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KR102838301B1 - 인클로저 시스템 셸프 - Google Patents

인클로저 시스템 셸프

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KR102838301B1
KR102838301B1 KR1020227036627A KR20227036627A KR102838301B1 KR 102838301 B1 KR102838301 B1 KR 102838301B1 KR 1020227036627 A KR1020227036627 A KR 1020227036627A KR 20227036627 A KR20227036627 A KR 20227036627A KR 102838301 B1 KR102838301 B1 KR 102838301B1
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KR
South Korea
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carrier
process kit
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kit ring
enclosure system
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아론 그린
니콜라스 마이클 베르간츠
존 씨. 멘크
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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

하나 이상의 셸프들의 세트가 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된다. 하나 이상의 셸프들의 세트는, 제1 평면에 실질적으로 배치된 제1 상부 표면들, 제1 상부 표면들 상에 캐리어를 정렬하도록 구성된 캐리어 정렬 피처들, 제1 평면 위에 있는 제2 평면에 실질적으로 배치된 제2 상부 표면들, 및 제2 상부 표면들 위에서 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함한다.

Description

인클로저 시스템 셸프
[0001] 본 개시내용의 실시예들은 셸프(shelf)들, 이를테면, 웨이퍼 프로세싱 시스템들과 연관되어 사용되는 셸프들에 관한 것으로, 특히 프로세스 키트 링들 및/또는 프로세스 키트 링들을 위한 캐리어들을 지지하도록 구성된 인클로저 시스템 셸프들에 관한 것이다.
[0002] 반도체 프로세싱 및 다른 전자장치 프로세싱에서는, 프로세싱 챔버들 사이에서, 보관 영역들(예컨대, FOUP(front opening unified pod)들)로부터 프로세싱 챔버들로, 프로세싱 챔버들로부터 보관 영역들로 이런 식으로, 웨이퍼들과 같은 오브젝트들을 수송하기 위해 로봇 암들을 사용하는 플랫폼들이 대개 사용된다. 프로세싱 시스템, 이를테면, 웨이퍼 프로세싱 시스템은 웨이퍼들의 프로세싱을 위한 하나 이상의 프로세싱 챔버들을 갖는다. 프로세싱 챔버에서 웨이퍼를 에칭하기 위해 가스가 사용된다(예컨대, 웨이퍼는 에칭 챔버 내의 제자리에 정전기적으로 클램핑된 동안 에칭됨). 로봇 암들은 특정 위치들로부터 오브젝트들을 픽업(pick up)하고 이 오브젝트들을 다른 특정 위치들로 수송하기 위한 것이다.
[0003] 본 개시내용의 일부 양상들의 기본적인 이해를 제공하기 위해서 다음은 본 개시내용의 간략화된 요약이다. 이 요약은 본 개시내용에 대한 광범위한 개요가 아니다. 이 요약은 본 개시내용의 핵심적인 또는 중대한 엘리먼트들을 식별하는 것으로도, 본 개시내용의 특정 구현들의 임의의 범위 또는 청구항들의 임의의 범위를 기술하는 것으로도 의도되지 않는다. 이 요약의 유일한 목적은, 나중에 제시되는 더욱 상세한 설명에 대한 서론으로서 간략화된 형태로 본 개시내용의 일부 개념들을 제시하는 것이다.
[0004] 본 개시내용의 양상에서, 하나 이상의 셸프들의 세트가 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된다. 하나 이상의 셸프들의 세트는, 제1 평면에 실질적으로 배치된 제1 상부 표면들, 제1 상부 표면들 상에 캐리어를 정렬하도록 구성된 캐리어 정렬 피처(feature)들, 제1 평면 위에 있는 제2 평면에 실질적으로 배치된 제2 상부 표면들, 및 제2 상부 표면들 위에서 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함한다.
[0005] 본 개시내용의 다른 양상에서, 인클로저 시스템은 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템이다. 인클로저 시스템은, 인클로저 시스템의 내부 볼륨을 적어도 부분적으로 둘러싸는 복수의 표면들, 및 인클로저 시스템의 내부 볼륨 내에 적어도 부분적으로 배치된 하나 이상의 셸프들의 세트를 포함한다. 하나 이상의 셸프들의 세트는, 제1 평면에서 하나 이상의 셸프들의 세트 상에 캐리어를 정렬하도록 구성된 복수의 캐리어 정렬 피처들, 및 제1 평면 위의 제2 평면에서 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함한다.
[0006] 본 개시내용의 다른 양상에서, 방법은, 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치된 하나 이상의 셸프들의 세트 위의 포지션으로 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어를 수송하는 단계, 및 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 캐리어가 하나 이상의 셸프들의 세트의 복수의 캐리어 정렬 피처들을 통해 하나 이상의 셸프들의 세트 상에 정렬되게 하는 단계를 포함한다.
[0007] 본 개시내용은 유사한 참조번호들이 유사한 엘리먼트들을 표시하는 첨부된 도면들의 도면들에서 제한이 아닌 예로서 예시된다. 본 개시내용에서 "일" 또는 "하나의" 실시예에 대한 상이한 언급들이 반드시 동일한 실시예에 대한 것은 아니며, 그러한 언급들은 적어도 하나를 의미한다는 것이 주목되어야 한다.
[0008] 도 1은 특정 실시예들에 따른 프로세싱 시스템을 예시한다.
[0009] 도 2는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템의 정면도를 예시한다.
[0010] 도 3a 내지 도 3j는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템의 하나 이상의 셸프들을 예시한다.
[0011] 도 4a 내지 도 4e는 특정 실시예들에 따른 유지 디바이스들을 갖는 셸프를 예시한다.
[0012] 도 5는 특정 실시예들에 따른, 인클로저 시스템의 하나 이상의 셸프들을 사용하는 방법을 예시한다.
[0013] 도 6a 내지 도 6h는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템들의 셸프들을 예시한다.
[0014] 본원에서 설명되는 실시예들은 인클로저 시스템 셸프에 관한 것이다.
[0015] 웨이퍼 프로세싱 시스템은 팩토리 인터페이스 및 이송 챔버를 포함한다. 인클로저 시스템(예컨대, FOUP)은 팩토리 인터페이스에 장착되고, 프로세싱 챔버들은 이송 챔버에 장착된다. 프로세싱 챔버들의 컴포넌트들을 보호하기 위해 프로세싱 챔버들 내에 프로세스 키트 링들이 배치된다. 시간이 지남에 따라, 프로세스 키트 링들은 마모되어지며 그리고 교체되어야 한다.
[0016] 로봇 암들은 웨이퍼 프로세싱 시스템 내에서 내용물(content)을 이송하기 위해 사용된다. 로봇 암들은 인클로저 시스템으로부터, 프로세싱되도록 하나 이상의 프로세싱 챔버들로 그리고 다시 인클로저 시스템으로 웨이퍼들을 이송하기 위해 사용된다. 로봇 암들은 사용된 프로세스 키트 링들을 프로세싱 챔버들로부터 인클로저 시스템으로 수송하기 위해 그리고 인클로저 시스템으로부터 프로세싱 챔버들로 새로운 프로세스 키트 링들을 수송하기 위해 사용된다. 일부 사례들에서, 로봇 암들은 캐리어들(예컨대, 어댑터들)을 사용하여 프로세스 키트 링들을 이송한다. 예컨대, 캐리어가 로봇 암 상에 배치되고, 다른 내용물이 캐리어 상에 배치된다.
[0017] 내용물은 로봇 암들에 의해 특정 위치들에 배치되어야 하며, 특정 위치들로부터 로봇 암들에 의해 픽업되어야 한다. 실시예들에서, 인클로저 시스템은 내용물(예컨대, 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들)을 특정 위치들에 고정한다. 실시예들에서, 내용물을 특정 위치들에 고정함으로써, 소스 위치들로부터 내용물을 픽업하는 로봇 암들의 능력이 증가되고, 이어서 내용물을 특정 타겟 위치들에 배치하는 로봇 암들의 능력이 또한 증가된다.
[0018] 에러가 내용물의 배치에 도입된다. 그러한 에러는 로봇 에러, 챔버들의 서로에 대한 오정렬, 보관 위치들(예컨대, 컨테이너들)에서의 내용물의 부적절한 배치, 및/또는 보관 위치들 내에서의 내용물의 시프팅에 의해 도입될 수 있다. 예컨대, LCF(local center finding) 디바이스, 정렬 디바이스, 로봇 암 등 중 하나 이상은 인클로저 시스템 내에 내용물(예컨대, 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어)의 배치 시에 에러를 도입한다. 일부 사례들에서, 잘못 배치된 내용물은 인클로저 시스템에서 실질적으로 수평이 아니다(예컨대, 지지 구조의 에지 상에 놓임). 일부 사례들에서, 인클로저 시스템은 수송 동안 이러한 잘못 배치된 내용물을 고정할 수 없으며, 이는 내용물의 배치에서의 더 많은 에러, 내용물에 대한 손상, 및/또는 인클로저 시스템에 대한 손상을 유발한다. 일부 사례들에서, 로봇 암은 인클로저 시스템으로부터 잘못 배치된 내용물을 리트리브(retrieve)할 수 없다. 일부 사례들에서, 인클로저 시스템에 잘못 배치된 내용물은 (예컨대, 로봇 암을 통해) 잘못된 배향으로 이송되고, 내용물에 대한 손상, 웨이퍼 프로세싱 시스템에 대한 손상, 내용물의 오정렬, 및/또는 내용물의 잘못된 프로세싱을 유발한다.
[0019] 본원에서 개시되는 디바이스들, 시스템들 및 방법은 프로세싱 시스템(예컨대, 웨이퍼 프로세싱 시스템, 기판 프로세싱 시스템, 반도체 프로세싱 시스템)의 인클로저 시스템(예컨대, FOUP)에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들을 제공한다. 일부 실시예들에서, 단일 셸프가 내용물(예컨대, 캐리어, 캐리어 상에 배치된 프로세스 키트 링, 배치 검증 웨이퍼 등)을 지지하도록 구성된다. 셸프는 제1 부분 및 제2 부분을 포함한다. 제1 부분은 제1 평면에 있는 제1 상부 표면, 제1 평면 위의 제2 평면에 있는 제2 상부 표면, 제1 캐리어 정렬 피처들, 및 제1 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함한다. 제2 부분은 제1 평면에 있는 제3 상부 표면, 제2 평면에 있는 제4 상부 표면, 제2 캐리어 정렬 피처들, 및 제2 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함한다. 제1 및 제2 캐리어 정렬 피처들은 제1 및 제3 상부 표면들 상에(예컨대, 제1 및 제3 상부 표면들과 접촉하게, 제1 및 제3 상부 표면들 위에 배치되게) 캐리어를 정렬하도록 구성된다. 제1 및 제2 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 제2 및 제4 상부 표면들 상에(예컨대, 제2 및 제4 상부 표면들과 접촉하게, 제2 및 제4 상부 표면들 위에 배치되게) 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된다.
[0020] 일부 실시예들에서, 제1 부분 및 제2 부분은 셸프를 인클로저 시스템에 부착하도록 구성된 부착 피처들(예컨대, 패스너를 수용하기 위한 개구, 패스너 등)을 포함한다.
[0021] 일부 실시예들에서, 셸프는 제1 부분과 제2 부분 사이에 배치된 제3 부분을 더 포함하며, 여기서 제3 부분은 셸프 상에서 캐리어 위에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 제3 프로세스 키트 링 정렬 피처를 포함한다. 일부 실시예들에서, 셸프의 제1 부분, 제2 부분 및 제3 부분은 "U"-형상을 형성하며, 여기서 제1 부분은 제1 측(side)이고, 제2 부분은 제2 측이며, 제3 부분은 제1 측과 제2 측 사이에 배치된 후방 측이다. 일부 실시예들에서, 셸프의 제1 부분, 제2 부분 및 제3 부분은 서로 일체형이다. 일부 실시예들에서, 셸프의 제1 부분, 제2 부분 및 제3 부분은 서로 부착된다.
[0022] 캐리어 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처들 중 하나 이상은 대응하는 측벽을 포함한다. 일부 실시예들에서, 측벽은 제1 평면으로부터 약 100도 내지 110도 각도에 있는 하부 부분 및 제1 평면으로부터 약 130도 내지 140도 각도에 있는 상부 부분을 포함한다.
[0023] 일부 실시예들에서, 제1 및 제2 캐리어 정렬 피처들은 캐리어의 x-방향 이동 및 요(yaw) 이동을 방지하도록 구성된 제1 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 및 제2 캐리어 정렬 피처들은 먼저, 캐리어의 y-방향 이동을 방지하도록 구성된 제2 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 및 제3 상부 표면들은 캐리어의 z-방향 이동, 피치(pitch) 이동 및 롤(roll) 이동을 방지하도록 구성된다.
[0024] 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 프로세스 키트 링의 요 이동을 방지하도록 구성된 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 측벽들은 제1 평면으로부터 약 100도 내지 110도 각도를 갖는다. 일부 실시예들에서, 캐리어는 프로세스 키트 링의 x-방향 이동, y-방향 이동, z-방향 이동, 피치 이동 및 롤 이동을 방지하도록 구성된다.
[0025] 일부 실시예들에서, 셸프는 캐리어를 셸프에 고정하도록 구성된 하나 이상의 캐리어 유지 디바이스들, 및 프로세스 키트 링을 셸프에 고정하도록 구성된 하나 이상의 프로세스 키트 링 유지 디바이스들을 더 포함한다.
