KR102818073B1 - Method and apparatus of simulating garment - Google Patents
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Abstract
일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법 및 장치는 3차원 의상을 표시하는 사용자 인터페이스를 통해, 3차원 의상의 스타일 및 실루엣 중 적어도 하나를 나타내는 복수의 스타일 라인들 중 적어도 하나의 스타일 라인을 변경하는 입력을 수신하고, 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인을 식별하고, 입력에 기초하여 제1 연속 라인을 변형하고, 제1 연속 라인의 변형을 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하며, 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력한다.According to one embodiment, a method and device for simulating a costume receive, through a user interface displaying a three-dimensional costume, an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of a three-dimensional costume, identify at least one first continuous line extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional costume, deform the first continuous line based on the input, and propagate the deformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line, thereby deforming the at least one two-dimensional pattern, and output at least one of the deformed two-dimensional pattern and the three-dimensional costume whose style line is changed corresponding to the deformed two-dimensional pattern.
Description
실시예들은 의상 시뮬레이션 방법 및 장치에 관한 것이다.The embodiments relate to a clothing simulation method and device.
의상(garment)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 직물(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 직물은 유연(flexible)하기 때문에 의상을 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 형태가 다양하게 변화될 수 있다. Garments appear to be three-dimensional when worn by a person, but in reality, they are closer to two-dimensional because they are a combination of pieces of fabric cut according to a two-dimensional pattern. Since the fabric used as the material for clothing is flexible, its shape can change in various ways depending on the body shape or movement of the person wearing the clothing.
예를 들어, 3차원 의상에서 디자인적 요소를 반영하기 위해 다양한 형태의 절개선 및/또는 재봉선과 같은 스타일 라인들을 변형하는 경우, 3차원 의상에서 변형된 라인들에 의해 영향을 받는 2차원 패턴들의 길이 및/또는 면적에도 변화가 반영되어야 한다. For example, when modifying style lines such as various types of cutting lines and/or sewing lines to reflect design elements in a three-dimensional garment, the length and/or area of two-dimensional patterns affected by the modified lines in the three-dimensional garment must also be reflected in the change.
전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다. The background technology described above is technology that the inventor possessed or acquired in the process of deriving the disclosure content of the present application, and cannot necessarily be said to be a publicly known technology disclosed to the general public prior to the present application.
일 실시예에 따르면, 사용자 인터페이스를 통해 3차원 공간에 표현되는 3차원 의상의 스타일 라인을 용이하게 변형시킬 수 있다. According to one embodiment, the style line of a three-dimensional costume expressed in a three-dimensional space can be easily modified through a user interface.
일 실시예에 따르면, 3차원 의상이 표현되는 3차원 공간에서 3차원 인터페이스를 통해 입력된 스타일 라인의 변형을 전파하여 3차원 의상을 구성하는 2차원 패턴들의 길이 및/또는 면적을 변형할 수 있다.According to one embodiment, the length and/or area of two-dimensional patterns constituting the three-dimensional garment can be deformed by propagating the deformation of a style line input through a three-dimensional interface in a three-dimensional space where the three-dimensional garment is expressed.
일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 방법은 3차원 의상을 표시하는 사용자 인터페이스를 통해, 상기 3차원 의상의 스타일 및 실루엣 중 적어도 하나를 나타내는 복수의 스타일 라인들 중 적어도 하나의 스타일 라인을 변경하는 입력을 수신하는 동작; 상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)을 식별하는 동작; 상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하는 동작; 상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작; 및 상기 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 동작을 포함할 수 있다. According to one embodiment, a method for simulating a garment may include: receiving, through a user interface displaying a three-dimensional garment, an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment; identifying at least one first smooth line extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional garment; deforming the first smooth line based on the input; deforming the at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of the first smooth line to at least one candidate line associated with the first smooth line; and outputting at least one of the deformed two-dimensional pattern and the three-dimensional garment having the style line changed corresponding to the deformed two-dimensional pattern.
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 변형된 제1 연속 라인 및 상기 제1 연속 라인의 변형이 전파된 적어도 하나의 후보 라인을 포함하는 연속 라인 리스트를 생성하는 동작; 및 상기 연속 라인 리스트에 기초하여, 상기 2차원 패턴을 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming the two-dimensional pattern may include an operation of generating a list of continuous lines including the transformed first continuous line and at least one candidate line to which the transformation of the first continuous line is propagated; and an operation of transforming the two-dimensional pattern based on the list of continuous lines.
상기 적어도 하나의 후보 라인은 상기 제1 연속 라인을 포함하는 제1 패턴에 대칭되는 제2 패턴에서 상기 제1 연속 라인에 대응되는 제2 연속 라인; 상기 제1 연속 라인의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작되는 제3 연속 라인; 및 상기 제1 연속 라인, 상기 제2 연속 라인 및 상기 제3 연속 라인 중 적어도 하나와 재봉에 의해 연결되는 적어도 하나의 제3 패턴의 재봉선 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The at least one candidate line may include at least one of a second continuous line corresponding to the first continuous line in a second pattern symmetrical to the first pattern including the first continuous line; a third continuous line starting from a non-smooth point of the first continuous line; and at least one sewing line of at least one third pattern connected by sewing with at least one of the first continuous line, the second continuous line, and the third continuous line.
상기 연속 라인 리스트를 생성하는 동작은 상기 변형된 제1 연속 라인을 포함하는 상기 연속 라인 리스트를 생성하는 동작; 상기 제1 연속 라인의 변형을 전파하여 상기 적어도 하나의 후보 라인을 변형하는 동작; 및 상기 변형된 후보 라인에 대한 정보를 상기 연속 라인 리스트에 저장하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of generating the above continuous line list may include the operation of generating the continuous line list including the modified first continuous line; the operation of propagating the modification of the first continuous line to modify the at least one candidate line; and the operation of storing information about the modified candidate line in the continuous line list.
상기 적어도 하나의 후보 라인을 변형하는 동작은 상기 제1 연속 라인의 변형과 연관하게 변형되는 상기 적어도 하나의 후보 라인을 검색하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming said at least one candidate line may include an operation of searching for said at least one candidate line to be transformed in association with the transformation of said first continuous line.
상기 적어도 하나의 후보 라인을 검색하는 동작은 상기 제1 연속 라인을 현재 라인(current line)으로 설정하는 동작; 상기 현재 라인에서 상기 입력이 수신된 시작점으로부터 상기 시작점의 반대편에 있는 끝점까지의 제1 방향을 검색 방향(search direction)으로 설정하는 동작; 상기 현재 라인 및 상기 검색 방향을 기초로, 상기 현재 라인의 다음(next) 연속 라인을 검색하는 동작; 및 상기 다음 연속 라인을 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of searching for at least one candidate line may include: setting the first continuous line as a current line; setting a first direction from a starting point where the input is received in the current line to an ending point opposite to the starting point as a search direction; searching for a next continuous line of the current line based on the current line and the search direction; and adding the next continuous line to the continuous line list.
상기 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 동작은 상기 현재 라인 및 상기 검색 방향을 기초로, 상기 현재 라인을 포함하는 2차원 패턴 내에서 상기 현재 라인과 이어지는 다음 라인 및 상기 현재 라인과 재봉을 통해 연결된 라인 중 적어도 하나를 상기 다음 연속 라인의 후보 라인으로 설정하는 동작; 상기 다음 연속 라인의 후보 라인 중에서 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 연속성(smoothness)을 결정하는 동작; 및 상기 연속성을 기초로, 상기 해당 후보 라인을 상기 다음 연속 라인으로 검색하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of searching for the next continuous line of the current line may include an operation of setting at least one of a next line connected to the current line and a line connected to the current line through sewing within a two-dimensional pattern including the current line as a candidate line of the next continuous line, based on the current line and the search direction; an operation of determining continuity (smoothness) between a candidate line of the next continuous line and the current line among the candidate lines of the next continuous line; and an operation of searching for the candidate line as the next continuous line based on the continuity.
상기 연속성을 결정하는 동작은 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인이 동일한 2차원 패턴 내에서 이어진 연속 라인인 경우, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 사이각 또는 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인을 연결한 연속 라인의 곡률을 기초로, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인과의 연속성을 결정하는 동작; 및 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인이 재봉에 의해 연결된 연속 라인인 경우, 상기 재봉에 의해 연결된 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 사이각 또는 상기 재봉에 의해 연결된 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인의 곡률을 기초로, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인과의 연속성을 결정하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The operation of determining the continuity may include at least one of an operation of determining the continuity between the corresponding candidate line and the current line based on an angle between the corresponding candidate line and the current line or a curvature of a continuous line connecting the corresponding candidate line and the current line, if the corresponding candidate line and the current line are continuous lines connected within the same two-dimensional pattern; and an operation of determining the continuity between the corresponding candidate line and the current line based on an angle between the corresponding candidate line and the current line connected by the sewing or a curvature of the corresponding candidate line and the current line connected by the sewing, if the corresponding candidate line and the current line are continuous lines connected by the sewing.
상기 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 동작은 상기 제1 방향에 따라 반복적으로 상기 현재 라인의 제1 다음 연속 라인을 검색하는 동작; 및 상기 제1 방향에 반대되는 제2 방향에 따라 반복적으로 상기 현재 라인의 제2 다음 연속 라인을 검색하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of searching for the next continuous line of the current line may include an operation of repeatedly searching for the first next continuous line of the current line along the first direction; and an operation of repeatedly searching for the second next continuous line of the current line along a second direction opposite to the first direction.
상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 변형된 제1 연속 라인을 연속 라인 리스트에 추가하는 동작; 상기 제1 연속 라인에 대칭되는 연속 라인, 및 상기 제1 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인에 상기 변형된 제1 연속 라인의 길이 변경을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 동작; 및 상기 연속 라인 리스트에 포함된 연속 라인들 각각의 불연속 지점으로부터 시작된 필러 라인에 대응하여, 해당하는 필러 라인을 획득하면서 상기 연속 라인 리스트에서 상기 해당하는 필러 라인을 제거하는 S1 동작; 상기 해당하는 필러 라인에 재봉으로 연결된 라인들 중 아직 변형되지 않은 라인에 상기 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 S2 동작; 및 상기 재봉 라인과 대칭 관계에 있는 연속 라인에 상기 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 S3 동작을 포함할 수 있다. The operation of deforming the at least one two-dimensional pattern may include an operation of adding the deformed first continuous line to the continuous line list; an operation of applying the length change of the deformed first continuous line to a continuous line symmetrical to the first continuous line and a continuous line sewn together with the first continuous line and adding them to the continuous line list; and an operation S1 of removing a corresponding filler line from the continuous line list while obtaining a corresponding filler line corresponding to a filler line started from a discontinuity point of each of the continuous lines included in the continuous line list; an operation S2 of applying an area deformation due to the deformation of the corresponding filler line to a line that has not yet been deformed among lines connected to the corresponding filler line by sewing and adding the line to the continuous line list; and an operation S3 of applying an area deformation due to the deformation of the corresponding filler line to a continuous line symmetrical to the sewing line and adding the line to the continuous line list.
상기 S1 동작, S2 동작 및 S3 동작은 상기 연속 라인 리스트에 남은 필러 라인이 존재하지 않을 때까지 반복적으로 수행될 수 있다. The above operations S1, S2 and S3 can be repeatedly performed until there are no filler lines remaining in the continuous line list.
상기 연속 라인 리스트는 상기 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 연속 라인, 및 상기 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인을 포함하는 제1 연속 라인 리스트; 상기 제1 유형의 연속 라인의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인을 포함하는 제2 연속 라인 리스트; 상기 제2 연속 라인 리스트에 포함된 상기 제2 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인을 포함하는 제3 연속 라인 리스트; 및 상기 제1 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인을 포함하는 제4 연속 라인 리스트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The above continuous line list may include at least one of a first continuous line list including at least one of a first type of continuous line among a continuous line selected by the user, a continuous line symmetrical to the selected continuous line, and a continuous line sewn together with the selected continuous line; a second continuous line list including a second type of continuous line starting from a non-smooth point of the first type of continuous line; a third continuous line list including a third type of continuous line sewn together with the second type of continuous line included in the second continuous line list; and a fourth continuous line list including a fourth type of continuous line sewn together with the first type of continuous line.
상기 연속 라인 리스트에 기초하여, 상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 연속 라인 리스트를 기초로, 상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인들에 전파함으로써, 상기 2차원 패턴의 길이 및 면적 중 적어도 하나를 변경하는 동작을 포함할 수 있다. Based on the list of continuous lines, the operation of deforming the two-dimensional pattern may include an operation of changing at least one of a length and an area of the two-dimensional pattern by propagating the deformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line, based on the list of continuous lines.
상기 적어도 하나를 변경하는 동작은 상기 제1 연속 라인 리스트에 포함된 상기 제1 유형의 연속 라인에 대한 길이 변경을 상기 제1 유형의 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작; 상기 제1 유형의 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인의 변경으로 인한 면적 변경을 상기 제2 유형의 연속 라인과 관련된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작; 및 상기 제2 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인의 길이 변경을 상기 제3 유형의 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The above at least one changing operation may include at least one of: an operation of propagating a length change for a first type of continuous line included in the first continuous line list to at least one candidate line associated with the first type of continuous line; an operation of propagating an area change due to a change of a second type of continuous line starting from a discontinuity point of the first type of continuous line to at least one candidate line associated with the second type of continuous line; and an operation of propagating a length change of a third type of continuous line sewn together with the second type of continuous line to at least one candidate line associated with the third type of continuous line.
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 입력이 상기 제1 연속 라인의 불연속 지점에서 발생한 경우, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴에서 상기 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형하는 동작; 및 상기 입력이 상기 제1 연속 라인의 연속 지점에서 발생한 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력에 대응하는 전체 연속 라인을 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming the two-dimensional pattern may include an operation of transforming a portion of a continuous line corresponding to the input in the at least one two-dimensional pattern when the input occurs at a discontinuous point of the first continuous line; and an operation of transforming an entire continuous line corresponding to the input in the two-dimensional pattern when the input occurs at a continuous point of the first continuous line.
상기 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형하는 동작은 상기 제1 연속 라인의 불연속 지점을 기초로, 상기 제1 연속 라인을 상기 2차원 패턴 단위의 세그먼트들로 구분하는 동작; 및 상기 불연속 지점을 포함하는 세그먼트에서 상기 불연속 지점의 변경된 위치에 대응하는 길이만큼 상기 세그먼트의 길이를 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming some of the continuous lines corresponding to the above input may include an operation of dividing the first continuous line into segments of the two-dimensional pattern unit based on a discontinuous point of the first continuous line; and an operation of transforming the length of the segment including the discontinuous point by a length corresponding to a changed position of the discontinuous point.
상기 입력에 대응하는 전체 연속 라인을 변형하는 동작은 상기 변형된 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인 전체를 상기 변형된 제1 연속 라인과 동일한 길이 비율로 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming the entire continuous line corresponding to the input may include transforming at least one entire candidate line associated with the transformed first continuous line by a length ratio equal to that of the transformed first continuous line.
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 제1 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 적어도 하나의 제2 유형의 연속 라인 상에 위치한 제2 점들 중 길이가 변경된 제1 연속 라인과 겹치는 제1 점들의 제1 위치 이동값을 산출하는 동작; 상기 길이 변경된 제1 연속 라인의 길이 변경 비율을 기초로, 상기 제2 유형의 연속 라인 상에 위치한 제2 점들 중 상기 제1 점들을 제외한 나머지 점들의 제2 위치 이동값을 산출하는 동작; 및 상기 제1 위치 이동값 및 상기 제2 위치 이동값을 기초로, 상기 2차원 패턴의 면적을 변경하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of transforming the above two-dimensional pattern may include an operation of calculating first positional displacement values of first points, which overlap with the first continuous line whose length has been changed, among second points located on at least one second type of continuous line starting from a discontinuous point of the first continuous line; an operation of calculating second positional displacement values of the remaining points, excluding the first points, among second points located on the second type of continuous line based on a length change ratio of the first continuous line whose length has been changed; and an operation of changing an area of the two-dimensional pattern based on the first positional displacement value and the second positional displacement value.
상기 2차원 패턴의 면적을 변형하는 동작은 상기 면적 변경된 2차원 패턴에 대응하는 연속 라인의 길이 변경 비율을 산출하는 동작; 및 상기 길이 변경 비율을 기초로, 상기 면적 변경된 2차원 패턴에 대응하는 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인의 길이 비율을 변경하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of changing the area of the above two-dimensional pattern may include an operation of calculating a length change ratio of a continuous line corresponding to the two-dimensional pattern whose area has been changed; and an operation of changing a length ratio of a continuous line sewn together with a continuous line corresponding to the two-dimensional pattern whose area has been changed, based on the length change ratio.
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 입력이 상기 제1 연속 라인에 접하는 방향으로 발생하는 경우, 상기 2차원 패턴을 상기 제1 연속 라인에 접하는 방향으로 변형하는 동작; 및 상기 입력이 상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 발생하는 경우, 상기 2차원 패턴을 상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 변형하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The operation of transforming the two-dimensional pattern may include at least one of an operation of transforming the two-dimensional pattern in a direction tangent to the first continuous line when the input occurs in a direction tangent to the first continuous line; and an operation of transforming the two-dimensional pattern in a direction orthogonal to the first continuous line when the input occurs in a direction orthogonal to the first continuous line.
상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 변형하는 동작은 상기 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 라인, 및 상기 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들을, 상기 제1 유형의 연속 라인들로 간주하여 길이를 변경하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of deforming in a direction orthogonal to the first continuous line may include an operation of changing the length of second type of continuous lines starting from a discontinuity point of first type of continuous lines including at least one of a continuous line selected by the user, a line symmetrical to the selected continuous line, and a line sewn together with the selected continuous line, by considering them as continuous lines of the first type.
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은 상기 입력이 상기 적어도 하나의 스타일 라인에 대한 1차 사용자 인터페이스의 선택을 통해 수신된 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측 및 상기 일측에 대응되는 타측을 함께 변형하는 동작; 및 상기 입력이 상기 적어도 하나의 스타일 라인에 대한 선택을 통해 발생하는 2차 사용자 인터페이스의 선택을 통해 수신된 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측을 변형하는 동작 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The operation of transforming the two-dimensional pattern may include at least one of an operation of transforming both a side of the two-dimensional pattern where the input occurred and the other side corresponding to the one side, when the input was received through selection of a primary user interface for the at least one style line; and an operation of transforming a side of the two-dimensional pattern where the input occurred, when the input was received through selection of a secondary user interface that occurred through selection of the at least one style line.
상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측 및 상기 일측에 대응되는 타측을 함께 변형하는 동작은 상기 사용자에 의해 선택된 상기 일측의 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 상기 타측의 연속 라인, 및 상기 일측의 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인 및 상기 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인을 상기 입력에 대응하여 함께 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of deforming together one side where the input occurred and the other side corresponding to the one side in the two-dimensional pattern may include an operation of deforming together, in response to the input, at least one of a first type of continuous line including at least one of a continuous line of the one side selected by the user, a continuous line of the other side symmetrical to the selected continuous line, and a continuous line sewn together with the continuous line of the one side, and a fourth type of continuous line sewn together with the at least one first type of continuous line.
