KR102810096B1 - Light curable coating composition having high transparency and high water repellency, manufacturing method of the same, and forming method of coating layer having high transparency and high water repellency - Google Patents
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Abstract
실란, 상기 실란에 결합된 반응기 및 과불화기를 포함하는 베이스 코팅 조성물, 및 상기 베이스 코팅 조성물과 결합된 광 경화성 고분자물질을 포함하되, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물의 첨가량이 조절된, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물이 제공된다.A photocurable coating composition having high transparency and high water repellency is provided, comprising a base coating composition comprising a silane, a reactive group and a perfluorinated group bonded to the silane, and a photocurable polymer material bonded to the base coating composition, wherein the amount of the base coating composition added is controlled according to at least one use selected from among high transparency use and high water repellency use.
Description
본 발명은 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물, 그의 제조방법, 및 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법에 관련된 것으로, 보다 구체적으로는, 트레이드 오프(trade off) 관계에 있는 투명성과 발수성을 동시에 획득하면서도, 부착성 및 자가세정 특성이 우수하되, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물, 그의 제조방법, 및 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법에 관련된 것이다.The present invention relates to a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, a method for producing the same, and a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency. More specifically, the present invention relates to a photocurable coating composition having excellent adhesion and self-cleaning characteristics while simultaneously obtaining transparency and water repellency in a trade-off relationship, a method for producing the same, and a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency.
종래에는, 코팅 조성물에서 투명성 및 발수성을 확보하기 위한 방법의 일례로, 소수성을 가지는 무기 나노입자를 고분자 수지에 혼합하여 제조하는 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 제조방법이 이용될 수 있다.Conventionally, as an example of a method for securing transparency and water repellency in a coating composition, a method for producing an organic-inorganic hybrid coating composition can be used by mixing hydrophobic inorganic nanoparticles into a polymer resin.
보다 구체적으로, 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 제조방법은, 예를 들어, 졸겔법을 이용한 실리카 코팅 조성물의 제조방법을 포함할 수 있다. 예를 들어, 대한민국 등록특허공보 10-1523327에는, (a) 콜로이달 실리카와 소디움 실리케이트를 혼합하는 단계, (b) 상기 (a) 단계에서 제조된 혼합물에 물을 첨가함으로써 가수분해하여 실리케이트졸을 제조하는 단계, (c) 상기 제조된 실리케이트졸에 산 용액을 첨가하여 실리케이트졸을 안정화하는 단계, (d) 상기 안정화된 실리케이트졸에 실리카 에어로겔, 산화알루미늄 및 탈크를 첨가하고 혼합하는 단계, 및 (e) 상기 (d) 단계에서 제조된 혼합물에 발수제 및 계면활성제를 첨가하고 혼합하는 단계를 포함하는 졸겔법을 이용한 불연성 단열 코팅 접착제의 제조방법이 개시되어 있다. More specifically, the conventional method for producing an organic-inorganic hybrid coating composition may include, for example, a method for producing a silica coating composition using a sol-gel method. For example, Korean Patent Publication No. 10-1523327 discloses a method for producing a non-flammable insulating coating adhesive using a sol-gel method, including: (a) a step of mixing colloidal silica and sodium silicate, (b) a step of hydrolyzing the mixture prepared in step (a) by adding water to the mixture to produce a silicate sol, (c) a step of stabilizing the silicate sol by adding an acid solution to the prepared silicate sol, (d) a step of adding silica aerogel, aluminum oxide, and talc to the stabilized silicate sol and mixing them, and (e) a step of adding a water repellent and a surfactant to the mixture prepared in step (d) and mixing them.
하지만 종래의 코팅 조성물 제조방법과 같이, 코팅 조성물에서 투명성 및 발수성을 확보하기 위하여, 소수성 무기 나노입자를 고분자 수지와 혼합하는 경우, 무기 나노입자의 표면 개질과 같은 추가 공정이 요구될 수 있다. 또는, 상술된 바와 같이 소수성 무기 나노입자를 고분자 수지와 혼합하는 경우에는, 코팅 조성물의 점도가 증가하기 때문에 점도를 낮추기 위한 유기 용제 등이 추가로 첨가되어야 하는 번거로움이 있을 수 있다.However, as in the conventional coating composition manufacturing method, when mixing hydrophobic inorganic nanoparticles with a polymer resin to secure transparency and water repellency in the coating composition, additional processes such as surface modification of the inorganic nanoparticles may be required. Or, as described above, when mixing hydrophobic inorganic nanoparticles with a polymer resin, there may be the inconvenience of additionally adding an organic solvent to lower the viscosity because the viscosity of the coating composition increases.
뿐만 아니라, 상술된 바와 같은 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 제조방법의 경우, 휘발성유기화합물(VOC: volatile organic compounds)이 발생되는 문제가 있을 수 있다.In addition, in the case of the conventional method for manufacturing an organic-inorganic hybrid coating composition as described above, there may be a problem of generating volatile organic compounds (VOC).
한편 다른 관점에서, 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물은, 다량의 무기 나노입자를 포함하기 때문에, 기재에 부착되는 부착력 관점에서 부착력이 저하될 수 있다. 나아가, 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물은 기재에 부착되어 사용되는 중에, 기재의 표면에서 무기 나노입자의 박리가 발생되어 표면물성이 저하되는 문제가 발생될 수도 있다.On the other hand, from another perspective, since the conventional organic-inorganic hybrid coating composition contains a large amount of inorganic nanoparticles, the adhesion strength may be reduced in terms of the adhesion strength to the substrate. Furthermore, when the conventional organic-inorganic hybrid coating composition is used while attached to the substrate, the inorganic nanoparticles may peel off from the surface of the substrate, which may cause a problem in that the surface properties are reduced.
또한, 종래와 같이 소수성 무기 나노입자를 포함하는 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 경우, 무기 나노입자를 포함하기 때문에, 코팅 시에는 고온 공정이 요구될 수 있으며, 코팅 후에는 충격에 취약한 문제가 발생될 수도 있다.In addition, in the case of a conventional organic-inorganic hybrid coating composition including hydrophobic inorganic nanoparticles, a high-temperature process may be required during coating because it includes inorganic nanoparticles, and there may be a problem of vulnerability to impact after coating.
한편, 종래의 유무기 하이브리드형 광 경화형 코팅 조성물의 제조방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물은, 투명성 및 발수성에 한계가 있었다.Meanwhile, photo-curable coating compositions manufactured using conventional methods for manufacturing organic-inorganic hybrid photo-curable coating compositions had limitations in transparency and water repellency.
또한, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물은, 투명성 및 발수성 중에서 선택되는 어느 하나의 물성만이 상대적으로 우수한 특징이 있었다.In addition, the photocurable coating composition manufactured by the conventional method had the characteristic of being relatively excellent in only one property selected from transparency and water repellency.
이는, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물의 경우, 투명성과 발수성이 트레이드 오프(trade off) 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어렵기 때문일 수 있다.This may be because, in the case of a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, transparency and water repellency are in a trade-off relationship, making it difficult to obtain them simultaneously.
따라서, 종래의 유무기 하이브리드형 광 경화형 코팅 조성물로는, 실질적으로 고투명성 및 고발수성을 제공하기 어려운 실정이다.Therefore, it is difficult to provide high transparency and high water repellency with a conventional organic-inorganic hybrid photo-curable coating composition.
이에, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need for a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 트레이드 오프(trade off) 관계에 있는 투명성과 발수성을 동시에 획득할 수 있는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물, 그의 제조방법, 및 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 제공하는 데 있다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, which can simultaneously obtain transparency and water repellency in a trade-off relationship, a method for producing the same, and a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는, 부착성이 우수한, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물, 그의 제조방법, 및 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 제공하는 데 있다.Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a photocurable coating composition having excellent adhesion, high transparency and high water repellency, a method for producing the same, and a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 자가세정 특성이 우수한, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물, 그의 제조방법, 및 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 제공하는 데 있다.Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a photocurable coating composition having excellent self-cleaning characteristics, high transparency and high water repellency, a method for producing the same, and a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 상술된 것에 제한되지 않는다.The technical problems to be solved by the present invention are not limited to those described above.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물을 제공한다.To solve the above technical problems, the present invention provides a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency.
일 실시 예에 따르면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물은, 실란, 상기 실란에 결합된 반응기 및 과불화기를 포함하는 베이스 코팅 조성물, 및 상기 베이스 코팅 조성물과 결합된 광 경화성 고분자물질을 포함하되, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물의 첨가량이 조절될 수 있다.According to one embodiment, the photocurable coating composition having high transparency and high water repellency comprises a base coating composition including a silane, a reactive group bonded to the silane and a perfluorinated group, and a photocurable polymer material bonded to the base coating composition, wherein the amount of the base coating composition added can be adjusted depending on at least one use selected from a high transparency use and a high water repellency use.
일 실시 예에 따르면, 상기 베이스 코팅 조성물은, 하이퍼브랜치(hyperbranch) 구조를 가질 수 있다.According to one embodiment, the base coating composition may have a hyperbranch structure.
일 실시 예에 따르면, 상기 반응기는, 티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment, the reactor may comprise at least one of a thiol and a methacrylate.
일 실시 예에 따르면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각 중에서 적어도 어느 하나의 물성을 가질 수 있다.According to one embodiment, the photo-curable coating composition having high transparency and high water repellency can have at least one of a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4˚ or more and 132.9˚ or less.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법을 제공한다.To solve the above technical problems, the present invention provides a method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency.
일 실시 예에 따르면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법은, 실란 및 상기 실란에 결합된 반응기를 포함하는 제1 소스로부터, 소스 조성물을 제조하는 단계, 상기 소스 조성물과 과불화기를 포함하는 제2 소스를 혼합하여, 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계, 및 상기 베이스 코팅 조성물과 광 경화성 고분자물질을 포함하는 제3 소스를 혼합하여, 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency may include the steps of: preparing a source composition from a first source including silane and a reactive group bonded to the silane; mixing the source composition with a second source including a perfluorinated group to produce a base coating composition; and mixing the base coating composition with a third source including a photocurable polymer material to produce the photocurable coating composition.
일 실시 예에 따르면, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 소스 조성물은, 하이퍼브랜치 구조를 가질 수 있다.According to one embodiment, in the step of preparing the source composition, the source composition may have a hyperbranched structure.
일 실시 예에 따르면, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계는, 상기 제1 소스와 가소제를 혼합하고 부산물로 메탄올이 형성되는 제1 온도범위에서 열처리하여, 상기 소스 조성물을 제조하는 것을 포함하되, 상기 제1 온도범위는, 100 ℃ 이상 내지 160 ℃ 이하를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the step of preparing the source composition comprises mixing the first source and the plasticizer and heat-treating at a first temperature range in which methanol is formed as a byproduct, thereby preparing the source composition, wherein the first temperature range may include 100° C. or more and 160° C. or less.