[0026] 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어는 인클로저 시스템(예컨대, FOUP) 내에 배치된 셸프 위의 포지션으로 (예컨대, 로봇 암을 통해) 수송된다. 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어를 (예컨대, 로봇 암을 통해) 하강시키는 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링은 셸프의 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 통해 셸프 상에 정렬되고, 캐리어는 셸프의 캐리어 정렬 피처들을 통해 셸프 상에 정렬된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링은 하나 이상의 제1 유지 디바이스들을 통해 셸프에 고정되고 캐리어는 하나 이상의 제2 유지 디바이스들을 통해 셸프에 고정된다.
[0027] 일부 실시예들에서, 내용물(예컨대, 캐리어 등)의 제1 원위 단부(distal end)를 지지하기 위한 제1 부분 및 내용물(예컨대, 캐리어 등)의 제2 원위 단부를 지지하기 위한 제2 부분을 갖는 단일 셸프 대신에, 제1 셸프가 내용물의 제1 원위 단부를 지지하기 위해 사용되고, (예컨대, 제1 셸프와 동일 평면 상에 있는) 제2 셸프가 내용물의 제2 원위 단부를 지지하기 위해 사용된다.
[0028] 본원에서 개시되는 디바이스들, 시스템들 및 방법들은 종래의 솔루션들에 비해 장점들을 갖는다. 셸프는 인클로저 시스템에 잘못 배치된 내용물을 정렬한다. 일부 실시예들에서, 셸프는 인클로저 시스템에서 캐리어 및 프로세스 키트 링 둘 모두를 정렬한다. 내용물(예컨대, 캐리어 및/또는 프로세스 키트 링)을 정렬하는 셸프는 내용물에 대한 손상을 방지하고, 인클로저 시스템에 대한 손상을 방지하고, 잘못된 배향으로의 내용물의 이송을 방지하고, 웨이퍼 프로세싱 시스템에 대한 손상을 방지하고, 그리고 내용물의 잘못된 프로세싱을 방지한다. 셸프는 셸프 상에 배치된 내용물을 유지하며, 이는 내용물 및 인클로저 시스템에 대한 손상을 방지하고, 셸프 상의 내용물의 오정렬을 방지하는 식이다.
[0029] 본 설명의 일부분들이 프로세스 키트 링들 및 캐리어들을 참조하지만, 본 설명은 상이한 타입들의 내용물에 적용될 수 있다. 본 설명의 일부분들이 기판 프로세싱 시스템들을 참조하지만, 본 설명은 다른 타입들의 시스템들에 적용될 수 있다.
[0030] 본 설명의 일부분들이, 내용물(예컨대, 프로세스 키트 링들, 캐리어들 등)의 상이한 부분들을 지원하는 상이한 부분들을 포함하는 셸프를 참조하지만, 일부 실시예들에서, 셸프의 상이한 부분들은 서로 연결되지 않은 별개의 컴포넌트들일 수 있다. 일부 예들에서, 캐리어의 제1 원위 단부를 지지하도록 구성된 셸프의 제1 부분 및 캐리어의 제2 원위 단부를 지지하도록 구성된 셸프의 제2 부분은 2 개의 별개의 컴포넌트(예컨대, 동일 평면 상에 있는 셸프들의 세트 중의 2 개의 별개의 셸프들)이다.
[0031] 본 설명의 일부분들이 특정 범위들의 경사(slope)들의 측벽들을 참조하지만, 일부 실시예들에서, (예컨대, 특정 범위의 경사들로부터의 경사를 근사화하는 라이즈 오버 런(rise over run)의 평균 변화를 갖는) 만곡된 측벽이 사용될 수 있고, 그리고/또는 다수의 경사들이 동일한 측벽에 대해 사용될 수 있다(예컨대, 여기서, 전체 측벽은 특정 범위의 경사들로부터의 경사를 근사화하는 라이즈 오버 런의 평균 변화를 가짐).
[0032] 도 1은 특정 실시예들에 따른 프로세싱 시스템(100)(예컨대, 웨이퍼 프로세싱 시스템, 기판 프로세싱 시스템, 반도체 프로세싱 시스템)을 예시한다. 프로세싱 시스템(100)은 팩토리 인터페이스(101) 및 로드 포트(load port)들(128)(예컨대, 로드 포트들(128A-128D))을 포함한다. 일부 실시예들에서, 로드 포트들(128A-128D)은 팩토리 인터페이스(101)에 직접 장착(예컨대, 팩토리 인터페이스(101)에 대해 밀봉)된다. 인클로저 시스템들(130)(예컨대, 카세트, FOUP, 프로세스 키트 인클로저 시스템 등)은 로드 포트들(128A-128D)에 제거가능하게 커플링(예컨대, 도킹)되도록 구성된다. 도 1을 참조하면, 인클로저 시스템(130A)은 로드 포트(128A)에 커플링되고, 인클로저 시스템(130B)은 로드 포트(128B)에 커플링되고, 인클로저 시스템(130C)은 로드 포트(128C)에 커플링되고, 그리고 인클로저 시스템(130D)은 로드 포트(128D)에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 하나 이상의 인클로저 시스템들(130)은 프로세싱 시스템(100) 안팎으로 웨이퍼들 및/또는 다른 기판들을 이송하기 위한 로드 포트들(128)에 커플링된다. 인클로저 시스템들(130) 각각은 개개의 로드 포트(128)에 대해 밀봉된다. 일부 실시예들에서, 제1 인클로저 시스템(130A)은 (예컨대, 사용된 프로세스 키트 링들을 교체하기 위한) 로드 포트(128A)에 도킹된다. 일단 그러한 동작 또는 동작들이 수행되면, 이어서 제1 인클로저 시스템(130A)은 로드 포트(128A)로부터 도킹 해제(undock)되고, 이어서 제2 인클로저 시스템(130)(예컨대, 웨이퍼들을 포함하는 FOUP)이 동일한 로드 포트(128A)에 도킹된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)(예컨대, 인클로저 시스템(130A))은 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들을 정렬하기 위한 셸프들을 갖는 인클로저 시스템이다.
[0033] 일부 실시예들에서, 로드 포트(128)는 수직 개구(또는 실질적으로 수직 개구)를 형성하는 전방 인터페이스를 포함한다. 로드 포트(128)는 부가적으로, 인클로저 시스템(130)(예컨대, 카세트, 프로세스 키트 인클로저 시스템)을 지지하기 위한 수평 표면을 포함한다. 각각의 인클로저 시스템(130)(예컨대, 웨이퍼들의 FOUP, 프로세스 키트 인클로저 시스템)은 수직 개구를 형성하는 전방 인터페이스를 갖는다. 인클로저 시스템(130)의 전방 인터페이스는 로드 포트(128)의 전방 인터페이스와 인터페이싱하도록(예컨대, 로드 포트(128)의 전방 인터페이스에 대해 밀봉되도록) 크기가 정해진다(예컨대, 인클로저 시스템(130)의 수직 개구는 로드 포트(128)의 수직 개구와 대략 동일한 크기임). 인클로저 시스템(130)은 로드 포트(128)의 수평 표면 상에 배치되고, 인클로저 시스템(130)의 수직 개구는 로드 포트(128)의 수직 개구와 정렬된다. 인클로저 시스템(130)의 전방 인터페이스는 로드 포트(128)의 전방 인터페이스와 상호연결된다(예컨대, 로드 포트(128)의 전방 인터페이스에 클램핑되고, 로드 포트(128)의 전방 인터페이스에 고정되고, 로드 포트(128)의 전방 인터페이스에 대해 밀봉됨). 인클로저 시스템(130)의 최하부 플레이트(예컨대, 베이스 플레이트)는 로드 포트(128)의 수평 표면과 맞물리는 피처들(예컨대, 로드 포트 운동학적 핀 피처들과 맞물리는 오목부들 또는 리셉터클들과 같은 로드 피처들, 핀 클리어런스(pin clearance)를 위한 로드 포트 피처, 및/또는 인클로저 시스템 도킹 트레이 래치 클램핑 피처)을 갖는다. 동일한 로드 포트들(128)이 상이한 타입들의 인클로저 시스템들(130)(예컨대, 프로세스 키트 인클로저 시스템, 웨이퍼들을 포함하는 카세트들 등)에 사용된다.
[0034] 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)은 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들을 정렬하기 위한 하나 이상의 셸프들의 하나 이상의 세트들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)은 캐리어 및/또는 캐리어 상에 배치된 내용물(예컨대, 프로세스 키트 링, 프로세싱 챔버 컴포넌트 등)을 정렬하기 위한 하나 이상의 셸프들의 하나의 세트를 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)은 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들을 정렬하기 위한 하나 이상의 셸프들의 3 개의 세트들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)은 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들을 정렬하기 위한 하나 이상의 셸프들의 6 개의 세트들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)은 캐리어들 및/또는 프로세스 키트 링들을 정렬하기 위한 하나 이상의 셸프들의 8 개의 세트들을 포함한다.
[0035] 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)(예컨대, 프로세스 키트 인클로저 시스템)은 내용물(110)(예컨대, 프로세스 키트 링, 빈(empty) 프로세스 키트 링 캐리어, 프로세스 키트 링 캐리어 상에 배치된 프로세스 키트 링, 배치 검증 웨이퍼 등 중 하나 이상)의 하나 이상의 아이템들을 포함한다. 일부 예들에서, 인클로저 시스템(130)은 사용된 프로세스 키트 링의 교체를 위해 프로세스 키트 링 캐리어 상의 프로세스 키트 링을 프로세싱 시스템(100) 내로 자동 이송하는 것을 가능하게 하도록 (예컨대, 로드 포트(128)를 통해) 팩토리 인터페이스(101)에 커플링된다.
[0036] 일부 실시예들에서, 프로세싱 시스템(100)은 또한, 팩토리 인터페이스(101)를 개개의 디개싱 챔버들(104a, 104b)에 커플링하는 제1 진공 포트들(103a, 103b)을 포함한다. 제2 진공 포트들(105a, 105b)이 개개의 디개싱 챔버들(104a, 104b)에 커플링되고, 디개싱 챔버들(104a, 104b)과 이송 챔버(106) 사이에 배치되어, 이송 챔버(106) 내로의 웨이퍼들 및 내용물(110)(예컨대, 프로세스 키트 링들)의 이송을 가능하게 한다. 일부 실시예들에서, 프로세싱 시스템(100)은 하나 이상의 디개싱 챔버들(104) 및 대응하는 수의 진공 포트들(103, 105)을 포함하고 그리고/또는 사용한다(예컨대, 프로세싱 시스템(100)은 단일 디개싱 챔버(104), 단일 제1 진공 포트(103), 및 단일 제2 진공 포트(105)를 포함함). 이송 챔버(106)는, 이송 챔버(106) 주위에 배치되고 이송 챔버(106)에 커플링된 복수의 프로세싱 챔버들(107)(예컨대, 4 개의 프로세싱 챔버들(107), 6 개의 프로세싱 챔버들(107) 등)을 포함한다. 프로세싱 챔버들(107)은 슬릿 밸브들 등과 같은 개개의 포트들(108)을 통해 이송 챔버(106)에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 팩토리 인터페이스(101)는 더 높은 압력(예컨대, 대기압)에 있고, 이송 챔버(106)는 더 낮은 압력(예컨대, 진공)에 있다. 각각의 디개싱 챔버(104)(예컨대, 로드 록(load lock), 압력 챔버)는 팩토리 인터페이스(101)로부터 디개싱 챔버(104)를 밀봉하기 위한 제1 도어(예컨대, 제1 진공 포트(103)) 및 이송 챔버(106)로부터 디개싱 챔버(104)를 밀봉하기 위한 제2 도어(예컨대, 제2 진공 포트(105))를 갖는다. 제1 도어가 개방되어 있고 제2 도어가 폐쇄되어 있는 동안 내용물이 팩토리 인터페이스(101)로부터 디개싱 챔버(104) 내로 이송되어야 하고, 제1 도어는 폐쇄되어야 하고, 디개싱 챔버(104) 내의 압력은 이송 챔버(106)에 매칭하도록 감소되어야 하고, 제2 도어는 개방되어야 하고, 그리고 내용물은 디개싱 챔버(104) 밖으로 이송되어야 한다. LCF(local center finding) 디바이스가 (예컨대, 프로세싱 챔버(107)에 진입하기 전에, 프로세싱 챔버(107)를 떠난 후에) 이송 챔버(106)에서 내용물을 정렬하기 위해 사용되어야 한다.
[0037] 일부 실시예들에서, 프로세싱 챔버들(107)은 에칭 챔버들, 증착 챔버들(원자 층 증착, 화학 기상 증착, 물리 기상 증착, 또는 이들의 플라즈마 강화 버전들을 포함함), 어닐링 챔버들 등 중 하나 이상을 포함한다.
[0038] 팩토리 인터페이스(101)는 팩토리 인터페이스 로봇(111)을 포함한다. 팩토리 인터페이스 로봇(111)은 SCARA(selective compliance assembly robot arm) 로봇과 같은 로봇 암을 포함한다. SCARA 로봇의 예들은 2 링크 SCARA 로봇, 3 링크 SCARA 로봇, 4 링크 SCARA 로봇 등을 포함한다. 팩토리 인터페이스 로봇(111)은 로봇 암의 단부 상에 엔드 이펙터를 포함한다. 엔드 이펙터는 웨이퍼들과 같은 특정 오브젝트들을 픽업 및 핸들링하도록 구성된다. 대안적으로 또는 부가적으로, 엔드 이펙터는 캐리어 및/또는 프로세스 키트 링들(에지 링들)과 같은 오브젝트들을 핸들링하도록 구성된다. 로봇 암은 엔드 이펙터를 상이한 배향들로 그리고 상이한 위치들로 이동시키기 위해 이동되도록 구성된 하나 이상의 링크들 또는 부재들(예컨대, 리스트(wrist) 부재, 상부 암 부재, 포어암(forearm) 부재 등)을 갖는다.
