[go: up one dir, main page]

KR102801887B1 - Tower lift - Google Patents

Tower lift Download PDF

Info

Publication number
KR102801887B1
KR102801887B1 KR1020230035553A KR20230035553A KR102801887B1 KR 102801887 B1 KR102801887 B1 KR 102801887B1 KR 1020230035553 A KR1020230035553 A KR 1020230035553A KR 20230035553 A KR20230035553 A KR 20230035553A KR 102801887 B1 KR102801887 B1 KR 102801887B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carriage
unit
horizontal movement
rack master
robot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020230035553A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20240141348A (en
Inventor
강휘재
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020230035553A priority Critical patent/KR102801887B1/en
Publication of KR20240141348A publication Critical patent/KR20240141348A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102801887B1 publication Critical patent/KR102801887B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
    • H10P72/3218—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66—HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66F—HOISTING, LIFTING, HAULING OR PUSHING, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, e.g. DEVICES WHICH APPLY A LIFTING OR PUSHING FORCE DIRECTLY TO THE SURFACE OF A LOAD
    • B66F7/00—Lifting frames, e.g. for lifting vehicles; Platform lifts
    • B66F7/02—Lifting frames, e.g. for lifting vehicles; Platform lifts with platforms suspended from ropes, cables, or chains or screws and movable along pillars
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66—HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66F—HOISTING, LIFTING, HAULING OR PUSHING, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, e.g. DEVICES WHICH APPLY A LIFTING OR PUSHING FORCE DIRECTLY TO THE SURFACE OF A LOAD
    • B66F7/00—Lifting frames, e.g. for lifting vehicles; Platform lifts
    • B66F7/28—Constructional details, e.g. end stops, pivoting supporting members, sliding runners adjustable to load dimensions
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H10P72/3202—

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

본 발명의 타워 리프트는, 상하 방향으로 마련되는 제1 랙 마스터; 상하 방향으로 마련되며, 상기 제1 랙 마스터와의 사이에 이동 통로가 형성되도록 상기 제1 랙 마스터와 이웃하여 위치되는 제2 랙 마스터; 상기 제1 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제1 캐리지 유닛; 및 상기 제2 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제2 캐리지 유닛을 포함하고, 상기 이동 통로는, 수평면의 제1 방향의 길이가 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛 각각의 제1 방향의 길이 합보다 작은 제1 길이를 가지고, 상기 제1 캐리지 유닛은, 물품을 핸들링하는 제1 캐리지 로봇과, 수평면에서 상기 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향으로 상기 제1 캐리지 로봇을 이동시키는 제1 수평 이동 유닛을 포함한다.The tower lift of the present invention comprises: a first rack master provided in a vertical direction; a second rack master provided in a vertical direction and positioned adjacent to the first rack master so that a moving passage is formed between the first rack master and the second rack master; a first carriage unit moving along the moving passage along the first rack master; and a second carriage unit moving along the moving passage along the second rack master, wherein the moving passage has a first length in a first direction in a horizontal plane that is smaller than the sum of the lengths of each of the first carriage unit and the second carriage unit in the first direction, and the first carriage unit includes a first carriage robot for handling articles, and a first horizontal movement unit for moving the first carriage robot in a second direction that is perpendicular to the first direction in a horizontal plane.

Description

타워 리프트{TOWER LIFT}TOWER LIFT

본 발명은 타워 리프트에 관한 것이다.The present invention relates to a tower lift.

반도체 제조를 위한 제조 라인은 복층으로 구성될 수 있으며, 각 층에는 증착, 노광, 식각, 이온 주입 및 세정 등의 공정 수행을 위한 설비가 배치될 수 있다. 반도체 제조 장치는 반도체 기판으로 사용되는 기판(웨이퍼)에 대한 일련의 단위 공정을 반복 수행할 있다.A manufacturing line for semiconductor manufacturing may be configured in multiple layers, and each layer may be equipped with equipment for performing processes such as deposition, exposure, etching, ion implantation, and cleaning. A semiconductor manufacturing device may repeatedly perform a series of unit processes on a substrate (wafer) used as a semiconductor substrate.