일 실시 예에 따르면, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계는, 상온보다 높은 제2 온도범위의 용매 중에, 상기 소스 조성물 및 상기 제2 소스와 촉매를 혼합하여, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되, 상기 제2 소스는, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 30 중량% 이상 내지 50 중량% 이하로 첨가되고, 상기 제2 온도범위는, 40 ℃ 이상 내지 50 ℃ 이하를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the step of preparing the base coating composition includes mixing the source composition and the second source and a catalyst in a solvent at a second temperature range higher than room temperature, thereby preparing the base coating composition, wherein the second source is added in an amount of 30 wt% or more to 50 wt% or less relative to the total weight of the base coating composition, and the second temperature range may include 40° C. or more to 50° C. or less.
일 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계는, 상기 베이스 코팅 조성물 및 상기 제3 소스와 희석제를 혼합하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되, 상기 제3 소스와 상기 희석제는, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 전체 중량 대비 60 중량%:40 중량%로 혼합되는 것을 포함하고, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가될 수 있다.According to one embodiment, the step of preparing the photocurable coating composition includes mixing the base coating composition and the third source and a diluent, thereby preparing the photocurable coating composition, wherein the third source and the diluent are mixed in an amount of 60 wt%:40 wt% based on the total weight of the third source and the diluent, and the base coating composition can be added in an amount of more than 1 part to less than 7 parts based on the mixed weight % of the third source and the diluent.
일 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고투명성 용도 및 고발수성 용도로 사용되는 경우, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스는, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되고, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가될 수 있다.According to one embodiment, when the photocurable coating composition is used for high transparency applications and high water repellency applications, in the step of preparing the base coating composition, the second source may be added in an amount of 40 wt% based on the total weight of the base coating composition, and in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of more than 1 part and less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source and the diluent.
일 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고투명성 용도로 사용되는 경우, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가되고, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 이상 내지 3 part 이하로 첨가될 수 있다.According to one embodiment, when the photocurable coating composition is used for high transparency purposes, in the step of preparing the base coating composition, if the second source is added in an amount of 40 wt% based on the total weight of the base coating composition, in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of more than 1 part to less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source and the diluent, and in the step of preparing the base coating composition, if the second source is added in an amount of 50 wt% based on the total weight of the base coating composition, in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of 1 part to 3 parts based on the mixed weight % of the third source and the diluent.
일 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고발수성 용도로 사용되는 경우, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 30 중량%로 첨가되면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가되고, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 이하로 첨가되고, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가, 상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 4 part 이하로 첨가될 수 있다.According to one embodiment, when the photocurable coating composition is used for a highly hydrophobic purpose, in the step of preparing the base coating composition, if the second source is added in an amount of 30 wt% based on the total weight of the base coating composition, in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of more than 1 part to 7 parts or less based on the mixed weight % of the third source and the diluent, and in the step of preparing the base coating composition, if the second source is added in an amount of 40 wt% based on the total weight of the base coating composition, in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of more than 1 part to 6 parts or less based on the mixed weight % of the third source and the diluent, and in the step of preparing the base coating composition, if the second source is added in an amount of 50 wt% based on the total weight of the base coating composition, in the step of preparing the photocurable coating composition, the base coating composition may be added in an amount of more than 1 part to 4 parts or less based on the mixed weight % of the third source and the diluent.
일 실시 예에 따르면, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제1 소스는, 상기 반응기로 티올 및 메타아크릴레이트 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스는, 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(tridecafluorooctyl acrylate) 및 퍼플루오로데칸티올(perfluorodecanethiol) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 용매는, 크롤로폼(chloroform)을 포함하고, 상기 촉매는, 트리에틸아민(triethylamine)을 포함하고, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제3 소스는, 상기 광 경화성 고분자물질로 우레탄올리고머(urethane oligomer)를 포함하고, 상기 희석제는, 헥산다이올 다이아크릴레이트(hexanediol diacrylate)를 포함할 수 있다.According to one embodiment, in the step of preparing the source composition, the first source may include at least one of thiol and methacrylate as the reactor, in the step of preparing the base coating composition, the second source may include at least one of tridecafluorooctyl acrylate and perfluorodecanethiol, the solvent may include chloroform, the catalyst may include triethylamine, and in the step of preparing the photocurable coating composition, the third source may include urethane oligomer as the photocurable polymer material, and the diluent may include hexanediol diacrylate.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 제공한다.To solve the above technical problems, the present invention provides a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency.
일 실시 예에 따르면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법은, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물을 준비하는 단계, 및 유리 및 플라스틱을 포함하는 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제공하고 광 경화하여, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency may include the steps of preparing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, and providing the photocurable coating composition on a surface of any one selected from a group of materials to be coated including glass and plastic, and photocuring the composition to form a coating layer having high transparency and high water repellency on the material to be coated.
본 발명의 실시 예에 따르면, 실란, 상기 실란에 결합된 반응기 및 과불화기를 포함하는 베이스 코팅 조성물, 및 상기 베이스 코팅 조성물과 결합된 광 경화성 고분자물질을 포함하되, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물의 첨가량이 조절된, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물이 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a photocurable coating composition having high transparency and high hydrophobicity can be provided, which comprises a base coating composition including a silane, a reactive group and a perfluorinated group bonded to the silane, and a photocurable polymer material bonded to the base coating composition, wherein the amount of the base coating composition added is controlled according to at least one use selected from a high transparency use and a high hydrophobic use.
보다 구체적으로, 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물은, 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수할 수 있다. 여기에서, 상기 광 경화형 코팅 조성물의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수한 것은, 상기 광 경화형 코팅 조성물이 고투명성 및 고발수성을 모두 가지는 개념을 포함할 수 있다.More specifically, according to an embodiment of the present invention, the photocurable coating composition may be excellent in at least one of transparency and water repellency. Here, the fact that the photocurable coating composition is excellent in at least one of transparency and water repellency may include the concept that the photocurable coating composition has both high transparency and high water repellency.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각 중에서 적어도 어느 하나의 물성을 가질 수 있다.More specifically, the photocurable coating composition may have at least one of a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4˚ or more and 132.9˚ or less.
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물은, 부착성이 우수할 수 있다.Meanwhile, the photo-curable coating composition may have excellent adhesion.
또한, 상기 광 경화형 코팅 조성물로 형성된 코팅층은, 자가세정 특성도 우수할 수 있다.In addition, a coating layer formed using the photocurable coating composition may also have excellent self-cleaning characteristics.
도 1 내지 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 9 내지 도 18은 본 발명의 실험 예를 설명하기 위한 도면이다.FIGS. 1 to 7 are drawings for explaining a method for manufacturing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a drawing for explaining a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention.
Figures 9 to 18 are drawings for explaining experimental examples of the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명할 것이다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화 될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. However, the technical idea of the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed content can be thorough and complete and so that the idea of the present invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art.
본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 게재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 형상 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. In this specification, when it is mentioned that a component is on another component, it means that it can be formed directly on the other component, or a third component can be placed between them. Also, in the drawings, the thickness of shapes and regions is exaggerated for the effective explanation of the technical contents.
또한, 본 명세서의 다양한 실시 예 들에서 제1, 제2, 제3 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시 예에 제 1 구성요소로 언급된 것이 다른 실시 예에서는 제 2 구성요소로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시 예는 그것의 상보적인 실시 예도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 '및/또는'은 전후에 나열한 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용되었다.Also, although terms such as first, second, third, etc. have been used in various embodiments of this specification to describe various components, these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Thus, what is referred to as a first component in one embodiment may also be referred to as a second component in another embodiment. Each embodiment described and illustrated herein also includes its complementary embodiments. Also, "and/or" has been used herein to mean including at least one of the components listed before and after.
명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 또한, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 배제하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 또한, 본 명세서에서 "연결"은 복수의 구성 요소를 간접적으로 연결하는 것, 및 직접적으로 연결하는 것을 모두 포함하는 의미로 사용된다. In the specification, singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In addition, terms such as "comprise" or "have" are intended to specify the presence of a feature, number, step, component, or combination thereof described in the specification, but should not be construed as excluding the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, components, or combinations thereof. In addition, in the present specification, "connection" is used to mean both indirectly connecting a plurality of components and directly connecting them.
또한, 명세서에 기재된 "…부", "…기", "모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.Additionally, terms such as “part,” “unit,” and “module” described in the specification mean a unit that processes at least one function or operation, which may be implemented by hardware, software, or a combination of hardware and software.
또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다.In addition, when describing the present invention below, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.
종래에는, 코팅 조성물에서 투명성 및 발수성을 확보하기 위한 방법의 일례로, 소수성을 가지는 무기 나노입자를 고분자 수지에 혼합하여 제조하는 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 제조방법이 이용될 수 있다.Conventionally, as an example of a method for securing transparency and water repellency in a coating composition, a method for producing an organic-inorganic hybrid coating composition can be used by mixing hydrophobic inorganic nanoparticles into a polymer resin.
하지만 종래의 코팅 조성물 제조방법과 같이, 코팅 조성물에서 투명성 및 발수성을 확보하기 위하여, 소수성 무기 나노입자를 고분자 수지와 혼합하는 경우, 무기 나노입자의 표면 개질과 같은 추가 공정이 요구될 수 있다. 또는, 상술된 바와 같이 소수성 무기 나노입자를 고분자 수지와 혼합하는 경우에는, 코팅 조성물의 점도가 증가하기 때문에 점도를 낮추기 위한 유기 용제 등이 추가로 첨가되어야 하는 번거로움이 있을 수 있다.However, as in the conventional coating composition manufacturing method, when mixing hydrophobic inorganic nanoparticles with a polymer resin to secure transparency and water repellency in the coating composition, additional processes such as surface modification of the inorganic nanoparticles may be required. Or, as described above, when mixing hydrophobic inorganic nanoparticles with a polymer resin, there may be the inconvenience of additionally adding an organic solvent to lower the viscosity because the viscosity of the coating composition increases.
뿐만 아니라, 상술된 바와 같은 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 제조방법의 경우, 휘발성유기화합물(VOC: volatile organic compounds)이 발생되는 문제가 있을 수 있다.In addition, in the case of the conventional method for manufacturing an organic-inorganic hybrid coating composition as described above, there may be a problem of generating volatile organic compounds (VOC).
한편 다른 관점에서, 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물은, 다량의 무기 나노입자를 포함하기 때문에, 기재에 부착되는 부착력 관점에서 부착력이 저하될 수 있다. 나아가, 종래의 유무기 하이브리드형 코팅 조성물은 기재에 부착되어 사용되는 중에, 기재의 표면에서 무기 나노입자의 박리가 발생되어 표면물성이 저하되는 문제가 발생될 수도 있다.On the other hand, from another perspective, since the conventional organic-inorganic hybrid coating composition contains a large amount of inorganic nanoparticles, the adhesion strength may be reduced in terms of the adhesion strength to the substrate. Furthermore, when the conventional organic-inorganic hybrid coating composition is used while attached to the substrate, the inorganic nanoparticles may peel off from the surface of the substrate, which may cause a problem in that the surface properties are reduced.
또한, 종래와 같이 소수성 무기 나노입자를 포함하는 유무기 하이브리드형 코팅 조성물의 경우, 무기 나노입자를 포함하기 때문에, 코팅 시에는 고온 공정이 요구될 수 있으며, 코팅 후에는 충격에 취약한 문제가 발생될 수도 있다.In addition, in the case of a conventional organic-inorganic hybrid coating composition including hydrophobic inorganic nanoparticles, a high-temperature process may be required during coating because it includes inorganic nanoparticles, and there may be a problem of vulnerability to impact after coating.