[0039] 팩토리 인터페이스 로봇(111)은 인클로저 시스템들(130)(예컨대, 카세트들, FOUP들)과 디개싱 챔버들(104a, 104b)(또는 로드 포트들) 사이에서 오브젝트들을 이송하도록 구성된다. 종래의 시스템들은 내용물의 오정렬과 연관되거나 또는 오정렬된 내용물을 정렬하기 위한 프로세싱 시스템(100)(예컨대, 팩토리 인터페이스(101))의 개방(예컨대, 분해, 밀봉 파괴, 오염)과 연관되지만, 프로세싱 시스템(100)은 오퍼레이터에 의한 프로세싱 시스템(100)의 개방(예컨대, 분해, 밀봉 파괴, 오염) 없이 (예컨대, 인클로저 시스템(130)의 하나 이상의 셸프들의 세트를 통해) 내용물의 정렬을 가능하게 하도록 구성된다. 이에 따라서, 실시예들에서, 인클로저 시스템(130)의 내부 볼륨 및 팩토리 인터페이스(101)의 내부 볼륨을 포함하는 밀봉된 환경이 (예컨대, 인클로저 시스템(130)의 하나 이상의 셸프들의 세트를 통해) 내용물의 정렬 동안 유지된다.
[0040] 이송 챔버(106)는 이송 챔버 로봇(112)을 포함한다. 이송 챔버 로봇(112)은 로봇 암의 단부에 엔드 이펙터를 갖는 로봇 암을 포함한다. 엔드 이펙터는 웨이퍼들과 같은 특정 오브젝트들을 핸들링하도록 구성된다. 일부 실시예들에서, 이송 챔버 로봇(112)은 SCARA 로봇이지만, 일부 실시예들에서, 팩토리 인터페이스 로봇(111)보다 더 적은 링크들 및/또는 더 적은 자유도들을 갖는다.
[0041] 제어기(109)는 프로세싱 시스템(100)의 다양한 양상들을 제어한다. 제어기(109)는 컴퓨팅 디바이스, 이를테면, 개인용 컴퓨터, 서버 컴퓨터, PLC(programmable logic controller), 마이크로제어기 등이고 그리고/또는 이를 포함한다. 제어기(109)는, 일부 실시예들에서 마이크로프로세서, 중앙 프로세싱 유닛 등과 같은 범용 프로세싱 디바이스들인 하나 이상의 프로세싱 디바이스들을 포함한다. 더 구체적으로, 일부 실시예들에서, 프로세싱 디바이스는 CISC(complex instruction set computing) 마이크로프로세서, RISC(reduced instruction set computing) 마이크로프로세서, VLIW(very long instruction word) 마이크로프로세서, 또는 다른 명령 세트들을 구현하는 프로세서 또는 명령 세트들의 조합을 구현하는 프로세서들이다. 일부 실시예들에서, 프로세싱 디바이스는 ASIC(application specific integrated circuit), FPGA(field programmable gate array), DSP(digital signal processor), 네트워크 프로세서 등과 같은 하나 이상의 특수-목적 프로세싱 디바이스들이다. 일부 실시예들에서, 제어기(109)는 데이터 저장 디바이스(예컨대, 하나 이상의 디스크 드라이브들 및/또는 솔리드 스테이트 드라이브들), 메인 메모리, 정적 메모리, 네트워크 인터페이스 및/또는 다른 컴포넌트들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제어기(109)는 본원에서 설명되는 방법들 또는 프로세스들 중 임의의 하나 이상을 수행하기 위한 명령들을 실행한다. 명령들은 (명령들의 실행 동안에) 메인 메모리, 정적 메모리, 2차 저장 및/또는 프로세싱 디바이스 중 하나 이상을 포함하는 컴퓨터 판독가능 저장 매체 상에 저장된다. 일부 실시예들에서, 제어기(109)는 팩토리 인터페이스 로봇(111) 및 웨이퍼 이송 챔버 로봇(112)으로부터 신호들을 수신하고, 팩토리 인터페이스 로봇(111) 및 웨이퍼 이송 챔버 로봇(112)에 제어들을 전송한다.
[0042] 도 1은 프로세싱 챔버(107) 내로의 내용물(110)(예컨대, 프로세스 키트 링 캐리어에 커플링된 프로세스 키트 링)의 이송을 개략적으로 예시한다. 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 내용물(110)은 팩토리 인터페이스(101)에 위치된 팩토리 인터페이스 로봇(111)을 통해 인클로저 시스템(130)으로부터 제거된다. 팩토리 인터페이스 로봇(111)은 제1 진공 포트들(103a, 103b) 중 하나를 통해 개개의 디개싱 챔버(104a, 104b) 내로 내용물(110)을 이송한다. 이송 챔버(106)에 위치된 이송 챔버 로봇(112)은 디개싱 챔버들(104a, 104b) 중 하나로부터 제2 진공 포트(105a 또는 105b)를 통해 내용물(110)을 제거한다. 이송 챔버 로봇(112)은 내용물(110)을 이송 챔버(106) 내로 이동시키며, 여기서 내용물(110)은 개개의 포트(108)를 통해 프로세싱 챔버(107)로 이송된다. 도 1에서 명확성을 위해 도시되지 않았지만, 내용물(110)의 이송은 프로세스 키트 링 캐리어 상에 배치된 프로세스 키트 링의 이송, 빈 프로세스 키트 링 캐리어의 이송, 배치 검증 웨이퍼의 이송 등을 포함한다.
[0043] 도 1은 내용물(110)의 이송의 일 예를 예시하지만, 다른 예들이 또한 고려된다. 일부 예들에서, 인클로저 시스템(130)은 (예컨대, 이송 챔버(106)에 장착된 로드 포트를 통해) 이송 챔버(106)에 커플링되는 것으로 고려된다. 이송 챔버(106)로부터, 내용물(110)은 이송 챔버 로봇(112)에 의해 프로세싱 챔버(107) 내로 로딩될 것이다. 부가적으로, 일부 실시예들에서, 내용물(110)은 SSP(substrate support pedestal)에 로딩된다. 일부 실시예들에서, 부가적인 SSP가, 예시된 SSP에 대향하게 팩토리 인터페이스(101)와 통신하도록 포지셔닝된다. 프로세싱된 내용물(110)(예컨대, 사용된 프로세스 키트 링)은 본원에서 설명되는 임의의 방식의 역(reverse)으로 프로세싱 시스템(100)으로부터 제거될 것이다. 다수의 인클로저 시스템들(130) 또는 인클로저 시스템(130)과 SSP의 조합을 활용하는 경우, 일부 실시예들에서, 하나의 SSP 또는 인클로저 시스템(130)은 프로세싱되지 않은 내용물(110)(예컨대, 새로운 프로세스 키트 링들)을 위해 사용될 것이지만, 다른 SSP 또는 인클로저 시스템(130)은 프로세싱된 내용물(110)(예컨대, 사용된 프로세스 키트 링들)을 수용하기 위해 사용될 것이다. 인클로저 시스템(130)은 로봇 암을 통한 내용물(110)의 이송 전에 그리고/또는 인클로저 시스템(130)의 이송 전에 (예컨대, 인클로저 시스템(130)에 있는 하나 이상의 셸프들의 세트를 통해) 내용물(110)을 정렬하기 위해 사용된다. 내용물(110)을 정렬하는 하나 이상의 셸프들의 세트는 로봇 암이 인클로저 시스템(130)의 특정 위치들로부터 내용물(110)을 정확하게 제거하는 것을 가능하게 하고, 내용물(110)이 인클로저 시스템(130)에 적절히 고정되는 것을 가능하게 하며(예컨대, 하나 이상의 셸프들의 세트가 내용물(110)을 고정하는 것을 가능하게 함), 인클로저 시스템(130)이 내용물(110)을 적절히 수송하는 것을 가능하게 한다.
[0044] 프로세싱 시스템(100)은 챔버들, 이를테면, 팩토리 인터페이스(101)(예컨대, EFEM(equipment front end module)) 및 팩토리 인터페이스(101)에 인접한 인접 챔버들(예컨대, 로드 포트(128), 인클로저 시스템(130), SSP, 디개싱 챔버(104), 이를테면, 로드록 등)을 포함한다. 챔버들 중 하나 이상이 밀봉된다(예컨대, 챔버들 각각이 밀봉됨). 인접 챔버들은 팩토리 인터페이스(101)에 대해 밀봉된다. 일부 실시예들에서, 불활성 가스(예컨대, 질소, 아르곤, 네온, 헬륨, 크립톤 또는 크세논 중 하나 이상)가 하나 이상의 불활성 환경들을 제공하도록 챔버들(예컨대, 팩토리 인터페이스(101) 및/또는 인접 챔버들) 중 하나 이상 내로 제공된다. 일부 예들에서, 팩토리 인터페이스(101)는, 사용자들이 팩토리 인터페이스(101)에 진입할 필요가 없도록 팩토리 인터페이스(101) 내에 불활성 환경(예컨대, 불활성 EFEM 국소 환경(minienvironment))을 유지하는 불활성 EFEM이다(예컨대, 프로세싱 시스템(100)은 팩토리 인터페이스(101) 내에 어떠한 수동 액세스도 없도록 구성됨).
[0045] 일부 실시예들에서, 가스 유동(예컨대, 불활성 가스, 질소)이 프로세싱 시스템(100)의 하나 이상의 챔버들(예컨대, 팩토리 인터페이스(101)) 내로 제공된다. 일부 실시예들에서, 가스 유동은, 하나 이상의 챔버들 내에서 양압(positive pressure)을 유지하기 위해, 하나 이상의 챔버들을 통한 누설보다 더 크다. 일부 실시예들에서, 팩토리 인터페이스(101) 내의 불활성 가스는 재순환된다. 일부 실시예들에서, 불활성 가스의 일부분이 배기된다. 일부 실시예들에서, 팩토리 인터페이스(101) 내로의 재순환되지 않는 가스의 가스 유동은, 팩토리 인터페이스(101) 내에서 불활성 가스의 양압을 유지하기 위해, 배기된 가스 유동 및 가스 누설보다 더 크다. 일부 실시예들에서, 팩토리 인터페이스(101)는 팩토리 인터페이스(101) 안팎으로 가스 유동을 제공하기 위한 하나 이상의 밸브들 및/또는 펌프들에 커플링된다. (예컨대, 제어기(109)의) 프로세싱 디바이스는 팩토리 인터페이스(101) 안팎으로의 가스 유동을 제어한다. 일부 실시예들에서, 프로세싱 디바이스는 하나 이상의 센서들(예컨대, 산소 센서, 수분 센서, 모션 센서, 도어 작동 센서, 온도 센서, 압력 센서 등)로부터 센서 데이터를 수신하고, 센서 데이터에 기반하여, 팩토리 인터페이스(101) 내로 그리고/또는 밖으로 유동하는 불활성 가스의 유량을 결정한다.
[0046] 인클로저 시스템(130)은 팩토리 인터페이스(101) 및 인접 챔버들 내의 밀봉된 환경을 개방하지 않으면서 내용물(110)(예컨대, 캐리어, 프로세스 키트 링 등)의 정렬을 가능하게 한다. 인클로저 시스템(130)은 로드 포트(128)에 도킹되는 것에 대한 응답으로 로드 포트(128)에 대해 밀봉된다. 인클로저 시스템(130)은, 팩토리 인터페이스(101) 내의 불활성 환경의 교란을 최소화하기 위해, 인클로저 시스템(130)을 개방하기 전에 인클로저 시스템(130)의 내부가 퍼지될 수 있도록 퍼지 포트 액세스를 제공한다.
[0047] 도 2는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(200)(예컨대, 도 1의 인클로저 시스템(130))의 전방 사시도를 예시한다. 인클로저 시스템(200)은 캐리어 및/또는 프로세스 키트 링과 같은 내용물을 정렬하도록 구성된 하나 이상의 셸프들(230)을 포함한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 일부 실시예들에서, 셸프(230)는 내용물의 제1 원위 단부를 지지하기 위한 좌측 부분, 내용물의 제2 원위 단부를 지지하기 위한 우측 부분, 및 좌측 부분과 우측 부분을 연결하는 중간 부분을 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 셸프(230)는 (예컨대, 서로 떨어져 있는, 서로 연결되지 않은, 서로 일체형이 아닌 식의) 2 개 이상의 별개의 컴포넌트들, 이를테면, 서로 연결되지 않은 좌측 셸프 및 우측 셸프일 수 있다.
[0048] 인클로저 시스템(200)은 내부 볼륨(202)을 적어도 부분적으로 둘러싸는(예컨대, 캐비티 또는 챔버를 형성하는) 표면들(예컨대, 벽들, 측벽들, 실질적으로 평면형 구조들 등)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 내부 볼륨(202)은 국소 환경(예컨대, 밀봉된 환경)이다. 일부 실시예들에서, 내부 볼륨(202)은 실질적으로 입자가 없는(예컨대, 실질적으로 오염되지 않은) 상태로 유지된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(200)은 내부 볼륨(202) 내의 임의의 입자들을 억제하는 팬을 (예컨대, 최상부 표면에) 포함한다. 일부 실시예들에서, 내부 볼륨에는 수분, 산소, 입자들(예컨대, 먼지) 등 중 하나 이상이 실질적으로 없다(또는 완전히 없다).