반도체 제조 장치의 각 층 사이에서 수직(상하) 방향으로의 물품 반송은, 각 층을 통해 수직 방향으로 설치되는 타워 리프트에 의해 이루어질 수 있다. 타워 리프트는 물품 반송을 위한 캐리지 모듈이 구비될 수 있다. The vertical (up-down) transportation of items between each floor of a semiconductor manufacturing device can be accomplished by a tower lift installed vertically through each floor. The tower lift can be equipped with a carriage module for transportation of items.

한편, 물품 반송의 효율을 위해 지속적인 개선의 노력이 이루어지고 있다.Meanwhile, continuous improvement efforts are being made to improve the efficiency of returning goods.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 동시에 반송할 수 있는 물품 수량을 증가시킬 수 있고, 반조체 제조 라인의 공간 활용도가 향상될 수 있는 타워 리프트를 제공하는 것이다. The problem to be solved by the present invention is to provide a tower lift capable of increasing the number of items that can be returned simultaneously and improving the space utilization of a semi-finished product manufacturing line.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The tasks of the present invention are not limited to the tasks mentioned above, and other tasks not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 타워 리프트의 일 면(aspect)은, 상하 방향으로 마련되는 제1 랙 마스터; 상하 방향으로 마련되며, 상기 제1 랙 마스터와의 사이에 이동 통로가 형성되도록 상기 제1 랙 마스터와 이웃하여 위치되는 제2 랙 마스터; 상기 제1 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제1 캐리지 유닛; 및 상기 제2 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제2 캐리지 유닛을 포함하고, 상기 이동 통로는, 수평면의 제1 방향의 길이가 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛 각각의 제1 방향의 길이 합보다 작은 제1 길이를 가지고, 상기 제1 캐리지 유닛은, 물품을 핸들링하는 제1 캐리지 로봇과, 수평면에서 상기 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향으로 상기 제1 캐리지 로봇을 이동시키는 제1 수평 이동 유닛을 포함한다.An aspect of a tower lift of the present invention for achieving the above object comprises: a first rack master provided in a vertical direction; a second rack master provided in a vertical direction and positioned adjacent to the first rack master so that a moving passage is formed between the first rack master and the second rack master; a first carriage unit moving along the moving passage along the first rack master; and a second carriage unit moving along the moving passage along the second rack master, wherein the moving passage has a first length in a first direction in a horizontal plane that is smaller than the sum of the lengths of each of the first carriage unit and the second carriage unit in the first direction, and the first carriage unit includes a first carriage robot for handling articles, and a first horizontal movement unit for moving the first carriage robot in a second direction that is perpendicular to the first direction in a horizontal plane.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 타워 리프트의 다른 일 면은, 상하 방향으로 마련되며 한 쌍의 제1 레일이 구비되는 제1 랙 마스터; 상하 방향으로 마련되며, 상기 제1 랙 마스터와의 사이에 이동 통로가 형성되도록 상기 제1 랙 마스터와 이웃하여 위치되며, 한 쌍의 제2 레일이 구비되는 제2 랙 마스터; 상기 제1 랙 마스터에서 상기 제1 레일을 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제1 캐리지 유닛; 및 상기 제2 랙 마스터에서 상기 제2 레일을 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제2 캐리지 유닛을 포함하고, 상기 이동 통로는, 수평면의 제1 방향의 길이가 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛 각각의 제1 방향의 길이 합보다 작은 제1 길이를 가지고, 상기 제1 캐리지 유닛은, 기판을 포함하는 물품을 핸들링하는 제1 캐리지 로봇과, 수평면에서 상기 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향으로 상기 제1 캐리지 로봇을 이동시키는 제1 수평 이동 유닛과, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제1 캐리지 로봇을 연결하며 상기 제1 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제1 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제1 플레이트를 포함하고, 상기 제2 캐리지 유닛은, 상기 물품을 핸들링하는 제2 캐리지 로봇과, 상기 제2 방향에서 상기 제1 수평 이동 유닛과 반대 방향으로 상기 제2 캐리지 로봇을 이동시키는 제2 수평 이동 유닛과, 상기 제2 수평 이동 유닛과 상기 제2 캐리지 로봇을 연결하며 상기 제2 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제2 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제2 플레이트를 포함하며, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각은, 상기 제2 방향으로 길이가 연장되거나 복원되는 텔레스코픽을 포함하고, 상기 제1 랙 마스터와 상기 제2 랙 마스터 각각은, 반도체 제조 라인에서 반송층과 비반송층을 가로지르며, 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛은 상기 비반송층에서 상하 위치가 변경되도록, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각의 상기 텔레스코픽은 상기 비반송층에서 길이가 연장된다.Another aspect of the tower lift of the present invention for achieving the above object comprises: a first rack master provided in a vertical direction and having a pair of first rails; a second rack master provided in a vertical direction and positioned adjacent to the first rack master so that a passageway is formed between the first rack master and the first rack master, and having a pair of second rails; a first carriage unit moving along the first rail in the passageway from the first rack master; And a second carriage unit moving along the second rail in the second rack master, the moving passage having a first length in a first direction in a horizontal plane that is smaller than the sum of the lengths of each of the first carriage unit and the second carriage unit in the first direction, the first carriage unit including a first carriage robot handling an article including a substrate, a first horizontal movement unit moving the first carriage robot in a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane, and a first plate connecting the first horizontal movement unit and the first carriage robot and moving in the second direction together with the first carriage robot by operation of the first horizontal movement unit, the second carriage unit including a second carriage robot handling an article, a second horizontal movement unit moving the second carriage robot in a direction opposite to the first horizontal movement unit in the second direction, and connecting the second horizontal movement unit and the second carriage robot and moving in the second direction together with the first carriage robot by operation of the second horizontal movement unit. A second plate moving in the second direction together with a second carriage robot, wherein each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit includes a telescope whose length is extended or restored in the second direction, and each of the first rack master and the second rack master traverses a return layer and a non-return layer in a semiconductor manufacturing line, and the first carriage unit and the second carriage unit change their upper and lower positions in the non-return layer, such that the telescopes of each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit extend in the non-return layer.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명에 따른 타워 리프트는, 듀얼 랙마스터 구조(제1 랙 마스터와 제2 랙 마스터)를 이루더라도, 동일한 높이에서 나란히 배치되는 2개의 캐리지 유닛에 대응하여 이동 통로의 폭(X방향 길이)이 구비될 필요가 없어, 타워 리프트의 설치 공간이 감소될 수 있으므로, 설비 공간의 활용도가 향상될 수 있다. According to the present invention, even if the tower lift has a dual rack master structure (first rack master and second rack master), there is no need to provide a width (length in the X direction) of a moving passage corresponding to two carriage units arranged side by side at the same height, so that the installation space of the tower lift can be reduced, and thus the utilization of the facility space can be improved.