한편, 종래의 유무기 하이브리드형 광 경화형 코팅 조성물의 제조방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물은, 투명성 및 발수성에 한계가 있었다.Meanwhile, photo-curable coating compositions manufactured using conventional methods for manufacturing organic-inorganic hybrid photo-curable coating compositions had limitations in transparency and water repellency.
또한, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물은, 투명성 및 발수성 중에서 선택되는 어느 하나의 물성만이 상대적으로 우수한 특징이 있었다.In addition, the photocurable coating composition manufactured by the conventional method had the characteristic of being relatively excellent in only one property selected from transparency and water repellency.
이는, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물의 경우, 투명성과 발수성이 트레이드 오프(trade off) 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어렵기 때문일 수 있다.This may be because, in the case of a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, transparency and water repellency are in a trade-off relationship, making it difficult to obtain them simultaneously.
따라서, 종래의 유무기 하이브리드형 광 경화형 코팅 조성물로는, 실질적으로 고투명성 및 고발수성을 제공하기 어려운 실정이다.Therefore, it is difficult to provide high transparency and high water repellency with a conventional organic-inorganic hybrid photo-curable coating composition.
이에, 본 발명에서는 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 설명된다.Hereinafter, a photocurable coating composition (1000) having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention is described.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수할 수 있다. 여기에서, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수한 것은, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 고투명성 및 고발수성을 모두 가지는 개념을 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the photocurable coating composition (1000) may have excellent properties of at least one of transparency and water repellency. Here, the fact that the photocurable coating composition (1000) has excellent properties of at least one of transparency and water repellency may include the concept that the photocurable coating composition (1000) has both high transparency and high water repellency.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각 중에서 적어도 어느 하나의 물성을 가질 수 있다.More specifically, the photo-curable coating composition (1000) may have at least one of a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4° or more and 132.9° or less.
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 부착성이 우수할 수 있다.Meanwhile, the photo-curable coating composition (1000) may have excellent adhesion.
또한, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)로 형성된 코팅층은, 자가세정 특성도 우수할 수 있다.In addition, the coating layer formed with the photo-curable coating composition (1000) may also have excellent self-cleaning characteristics.
이를 위해, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 도 7에 도시된 바와 같이, 베이스 코팅 조성물(200) 및 광 경화성 고분자물질(31) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.To this end, the photocurable coating composition (1000) may include at least one of a base coating composition (200) and a photocurable polymer material (31), as shown in FIG. 7.
이하, 각 구성이 설명된다. Below, each component is described.
베이스 코팅 조성물(200)Base coating composition (200)
도 6을 참조하면, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 실란(11), 상기 실란(11)에 결합된 반응기(12) 및 과불화기(21)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, the base coating composition (200) may include silane (11), a reactive group (12) bonded to the silane (11), and a perfluorinated group (21).
일 실시 예에 따르면, 상기 반응기(12)는, 티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 반응기(12)는, 상술된 티올 및 메타아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 티올을 포함하는 군 및 상술된 메타아크릴레이트를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the reactor (12) may include at least one of a thiol and a methacrylate. However, the reactor (12) is not limited to the above-described thiol and methacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described thiol and the group including the above-described methacrylate depending on at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
이를 위해, 도 4를 참조하면, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 소스 조성물(100)과 과불화기(21)를 포함하는 제2 소스(20)가 혼합되어 제조될 수 있다.To this end, referring to FIG. 4, the base coating composition (200) can be manufactured by mixing the source composition (100) and the second source (20) including a perfluorinated group (21).
보다 구체적으로 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 용매(23) 중에, 상기 소스 조성물(100) 및 상기 제2 소스(20)와 촉매(24)가 혼합되어 제조될 수 있다. 이에 관해서는 후술되는 본 발명의 광 경화형 코팅 조성물(1000) 제조방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the base coating composition (200) can be manufactured by mixing the source composition (100), the second source (20), and the catalyst (24) in a solvent (23), as shown in FIG. 4. This will be described in more detail in the method for manufacturing the photocurable coating composition (1000) of the present invention, which will be described later.
일 실시 예에 따르면, 상기 제2 소스(20)는, 도 5 (a) 및 도 5 (b)에 도시된 바와 같이, 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(PF-A, tridecafluorooctyl acrylate) 및 퍼플루오로데칸티올(PF-SH, perfluorodecanethiol) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 제2 소스(20)는, 상술된 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트 및 퍼플루오로데칸티올에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트를 포함하는 군 및 상술된 퍼플루오로데칸티올을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the second source (20) may include at least one of tridecafluorooctyl acrylate (PF-A) and perfluorodecanethiol (PF-SH), as shown in FIG. 5 (a) and FIG. 5 (b). However, the second source (20) is not limited to the above-described tridecafluorooctyl acrylate and perfluorodecanethiol, and may be any one selected from the group including the above-described tridecafluorooctyl acrylate and the group including the above-described perfluorodecanethiol, depending on at least one of the applications selected from the high transparency application and the high water-repellent application.
일 실시 예에 따르면, 상기 용매(23)는, 크롤로폼(chloroform)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 용매(23)는, 상술된 크롤로폼에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 크롤로폼을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the solvent (23) may include chloroform. However, the solvent (23) is not limited to the above-described chloroform, and may be any one selected from the group including the above-described chloroform according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
일 실시 예에 따르면, 상기 촉매(24)는, 트리에틸아민(triethylamine)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 촉매(24)는, 상술된 트리에틸아민에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 트리에틸아민을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the catalyst (24) may include triethylamine. However, the catalyst (24) is not limited to the above-described triethylamine, and may be any one selected from the group including the above-described triethylamine according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
한편, 도 2를 참조하면, 상기 소스 조성물(100)은, 상기 실란(11) 및 상기 실란(11)에 결합된 상기 반응기(12)를 포함하는 제1 소스(10)로부터 제조될 수 있다. Meanwhile, referring to FIG. 2, the source composition (100) can be prepared from a first source (10) including the silane (11) and the reactor (12) combined with the silane (11).
보다 구체적으로 상기 소스 조성물(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제1 소스(10)와 가소제(13)가 혼합되어 제조될 수 있다. 이에 관해서도 후술되는 본 발명의 광 경화형 코팅 조성물(1000) 제조방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the source composition (100) can be manufactured by mixing the first source (10) and the plasticizer (13), as shown in Fig. 2. This will be described in more detail in the method for manufacturing the photocurable coating composition (1000) of the present invention, which will be described later.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 소스(10)는, 상기 반응기(12)로 티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 반응기(12)는, 상술된 티올 및 메타아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 티올을 포함하는 군 및 상술된 메타아크릴레이트를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the first source (10) may include at least one of a thiol and a methacrylate as the reactor (12). However, the reactor (12) is not limited to the above-described thiol and methacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described thiol and the group including the above-described methacrylate depending on at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
일 실시 예에 따르면, 상기 가소제(13)는, 네오펜틸 글리콜(neopentyl glycol)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 가소제(13)는, 상술된 네오펜틸 글리콜에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 네오펜틸 글리콜을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the plasticizer (13) may include neopentyl glycol. However, the plasticizer (13) is not limited to the neopentyl glycol described above, and may be any one selected from the group including the neopentyl glycol described above, depending on at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
한편, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 도 6에 도시된 바와 같이, 하이퍼브랜치(HB: hyperbranch) 구조(15)를 가질 수 있다. 여기에서 하이퍼브랜치 구조라 함은, 상기 베이스 코팅 조성물(200)이 제조되는 과정에서, 브랜치(branch) 즉, 가지의 분화가 발생되어 형성된 구조를 포함하는 개념으로 이해될 수 있다. 하이퍼브랜치 구조는, 상술된 바와 같이 가지의 분화가 발생되어 형성되기 때문에, 많은 수의 말단을 가질 수 있다, Meanwhile, the base coating composition (200) may have a hyperbranch (HB) structure (15), as shown in FIG. 6. Here, the hyperbranch structure may be understood as a concept including a structure formed by branch differentiation, i.e., branch differentiation, during the process of manufacturing the base coating composition (200). Since the hyperbranch structure is formed by branch differentiation as described above, it may have a large number of terminals.
이에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상술된 바와 같은 하이퍼브랜치 구조(15)를 가지기 때문에, 후술되는 광 경화성 고분자물질(31)과 결합 특성이 우수할 수 있다.Accordingly, since the base coating composition (200) has a hyperbranched structure (15) as described above, it can have excellent bonding properties with the photocurable polymer material (31) described below.
한편, 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)에 첨가되는 첨가량이 조절될 수 있다. 이에 관해서는 후술되는 본 발명의 광 경화형 코팅 조성물(1000) 제조방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.Meanwhile, according to an embodiment of the present invention, the amount of the base coating composition (200) added to the photocurable coating composition (1000) can be adjusted according to at least one of the uses selected from high transparency and high water repellency. This will be described in more detail in the method for manufacturing the photocurable coating composition (1000) of the present invention described below.
광 경화성 고분자물질(31)Photocurable polymer material (31)
도 7을 참조하면, 상기 광 경화성 고분자물질(31)은 상기 베이스 코팅 조성물(200)과 결합될 수 있다.Referring to FIG. 7, the photocurable polymer material (31) can be combined with the base coating composition (200).
이를 위해, 도 7을 참조하면, 상기 베이스 코팅 조성물(200)과 상기 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 제3 소스(30)가 혼합될 수 있다.To this end, referring to FIG. 7, the base coating composition (200) and the third source (30) including the photocurable polymer material (31) can be mixed.
보다 구체적으로 도 7을 참조하면, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 및 상기 제3 소스(30)와 희석제(32)가 혼합될 수 있다. 이에 관해서는 후술되는 본 발명의 광 경화형 코팅 조성물(1000) 제조방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, referring to FIG. 7, the base coating composition (200) and the third source (30) and the diluent (32) may be mixed. This will be described in more detail in the method for manufacturing the photocurable coating composition (1000) of the present invention described later.
일 실시 예에 따르면, 상기 제3 소스(30)는, 상기 광 경화성 고분자물질(31)로 우레탄올리고머(urethane oligomer)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 소스(30)는, 상기 광 경화성 고분자물질(31)로 폴리우레탄 디아크릴레이트(PUDA, polyurethane diacrylate)를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 제3 소스(30)는, 상술된 폴리우레탄 디아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 우레탄올리고머를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the third source (30) may include a urethane oligomer as the photocurable polymer material (31). For example, the third source (30) may include polyurethane diacrylate (PUDA) as the photocurable polymer material (31). However, the third source (30) is not limited to the above-described polyurethane diacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described urethane oligomer according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
일 실시 예에 따르면, 상기 희석제(32)는, 헥산다이올 다이아크릴레이트(HDDA, hexanediol diacrylate)를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 희석제(32)는, 상술된 헥산다이올 다이아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 헥산다이올 다이아크릴레이트를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the diluent (32) may include hexanediol diacrylate (HDDA). However, the diluent (32) is not limited to the above-described hexanediol diacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described hexanediol diacrylate according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
한편, 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 광 경화성 고분자물질(31)은, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)에 포함되는 바, 피-코팅소재의 표면 상에 제공되고, 광 조사되는 경우, 상기 피-코팅소재의 표면 상에서 광 경화될 수 있다.Meanwhile, according to an embodiment of the present invention, the photocurable polymer material (31), which is included in the photocurable coating composition (1000), is provided on the surface of a material to be coated, and when irradiated with light, can be photocured on the surface of the material to be coated.