상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측을 변형하는 동작은 상기 사용자에 의해 선택된 상기 일측의 연속 라인, 및 상기 일측의 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들을 상기 입력에 대응하여 변형하는 동작을 포함할 수 있다. The operation of deforming one side where the input occurs in the above two-dimensional pattern may include an operation of deforming a first type of continuous lines including at least one of the continuous line of the one side selected by the user and the continuous line sewn together with the continuous line of the one side in response to the input.
일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상을 표시하고, 상기 3차원 의상의 스타일 및 실루엣 중 적어도 하나를 나타내는 복수의 스타일 라인들 중 적어도 하나의 스타일 라인을 변경하는 입력을 수신하는 사용자 인터페이스; 상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인을 식별하고, 상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하며, 상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 프로세서; 및 상기 변형된 2차원 패턴들 및 상기 변형된 2차원 패턴들에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 디스플레이를 포함할 수 있다.According to one embodiment, a clothing simulation device may include a user interface that displays a three-dimensional clothing and receives an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional clothing; a processor that identifies at least one first continuous line that spans at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing, and deforms the first continuous line based on the input, and propagates the deformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line, thereby deforming the at least one two-dimensional pattern; and a display that outputs at least one of the deformed two-dimensional patterns and the three-dimensional clothing whose style line is changed corresponding to the deformed two-dimensional patterns.
일 측에 따르면, 의상에 대한 전문적인 지식이 없는 사용자라 하더라도 사용자 인터페이스를 통해 3차원 공간에 표현되는 3차원 의상의 스타일 라인을 변경시킴으로 용이하게 스타일 라인이 변경된 3차원 의상의 시뮬레이션 결과를 제공받을 수 있다.According to one side, even users without professional knowledge of clothing can easily receive simulation results of 3D clothing with changed style lines by changing the style lines of 3D clothing expressed in 3D space through the user interface.
일 측에 따르면, 3차원 의상이 표현되는 3차원 공간에서 3차원 인터페이스를 통해 입력된 스타일 라인의 변형을 전파하여 해당 의상을 구성하는 2차원 패턴들의 길이 및/또는 면적을 변형함으로써 3차원 의상의 스타일 라인의 변형을 2차원 패턴들에 자연스럽게 반영할 수 있다.According to one aspect, by propagating the deformation of style lines input through a three-dimensional interface in a three-dimensional space where a three-dimensional garment is expressed, the length and/or area of two-dimensional patterns constituting the garment can be naturally reflected in the deformation of the style lines of the three-dimensional garment to the two-dimensional patterns.
도 1은 일 실시예에 따른3차원 공간에서 사용자 인터페이스를 통한 3차원 의상의 변형이 2차원 패턴들에 미치는 영향을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 사용자에 의해 선택된 연속 라인을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따른 제1 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 제2 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 제3 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 일 실시예에 따른 제4 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시예에 따른 후보 라인 검색을 통해 연속 라인 리스트를 생성하는 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 9는 일 실시예에 따른 연속 라인 리스트를 생성하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 일 실시예에 따른 재봉으로 연결된 라인(Sewn-Connected line)을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 일 실시예에 따른 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 방법을 나타낸 흐름도이다.
도 12a 및 도 12b는 일 실시예에 따른 변형 방향을 설명하기 위한 도면이다.
도 13a 및 도 13b는 일 실시예에 따른 연속 라인들을 전체적으로 변형하는 방법과 부분적으로 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 14a 및 도 14b는 일 실시예에 따른 입력에 대응하는 전체 연속 라인들의 길이를 변형하는 방법 및 일부 연속 라인의 길이를 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 15a 및 도 15b는 일 실시예에 따라 연속 라인들에 대응하는 2차원 패턴의 전체 면적을 변경하는 방법 및 부분 면적을 변경하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 16a 및 도 16b는 일 실시예에 따라 연속 라인들에 대응하는 2차원 패턴의 양 측(both sides)을 변형하는 방법 및 일측(one side)을 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 17은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도이다.FIG. 1 is a drawing for explaining the effect of deformation of a three-dimensional garment through a user interface in a three-dimensional space on two-dimensional patterns according to one embodiment.
Figure 2 is a flowchart illustrating a clothing simulation method according to one embodiment.
FIG. 3 is a drawing for explaining a continuous line selected by a user according to one embodiment.
FIG. 4 is a drawing for explaining a first type of continuous lines according to one embodiment.
FIG. 5 is a drawing for explaining a second type of continuous lines according to one embodiment.
FIG. 6 is a drawing for explaining a third type of continuous lines according to one embodiment.
FIG. 7 is a drawing for explaining a fourth type of continuous lines according to one embodiment.
FIG. 8 is a flowchart illustrating a method for generating a continuous line list through candidate line search according to one embodiment.
FIG. 9 is a diagram illustrating a method for generating a continuous line list according to one embodiment.
FIG. 10 is a drawing for explaining a sewn-connected line according to one embodiment.
FIG. 11 is a flowchart illustrating a method of transforming at least one two-dimensional pattern according to one embodiment.
FIGS. 12a and 12b are drawings for explaining the deformation direction according to one embodiment.
FIGS. 13a and 13b are drawings for explaining a method of deforming continuously lines as a whole and a method of deforming continuously lines partially according to one embodiment.
FIGS. 14A and 14B are diagrams for explaining a method of modifying the length of all continuous lines corresponding to an input according to one embodiment and a method of modifying the length of some continuous lines.
FIGS. 15A and 15B are drawings for explaining a method of changing the entire area of a two-dimensional pattern corresponding to continuous lines and a method of changing a partial area according to one embodiment.
FIGS. 16A and 16B are drawings for explaining a method of deforming both sides of a two-dimensional pattern corresponding to continuous lines and a method of deforming one side according to one embodiment.
Fig. 17 is a block diagram of a clothing simulation device according to one embodiment.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the attached drawings. However, since various modifications may be made to the embodiments, the scope of the patent application rights is not limited or restricted by these embodiments. It should be understood that all modifications, equivalents, or substitutes to the embodiments are included in the scope of the rights.
실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 동작, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 동작, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the examples are used for the purpose of description only and should not be construed as limiting. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "has" and the like are intended to specify the presence of a feature, number, operation, operation, component, part or combination thereof described in the specification, but should be understood to not exclude in advance the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, operations, operations, components, parts or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Terms defined in commonly used dictionaries, such as those defined in common dictionaries, should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning they have in the context of the relevant art, and shall not be interpreted in an idealized or overly formal sense, unless expressly defined in this application.
또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, when describing with reference to the attached drawings, the same components will be given the same reference numerals regardless of the drawing numbers, and redundant descriptions thereof will be omitted. When describing an embodiment, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the embodiment, the detailed description thereof will be omitted.
또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. Also, in describing components of the embodiments, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only intended to distinguish the components from other components, and the nature, order, or sequence of the components are not limited by the terms. When it is described that a component is "connected," "coupled," or "connected" to another component, it should be understood that the component may be directly connected or connected to the other component, but another component may also be "connected," "coupled," or "connected" between each component.
어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Components included in one embodiment and components that have common functions will be described using the same names in other embodiments. Unless otherwise stated, descriptions made in one embodiment may be applied to other embodiments, and specific descriptions will be omitted to the extent of overlap.
도 1은 일 실시예에 따른3차원 공간에서 사용자 인터페이스를 통한 3차원 의상의 변형이 2차원 패턴들에 미치는 영향을 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(101)을 나타낸 도면(110) 및 3차원 의상(101)에 대응하는 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)을 나타낸 도면(130)이 도시된다. FIG. 1 is a drawing for explaining the effect of deformation of a three-dimensional garment through a user interface in a three-dimensional space according to one embodiment on two-dimensional patterns. Referring to FIG. 1, a drawing (110) showing a three-dimensional garment (101) according to one embodiment and a drawing (130) showing two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) corresponding to the three-dimensional garment (101) are illustrated.
예를 들어, 3차원 공간에서 표시된 3차원 의상(101)의 스타일 라인(113)은 사용자 인터페이스(예를 들어, 도 17의 사용자 인터페이스(1710) 참조)를 통한 선택될 수 있으며, 스타일 라인(115)과 같이 위쪽 방향으로, 또는 스타일 라인(117)과 같이 아래쪽 방향으로 변형될 수 있다. '스타일 라인(style line)'은 3차원 의상(101)에서 외견상 보여지는 라인들로서, 예를 들어, 3차원 의상(101)을 구성하는 2차원 패턴들(131,133,135,137,139) 간의 재봉에 의해 3차원 의상(101)에서 보여지는 재봉선, 3차원 의상(101)의 실루엣을 나타내는 외곽선, 3차원 의상(101)의 스타일을 위해 추가된 절개선 등과 같이 3차원 의상(101)의 스타일 및/또는 실루엣을 나타내는 라인들에 해당할 수 있다. For example, a style line (113) of a three-dimensional costume (101) displayed in a three-dimensional space can be selected through a user interface (for example, see the user interface (1710) of FIG. 17) and can be deformed in an upward direction like the style line (115) or in a downward direction like the style line (117). The 'style lines' are lines that are visible on the three-dimensional costume (101), and may correspond to lines that indicate the style and/or silhouette of the three-dimensional costume (101), such as, for example, a sewing line that is visible on the three-dimensional costume (101) by sewing between two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) that constitute the three-dimensional costume (101), an outline that indicates the silhouette of the three-dimensional costume (101), a cutting line added for the style of the three-dimensional costume (101), etc.
이하, '스타일 라인'은 3차원 의상(101)에서 보여지는 3차원 라인을 지칭하고, '연속 라인' 또는 '라인'은 3차원 의상(101)을 구성하는 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)에 걸쳐 이어진 2차원 라인을 지칭하는 것으로 이해될 수 있다. '연속 라인'은 예를 들어, 상의 앞, 뒤판 패턴의 하단을 연속적으로 이어주는 라인, 또는 상의 앞판 패턴과 뒤판 패턴의 측면을 연속적으로 이어주는 라인, 및 소매 패턴의 양 단면을 연속적으로 이어주는 라인 등과 같이, 복수 개의 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)에 걸쳐 연속성을 가지고 부드럽게 이어지는 라인들로 이해될 수 있다. 이때, 복수의 패턴들에 걸쳐 함께 이어지는 연속 라인들에 대한 정보는 후술하는 연속 라인 리스트(SLL)에 저장될 수 있다.Hereinafter, the 'style line' refers to a three-dimensional line shown in the three-dimensional costume (101), and the 'continuous line' or 'line' may be understood to refer to a two-dimensional line that is continuous across two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) that constitute the three-dimensional costume (101). The 'continuous line' may be understood as lines that are continuous and smoothly continuous across a plurality of two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139), such as, for example, a line that continuously connects the bottoms of the front and back patterns of a top, a line that continuously connects the sides of the front and back patterns of a top, and a line that continuously connects both cross-sections of a sleeve pattern. At this time, information about the continuous lines that are continuous across a plurality of patterns may be stored in a continuous line list (SLL) described below.
예를 들어, 3차원 의상(101)의 스타일 라인(113)의 위치를 스타일 라인(115)와 같이 위로 변경하거나, 또는 스타일 라인(117)과 같이 아래로 변경하는 입력이 발생할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상(101)의 스타일 라인(113)을 변경하는 입력이 수신됨에 따라, 2차원 패턴들(131,133,135,137,139) 중 스타일 라인(113)에 대응하는 2차원 패턴들(133, 137)의 하단의 연속 라인(140)의 위치를 변경된 스타일 라인(115,117)에 대응하여 위, 또는 아래로 변형할 수 있다. For example, an input may occur to change the position of the style line (113) of the 3D costume (101) upward, such as the style line (115), or downward, such as the style line (117). When an input for changing the style line (113) of the 3D costume (101) is received, the costume simulation device may change the position of the continuous line (140) at the bottom of the 2D patterns (133, 137) corresponding to the style line (113) among the 2D patterns (131, 133, 135, 137, 139) upward or downward in response to the changed style line (115, 117).
3차원 의상(101)에서 보여지는 스타일 라인(113)을 변경하는 사용자 입력이 수신된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인(113)의 변형을, 스타일 라인(113)에 대응되는 2차원 패턴들(133,137)의 하단의 연속 라인(140)에 반영함으로써 3차원 의상(101)의 변경된 스타일 라인(115 또는 117)이 2차원 패턴들(133,137)에도 동일하게 표현되도록 할 수 있다. When a user input for changing a style line (113) shown in a three-dimensional costume (101) is received, the costume simulation device can reflect the change in the style line (113) to the continuous line (140) at the bottom of the two-dimensional patterns (133, 137) corresponding to the style line (113), thereby allowing the changed style line (115 or 117) of the three-dimensional costume (101) to be expressed identically in the two-dimensional patterns (133, 137).
일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 사용자가 3차원 인터페이스를 통해 3차원 공간에 보여지는 3차원 의상(101)의 스타일 라인(113)을 스타일 라인(115) 또는 스타일 라인(117)과 같이 변형한 경우, 스타일 라인(113)에 대응되는 2차원의 연속 라인(140)에 스타일 라인(115) 또는 스타일 라인(117)의 변형을 전파하여 연속 라인(140)과 연관된 2차원 패턴들(133,137)의 길이 및/또는 면적을 변형함으로써 3차원 의상(101)에서 발생한 변형을 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)에 자연스럽게 반영할 수 있다.According to one embodiment, when a user deforms a style line (113) of a three-dimensional garment (101) shown in a three-dimensional space through a three-dimensional interface into a style line (115) or a style line (117), the deformation of the style line (115) or the style line (117) is propagated to a two-dimensional continuous line (140) corresponding to the style line (113), thereby deforming the length and/or area of two-dimensional patterns (133, 137) associated with the continuous line (140), thereby naturally reflecting the deformation occurring in the three-dimensional garment (101) into the two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139).
의상 시뮬레이션 장치는 사용자가 스타일 라인(113) 및/또는 스타일 라인(113) 상의 임의의 지점을 이동시키는 경우, 해당 스타일 라인(113)에 대응하는 2차원의 연속 라인(140) 이외에도 연속 라인(140) 상의 재봉점과 같은 불연속 지점(non-smooth point)으로부터 시작된 연속 라인들 및/또는 불연속 지점으로부터 시작된 연속 라인들과 함께 재봉되는 연속 라인들을 동시에 동시에 변형시킴으로써 3차원 의상(101)에서의 스타일 라인(113)의 변형이 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)에 자연스럽게 반영되도록 할 수 있다. 불연속 지점에 대하여는 아래의 도 5를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. When a user moves a style line (113) and/or an arbitrary point on the style line (113), the clothing simulation device simultaneously deforms, in addition to a two-dimensional continuous line (140) corresponding to the style line (113), continuous lines starting from a discontinuous point (non-smooth point) such as a sewing point on the continuous line (140) and/or continuous lines sewn together with continuous lines starting from a discontinuous point, thereby allowing the deformation of the style line (113) in the three-dimensional clothing (101) to be naturally reflected in the two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139). The discontinuous points will be described in more detail with reference to FIG. 5 below.
도면(130)에 도시된 2차원 패턴들(131,133,135,137,139) 각각은 도면(110)에 도시된 3차원 의상(101)을 구성하는 각 신체 부위에 대응할 수 있다. 예를 들어, 우측 소매 패턴(131)은 3차원 의상(101)의 우측 팔 부분에 대응하고, 앞판 몸통 패턴(133)은 3차원 의상(101)의 전면 몸통(body) 부분에 대응할 수 있다. 좌측 소매 패턴(135)은 3차원 의상(101)의 좌측 팔 부분에 대응하고, 뒷판 몸통 패턴(137)은 3차원 의상(101)의 후면 몸통 부분에 대응할 수 있다. 목 칼라 패턴(139)은 3차원 의상(101)의 목 부분에 대응할 수 있다. Each of the two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) illustrated in the drawing (130) may correspond to each body part constituting the three-dimensional costume (101) illustrated in the drawing (110). For example, the right sleeve pattern (131) may correspond to the right arm part of the three-dimensional costume (101), and the front body pattern (133) may correspond to the front body part of the three-dimensional costume (101). The left sleeve pattern (135) may correspond to the left arm part of the three-dimensional costume (101), and the back body pattern (137) may correspond to the back body part of the three-dimensional costume (101). The neck collar pattern (139) may correspond to the neck part of the three-dimensional costume (101).
2차원 패턴들(131,133,135,137,139)은 3차원 의상(101)의 시뮬레이션을 위하여 복수의 다각형들의 집합으로 모델링되는 가상의 2차원 패턴일 수 있다. 2 차원 패턴들(131,133,135,137,139)은 복수의 패턴 조각들을 포함하고, 복수의 패턴 조각들 각각은 예를 들어, 3차원 아바타의 체형에 기초한 다각형 메쉬로 모델링될 수 있다. 이때, 다각형 메쉬는 복수의 다각형들(예를 들어, 삼각형 또는 사각형 등)을 포함할 수 있다. The two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) may be virtual two-dimensional patterns modeled as a set of a plurality of polygons for the simulation of a three-dimensional costume (101). The two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) include a plurality of pattern pieces, and each of the plurality of pattern pieces may be modeled as a polygonal mesh based on, for example, a body shape of a three-dimensional avatar. In this case, the polygonal mesh may include a plurality of polygons (for example, triangles or squares, etc.).
도면에 도시되지는 않았으나, 3차원 의상(101) 및 2차원 패턴들(131,133,135,137,139)은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 구성될 수 있다. 실시예들에 따라 메쉬는 다양하게 모델링 될 수 있다. 일례로, 메쉬에 포함되는 다각형의 꼭지점들은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 변들은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 일 실시예에서 따른 3차원 의상(101)은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라, 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다. Although not shown in the drawing, the three-dimensional garment (101) and the two-dimensional patterns (131, 133, 135, 137, 139) may be composed of a mesh including a plurality of polygons. The mesh may be modeled in various ways according to embodiments. For example, the vertices of the polygons included in the mesh may be points having mass (point mass), and the sides of the polygons may be expressed as springs having elasticity that connect the masses. Accordingly, the three-dimensional garment (101) according to one embodiment may be modeled by, for example, a mass-spring model. The springs may have, for example, respective resistance values for stretch, shear, and bending depending on the properties of the fabric used.
또는, 메쉬는 스트레인(strain) 모델로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함되는 다각형은 예를 들어, 삼각형으로 모델링되거나, 혹은 사각형 이상의 다각형으로 모델링될 수도 있다. 경우에 따라, 3차원 볼륨(volume)을 모델링해야 하는 경우, 메쉬는 3차원 다면체로 모델링될 수 있다.Alternatively, the mesh can be modeled as a strain model. The polygons included in the mesh can be modeled as triangles, for example, or as polygons larger than a square. In some cases, when a three-dimensional volume needs to be modeled, the mesh can be modeled as a three-dimensional polyhedron.