또한, 듀얼 랙 마스터 구조를 이루어 제1 캐리지 유닛과 제2 캐리지 유닛이 서로 다른 층에서 이적재 작업을 동시에 수행할 수 있어, 반송 효율이 향상될 수 있다.In addition, since a dual rack master structure is formed, the first carriage unit and the second carriage unit can perform transfer operations on different floors simultaneously, so that the return efficiency can be improved.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 타워 리프트가 마련된 반도체 제조 라인을 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 I-I 단면을 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 II-II 단면을 도시한 도면이다.
도 4는 도 1의 III-III 단면을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 타워 리프트를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a drawing illustrating a semiconductor manufacturing line provided with a tower lift according to the first embodiment of the present invention.
Figure 2 is a drawing illustrating cross-section II of Figure 1.
Figure 3 is a drawing showing the II-II cross section of Figure 1.
Figure 4 is a drawing showing cross section III-III of Figure 1.
FIG. 5 is a drawing illustrating a tower lift according to the first embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The advantages and features of the present invention and the methods for achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and these embodiments are provided only to make the disclosure of the present invention complete and to fully inform those skilled in the art of the scope of the invention, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular includes the plural unless the context clearly dictates otherwise. The terms "comprises" and/or "comprising" as used herein do not exclude the presence or addition of one or more other components, steps, operations, and/or elements.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 타워 리프트가 마련된 반도체 제조 라인을 도시한 도면이다.FIG. 1 is a drawing illustrating a semiconductor manufacturing line provided with a tower lift according to the first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면 반도체 제조 라인(1)은 스테이지 모듈(11), 수납부(20), 레일부(30) 및 타워 리프트(100)가 제공될 수 있으며, 복수의 층(1F, 2F, 3F)으로 구비될 수 있다. Referring to FIG. 1, a semiconductor manufacturing line (1) may be provided with a stage module (11), a storage unit (20), a rail unit (30), and a tower lift (100), and may be equipped with multiple floors (1F, 2F, 3F).