[0049] 표면들은 측벽 표면들(210A-210B)(예컨대, 측벽들), 최하부 표면(212)(예컨대, 최하부 벽), 최상부 표면(214)(예컨대, 최상부 벽) 및 후방 표면(216)(예컨대, 후방 벽)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 표면들은 클램핑가능 터브(clampable tub)를 형성한다. 표면들(예컨대, 측벽 표면들(210A-210B), 최하부 표면(212), 최상부 표면(214) 등) 중 하나 이상은 전방 인터페이스를 형성한다. 전방 인터페이스는 인클로저 시스템(200)의 수송을 위한 도어와 인터페이싱하도록(예컨대, 이러한 도어에 대해 밀봉되도록) (그리고 예컨대 밀봉된 환경을 제공하도록) 구성된다. 전방 인터페이스는 웨이퍼 프로세싱 시스템의 로드 포트의 실질적으로 수직 부분과 인터페이싱하도록(예컨대, 이러한 실질적으로 수직 부분에 대해 밀봉되도록) 구성된다. 전방 인터페이스가 도어 또는 로드 포트에 대해 밀봉되는 것에 대한 응답으로, 인클로저 시스템(200)은 밀봉된 환경을 생성한다(예컨대, 가스들 및/또는 입자들이 웨이퍼 프로세싱 시스템 외부의 주변 환경으로부터 인클로저 시스템(200)에 진입하거나 또는 떠나지 않음).
[0050] 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(200)은 최하부 표면(212)에 커플링된 베이스플레이트(220)(예컨대, 어댑터 플레이트)를 포함한다. 베이스플레이트(220)는 로드 포트의 수평 부분과 인터페이싱하도록 구성된다. 베이스플레이트(220)는 로드 포트의 수평 부분의 운동학적 디바이스들(예컨대, 운동학적 핀들, 정밀 위치된 핀들)을 수용하기 위한 피처들(예컨대, 오목부들, 리셉터클들, 운동학적 인터페이스)을 갖는다. 일부 실시예들에서, 베이스플레이트(220)는 인클로저 시스템(200)이 로드 포트와 인터페이싱하기 전에 최하부 표면(212)에 고정된다. 일부 실시예들에서, 베이스플레이트(220)는 로드 포트에 고정되고, 이어서, 최하부 표면(212)은 베이스플레이트(220)에 고정된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(200)은 최하부 표면(212)에 있는 하나 이상의 개구들을 밀봉하기 위한 밀봉부(예컨대, 압착가능 밀봉부(crushable seal), 개스킷)를 갖는다.
[0051] 일부 실시예들에서, 오버헤드 수송 플랜지(222) 또는 적어도 하나의 핸들(224) 중 하나 이상이 인클로저 시스템(200)의 수송(예컨대, 자동 수송, 수동 수송 등)을 위해 인클로저 시스템(200)의 하나 이상의 표면들에 커플링된다. 일부 실시예들에서, OHT(overhead transfer) 플랜지(222)는 최상부 표면(214)에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 제1 핸들(224A)은 제1 측벽 표면(210A) 상에 배치되고, 제2 핸들(224B)은 제2 측벽 표면(210B) 상에 배치된다.
[0052] 일부 실시예들에서, 하나 이상의 퍼지 어댑터들이 최하부 표면(212)에 배치된다(예컨대, 최하부 표면(212)에 형성된 개구들 내로 삽입됨). 퍼지 어댑터들은 인클로저 시스템(200)을 가스(예컨대, 질소(N2))로 채우는 것, 인클로저 시스템으로부터 가스를 제거하는 것, 인클로저 시스템(200)을 통해 가스를 통과시키는 것 등 중 하나 이상에 사용된다. 퍼지 어댑터들은 (예컨대, 인클로저 시스템(200)을 퍼지하는 것, 인클로저 시스템(200)에 진공을 생성하는 것, 인클로저 시스템(200)을 가스로 채우는 것 등을 위해) 가스 또는 진공 라인 중 하나 이상과 유체 커플링되도록 베이스플레이트(220)를 통해 연장된다. 퍼지 어댑터들 각각은 (예컨대, 밀봉된 환경을 제공하기 위해) 최하부 표면(212)에 있는 대응하는 개구에 밀봉부를 제공한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(200)은 로드 포트에 도킹되는 것에 대한 응답으로 로드 포트에 대해 밀봉된다. 인클로저 시스템(200)의 내부 볼륨은, 인클로저 시스템(200)의 개방 전에 하나 이상의 퍼지 어댑터들을 통해 퍼지되도록 구성된다.
[0053] 일부 실시예들에서, 하나 이상의 셸프들(230)이 내부 볼륨(202) 내에 적어도 부분적으로 배치된다. 일부 실시예들에서, 하나 이상의 셸프들(230)은 내부 볼륨(202) 내에 완전히 배치된다. 일부 실시예들에서, 하나 이상의 셸프들(230)은 측벽 표면들(210A-210B)에 부착된다. 일부 실시예들에서, 하나 이상의 셸프들(230)은 인클로저 시스템(200)(예컨대, 측벽 표면들(210A-210B), 최하부 표면(212), 베이스플레이트(220) 등)에 부착되는 하나 이상의 지지 구조들(예컨대, 기둥들 등)에 부착된다.
[0054] 하나 이상의 셸프들(230)의 세트는 내용물, 이를테면, 캐리어(232) 및/또는 프로세스 키트 링(234)을 수용하도록 구성된다. 일부 실시예들에서, 캐리어(232)는 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 상에 배치되고, 프로세스 키트 링은 셸프(230) 상의 캐리어(232) 위에(예컨대, 캐리어(232)와 접촉하게, 캐리어(232)와 접촉하지 않게) 배치된다. 일부 실시예들에서, 캐리어(232)는 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 상에 배치되고, 프로세스 키트 링은 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 위의 캐리어(232) 상에(예컨대, 하나 이상의 셸프들의 세트와 접촉하지 않으면서) 배치된다.
[0055] 하나 이상의 셸프들(230)의 세트는 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 상에 내용물을 정렬하도록 구성된 정렬 피처들 및/또는 표면들을 갖는다. 로봇 암이 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 상에 부정확한 포지션으로 내용물을 배치하면, 정렬 피처들 및/또는 표면들은 내용물을 정확한 포지션으로 정렬한다. 일부 실시예들에서, 하나 이상의 셸프들(230)의 세트는 하나 이상의 셸프들(230)의 세트 중의 적어도 하나의 셸프(230)에 내용물을 고정하도록 구성된 하나 이상의 유지 디바이스들을 갖는다.
[0056] 도 3a 내지 도 3j는 특정 실시예들에 따른, 인클로저 시스템(예컨대, 웨이퍼 프로세싱 시스템의 FOUP)의 셸프(300)(예컨대, 하나 이상의 셸프들의 세트 또는 단일 셸프)를 예시한다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)는 도 2의 셸프(230)에 대응한다. 도 3a는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 사시도를 예시한다. 도 3b는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 정면도를 예시한다. 도 3c는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 배면도를 예시한다. 도 3d는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 좌측면도를 예시한다. 도 3e는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 우측면도를 예시한다. 도 3f는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 평면도를 예시한다. 도 3g는 특정 실시예들에 따른 셸프(300)의 저면도를 예시한다. 도 3h는 특정 실시예들에 따른, 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)을 지지하는 셸프(300)의 평면도를 예시한다. 도 3i 및 도 3j는 특정 실시예들에 따른, 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)을 지지하는 셸프(300)의 측단면도들을 예시한다.
[0057] 셸프(300)는 제1 부분(310A) 및 제2 부분(310B)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(310A)과 제2 부분(310B)은 서로의 미러 이미지들이다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(310A)과 제2 부분(310B)은 제3 부분(310C)에 의해 결합된다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 제1 부분(310A), 제2 부분(310B) 및 제3 부분(310C)은 "U"-형상을 형성하며, 여기서 제1 부분(310A)은 제1 측이고, 제2 부분(310B)은 제2 측이며, 제3 부분(310C)은 제1 측과 제2 측 사이에 배치된 후방 측이다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 제1 부분(310A), 제2 부분(310B) 및 제3 부분(310C)은 서로 일체형이다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 제1 부분(310A), 제2 부분(310B) 및 제3 부분(310C) 중 둘 이상은 (예컨대, 하나 이상의 패스너들, 접착제, 납땜, 용접 등을 통해) 서로 부착된다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 제1 부분(310A), 제2 부분(310B) 및 제3 부분(310C) 중 둘 이상은 서로 떨어져 있다(예컨대, 부착되지 않고, 연결되지 않는 식임). 일부 실시예들에서, 제1 부분(310A)은 제1 셸프이고, 제2 부분(310B)은 제2 셸프이며, 여기서 제1 셸프와 제2 셸프는 동일 평면 상에 있고, (예컨대, 제3 부분(310C) 없이는) 서로 연결되지 않는다.
[0058] 제1 부분(310A) 및 제2 부분(310B)은 제1 평면에 있는 제1 상부 표면(312A), 제1 평면 위의 제2 평면에 있는 제2 상부 표면(312B), 제1 캐리어 정렬 피처들(314A), 및 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316A)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(310A)과 제2 부분(310B)은 제2 캐리어 정렬 피처들(314B)을 더 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(310A) 및 제2 부분은 셸프(300)를 인클로저 시스템에 부착하도록 구성된 부착 피처들(318)(예컨대, 패스너를 수용하기 위한 개구, 패스너 등)을 더 포함한다.
[0059] 일부 실시예들에서, 셸프는 제1 부분(310A)과 제2 부분(310B) 사이에 배치된 제3 부분을 더 포함한다. 제3 부분(310C)은 프로세스 키트 링 정렬 피처(316B)를 포함한다.
[0060] 캐리어 정렬 피처들(314)은 제1 상부 표면들(312A) 상에(예컨대, 제1 상부 표면들(312A)과 접촉하게, 제1 상부 표면들(312A) 위에 배치되게) 캐리어를 정렬하도록 구성된다. 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316)은 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성되며, 여기서 프로세스 키트 링은 제2 상부 표면들(312B) 위에 배치된다. 일부 실시예들에서, 캐리어가 제1 부분(310A) 및 제2 부분(310B)에 의해 지지되고, 제1 부분(310A) 및 제2 부분(310B)과 접촉하지 않으면서(예컨대, 하나 이상의 셸프들(300)과 접촉하지 않으면서) 프로세스 키트 링이 캐리어 상에 배치된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링은 이동(예컨대, 밀침(jostling), 흔들림, 충격, 빠른 이동 등)에 대한 응답으로 제1 부분(310A) 및/또는 제2 부분(310B)과 접촉하고, 프로세스 키트 정렬 피처들(316)은 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 재정렬한다.
[0061] 캐리어 정렬 피처들(314) 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316) 중 하나 이상은 대응하는 측벽을 포함한다. 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처(314) 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처(316)의 측벽은 제1 평면으로부터 약 100도 내지 110도 각도에 있다. 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처(314) 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처(316)의 측벽은 제1 평면으로부터 약 100도 내지 110도 각도에 있는 하부 부분 및 제1 평면으로부터 약 130도 내지 140도 각도에 있는 상부 부분을 포함한다.
[0062] 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처들(314A)은 캐리어의 x-방향 이동 및 요 이동을 방지하도록 구성된 제1 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처들(314B)은 먼저, 캐리어의 y-방향 이동을 방지하도록 구성된 제2 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 상부 표면들(312A)은 캐리어의 z-방향 이동, 피치 이동 및 롤 이동을 방지하도록 구성된다.
[0063] 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316A)은 프로세스 키트 링의 요 이동을 방지하도록 구성된 측벽들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 측벽들은 제1 평면으로부터 약 100도 내지 110도 각도를 갖는다. 일부 실시예들에서, 캐리어는 (예컨대, 프로세스 키트 링이 제1 부분(310A) 또는 제2 부분(310B)과 접촉하지 않으면서) 프로세스 키트 링의 x-방향 이동, y-방향 이동, z-방향 이동, 피치 이동 및 롤 이동을 방지하도록 구성된다.
[0064] 도 3h를 참조하면, 셸프(300)는 캐리어(330) 및/또는 프로세스 키트 링(340)을 지지하도록 구성된다. 캐리어(330)는, 개구들을 형성하는 강성 바디(332), 복수의 개구들을 통해 강성 바디(332)에 제거가능하게 부착되도록 구성된 패스너들(336), 및 패스너들(336) 및 개구들을 통해 강성 바디에 제거가능하게 부착되도록 구성된 핑거들(334)을 포함한다. 핑거들(334)은 기판 프로세싱 시스템 내에서의 캐리어(330)의 수송 동안 내용물(예컨대, 프로세스 키트 링(340))을 지지하도록 구성된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링(340)이 캐리어(330) 상에 배치될 때, 프로세스 키트 링(340)은 캐리어(330)와 접촉하고 있다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링(340)이 캐리어(330) 상에 배치될 때, 프로세스 키트 링(340)은 캐리어(330)와 접촉하지 않으면서 캐리어(330) 위에 배치된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링(340)이 캐리어(330) 상에 배치되고 캐리어가 셸프(300) 상에 배치될 때, 프로세스 키트 링(340)은 셸프(300)와 접촉하지 않으면서 셸프(300) 위에 배치된다.