메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 예를 들어, 중력 등과 같은 외력(external force) 및 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending) 등과 같은 내력(internal force)에 의해 이동될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 외력 및 내력을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구함으로써 각 꼭지점의 변위 속도와 운동을 구할 수 있다. 의상의 움직임은 각 시간 동작에서 메쉬를 구성하는 다각형(들)의 꼭지점들의 움직임을 통해 시뮬레이션될 수 있다. The vertices of the polygon(s) included in the mesh can be moved by external forces such as gravity and internal forces such as stretch, shear, and bending. The clothing simulation device can obtain the displacement velocity and motion of each vertex by calculating the external and internal forces to obtain the force applied to each vertex. The movement of the clothing can be simulated through the movement of the vertices of the polygon(s) that constitute the mesh at each time motion.
예를 들어, 다각형 메쉬로 구성된 3차원 의상이 3차원 아바타 위에 착장되면, 물리 법칙에 기반한 자연스러운 3차원의 가상 의상이 구현될 수 있다. 메쉬에 포함된 다각형(들)의 꼭지점들은 중력 등과 같은 외부적인 힘(external force)과 신축, 비틀림, 및 굽힘의 내부적인 힘(internal force)의 작용에 따라 움직일 수 있다. 외부적인 힘과 내부적인 힘을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면, 각 꼭지점의 변위 및 움직임의 속도를 구할 수 있다. 그리고 각 시점(time step)에서의 메쉬의 다각형의 꼭지점들의 움직임을 통하여 가상 의상의 움직임을 시뮬레이션할 수 있다. 다각형 메쉬로 이루어진 2차원 패턴을 3차원 아바타에 착장시키면 물리 법칙에 기반한 자연스러운 모습의3차원의 가상 의상이 구현할 수 있다. For example, when a three-dimensional garment composed of a polygonal mesh is worn on a three-dimensional avatar, a natural three-dimensional virtual garment based on the laws of physics can be implemented. The vertices of the polygon(s) included in the mesh can move according to the action of external forces such as gravity and internal forces such as stretching, twisting, and bending. By calculating the external and internal forces to obtain the force applied to each vertex, the displacement and movement speed of each vertex can be obtained. In addition, the movement of the virtual garment can be simulated through the movement of the polygonal vertices of the mesh at each time step. When a two-dimensional pattern composed of a polygonal mesh is worn on a three-dimensional avatar, a natural three-dimensional virtual garment based on the laws of physics can be implemented.
일 실시예에 따른 3차원 의상(101)은 예를 들어, 사용자의 신체 치수에 맞는 가상 의상, 3차원 가상 캐릭터를 위한 가상 의상 및 3차원 가상 아바타를 위한 가상 의상 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.A three-dimensional costume (101) according to one embodiment may include, for example, at least one of a virtual costume that fits the user's body dimensions, a virtual costume for a three-dimensional virtual character, and a virtual costume for a three-dimensional virtual avatar.
도 2는 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다. 이하, 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.Fig. 2 is a flow chart illustrating a costume simulation method according to one embodiment. In the following embodiments, each operation may be performed sequentially, but is not necessarily performed sequentially. For example, the order of each operation may be changed, and at least two operations may be performed in parallel.
도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 동작(210) 내지 동작(250)을 통해 스타일 라인이 변경된 3차원 의상을 표시할 수 있다. Referring to FIG. 2, a clothing simulation device according to one embodiment can display a three-dimensional clothing with changed style lines through operations (210) to (250).
동작(210)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상을 표시하는(expressing) 사용자 인터페이스를 통해, 3차원 의상의 스타일 및 실루엣 중 적어도 하나를 나타내는 복수의 스타일 라인들 중 적어도 하나의 스타일 라인을 변경하는 입력을 수신할 수 있다. 이때, 스타일 라인을 변경하는 입력은 사용자가 손가락을 이용한 터치 입력, 터치 펜 입력, 또는 마우스 클릭 등을 통해 스타일 라인 상의 한 점을 선택하고, 선택된 점의 위치를 스타일 라인의 상, 하, 좌, 우 등의 위치로 이동시킴으로써 발생할 수 있으며, 반드시 이에 한정되지는 않는다. In operation (210), the clothing simulation device may receive an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional clothing through a user interface expressing the three-dimensional clothing. At this time, the input for changing the style line may be generated by the user selecting a point on the style line through a touch input using a finger, a touch pen input, a mouse click, etc., and moving the position of the selected point to a position such as above, below, left, or right of the style line, but is not necessarily limited thereto.
동작(220)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)을 식별한다. '스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인'은 사용자의 입력에 의해 변경되는 3차원 의상의 스타일 라인의 위치에 대응하는 2차원 패턴들의 라인(2차원 라인)에 해당할 수 있다. 이때, 제1 연속 라인은 단수일 수도 있고, 또는 복수일 수도 있다. In operation (220), the clothing simulation device identifies at least one first continuous line (smooth line) that spans at least one two-dimensional pattern corresponding to a style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to a three-dimensional clothing. The 'at least one first continuous line that spans at least one two-dimensional pattern corresponding to a style line' may correspond to a line (two-dimensional line) of two-dimensional patterns corresponding to a position of a style line of a three-dimensional clothing that is changed by a user's input. At this time, the first continuous line may be singular or plural.
예를 들어, 아래 도 3의 상단 도면(310)에 도시된 3차원 의상(320)의 하단에 있는 스타일 라인(325)을 변경하는 입력이 수신된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 도면(330)에 도시된 2차원 패턴들(340,350,360,370,380)에 포함된 복수의 라인들 중 스타일 라인(325)에 대응하여 2차원 패턴들(340,350)에 걸쳐 이어진 제1연속 라인들(345,355)을 식별할 수 있다. 이때, 도면(330)에 도시된 2차원 패턴들(340,350,360,370,380)은 도면(310)에 도시된 3차원 의상(320)에 대응될 수 있다. 제1 연속 라인(345)는 3차원 의상(320)의 하단 스타일 라인(325)에 대응하는 상의 앞판 패턴(340)의 하단 라인에 해당하고, 제1 연속 라인(355)는 3차원 의상(320)의 하단 스타일 라인(325)에 대응하는 상의 뒷판 패턴(350)의 하단 라인에 해당할 수 있다. For example, when an input for changing a style line (325) at the bottom of a three-dimensional garment (320) illustrated in the upper drawing (310) of FIG. 3 below is received, the garment simulation device can identify first continuous lines (345, 355) that span the two-dimensional patterns (340, 350) corresponding to the style line (325) among the multiple lines included in the two-dimensional patterns (340, 350, 360, 370, 380) illustrated in the drawing (330). At this time, the two-dimensional patterns (340, 350, 360, 370, 380) illustrated in the drawing (330) may correspond to the three-dimensional garment (320) illustrated in the drawing (310). The first continuous line (345) may correspond to the bottom line of the front pattern (340) of the top corresponding to the bottom style line (325) of the three-dimensional costume (320), and the first continuous line (355) may correspond to the bottom line of the back pattern (350) of the top corresponding to the bottom style line (325) of the three-dimensional costume (320).
일 실시예에서 3차원 의상(320)에 대응하는 2차원 패턴들(340,350,360,370,380)에 걸쳐 이어진 연속 라인들(smooth lines)은 예를 들어, 사용자에 의해 선택된 스타일 라인에 대응하는 제1 유형의 연속 라인들, 제1 유형의 연속 라인들의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들, 제2 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인들, 제1 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인들을 포함할 수 있으며, 반드시 이에 한정되지는 않는다. 일 실시예에 따른 연속 라인들의 유형은 아래의 도 3 내지 도 7을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. In one embodiment, continuous lines (smooth lines) extending across two-dimensional patterns (340, 350, 360, 370, 380) corresponding to three-dimensional clothing (320) may include, but are not necessarily limited to, first type continuous lines corresponding to a style line selected by a user, second type continuous lines starting from a non-smooth point of the first type continuous lines, third type continuous lines sewn together with the second type continuous lines, and fourth type continuous lines sewn together with the first type continuous lines. The types of continuous lines according to one embodiment are described in more detail with reference to FIGS. 3 to 7 below.
동작(230)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(210)에서 수신한 입력에 기초하여, 동작(220)에서 식별된 제1 연속 라인을 변형할 수 있다. In operation (230), the clothing simulation device can deform the first continuous line identified in operation (220) based on the input received in operation (210).
동작(240)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(230)에서의 제1 연속 라인의 변형을 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형할 수 있다. 여기서, '제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인'은 예를 들어, 사용자에 의해 선택된 제1 연속 라인에 대칭되는 라인 및/또는 사용자에 의해 선택된 제1 연속 라인과 함께 재봉되는 라인 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. In operation (240), the clothing simulation device can deform at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of the first continuous line in operation (230) to at least one candidate line associated with the first continuous line. Here, the 'at least one candidate line associated with the first continuous line' can include, for example, at least one of a line symmetrical to the first continuous line selected by the user and/or a line sewn together with the first continuous line selected by the user.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 3차원 의상의 형상이 실질적으로(substantially) 유지되도록, 적어도 하나의 2차원 패턴들을 변형할 수도 있고, 3차원 의상의 형상 자체가 변형되도록 적어도 하나의 2차원 패턴들을 변형할 수도 있다.The clothing simulation device may, for example, deform at least one of the two-dimensional patterns such that the shape of the three-dimensional clothing is substantially maintained, or may deform at least one of the two-dimensional patterns such that the shape of the three-dimensional clothing itself is deformed.
적어도 하나의 후보 라인은 제1 연속 라인을 포함하는 제1 패턴에 대칭되는 제2 패턴에서 제1 연속 라인에 대응되는 제2 연속 라인, 제1 연속 라인의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작되는 제3 연속 라인, 및 제1 연속 라인, 제2 연속 라인 및 제3 연속 라인 중 적어도 하나와 재봉에 의해 연결되는 적어도 하나의 제3 패턴의 재봉선 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제1 패턴에 대칭되는 제2 패턴은 예를 들어, 우측 소매 패턴에 대칭되는 좌측 소매 패턴과 같은 서로 대칭적인(symmetric) 인체 부분에 해당하는 2차원 패턴들로 이해될 수 있다. 동작(240)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 동작(230)에서 변형된 제1 연속 라인 및 제1 연속 라인의 변형이 전파된 적어도 하나의 후보 라인을 포함하는 연속 라인 리스트를 생성할 수 있다. '연속 라인 리스트'는 복수 개의 2차원 패턴들에 걸쳐 스무스(smooth)하게 연결되는 라인들의 순차화된 리스트(ordered list)로서, 'SLL(Smooth Line List)'라고 부를 수도 있다. At least one candidate line may include at least one of a second continuous line corresponding to the first continuous line in a second pattern symmetrical to the first pattern including the first continuous line, a third continuous line starting from a non-smooth point of the first continuous line, and at least one sewing line of at least one third pattern connected by sewing to at least one of the first continuous line, the second continuous line and the third continuous line. The second pattern symmetrical to the first pattern may be understood as two-dimensional patterns corresponding to symmetrical human body parts, such as, for example, a left sleeve pattern symmetrical to a right sleeve pattern. In operation (240), the clothing simulation device may generate a continuous line list including, for example, the first continuous line deformed in operation (230) and at least one candidate line to which the deformation of the first continuous line is propagated. A 'continuous line list' is an ordered list of lines that are smoothly connected across multiple two-dimensional patterns, and may also be called a 'Smooth Line List (SLL).'
연속 라인 리스트는 예를 들어, 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 선택된 연속 라인에 대칭되는 라인, 및 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들을 포함하는 제1 연속 라인 리스트, 제1 유형의 연속 라인들의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들을 포함하는 제2 연속 라인 리스트, 제2 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인들을 포함하는 제3 연속 라인 리스트, 및 제1 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인들을 포함하는 제4 연속 라인 리스트 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 반드시 이에 한정되지는 않는다.The continuous line list may include, but is not necessarily limited to, at least one of a first continuous line list including a first type of continuous lines including at least one of a continuous line selected by the user, a line symmetrical to the selected continuous line, and a line sewn together with the selected continuous line, a second continuous line list including a second type of continuous lines starting from a non-smooth point of the first type of continuous lines, a third continuous line list including a third type of continuous lines sewn together with the second type of continuous lines, and a fourth continuous line list including a fourth type of continuous lines sewn together with the first type of continuous lines.
동작(240)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인의 변형을 전파하여 적어도 하나의 후보 라인을 변형할 수 있다. 이때, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인의 변형과 연관하여 변형되는 적어도 하나의 후보 라인을 검색하고, 검색된 적어도 하나의 후보 라인을 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치가 적어도 하나의 후보 라인을 검색하여 변형함으로써 연속 라인 리스트를 생성하는 방법은 아래의 도 8 내지 도 9를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. In operation (240), the clothing simulation device can propagate the deformation of the first continuous line to deform at least one candidate line. At this time, the clothing simulation device can search for at least one candidate line to be deformed in association with the deformation of the first continuous line, and deform at least one of the searched candidate lines. The method of generating a continuous line list by searching for and deforming at least one candidate line by the clothing simulation device is described in more detail with reference to FIGS. 8 and 9 below.
동작(240)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 변형된 후보 라인에 대한 정보를 연속 라인 리스트에 저장할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인 리스트에 기초하여, 2차원 패턴을 변형할 수 있다.In operation (240), the clothing simulation device can store information about the deformed candidate lines in a continuous line list. The clothing simulation device can deform a two-dimensional pattern based on the continuous line list.
의상 시뮬레이션 장치가 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 방법은 아래의 도 11 내지 도 16을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.The method by which the clothing simulation device deforms at least one two-dimensional pattern is described in more detail with reference to FIGS. 11 to 16 below.
동작(250)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(240)에서 변형된 2차원 패턴들 및 변형된 2차원 패턴들에 대응하여 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력할 수 있다. In operation (250), the clothing simulation device can output at least one of the two-dimensional patterns transformed in operation (240) and a three-dimensional clothing with a style line changed corresponding to the transformed two-dimensional patterns.
도 3은 일 실시예에 따른 사용자에 의해 선택된 연속 라인을 설명하기 위한 도면이다. 도 3을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(320)을 나타낸 도면(310) 및 3차원 의상(320)에 대응하는 2차원 패턴들(340,350,360,370,380)을 나타낸 도면(330)이 도시된다. FIG. 3 is a drawing for explaining a continuous line selected by a user according to one embodiment. Referring to FIG. 3, a drawing (310) showing a three-dimensional costume (320) according to one embodiment and a drawing (330) showing two-dimensional patterns (340, 350, 360, 370, 380) corresponding to the three-dimensional costume (320) are illustrated.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 도면(310)에 도시된 3차원 의상(320)의 스타일 라인(325)을 변경하는 입력을 수신할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인을 변경하는 입력이 수신됨에 응답하여, 도면(330)과 같이, 3차원 의상(320)에 대응하는 2차원 패턴들(340,350,360,370,380)에 포함된 연속 라인들(smooth lines) 중 스타일 라인(325)에 대응하는 2차원 패턴들(340,350)에 걸쳐 이어진 제1 연속 라인들(345,355)을 식별할 수 있다. 이때, 제1 연속 라인들(345,355)은 3차원 의상(320)의 하단 스타일 라인(325)에 대응하는 상의 앞판 패턴(340)의 하단 라인 및 상의 뒷판 패턴(350)의 하단 라인에 해당할 수 있다.The clothing simulation device may receive, for example, an input for changing a style line (325) of a three-dimensional clothing (320) illustrated in the drawing (310). In response to receiving an input for changing a style line, the clothing simulation device may identify, as illustrated in the drawing (330), first continuous lines (345, 355) that extend across two-dimensional patterns (340, 350) corresponding to the style line (325) among continuous lines (smooth lines) included in two-dimensional patterns (340, 350, 360, 370, 380) corresponding to the three-dimensional clothing (320). At this time, the first continuous lines (345, 355) may correspond to a lower line of a front pattern (340) of a top and a lower line of a back pattern (350) of a top corresponding to a lower style line (325) of the three-dimensional clothing (320).
이와 같이, 사용자가 3차원 의상(320)에서 변경할 어느 하나의 스타일 라인(예: 스타일 라인(325))을 선택하고, 의상 시뮬레이션 장치가 사용자에 의해 선택된 스타일 라인(325)에 대응하여 식별한 2차원 패턴 상의 연속 라인들(345,355)을 '제1 유형의 연속 라인들'이라 부를 수 있다. 제1 유형의 연속 라인들은 사용자에 의해 선택된 스타일 라인에 대응하는 연속 라인이라는 점에서 'Picked SLL'라고 표현할 수도 있다. In this way, when a user selects one style line (e.g., style line (325)) to be changed in a three-dimensional costume (320), continuous lines (345, 355) on a two-dimensional pattern identified by the costume simulation device corresponding to the style line (325) selected by the user can be referred to as 'first type of continuous lines'. The first type of continuous lines can also be expressed as 'Picked SLL' in that they are continuous lines corresponding to the style line selected by the user.
예를 들어, 3차원 의상(320)의 스타일 라인(325)의 위치를 아래 또는 위로 이동시켜 변형하는 입력이 수신된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인(325)에 대응하는 제1 연속 라인(345,355)을 변형하고, 해당 변형을 제1 연속 라인(345,355)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써 스타일 라인(325)에 대응하는 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형할 수 있다. 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 대하여는 아래의 도 4를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. For example, when an input is received to transform the position of a style line (325) of a three-dimensional costume (320) by moving it up or down, the costume simulation device can transform at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line (325) by transforming the first continuous line (345, 355) corresponding to the style line (325) and propagating the transformation to at least one candidate line associated with the first continuous line (345, 355). The at least one candidate line associated with the first continuous line will be described in more detail with reference to FIG. 4 below.
도 4는 일 실시예에 따른 제1 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(420)을 나타낸 도면(410) 및 3차원 의상(420)에 대응하는 2차원 패턴들(440,450,460,470,480)을 나타낸 도면(430)이 도시된다. FIG. 4 is a drawing for explaining the first type of continuous lines according to one embodiment. Referring to FIG. 4, a drawing (410) showing a three-dimensional costume (420) according to one embodiment and a drawing (430) showing two-dimensional patterns (440, 450, 460, 470, 480) corresponding to the three-dimensional costume (420) are illustrated.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 사용자가 도면(410)에 도시된 3차원 의상(420)의 스타일 라인(425)에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 도면(430)과 같이, 3차원 의상(420)에 대응하는 2차원 패턴들(440,450,460,470,480)의 연속 라인들 중 스타일 라인(425)에 대응하는 제1 연속 라인(445)을 식별할 수 있다. For example, the clothing simulation device may receive a user's selection for a style line (425) of a three-dimensional clothing (420) illustrated in the drawing (410). In this case, the clothing simulation device may identify a first continuous line (445) corresponding to the style line (425) among the continuous lines of two-dimensional patterns (440, 450, 460, 470, 480) corresponding to the three-dimensional clothing (420), as illustrated in the drawing (430).