복수의 층(1F, 2F, 3F)은, 반송층(1F, 3F)과 비반송층(2F)을 포함할 수 있다. 반송층(1F, 3F)은 물품이 반송될 수 있으며, 기판 제조 장치(도시하지 않음)와 수납부(20)가 구비될 수 있다. 비반송층(2)은 반송층(1F, 3F)에서 필요한 초임계 유체와 불활성 가스 등을 제공하는 다양한 탱크(도시하지 않음) 및 장비(도시하지 않음) 등이 구비될 수 있고, 메인터넌스 영역을 이룰 수 있다. 본 실시예에서 물품은, 풉과 같은 용기(F)에 수납된 상태로 반송 및 핸들링 될 수 있다.The plurality of layers (1F, 2F, 3F) may include a return layer (1F, 3F) and a non-return layer (2F). The return layer (1F, 3F) may be provided with a substrate manufacturing device (not shown) and a receiving section (20) where articles may be returned. The non-return layer (2) may be provided with various tanks (not shown) and equipment (not shown) that provide supercritical fluids and inert gases required in the return layer (1F, 3F), and may form a maintenance area. In this embodiment, articles may be returned and handled while being stored in a container (F) such as a bucket.

스테이지 모듈(11)은 반도체 제조 라인(1)의 각 층(1F, 2F, 3F) 중 어느 하나 이상의 바닥면에 설치될 수 있다. 예시로 스테이지 모듈(11)은, 반송층(1F, 3F)에 설치되어, 용기(F)를 수납부(20)로 반송하는 레일부(30)와 결합될 수 있다. 타워 리프트(100)에서 용기(F)가 반송층(1F, 3F)으로 반송되면, 반송층(1F, 3F)으로 반송된 용기(F)는 레일부(30)에 의해 수납부(20)로 반송될 수 있다.The stage module (11) can be installed on the floor surface of one or more of the floors (1F, 2F, 3F) of the semiconductor manufacturing line (1). For example, the stage module (11) can be installed on the return floor (1F, 3F) and connected to a rail unit (30) that returns a container (F) to a receiving unit (20). When a container (F) is returned to the return floor (1F, 3F) in the tower lift (100), the container (F) returned to the return floor (1F, 3F) can be returned to the receiving unit (20) by the rail unit (30).

타워 리프트(100)는 반도체 제조 라인(1)의 각 층(1F, 2F, 3F)을 수직으로 관통하는 구조를 이룰 수 있다. The tower lift (100) can be structured to vertically penetrate each floor (1F, 2F, 3F) of the semiconductor manufacturing line (1).

이하에서 도면을 참조하여 타워 리프트(100)를 설명하도록 한다.Below, the tower lift (100) will be described with reference to the drawings.

도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 타워 리프트를 설명하기 위한 도면으로서, 도 2는 도 1의 I-I 단면을 도시한 도면이고, 도 3은 도 1의 II-II 단면을 도시한 도면이며, 도 4는 도 1의 III-III 단면을 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 타워 리프트를 도시한 도면이다.FIGS. 2 to 5 are drawings for explaining a tower lift according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 2 is a drawing illustrating a cross-section taken along line I-I of FIG. 1, FIG. 3 is a drawing illustrating a cross-section taken along line II-II of FIG. 1, FIG. 4 is a drawing illustrating a cross-section taken along line III-III of FIG. 1, and FIG. 5 is a drawing illustrating a tower lift according to a first embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 5를 참조하면, 타워 리프트(100)는 마스터 모듈(110), 캐리지 모듈(120)을 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 2 to 5, the tower lift (100) may include a master module (110) and a carriage module (120).