이에 따라, 본 발명에 의하면, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층이 형성될 수 있다. 이에 관해서는 후술되는 본 발명의 코팅층 형성방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.Accordingly, according to the present invention, a coating layer having high transparency and high water repellency can be formed on the coating material. This will be described in more detail in the coating layer forming method of the present invention described later.
이상, 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물이 설명되었다.Above, a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention has been described.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법이 설명된다.Hereinafter, a method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention is described.
이하 설명되는 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법에 있어서, 앞서 설명된 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물과 중복되는 설명은 생략될 수도 있다. 하지만, 이하에서 중복되는 설명이 생략된다고 하여서 이를 배제하는 것은 아니며, 이하에서 중복되는 설명은 앞선 실시 예의 설명을 참고하기로 한다.In the method for manufacturing a photo-curable coating composition having high transparency and high water repellency described below, any description overlapping with the photo-curable coating composition having high transparency and high water repellency described above may be omitted. However, omission of the overlapping description below does not mean that it is excluded, and any description overlapping below will refer to the description of the previous embodiment.
도 1 내지 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.FIGS. 1 to 7 are drawings for explaining a method for manufacturing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법은, 상기 실란(11) 및 상기 실란(11)에 결합된 상기 반응기(12)를 포함하는 상기 제1 소스(10)로부터, 상기 소스 조성물(100)을 제조하는 단계(S110), 상기 소스 조성물(100)과 상기 과불화기(21)를 포함하는 상기 제2 소스(20)를 혼합하여, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을 제조하는 단계(S120), 및 상기 베이스 코팅 조성물(200)과 상기 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 상기 제3 소스(30)를 혼합하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)을 제조하는 단계(S130) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high hydrophobicity may include at least one of a step (S110) of producing the source composition (100) from the first source (10) including the silane (11) and the reactor (12) bonded to the silane (11), a step (S120) of mixing the source composition (100) and the second source (20) including the perfluorinated group (21) to produce the base coating composition (200), and a step (S130) of mixing the base coating composition (200) and the third source (30) including the photocurable polymer material (31) to produce the photocurable coating composition (1000).
이하, 각 단계가 설명된다.Below, each step is explained.
단계 S110Step S110
도 2를 참조하면, 단계 S110에서, 상기 실란(11) 및 상기 실란(11)에 결합된 상기 반응기(12)를 포함하는 상기 제1 소스(10)로부터, 상기 소스 조성물(100)이 제조될 수 있다. Referring to FIG. 2, in step S110, the source composition (100) can be prepared from the first source (10) including the silane (11) and the reactor (12) coupled to the silane (11).
보다 구체적으로 본 단계에서, 상기 소스 조성물(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제1 소스(10)와 상기 가소제(13)가 혼합되어 제조될 수 있다. More specifically, in this step, the source composition (100) can be manufactured by mixing the first source (10) and the plasticizer (13), as shown in FIG. 2.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 소스(10)는, 상기 반응기(12)로 티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 반응기(12)는, 상술된 티올 및 메타아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 티올을 포함하는 군 및 상술된 메타아크릴레이트를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the first source (10) may include at least one of a thiol and a methacrylate as the reactor (12). However, the reactor (12) is not limited to the above-described thiol and methacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described thiol and the group including the above-described methacrylate depending on at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
일 실시 예에 따르면, 상기 가소제(13)는, 네오펜틸 글리콜(neopentyl glycol)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 가소제(13)는, 상술된 네오펜틸 글리콜에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 네오펜틸 글리콜을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the plasticizer (13) may include neopentyl glycol. However, the plasticizer (13) is not limited to the neopentyl glycol described above, and may be any one selected from the group including the neopentyl glycol described above, depending on at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
한편, 본 단계에서, 상기 제1 소스(10)와 상기 가소제(13)가 혼합되면, 도 2에 도시된 바와 같이, 부산물(14)로 메탄올이 형성될 수 있다. Meanwhile, in this step, when the first source (10) and the plasticizer (13) are mixed, methanol can be formed as a byproduct (14), as shown in FIG. 2.
이를 위해, 본 단계에서, 상기 제1 소스(10)와 상기 가소제(13)가 혼합되면, 상기 부산물(14)로 메탄올이 형성되는 제1 온도범위(tp1)에서 열처리될 수 있다. To this end, in this step, when the first source (10) and the plasticizer (13) are mixed, they can be heat treated in a first temperature range (tp1) at which methanol is formed as the byproduct (14).
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 온도범위(tp1)는, 100 ℃ 이상 내지 160 ℃ 이하를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the first temperature range (tp1) may include 100° C. or more and 160° C. or less.
이에 따라, 본 단계에서, 상기 소스 조성물(100)이 제조될 수 있다. Accordingly, in this step, the source composition (100) can be manufactured.
한편, 도 3을 참조하면, 본 단계에서 제조된 상기 소스 조성물(100)은, 하이퍼브랜치 구조(15)를 가질 수 있다. 여기에서 하이퍼브랜치 구조라 함은, 상기 소스 조성물(100)이 제조되는 과정에서, 브랜치 즉, 가지의 분화가 발생되어 형성된 구조를 포함하는 개념으로 이해될 수 있다. 하이퍼브랜치 구조는, 상술된 바와 같이 가지의 분화가 발생되어 형성되기 때문에, 많은 수의 말단을 가질 수 있다, Meanwhile, referring to FIG. 3, the source composition (100) manufactured in this step may have a hyperbranched structure (15). Here, the hyperbranched structure may be understood as a concept including a structure formed by branching, i.e., branch differentiation, during the process of manufacturing the source composition (100). Since the hyperbranched structure is formed by branch differentiation as described above, it may have a large number of terminals.
이에 따라, 상기 소스 조성물(100)은, 후술되는 단계에서, 상기 과불화기(21)를 포함하는 상기 제2 소스(20)와 혼합되는 경우, 상술된 바와 같은 하이퍼브랜치 구조(15)를 가지기 때문에, 상기 과불화기(21)와 결합 특성이 우수할 수 있다.Accordingly, when the source composition (100) is mixed with the second source (20) including the perfluorinated group (21) in the step described below, since it has the hyperbranched structure (15) as described above, it can have excellent binding characteristics with the perfluorinated group (21).
단계 S120Step S120
도 4를 참조하면, 단계 S120에서, 상기 소스 조성물(100)과 상기 과불화기(21)를 포함하는 상기 제2 소스(20)가 혼합되어, 상기 베이스 코팅 조성물(200)이 제조될 수 있다.Referring to FIG. 4, in step S120, the source composition (100) and the second source (20) including the perfluorinated group (21) are mixed to produce the base coating composition (200).
보다 구체적으로 본 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 용매(23) 중에, 상기 소스 조성물(100) 및 상기 제2 소스(20)와 상기 촉매(24)가 혼합되어 제조될 수 있다. More specifically, in this step, the base coating composition (200) can be manufactured by mixing the source composition (100), the second source (20), and the catalyst (24) in the solvent (23), as shown in FIG. 4.
일 실시 예에 따르면, 본 단계에서, 상기 제2 소스(20)는, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 30 중량% 이상 내지 50 중량% 이하로 첨가될 수 있다.According to one embodiment, in this step, the second source (20) may be added in an amount of 30 wt% or more and 50 wt% or less relative to the total weight of the base coating composition (200).
이에 따라, 본 발명에 의하면, 후술되는 단계에서 제조되는 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수할 수 있다. 여기에서, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수한 것은, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 고투명성 및 고발수성을 모두 가지는 개념을 포함할 수 있다.Accordingly, according to the present invention, at least one of transparency and water repellency of the photo-curable coating composition (1000) manufactured in the step described below may be excellent. Here, the fact that at least one of transparency and water repellency of the photo-curable coating composition (1000) is excellent may include the concept that the photo-curable coating composition (1000) has both high transparency and high water repellency.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각 중에서 적어도 어느 하나의 물성을 가질 수 있다. 이에 관해서는, 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the photo-curable coating composition (1000) may have at least one of the following properties: a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4° or more and 132.9° or less. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
일 실시 예에 따르면, 상기 제2 소스(20)는, 도 5 (a) 및 도 5 (b)에 도시된 바와 같이, 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(PF-A, tridecafluorooctyl acrylate) 및 퍼플루오로데칸티올(PF-SH, perfluorodecanethiol) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 제2 소스(20)는, 상술된 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트 및 퍼플루오로데칸티올에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트를 포함하는 군 및 상술된 퍼플루오로데칸티올을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the second source (20) may include at least one of tridecafluorooctyl acrylate (PF-A) and perfluorodecanethiol (PF-SH), as shown in FIG. 5 (a) and FIG. 5 (b). However, the second source (20) is not limited to the above-described tridecafluorooctyl acrylate and perfluorodecanethiol, and may be any one selected from the group including the above-described tridecafluorooctyl acrylate and the group including the above-described perfluorodecanethiol, depending on at least one of the applications selected from the high transparency application and the high water-repellent application.
일 실시 예에 따르면, 상기 용매(23)는, 크롤로폼(chloroform)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 용매(23)는, 상술된 크롤로폼에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 크롤로폼을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the solvent (23) may include chloroform. However, the solvent (23) is not limited to the above-described chloroform, and may be any one selected from the group including the above-described chloroform according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
일 실시 예에 따르면, 상기 촉매(24)는, 트리에틸아민(triethylamine)을 포함할 수 있다. 하지만, 상기 촉매(24)는, 상술된 트리에틸아민에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 트리에틸아민을 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the catalyst (24) may include triethylamine. However, the catalyst (24) is not limited to the above-described triethylamine, and may be any one selected from the group including the above-described triethylamine according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water repellency use.
한편 본 단계에서, 상기 용매(23) 중에, 상기 소스 조성물(100) 및 상기 제2 소스(20)와 촉매(24)가 혼합되는 온도범위는, 상온보다 높은 제2 온도범위(tp2)일 수 있다. Meanwhile, in this step, the temperature range in which the source composition (100) and the second source (20) and the catalyst (24) are mixed in the solvent (23) may be a second temperature range (tp2) higher than room temperature.
일 실시 예에 따르면, 상기 제2 온도범위(tp2)는, 40 ℃ 이상 내지 50 ℃ 이하를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the second temperature range (tp2) may include 40° C. or more and 50° C. or less.
이에 따라, 본 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)이 제조될 수 있다. Accordingly, in this step, the base coating composition (200) can be manufactured.