의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인(425)의 변경을 반영하여 제1 연속 라인(445)을 변형하는 한편, 제1 연속 라인(445)의 변형을 제1 연속 라인(445)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파할 수 있다. 이때, 제1 연속 라인(445)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인은 예를 들어, 제1 연속 라인(445)을 포함하는 제1 패턴(440)에서 제1 연속 라인(445)에 대칭되는 라인인 연속 라인(447), 제1 연속 라인(445)과 함께 재봉되는 연속 라인(455) 및 연속 라인(447)과 함께 재봉되는 연속 라인(457)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 연속 라인(445)을 포함하는 제1 패턴(예: 2차원 패턴(440))에 대칭되는 제2 패턴(예: 2차원 패턴(450))에서 제1 연속 라인(445)의 위치에 대응되는 연속 라인(457)을 '제2 연속 라인'이라 부를 수 있다. The clothing simulation device can deform the first continuous line (445) to reflect the change of the style line (425), while propagating the deformation of the first continuous line (445) to at least one candidate line associated with the first continuous line (445). At this time, the at least one candidate line associated with the first continuous line (445) can include, for example, a continuous line (447) that is symmetrical to the first continuous line (445) in a first pattern (440) including the first continuous line (445), a continuous line (455) sewn together with the first continuous line (445), and a continuous line (457) sewn together with the continuous line (447). Here, a continuous line (457) corresponding to the position of the first continuous line (445) in a second pattern (e.g., a two-dimensional pattern (450)) that is symmetrical to a first pattern (e.g., a two-dimensional pattern (440)) including a first continuous line (445) may be referred to as a 'second continuous line'.
이와 같이, 사용자에 의해 선택된 연속 라인(Picked SLL) 및 사용자에 의해 선택된 연속 라인과 연관된 후보 라인들을 '제1 유형의 연속 라인들' 또는 'Picked SLL set'이라 부를 수 있다. '제1 유형의 연속 라인들'은 제1 연속 라인 리스트에 저장될 수 있다. In this way, the continuous lines selected by the user (Picked SLL) and the candidate lines associated with the continuous lines selected by the user can be referred to as 'continuous lines of the first type' or 'Picked SLL set'. The 'continuous lines of the first type' can be stored in the first continuous line list.
도 5는 일 실시예에 따른 제2 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다. 도 5를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(520)을 나타낸 도면(510), 3차원 의상(520)에서 사용자에 의해 선택된 스타일 라인(525)에 대응하는 연속 라인들(545,555)을 포함하는 2차원 패턴들(540,550)을 나타낸 도면(530), 및 연속 라인(545)의 불연속 지점들(541,543)과 연속 라인(555)의 불연속 지점들(551,553)로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들(562,564,566,568)을 나타낸 도면(560)이 도시된다.FIG. 5 is a drawing for explaining the second type of continuous lines according to one embodiment. Referring to FIG. 5, a drawing (510) showing a three-dimensional costume (520) according to one embodiment, a drawing (530) showing two-dimensional patterns (540, 550) including continuous lines (545, 555) corresponding to a style line (525) selected by a user in the three-dimensional costume (520), and a drawing (560) showing the second type of continuous lines (562, 564, 566, 568) starting from discontinuous points (541, 543) of the continuous line (545) and discontinuous points (551, 553) of the continuous line (555) are illustrated.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 도면(510)에 도시된 3차원 의상(520)의 스타일 라인(525)의 한 지점에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 도면(530)과 같이, 3차원 의상(520)에 대응하는 2차원 패턴들 중 스타일 라인(525)에 대응하는 2차원 패턴들(540,550)에 걸쳐 이어진 제1 연속 라인들(545,555)을 식별할 수 있다. 이때, 제1 연속 라인들(545,555)은 전술한 '제1 유형의 연속 라인들'에 해당할 수 있다. The clothing simulation device may, for example, receive a user's selection for a point of a style line (525) of a three-dimensional clothing (520) illustrated in the drawing (510). In this case, the clothing simulation device may identify first continuous lines (545, 555) that extend across two-dimensional patterns (540, 550) corresponding to the style line (525) among two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing (520), as illustrated in the drawing (530). At this time, the first continuous lines (545, 555) may correspond to the 'first type of continuous lines' described above.
의상 시뮬레이션 장치는 제1 유형의 연속 라인들(545,555) 각각의 불연속 지점들(541,543,551,553)로부터 시작되는 연속 라인들(제2 유형의 연속 라인들)을 식별할 수 있다. 여기서, '제1 연속 라인들 각각의 불연속 지점(들)'이란 제1 연속 라인들(545,555)과 해당 라인 간의 사이각이 일정 각도(예: 45도 또는 90도) 이상이거나, 또는 제1 연속 라인들(545,555)과 해당 라인을 연결한 라인의 곡률이 일정 값(예: 60도) 이상으로서 제1 연속 라인들(545,555)의 연속성이 종료되는 지점(들)로 이해될 수 있다. The clothing simulation device can identify continuous lines (second type continuous lines) starting from discontinuity points (541,543,551,553) of each of the first type of continuous lines (545,555). Here, the 'discontinuity point(s) of each of the first continuous lines' can be understood as point(s) where the continuity of the first continuous lines (545,555) ends when an angle between the first continuous lines (545,555) and the corresponding line is greater than or equal to a certain angle (e.g., 45 degrees or 90 degrees), or when the curvature of the line connecting the first continuous lines (545,555) and the corresponding line is greater than or equal to a certain value (e.g., 60 degrees).
다시 말해, 도면(560)에 도시된 2차원 패턴(540)에서 제1 연속 라인(545)의 불연속 지점(541,543)은 제1 연속 라인(545)과 수직 관계에 있는 연속 라인이 만나는 지점인 제1 연속 라인(545)의 양끝 지점들에 해당할 수 있다. 또한, 2차원 패턴(550)에서 제1 연속 라인(555)의 불연속 지점들(551,553)은 제1 연속 라인(555)과 수직 관계에 있는 연속 라인이 만나는 지점인 제1 연속 라인(555)의 양끝 지점들에 해당할 수 있다.In other words, in the two-dimensional pattern (540) illustrated in the drawing (560), the discontinuity points (541, 543) of the first continuous line (545) may correspond to both end points of the first continuous line (545), which are points where continuous lines in a vertical relationship with the first continuous line (545) meet. In addition, in the two-dimensional pattern (550), the discontinuity points (551, 553) of the first continuous line (555) may correspond to both end points of the first continuous line (555), which are points where continuous lines in a vertical relationship with the first continuous line (555) meet.
의상 시뮬레이션 장치는 도면(560)과 같이, 2차원 패턴(540)의 제1 연속 라인(545)의 불연속 지점들(541,543) 각각으로부터 시작되는 연속 라인(562,564)과 2차원 패턴(550)의 제1 연속 라인(555)의 불연속 지점들(551,553) 각각으로부터 시작되는 연속 라인(566,568)을 제2 유형의 연속 라인으로 검색할 수 있다. As shown in the drawing (560), the clothing simulation device can search for continuous lines (562, 564) starting from each of the discontinuous points (541, 543) of the first continuous line (545) of the two-dimensional pattern (540) and continuous lines (566, 568) starting from each of the discontinuous points (551, 553) of the first continuous line (555) of the two-dimensional pattern (550) as the second type of continuous lines.
이와 같이, 제1 유형의 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 연속 라인을 '제2 유형의 연속 라인' 또는 '필러 라인(Pilar line)'이라 부를 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴에서 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 필러 라인을 찾을 수 있다. In this way, a continuous line starting from a discontinuity point of a first type of continuous line can be called a 'second type of continuous line' or a 'pilar line'. The clothing simulation device can find a filler line starting from a discontinuity point of a continuous line in a two-dimensional pattern.
'제1 유형의 연속 라인들'에 포함된 연속 라인들의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들을 'Pilar SLL Set'이라 부를 수 있다. 제2 유형의 연속 라인들은 제2 연속 라인 리스트에 저장될 수 있다. The second type of continuous lines starting from the discontinuity point of the continuous lines included in the 'First type of continuous lines' can be called 'Pilar SLL Set'. The second type of continuous lines can be stored in the second continuous line list.
도 6은 일 실시예에 따른 제3 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다. 도 6을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(620)을 나타낸 도면(610) 및 3차원 의상(620)의 스타일 라인(625)에 대응하는 연속 라인들(655,675)을 포함하는 2차원 패턴들(650,670)과 연속 라인들(655,675) 및 연속 라인들(655,675)에 대칭되는 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인들(645,665)을 포함하는 2차원 패턴들(640,650)을 나타낸 도면(630)이 도시된다.FIG. 6 is a drawing for explaining a third type of continuous lines according to one embodiment. Referring to FIG. 6, a drawing (610) showing a three-dimensional garment (620) according to one embodiment and a drawing (630) showing two-dimensional patterns (650,670) including continuous lines (655,675) corresponding to style lines (625) of the three-dimensional garment (620) and continuous lines (645,665) sewn together with continuous lines (655,675) and continuous lines symmetrical to the continuous lines (655,675) are illustrated.
예를 들어, 3차원 의상(620)의 스타일 라인(625)의 길이 또는 위치를 변경하는 입력이 수신된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인(625)에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴(650,670)에 걸쳐 이어진 제1 연속 라인들(655,675)을 식별하여 변형하고, 제1 연속 라인들(655,675)의 변형을 제1 연속 라인들(655,675)에 대칭되는 연속 라인들(657,677) 및/또는 제2 유형의 연속 라인들(655,657,675,677)과 함께 재봉되는 연속 라인들(645,665)에 전파함으로써 2차원 패턴을 변형할 수 있다. For example, when an input for changing the length or position of a style line (625) of a three-dimensional garment (620) is received, the garment simulation device can identify and deform first continuous lines (655, 675) that extend across at least one two-dimensional pattern (650, 670) corresponding to the style line (625), and propagate the deformation of the first continuous lines (655, 675) to continuous lines (657, 677) symmetrical to the first continuous lines (655, 675) and/or continuous lines (645, 665) sewn together with the second type of continuous lines (655, 657, 675, 677), thereby deforming the two-dimensional pattern.
의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인들(655,675)의 변형을 제1 연속 라인들(655,675)과 재봉에 의해 연결되는 2차원 패턴들(640,660)의 연속 라인들 (645,665)에 전파할 수 있다. 제1 연속 라인들(655,675) 및 제1 연속 라인들(655,675)과 함께 재봉되는 연속 라인들(645,665)에 대한 정보는 전술한 연속 라인 리스트에 포함될 수 있다. The clothing simulation device can propagate the deformation of the first continuous lines (655,675) to the continuous lines (645,665) of the two-dimensional patterns (640,660) connected by sewing with the first continuous lines (655,675). Information about the first continuous lines (655,675) and the continuous lines (645,665) sewn together with the first continuous lines (655,675) can be included in the continuous line list described above.
예를 들어, 제1 연속 라인들(655,657,675,677)이 전술한 제2 유형의 연속 라인들 또는 필러 라인들에 해당하는 경우, 제1 연속 라인(655,657,675,677)과 함께 재봉되는 연속 라인들(645,665)을 '제3 유형의 연속 라인들'이라 부를 수 있다. 제2 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인들을 'Pilar-Sewn SLL Set'이라 부를 수 있다. 제3 유형의 연속 라인들은 제3 연속 라인 리스트에 포함될 수 있다. For example, if the first continuous lines (655,657,675,677) correspond to the second type of continuous lines or filler lines described above, the continuous lines (645,665) sewn together with the first continuous line (655,657,675,677) may be called 'third type of continuous lines'. The third type of continuous lines sewn together with the second type of continuous lines may be called 'Pilar-Sewn SLL Set'. The third type of continuous lines may be included in the third continuous line list.
아래에서 보다 구체적으로 설명하겠지만, 제3 유형의 연속 라인들(645,665)이 제2 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 경우, 제2 유형의 연속 라인들(655,675)을 포함하는 2차원 패턴들(650,670)의 면적이 변경됨에 따라 제2 유형의 연속 라인(655,675)의 길이 비율 또한 변경될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 면적 변경된 2차원 패턴들(650,670)에 대응하는 연속 라인들('제2 유형의 연속 라인')(655,675)의 길이 변경 비율을 산출하고, 제2 유형의 연속 라인들(655,675)의 길이 변경 비율을 기초로 면적 변경된 2차원 패턴(650,670)에 대응하는 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인(645,665)의 길이 비율을 변경할 수 있다.As will be described in more detail below, when the third type of continuous lines (645,665) are sewn together with the second type of continuous lines, the length ratio of the second type of continuous lines (655,675) may also be changed as the area of the two-dimensional patterns (650,670) including the second type of continuous lines (655,675) is changed. The clothing simulation device calculates the length change ratio of the continuous lines ('second type of continuous lines') (655,675) corresponding to the two-dimensional patterns (650,670) of which the area has been changed, and can change the length ratio of the continuous lines (645,665) sewn together with the continuous lines corresponding to the two-dimensional patterns (650,670) of which the area has been changed based on the length change ratio of the second type of continuous lines (655,675).
도 7은 일 실시예에 따른 제4 유형의 연속 라인들을 설명하기 위한 도면이다. 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(720)을 나타낸 도면(710), 3차원 의상(720)에서 사용자에 의해 선택된 스타일 라인(725)에 대응하는 제1유형의 연속 라인(734)과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인들(732736)을 나타낸 도면(730)이 도시된다. FIG. 7 is a drawing for explaining the fourth type of continuous lines according to one embodiment. Referring to FIG. 7, a drawing (710) showing a three-dimensional garment (720) according to one embodiment, and a drawing (730) showing the fourth type of continuous lines (732736) sewn together with a first type of continuous line (734) corresponding to a style line (725) selected by a user in the three-dimensional garment (720) are illustrated.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 도면(710)에 도시된 3차원 의상(720)의 스타일 라인(725)을 변경하는 사용자의 입력을 수신할 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 도면(730)과 같이, 3차원 의상(720)의 스타일 라인(725)에 대응하는 2차원 패턴들(731,733,735)의 연속 라인들(732,734,736) 중 스타일 라인(725)에 대응하는 제1 연속 라인(734)을 식별할 수 있다. The clothing simulation device may, for example, receive a user's input for changing a style line (725) of a three-dimensional clothing (720) illustrated in the drawing (710). In this case, the clothing simulation device may identify a first continuous line (734) corresponding to the style line (725) among continuous lines (732, 734, 736) of two-dimensional patterns (731, 733, 735) corresponding to the style line (725) of the three-dimensional clothing (720), as illustrated in the drawing (730).
3차원 의상(720)의 스타일 라인(725)의 길이 또는 위치를 변경하는 입력이 수신된 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 스타일 라인(725)의 변형에 따라 제1 연속 라인(734)의 위치 및/또는 길이를 변형하는 한편, 제1 연속 라인(734)의 변형을 스타일 라인(725)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파할 수 있다. 이때, 스타일 라인(725)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인 중 예를 들어, 스타일 라인(725)에 대응하는 2차원 소매 패턴(733)의 연속 라인(734)은 제1 유형의 연속 라인에 해당하고, 연속 라인(734)과 함께 재봉되는 앞판 패턴(731)의 연속 라인(732) 및 뒷판 패턴(735)의 연속 라인(736)은 제1 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제4유형의 연속 라인에 해당할 수 있다. '제4 유형의 연속 라인'은 사용자에 의해 선택된 연속 라인과 연관하여 변형되는 제1 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 연속 라인에 해당하며, 'Picked-Sewn SLL'이라 부를 수 있다. 'Picked-Sewn SLL'는 Picked SLL Set에 포함된 모든 연속 라인들과 재봉되는 모든 라인들을 포함하는 연속 라인들의 집합에 해당할 수 있다. When an input for changing the length or position of the style line (725) of the three-dimensional garment (720) is received, the garment simulation device may change the position and/or length of the first continuous line (734) according to the change of the style line (725), while propagating the change of the first continuous line (734) to at least one candidate line associated with the style line (725). At this time, among the at least one candidate line associated with the style line (725), for example, the continuous line (734) of the two-dimensional sleeve pattern (733) corresponding to the style line (725) may correspond to the first type of continuous line, and the continuous line (732) of the front pattern (731) and the continuous line (736) of the back pattern (735) sewn together with the continuous line (734) may correspond to the fourth type of continuous lines sewn together with the first type of continuous line. The 'fourth type of continuous line' corresponds to a continuous line that is sewn together with the first type of continuous lines that are transformed in relation to the continuous line selected by the user, and may be called 'Picked-Sewn SLL'. The 'Picked-Sewn SLL' may correspond to a set of continuous lines that includes all continuous lines included in the Picked SLL Set and all lines that are sewn.
도 8은 일 실시예에 따른 후보 라인 검색을 통해 연속 라인 리스트를 생성하는 방법을 나타낸 흐름도이다. 이하, 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.Fig. 8 is a flowchart illustrating a method for generating a continuous line list through a candidate line search according to one embodiment. In the following embodiments, each operation may be performed sequentially, but is not necessarily performed sequentially. For example, the order of each operation may be changed, and at least two operations may be performed in parallel.
도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 동작(810) 내지 동작(840)을 통해 연속 라인 리스트를 생성하는 과정이 도시된다. Referring to FIG. 8, a process of generating a continuous line list through operations (810) to (840) of a clothing simulation device according to one embodiment is illustrated.
동작(810)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인을 현재 라인(current line)으로 설정할 수 있다. In operation (810), the clothing simulation device can set the first continuous line as the current line.
동작(820)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(810)에서 설정된 현재 라인에서 스타일 라인을 변경하는 입력이 수신된 시작점으로부터 해당 시작점의 반대편에 있는 끝점까지의 제1방향을 검색 방향(search direction)으로 설정할 수 있다. In operation (820), the clothing simulation device can set a first direction from a starting point where an input for changing a style line in the current line set in operation (810) is received to an end point opposite to the starting point as a search direction.
동작(830)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(810)에서 설정된 현재 라인 및 동작(820)에서 설정된 검색 방향을 기초로, 현재 라인의 다음(next) 연속 라인을 검색할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치가 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 방법의 일 예시는 다음과 같다. In operation (830), the clothing simulation device can search for the next continuous line of the current line based on the current line set in operation (810) and the search direction set in operation (820). An example of how the clothing simulation device searches for the next continuous line of the current line is as follows.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 현재 라인 및 검색 방향을 기초로, 현재 라인을 포함하는 2차원 패턴 내에서 현재 라인과 이어지는 다음 라인 및 현재 라인과 재봉을 통해 연결된 라인 중 적어도 하나를 다음 연속 라인의 후보 라인으로 설정할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 다음 연속 라인의 후보 라인 중에서 해당 후보 라인과 현재 라인 간의 연속성(smoothness)을 결정할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치가 후보 라인과 현재 간의 연속성을 결정하는 방법은 아래의 도 9를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. The garment simulation device can, for example, set at least one of a next line connected to the current line and a line connected to the current line through sewing within a two-dimensional pattern including the current line as a candidate line of the next continuous line based on the current line and the search direction. The garment simulation device can determine the continuity (smoothness) between the candidate line and the current line among the candidate lines of the next continuous line. The method by which the garment simulation device determines the continuity between the candidate line and the current is described in more detail with reference to FIG. 9 below.