마스터 모듈(110)은 각 층(1F, 2F, 3F)을 관통하도록, 상하 방향으로 연장될 수 있다. 즉 마스터 모듈(110)은, 캐리지 모듈(120)의 이동을 가이드하도록, 반도체 제조 라인(1)의 하나 이상의 층(1F, 2F, 3F) 사이에서 수직 방향으로 연장될 수 있다. 마스터 모듈(110)은 듀얼 랙 마스터 구조를 이루도록, 제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112)를 포함할 수 있다.The master module (110) may extend vertically to penetrate each layer (1F, 2F, 3F). That is, the master module (110) may extend vertically between one or more layers (1F, 2F, 3F) of the semiconductor manufacturing line (1) to guide the movement of the carriage module (120). The master module (110) may include a first rack master (111) and a second rack master (112) to form a dual rack master structure.

제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112) 각각은, 상하 방향으로 마련될 수 있다. 예를 들어 제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112) 각각은, 반도체 제조 라인(1)에서 반송층(1F, 3F)과 비반송층(2F)을 모두 가로질로 마련될 수 있다(도 1 참조).Each of the first rack master (111) and the second rack master (112) may be provided in a vertical direction. For example, each of the first rack master (111) and the second rack master (112) may be provided to cross both the return layer (1F, 3F) and the non-return layer (2F) in the semiconductor manufacturing line (1) (see FIG. 1).

제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112) 각각에서 물품이 반송되도록, 마스터 모듈(110)에 캐리지 모듈(120)이 제공될 수 있다. 예시로, 제1 랙 마스터(111)에 제1 캐리지 유닛(121)이 이동 가능하게 마련되고, 제2 랙 마스터(112)에 제2 캐리지 유닛(122)이 이동 가능하게 마련될 수 있다. 따라서 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)은, 서로 다른 층에서 이적재 작업을 동시에 수행할 수 있다.A carriage module (120) may be provided on the master module (110) so that goods may be returned from each of the first rack master (111) and the second rack master (112). For example, a first carriage unit (121) may be provided movably on the first rack master (111), and a second carriage unit (122) may be provided movably on the second rack master (112). Accordingly, the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) may simultaneously perform a transfer operation on different floors.

게다가 제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112)는 서로 이웃하여 마련될 수 있다. 제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112) 사이에 이동 통로(U1, U2)가 형성될 수 있다. 이동 통로(U1, U2)는 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)이 이동하는 공간으로서, 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)이 공간을 공유할 수 있다. 즉 동일한 공간에서 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122) 각각이 이동할 수 있다.In addition, the first rack master (111) and the second rack master (112) may be provided adjacent to each other. A movement passage (U1, U2) may be formed between the first rack master (111) and the second rack master (112). The movement passage (U1, U2) is a space in which the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) move, and the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) may share the space. In other words, the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) may each move in the same space.

예를 들어 제1 랙 마스터(111)는 제1 설치면(111S1)과 제2 설치면(111S2)을 포함할 수 있다. 제2 랙 마스터(112)는 제3 설치면(112S1)과 제4 설치면(112S2)을 포함할 수 있다. 여기서 제1 설치면(111S1)은 제1 레일(111R)이 설치되는 면을 이룰 수 있고, 제3 설치면(112S1)은 제2 레일(112R)이 설치되는 면을 이룰 수 있다. For example, the first rack master (111) may include a first installation surface (111S1) and a second installation surface (111S2). The second rack master (112) may include a third installation surface (112S1) and a fourth installation surface (112S2). Here, the first installation surface (111S1) may form a surface on which the first rail (111R) is installed, and the third installation surface (112S1) may form a surface on which the second rail (112R) is installed.

그리고 제2 설치면(111S2)과 제4 설치면(112S2) 각각은, 리니어 모터 자석(111M, 112M)(또는 리니어 모터 코일)이 설치되는 면을 이룰 수 있다. 여기서 리니어 모터 자석(111M, 112M)은, 마스터 모듈(110)의 길이 방향을 따라 복수 개가 일정한 간격을 두고 구비될 수 있다(도 5 참조).And each of the second installation surface (111S2) and the fourth installation surface (112S2) can form a surface on which a linear motor magnet (111M, 112M) (or linear motor coil) is installed. Here, a plurality of linear motor magnets (111M, 112M) can be provided at a constant interval along the length direction of the master module (110) (see FIG. 5).