한편, 도 6을 참조하면, 본 단계에서 제조된 상기 베이스 코팅 조성물(200)도, 하이퍼브랜치 구조(15)를 가질 수 있다. 하이퍼브랜치 구조에 관해서는 앞선 실시 예의 설명과 중복되는 바, 앞선 실시 예의 설명을 참고하기로 한다.Meanwhile, referring to Fig. 6, the base coating composition (200) manufactured in this step may also have a hyperbranched structure (15). As for the hyperbranched structure, since it overlaps with the description of the previous embodiment, the description of the previous embodiment will be referred to.
이에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 후술되는 단계에서, 상기 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 상기 제3 소스(30)가 혼합되는 경우, 상술된 바와 같은 하이퍼브랜치 구조(15)를 가지기 때문에, 상기 광 경화성 고분자물질(31)과 결합 특성이 우수할 수 있음은 물론이다.Accordingly, the base coating composition (200) can have excellent bonding characteristics with the photocurable polymer material (31) because it has the hyperbranched structure (15) as described above when the third source (30) including the photocurable polymer material (31) is mixed in the step described below.
단계 S130Step S130
도 7을 참조하면, 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)과 상기 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 상기 제3 소스(30)가 혼합되어, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 제조될 수 있다.Referring to FIG. 7, in step S130, the base coating composition (200) and the third source (30) including the photocurable polymer material (31) are mixed to produce the photocurable coating composition (1000).
보다 구체적으로 본 단계에서, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 및 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)가 혼합되어 제조될 수 있다. More specifically, in this step, the photocurable coating composition (1000) can be manufactured by mixing the base coating composition (200), the third source (30), and the diluent (32), as shown in FIG. 7.
일 실시 예에 따르면, 본 단계에서, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)는, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 전체 중량 대비 60 중량%:40 중량%로 혼합될 수 있다. According to one embodiment, in this step, the third source (30) and the diluent (32) may be mixed in a ratio of 60 wt%:40 wt% based on the total weight of the third source (30) and the diluent (32).
한편, 본 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가될 수 있다. Meanwhile, in this step, the base coating composition (200) may be added in an amount of more than 1 part and less than 7 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
이에 따라, 본 발명에 의하면, 본 단계에서 제조되는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수할 수 있다. 여기에서, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성 중에서 적어도 어느 하나의 물성이 우수한 것은, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 고투명성 및 고발수성을 모두 가지는 개념을 포함할 수 있다.Accordingly, according to the present invention, at least one of transparency and water repellency of the photo-curable coating composition (1000) manufactured in this step may be excellent. Here, the fact that at least one of transparency and water repellency of the photo-curable coating composition (1000) is excellent may include the concept that the photo-curable coating composition (1000) has both high transparency and high water repellency.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각 중에서 적어도 어느 하나의 물성을 가질 수 있다. 이에 관해서는, 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the photo-curable coating composition (1000) may have at least one of the following properties: a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4° or more and 132.9° or less. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
일 실시 예에 따르면, 상기 제3 소스(30)는, 상기 광 경화성 고분자물질(31)로 우레탄올리고머(urethane oligomer)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 소스(30)는, 상기 광 경화성 고분자물질(31)로 폴리우레탄 디아크릴레이트(PUDA, polyurethane diacrylate)를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 제3 소스(30)는, 상술된 폴리우레탄 디아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 우레탄올리고머를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the third source (30) may include a urethane oligomer as the photocurable polymer material (31). For example, the third source (30) may include polyurethane diacrylate (PUDA) as the photocurable polymer material (31). However, the third source (30) is not limited to the above-described polyurethane diacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described urethane oligomer according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
일 실시 예에 따르면, 상기 희석제(32)는, 헥산다이올 다이아크릴레이트(HDDA, hexanediol diacrylate)를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 희석제(32)는, 상술된 헥산다이올 다이아크릴레이트에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 헥산다이올 다이아크릴레이트를 포함하는 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the diluent (32) may include hexanediol diacrylate (HDDA). However, the diluent (32) is not limited to the above-described hexanediol diacrylate, and may be any one selected from the group including the above-described hexanediol diacrylate according to at least one of the uses selected from the high transparency use and the high water-repellent use.
한편, 일 실시 예에 따르면, 본 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200), 상기 제3 소스(30), 및 상기 희석제(32)와 함께 광개시제(33, 도 10 및 도 11 참조)가 더 혼합될 수 있다.Meanwhile, according to one embodiment, in this step, a photoinitiator (33, see FIGS. 10 and 11) may be further mixed together with the base coating composition (200), the third source (30), and the diluent (32).
일 실시 예에 따르면, 상기 광개시제(33, 도 10 및 도 11 참조)는, 수소 분리형(inter molecular hydrogen abstraction) 및 분자 간 광분열형(intra molecular photo cleavage) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 하지만, 상기 광개시제(33)는, 상술된 수소 분리형 및 분자 간 광분열형에 한정되는 것은 아니며, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라 상술된 수소 분리형 및 분자 간 광분열형을 포함하는 광개시제 군 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.According to one embodiment, the photoinitiator (33, see FIGS. 10 and 11) may include at least one of inter molecular hydrogen abstraction and intra molecular photo cleavage. However, the photoinitiator (33) is not limited to the above-described hydrogen abstraction and intra molecular photo cleavage types, and may be any one selected from the group of photoinitiators including the above-described hydrogen abstraction and intra molecular photo cleavage types according to at least one application selected from the high transparency application and the high water repellency application.
한편, 본 발명의 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S110 내지 단계 S130 중 적어도 어느 하나의 단계에 따라 제조되는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 각 단계에서 물질의 첨가량이 조절될 수 있다.Meanwhile, according to an embodiment of the present invention, the photocurable coating composition (1000) manufactured according to at least one of the steps S110 to S130 described above can have the amount of material added adjusted at each step according to at least one use selected from among high transparency use and high water repellency use.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이, 고투명성 용도 및 고발수성 용도로 사용되는 경우, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)는, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되고, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가될 수 있다.More specifically, when the photocurable coating composition (1000) is used for high transparency and high water repellency purposes, in the step S120 described above, the second source (20) is added in an amount of 40 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), and in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added in an amount of more than 1 part and less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
이에 따라, 본 발명에 의하면 제조되는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성이 우수할 수 있다.Accordingly, the transparency and water repellency of the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the present invention can be excellent.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도, 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각을 가질 수 있다. 이에 관해서는, 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the photo-curable coating composition (1000) may have a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less, and a water contact angle of 127.4˚ or more and 132.9˚ or less. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이, 고투명성 용도로 사용되는 경우를 상정해 보기로 한다.Meanwhile, let us assume a case where the above-mentioned photocurable coating composition (1000) is used for high transparency purposes.
이 경우, 일 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)가, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가될 수 있다. In this case, according to one embodiment, in the step S120 described above, if the second source (20) is added at 40 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added at more than 1 part and less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
또는, 다른 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)가, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 이상 내지 3 part 이하로 첨가될 수 있다.Alternatively, according to another embodiment, in the step S120 described above, if the second source (20) is added at 50 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added at 1 part or more and 3 parts or less based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
이에 따라, 본 발명에 의하면 제조되는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성이 우수할 수 있다. Accordingly, the transparency of the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the present invention can be excellent.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도를 가질 수 있다. 이에 관해서는, 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the photo-curable coating composition (1000) may have a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이, 고발수성 용도로 사용되는 경우를 상정해 보기로 한다.Meanwhile, let us assume a case where the photo-curable coating composition (1000) is used for highly hydrophobic purposes.
이 경우, 일 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)가, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 30 중량%로 첨가되면, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가될 수 있다.In this case, according to one embodiment, in the step S120 described above, if the second source (20) is added at 30 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added at more than 1 part and less than 7 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
또는, 다른 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)가, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 이하로 첨가될 수 있다.Alternatively, according to another embodiment, in the step S120 described above, if the second source (20) is added at 40 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added at more than 1 part and less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
또는, 다른 실시 예에 따르면, 상술된 단계 S120에서, 상기 제2 소스(20)가, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면, 상술된 단계 S130에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 4 part 이하로 첨가될 수 있다.Alternatively, according to another embodiment, in the step S120 described above, if the second source (20) is added at 50 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), in the step S130 described above, the base coating composition (200) may be added at more than 1 part and less than 4 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
이에 따라, 본 발명에 의하면 제조되는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 발수성이 우수할 수 있다. Accordingly, the photo-curable coating composition (1000) manufactured according to the present invention can have excellent water repellency.
보다 구체적으로, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 113.2 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각을 가질 수 있다. 이에 관해서는, 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.More specifically, the photocurable coating composition (1000) may have a water contact angle of 113.2° or more to 132.9° or less. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
이상, 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법이 설명되었다.Above, a method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention has been described.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법이 설명된다.Hereinafter, a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention is described.
이하 설명되는 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법에 있어서, 앞서 설명된 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 및 그의 제조방법과 중복되는 설명은 생략될 수도 있다. 하지만, 이하에서 중복되는 설명이 생략된다고 하여서 이를 배제하는 것은 아니며, 이하에서 중복되는 설명은 앞선 실시 예의 설명을 참고하기로 한다.In the method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency described below, any description overlapping with the previously described photocurable coating composition having high transparency and high water repellency and its manufacturing method may be omitted. However, even if the overlapping description is omitted below, it does not mean that it is excluded, and any overlapping description below will refer to the description of the previous embodiment.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 8 is a drawing for explaining a method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency according to an embodiment of the present invention.
도 8을 참조하면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법은, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물(1000)을 준비하는 단계(S210), 및 유리 및 플라스틱을 포함하는 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제공하고 광 경화하여, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층을 형성하는 단계(S220) 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8, the method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency may include at least one of a step (S210) of preparing a photocurable coating composition (1000) having high transparency and high water repellency, and a step (S220) of providing the photocurable coating composition on a surface of any one selected from a group of materials to be coated including glass and plastic and photocuring the composition to form a coating layer having high transparency and high water repellency on the material to be coated.
이하, 각 단계가 설명된다.Below, each step is explained.
단계 S210Step S210
단계 S210에서, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 준비될 수 있다.In step S210, a photocurable coating composition (1000) having high transparency and high water repellency can be prepared.
상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물(1000)에 관해서는 앞선 실시 예의 설명과 중복되는 바, 앞선 실시 예의 설명을 참고하기로 한다.As for the photo-curable coating composition (1000) having the above-mentioned high transparency and high water repellency, since it overlaps with the description of the previous embodiment, reference will be made to the description of the previous embodiment.
단계 S220Step S220
단계 S220에서, 유리 및 플라스틱을 포함하는 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 제공되고 광 경화되어, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층이 형성될 수 있다.In step S220, the photocurable coating composition (1000) is provided on a surface selected from a group of coating materials including glass and plastic, and is photocured, so that a coating layer having high transparency and high water repellency can be formed on the coating material.
보다 구체적으로 본 단계에서, 상기 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 제공되고, 광 예를 들어, 자외선 광이 조사될 수 있다.More specifically, in this step, the photo-curable coating composition (1000) is provided on a surface selected from the group of coating materials, and light, for example, ultraviolet light, can be irradiated.