의상 시뮬레이션 장치는 연속성을 기초로, 해당 후보 라인을 다음 연속 라인으로 검색할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 후보 라인 중에서 현재 라인과 가장 부드럽게 이어지는 라인, 다시 말해 가장 높은 연속성을 나타내는 라인을 다음 연속 라인으로 선정할 수 있다. The clothing simulation device can search for the candidate line as the next continuous line based on continuity. For example, the clothing simulation device can select the line that most smoothly connects to the current line among the candidate lines, in other words, the line showing the highest continuity, as the next continuous line.
동작(840)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 동작(830)에서 검색된 다음 연속 라인을 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. In operation (840), the costume simulation device can add the next continuous line searched in operation (830) to the continuous line list.
도 9는 일 실시예에 따른 연속 라인 리스트를 생성하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 9를 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴들(910,930)에 포함된 연속 라인들을 찾아 연속 라인 리스트를 생성하는 방법을 설명하기 위한 도면(900)이 도시된다. FIG. 9 is a drawing for explaining a method for generating a continuous line list according to one embodiment. Referring to FIG. 9, a drawing (900) for explaining a method for generating a continuous line list by finding continuous lines included in two-dimensional patterns (910, 930) according to one embodiment is illustrated.
일 실시예에 따른 연속 라인 리스트는 사용자에 의해 변형된 제1 연속 라인 및 제1 연속 라인의 변형이 전파된 적어도 하나의 후보 라인을 포함할 수 있다. A list of continuous lines according to one embodiment may include a first continuous line modified by a user and at least one candidate line to which the modification of the first continuous line is propagated.
예를 들어, 3차원 의상에서 사용자에 의해 선택된 지점이 2차원 패턴(910)의 우측 하단의 연속 라인(913) 상의 일 지점(911)에 해당한다고 하자. 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인의 시작점이 선택되었는지 또는 끝점이 선택되었는지 여부를 입력으로 받아 선택된 일 지점(911)을 포함하는 연속 라인(913)과 연속적으로 연결되는 연속 라인들(915,933,935)의 순차화된 리스트인 연속 라인 리스트를 출력할 수 있다. For example, let's say that a point selected by a user in a three-dimensional garment corresponds to a point (911) on a continuous line (913) at the lower right of a two-dimensional pattern (910). The garment simulation device can receive as input whether a start point or an end point of a continuous line is selected and output a continuous line list, which is a sequential list of continuous lines (915, 933, 935) that are continuously connected to the continuous line (913) including the selected point (911).
예를 들어, 2차원 패턴(910)의 연속 라인(913)의 시작점에 해당하는 일 지점(911)이 선택되면, 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인(913)에 '방문(visit)'을 마크(mark)하고, 연속 라인(913)을 현재 라인(current line)으로 설정할 수 있다. For example, when a point (911) corresponding to the starting point of a continuous line (913) of a two-dimensional pattern (910) is selected, the clothing simulation device can mark a 'visit' on the continuous line (913) and set the continuous line (913) as the current line.
의상 시뮬레이션 장치는 현재 라인(예: 연속 라인(913))에서 입력이 수신된 시작점인 일 지점(911)으로부터 반대편에 있는 끝점까지의 제1 방향(예: 좌측 방향)을 검색 방향(search direction)을 설정할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 현재 라인과 검색 방향을 기초로, 현재 라인(연속 라인(913))의 다음 연속 라인(Next Smooth Line)(예: 연속 라인(915))을 검색하고, 검색한 다음 연속 라인(연속 라인(915))을 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. The clothing simulation device can set a search direction as a first direction (e.g., leftward direction) from a starting point (911) where an input is received in a current line (e.g., continuous line (913)) to an end point on the opposite side. Based on the current line and the search direction, the clothing simulation device can search for a next smooth line (e.g., continuous line (915)) of the current line (continuous line (913)), and add the searched smooth line (continuous line (915)) to the continuous line list.
의상 시뮬레이션 장치는 검색되는 다음 연속 라인이 있다면, 다음 연속 라인에 '방문'을 마크하고, 다음 연속 라인을 현재 라인으로 설정하여 순차적으로 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 검색 방향(예: 좌측 방향)에 따라 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 동작을 반복할 수 있다. The clothing simulation device can mark the next continuous line as 'visited' if there is a next continuous line to be searched, set the next continuous line as the current line, and sequentially add it to the continuous line list. The clothing simulation device can repeat the operation of searching for the next continuous line of the current line according to the search direction (e.g., leftward direction).
보다 구체적으로, 의상 시뮬레이션 장치가 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 방법은 다음과 같다. More specifically, the way the costume simulation device searches for the next continuous line of the current line is as follows.
의상 시뮬레이션 장치는 현재 라인(예: 연속 라인(913)) 및 검색 방향(예: 좌측 방향)을 기초로, 현재 라인(연속 라인(913))을 포함하는 2차원 패턴(910) 내에서 현재 라인(연속 라인(913))과 이어지는 다음 연속 라인(연속 라인(915)) 및 현재 라인(연속 라인(913))과 재봉을 통해 연결된 라인(Sewn-Connected Lines)(예: 연속 라인(933), 및 연속 라인(935)) 중 적어도 하나를 다음 연속 라인의 후보 라인으로 설정할 수 있다. 여기서, '현재 라인과 재봉을 통해 연결된 라인(들)(Sewn-Connected Line(s))'에 대하여는 아래의 도 10을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. The clothing simulation device can set at least one of a next continuous line (continuous line (915)) and lines connected to the current line (continuous line (913)) through sewing (e.g., continuous line (933) and continuous line (935)) within a two-dimensional pattern (910) including the current line (continuous line (913)) as a candidate line of the next continuous line, based on a current line (e.g., continuous line (913)) and a search direction (e.g., leftward direction). Here, the 'current line and sewn-connected line(s)' will be described in more detail with reference to FIG. 10 below.
의상 시뮬레이션 장치는 다음 연속 라인의 후보 라인(연속 라인(933), 및 연속 라인(935)) 중에서 해당 후보 라인과 현재 라인(연속 라인(913)) 간의 연속성(smoothness)을 결정할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 해당 후보 라인과 현재 라인(연속 라인(913))이 동일한 2차원 패턴 내에서 이어진 연속 라인인 경우, 해당 후보 라인과 현재 라인 간의 사이각 또는 해당 후보 라인과 현재 라인을 연결한 연속 라인의 곡률을 기초로, 해당 후보 라인과 현재 라인과의 연속성을 결정할 수 있다. The clothing simulation device can determine the continuity (smoothness) between the candidate line (continuous line (933) and continuous line (935)) of the next continuous line and the current line (continuous line (913)). For example, if the candidate line and the current line (continuous line (913)) are continuous lines that are connected within the same two-dimensional pattern, the clothing simulation device can determine the continuity between the candidate line and the current line based on the angle between the candidate line and the current line or the curvature of the continuous line connecting the candidate line and the current line.
또는 의상 시뮬레이션 장치는 해당 후보 라인(연속 라인(933))과 현재 라인(연속 라인(913))이 재봉에 의해 연결된 연속 라인인 경우, 재봉에 의해 연결된 해당 후보 라인(연속 라인(933))과 현재 라인(연속 라인(913)) 간의 사이각 또는 재봉에 의해 연결된 해당 후보 라인(연속 라인(933))과 현재 라인(연속 라인(913))의 곡률을 기초로, 해당 후보 라인과 현재 라인과의 연속성을 결정할 수 있다. 이때, '해당 후보 라인과 현재 라인과의 연속성'은 해당 후보 라인과 현재 라인 간의 사이각이 일정 각도(예:15도) 이하인지 여부 또는 해당 후보 라인과 현재 라인을 연결한 라인의 곡률이 일정 값 이하인지 여부 중 적어도 하나를 기초로 결정될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 연속성을 기초로, 해당 후보 라인(연속 라인(933))을 다음 연속 라인으로 검색할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 다음 연속 라인의 후보 라인 중에서 현재 라인과 가장 높은 연속성을 갖는 연속 라인(예: 연속 라인(933))을 다음 연속 라인으로 검색할 수 있다. Alternatively, the clothing simulation device may determine the continuity between the candidate line (continuous line (933)) and the current line (continuous line (913)) based on the angle between the candidate line (continuous line (933)) and the current line (continuous line (913)) connected by sewing or the curvature of the candidate line (continuous line (933)) and the current line (continuous line (913)) connected by sewing, if the candidate line (continuous line (933)) and the current line (continuous line (913)) are continuous lines connected by sewing. At this time, the 'continuity between the candidate line and the current line' may be determined based on at least one of whether the angle between the candidate line and the current line is less than or equal to a certain angle (e.g., 15 degrees) or whether the curvature of the line connecting the candidate line and the current line is less than or equal to a certain value. The clothing simulation device may search for the candidate line (continuous line (933)) as the next continuous line based on the continuity. The clothing simulation device can search for a continuous line (e.g., continuous line (933)) that has the highest continuity with the current line among the candidate lines of the next continuous line as the next continuous line.
이와 같이, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 방향(좌측 방향)에 따라 반복적으로 현재 라인(연속 라인(913))의 제1 다음 연속 라인을 검색한 후, 제1 방향에 반대되는 제2 방향(우측 방향)에 따라 반복적으로 현재 라인(연속 라인(913))의 제2 다음 연속 라인을 검색할 수 있다. In this way, the clothing simulation device can repeatedly search for the first next continuous line of the current line (continuous line (913)) along the first direction (leftward direction), and then repeatedly search for the second next continuous line of the current line (continuous line (913)) along the second direction (rightward direction) opposite to the first direction.
의상 시뮬레이션 장치는 다음 연속 라인(연속 라인(915))을 검색한 검색 방향의 반대 방향(우측 방향)으로 가면서 다시 다음 연속 라인을 검색하여 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. 이에 따라, 연속 라인 리스트에 저장된 연속 라인(913) 및 연속 라인(915)에 더하여, 2차원 패턴(930)의 좌측 하단의 연속 라인(933) 및 우측 하단의 연속 라인(935)이 순차적으로 연속 라인 리스트에 저장될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 검색되는 다음 연속 라인이 없다면 동작을 종료할 수 있다. The clothing simulation device can search for the next continuous line (continuous line (915)) in the opposite direction (rightward direction) of the search direction and search for the next continuous line again and add it to the continuous line list. Accordingly, in addition to the continuous line (913) and the continuous line (915) stored in the continuous line list, the continuous line (933) at the lower left and the continuous line (935) at the lower right of the two-dimensional pattern (930) can be sequentially stored in the continuous line list. The clothing simulation device can terminate the operation if there is no next continuous line to be searched.
도 10은 일 실시예에 따른 재봉을 통해 연결된 라인(Sewn-Connected line)을 설명하기 위한 도면이다. 도 10을 참조하면, 일 실시예에 따라 재봉을 통해 연결되는 라인들(1015,1035)을 포함하는 2차원 패턴들(1010,1030)이 도시된다. FIG. 10 is a drawing for explaining a sewn-connected line according to one embodiment. Referring to FIG. 10, two-dimensional patterns (1010, 1030) including lines (1015, 1035) connected through sewing are illustrated according to one embodiment.
예를 들어, 라인 A의 다음 라인들 중 하나가 라인 B의 다음 라인들 중 하나와 재봉되어 있는 경우, 라인 A와 라인 B는 '재봉을 통해 연결된(sewn-connected)' 관계라고 칭할 수 있다. For example, if one of the following lines of line A is sewn to one of the following lines of line B, then line A and line B can be said to have a 'sewn-connected' relationship.
도 10에서 함께 재봉되는 패턴(1010)의 라인(1015)과 패턴(1030)의 라인(1035)은 서로 재봉을 통해 연결된 관계에 해당할 수 있다. In Fig. 10, the line (1015) of the pattern (1010) and the line (1035) of the pattern (1030) that are sewn together may correspond to a relationship in which they are connected to each other through sewing.
도 11은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 방법은 나타낸 흐름도이다. 이하, 실시예에서 각 동작들은 순차적으로 수행될 수도 있으나, 반드시 순차적으로 수행되는 것은 아니다. 예를 들어, 각 동작들의 순서가 변경될 수도 있으며, 적어도 두 동작들이 병렬적으로 수행될 수도 있다.FIG. 11 is a flow chart illustrating a method for a clothing simulation device according to one embodiment to transform at least one two-dimensional pattern. In the following embodiments, each operation may be performed sequentially, but is not necessarily performed sequentially. For example, the order of each operation may be changed, and at least two operations may be performed in parallel.
도 11을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치가 동작(1110) 내지 동작(940)을 통해 연속 라인 리스트를 생성하는 과정이 도시된다.Referring to FIG. 11, a process of generating a continuous line list through operations (1110) to (940) of a clothing simulation device according to one embodiment is illustrated.
동작 1110에서, 의상 시뮬레이션 장치는 변형된 제1 연속 라인을 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. In
동작 1120에서, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인에 대칭되는 연속 라인, 및 제1 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인에 변형된 제1 연속 라인의 길이 변경을 적용하여 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. In
동작 1130에서, 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인 리스트에 포함된 연속 라인들 각각의 불연속 지점으로부터 시작된 필러 라인(pilar line)에 대응하여, 아래의 동작 1131 내지 동작 1135을 수행할 수 있다. In
동작 1131에서, 의상 시뮬레이션 장치는 해당하는 필러 라인을 획득하면서 연속 라인 리스트에서 해당하는 필러 라인을 제거할 수 있다. 동작 1131을 'S1 동작'이라 부를 수 있다. In
동작 1133에서, 의상 시뮬레이션 장치는 해당하는 필러 라인에 재봉으로 연결된 라인들 중 아직 변형되지 않은 재봉 라인에, 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. 동작 1133을 'S2 동작'이라 부를 수 있다. In
동작 1135에서, 의상 시뮬레이션 장치는 재봉 라인과 대칭 관계에 있는 연속 라인에 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 연속 라인 리스트에 추가할 수 있다. 동작 1135를 'S3 동작'이라 부를 수 있다. In
의상 시뮬레이션 장치는 동작 1130에서, 연속 라인 리스트에 남은 필러 라인이 존재하지 않을 때까지 동작 1131 내지 동작 1135를 반복적으로 수행할 수 있다. The clothing simulation device can repeatedly perform
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, Picked SLL -> Pilar SLL -> Pilar-Sewn SLL -> … 의 순서로 동작을 반복하여 새로운 연속 라인이 검색되지 않을 때까지 연속 라인의 변형을 전파할 수 있다. The garment simulation device can propagate the deformation of the continuous lines by repeating the operations in the order of Picked SLL -> Pilar SLL -> Pilar-Sewn SLL -> ..., for example, until no new continuous lines are found.
이와 같이, 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인 리스트를 기초로, 제1 연속 라인의 변형을 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인들에 전파함으로써, 2차원 패턴의 길이 및 면적 중 적어도 하나를 변경할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치가 2차원 패턴의 길이 및 면적 중 적어도 하나를 변경하는 방법은 아래의 도 12 및 도 15를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. In this way, the clothing simulation device can change at least one of the length and area of the two-dimensional pattern by propagating the deformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line based on the continuous line list. The method by which the clothing simulation device changes at least one of the length and area of the two-dimensional pattern is described in more detail with reference to FIG. 12 and FIG. 15 below.
도 12a 및 도 12b는 일 실시예에 따른 변형 방향을 설명하기 위한 도면이다. FIGS. 12a and 12b are drawings for explaining the deformation direction according to one embodiment.
전술한 바와 같이, 의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인 리스트를 기초로, 연속 라인의 변형을 연속 라인과 연관된 후보 라인들에 전파함으로써 2차원 패턴의 길이 및 면적 중 적어도 하나를 변경할 수 있다. As described above, the clothing simulation device can change at least one of the length and area of the two-dimensional pattern by propagating the deformation of the continuous line to candidate lines associated with the continuous line based on the continuous line list.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 제1 연속 라인 리스트에 포함된 제1 유형의 연속 라인들에 대한 길이 변경을 제1 유형의 연속 라인들과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 제1 유형의 연속 라인들의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들의 변형으로 인한 면적 변경을 제2 유형의 연속 라인들과 관련된 적어도 하나의 후보 라인에 전파할 수 있다. 또는 의상 시뮬레이션 장치는 제2 유형의 연속 라인들과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인들의 길이 변경을 제3 유형의 연속 라인들과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파할 수 있다. The garment simulation device can, for example, propagate the length change of the first type of continuous lines included in the first continuous line list to at least one candidate line associated with the first type of continuous lines. The garment simulation device can propagate the area change due to the deformation of the second type of continuous lines starting from the discontinuity point of the first type of continuous lines to at least one candidate line associated with the second type of continuous lines. Alternatively, the garment simulation device can propagate the length change of the third type of continuous lines sewn together with the second type of continuous lines to at least one candidate line associated with the third type of continuous lines.
도 12a를 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴이 제1 연속 라인에 접하는 탄젠트(tangent) 방향으로 변형되는 경우를 나타낸 도면이 도시된다. Referring to FIG. 12a, a drawing is shown showing a case where a two-dimensional pattern according to one embodiment is deformed in a tangent direction to a first continuous line.
예를 들어, 3차원 의상(1210)의 스타일 라인(1215)을 변형하는 입력이 연속 라인(제1 연속 라인)에 접하는 방향, 다시 말해 스타일 라인(1215)에 수평한 안쪽 방향(1220) 또는 바깥쪽 방향(1230)으로 발생하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 입력에 대응하는 2차원 패턴을 제1 연속 라인에 접하는 탄젠트 방향으로 변형할 수 있다. 제1 연속 라인에 접하는 탄젠트 방향으로의 변형에 따라 스타일 라인(1215)에 대응하는 앞판 2차원 패턴과 뒷판 2차원 패턴의 하단 부분의 길이가 변경될 수 있다. For example, when an input for deforming a style line (1215) of a three-dimensional garment (1210) occurs in a direction tangent to a continuous line (first continuous line), that is, in an inward direction (1220) or an outward direction (1230) horizontal to the style line (1215), the garment simulation device can deform a two-dimensional pattern corresponding to the input in a tangent direction tangent to the first continuous line. Depending on the deformation in the tangent direction tangent to the first continuous line, the lengths of the lower parts of the front two-dimensional pattern and the back two-dimensional pattern corresponding to the style line (1215) may change.