[0065] 도 3i를 참조하면, 셸프(300)(예컨대, 하나 이상의 셸프들의 세트 또는 단일 셸프)는 캐리어(330) 및/또는 프로세스 키트 링(340)을 지지하도록 구성된다. 프로세스 키트 링 정렬 피처(316B)는 (예컨대, 셸프 또는 셸프들의 세트 위에서) 캐리어(330) 상에 프로세스 키트 링(340)을 정렬하도록 구성된다. 핑거들(334)은 패스너들(336)을 통해 캐리어(330)의 강성 바디(332)에 부착된다. 일부 실시예들에서, 핑거들(334)은 (예컨대, 프로세스 키트 링(340)을 지지하는) 캐리어(330)가 셸프(300) 상에 배치되어 있는 동안 프로세스 키트 링(340)을 지지한다.
[0066] 도 3j를 참조하면, 셸프(300)는 셸프(300) 상에 캐리어(330) 및/또는 프로세스 키트 링(340)을 정렬하도록 구성된다. 셸프는 캐리어 정렬 피처들(314) 및 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316)을 포함한다. 캐리어 정렬 피처들(314)은 하나 이상의 측벽들을 포함하고, 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316)은 하나 이상의 측벽들을 포함한다.
[0067] 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 (예컨대, 캐리어 정렬 피처(314A)의) 측벽은 하나 이상의 패싯(facet)들을 갖거나 또는 만곡된다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)의 (예컨대, 캐리어 정렬 피처(314A)의) 측벽은 제1 상부 표면(312A)으로부터 약 100도 내지 150도 각도, 약 120도 내지 150도 각도, 또는 약 130도 내지 140도 각도이다. 일부 실시예들에서, (예컨대, 캐리어 정렬 피처(314A)의) 측벽은 제1 상부 표면(312A)으로부터 약 100도 내지 110도 각도(예컨대, 직교(orthogonal)로부터 약 15도)인 하부 부분 및 제1 상부 표면(312A)으로부터 약 130도 내지 140도 각도(예컨대, 직교로부터 약 45도임, 하부 부분보다 약 30도 더 큼)에 있는 상부 부분을 포함한다.
[0068] 일부 실시예들에서, (예컨대, 프로세스 키트 링 정렬 피처(316A)의) 측벽은 제2 상부 표면(312B)으로부터 약 90도 내지 150도 각도, 100도 내지 150도 각도, 또는 100도 내지 110도 각도(예컨대, 직교로부터 약 15도임)이다.
[0069] 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처들(314) 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처(316)의 측벽들은 기판 프로세싱 시스템으로부터(예컨대, 툴로부터) 복귀하는 오정렬된 프로세스 키트 링 및/또는 캐리어가 셸프(300) 상으로 하강되자마자 정렬 및 구속될 수 있게 하기 위해 포획 램프(capturing ramp)를 제공한다. 캐리어에 대한 프로세스 키트 링의 적절한 정렬은, 프로세싱 챔버에 프로세스 키트 링을 적절히 배향시키고 배치하기 위해 사용된다. 종래에, 시스템들은 캐리어에 대한 프로세스 키트의 부적절한 정렬을 가지며, 이는 툴에서 캐리어 및 프로세스 키트 링의 오배치(misplacement) 또는 드롭(drop)을 유발한다. 일부 사례들에서, 프로세싱 챔버로부터 제거된 프로세스 키트 링은 (예컨대, 로봇 암, LCF 디바이스, 정렬기 디바이스 등의 에러로 인해) 오정렬된 상태로 인클로저 시스템으로 복귀된다. 셸프(300)는, 오정렬된 상태로 기판 프로세싱 시스템으로부터 복귀되는 캐리어들 및 프로세스 키트 링들을 정렬한다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)는 수송을 위한 캐리어 및/또는 프로세스 키트 링을 (예컨대, 툴 자동화를 통한 OHT 상에) 구속한다.
[0070] 일부 실시예들에서, 모든 정렬 피처들(예컨대, 캐리어 정렬 피처들(314) 및/또는 프로세스 키트 링 정렬 피처(316))은 단일 피스의 재료로부터 생성되고, 포획 램프들(예컨대, 정렬 피처들의 측벽들)은 복귀되는 오정렬된 내용물을 정렬하기 위해 사용된다. 일부 실시예들에서, 자체-작동 후크(self-actuating hook)들(예컨대, 유지 디바이스들)이 내용물을 고정하기 위해 사용되고, 툴 자동화에 의해 잠긴다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)는 자동화를 통한 프로세스 키트 링 및 캐리어 둘 모두의 재정렬을 가능하게 하기 위해 캐리어와 프로세스 키트 링의 분리를 제공한다.
[0071] 일부 실시예들에서, 셸프(300)는 플라스틱 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 제조된다. 일부 실시예들에서, 셸프(300)는, 측마다 별개의 콤들 대신, 하나의 스테이션에 걸쳐 있는 단일 콤(comb)이다(예컨대, 단일 셸프가 인클로저 시스템의 좌측 및 인클로저 시스템의 우측으로부터 프로세스 키트 링 및 캐리어를 지지함). 2 개의 측들 상에 프로세스 키트 링 및 캐리어를 지지하기 위해 단일 셸프(300)를 사용하는 것은 허용오차 스택을 감소시킨다.
[0072] 일부 실시예들에서, 셸프(300)를 형성하는 재료는 고정되고(예컨대, 4 개의 스크루 홀들에 의한 고착(fixture)), 이어서, 고정되어 있는 동안 기계가공된다. 일부 실시예들에서, 윈도우들(예컨대, 개구들)이 중량을 감소시키기 위해 셸프(300) 내로 커팅된다(예컨대, 도 4b의 캐리어(430) 참조).
[0073] 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 정렬 피처(316B)는 프로세스 키트 링 정렬을 위해 사용되고, 제2 상부 표면들(312B)은 프로세스 키트 링 센터링을 위해 사용되며, 프로세스 키트 링 유지 디바이스(예컨대, 도 4a 내지 도 4e 참조)는 프로세스 키트 링 구속을 위해 사용된다. 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처들(314A-314B)은 캐리어 정렬을 위해 사용되고, 캐리어 유지 디바이스(예컨대, 도 4a 내지 도 4e 참조)는 캐리어 구속을 위해 사용된다.
[0074] 일부 실시예들에서, 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)의 6 자유도는 로봇 암에 의해 제어된다. 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)을 셸프(300)로 이송할 때, 로봇 암은 6 자유도의 제어를 셸프(300)에 전달한다. 일부 사례들에서, 6 자유도가 전달되기 때문에, 각각의 자유도는 동시에 전달되지 않으며, 이는 통상적으로, 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)의 오정렬로 이어진다. 일부 사례들에서, 로봇 암 및 셸프는 완전히 평행하지는 않은 평면들에 있으며, 이는 통상적으로, 캐리어(330) 및 프로세스 키트 링(340)의 오정렬로 이어진다. 정렬 피처들(예컨대, 캐리어 정렬 피처들(314) 및 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316))은 오정렬된 캐리어들(330) 및 프로세스 키트 링들(340)을 정렬한다.
[0075] 도 4a 내지 도 4e는 특정 실시예들에 따른, 유지 디바이스들을 갖는 셸프(400)(예컨대, 도 2의 셸프(230), 도 3a 내지 도 3j의 셸프(300))를 예시한다. 일부 실시예들에서, 도 4a 내지 도 4e의 피처들은 도 3a 내지 도 3j의 유사한 넘버링을 갖는 피처들과 유사한 또는 동일한 기능성을 갖는다.
[0076] 셸프(400)는 제1 부분(410A)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제1 부분(310A)), 제2 부분(410B)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제2 부분(310B)) 및 제3 부분(410C)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제3 부분(310C))을 포함한다. 제1 부분(410A) 및/또는 제2 부분(410B)은 제1 상부 표면(412A)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제1 상부 표면(312A)), 제2 상부 표면(412B)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제2 상부 표면(312B)), 하나 이상의 캐리어 정렬 피처들(414A)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 캐리어 정렬 피처들(314A)), 하나 이상의 캐리어 정렬 피처들(414B)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 캐리어 정렬 피처들(314B)), 하나 이상의 프로세스 키트 링 정렬 피처들(416A)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 제1 프로세스 키트 링 정렬 피처들(316A)) 및 프로세스 키트 링 정렬 피처(416B)(예컨대, 도 3a 내지 도 3j의 프로세스 키트 링 정렬 피처(316B))를 포함한다. 일부 실시예들에서, 셸프(400)는 하나 이상의 셸프들의 세트이다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(410A)은 제1 셸프이고, 제2 부분(410B)은 제2 셸프이며, 여기서 제1 셸프와 제2 셸프는 서로 떨어져 있다(예컨대, 서로 연결되지 않고, 서로 부착되지 않는 식임).
[0077] 일부 실시예들에서, 셸프(400)는 하나 이상의 캐리어 유지 디바이스들(460)(예컨대, 캐리어(430)를 고정하기 위한 자체-작동 후크) 및/또는 프로세스 키트 링 유지 디바이스들(450)(예컨대, 프로세스 키트 링(440)을 고정하기 위한 자체-작동 후크)을 포함한다. 프로세스 키트 링(440)(예컨대, 도 3h 내지 도 3j의 프로세스 키트 링(340))을 지지하는 캐리어(430)(예컨대, 도 3h 내지 도 3j의 캐리어(330))를 (예컨대, 로봇 암(470)을 통해) 하강시키자마자, 프로세스 키트 링(440)은 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)의 제1 단부 부분과 맞물려서(예컨대, 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)의 제1 단부 부분을 아래로 푸시하여서), 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)의 제2 단부 부분이 프로세스 키트 링(440)을 유지하게 한다. 일부 예들에서, 프로세스 키트 링(440)을 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)의 제1 단부 부분 상으로 하강시키는 것은, 제1 단부 부분이 (예컨대, 제2 상부 표면(412B)과 실질적으로 평행하게 되도록) 셸프(400) 내로 푸시되고 제2 단부 부분이 프로세스 키트 링(440)의 적어도 일부분 위의 포지션으로 회전되도록, 프로세스 키트 링 유지 디바이스를 회전시킨다.
[0078] 캐리어(430)를 제1 상부 표면(312A) 상으로 하강시키자마자, 캐리어(430)는 캐리어 유지 디바이스(460)의 제1 단부 부분과 맞물려서(예컨대, 캐리어 유지 디바이스(460)의 제1 단부 부분을 아래로 푸시하여서), 캐리어 유지 디바이스(460)의 제2 단부 부분이 캐리어(430)를 유지하게 한다. 일부 예들에서, 캐리어(430)를 캐리어 유지 디바이스(460)의 제1 단부 부분 상으로 하강시키는 것은, 제1 단부 부분이 (예컨대, 제1 상부 표면(412A)과 실질적으로 평행하게 되도록) 셸프(400) 내로 푸쉬되고 제2 단부 부분이 캐리어(430)의 적어도 일부분 위의 포지션으로 회전되도록, 캐리어 유지 디바이스(460)를 회전시킨다.
[0079] 도 4c를 참조하면, 로봇 암(470)이 셸프(300) 위에 포지셔닝된다. 프로세스 키트 링(440)을 지지하는 캐리어(430)가 로봇 암(470) 상에 배치된다.
[0080] 도 4d를 참조하면, 로봇 암(470)은, 프로세스 키트 링(440)이 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)(예컨대, 자체-작동 후크)의 제1 원위 부분을 작동시키도록, 프로세스 키트 링(440)을 지지하는 캐리어(430)를 하강시키고, 이는 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)의 제2 원위 부분이 셸프(400) 상에 프로세스 키트 링(440)을 유지하기 위해 프로세스 키트 링(440) 위에 배치되게 한다.
[0081] 도 4e를 참조하면, 로봇 암(470)은, 캐리어(430)가 캐리어 유지 디바이스(460)(예컨대, 자체-작동 후크)의 제1 원위 부분을 작동시키도록 캐리어(430)를 하강시키며, 이는 캐리어 유지 디바이스(460)의 제2 원위 부분이 셸프(400) 상에 캐리어(430)를 유지하기 위해 캐리어(430) 위에 배치되게 한다.
[0082] 도 4a 내지 도 4e를 참조하면, 일부 실시예들에서, 셸프(400)는 잠금 디바이스(480)를 더 포함한다. 일부 실시예들에서, 잠금 디바이스(480)는 캐리어 유지 디바이스(460) 및/또는 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)를 고정된 포지션에 잠근다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템의 도어를 폐쇄하는 것(예컨대, FOUP 도어를 폐쇄하는 것)은 (예컨대, 인클로저 시스템의 수송을 위해) 캐리어 유지 디바이스(460) 및 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450)를 고정된 포지션에 잠그도록 잠금 디바이스(480)를 작동시킨다.
[0083] 일부 실시예들에서, 제1 부분(410A)은 캐리어 유지 디바이스(460), 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450) 및/또는 잠금 디바이스(480) 중 하나 이상을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제2 부분(410B)은 캐리어 유지 디바이스(460), 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450) 및/또는 잠금 디바이스(480) 중 하나 이상을 포함한다. 일부 실시예들에서, 제1 부분(410A) 및 제2 부분(410B) 둘 모두는 캐리어 유지 디바이스(460), 프로세스 키트 링 유지 디바이스(450) 및/또는 잠금 디바이스(480) 중 하나 이상을 포함한다.