제2 설치면(111S2)과 제4 설치면(112S2)은 서로 마주하여 배치될 수 있다(도 2 참조). 그리고 이동 통로(U1, U2)는, 수평면의 제1 방향(X 방향)의 길이가 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122) 각각의 제1 방향(X 방향)의 길이 합보다 작은 제1 길이(D1)를 가질 수 있다. 예시로 제1 길이(D1)는, 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)의 길이의 합(제1 방향(X 방향) 기준)에서, 제1 캐리지 유닛(121)의 제1 플레이트(121P)의 길이(제1 방향(X 방향) 기준)만큼 뺀 길이를 이룰 수 있다.The second installation surface (111S2) and the fourth installation surface (112S2) may be arranged to face each other (see FIG. 2). In addition, the moving passage (U1, U2) may have a first length (D1) whose length in the first direction (X direction) of the horizontal plane is smaller than the sum of the lengths in the first direction (X direction) of each of the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122). For example, the first length (D1) may be a length obtained by subtracting the length of the first plate (121P) of the first carriage unit (121) (based on the first direction (X direction)) from the sum of the lengths of the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122).

따라서, 듀얼 랙마스터 구조(제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112))를 이루더라도, 동일한 높이에서 나란히 배치되는 2개의 캐리지 유닛(121, 122)에 대응하여 이동 통로(U1, U2)의 폭(X방향 길이)이 구비될 필요가 없어, 타워 리프트(100)의 설치 공간이 감소될 수 있으므로, 설비 공간의 활용도가 향상될 수 있다. Accordingly, even if a dual rack master structure (first rack master (111) and second rack master (112)) is formed, there is no need to provide a width (length in the X direction) of the moving passage (U1, U2) corresponding to two carriage units (121, 122) arranged side by side at the same height, so that the installation space of the tower lift (100) can be reduced, and thus the utilization of the facility space can be improved.

예를 들어 타워 리프트(100)는, 반송층(1F, 3F)의 풋프린트(footprint)가 제1 캐리지 유닛(121)의 투영 면적과 제2 캐리지 유닛(122)의 투영 면적의 합보다 작은 영역을 이룰 수 있어, 반송층(1F, 3F)의 공간 활용도를 향상시킬 수 있다.For example, the tower lift (100) can form an area in which the footprint of the return floor (1F, 3F) is smaller than the sum of the projected area of the first carriage unit (121) and the projected area of the second carriage unit (122), thereby improving the space utilization of the return floor (1F, 3F).

그리고 반송층(1F, 3F)의 이동 통로(U1)는 제2 방향(Y 방향)의 길이가 제2 길이(D2)를 가지고, 비반송층(2F)의 이동 통로(U2)는 제2 방향(Y 방향)의 길이가 제2 길이(D2)보다 길게 이루어진 제3 길이(D3)를 가져, 비반송층(2F)에서 풋프린트(footprint)가 확장될 수 있다. 다시 말해서 비반송층(2F)의 풋프린트(footprint)만 확장되고, 비반송층(2F) 이외의 영역(반송층(1F, 3F)일 수 있음)의 풋프린트(footprint)는 확장되지 않아, 설비 공간에서 반송층(1F, 3F)의 공간 활용도가 향상될 수 있다.And the moving passage (U1) of the return layer (1F, 3F) has a second length (D2) in the second direction (Y direction), and the moving passage (U2) of the non-return layer (2F) has a third length (D3) in the second direction (Y direction) that is longer than the second length (D2), so that the footprint can be expanded in the non-return layer (2F). In other words, only the footprint of the non-return layer (2F) is expanded, and the footprint of an area other than the non-return layer (2F) (which may be the return layer (1F, 3F)) is not expanded, so that the space utilization of the return layer (1F, 3F) in the facility space can be improved.

게다가 제1 랙 마스터(111)와 제2 랙 마스터(112) 각각은, 캐리지 모듈(120)이 이동 가능하게 구현되도록, 프레임(111F, 112F), 리니어 모터 자석(111M, 112M) 및 가이드 레일(111R, 112R)을 포함할 수 있다.In addition, each of the first rack master (111) and the second rack master (112) may include a frame (111F, 112F), a linear motor magnet (111M, 112M), and a guide rail (111R, 112R) so that the carriage module (120) can be implemented to be movable.