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은 앞서 설명된 바와 같이, 상기 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 바, 상기 광 조사에 의하여, 상기 피-코팅소재의 표면 상에서 광 경화될 수 있다.Meanwhile, as described above, the photocurable coating composition (1000) includes the photocurable polymer material (31), and can be photocured on the surface of the material to be coated by light irradiation.
이에 따라, 본 단계에서, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층이 형성될 수 있다.Accordingly, in this step, a coating layer having high transparency and high water repellency can be formed on the coating material.
일 실시 예에 따르면, 상기 피-코팅소재 군은, 건축물, 태양광 장치, 자동차, 전자기기, 센서 등의 윈도우, 렌즈, 판넬 등의 소재로 사용되는 유리, 플라스틱 등을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the group of the coating materials may include glass, plastic, etc. used as materials for windows, lenses, panels, etc. of buildings, solar power devices, automobiles, electronic devices, sensors, etc.
한편, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물의 경우, 상술된 바와 같은 피-코팅소재 군에 부착성이 저하되는 문제가 있었다.Meanwhile, in the case of a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, there was a problem of reduced adhesion to the group of coating materials described above.
하지만 본 발명에 의하면, 상기 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법에 의하여 형성된 코팅층은, 부착성이 우수한 기술적 효과가 있다. 이에 관해서는 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.However, according to the present invention, the coating layer formed by the method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency has the technical effect of excellent adhesion. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
또한, 본 발명의 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법에 의하여 형성된 코팅층은, 자가세정 특성이 우수한 기술적 효과도 있다. 이에 관해서도 본 발명의 실험 예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.In addition, the coating layer formed by the method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency of the present invention also has the technical effect of excellent self-cleaning characteristics. This will be described in more detail in the experimental examples of the present invention.
이하, 본 발명의 실험 예가 설명된다.Below, an experimental example of the present invention is described.
도 9 내지 도 18은 본 발명의 실험 예를 설명하기 위한 도면이다.Figures 9 to 18 are drawings for explaining experimental examples of the present invention.
도 9를 참조하면, 상기 피-코팅소재로 폴리카보네이트(polycarbonate) 플라스틱 소재로 이루어진 기판을 준비하고, 상기 폴리카보네이트 기판의 표면 상에 본 발명의 실험 예에 따라 제조된 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)을 제공하고 광 경화하여, 상기 폴리카보네이트 기판 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층을 형성하였다.Referring to FIG. 9, a substrate made of a polycarbonate plastic material is prepared as the coating material, and the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the experimental example of the present invention is provided on the surface of the polycarbonate substrate and photocured to form a coating layer having high transparency and high water repellency on the polycarbonate substrate.
도 9를 통해서, 본 발명의 실험 예에 따른 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 상기 폴리카보네이트 기판 상에 들뜸 없이 부착된 것을 관측할 수 있다. Through FIG. 9, it can be observed that the photocurable coating composition (1000) according to the experimental example of the present invention is attached to the polycarbonate substrate without lifting.
이로써, 본 발명의 실험 예에 따라 형성된 상기 코팅층은, 부착성이 우수함이 입증될 수 있다.Accordingly, it can be proven that the coating layer formed according to the experimental example of the present invention has excellent adhesion.
이하, 본 발명의 투명성 및 발수성에 관한 실험 예가 설명된다.Below, experimental examples regarding the transparency and water repellency of the present invention are described.
본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조Preparation of a 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to an experimental example of the present invention
상기 실란(11) 및 상기 실란(11)에 결합된 상기 반응기(12)로 티올(thiol)을 포함하는 상기 제1 소스(10)와, 상기 가소제(13)로 네오펜틸 글리콜(neopentyl glycol)을 혼합하고, 100 ℃ 이상 내지 160 ℃ 이하의 상기 제1 온도범위(tp1)에서 열처리하여, 상기 하이퍼브랜치 구조(15)를 가지는 상기 소스 조성물(100)을 제조하였다.The first source (10) including thiol as the silane (11) and the reactor (12) bonded to the silane (11), and neopentyl glycol as the plasticizer (13) were mixed, and heat-treated at the first temperature range (tp1) of 100° C. or more to 160° C. or less, to manufacture the source composition (100) having the hyperbranched structure (15).
이때, 상기 제1 소스(10)와 상기 가소제(13)가 혼합되면서, 부산물(14)로 메탄올이 형성되었다.At this time, when the first source (10) and the plasticizer (13) were mixed, methanol was formed as a by-product (14).
상기 용매(23)인 크롤로폼(chloroform) 중에, 상기 소스 조성물(100) 및 상기 제2 소스(20)로 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(PF-A, tridecafluorooctyl acrylate)와 상기 촉매(24)로 트리에틸아민(triethylamine)을, 40 ℃ 이상 내지 50 ℃ 이하의 상기 제2 온도범위(tp2)에서 혼합하여, 상기 하이퍼브랜치 구조(15)를 가지는 상기 베이스 코팅 조성물(200)을 제조하였다.Among the solvent (23) chloroform, the source composition (100) and the second source (20) tridecafluorooctyl acrylate (PF-A) and the catalyst (24) triethylamine were mixed at a second temperature range (tp2) of 40° C. or more to 50° C., thereby producing the base coating composition (200) having the hyperbranched structure (15).
이때, 상기 제2 소스(20)는, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가하였다.At this time, the second source (20) was added at 40 wt% relative to the total weight of the base coating composition (200).
상기 베이스 코팅 조성물(200) 및 상기 제3 소스(30)로 폴리우레탄 디아크릴레이트(PUDA, polyurethane diacrylate)를 상기 희석제(32)로 헥산다이올 다이아크릴레이트(HDDA, hexanediol diacrylate) 및 상기 광개시제(33)와 혼합하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)을 제조하였다.By mixing polyurethane diacrylate (PUDA) as the base coating composition (200) and the third source (30), hexanediol diacrylate (HDDA) as the diluent (32) and the photoinitiator (33), a 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to an experimental example of the present invention was prepared.
이때, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)는, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 전체 중량 대비 60 중량%:40 중량%로 혼합하였다.At this time, the third source (30) and the diluent (32) were mixed in a ratio of 60 wt%:40 wt% based on the total weight of the third source (30) and the diluent (32).
또한, 상기 베이스 코팅 조성물(200)은, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part로 첨가하였다.In addition, the base coating composition (200) was added as 1 part based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32).
본 발명의 실험 예에 따른 제1-2 광 경화형 코팅 조성물(ex1-2)의 제조Preparation of a 1-2 photo-curable coating composition (ex1-2) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 3 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-2 광 경화형 코팅 조성물(ex1-2)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 3 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-2 photocurable coating composition (ex1-2) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(ex1-3)의 제조Preparation of the 1-3 photo-curable coating composition (ex1-3) according to the experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 5 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(ex1-3)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photo-curable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 5 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-3 photo-curable coating composition (ex1-3) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제1-4 광 경화형 코팅 조성물(ex1-4)의 제조Preparation of the 1-4 photo-curable coating composition (ex1-4) according to the experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 6 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-4 광 경화형 코팅 조성물(ex1-4)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 6 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-4 photocurable coating composition (ex1-4) according to the experimental example of the present invention.
비교 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1)의 제조Preparation of the 1-1 photo-curable coating composition (cp1-1) according to comparative example
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)를, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 전체 중량 대비 50 중량%:50 중량%로 혼합하고, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 3 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the third source (30) and the diluent (32) were mixed in a ratio of 50 wt%:50 wt% based on the total weight of the third source (30) and the diluent (32), and the base coating composition (200) was added in 3 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (cp1-1) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-2 광 경화형 코팅 조성물(cp1-2)의 제조Preparation of 1-2 photo-curable coating composition (cp1-2) according to comparative example
상술된 비교 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 5 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-2 광 경화형 코팅 조성물(cp1-2)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photo-curable coating composition (cp1-1) according to the comparative example described above, the base coating composition (200) was added in 5 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-2 photo-curable coating composition (cp1-2) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(cp1-3)의 제조Preparation of 1-3 photo-curable coating composition (cp1-3) according to comparative example
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)를, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 전체 중량 대비 70 중량%:30 중량%로 혼합하고, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(cp1-3)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the third source (30) and the diluent (32) were mixed in a ratio of 70 wt%:30 wt% based on the total weight of the third source (30) and the diluent (32), and the base coating composition (200) was added as 1 part based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-3 photocurable coating composition (cp1-3) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-4 광 경화형 코팅 조성물(cp1-4)의 제조Preparation of 1-4 photo-curable coating composition (cp1-4) according to comparative example
상술된 비교 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(cp1-3)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 3 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-4 광 경화형 코팅 조성물(cp1-4)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-3 photo-curable coating composition (cp1-3) according to the comparative example described above, the base coating composition (200) was added in 3 parts based on the mixed weight % of the 3rd source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-4 photo-curable coating composition (cp1-4) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-5 광 경화형 코팅 조성물(cp1-5)의 제조Preparation of 1-5 photo-curable coating composition (cp1-5) according to comparative example
상술된 비교 예에 따른 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(cp1-3)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 5 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-5 광 경화형 코팅 조성물(cp1-5)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-3 photo-curable coating composition (cp1-3) according to the comparative example described above, the base coating composition (200) was added in 5 parts based on the mixed weight % of the 3rd source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-5 photo-curable coating composition (cp1-5) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-6 광 경화형 코팅 조성물(cp1-6)의 제조Preparation of a 1-6 photo-curable coating composition (cp1-6) according to a comparative example
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)를, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 전체 중량 대비 80 중량%:20 중량%로 혼합하고, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-6 광 경화형 코팅 조성물(cp1-6)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the third source (30) and the diluent (32) were mixed in a ratio of 80 wt%:20 wt% based on the total weight of the third source (30) and the diluent (32), and the base coating composition (200) was added as 1 part based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-6 photocurable coating composition (cp1-6) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-7 광 경화형 코팅 조성물(cp1-7)의 제조Preparation of a 1-7 photo-curable coating composition (cp1-7) according to a comparative example
상술된 비교 예에 따른 제1-6 광 경화형 코팅 조성물(cp1-6)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 3 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-7 광 경화형 코팅 조성물(cp1-7)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-6 photo-curable coating composition (cp1-6) according to the comparative example described above, the base coating composition (200) was added in 3 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-7 photo-curable coating composition (cp1-7) according to the comparative example.
비교 예에 따른 제1-8 광 경화형 코팅 조성물(cp1-8)의 제조Preparation of 1-8 photo-curable coating composition (cp1-8) according to comparative example
상술된 비교 예에 따른 제1-6 광 경화형 코팅 조성물(cp1-6)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 5 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제1-8 광 경화형 코팅 조성물(cp1-8)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-6th photocurable coating composition (cp1-6) according to the comparative example described above, the base coating composition (200) was added in 5 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 1-8th photocurable coating composition (cp1-8) according to the comparative example.