[0084] 도 5는 특정 실시예들에 따른, 인클로저 시스템의 하나 이상의 셸프들을 사용하는 방법(500)을 예시한다. 일부 실시예들에서, 방법(500)의 동작들 중 하나 이상은 로봇 암(예컨대, 도 1의 팩토리 인터페이스 로봇(111)의 로봇 암, 도 4b 내지 도 4e의 로봇 암(470))에 의해 그리고/또는 제어기(예컨대, 도 1의 제어기(109)에 의해 수행된다. 특정 시퀀스 또는 순서로 도시되어 있지만, 달리 특정되지 않는 한, 프로세스들의 순서는 수정될 수 있다. 따라서, 예시된 실시예들은 단지 예들로서만 이해되어야 하며, 예시된 프로세스들은 상이한 순서로 수행될 수 있고, 일부 프로세스들은 병렬로 수행될 수 있다. 부가적으로, 다양한 실시예들에서 하나 이상의 프로세스들이 생략될 수 있다. 따라서, 모든 각각의 실시예에서 모든 프로세스들이 요구되는 것은 아니다.
[0085] 도 5의 방법(500)을 참조하면, 블록(502)에서, 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어가 인클로저 시스템 내에 배치된 하나 이상의 셸프들의 세트 위의 포지션으로 (예컨대, 로봇 암에 의해) 수송된다.
[0086] 블록(504)에서, 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어는 (예컨대, 로봇 암에 의해) 하강된다.
[0087] 일부 실시예들에서, 블록(506)에서, 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링은 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 통해 캐리어 및/또는 하나 이상의 셸프들의 세트 상에 정렬된다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 프로세스 키트 링을 정렬 배향(aligned orientation)으로 안내하는 경사진 측벽들을 포함한다.
[0088] 일부 실시예들에서, 블록(508)에서, 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링은 프로세스 키트 링 유지 디바이스를 통해 하나 이상의 셸프들의 세트에 고정된다. 재료(예컨대, 캐리어 및 프로세스 키트 링)가 아래로 이동할 때, 프로세스 키트 링의 중량은 프로세스 키트 링 유지 디바이스(예컨대, 프로세스 키트(PK; process kit) 구속부)를 작동시킨다.
[0089] 블록(510)에서, 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 캐리어는 캐리어 정렬 피처들을 통해 하나 이상의 셸프들의 세트 상에 정렬된다. 일부 실시예들에서, 캐리어 정렬 피처들은 캐리어를 정렬 배향으로 안내하는 경사진 측벽들을 포함한다.
[0090] 블록(512)에서, 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 캐리어는 캐리어 유지 디바이스를 통해 하나 이상의 셸프들의 세트에 고정된다. 캐리어가 제자리에 배치될 때, 캐리어의 중량은 캐리어 유지 디바이스(예컨대, 캐리어 구속부)를 작동시킨다.
[0091] 블록(514)에서, (예컨대, 인클로저 시스템의 도어를 폐쇄하는 것 ―이는 잠금 디바이스를 작동시킴― 에 대한 응답으로) 캐리어 유지 디바이스 및/또는 프로세스 키트 링 유지 디바이스는 잠긴다. 일부 실시예들에서, FOUP 도어는 PK 구속부 및 캐리어 구속부 둘 모두를 잠그기 위해 잠금 디바이스를 작동시킨다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 및 캐리어가 하강될 때, 프로세스 키트 링과 캐리어는 하나 이상의 셸프들의 세트에 의해 분리된다. 이는 프로세스 키트 링 제거 동안 자동화에 의해 도입되는 임의의 오정렬로부터 캐리어 및 프로세스 키트 링 둘 모두의 포획 및 정렬을 가능하게 한다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링 및 캐리어(예컨대, 프로세스 키트 링이 캐리어 상에 배치되어 있음)가 하강될 때, 캐리어는 하나 이상의 셸프들의 세트와 접촉하고, 프로세스 키트 링은 하나 이상의 셸프들의 세트와 접촉하지 않는다.
[0092] 일부 실시예들에서, 방법(500)의 동작들 각각은 (예컨대, 팩토리 인터페이스를 개방하지 않으면서, 인클로저 시스템을 개방하지 않으면서) 밀봉된 환경을 유지하는 동안 수행된다.
[0093] 도 6a 내지 도 6h는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템들(600)의 도면들을 예시한다. 도 6a는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 정면 사시도를 예시한다. 도 6b는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 정면 단면도를 예시한다. 도 6c는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 측단면도를 예시한다. 도 6d는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 상부 단면도를 예시한다. 도 6e 및 도 6f는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 일부분의 정면 단면도를 예시한다. 도 6g 및 도 6h는 특정 실시예들에 따른 인클로저 시스템(600)의 일부분의 상부 단면도를 예시한다. 일부 실시예들에서, 다른 도면들의 참조 번호들과 유사한 참조 번호들을 갖는 특징들은 다른 도면들에서 설명되는 것들과 유사한 특징들 및/또는 기능성을 포함한다. 일부 예들에서, 도 6a 내지 도 6h 중 하나 이상의 인클로저 시스템(600)은 도 1의 인클로저 시스템(130) 및/또는 도 2의 인클로저 시스템(200)과 유사한 특징들 및/또는 기능성을 갖는다.
[0094] 도 6a를 참조하면, 인클로저 시스템(600)은 측벽들(610)(예컨대, 측벽들(610A-610B)), 하나 이상의 후방 벽들 및 최하부 벽(620)을 포함한다. 인클로저 시스템(600)은 인클로저 시스템(600)의 내부 볼륨을 적어도 부분적으로 둘러싸기 위해 벽들(예컨대, 하나 이상의 측벽들(610) 및/또는 하나 이상의 후방 벽들) 중 하나 이상에 커플링된(예컨대, 최상부 표면 장착된, 측면 둘레 장착된) 인클로저 덮개(630)(예컨대, 제거가능 상부 벽, 제거 불가능(non-removable) 상부 벽 등)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 덮개(630)는 벽들 중 하나 이상에 제거가능하게 부착되도록 구성된다.
[0095] 일부 실시예들에서, 인클로저 덮개(630)는 오버헤드 수송 컴포넌트(632)에 부착된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템은 하나 이상의 윈도우들(예컨대, 관찰 윈도우들)을 갖는다. 일부 실시예들에서, 인클로저 덮개(630)는 상부 윈도우(634)(예컨대, 상부 관찰 윈도우)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템의 후방 벽들 중 적어도 하나는 후방 윈도우(636)(예컨대, 후방 관찰 윈도우)를 포함한다.
[0096] 기둥들(640)은 (예컨대, 베이스 커넥터(642)를 통해) 최하부 벽(620)에 커플링된다. 셸프들(644)은 인클로저 시스템(600)의 내부 볼륨에 배치된다. 셸프들(644) 각각은 대응하는 오브젝트(예컨대, 도 1의 내용물(110))를 지지하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 셸프(644)는 적어도 하나의 기둥(640)에 연결된다.
[0097] 일부 실시예들에서, 기둥들(640)의 제1 세트(예컨대, 제1 쌍의 기둥들(640), 2 개의 기둥들(640))가 측벽(610A)에 근접하게 (예컨대, 동일한 베이스 커넥터(642)를 통해) 최하부 벽(620)에 커플링되고, 기둥들(640)의 제2 세트(예컨대, 제2 쌍의 기둥들(640), 2 개의 추가적인 기둥들(640))가 측벽(610B)에 근접하게 (예컨대, 상이한 베이스 커넥터(642)를 통해) 최하부 벽(620)에 커플링된다. 오브젝트(예컨대, 내용물(110))를 지지하기 위해 셸프들(644)의 세트(예컨대, 한 쌍의 셸프들(644), 2 개의 셸프들(644), 제1 셸프(644) 및 제2 셸프(644), 동일 평면 셸프들(644))가 사용될 수 있다. 제1 셸프(644)는 기둥들(640)의 제1 세트에 부착될 수 있고, 제2 셸프(644)는 기둥들(640)의 제2 세트에 부착될 수 있다. 셸프들(644)의 제1 서브세트와 셸프들(644)의 제2 서브세트는 내부 볼륨에서 서로 대향하게 배향될 수 있다(예컨대, 서로 미러링된 위치들에 있음).
[0098] 셸프들(644)에 의해 지지되는 오브젝트들은 캐리어(650), 캐리어(650) 상에 배치된 하나 이상의 프로세스 키트 링들(652), 배치 검증 웨이퍼(654), 기판 등을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 캐리어(650)가 제1 셸프(644) 및 제2 셸프(644) 상에 배치되고, 프로세스 키트 링들(652)이 셸프들(644)과 접촉하지 않으면서, 하나 이상의 프로세스 키트 링들(652)이 캐리어(650) 상에 배치된다. 각각의 셸프(644)는, 인클로저 시스템(600)이 이동되는 것(예컨대, 밀쳐지는 것, 빠르게 이동되는 것)에 대한 응답으로, 캐리어(650) 상의 정확한 위치로 프로세스 키트 링(652)을 안내하기 위한 오목부를 형성할 수 있다.
[0099] 일부 실시예들에서, 상부 윈도우(634)는 내부 볼륨에 배치된 오브젝트들의 배향 검증(예컨대, 자동 또는 수동 배향 검증)을 위해 구성된다. 일부 실시예들에서, 후방 윈도우(636)는 오브젝트들 중 하나 이상의 오브젝트들의 배향 조정(예컨대, 수동 또는 자동 배향 조정)을 위해 제거가능하다.
[00100] 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링들(652) 각각은 상부 윈도우(634)를 통해 볼 수 있는 대응하는 평탄한 부분(예컨대, 평탄한 내부 부분)을 갖는다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링들(652) 각각은 상부 윈도우(634)를 통해 볼 수 있는, 프로세스 키트 링(652)의 상부 표면(또는 하부 표면) 상의 피처(예컨대, 노치, 둘레 노치, 오목부, 마킹, 상부 표면 둘레 노치 등)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링들(652) 각각의 (예컨대, 상부 표면 상의) 평탄한 부분 및/또는 피처는 동시에(예컨대, 일제히) 상부 윈도우(634)를 통해 볼 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 캐리어(650)는 동시에 상부 윈도우(634)를 통해 볼 수 있는 캐리어 피처를 갖는다. 일부 실시예들에서, 각각의 캐리어(650)의 캐리어 피처, 각각의 프로세스 키트 링(652)의 상부 표면 상의 피처, 및 각각의 프로세스 키트 링(652)의 평탄한 부분은 상부 윈도우(634)를 통해 동시에 볼 수 있다. 프로세스 키트 링(652)의 평탄한 부분이 정확한 위치에 있지 않거나 또는 캐리어 피처가 정확한 위치에 있지 않은 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링(652) 및/또는 캐리어(650)의 배향을 조정하기 위해 후방 윈도우(636)가 제거될 수 있다. 프로세스 키트 링(652)의 상부 부분의 피처가 상부 윈도우(634)를 통해 볼 수 없는 것(예컨대, 상향 배향이 아닌 것, 홱 뒤집힌 것)에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링(652)을 뒤집기 위해 인클로저 덮개(630) 및/또는 인클로저 도어가 제거된다.
[00101] 기둥들(640) 각각의 대응하는 상부 표면은 인클로저 덮개(630)의 대응하는 컴포넌트와 제거가능하게 인터페이싱하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 기둥들(640) 각각의 대응하는 상부 표면은 인클로저 덮개(630)와 기둥들(640) 각각을 정렬하기 위해 인클로저 덮개(630)에 커플링된 테이퍼형 돌출부(예컨대, 패스너 등)를 수용하도록 구성된 테이퍼형 오목부를 형성한다.
[00102] 셸프들(644) 각각은 오브젝트들(예컨대, 도 1의 내용물(110)), 이를테면, 캐리어(650) 및/또는 프로세스 키트 링(652)을 정렬하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 셸프(644)는 셸프(644) 상에 오브젝트들을 정렬하도록 구성된 정렬 피처들 및/또는 표면들을 갖는다. 로봇 암이 부정확한 포지션으로 셸프(644) 상에 오브젝트를 배치하고 그리고/또는 인클로저 시스템(600)의 수송이 오브젝트의 이동을 유발하면, 정렬 피처들 및/또는 표면들은 오브젝트를 정확한 포지션으로 정렬한다. 일부 실시예들에서, 셸프(644)는 오브젝트를 셸프(644)에 고정하도록 구성된 유지 디바이스들을 갖는다.
[00103] 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(600)의 내부 볼륨은 국소 환경(예컨대, 밀봉된 환경)이다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(600)의 내부 볼륨은 실질적으로 입자가 없는(예컨대, 실질적으로 오염되지 않은) 상태로 유지된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(600)은 내부 볼륨 내의 임의의 입자들을 억제하는 팬을 (예컨대, 최상부 표면에) 포함한다. 일부 실시예들에서, 내부 볼륨에는 수분, 산소, 입자들(예컨대, 먼지) 등 중 하나 이상이 실질적으로 없다(또는 완전히 없다).