프레임(111F, 112F)은 상하 방향으로 연장될 수 있다. 프레임(111F, 112F)은 벽면에 고정될 수 있고, 리니어 모터 자석(111M, 112M)과 가이드 레일(111R, 112R)이 설치될 수 있다. 프레임(111F, 112F)은 양측 또는 일측이 개구된 형상을 가질 수 있으며, 예시로 H 빔으로 제공될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The frame (111F, 112F) can be extended in the vertical direction. The frame (111F, 112F) can be fixed to a wall, and a linear motor magnet (111M, 112M) and a guide rail (111R, 112R) can be installed. The frame (111F, 112F) can have a shape in which both sides or one side are open, and can be provided as an H beam as an example, but is not limited thereto.

리니어 모터 자석(111M, 112M)은 캐리지 모듈(120)의 제1, 2 리니어 모터 코일(121C, 122C)과 상호 작용으로 캐리지 모듈(120)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다. 즉 리니어 모터 자석(111M, 112M)과 제1, 2 리니어 모터 코일(121C, 122C) 사이에서 발생하는 자기력에 의해 캐리지 모듈(120)이 이동하도록 구현될 수 있다.The linear motor magnets (111M, 112M) can move the carriage module (120) in the up and down direction by interacting with the first and second linear motor coils (121C, 122C) of the carriage module (120). In other words, the carriage module (120) can be implemented to move by the magnetic force generated between the linear motor magnets (111M, 112M) and the first and second linear motor coils (121C, 122C).

한편 본 실시예에서는 리니어 모터 자석(111M, 112M)이 마련되어 캐리지 모듈(120)이 리니어 모터에 의해 구동되는 것을 예시하나, 이에 한정되지 않으며, 벨트-풀리가 마련되어 캐리지 모듈(120)이 구동될 수 있는 바와 같이 다양한 변형예가 가능하다. 그리고 벨트-풀리 구조는 공지된 기술이 적용될 수 있다.Meanwhile, in this embodiment, linear motor magnets (111M, 112M) are provided so that the carriage module (120) is driven by the linear motor, but this is not limited thereto, and various modifications are possible, such as a belt-pulley being provided so that the carriage module (120) can be driven. In addition, a known technology can be applied to the belt-pulley structure.

가이드 레일(111R, 112R)은 캐리지 모듈(120)의 상하 방향 이동은 허용하되, 제2 방향(Y 방향)의 이동은 구속할 수 있다. 가이드 레일(111R, 112R)은 캐리지 모듈(120)의 제1 가이드 부재(121G) 및 제2 가이드 부재(122G)와 자기력에 의한 척력으로 이격될 수 있다. 가이드 레일(111R, 112R)은, 제1 가이드 부재(121G)를 가이드하는 제1 레일(111R)과 제2 가이드 부재(122G)를 가이드하는 제2 레일(112R)을 포함할 수 있다.The guide rails (111R, 112R) allow the carriage module (120) to move up and down, but can restrict the movement in the second direction (Y direction). The guide rails (111R, 112R) can be separated from the first guide member (121G) and the second guide member (122G) of the carriage module (120) by a repulsive force due to a magnetic force. The guide rails (111R, 112R) can include a first rail (111R) that guides the first guide member (121G) and a second rail (112R) that guides the second guide member (122G).

캐리지 모듈(120)은 용기(F)를 반송할 수 있고, 마스터 모듈(110)을 따라 상하 방향으로 이동 가능하게 제공될 수 있다. 캐리지 모듈(120)은 마스터 모듈(110)을 따라 이동하여, 반도체 제조 라인(1)의 반송층(1F, 3F)에 용기(F)를 반송할 수 있다.The carriage module (120) can return the container (F) and can be provided to move up and down along the master module (110). The carriage module (120) can move along the master module (110) and return the container (F) to the return layer (1F, 3F) of the semiconductor manufacturing line (1).

캐리지 모듈(120)은 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)을 포함할 수 있다. 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122) 각각이 용기(F)를 반송할 수 있다.The carriage module (120) may include a first carriage unit (121) and a second carriage unit (122). Each of the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) may transport a container (F).