또한, 도 12b를 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴이 제1 연속 라인에 직교하는 노말(normal) 방향, 다시 말해 법선 방향으로 변형되는 경우를 나타낸 도면이 도시된다. Also, referring to FIG. 12b, a drawing is shown showing a case where a two-dimensional pattern according to one embodiment is deformed in a normal direction orthogonal to a first continuous line, that is, in a normal direction.
예를 들어, 3차원 의상(1210)의 스타일 라인(1215)을 변형하는 입력이 연속 라인(제1 연속 라인)에 직교하는 방향, 다시 말해 스타일 라인(1215)에 수직한 위쪽 방향(1240) 또는 아래쪽 방향(1250)으로 발생하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 해당 입력에 대응하는 2차원 패턴을 제1 연속 라인에 직교하는 노말 방향으로 변형할 수 있다. 이때, 의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 선택된 연속 라인에 대칭되는 라인, 및 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들을, 제1 유형의 연속 라인들로 간주하여 길이를 변경할 수 있다. 제1 연속 라인에 직교하는 노말 방향으로의 길이 변경에 따라 스타일 라인(1215)에 대응하는 앞판 2차원 패턴과 뒷판 2차원 패턴의 면적이 변경될 수 있다.For example, when an input for deforming a style line (1215) of a three-dimensional garment (1210) occurs in a direction orthogonal to a continuous line (first continuous line), that is, in an upward direction (1240) or downward direction (1250) perpendicular to the style line (1215), the garment simulation device can deform a two-dimensional pattern corresponding to the input in a normal direction orthogonal to the first continuous line. At this time, the garment simulation device can regard second type continuous lines starting from a discontinuity point of first type continuous lines including at least one of a continuous line selected by a user, a line symmetrical to the selected continuous line, and a line sewn together with the selected continuous line as first type continuous lines and change their lengths. The areas of the front two-dimensional pattern and the back two-dimensional pattern corresponding to the style line (1215) can be changed according to the change in the length in the normal direction orthogonal to the first continuous line.
노말 방향으로의 길이 변경이 발생하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, Pilar SLL Set을 Picked SLL Set으로 간주하고 길이를 변경할 수 있다. 이때, 변형을 전파하는 방식은 2차원 패턴을 탄젠트(tangent) 방향으로 변형하는 경우와 노말 방향으로 변형하는 경우에 동일하게 적용될 수 있다. When a length change in the normal direction occurs, the clothing simulation device can, for example, regard the Pilar SLL Set as the Picked SLL Set and change the length. At this time, the method of propagating the deformation can be applied equally to cases where the two-dimensional pattern is deformed in the tangent direction and in the normal direction.
도 13a 및 도 13b는 일 실시예에 따른 연속 라인들을 전체적으로 변형하는 방법과 부분적으로 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. FIGS. 13a and 13b are drawings for explaining a method of deforming continuously lines as a whole and a method of deforming continuously lines partially according to one embodiment.
도 13a를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(1310)의 스타일 라인(1315) 상의 임의의 지점이 선택된 경우에 연속 라인들이 전체적으로 변형되는 실시예를 나타낸 도면들(1301,1302)이 도시된다.Referring to FIG. 13a, drawings (1301, 1302) are illustrated showing an example in which continuous lines are deformed as a whole when an arbitrary point on a style line (1315) of a three-dimensional garment (1310) according to one embodiment is selected.
예를 들어, 도면(1301)에 도시된 3차원 의상(1310)에서 스타일 라인(1315)의 양 끝의 불연속 지점을 제외한 연속 지점에서 스타일 라인(1315)을 변형하는 사용자의 입력이 발생했다고 하자. 이때, 사용자가 3차원 의상(1310)의 스타일 라인 또는 라인 상에서 불연속하지 않는 임의의 지점을 선택하는 경우, 선택된 지점에 해당하는 2차원 패턴에서 선택된 지점에 대응하는 연속 라인이 선택될 수 있다.For example, let's say that a user input occurs to transform a style line (1315) at a continuous point except for the discontinuous points at both ends of the style line (1315) in the three-dimensional garment (1310) illustrated in the drawing (1301). At this time, if the user selects an arbitrary point that is not discontinuous on the style line or line of the three-dimensional garment (1310), a continuous line corresponding to the selected point can be selected in a two-dimensional pattern corresponding to the selected point.
스타일 라인(1315)을 변형하는 입력이 제1 연속 라인의 연속 지점에서 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상(1310)에 대응하는 2차원 패턴들에서 입력에 대응하는 전체 연속 라인(들)을 변형할 수 있다. When an input for deforming a style line (1315) occurs at a continuous point of a first continuous line, the clothing simulation device can deform the entire continuous line(s) corresponding to the input in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing (1310).
의상 시뮬레이션 장치는 도면(1301)에 도시된 스타일 라인(1315)의 연속 지점에서 라인(1320)과 같이 수평 방향의 변형이 발생하거나, 또는 도면(1302)에 도시된 스타일 라인(1315)의 연속 지점에서 라인(1330)과 같이 수직 방향으로 변형이 발생하는 경우, 해당 입력에 대응하는 전체 연속 라인(들)을 변형할 수 있다. The clothing simulation device can deform the entire continuous line(s) corresponding to the input when a horizontal deformation occurs, such as line (1320), at a continuous point of the style line (1315) illustrated in the drawing (1301), or a vertical deformation occurs, such as line (1330), at a continuous point of the style line (1315) illustrated in the drawing (1302).
다시 말해, 사용자는 3차원 의상(1310)의 스타일 라인(1315)의 양 끝을 제외한 임의의 위치를 피킹(picking) 함으로써 스타일 라인(1315)에 대응하는 연속 라인들을 라인(1320) 및/또는 도면(1302)에 도시된 라인(1330)과 같이 전체적으로 변형할 수 있다. In other words, the user can deform the continuous lines corresponding to the style line (1315) as a whole, such as the line (1320) and/or the line (1330) illustrated in the drawing (1302), by picking any location except for both ends of the style line (1315) of the 3D costume (1310).
도 13b를 참조하면 일 실시예에 따른 3차원 의상에서 스타일 라인(1315)의 불연속 지점(non-smooth point)(1340)이 선택된 경우에 연속 라인들이 부분적으로 변형되는 실시예를 나타낸 도면들(1303,1304)이 도시된다.Referring to FIG. 13b, drawings (1303, 1304) are shown showing an example in which continuous lines are partially deformed when a non-smooth point (1340) of a style line (1315) is selected in a three-dimensional garment according to one embodiment.
도면(1303)에 도시된 3차원 의상(1310)에서 스타일 라인(1315) 상에 위치하는 재봉점과 같은 불연속 지점(1340)에서 스타일 라인(1315)을 변경하는 사용자의 입력이 발생했다고 하자. 스타일 라인(1315)을 변형하는 입력이 불연속 지점(1340)에서 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상(1310)에 대응하는 2차원 패턴들에서 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형할 수 있다. 여기서, 스타일 라인을 변경하는 입력이 '불연속 지점에서 발생'한다는 것은 해당 입력이 불연속 지점(1340) 및 불연속 지점(1340)에 인접한 지점들에서 발생하는 것을 모두 포괄하는 의미로 이해될 수 있다. '불연속 지점에 인접한 지점들'은 화면에 표시된 3차원 의상에서 육안으로 보아 불연속 지점(1340)으로 인식할 만큼 불연속 지점(1340)에 인접하게 위치하는 지점들로 이해될 수 있다. Let's say that a user input for changing a style line (1315) occurs at a discontinuous point (1340), such as a sewing point located on a style line (1315) in a three-dimensional garment (1310) illustrated in the drawing (1303). If the input for changing the style line (1315) occurs at the discontinuous point (1340), the garment simulation device can change some continuous lines corresponding to the input in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional garment (1310). Here, the input for changing the style line 'occurs at the discontinuous point' can be understood to encompass all occurrences of the input at the discontinuous point (1340) and points adjacent to the discontinuous point (1340). 'Points adjacent to the discontinuous point' can be understood as points located adjacent to the discontinuous point (1340) enough to be recognized as the discontinuous point (1340) by the naked eye in the three-dimensional garment displayed on the screen.
의상 시뮬레이션 장치는 도면(1303)과 같이 스타일 라인(1315)의 불연속 지점(1340)에서 좌, 우 수평 방향(1343)의 변형이 발생하거나, 또는 도면(1304)와 같이 스타일 라인(1315)의 불연속 지점(1340)에서 상하 수직 방향(1345)으로 변형이 발생하는 경우, 2차원 패턴들에서 해당 입력에 대응하는 일부 연속 라인, 다시 말해 불연속 지점(1340)이 포함된 일부 연속 라인을 변형할 수 있다. The clothing simulation device can deform some continuous lines corresponding to the input in two-dimensional patterns, that is, some continuous lines including the discontinuous point (1340), when deformation occurs in the left and right horizontal directions (1343) at a discontinuous point (1340) of the style line (1315) as in the drawing (1303), or when deformation occurs in the up and down vertical directions (1345) at a discontinuous point (1340) of the style line (1315) as in the drawing (1304).
사용자는 3차원 의상(1310)의 스타일 라인(1315) 상의 불연속 지점(1340)을 피킹(picking) 함으로써 스타일 라인(1315)에 대응하는 연속 라인들을 부분적으로 변형할 수 있다. A user can partially deform continuous lines corresponding to a style line (1315) by picking a discontinuous point (1340) on a style line (1315) of a three-dimensional costume (1310).
도 14a 및 도 14b는 일 실시예에 따른 입력에 대응하는 전체 연속 라인들의 길이를 변형하는 방법 및 일부 연속 라인의 길이를 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. FIGS. 14A and 14B are diagrams for explaining a method of modifying the length of all continuous lines corresponding to an input according to one embodiment and a method of modifying the length of some continuous lines.
도 14a를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상의 스타일 라인을 변경하는 입력에 대응되는 2차원 패턴들(1410,1420)의 전체 연속 라인들(1411,1413,1421,1423)의 길이를 변형하는 실시예를 나타낸 도면(1401)이 도시된다. Referring to FIG. 14a, a drawing (1401) is shown showing an embodiment of changing the length of entire continuous lines (1411, 1413, 1421, 1423) of two-dimensional patterns (1410, 1420) corresponding to an input for changing a style line of a three-dimensional garment according to one embodiment.
예를 들어, 사용자의 입력이 도 13a의 도면(1301) 또는 도면(1303)과 같이 연속 라인 상의 불연속 지점이 아닌 지점에서 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴에서 입력에 대응하는 전체 연속 라인을 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 입력에 대응되는 2차원 패턴들(1410,1420)의 연속 라인들(1411,1413,1421,1423)을 모두 동일한 길이 비율로 변형할 수 있다. For example, if the user's input occurs at a point other than a discontinuous point on a continuous line, such as in the drawing (1301) or drawing (1303) of FIG. 13a, the clothing simulation device can deform the entire continuous line corresponding to the input in the two-dimensional pattern. The clothing simulation device can deform all of the continuous lines (1411, 1413, 1421, 1423) of the two-dimensional patterns (1410, 1420) corresponding to the input at the same length ratio.
예를 들어, 2차원 패턴(1410)에서 연속 라인(1411)의 길이 변경이 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 길이 변경된 연속 라인(1411)과 연관된 적어도 하나의 후보 라인(예를 들어, 연속 라인(1411)과 이어지는 다음 라인인 연속 라인(1413), 연속 라인(1411)을 포함하는 2차원 패턴(1410)에 대칭되는 2차원 패턴(1420)에서 연속 라인(1411)에 대응되는 연속 라인(1423), 연속 라인(1413)과 재봉으로 연결되는 연속 라인(1421)) 전체를 변형된 연속 라인(1411)과 동일한 길이 비율로 변경할 수 있다. For example, when a change in the length of a continuous line (1411) occurs in a two-dimensional pattern (1410), the clothing simulation device can change at least one candidate line associated with the continuous line (1411) whose length has been changed (for example, a continuous line (1413) that is a next line connected to the continuous line (1411), a continuous line (1423) corresponding to the continuous line (1411) in a two-dimensional pattern (1420) that is symmetrical to the two-dimensional pattern (1410) including the continuous line (1411), a continuous line (1421) connected to the continuous line (1413) by sewing) to the entirety of the changed continuous line (1411) at the same length ratio.
도 14b를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상의 스타일 라인을 변경하는 입력에 대응되는 2차원 패턴들(1430,1440)의 일부 연속 라인의 길이를 변형하는 실시예를 나타낸 도면(1403)이 도시된다. Referring to FIG. 14b, a drawing (1403) is shown showing an embodiment of modifying the length of some continuous lines of two-dimensional patterns (1430, 1440) corresponding to an input for changing a style line of a three-dimensional garment according to one embodiment.
사용자의 입력이 예를 들어, 도 13b의 도면(1303) 또는 도면(1304)과 같이 연속 라인 상의 재봉점과 같은 불연속 지점에서 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴에서 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상에서 사용자의 입력에 대응하는 연속 라인들을 2차원 패턴 단위의 세그먼트들(예: 세그먼트(1435))로 분할하고, 사용자의 선택 지점(예: 불연속 지점(1431))을 포함하는 세그먼트(1435)의 길이를 좌우로 줄이거나 벌리는 방식으로 일부 연속 라인을 변형할 수 있다. When the user's input occurs at a discontinuous point, such as a sewing point on a continuous line, as in, for example, the drawing (1303) or drawing (1304) of FIG. 13B, the clothing simulation device can deform some of the continuous lines corresponding to the input in the two-dimensional pattern. The clothing simulation device can deform some of the continuous lines by dividing the continuous lines corresponding to the user's input in the three-dimensional clothing into segments (e.g., segments (1435)) of two-dimensional pattern units and reducing or expanding the length of the segment (1435) including the user's selected point (e.g., discontinuous point (1431)) to the left or right.
의상 시뮬레이션 장치는 연속 라인의 불연속 지점을 기초로, 연속 라인을 2차원 패턴 단위의 세그먼트들로 구분하고, 불연속 지점을 포함하는 세그먼트에서 불연속 지점의 변경된 위치에 해당하는 길이만큼 세그먼트의 길이를 변형할 수 있다. The clothing simulation device divides the continuous line into segments of two-dimensional pattern units based on discontinuous points of the continuous line, and can change the length of the segment corresponding to the changed position of the discontinuous point in the segment including the discontinuous point.
예를 들어, 사용자에 의해 2차원 패턴(1430)의 불연속 지점(1431)을 위치(1433)로 변경하는 입력이 발생할 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 불연속 지점(1431)을 포함하는 세그먼트(1435)에서 불연속 지점(1431)의 변경된 위치(1433)에 대응하는 길이만큼 세그먼트(1435)의 길이를 변형할 수 있다. For example, an input may occur by a user to change a discontinuous point (1431) of a two-dimensional pattern (1430) to a position (1433). In this case, the clothing simulation device may change the length of the segment (1435) including the discontinuous point (1431) by a length corresponding to the changed position (1433) of the discontinuous point (1431).
의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(1430)의 세그먼트(1435)와 함께 재봉되는 2차원 패턴(1440)의 세그먼트(1445) 또한 세그먼트(1435)와 마찬가지로 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 불연속 지점(1441)을 포함하는 세그먼트(1445)에서 불연속 지점(1441)의 변경된 위치(1443)에 대응하는 길이만큼 세그먼트(1445)의 길이를 변형할 수 있다. 이때, 변형되는 세그먼트(1445)의 길이는 세그먼트(1435)의 변형된 길이와 동일할 수 있다. The clothing simulation device can also deform a segment (1445) of a two-dimensional pattern (1440) that is sewn together with a segment (1435) of a two-dimensional pattern (1430) in the same manner as the segment (1435). The clothing simulation device can deform the length of the segment (1445) including the discontinuous point (1441) by a length corresponding to the changed position (1443) of the discontinuous point (1441). At this time, the length of the deformed segment (1445) can be the same as the deformed length of the segment (1435).
도 15a 및 도 15b는 일 실시예에 따라 연속 라인들에 대응하는 2차원 패턴의 면적을 변경하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. FIGS. 15A and 15B are diagrams for explaining a method of changing the area of a two-dimensional pattern corresponding to continuous lines according to one embodiment.
도 15a를 참조하면, 일 실시예에 따른 사용자의 입력이 발생한 제1 유형의 연속 라인들(1510,1520) 및 연속 라인들(1510,1520)의 불연속 지점들(1511,1513,1521,1523)로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들('필러 라인들')(1512,1514,1522,1524)을 나타낸 도면(1501)이 도시된다. 도 15b를 참조하면, 사용자의 입력에 의해 도 15a에 도시된 연속 라인들(1510,1520)의 길이가 변경된 연속 라인들(1530,1540) 및 연속 라인들(1530,1540)의 길이 변경에 따라 연속 라인들(1530,1540)을 포함하는 2차원 패턴의 면적이 변경된 것을 나타낸 도면(1503)이 도시된다. Referring to FIG. 15a, a drawing (1501) is shown showing a first type of continuous lines (1510, 1520) in which a user's input occurs according to one embodiment, and a second type of continuous lines ('filler lines') (1512, 1514, 1522, 1524) starting from discontinuity points (1511, 1513, 1521, 1523) of the continuous lines (1510, 1520). Referring to FIG. 15b, a drawing (1503) is shown showing continuous lines (1530, 1540) whose lengths are changed by a user's input, and an area of a two-dimensional pattern including the continuous lines (1530, 1540) is changed according to the change in the length of the continuous lines (1530, 1540).
도 15a에서 사용자의 입력에 의해 연속 라인들(1510,1520)의 길이 변경이 발생하는 경우, 연속 라인들(1510,1520)의 길이 변경을 반영하여 필러 라인들(1512,1514,1522,1524)의 위치가 변경될 수 있다. 필러 라인들(1512,1514,1522,1524)의 위치가 변경되는 경우, 도 15b와 같이 필러 라인들(1512,1514,1522,1524)을 포함하는 2차원 패턴의 면적이 변경될 수 있다. 이때, 의상 시뮬레이션 장치는 필러 라인들(1512,1514,1522,1524) 상에 위치한 점들('제2 점들') 중 길이가 변경된 연속 라인('제1 연속 라인')과 겹치는 점들('제1 점들')의 위치 이동값('제1 위치 이동값')을 산출할 수 있다. 이때, 의상 시뮬레이션 장치는 길이 변경된 제1 유형의 연속 라인과 겹치는 점들을 제외한 나머지 점들의 위치를 제1 유형의 연속 라인의 길이 변경 비율에 기반하여 보간(interpolation)할 수 있다. In Fig. 15a, when the length of the continuous lines (1510, 1520) changes due to a user's input, the positions of the filler lines (1512, 1514, 1522, 1524) may change to reflect the change in the length of the continuous lines (1510, 1520). When the positions of the filler lines (1512, 1514, 1522, 1524) change, the area of the two-dimensional pattern including the filler lines (1512, 1514, 1522, 1524) may change, as in Fig. 15b. At this time, the clothing simulation device can calculate the position displacement value ('first position displacement value') of the points ('first points') that overlap with the continuous line ('first continuous line') whose length has been changed among the points ('second points') located on the filler lines (1512, 1514, 1522, 1524). At this time, the clothing simulation device can interpolate the positions of the remaining points, excluding the points that overlap with the first type of continuous line whose length has been changed, based on the length change ratio of the first type of continuous line.