[00104] 인클로저 시스템(600)의 벽들 중 하나 이상은 전방 인터페이스를 형성할 수 있거나 또는 전방 인터페이스에 커플링될 수 있다. 전방 인터페이스는 인클로저 시스템(600)의 수송을 위한 도어와 인터페이싱하도록(예컨대, 이러한 도어에 대해 밀봉되도록) (그리고 예컨대 밀봉된 환경을 제공하도록) 구성된다. 전방 인터페이스는 기판 프로세싱 시스템의 로드 포트의 실질적으로 수직 부분과 인터페이싱하도록(예컨대, 이러한 실질적으로 수직 부분에 대해 밀봉되도록) 구성된다. 전방 인터페이스가 도어 또는 로드 포트에 대해 밀봉되는 것에 대한 응답으로, 인클로저 시스템(600)은 밀봉된 환경을 생성한다(예컨대, 가스들 및/또는 입자들이 기판 프로세싱 시스템 외부의 주변 환경으로부터 인클로저 시스템(600)에 진입하거나 또는 떠나지 않음).
[00105] 일부 실시예들에서, 최하부 벽(620)은 베이스플레이트(예컨대, 어댑터 플레이트)를 포함하거나 또는 베이스플레이트(예컨대, 어댑터 플레이트)에 커플링된다. 베이스플레이트는 로드 포트의 수평 부분과 인터페이싱하도록 구성된다. 베이스플레이트는 로드 포트의 수평 부분의 운동학적 디바이스들(예컨대, 운동학적 핀들, 정밀 위치된 핀들)을 수용하기 위한 피처들(예컨대, 오목부들, 리셉터클들, 운동학적 인터페이스)을 갖는다. 일부 실시예들에서, 베이스플레이트는 인클로저 시스템(600)이 로드 포트와 인터페이싱하기 전에 최하부 벽(620)에 고정된다. 일부 실시예들에서, 베이스플레이트는 로드 포트에 고정되고, 이어서, 최하부 벽(620)은 베이스플레이트에 고정된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(600)은 최하부 벽(620)에 있는 하나 이상의 개구들을 밀봉하기 위한 밀봉부(예컨대, 압착가능 밀봉부, 개스킷)를 갖는다.
[00106] 일부 실시예들에서, 오버헤드 수송 컴포넌트(632)(예컨대, 오버헤드 수송 플랜지) 또는 적어도 하나의 핸들(612) 중 하나 이상이 인클로저 시스템(600)의 수송(예컨대, 자동 수송, 수동 수송 등)을 위해 인클로저 시스템(600)의 하나 이상의 표면들에 커플링된다. 일부 실시예들에서, OHT(overhead transfer) 컴포넌트(632)는 인클로저 덮개(630)에 커플링(예컨대, 부착)된다. 일부 실시예들에서, 핸들(612A)은 측벽(610A) 상에 배치되고, 제2 핸들이 측벽(610B) 상에 배치된다.
[00107] 일부 실시예들에서, 하나 이상의 퍼지 어댑터들이 최하부 벽(620)에 배치된다(예컨대, 최하부 벽(620)에 형성된 개구들 내로 삽입됨). 퍼지 어댑터들은 인클로저 시스템(600)을 가스(예컨대, 질소(N2))로 채우는 것, 인클로저 시스템으로부터 가스를 제거하는 것, 인클로저 시스템(600)을 통해 가스를 통과시키는 것 등 중 하나 이상에 사용된다. 퍼지 어댑터들은 (예컨대, 인클로저 시스템(600)을 퍼지하는 것, 인클로저 시스템(600)에 진공을 생성하는 것, 인클로저 시스템(600)을 가스로 채우는 것 등을 위해) 가스 또는 진공 라인 중 하나 이상과 유체 커플링되도록 베이스플레이트를 통해 연장된다. 퍼지 어댑터들 각각은 (예컨대, 밀봉된 환경을 제공하기 위해) 최하부 벽(620)에 있는 대응하는 개구에 밀봉부를 제공한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 시스템(600)은 로드 포트에 도킹되는 것에 대한 응답으로 로드 포트에 대해 밀봉된다. 인클로저 시스템(600)의 내부 볼륨은, 인클로저 시스템(600)의 개방 전에 하나 이상의 퍼지 어댑터들을 통해 퍼지되도록 구성된다.
[00108] 도 6b를 참조하면, 인클로저 시스템(600)은 측벽들(610A-610B), 후방 벽들(614A-614C) 및/또는 최하부 벽(620) 중 하나 이상을 포함하는 벽들을 포함한다. 인클로저 덮개(630)는 (예컨대, 버튼 헤드 스크루들과 같은 하나 이상의 패스너들(674)을 통해) 인클로저 시스템(600)의 벽들 중 하나 이상에 커플링되도록 구성된다. 인클로저 덮개(630)는 상부 윈도우를 포함한다. 후방 벽들(614) 중 하나 이상은 후방 윈도우(636)를 포함한다. 후방 윈도우들(636) 중 하나 이상은 캐리어들(650), 프로세스 키트 링들(652) 및/또는 배치 검증 웨이퍼(654) 중 하나 이상의 배향을 조정하기 위해 제거가능하다. 오버헤드 수송 컴포넌트(632)가 인클로저 덮개(630)에 커플링될 수 있다.
[00109] 기둥들(640)은 (예컨대, 베이스 커넥터(642) 및 하나 이상의 패스너들(674)을 통해) 최하부 벽(620)에 커플링된다. 기둥들(640)은 인클로저 덮개(630)와 제거가능하게 인터페이싱한다. 일부 실시예들에서, 각각의 기둥(640)의 상부 표면은 오목부(672)를 형성하고, 인클로저 덮개(630)의 컴포넌트(670)(예컨대, 패스너(674), 돌출부, 파일럿 핀 등)가 오목부(672)(예컨대, 슬리브, 플라스틱 슬리브, 나일론 슬리브 등)와 인터페이싱한다. 일부 실시예들에서, 인클로저 덮개(630)를 기둥들(640)과 정렬하기 위해, 오목부(672)는 테이퍼형 오목부이고 컴포넌트(670)는 테이퍼형 돌출부이다. 셸프들(644)은 (예컨대, 패스너들(674)을 통해) 기둥들(640)에 커플링된다. 캐리어(650)가 2 개의 셸프들(644) 상에 배치된다. 배치 검증 웨이퍼(654)가 2 개의 셸프들 상에 배치된다. (예컨대, 하나 이상의 프로세스 키트 링들(652)이 셸프(644)와 접촉하지 않으면서) 이러한 하나 이상의 프로세스 키트 링들은 캐리어(650) 상에 배치된다.
[00110] 일부 실시예들에서, 셸프(644)는 셸프(644) 상에 캐리어(650)를 정렬하기 위한 경사진 표면(680A)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 셸프(644)는, 인클로저 시스템(600)의 이동(예컨대, 밀침, 빠른 이동 등)에 대한 응답으로 캐리어(650) 상에 프로세스 키트 링(652)을 정렬하기 위해, 경사진 표면들(680B-680C)에 의해 형성된 오목부(682)(예컨대, 딥 포켓 셸프들(644)의 포켓)를 포함한다.
[00111] 도 6c를 참조하면, 각각의 셸프(644)는 패스너들(674)을 통해 2 개의 기둥들(640)에 커플링(예컨대, 체결, 부착 등)될 수 있다. 2 개의 기둥들(640)은 동일한 베이스 커넥터(642)를 통해 최하부 벽(620)에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 인클로저 도어(690)는 인클로저 시스템(600)의 벽들 및/또는 인클로저 덮개(630) 중 하나 이상에 제거가능하게 커플링(예컨대, 부착, 클램핑, 밀봉 등)되도록 구성된다.
[00112] 도 6d를 참조하면, 프로세스 키트 링(652)은 상부 윈도우를 통해 볼 수 있어야 하는, 프로세스 키트 링들(652) 각각의 상부 표면 피처(662)(예컨대, 노치, 마킹, 오목부 등) 및/또는 평탄한 표면(660)(예컨대, 평탄한 내부 표면 등)을 갖는다. 평탄한 표면(660)이 상부 윈도우를 통해 볼 때에 정확한 위치에 있지 않은 것에 대한 응답으로, 프로세스 키트 링(652)의 배향이 조정(예컨대, 정확한 위치에 위치되도록 회전)되어야 한다. 상부 표면 피처(662)가 보이지 않는 것에 대한 응답으로, (예컨대, 상부 표면 피처(662)가 하향 대신 상향으로 배향되도록) 프로세스 키트 링(652)은 뒤집혀야 한다. 일부 실시예들에서, 캐리어는 프로세스 키트 링(652)의 평탄한 표면(660)에 근접하게 배치된 캐리어 피처(664)(예컨대, 오목부, 컷-아웃)를 갖는다. 캐리어 피처(664)는, 캐리어(650)가 정확하게 배향되는지 여부를 결정하기 위해 인클로저 덮개의 상부 윈도우를 통해 볼 수 있다. 일부 실시예들에서, 캐리어(650)는 프로세스 키트 링(652)을 지지하는 핑거들(692)을 포함한다.
[00113] 도 6e 및 도 6f를 참조하면, 하나 이상의 프로세스 키트 링들(652)(예컨대, 프로세스 키트 링들(652A-652B))을 지지하는 캐리어(650)가 셸프(644) 상으로 하강되어야 한다. 셸프는 패스너(674)를 통해 기둥(640)에 연결된다. 일부 실시예들에서, 컴포넌트(676)가 추가로, 셸프(644)를 기둥(640)에 커플링한다. 일부 예들에서, 셸프는 하나 이상의 컴포넌트들(676)(예컨대, 파일럿 핀 등)을 통해 기둥(640)에 연결되고, 이어서 패스너(674)가 셸프(644)를 기둥(640)에 고정한다.
[00114] 일부 실시예들에서, 하나가 다른 하나 위에 있는 식으로 적층된 프로세스 키트 링들(652)의 세트가 캐리어(650)에 의해 지지된다. 일부 실시예들에서, 셸프(644)는 셸프(644) 상에 캐리어(650)를 정렬하기 위한 경사진 표면(680A)(예컨대, 캐리어 정렬 피처)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 셸프(644)는, 인클로저 시스템(600)의 이동(예컨대, 밀침, 빠른 이동 등)에 대한 응답으로 캐리어(650) 상에 프로세스 키트 링(652)을 정렬하기 위해, 경사진 표면들(680B-680C)(예컨대, 프로세스 키트 링 정렬 피처들)에 의해 형성된 오목부(682)(예컨대, 딥 포켓 셸프들(644)의 포켓)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 프로세스 키트 링들(652)은 셸프(644)와 접촉하지 않으면서 오목부(682) 위에 또는 오목부(682)에 배치된다.
[00115] 일부 실시예들에서, 셸프(644)는 캐리어 유지 디바이스(694)(예컨대, 도 4a 내지 도 4e의 캐리어 유지 디바이스(460), 캐리어(650)를 고정하기 위한 자체-작동 후크)를 포함한다. (예컨대, 프로세스 키트 링들(652)을 지지하는) 캐리어(650)를 셸프(644)(예컨대, 경사진 표면(680A)) 상으로 하강(예컨대, 로봇 암을 통해 하강)시키자마자, 캐리어(650)는 캐리어 유지 디바이스(694)의 제1 단부 부분과 맞물려서(예컨대, 캐리어 유지 디바이스(694)의 제1 단부 부분을 아래로 푸시하여서), 캐리어 유지 디바이스(694)의 제2 단부 부분이 캐리어(650)를 유지하게 한다. 캐리어 유지 디바이스(694)는 비-고정 포지션으로부터 고정 포지션으로 축(696)을 중심으로 회전할 수 있다. 일부 예들에서, 캐리어(650)를 캐리어 유지 디바이스(694)의 제1 단부 부분 상으로 하강시키는 것은, 제1 단부 부분이 (예컨대, 셸프(644)의 제1 상부 표면과 실질적으로 평행하게 되도록) 셸프(644) 내로 푸쉬되고 제2 단부 부분이 캐리어(650)의 적어도 일부분 위의 포지션으로 회전되도록, (예컨대, 축(696)을 중심으로) 캐리어 유지 디바이스(694)를 회전시킨다. 일부 실시예들에서, 잠금 디바이스(예컨대, 도 4a 내지 도 4e의 잠금 디바이스(480))는 캐리어 유지 디바이스(694)를 비-고정 포지션으로 또는 고정 포지션으로 잠그기 위해 (예컨대, 도어(690)를 인클로저 시스템(600)에 고정하는 것에 대한 응답으로) 오목부(698) 내로 삽입되도록 구성된다. 캐리어(650)를 셸프(644) 상에 배치하고 ―이는 캐리어 유지 디바이스(694)를 비-고정 포지션(예컨대, 도 6e)으로부터 고정 포지션(예컨대, 도 6f)으로 회전시킴―, 도어(690)를 인클로저 시스템(600)에 고정하여 잠금 디바이스를 오목부(698) 내로 삽입함으로써, 도어(690)가 인클로저 시스템(600)으로부터 제거될 때까지, 캐리어는 캐리어 유지 디바이스(694)에 의해 고정된다.