본 발명의 실험 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1)의 제조Preparation of a 2-1 photocurable coating composition (ex2-1) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제2 소스(20)를, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 30 중량%로 첨가하고, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 5 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the second source (20) was added in an amount of 30 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), and the base coating composition (200) was added in an amount of 5 parts based on the mixed weight% of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 2-1 photocurable coating composition (ex2-1) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제2-2 광 경화형 코팅 조성물(ex2-2)의 제조Preparation of a 2-2 photo-curable coating composition (ex2-2) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 7 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제2-2 광 경화형 코팅 조성물(ex2-2)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 2-1 photo-curable coating composition (ex2-1) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 7 parts based on the mixed weight % of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 2-2 photo-curable coating composition (ex2-2) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제2-3 광 경화형 코팅 조성물(ex2-3)의 제조Preparation of a 2-3 photo-curable coating composition (ex2-3) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제2 소스(20)를, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제2-3 광 경화형 코팅 조성물(ex2-3)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the second source (20) was added at 50 wt% relative to the total weight of the base coating composition (200), thereby manufacturing the 2-3 photocurable coating composition (ex2-3) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제2-4 광 경화형 코팅 조성물(ex2-4)의 제조Preparation of a 2-4 photo-curable coating composition (ex2-4) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제2-3 광 경화형 코팅 조성물(ex2-3)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 3 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제2-4 광 경화형 코팅 조성물(ex2-4)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 2-3 photo-curable coating composition (ex2-3) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 3 parts based on the mixed weight % of the 3rd source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 2-4 photo-curable coating composition (ex2-4) according to the experimental example of the present invention.
본 발명의 실험 예에 따른 제2-5 광 경화형 코팅 조성물(ex2-5)의 제조Preparation of a 2-5 photo-curable coating composition (ex2-5) according to an experimental example of the present invention
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제2-3 광 경화형 코팅 조성물(ex2-3)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 4 part로 첨가하여, 본 발명의 실험 예에 따른 제2-5 광 경화형 코팅 조성물(ex2-5)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 2-3 photo-curable coating composition (ex2-3) according to the experimental example of the present invention described above, the base coating composition (200) was added in 4 parts based on the mixed weight % of the 3rd source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 2-5 photo-curable coating composition (ex2-5) according to the experimental example of the present invention.
비교 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(cp2-1)의 제조Preparation of a 2-1 photo-curable coating composition (cp2-1) according to a comparative example
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1)의 제조방법에서, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을 첨가하지 않고, 비교 예에 따른 제2-1 광 경화형 코팅 조성물(cp2-1)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 2-1 photocurable coating composition (ex2-1) according to the experimental example of the present invention described above, the 2-1 photocurable coating composition (cp2-1) according to the comparative example was manufactured without adding the base coating composition (200).
비교 예에 따른 제2-2 광 경화형 코팅 조성물(cp2-2)의 제조Preparation of a 2-2 photo-curable coating composition (cp2-2) according to a comparative example
상술된 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1)의 제조방법에서, 상기 제2 소스(20)를, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 전체 중량 대비 60 중량%로 첨가하고, 상기 베이스 코팅 조성물(200)을, 상기 제3 소스(30)와 상기 희석제(32)의 혼합 중량% 기준으로 1 part로 첨가하여, 비교 예에 따른 제2-2 광 경화형 코팅 조성물(cp2-2)을 제조하였다.In the method for manufacturing the 1-1 photocurable coating composition (ex1-1) according to the experimental example of the present invention described above, the second source (20) was added in an amount of 60 wt% based on the total weight of the base coating composition (200), and the base coating composition (200) was added in an amount of 1 part based on the mixed weight% of the third source (30) and the diluent (32), thereby manufacturing the 2-2 photocurable coating composition (cp2-2) according to the comparative example.
도 10을 참조하면, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 내지 제1-3 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1~ex1-3)과, 비교 예에 따른 제1-1 내지 제1-8 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1~cp1-8)의 투명성 및 발수성을 관측할 수 있다.Referring to FIG. 10, the transparency and water repellency of the photocurable coating compositions 1-1 to 1-3 (ex1-1 to ex1-3) according to the experimental examples of the present invention and the photocurable coating compositions 1-1 to 1-8 (cp1-1 to cp1-8) according to the comparative examples can be observed.
도 10을 통해서, 본 발명의 실험 예 제1-1 내지 제1-3에 따른 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1~ex1-3)은, 90.5 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각을 가지는 것을 알 수 있다.Through FIG. 10, it can be seen that the photocurable coating compositions (ex1-1 to ex1-3) according to Experimental Examples 1-1 to 1-3 of the present invention have a light transmittance of 90.5% or more to 90.7% or less and a water contact angle of 127.4˚ or more to 132.9˚ or less.
한편, 비교 예 제1-1 내지 제1-8에 따른 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1~cp1-8)은, 본 발명의 실험 예 제1-1 내지 제1-3(ex1-1~ex1-3)보다 광투과도 및 물접촉각이 낮은 것을 알 수 있다. Meanwhile, it can be seen that the photo-curable coating compositions (cp1-1 to cp1-8) according to Comparative Examples 1-1 to 1-8 have lower light transmittance and water contact angle than those of Experimental Examples 1-1 to 1-3 (ex1-1 to ex1-3) of the present invention.
이로써, 본 발명의 실험 예에 따르는 경우, 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성이 우수함이 입증될 수 있다.Accordingly, in accordance with the experimental example of the present invention, it can be proven that the transparency and water repellency of the photocurable coating composition (1000) are excellent.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously because they are in a trade-off relationship.
한편, 도 11을 참조하면, 본 발명의 실험 예에 따른 제1-1 내지 제1-4 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1~ex1-4) 및 제2-1 내지 제2-5 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1~ex2-5)과, 비교 예에 따른 제2-1 및 제2-2 광 경화형 코팅 조성물(cp2-1, cp2-2)의 투명성 및 발수성을 관측할 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 11, transparency and water repellency of the photocurable coating compositions 1-1 to 1-4 (ex1-1 to ex1-4) and the photocurable coating compositions 2-1 to 2-5 (ex2-1 to ex2-5) according to the experimental examples of the present invention, and the photocurable coating compositions 2-1 and 2-2 (cp2-1, cp2-2) according to the comparative examples can be observed.
도 11을 통해서, 본 발명의 실험 예 제1-1 내지 제1-3에 따른 광 경화형 코팅 조성물(ex1-1~ex1-3)은, 앞서 살펴본 바와 같이, 90.5 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도 및 127.4 ˚ 이상 내지 132.9 ˚ 이하의 물접촉각을 가지는 것을 알 수 있다.Through FIG. 11, it can be seen that the photocurable coating compositions (ex1-1 to ex1-3) according to Experimental Examples 1-1 to 1-3 of the present invention have, as previously discussed, a light transmittance of 90.5% or more to 90.7% or less and a water contact angle of 127.4˚ or more to 132.9˚ or less.
한편, 비교 예 제1-1 내지 제1-8에 따른 광 경화형 코팅 조성물(cp1-1~cp1-8)은, 본 발명의 실험 예 제1-1 내지 제1-3(ex1-1~ex1-3)보다 광투과도 및 물접촉각이 낮은 것을 알 수 있다. Meanwhile, it can be seen that the photo-curable coating compositions (cp1-1 to cp1-8) according to Comparative Examples 1-1 to 1-8 have lower light transmittance and water contact angle than those of Experimental Examples 1-1 to 1-3 (ex1-1 to ex1-3) of the present invention.
이로써, 본 발명의 실험 예에 따르는 경우, 앞서 설명된 바와 같이, 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성 및 발수성이 우수함이 입증될 수 있다.Accordingly, in accordance with the experimental example of the present invention, it can be proven that the transparency and water repellency of the photocurable coating composition (1000) are excellent, as described above.
따라서, 본 발명에 의하면, 종래의 방법으로 제조된 광 경화형 코팅 조성물에서, 투명성과 발수성이 트레이드 오프 관계에 있기 때문에, 동시에 획득이 어려운 문제를 해결할 수 있음은 물론이다.Therefore, according to the present invention, it is possible to solve the problem that transparency and water repellency are difficult to obtain simultaneously in a photocurable coating composition manufactured by a conventional method because they are in a trade-off relationship.
한편, 도 11을 통해서, 본 발명의 실험 예 제2-1, 제2-2, 제1-4, 제2-3 내지 2-5에 따른 광 경화형 코팅 조성물(ex2-1, ex2-2, ex1-4, ex2-3~ex2-5)은, 113.2 ˚ 이상 내지 132.4 ˚ 이하의 물접촉각을 가지는 것을 알 수 있다.Meanwhile, through FIG. 11, it can be seen that the photocurable coating compositions (ex2-1, ex2-2, ex1-4, ex2-3 to ex2-5) according to Experimental Examples 2-1, 2-2, 1-4, 2-3 to 2-5 of the present invention have a water contact angle of 113.2˚ or more to 132.4˚ or less.
한편, 비교 예 제2-1에 따른 광 경화형 코팅 조성물(cp2-1)의 물접촉각은 71 ˚로, 본 발명의 실험 예 제2-1, 제2-2, 제1-4, 제2-3 내지 2-5(ex2-1, ex2-2, ex1-4, ex2-3~ex2-5)보다 현저히 낮은 것을 알 수 있다. Meanwhile, it can be seen that the water contact angle of the photocurable coating composition (cp2-1) according to Comparative Example 2-1 is 71˚, which is significantly lower than that of Experimental Examples 2-1, 2-2, 1-4, 2-3 to 2-5 (ex2-1, ex2-2, ex1-4, ex2-3 to ex2-5) of the present invention.
이로써, 본 발명의 실험 예에 따르는 경우, 앞서 설명된 바와 같이, 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 발수성이 우수함이 입증될 수 있다.Accordingly, in accordance with the experimental example of the present invention, it can be proven that the water repellency of the photo-curable coating composition (1000) is excellent, as described above.
따라서, 본 발명에 의하면, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 고발수성 용도로 선택적으로 사용될 수 있음은 물론이다. Therefore, according to the present invention, the photo-curable coating composition (1000) can be selectively used for highly hydrophobic purposes.
한편, 도 11을 통해서, 본 발명의 실험 예 제2-3 및 2-4에 따른 광 경화형 코팅 조성물(ex2-3, ex2-4)은, 90.6 %의 광투과도를 가지는 것을 알 수 있다.Meanwhile, through Fig. 11, it can be seen that the photocurable coating compositions (ex2-3, ex2-4) according to experimental examples 2-3 and 2-4 of the present invention have a light transmittance of 90.6%.
한편, 비교 예 제2-2에 따른 광 경화형 코팅 조성물(cp2-2)의 광투과도는 88.8 %로, 본 발명의 실험 예 제2-3 및 2-4(ex2-3, ex2-4)보다 현저히 낮은 것을 알 수 있다. Meanwhile, it can be seen that the light transmittance of the photo-curable coating composition (cp2-2) according to Comparative Example 2-2 is 88.8%, which is significantly lower than that of Experimental Examples 2-3 and 2-4 (ex2-3, ex2-4) of the present invention.
이로써, 본 발명의 실험 예에 따르는 경우, 앞서 설명된 바와 같이, 광 경화형 코팅 조성물(1000)의 투명성이 우수함이 입증될 수 있다.Accordingly, in accordance with the experimental example of the present invention, it can be proven that the transparency of the photocurable coating composition (1000) is excellent, as described above.