보다 구체적으로, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 적어도 하나의 제2 유형의 연속 라인들 상에 위치한 제2 점들 중 길이가 변경된 제1 연속 라인과 겹치는 제1 점들의 제1 위치 이동값을 산출할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 길이 변경된 제1 연속 라인의 길이 변경 비율을 기초로, 제2 유형의 연속 라인들 상에 위치한 제2 점들 중 제1 점들을 제외한 나머지 점들의 제2 위치 이동값을 산출할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 제1 위치 이동값 및 제2 위치 이동값을 기초로, 2차원 패턴의 면적을 변경할 수 있다. More specifically, the clothing simulation device can calculate first positional displacement values of first points, which overlap with the first continuous line whose length has been changed, among second points located on at least one of the second type of continuous lines starting from a discontinuity point of the first continuous line. The clothing simulation device can calculate second positional displacement values of the remaining points, excluding the first points, among the second points located on the second type of continuous lines, based on a length change ratio of the first continuous line whose length has been changed. The clothing simulation device can change an area of the two-dimensional pattern based on the first positional displacement value and the second positional displacement value.
도 16a 및 도 16b는 일 실시예에 따라 연속 라인들에 대응하는 2차원 패턴의 양 측(both sides)을 변형하는 방법 및 일측(one side)을 변형하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 16a를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(1610)을 나타낸 도면(1601) 및 3차원 의상(1610)에 대응하는 2차원 패턴들(1620,1630,1640,1650) 중 대응되는 양측 소매 패턴들(1620,1640)을 변형하는 실시예를 나타낸 도면(1603)이 도시된다. FIGS. 16A and 16B are diagrams for explaining a method of deforming both sides and one side of a two-dimensional pattern corresponding to continuous lines according to one embodiment. Referring to FIG. 16A, a drawing (1601) showing a three-dimensional garment (1610) according to one embodiment and a drawing (1603) showing an embodiment of deforming corresponding two-sided sleeve patterns (1620, 1640) among two-dimensional patterns (1620, 1630, 1640, 1650) corresponding to the three-dimensional garment (1610) are illustrated.
예를 들어, 사용자가 도면(1601)에 도시된 3차원 의상(1610)에서 소매 라인(1615)을 마우스로 클릭(click)하여 바로 드래그(drag)하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 소매 라인(1615) 및 소매 라인(1615)에 대응되는 소매 라인(1617), 다시 말해 소매 라인(1615)의 반대편 소매 라인 또한 함께 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 Picked SLL Set 뿐만 아니라, Picked SLL의 sewn SLL에도 대응되는 양측 패턴들의 변형은 전파할 수 있다. For example, when a user clicks and drags a sleeve line (1615) in a three-dimensional garment (1610) illustrated in the drawing (1601) with a mouse, the garment simulation device can also deform the sleeve line (1615) and the sleeve line (1617) corresponding to the sleeve line (1615), that is, the sleeve line on the opposite side of the sleeve line (1615). The garment simulation device can propagate the deformation of the patterns on both sides corresponding to the sewn SLL of the picked SLL as well as the picked SLL Set.
의상 시뮬레이션 장치는 적어도 하나의 스타일 라인에 대한 1차 사용자 인터페이스의 선택을 통해 스타일 라인(1615)을 변형하는 입력이 수신된 경우, 도면(1603)에 도시된 2차원 패턴들(1620,1630,1640,1650)에서 입력이 발생한 일측(예: 좌측 소매 부분) 및 일측에 대응되는 타측(예: 우측 소매 부분)을 함께 변형할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 도면(1603)에 도시된 2차원 패턴들 중 사용자에 의해 선택된 좌측 소매 부분의 연속 라인(1641), 선택된 연속 라인(1641)에 대칭되는 우측 소매 부분의 연속 라인(1621), 및 선택된 연속 라인(1641)과 함께 재봉되는 라인(1633,1651) 중 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인 및 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인(1641,1621,1633,1651)과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인(1631,1653)을 입력에 대응하여 함께 변형할 수 있다. When an input for transforming a style line (1615) is received through selection of a primary user interface for at least one style line, the clothing simulation device can transform both one side (e.g., a left sleeve portion) where the input occurred and the other side (e.g., a right sleeve portion) corresponding to the one side in the two-dimensional patterns (1620, 1630, 1640, 1650) illustrated in the drawing (1603). The clothing simulation device can deform at least one of a first type of continuous line including at least one of a continuous line (1641) of a left sleeve portion selected by a user from among the two-dimensional patterns shown in the drawing (1603), a continuous line (1621) of a right sleeve portion symmetrical to the selected continuous line (1641), and a line (1633, 1651) sewn together with the selected continuous line (1641), and a fourth type of continuous line (1631, 1653) sewn together with the at least one of the first type of continuous lines (1641, 1621, 1633, 1651), in response to an input.
도 16b를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(1660)을 나타낸 도면(1605) 및 3차원 의상(1660)에 대응하는 2차원 패턴들(1670,1680,1690)을 나타낸 도면(1607)이 도시된다. Referring to FIG. 16b, a drawing (1605) showing a three-dimensional costume (1660) according to one embodiment and a drawing (1607) showing two-dimensional patterns (1670, 1680, 1690) corresponding to the three-dimensional costume (1660) are illustrated.
예를 들어, 사용자가 도면(1605)에 도시된 3차원 의상(1660)에서 소매 라인(1665)을 마우스로 한 번 클릭하여 선택함에 따라 화면에 표시되는 2차 사용자 인터페이스(1667)에서 연속 라인(1665)을 선택하여 드래그할 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 입력이 발생한 일측의 소매 라인(1665)을 변형할 수 있다.For example, a user may select a sleeve line (1665) in a three-dimensional garment (1660) illustrated in the drawing (1605) by clicking once with the mouse, and may then select and drag a continuous line (1665) in a secondary user interface (1667) displayed on the screen. In this case, the garment simulation device may deform the sleeve line (1665) on one side where the input occurred.
입력이 도면(1605)에 도시된 적어도 하나의 스타일 라인(예: 소매 라인(1665))의 선택을 통해 발생하는 2차 사용자 인터페이스(1667)에서의 선택을 통해 발생한 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 도면(1607)에 도시된 2차원 패턴들(1670,1680,1690)에서 입력이 발생한 일측의 소매 라인(1665)을 변형할 수 있다. 일측을 변형하는 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 Picked SLL Set에 대한 변형을 Picked SLL의 sewn SLL에는 전파하지 않을 수 있다. If the input occurs through a selection in the secondary user interface (1667) through selection of at least one style line (e.g., sleeve line (1665)) illustrated in the drawing (1605), the garment simulation device may deform one sleeve line (1665) from which the input occurred in the two-dimensional patterns (1670, 1680, 1690) illustrated in the drawing (1607). In the case of deforming one side, the garment simulation device may not propagate the deformation for the Picked SLL Set to the sewn SLL of the Picked SLL.
의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 선택된 연속 라인(1671) 및 선택된 연속 라인(1671)과 함께 재봉되는 연속 라인들(1681,1691)을 포함하는 제1 유형의 연속 라인들을 입력에 대응하여 변형할 수 있다. The clothing simulation device can deform a first type of continuous lines corresponding to an input, including a continuous line (1671) selected by a user and continuous lines (1681, 1691) sewn together with the selected continuous line (1671).
도 17은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도이다. 도 17을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치(1700)는 사용자 인터페이스(1710), 프로세서(1730), 디스플레이(1750), 및 메모리(1770)를 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스(1710), 프로세서(1730), 디스플레이(1750), 및 메모리(1770)는 통신 버스(1705)를 통해 서로 연결될 수 있다. FIG. 17 is a block diagram of a clothing simulation device according to one embodiment. Referring to FIG. 17, a clothing simulation device (1700) according to one embodiment may include a user interface (1710), a processor (1730), a display (1750), and a memory (1770). The user interface (1710), the processor (1730), the display (1750), and the memory (1770) may be connected to each other through a communication bus (1705).
사용자 인터페이스(1710)는 3차원 의상을 표시한다. 사용자 인터페이스(1710)는 3차원 의상의 스타일을 나타내는 복수의 스타일 라인들 중 적어도 하나의 스타일 라인을 변경하는 입력을 수신한다. 사용자 인터페이스(1710)는 예를 들어, 스타일러스 펜 또는 마우스 클릭 등을 통해 3차원 공간에 표시된 3차원 의상에 대한 사용자 입력을 수신할 수 있다. The user interface (1710) displays a three-dimensional garment. The user interface (1710) receives an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing the style of the three-dimensional garment. The user interface (1710) may receive a user input for the three-dimensional garment displayed in the three-dimensional space, for example, through a stylus pen or a mouse click.
프로세서(1730)는 사용자 인터페이스(1710)를 통해 표시되는 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 걸쳐 이어지는 연속 라인들 중 스타일 라인에 대응하는 연속 라인을 식별한다. 프로세서(1730)는 사용자 인터페이스(1710)를 통해 수신된 입력에 기초하여 연속 라인을 변형한다. 프로세서(1730)는 연속 라인의 변형을 연속 라인과 연관된 후보 라인들에 전파함으로써, 2차원 패턴들을 변형한다. 프로세서(1730)는 변형된 2차원 패턴들에 기반한 시뮬레이션을 수행할 수 있다. The processor (1730) identifies a continuous line corresponding to a style line among continuous lines extending across two-dimensional patterns corresponding to a three-dimensional garment displayed through the user interface (1710). The processor (1730) deforms the continuous line based on an input received through the user interface (1710). The processor (1730) deforms the two-dimensional patterns by propagating the deformation of the continuous line to candidate lines associated with the continuous line. The processor (1730) can perform a simulation based on the deformed two-dimensional patterns.
디스플레이(1750)는 프로세서(1730)에 의해 변형된 2차원 패턴들 및 프로세서(1730)에 의해 변형된 2차원 패턴들에 대응하여 스타일라인이 변형된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력할 수 있다. 디스플레이(1750)는 프로세서(1730)의 시뮬레이션을 통해 스타일 라인이 변경된 3차원 의상을 사용자 인터페이스에 표시할 수 있다. The display (1750) can output at least one of the two-dimensional patterns transformed by the processor (1730) and the three-dimensional garment with the style line transformed corresponding to the two-dimensional patterns transformed by the processor (1730). The display (1750) can display the three-dimensional garment with the style line changed through the simulation of the processor (1730) on the user interface.
메모리(1770)는 사용자 인터페이스(1710)를 통해 수신된 스타일 라인을 변경하는 입력의 이동되는 위치를 저장할 수 있다. 메모리(1770)는 프로세서(1730)에 의해 식별된 연속 라인, 변형된 연속 라인 및/또는 변형된 2차원 패턴들을 저장할 수 있다. 메모리(1770)는 스타일 라인이 변경된 3차원 의상에 대응하여 변형된 2차원 패턴들을 저장할 수 있다. 또한, 메모리(1770)은 프로세서(1730)에 의해 생성된 연속 라인 리스트를 저장할 수 있다. The memory (1770) can store the moving position of the input for changing the style line received through the user interface (1710). The memory (1770) can store the continuous line, the modified continuous line, and/or the modified two-dimensional patterns identified by the processor (1730). The memory (1770) can store the modified two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional garment whose style line has been changed. In addition, the memory (1770) can store the continuous line list generated by the processor (1730).
이 밖에도, 메모리(1770)는 상술한 프로세서(1730)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(1770)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(1770)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(1770)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.In addition, the memory (1770) can store various pieces of information generated during the processing of the processor (1730) described above. In addition, the memory (1770) can store various pieces of data and programs. The memory (1770) can include volatile memory or nonvolatile memory. The memory (1770) can store various pieces of data by having a large storage medium such as a hard disk.
또한, 프로세서(1730)는 도 1 내지 도 16을 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(1730)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 데이터 처리 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 프로세서(1730)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 의상 시뮬레이션 장치(1700)는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(central processing unit), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array)를 포함할 수 있다.In addition, the processor (1730) can perform at least one method or an algorithm corresponding to at least one method described above with reference to FIGS. 1 to 16. The processor (1730) can be a data processing device implemented as hardware having a circuit having a physical structure for executing desired operations. For example, the desired operations can include codes or instructions included in a program. The processor (1730) can be configured as, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), or an NPU (Neural network Processing Unit). For example, the clothing simulation device (1700) implemented as hardware can include a microprocessor, a central processing unit, a processor core, a multi-core processor, a multiprocessor, an ASIC (Application-Specific Integrated Circuit), and an FPGA (Field Programmable Gate Array).
프로세서(1730)는 프로그램을 실행하고, 의상 시뮬레이션 장치(1700)를 제어할 수 있다. 프로세서(1730)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(1770)에 저장될 수 있다.The processor (1730) can execute a program and control the clothing simulation device (1700). The program code executed by the processor (1730) can be stored in the memory (1770).
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.The method according to the embodiment may be implemented in the form of program commands that can be executed through various computer means and recorded on a computer-readable medium. The computer-readable medium may include program commands, data files, data structures, etc., alone or in combination. The program commands recorded on the medium may be those specially designed and configured for the embodiment or may be those known to and available to those skilled in the art of computer software. Examples of the computer-readable recording medium include magnetic media such as hard disks, floppy disks, and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, magneto-optical media such as floptical disks, and hardware devices specially configured to store and execute program commands such as ROMs, RAMs, flash memories, etc. Examples of the program commands include not only machine language codes generated by a compiler but also high-level language codes that can be executed by a computer using an interpreter, etc. The hardware devices described above may be configured to operate as one or more software modules to perform the operations of the embodiment, and vice versa.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.The software may include a computer program, code, instructions, or a combination of one or more of these, which may configure a processing device to perform a desired operation or may independently or collectively command the processing device. The software and/or data may be permanently or temporarily embodied in any type of machine, component, physical device, virtual equipment, computer storage medium, or device for interpretation by the processing device or for providing instructions or data to the processing device. The software may also be distributed over network-connected computer systems and stored or executed in a distributed manner. The software and data may be stored on one or more computer-readable recording media.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.Although the embodiments have been described with limited drawings as described above, those skilled in the art can apply various technical modifications and variations based on the above. For example, even if the described techniques are performed in a different order than the described method, and/or the components of the described system, structure, device, circuit, etc. are combined or combined in a different form than the described method, or are replaced or substituted by other components or equivalents, appropriate results can be achieved.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are also included in the scope of the claims described below.