[00116] 도 6g 및 도 6h를 참조하면, 캐리어 유지 디바이스(694)(예컨대, 래치, PET 래치)는 축(696)(예컨대, 핀)을 중심으로 피벗팅(pivot)할 수 있다. 잠금 디바이스(622)는 로드(rod)(624)(예컨대, 스테인리스 강 로드), (예컨대, 도어(690), UHMW(ultra high molecular weight) 폴리에틸렌 캡 등과 접촉하기 위한 캡(626)), 가이드 컴포넌트(628)(예컨대, 가이드, 커넥터 너트, UHMW 폴리에틸렌 가이드 등) 및/또는 스프링(629)을 포함할 수 있다. (예컨대, 도어(690)가 인클로저 시스템(600)에 고정되어 있지 않은) 비-잠금 포지션에서, 스프링(629)이 팽창되어, 오목부(698)로부터 로드(624)가 제거되며, 이는 캐리어 유지 디바이스(694)가 고정된 포지션과 고정되지 않은 포지션 사이에서 이동할 수 있게 한다. (예컨대, 도어(690)가 인클로저 시스템(600)에 고정되어 있는) 잠금 포지션에서, 스프링(629)은 압축되고, 로드(624)는 오목부(698)에 있으며, 이는 캐리어 유지 디바이스(694)가 고정된 포지션과 고정되지 않은 포지션 사이에서 이동하는 것을 방지한다(예컨대, 캐리어(650)를 셸프(644)에 잠금).
[00117] 일부 실시예들에서, 각각의 셸프(644)는 캐리어 유지 디바이스(694) 및/또는 잠금 디바이스(622)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 동일 평면 상에 있는(예컨대, 둘 모두가 동일한 캐리어(650)를 지지하는) 2 개의 셸프들(644) 둘 모두는 캐리어 유지 디바이스(694) 및/또는 잠금 디바이스(622)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 동일 평면 상에 있는(예컨대, 둘 모두가 동일한 캐리어(650)를 지지하는) 2 개의 셸프들(644) 중 적어도 하나는 캐리어 유지 디바이스(694) 및/또는 잠금 디바이스(622)를 포함한다.
[00118] 구체적으로 달리 진술되지 않는 한, "수송", "이동", "하강", "유발", "고정", "제거", "배치", "처분(disposing)", "작동", "위치", "폐쇄", "잠금" 등과 같은 용어들은, 컴퓨터 시스템 레지스터들 및 메모리들 내에서 물리적(전자) 수량들로서 표현되는 데이터를, 컴퓨터 시스템 메모리들 또는 레지스터들 또는 다른 그러한 정보 저장, 송신 또는 디스플레이 디바이스들 내에서 물리적 수량들로서 유사하게 표현되는 다른 데이터로 변환 및 조작하는, 컴퓨터 시스템들에 의해 수행 또는 구현되는 액션들 및 프로세스들을 지칭한다. 또한, 본원에서 사용된 바와 같은 "제1", "제2", "제3", "제4" 등의 용어들은 상이한 엘리먼트들을 구별하기 위한 라벨들로서 여겨지며, 이들의 수치 지정에 따른 서수적 의미를 갖지 않는다.
[00119] 본원에서 설명된 예들은 또한, 본원에서 설명된 방법들을 수행하기 위한 장치에 관한 것이다. 일부 실시예들에서, 이 장치는 본원에서 설명된 방법들을 수행하기 위해 특별히 구성되거나, 또는 이 장치는 컴퓨터 시스템에 저장된 컴퓨터 프로그램에 의해 선택적으로 프로그래밍된 범용 컴퓨터 시스템을 포함한다. 일부 실시예들에서, 그러한 컴퓨터 프로그램은 컴퓨터 판독가능한 유형의 저장 매체에 저장된다.
[00120] 본원에서 설명된 방법들 및 예시적인 예들은 본질적으로, 임의의 특정 컴퓨터 또는 다른 장치와 관련되지 않는다. 다양한 범용 시스템들이 본원에서 설명된 교시들에 따라 사용될 수 있거나, 또는 더 전문화된 장치가 본원에서 설명된 방법들 및/또는 이들의 개별적인 기능들, 루틴들, 서브루틴들 또는 동작들 각각을 수행하도록 구성될 수 있다. 다양한 이들 시스템들에 대한 구조의 예들은 위의 설명에서 제시된다.
[00121] 전술한 설명은 본 개시내용의 여러 실시예들의 우수한 이해를 제공하기 위해서 특정 시스템들, 컴포넌트들, 방법들 등의 예들과 같은 많은 특정 세부사항들을 제시한다. 그러나, 본 개시내용의 적어도 일부 실시예들이 이들 특정 세부사항들 없이 실시될 수 있다는 것이 당업자에게 자명할 것이다. 다른 사례들에서, 잘 알려진 컴포넌트들 또는 방법들은 본 개시내용을 불필요하게 모호하게 하는 것을 회피하기 위해서 상세하게 설명되지 않거나 또는 간단한 블록 다이어그램 형식으로 제시된다. 따라서, 제시된 특정 세부사항들은 단지 예시적일 뿐이다. 특정 구현들은 이들 예시적인 세부사항들로부터 변할 수 있으며, 여전히 본 개시내용의 범위 내에 있는 것으로 고려될 수 있다.
[00122] 본 명세서 전반에 걸쳐 "일 실시예" 또는 "실시예"에 대한 언급은, 실시예와 관련하여 설명된 특정 특징, 구조 또는 특성이 적어도 하나의 실시예에 포함된다는 것을 의미한다. 따라서, 본 명세서 전반에 걸쳐 다양한 장소들에서 "일 실시예에서" 또는 "실시예에서"란 문구의 출현들이 반드시 모두가 동일한 실시예를 지칭하는 것은 아니다. 부가하여, "또는"이란 용어는 배타적인 "또는"이 아닌, 포함적인 "또는"을 의미하는 것으로 의도된다. "약" 또는 "대략"이란 용어가 본원에서 사용되는 경우, 이는 제시된 공칭 값이 ± 10% 이내에서 정확함을 의미하는 것으로 의도된다.
[00123] 본원의 방법들의 동작들이 특정 순서로 도시 및 설명되지만, 특정 동작들이 적어도 부분적으로 다른 동작들과 동시에 수행되게 특정 동작들이 역순으로 수행되도록, 각각의 방법의 동작들의 순서는 변경될 수 있다. 다른 실시예에서, 별개의 동작들의 하위-동작들 또는 명령들은 간헐적 및/또는 교대 방식으로 이루어진다.
[00124] 위의 설명은 제한이 아닌 예시적인 것으로 의도된다는 것이 이해된다. 위의 설명을 읽고 이해할 때, 많은 다른 실시예들이 당업자들에게 자명할 것이다. 그러므로, 본 개시내용의 범위는, 첨부된 청구항들과 함께, 그러한 청구항들에게 부여되는 등가물들의 전체 범위를 참조하여 결정되어야 한다.

Claims (20)

  1. 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프(shelf)들의 세트로서,
    제1 셸프를 포함하고,
    상기 제1 셸프는,
    제1 평면에 실질적으로 배치된 복수의 제1 상부 표면들;
    상기 복수의 제1 상부 표면들 상에 캐리어를 정렬하도록 구성된 복수의 캐리어 정렬 피처(feature)들 ― 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은 상기 복수의 제1 상부 표면들 위에 배치되고, 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은, 상기 캐리어의 제1 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들 및 상기 캐리어의 제2 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들을 포함함 ―;
    상기 제1 평면 위에 있는 제2 평면에 실질적으로 배치된 복수의 제2 상부 표면들; 및
    상기 복수의 제2 상부 표면들 위에서 상기 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들 ― 상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 복수의 제2 상부 표면들 위에 배치됨 ― 을 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 셸프는 동일 평면 상에 있는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고;
    상기 복수의 제1 상부 표면들은 상기 제1 부분의 제1 상부 표면 및 상기 제2 부분의 제3 상부 표면을 포함하고;
    상기 복수의 제2 상부 표면들은 상기 제1 부분의 제2 상부 표면 및 상기 제2 부분의 제4 상부 표면을 포함하고;
    상기 제1 부분은 상기 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들을 포함하고, 상기 제2 부분은 상기 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들을 포함하고; 그리고
    상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 제1 부분의 하나 이상의 제1 프로세스 키트 링 정렬 피처들 및 상기 제2 부분의 하나 이상의 제2 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 부분은 상기 인클로저 시스템의 하나 이상의 제1 컴포넌트들에 상기 제1 부분을 부착하도록 구성된 하나 이상의 제1 부착 피처들을 더 포함하고; 그리고
    상기 제2 부분은 상기 인클로저 시스템의 하나 이상의 제2 컴포넌트들에 상기 제2 부분을 부착하도록 구성된 하나 이상의 제2 부착 피처들을 더 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 제1 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 제5 측벽을 포함하고;
    상기 하나 이상의 제2 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 제6 측벽을 포함하고; 그리고
    상기 제5 측벽 및 상기 제6 측벽은 상기 캐리어 상에 상기 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제5 측벽은 상기 제1 상부 표면으로부터 100도 내지 110도 각도에 있고; 그리고
    상기 제6 측벽은 상기 제3 상부 표면으로부터 100도 내지 110도 각도에 있는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들은 제1 측벽을 포함하고;
    상기 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들은 제2 측벽을 포함하고; 그리고
    상기 제1 측벽 및 상기 제2 측벽은 상기 캐리어의 x-방향 이동 및 요(yaw) 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 측벽은 상기 제1 상부 표면으로부터 120도 내지 150도 각도에 있고; 그리고
    상기 제2 측벽은 상기 제3 상부 표면으로부터 120도 내지 150도 각도에 있는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들은 제3 측벽을 포함하고;
    상기 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들은 제4 측벽을 포함하고; 그리고
    상기 제3 측벽 및 상기 제4 측벽은 상기 캐리어의 y-방향 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제1 상부 표면 및 상기 제3 상부 표면은 상기 캐리어의 z-방향 이동, 피치(pitch) 이동 및 롤(roll) 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 셸프들의 세트에 상기 캐리어를 고정하도록 구성된 하나 이상의 캐리어 유지 디바이스들을 더 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치되도록 구성된 하나 이상의 셸프들의 세트.
  11. 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템으로서,
    상기 인클로저 시스템의 내부 볼륨을 적어도 부분적으로 둘러싸는 복수의 표면들; 및
    상기 인클로저 시스템의 상기 내부 볼륨 내에 적어도 부분적으로 배치된 하나 이상의 셸프들의 세트를 포함하며,
    상기 하나 이상의 셸프들의 세트는,
    제1 셸프를 포함하고,
    상기 제1 셸프는,
    제1 평면에서 상기 제1 셸프 상에 캐리어를 정렬하도록 구성된 복수의 캐리어 정렬 피처들 ― 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은, 상기 캐리어의 제1 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들 및 상기 캐리어의 제2 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들을 포함함 ―; 및
    상기 제1 평면 위의 제2 평면에서 상기 캐리어 상에 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성된 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들 ― 상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들 위에 배치됨 ― 을 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 셸프는 동일 평면 상에 있는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고,
    상기 제1 부분은 상기 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들을 포함하고 상기 제2 부분은 상기 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들을 포함하며,
    상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 제1 부분의 하나 이상의 제1 프로세스 키트 링 정렬 피처들 및 상기 제2 부분의 하나 이상의 제2 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은 제1 측벽 및 제2 측벽을 포함하고, 상기 제1 측벽 및 상기 제2 측벽은 상기 캐리어의 x-방향 이동 및 요 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은 제3 측벽 및 제4 측벽을 더 포함하고, 상기 제3 측벽 및 상기 제4 측벽은 상기 캐리어의 y-방향 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 제1 셸프는, 제1 평면에 있고 그리고 상기 캐리어의 z-방향 이동, 피치 이동 및 롤 이동을 방지하도록 구성되는, 제1 상부 표면 및 제3 상부 표면을 더 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  16. 제11 항에 있어서,
    상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 캐리어 상에 상기 프로세스 키트 링을 정렬하도록 구성되는 복수의 측벽들을 포함하는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 캐리어는 상기 프로세스 키트 링의 x-방향 이동, y-방향 이동, z-방향 이동, 피치 이동 및 롤 이동을 방지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  18. 제16 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 셸프들의 세트를 포함하는 하나 이상의 셸프들의 복수의 세트들을 더 포함하며, 상기 복수의 세트들의 각각의 세트는 대응하는 캐리어, 대응하는 프로세스 키트 링, 대응하는 배치 검증 웨이퍼, 또는 상기 기판 프로세싱 시스템의 컴포넌트 중 하나 이상을 지지하도록 구성되는,
    기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템.
  19. 기판 프로세싱 시스템의 인클로저 시스템 내에 배치된 하나 이상의 셸프들의 세트의 제1 셸프 위의 포지션으로 프로세스 키트 링을 지지하는 캐리어를 수송하는 단계; 및
    상기 프로세스 키트 링을 지지하는 상기 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 상기 캐리어가 상기 제1 셸프의 복수의 캐리어 정렬 피처들을 통해 제1 평면에서 상기 제1 셸프 상에 정렬되게 하고, 상기 프로세스 키트 링이 상기 제1 셸프의 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들을 통해 제2 평면에서 상기 캐리어 상에 정렬되게 하는 단계 ― 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들은, 상기 캐리어의 제1 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제1 캐리어 정렬 피처들 및 상기 캐리어의 제2 원위 단부에 근접하게 배치되도록 구성된 하나 이상의 제2 캐리어 정렬 피처들을 포함하고, 상기 복수의 프로세스 키트 링 정렬 피처들은 상기 복수의 캐리어 정렬 피처들 위에 배치됨 ― 를 포함하는,
    방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 프로세스 키트 링을 지지하는 상기 캐리어를 하강시키는 것에 대한 응답으로, 상기 제1 셸프의 하나 이상의 유지 디바이스들을 통해 상기 제1 셸프에 상기 캐리어를 고정하는 단계를 더 포함하는,
    방법.
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