KR102874007B1 - 인덱스 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템 - Google Patents
인덱스 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템Info
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 구성하는 제1 반송 로봇의 기판 반송 방법을 설명하기 위한 제1 예시도이다.
도 3은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 구성하는 제1 반송 로봇의 기판 반송 방법을 설명하기 위한 제2 예시도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 시스템의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 시스템의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 처리 시스템의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 처리 시스템의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
120: 인덱스 모듈 130: 로드락 챔버
140: 트랜스퍼 모듈 150: 공정 챔버
210: 제1 반송 로봇 220: 제2 반송 로봇
230: 컨테이너 240: 레일
310: 버퍼 유닛 320: 정렬 유닛
Claims (10)
- 기판을 탑재한 컨테이너에 안착면을 제공하는 로드 포트 모듈;
상기 기판을 임시 저장하며, 내부 환경을 진공 환경 및 대기압 환경 중 어느 하나로 제어하는 로드락 챔버;
상기 로드 포트 모듈 및 상기 로드락 챔버 간에 상기 기판을 반송하는 인덱스 모듈;
상기 기판을 처리하는 공정 챔버; 및
상기 로드락 챔버 및 상기 공정 챔버 간에 상기 기판을 반송하는 트랜스퍼 모듈을 포함하며,
상기 로드락 챔버, 상기 트랜스퍼 모듈 및 상기 공정 챔버는 상기 인덱스 모듈의 적어도 양측에 배치되어 상기 인덱스 모듈을 공유하고,
상기 인덱스 모듈은,
레일을 따라 이동하며, 로봇 암을 통해 상기 로드 포트 모듈 및 상기 로드락 챔버 간에 상기 기판을 반송하는 제1 반송 로봇; 및
상기 제1 반송 로봇의 엔드 이펙터 상에 안착된 상기 기판을 정렬시키는 정렬 유닛을 포함하고,
상기 정렬 유닛은 상기 로드락 챔버로 향하는 상기 로봇 암의 이동 경로에 인접하여 배치되는 기판 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 인덱스 모듈은, 버퍼 유닛을 더 포함하며,
상기 정렬 유닛은 서로 다른 두 버퍼 유닛 사이에 배치되는 기판 처리 시스템. - 제 2 항에 있어서,
상기 정렬 유닛은 상기 버퍼 유닛으로부터 이격되어 설치되거나, 또는
상기 버퍼 유닛 및 상기 정렬 유닛은 상기 로드락 챔버보다 낮은 위치에 설치되는 기판 처리 시스템. - 제 2 항에 있어서,
상기 버퍼 유닛 및 상기 정렬 유닛은 상기 인덱스 모듈의 내측에 설치되고,
상기 로드 포트 모듈은 상기 인덱스 모듈의 외측에 설치되되,
상기 버퍼 유닛 및 상기 정렬 유닛은 상기 로드 포트 모듈과 동일선상에 설치되는 기판 처리 시스템. - 제 2 항에 있어서,
상기 제1 반송 로봇은 상기 로드 포트 모듈, 상기 버퍼 유닛 및 상기 정렬 유닛에 평행한 방향으로 이동하는 기판 처리 시스템. - 제 2 항에 있어서,
상기 제1 반송 로봇은 복수 개 설치되는 기판 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 인덱스 모듈의 각 측에 배치되는 상기 트랜스퍼 모듈 및 상기 공정 챔버는 쿼트 플랫폼, 클러스터 플랫폼 및 인라인 플랫폼 중 어느 하나의 구조로 형성되는 기판 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 로드 포트 모듈, 상기 로드락 챔버, 상기 인덱스 모듈, 상기 공정 챔버 및 상기 트랜스퍼 모듈을 제어하는 제어 유닛을 더 포함하는 기판 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 로드 포트 모듈은 상기 인덱스 모듈의 양측에 배치되며, 상호 등지게 배열되는 기판 처리 시스템. - 기판을 탑재한 컨테이너에 안착면을 제공하는 로드 포트 모듈 및 상기 기판을 임시 저장하는 로드락 챔버 간에 상기 기판을 반송하는 인덱스 모듈로서,
레일을 따라 이동하며, 로봇 암을 통해 상기 로드 포트 모듈 및 상기 로드락 챔버 간에 상기 기판을 반송하는 제1 반송 로봇; 및
상기 제1 반송 로봇의 엔드 이펙터 상에 안착된 상기 기판을 정렬시키는 정렬 유닛을 포함하고,
상기 로드락 챔버는 상기 인덱스 모듈의 적어도 양측에 배치되어 상기 인덱스 모듈을 공유하고,
상기 정렬 유닛은 상기 로드락 챔버로 향하는 상기 로봇 암의 이동 경로에 인접하여 배치되는 인덱스 모듈.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210099601A KR102874007B1 (ko) | 2021-07-29 | 2021-07-29 | 인덱스 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210099601A KR102874007B1 (ko) | 2021-07-29 | 2021-07-29 | 인덱스 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230017993A KR20230017993A (ko) | 2023-02-07 |
| KR102874007B1 true KR102874007B1 (ko) | 2025-10-20 |
Family
ID=85221455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210099601A Active KR102874007B1 (ko) | 2021-07-29 | 2021-07-29 | 인덱스 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102874007B1 (ko) |
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- 2021-07-29 KR KR1020210099601A patent/KR102874007B1/ko active Active
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|---|---|
| KR20230017993A (ko) | 2023-02-07 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
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| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
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| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
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| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| D22 | Grant of ip right intended |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-1-2-D10-D22-EXM-PE0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
|
| PE0701 | Decision of registration |
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| F11 | Ip right granted following substantive examination |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-4-F10-F11-EXM-PR0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
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| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
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| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
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| U11 | Full renewal or maintenance fee paid |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-2-U10-U11-OTH-PR1002 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) Year of fee payment: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| Q13 | Ip right document published |
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