1700: 의상 시뮬레이션 장치
1705: 통신 버스
1710: 사용자 인터페이스
1730: 프로세서
1750: 디스플레이
1770: 메모리1700: Costume simulation device
1705: Communication Bus
1710: User Interface
1730: Processor
1750: Display
1770: Memory
Claims (26)
상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)- 상기 제1 연속 라인은 복수의 패턴들에 걸쳐 이어지는 연속 라인을 포함함 -을 식별하는 동작;
상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하는 동작;
상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작; 및
상기 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.An operation of receiving an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment through a user interface displaying the three-dimensional garment;
An operation of identifying at least one first continuous line (smooth line) extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing, the first continuous line including a continuous line extending across a plurality of patterns;
An operation of transforming the first continuous line based on the input;
An operation of deforming said at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of said first continuous line to at least one candidate line associated with said first continuous line; and
An operation of outputting at least one of the above-described modified two-dimensional pattern and a three-dimensional garment whose style line has been changed in response to the above-described modified two-dimensional pattern.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 변형된 제1 연속 라인 및 상기 제1 연속 라인의 변형이 전파된 적어도 하나의 후보 라인을 포함하는 연속 라인 리스트를 생성하는 동작; 및
상기 연속 라인 리스트에 기초하여, 상기 2차원 패턴을 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the first paragraph,
The action of transforming the above two-dimensional pattern is
An operation of generating a list of continuous lines including the first continuous line that has been transformed and at least one candidate line to which the transformation of the first continuous line has been propagated; and
An operation of transforming the two-dimensional pattern based on the above continuous line list.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 적어도 하나의 후보 라인은
상기 제1 연속 라인을 포함하는 제1 패턴에 대칭되는 제2 패턴에서 상기 제1 연속 라인에 대응되는 제2 연속 라인;
상기 제1 연속 라인의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작되는 제3 연속 라인; 및
상기 제1 연속 라인, 상기 제2 연속 라인 및 상기 제3 연속 라인 중 적어도 하나와 재봉에 의해 연결되는 적어도 하나의 제3 패턴의 재봉선
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the first paragraph,
At least one of the above candidate lines
A second continuous line corresponding to the first continuous line in a second pattern symmetrical to the first pattern including the first continuous line;
a third continuous line starting from a non-smooth point of the first continuous line; and
At least one sewing line of a third pattern connected by sewing with at least one of the first continuous line, the second continuous line and the third continuous line
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 연속 라인 리스트를 생성하는 동작은
상기 변형된 제1 연속 라인을 포함하는 상기 연속 라인 리스트를 생성하는 동작;
상기 제1 연속 라인의 변형을 전파하여 상기 적어도 하나의 후보 라인을 변형하는 동작; 및
상기 변형된 후보 라인에 대한 정보를 상기 연속 라인 리스트에 저장하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the second paragraph,
The action of generating the above list of continuous lines is
An operation of generating a list of continuous lines including the modified first continuous line;
An operation of propagating a deformation of the first continuous line to deform at least one candidate line; and
An action of storing information about the above-mentioned modified candidate line in the above-mentioned continuous line list.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 적어도 하나의 후보 라인을 변형하는 동작은
상기 제1 연속 라인의 변형과 연관하게 변형되는 상기 적어도 하나의 후보 라인을 검색하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In paragraph 4,
The operation of transforming at least one of the above candidate lines
An operation of searching for at least one candidate line that is transformed in association with a transformation of the first continuous line.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 적어도 하나의 후보 라인을 검색하는 동작은
상기 제1 연속 라인을 현재 라인(current line)으로 설정하는 동작;
상기 현재 라인에서 상기 입력이 수신된 시작점으로부터 상기 시작점의 반대편에 있는 끝점까지의 제1 방향을 검색 방향(search direction)으로 설정하는 동작;
상기 현재 라인 및 상기 검색 방향을 기초로, 상기 현재 라인의 다음(next) 연속 라인을 검색하는 동작; 및
상기 다음 연속 라인을 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In paragraph 5,
The operation of searching for at least one candidate line above
An action of setting the first continuous line as the current line;
An operation of setting a first direction from a starting point where the input is received in the current line to an ending point opposite to the starting point as a search direction;
An operation of searching for the next continuous line of the current line based on the current line and the search direction; and
The action of adding the next continuous line to the continuous line list.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 동작은
상기 현재 라인 및 상기 검색 방향을 기초로, 상기 현재 라인을 포함하는 2차원 패턴 내에서 상기 현재 라인과 이어지는 다음 라인 및 상기 현재 라인과 재봉을 통해 연결된 라인 중 적어도 하나를 상기 다음 연속 라인의 후보 라인으로 설정하는 동작;
상기 다음 연속 라인의 후보 라인 중에서 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 연속성(smoothness)을 결정하는 동작; 및
상기 연속성을 기초로, 상기 해당 후보 라인을 상기 다음 연속 라인으로 검색하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 6,
The action of searching for the next continuous line of the current line above is
An operation of setting at least one of a next line connected to the current line and a line connected to the current line through sewing within a two-dimensional pattern including the current line as a candidate line of the next continuous line based on the current line and the search direction;
An operation for determining the continuity (smoothness) between a candidate line among the candidate lines of the next continuous line and the current line; and
Based on the above continuity, an operation to search for the candidate line as the next continuous line.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 연속성을 결정하는 동작은
상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인이 동일한 2차원 패턴 내에서 이어진 연속 라인인 경우, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 사이각 또는 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인을 연결한 연속 라인의 곡률을 기초로, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인과의 연속성을 결정하는 동작; 및
상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인이 재봉에 의해 연결된 연속 라인인 경우, 상기 재봉에 의해 연결된 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인 간의 사이각 또는 상기 재봉에 의해 연결된 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인의 곡률을 기초로, 상기 해당 후보 라인과 상기 현재 라인과의 연속성을 결정하는 동작
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 7,
The action that determines the above continuity is
An operation of determining continuity between the candidate line and the current line based on the angle between the candidate line and the current line or the curvature of the continuous line connecting the candidate line and the current line, when the candidate line and the current line are continuous lines within the same two-dimensional pattern; and
If the candidate line and the current line are continuous lines connected by sewing, an operation for determining continuity between the candidate line and the current line based on the angle between the candidate line and the current line connected by sewing or the curvature of the candidate line and the current line connected by sewing
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 현재 라인의 다음 연속 라인을 검색하는 동작은
상기 제1 방향에 따라 반복적으로 상기 현재 라인의 제1 다음 연속 라인을 검색하는 동작; 및
상기 제1 방향에 반대되는 제2 방향에 따라 반복적으로 상기 현재 라인의 제2 다음 연속 라인을 검색하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 6,
The action of searching for the next continuous line of the current line above is
An operation of repeatedly searching for a first subsequent continuous line of the current line along the first direction; and
An operation of repeatedly searching for a second consecutive line of the current line in a second direction opposite to the first direction.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 변형된 제1 연속 라인을 연속 라인 리스트에 추가하는 동작;
상기 제1 연속 라인에 대칭되는 연속 라인, 및 상기 제1 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인에 상기 변형된 제1 연속 라인의 길이 변경을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 동작; 및
상기 연속 라인 리스트에 포함된 연속 라인들 각각의 불연속 지점으로부터 시작된 필러 라인에 대응하여,
해당하는 필러 라인을 획득하면서 상기 연속 라인 리스트에서 상기 해당하는 필러 라인을 제거하는 S1 동작;
상기 해당하는 필러 라인에 재봉으로 연결된 라인들 중 아직 변형되지 않은 라인에 상기 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 S2 동작; 및
재봉 라인과 대칭 관계에 있는 연속 라인에 상기 해당하는 필러 라인의 변형으로 인한 면적 변형을 적용하여 상기 연속 라인 리스트에 추가하는 S3 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the first paragraph,
The operation of transforming at least one of the above two-dimensional patterns
An action of adding the above modified first continuous line to the continuous line list;
An operation of applying a length change of the modified first continuous line to a continuous line symmetrical to the first continuous line and a continuous line sewn together with the first continuous line and adding the same to the continuous line list; and
Corresponding to a filler line starting from each discontinuity point of the continuous lines included in the above continuous line list,
Operation S1 for removing the corresponding filler line from the list of continuous lines while obtaining the corresponding filler line;
S2 operation of applying an area deformation due to deformation of the corresponding filler line to a line that is not yet deformed among the lines connected to the corresponding filler line by sewing and adding the line to the continuous line list; and
S3 operation to apply area deformation due to deformation of corresponding filler line to continuous line in symmetrical relationship with sewing line and add it to the continuous line list
A method for simulating clothing, comprising:
상기 S1 동작, S2 동작 및 S3 동작은 상기 연속 라인 리스트에 남은 필러 라인이 존재하지 않을 때까지 반복적으로 수행되는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 10,
A clothing simulation method, wherein the above S1 operations, S2 operations, and S3 operations are repeatedly performed until there are no filler lines remaining in the continuous line list.
상기 연속 라인 리스트는
상기 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 연속 라인, 및 상기 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인을 포함하는 제1 연속 라인 리스트;
상기 제1 유형의 연속 라인의 불연속(non-smooth) 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인을 포함하는 제2 연속 라인 리스트;
상기 제2 연속 라인 리스트에 포함된 상기 제2 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인을 포함하는 제3 연속 라인 리스트; 및
상기 제1 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인을 포함하는 제4 연속 라인 리스트
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the second paragraph,
The above list of consecutive lines is
A first continuous line list including at least one of a first type of continuous line among a continuous line selected by the user, a continuous line symmetrical to the selected continuous line, and a continuous line sewn together with the selected continuous line;
A second continuous line list comprising a second type of continuous line starting from a non-smooth point of the first type of continuous line;
A third continuous line list including a third type of continuous line sewn together with the second type of continuous line included in the second continuous line list; and
A fourth continuous line list including a fourth type of continuous line sewn together with the first type of continuous line.
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 연속 라인 리스트에 기초하여, 상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 연속 라인 리스트를 기초로, 상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인들에 전파함으로써, 상기 2차원 패턴의 길이 및 면적 중 적어도 하나를 변경하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 12,
Based on the above continuous line list, the operation of transforming the two-dimensional pattern is
An operation of changing at least one of the length and area of the two-dimensional pattern by propagating a deformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line based on the list of continuous lines.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 적어도 하나를 변경하는 동작은
상기 제1 연속 라인 리스트에 포함된 상기 제1 유형의 연속 라인에 대한 길이 변경을 상기 제1 유형의 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작;
상기 제1 유형의 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인의 변경으로 인한 면적 변경을 상기 제2 유형의 연속 라인과 관련된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작; 및
상기 제2 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제3 유형의 연속 라인의 길이 변경을 상기 제3 유형의 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파하는 동작
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 13,
An action that changes at least one of the above
An operation of propagating a length change for the first type of continuous line included in the first continuous line list to at least one candidate line associated with the first type of continuous line;
An operation of propagating an area change due to a change in a second type of continuous line starting from a discontinuity point of the first type of continuous line to at least one candidate line associated with the second type of continuous line; and
An operation of propagating a change in the length of a third type of continuous line sewn together with the second type of continuous line to at least one candidate line associated with the third type of continuous line.
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)을 식별하는 동작;
상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하는 동작;
상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작; 및
상기 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 동작
을 포함하고,
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 입력이 상기 제1 연속 라인의 불연속 지점에서 발생한 경우, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴에서 상기 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형하는 동작; 및
상기 입력이 상기 제1 연속 라인의 연속 지점에서 발생한 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력에 대응하는 전체 연속 라인을 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.An operation of receiving an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment through a user interface displaying the three-dimensional garment;
An operation of identifying at least one first continuous line (smooth line) extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing;
An operation of transforming the first continuous line based on the input;
An operation of deforming said at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of said first continuous line to at least one candidate line associated with said first continuous line; and
An operation of outputting at least one of the above-described modified two-dimensional pattern and a three-dimensional garment whose style line has been changed in response to the above-described modified two-dimensional pattern.
Including,
The action of transforming the above two-dimensional pattern is
An operation of transforming some continuous lines corresponding to the input in the at least one two-dimensional pattern, if the input occurs at a discontinuous point of the first continuous line; and
An operation of transforming the entire continuous line corresponding to the input in the two-dimensional pattern when the input occurs at a continuous point of the first continuous line.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 입력에 대응하는 일부 연속 라인을 변형하는 동작은
상기 제1 연속 라인의 불연속 지점을 기초로, 상기 제1 연속 라인을 상기 2차원 패턴 단위의 세그먼트들로 구분하는 동작; 및
상기 불연속 지점을 포함하는 세그먼트에서 상기 불연속 지점의 변경된 위치에 대응하는 길이만큼 상기 세그먼트의 길이를 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 15,
The action of transforming some continuous lines corresponding to the above input is
An operation of dividing the first continuous line into segments of the two-dimensional pattern unit based on the discontinuity point of the first continuous line; and
An operation of changing the length of a segment including the discontinuous point by a length corresponding to the changed position of the discontinuous point.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 입력에 대응하는 전체 연속 라인을 변형하는 동작은
상기 변형된 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인 전체를 상기 변형된 제1 연속 라인과 동일한 길이 비율로 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 15,
The operation of transforming the entire continuous line corresponding to the above input is
An operation of transforming at least one entire candidate line associated with the transformed first continuous line to the same length ratio as the transformed first continuous line.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)을 식별하는 동작;
상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하는 동작;
상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작; 및
상기 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 동작
을 포함하고,
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 제1 연속 라인의 불연속 지점으로부터 시작된 적어도 하나의 제2 유형의 연속 라인 상에 위치한 제2 점들 중 길이가 변경된 제1 연속 라인과 겹치는 제1 점들의 제1 위치 이동값을 산출하는 동작;
상기 길이 변경된 제1 연속 라인의 길이 변경 비율을 기초로, 상기 제2 유형의 연속 라인 상에 위치한 제2 점들 중 상기 제1 점들을 제외한 나머지 점들의 제2 위치 이동값을 산출하는 동작; 및
상기 제1 위치 이동값 및 상기 제2 위치 이동값을 기초로, 상기 2차원 패턴의 면적을 변경하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.An operation of receiving an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment through a user interface displaying the three-dimensional garment;
An operation of identifying at least one first continuous line (smooth line) extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing;
An operation of transforming the first continuous line based on the input;
An operation of deforming said at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of said first continuous line to at least one candidate line associated with said first continuous line; and
An operation of outputting at least one of the above-described modified two-dimensional pattern and a three-dimensional garment whose style line has been changed in response to the above-described modified two-dimensional pattern.
Including,
The action of transforming the above two-dimensional pattern is
An operation of calculating a first positional displacement value of first points, which overlap with a first continuous line whose length has been changed, among second points located on at least one second type of continuous line starting from a discontinuity point of the first continuous line;
An operation of calculating a second positional movement value of the remaining points, excluding the first points, among the second points located on the second type of continuous line based on the length change ratio of the first continuous line whose length has been changed; and
An operation of changing the area of the two-dimensional pattern based on the first position movement value and the second position movement value.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 2차원 패턴의 면적을 변형하는 동작은
면적 변경된 2차원 패턴에 대응하는 연속 라인의 길이 변경 비율을 산출하는 동작; 및
상기 길이 변경 비율을 기초로, 상기 면적 변경된 2차원 패턴에 대응하는 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인의 길이 비율을 변경하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 18,
The operation of transforming the area of the above two-dimensional pattern is
An operation for calculating a length change ratio of a continuous line corresponding to a two-dimensional pattern whose area has been changed; and
An operation of changing the length ratio of a continuous line sewn together with a continuous line corresponding to a two-dimensional pattern whose area has been changed based on the length change ratio.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인(smooth line)을 식별하는 동작;
상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하는 동작;
상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 동작; 및
상기 변형된 2차원 패턴 및 상기 변형된 2차원 패턴에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 동작
을 포함하고,
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 입력이 상기 제1 연속 라인에 접하는 방향으로 발생하는 경우, 상기 2차원 패턴을 상기 제1 연속 라인에 접하는 방향으로 변형하는 동작; 및
상기 입력이 상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 발생하는 경우, 상기 2차원 패턴을 상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 변형하는 동작
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.An operation of receiving an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment through a user interface displaying the three-dimensional garment;
An operation of identifying at least one first continuous line (smooth line) extending across at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing;
An operation of transforming the first continuous line based on the input;
An operation of deforming said at least one two-dimensional pattern by propagating the deformation of said first continuous line to at least one candidate line associated with said first continuous line; and
An operation of outputting at least one of the above-described modified two-dimensional pattern and a three-dimensional garment whose style line has been changed in response to the above-described modified two-dimensional pattern.
Including,
The action of transforming the above two-dimensional pattern is
When the above input occurs in a direction tangent to the first continuous line, an operation of transforming the two-dimensional pattern in a direction tangent to the first continuous line; and
When the above input occurs in a direction orthogonal to the first continuous line, an operation of transforming the two-dimensional pattern in a direction orthogonal to the first continuous line
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 제1 연속 라인에 직교하는 방향으로 변형하는 동작은
상기 사용자에 의해 선택된 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 라인, 및 상기 선택된 연속 라인과 함께 재봉되는 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들의 불연속 지점으로부터 시작된 제2 유형의 연속 라인들을, 상기 제1 유형의 연속 라인들로 간주하여 길이를 변경하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 20,
The operation of transforming in a direction orthogonal to the first continuous line above is
An operation of changing the length of second type of continuous lines starting from a discontinuity point of first type of continuous lines including at least one of a continuous line selected by the user, a line symmetrical to the selected continuous line, and a line sewn together with the selected continuous line, by considering them as continuous lines of the first type.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 2차원 패턴을 변형하는 동작은
상기 입력이 상기 적어도 하나의 스타일 라인에 대한 1차 사용자 인터페이스의 선택을 통해 수신된 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측 및 상기 일측에 대응되는 타측을 함께 변형하는 동작; 및
상기 입력이 상기 적어도 하나의 스타일 라인에 대한 선택을 통해 발생하는 2차 사용자 인터페이스의 선택을 통해 수신된 경우, 상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측을 변형하는 동작
중 적어도 하나를 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In the first paragraph,
The action of transforming the above two-dimensional pattern is
An operation of transforming together one side of the two-dimensional pattern where the input occurred and the other side corresponding to the one side, when the input is received through selection of the primary user interface for at least one style line; and
An operation of transforming one side of the two-dimensional pattern where the input occurred, if the input is received via a selection of a second user interface that occurs via a selection of at least one style line.
A method for simulating clothing, comprising at least one of:
상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측 및 상기 일측에 대응되는 타측을 함께 변형하는 동작은
상기 사용자에 의해 선택된 상기 일측의 연속 라인, 상기 선택된 연속 라인에 대칭되는 상기 타측의 연속 라인, 및 상기 일측의 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나를 포함하는 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인 및 상기 적어도 하나의 제1 유형의 연속 라인과 함께 재봉되는 제4 유형의 연속 라인을 상기 입력에 대응하여 함께 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 22,
The operation of transforming the side where the input occurred and the other side corresponding to the side together in the above two-dimensional pattern is
An operation of transforming at least one first type of continuous line including at least one of the one-sided continuous line selected by the user, the other-sided continuous line symmetrical to the selected continuous line, and the continuous line sewn together with the one-sided continuous line, and a fourth type of continuous line sewn together with the at least one first type of continuous line, in response to the input.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 2차원 패턴에서 상기 입력이 발생한 일측을 변형하는 동작은
상기 사용자에 의해 선택된 상기 일측의 연속 라인, 및 상기 일측의 연속 라인과 함께 재봉되는 연속 라인 중 적어도 하나를 포함하는 제1 유형의 연속 라인들을 상기 입력에 대응하여 변형하는 동작
을 포함하는, 의상 시뮬레이션 방법.In Article 22,
The operation of transforming one side of the above two-dimensional pattern where the input occurred is
An operation of transforming a first type of continuous lines including at least one of the continuous lines on one side selected by the user and the continuous lines sewn together with the continuous lines on the one side in response to the input.
A method for simulating clothing, comprising:
상기 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴들에 포함된 복수의 라인들 중 상기 스타일 라인에 대응하여 적어도 하나의 2차원 패턴에 걸쳐 이어진 적어도 하나의 제1 연속 라인- 상기 제1 연속 라인은 복수의 패턴들에 걸쳐 이어지는 연속 라인을 포함함 -을 식별하고, 상기 입력에 기초하여 상기 제1 연속 라인을 변형하며, 상기 제1 연속 라인의 변형을 상기 제1 연속 라인과 연관된 적어도 하나의 후보 라인에 전파함으로써, 상기 적어도 하나의 2차원 패턴을 변형하는 프로세서; 및
상기 변형된 2차원 패턴들 및 상기 변형된 2차원 패턴들에 대응하여 상기 스타일 라인이 변경된 3차원 의상 중 적어도 하나를 출력하는 디스플레이
를 포함하는,
의상 시뮬레이션 장치.A user interface that displays a three-dimensional garment and receives an input for changing at least one style line among a plurality of style lines representing at least one of a style and a silhouette of the three-dimensional garment;
A processor that identifies at least one first continuous line that spans at least one two-dimensional pattern corresponding to the style line among a plurality of lines included in two-dimensional patterns corresponding to the three-dimensional clothing, wherein the first continuous line includes a continuous line spanning a plurality of patterns, and transforms the first continuous line based on the input, and propagates the transformation of the first continuous line to at least one candidate line associated with the first continuous line, thereby transforming the at least one two-dimensional pattern; and
A display that outputs at least one of the above-described modified two-dimensional patterns and a three-dimensional garment whose style line has been changed in response to the above-described modified two-dimensional patterns.
Including,
Costume simulation device.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2022/006528 WO2022240082A1 (en) | 2021-05-12 | 2022-05-09 | Garment simulation method and apparatus |
| EP22807730.1A EP4339876A4 (en) | 2021-05-12 | 2022-05-09 | METHOD AND DEVICE FOR SIMULATING GARMENTS |
| CN202280004098.0A CN115623873A (en) | 2021-05-12 | 2022-05-09 | Method and device for simulating clothing |
| US18/503,103 US20240070805A1 (en) | 2021-05-12 | 2023-11-06 | Modifying Garment Design Using Style Line |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20210061436 | 2021-05-12 | ||
| KR1020210061436 | 2021-05-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220154022A KR20220154022A (en) | 2022-11-21 |
| KR102818073B1 true KR102818073B1 (en) | 2025-06-12 |
Family
ID=84233833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020220055126A Active KR102818073B1 (en) | 2021-05-12 | 2022-05-04 | Method and apparatus of simulating garment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102818073B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102791529B1 (en) * | 2024-09-20 | 2025-04-08 | 천세훈 | Automatic design method for three-dimensional patterns for casual tops and program to execute the same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102239404B1 (en) * | 2019-08-19 | 2021-04-14 | (주)클로버추얼패션 | Methode and apparatus of simulating clothes |
-
2022
- 2022-05-04 KR KR1020220055126A patent/KR102818073B1/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20220154022A (en) | 2022-11-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20220504 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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|
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