조성물용 배치를 복수의 노즐 구멍이 형성된 구조의 부싱을 이용하여 실 형태로 방사하는 단계;
    (c) 상기 방사된 실 형태의 용융물을 냉각하는 단계;
    (d) 상기 냉각된 실 형태의 유리섬유를 개더링슈를 통해 집속하는 단계; 및
    (e) 상기 집속된 유리섬유를 권취하는 단계;를 포함하며,
    상기 (e) 단계 이후, 상기 유리섬유는 10GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 4.5 이하를 갖고,
    상기 유리섬유는 10㎛ 이하의 평균 직경을 가지며, 10GHz의 주파수에서 측정된 유전손실(Df) 값이 2.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3이고,
    상기 유리섬유는 380 ~ 780nm의 가시광 영역에서 측정된 평균 광투과율 92 ~ 94%를 갖는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 B2O3와 SiO2의 몰비(B2O3/SiO2)는
    0.3 ~ 0.5의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 CaO와 B2O3의 몰비(CaO/B2O3)는
    0.5 ~ 0.9의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 CaO는
    11 ~ 13.5 mol%로 첨가하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
  13. 삭제
  14. 제9항에 있어서,
    상기 (e) 단계에서,
    상기 권취는
    1,000 ~ 2,500rpm의 속도로 실시하는 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 제9항에 있어서,
    상기 (e) 단계 이후,
    상기 유리섬유는
    15GHz의 주파수에서 측정된 유전상수(Dk) 값이 5.04 ~ 5.26이고,
    유전손실(Df) 값이 1.0 × 10-3 ~ 3.0 × 10-3 인 것을 특징으로 하는,
    고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 제조 방법.
KR1020240103450A 2024-08-02 2024-08-02 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법 Active KR102900929B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020240103450A KR102900929B1 (ko) 2024-08-02 2024-08-02 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020240103450A KR102900929B1 (ko) 2024-08-02 2024-08-02 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102900929B1 true KR102900929B1 (ko) 2025-12-15

Family

ID=98055877

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020240103450A Active KR102900929B1 (ko) 2024-08-02 2024-08-02 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102900929B1 (ko)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060102332A (ko) * 2003-12-26 2006-09-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리, 그 제조 방법 및 액정 디스플레이 패널
JP4114410B2 (ja) * 2002-06-18 2008-07-09 日本板硝子株式会社 光増幅ガラスファイバ
KR102308652B1 (ko) * 2020-05-27 2021-10-05 코닝 인코포레이티드 높은 탄성 계수 및 경도를 가지는 유리-세라믹
KR20230077655A (ko) * 2021-11-25 2023-06-01 광주과학기술원 미세기포를 포함하는 저유전성 유리섬유 및 이의 제조방법
US20240116800A1 (en) * 2021-06-30 2024-04-11 AGC Inc. Glass plate, laminated glass, window glass for vehicles, and window glass for buildings
KR20240107994A (ko) * 2022-12-30 2024-07-09 한국세라믹기술원 저유전 유리섬유 및 그 제조방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4114410B2 (ja) * 2002-06-18 2008-07-09 日本板硝子株式会社 光増幅ガラスファイバ
KR20060102332A (ko) * 2003-12-26 2006-09-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리, 그 제조 방법 및 액정 디스플레이 패널
KR102308652B1 (ko) * 2020-05-27 2021-10-05 코닝 인코포레이티드 높은 탄성 계수 및 경도를 가지는 유리-세라믹
US20240116800A1 (en) * 2021-06-30 2024-04-11 AGC Inc. Glass plate, laminated glass, window glass for vehicles, and window glass for buildings
KR20230077655A (ko) * 2021-11-25 2023-06-01 광주과학기술원 미세기포를 포함하는 저유전성 유리섬유 및 이의 제조방법
KR20240107994A (ko) * 2022-12-30 2024-07-09 한국세라믹기술원 저유전 유리섬유 및 그 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5655293B2 (ja) ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維及びガラス製シート状物
TWI845709B (zh) 玻璃組成物、玻璃纖維、玻璃布、及玻璃纖維之製造方法
CN102333735B (zh) 玻璃纤维用玻璃组合物、玻璃纤维及玻璃纤维片状物
JP5545590B2 (ja) ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維及びガラス繊維シート状物
JP4244605B2 (ja) ガラス繊維用ガラス組成物
EP0832046B1 (en) Boron-free glass fibers
CN101687691B (zh) 适用于增强有机/无机材料的玻璃丝
JP5809324B2 (ja) 有機物及び／又は無機物を強化できるガラス糸
JP5356683B2 (ja) 有機及び／又は無機材料の強化が可能なガラスストランド
KR101043193B1 (ko) 유기 물질 및/또는 무기 물질 보강용 유리섬유, 이의제조방법 및 상응하는 조성물
EP3967669A1 (en) Glass composition for glass fibers
JP2011105555A (ja) 無機充填材用ガラス組成物、無機充填材及び無機充填材の製造方法
JP2007529401A (ja) 有機及び／又は無機材料を強化することができるガラスストランド
JP7410464B2 (ja) ガラス繊維
KR102900929B1 (ko) 고투과율을 갖는 저유전 유리섬유 및 그 제조 방법
KR102755279B1 (ko) 저유전 유리섬유 및 그 제조방법
CN107382078A (zh) 一种高介电常数低损耗的玻璃纤维
CN115043593A (zh) 一种低介电玻璃纤维组合物及其应用
KR102833628B1 (ko) 인쇄회로기판에 적용 가능한 저유전 유리섬유 및 그 제조방법
KR102918247B1 (ko) 초고속 통신을 위한 인쇄회로기판에 사용 가능한 저유전 유리섬유 및 그 제조방법
WO2023176688A1 (ja) ガラス繊維
KR20250060363A (ko) 초고속 통신을 위한 인쇄회로기판에 사용 가능한 저유전 유리섬유 및 그 제조방법
JPH10231143A (ja) 耐蝕性ガラス繊維
JPH04367537A (ja) ガラス組成物および回路用基板
JP5375407B2 (ja) ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維、ガラス織物、ガラス繊維強化樹脂、金属箔張り積層板及びプリント配線板

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

E13-X000 Pre-grant limitation requested

St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

D22 Grant of ip right intended

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-1-2-D10-D22-EXM-PE0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

F11 Ip right granted following substantive examination

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-4-F10-F11-EXM-PR0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

U11 Full renewal or maintenance fee paid

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-2-U10-U11-OTH-PR1002 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

Year of fee payment: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

Q13 Ip right document published

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-4-4-Q10-Q13-NAP-PG1601 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)