따라서, 본 발명에 의하면, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 고투명성 용도로 선택적으로 사용될 수 있음은 물론이다. Therefore, according to the present invention, the photo-curable coating composition (1000) can be selectively used for high transparency purposes.
도 12 (a)를 참조하면, 유리(gl) 플레이트 상에 본 발명의 실험 예에 따라 제조된 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)을 제공하고, 도 12 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 제공된 유리(gl) 플레이트 상에 물(wt)을 제공하여, 도 12 (c)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실험 예에 따라 제조된 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)을 제공하고 자가세정 특성을 평가하였다.Referring to FIG. 12 (a), the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the experimental example of the present invention was provided on a glass (gl) plate, and as shown in FIG. 12 (b), water (wt) was provided on the glass (gl) plate on which the photocurable coating composition (1000) was provided, and as shown in FIG. 12 (c), the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the experimental example of the present invention was provided, and the self-cleaning characteristics were evaluated.
도 12 (c)를 통해서, 본 발명의 실험 예에 따라 제조된 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)은, 자가세정 특성이 우수함이 입증될 수 있다.Through Fig. 12 (c), it can be proven that the photocurable coating composition (1000) manufactured according to the experimental example of the present invention has excellent self-cleaning characteristics.
이는, 본 발명의 실험 예에 따르면, 앞서 설명된 바와 같이, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000)이 고발수성을 가지기 때문일 수 있다.This may be because, according to the experimental example of the present invention, the photocurable coating composition (1000) has high water repellency as described above.
도 13은 본 발명의 실험 예에 따라 상기 반응기(12)로 티올(thiol)을 포함하는 광 경화형 코팅 조성물(1000a)을 도시하고, 도 14는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000a)의 H-NMR(nuclear magnetic resonance)을 도시하며, 도 15는 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000a)의 FT-IR(fourier transform-infrared spectroscopy)을 도시한다.FIG. 13 illustrates a photocurable coating composition (1000a) containing a thiol as the reactor (12) according to an experimental example of the present invention, FIG. 14 illustrates H-NMR (nuclear magnetic resonance) of the photocurable coating composition (1000a), and FIG. 15 illustrates FT-IR (Fourier transform-infrared spectroscopy) of the photocurable coating composition (1000a).
도 13 내지 도 14를 통하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000a)은, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 및 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 것을 알 수 있다. Through FIGS. 13 and 14, it can be seen that the photocurable coating composition (1000a) includes the base coating composition (200) and the photocurable polymer material (31).
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000a)에 포함된 상기 반응기(12) 즉, 티올은, 상술된 바와 같은 본 발명의 코팅층 형성방법을 통해서 코팅층이 형성되는 동안 휘발될 수도 있다.Meanwhile, the reactive group (12), i.e., thiol, included in the photocurable coating composition (1000a) may be volatilized while the coating layer is formed through the coating layer forming method of the present invention as described above.
도 16은 본 발명의 실험 예에 따라 상기 반응기(12)로 메타아크릴레이트(methacrylate)를 포함하는 광 경화형 코팅 조성물(1000b)을 도시하고, 도 17은 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000b)의 H-NMR을 도시하며, 도 18은 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000b)의 FT-IR을 도시한다.FIG. 16 illustrates a photocurable coating composition (1000b) containing methacrylate in the reactor (12) according to an experimental example of the present invention, FIG. 17 illustrates H-NMR of the photocurable coating composition (1000b), and FIG. 18 illustrates FT-IR of the photocurable coating composition (1000b).
도 16 내지 도 18을 통하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000b)은, 상기 베이스 코팅 조성물(200) 및 광 경화성 고분자물질(31)을 포함하는 것을 알 수 있다. Through FIGS. 16 to 18, it can be seen that the photocurable coating composition (1000b) includes the base coating composition (200) and the photocurable polymer material (31).
한편, 상기 광 경화형 코팅 조성물(1000b)에 포함된 상기 반응기(12) 즉, 메타아크릴레이트는, 상술된 바와 같은 본 발명의 코팅층 형성방법을 통해서 코팅층이 형성되는 동안 휘발될 수도 있다.Meanwhile, the reactor (12), i.e., methacrylate, included in the photocurable coating composition (1000b) may be volatilized while the coating layer is formed through the coating layer forming method of the present invention as described above.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.Above, although the present invention has been described in detail using preferred embodiments, the scope of the present invention is not limited to specific embodiments, and should be interpreted by the appended claims. In addition, those who have acquired common knowledge in this technical field should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.
10: 제1 소스
11: 실란
12: 반응기
13: 가소제
14: 부산물
15: 하이퍼브랜치(hyperbranch) 구조
20: 제2 소스
21: 과불화기
23: 용매
24: 촉매
30: 제3 소스
31: 광 경화성 고분자물질
32: 희석제
33: 광개시제
100: 소스 조성물
200: 베이스 코팅 조성물
1000: 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물10: Source 1
11: Silan
12: Reactor
13: Plasticizer
14: By-product
15: Hyperbranch structure
20: Second Source
21: Perfluorinated
23: Solvent
24: Catalyst
30: Third Source
31: Photocurable polymer material
32: Thinner
33: The opening ceremony
100: Source Composition
200: Base coating composition
1000: Photocurable coating composition having high transparency and high water repellency
Claims (14)
상기 베이스 코팅 조성물과 결합된 광 경화성 고분자물질;을 포함하고,
고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물의 첨가량이 조절되되,
상기 고발수성 용도에 따라, 127.4 ˚이상 내지 132.9 ˚이하의 물접촉각을 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물.
A base coating composition comprising a silane, a reactive group bonded to the silane, and a perfluorinated group; and
A photocurable polymer material combined with the above base coating composition;
Depending on at least one of the uses selected from high transparency use and high water repellency use, the amount of the base coating composition added is adjusted,
A photo-curable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising a water contact angle of 127.4 ˚ or more to 132.9 ˚ or less, according to the above-mentioned high water repellency use.
상기 베이스 코팅 조성물은,
하이퍼브랜치(hyperbranch) 구조를 가지는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물.
In the first paragraph,
The above base coating composition,
A photocurable coating composition having a hyperbranch structure and having high transparency and high hydrophobicity.
상기 반응기는,
티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물.
In the first paragraph,
The above reactor is,
A photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising at least one of a thiol and a methacrylate.
90.6 % 이상 내지 90.7 % 이하의 광투과도를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물.
In the first paragraph,
A photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising a light transmittance of 90.6% or more and 90.7% or less.
상기 소스 조성물과 과불화기를 포함하는 제2 소스를 혼합하여, 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계; 및
상기 베이스 코팅 조성물과 광 경화성 고분자물질을 포함하는 제3 소스와 희석제를 혼합하여, 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계;를 포함하되,
상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,
상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 3 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가되는 것을 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
A step of preparing a source composition from a first source comprising silane and a reactive group bonded to the silane;
A step of preparing a base coating composition by mixing the above source composition and a second source containing a perfluorinated group; and
A step of preparing a photocurable coating composition by mixing the base coating composition and a third source including a photocurable polymer material and a diluent; including,
In the step of preparing the above photo-curable coating composition, the base coating composition is:
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising adding more than 3 parts and less than 6 parts based on the mixed weight % of the third source and the diluent.
상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서,
상기 소스 조성물은,
하이퍼브랜치 구조를 가지는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In clause 5,
In the step of preparing the above source composition,
The above source composition is,
A method for producing a photocurable coating composition having a hyperbranched structure and having high transparency and high hydrophobicity.
상기 소스 조성물을 제조하는 단계는,
상기 제1 소스와 가소제를 혼합하고 부산물로 메탄올이 형성되는 제1 온도범위에서 열처리하여, 상기 소스 조성물을 제조하는 것을 포함하되,
상기 제1 온도범위는,
100 ℃ 이상 내지 160 ℃ 이하를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In clause 5,
The step of preparing the above source composition is:
Comprising: preparing the source composition by mixing the first source and the plasticizer and heat-treating at a first temperature range in which methanol is formed as a by-product;
The above first temperature range is,
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising a temperature of 100°C or higher and 160°C or lower.
상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계는,
상온보다 높은 제2 온도범위의 용매 중에, 상기 소스 조성물 및 상기 제2 소스와 촉매를 혼합하여, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되,
상기 제2 소스는,
상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 30 중량% 이상 내지 50 중량% 이하로 첨가되고,
상기 제2 온도범위는,
40 ℃ 이상 내지 50 ℃ 이하를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In clause 5,
The step of preparing the above base coating composition is:
Including preparing the base coating composition by mixing the source composition and the second source and a catalyst in a solvent having a second temperature range higher than room temperature,
The second source above is,
Added in an amount of 30 wt% or more to 50 wt% or less relative to the total weight of the base coating composition,
The above second temperature range is,
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, comprising a temperature of 40°C or higher and 50°C or lower.
상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계는,
상기 베이스 코팅 조성물 및 상기 제3 소스와 상기 희석제를 혼합하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되,
상기 제3 소스와 상기 희석제는, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 전체 중량 대비 60 중량%:40 중량%로 혼합되는 것을 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In Article 8,
The step of preparing the above photo-curable coating composition comprises:
A method of producing a photocurable coating composition, comprising mixing the base coating composition, the third source, and the diluent,
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, wherein the third source and the diluent are mixed in an amount of 60 wt%:40 wt% based on the total weight of the third source and the diluent.
상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고투명성 용도 및 고발수성 용도로 사용되는 경우,
상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스는,
상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In Article 9,
When the above photo-curable coating composition is used for high transparency and high water repellency purposes,
In the step of preparing the above base coating composition, the second source,
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, added at 40 wt% relative to the total weight of the base coating composition.
상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서,
상기 제1 소스는, 상기 반응기로 티올 및 메타아크릴레이트 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서,
상기 제2 소스는, 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(tridecafluorooctyl acrylate) 및 퍼플루오로데칸티올(perfluorodecanethiol) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고,
상기 용매는, 크롤로폼(chloroform)을 포함하고,
상기 촉매는, 트리에틸아민(triethylamine)을 포함하고,
상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서,
상기 제3 소스는, 상기 광 경화성 고분자물질로 우레탄올리고머(urethane oligomer)를 포함하고,
상기 희석제는, 헥산다이올 다이아크릴레이트(hexanediol diacrylate)를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법.
In Article 9,
In the step of preparing the above source composition,
The first source comprises at least one of thiol and methacrylate in the reactor,
In the step of preparing the above base coating composition,
The second source comprises at least one of tridecafluorooctyl acrylate and perfluorodecanethiol,
The above solvent contains chloroform,
The above catalyst contains triethylamine,
In the step of manufacturing the above photo-curable coating composition,
The third source comprises a urethane oligomer as the photocurable polymer material,
A method for producing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency, wherein the diluent comprises hexanediol diacrylate.
유리 및 플라스틱을 포함하는 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제공하고 광 경화하여, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법.A step of preparing a photocurable coating composition having high transparency and high water repellency according to Article 5; and
A method for forming a coating layer having high transparency and high water repellency, comprising the steps of providing the photocurable coating composition on a surface selected from a group of coating materials including glass and plastic, and photocuring the composition to form a coating layer having high transparency and high water repellency on the coating material.
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