제1 캐리지 유닛(121)은 제1 랙 마스터(111)를 따라 이동 통로(U1, U2)를 이동할 수 있다. 제1 캐리지 유닛(121)은, 제1 가이드 부재(121G), 제1 수평 이동 유닛(121M), 제1 리니어 모터 코일(121C), 제1 플레이트(121P) 및 제1 캐리지 로봇(121B)을 포함할 수 있다.The first carriage unit (121) can move along the movement passage (U1, U2) along the first rack master (111). The first carriage unit (121) can include a first guide member (121G), a first horizontal movement unit (121M), a first linear motor coil (121C), a first plate (121P), and a first carriage robot (121B).

제1 가이드 부재(121G)는 제1 레일(111R)에 의해 가이드될 수 있다. 제1 가이드 부재(121G)는 제1 레일(111R)을 감싸는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어 제1 가이드 부재(121G)는 일측이 개구된 형상을 가져, 제1 레일(111R)이 삽입될 수 있다. 즉 제1 가이드 부재(121G)는 제1 레일(111R)을 따라 제1 캐리지 유닛(121)이 상하 방향 이동이 가능하게 제공될 수 있다. The first guide member (121G) can be guided by the first rail (111R). The first guide member (121G) can have a shape that surrounds the first rail (111R). For example, the first guide member (121G) has a shape in which one side is open, so that the first rail (111R) can be inserted. That is, the first guide member (121G) can be provided so that the first carriage unit (121) can move up and down along the first rail (111R).

제1 수평 이동 유닛(121M)은 제1 가이드 부재(121G)에 연결될 수 있으며, 수평면에서 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향(Y 방향)으로 제1 캐리지 로봇(121B)을 이동시킬 수 있다. 예시로 제1 수평 이동 유닛(121M)은, 제2 방향(Y 방향)으로 길이가 연장되거나 복원되는 텔레스코픽으로 제공될 수 있다. 더불어 본 실시예는, 텔레스코픽의 길이 연장 및 복원 동작을 위해, 모터(도시하지 않음) 및 기어(도시하지 않음) 등이 구비될 수 있다.The first horizontal movement unit (121M) can be connected to the first guide member (121G) and can move the first carriage robot (121B) in a second direction (Y direction) that is perpendicular to the first direction in the horizontal plane. For example, the first horizontal movement unit (121M) can be provided as a telescope whose length is extended or restored in the second direction (Y direction). In addition, the present embodiment can be provided with a motor (not shown) and a gear (not shown) for the length extension and restoration operation of the telescope.

제1 리니어 모터 코일(121C)은, 마스터 모듈(110)의 리니어 모터 자석(111M)과 상호 작용을 이루어, 제1 캐리지 유닛(121)을 이동시킬 수 있다. 제1 리니어 모터 코일(121C)은 제1 수평 이동 유닛(121M)에 연결되되, 제1 랙 마스터(111)를 바라보는 방향의 제1 수평 이동 유닛(121M)에 설치될 수 있다.The first linear motor coil (121C) can move the first carriage unit (121) by interacting with the linear motor magnet (111M) of the master module (110). The first linear motor coil (121C) is connected to the first horizontal movement unit (121M), and can be installed on the first horizontal movement unit (121M) facing the first rack master (111).

제1 플레이트(121P)는, 선반으로 제공될 수 있으며, 제1 수평 이동 유닛(121M)과 제1 캐리지 로봇(121B)을 연결할 수 있다. 제1 플레이트(121P)는 제1 수평 이동 유닛(121M)에 연결되되, 제1 리니어 모터 코일(121C)과 반대 방향에 설치될 수 있다. 제1 플레이트(121P)는, 제1 수평 이동 유닛(121M)의 작동에 의해, 제1 캐리지 로봇(121B)과 함께 제2 방향(Y 방향)으로 이동할 수 있다.The first plate (121P) may be provided as a shelf and may connect the first horizontal movement unit (121M) and the first carriage robot (121B). The first plate (121P) may be connected to the first horizontal movement unit (121M) and may be installed in the opposite direction to the first linear motor coil (121C). The first plate (121P) may move in the second direction (Y direction) together with the first carriage robot (121B) by the operation of the first horizontal movement unit (121M).

도 5를 참조하면, 하나의 제1 캐리지 유닛(121)에 제1 플레이트(121P)가 다수개 마련될 수 있어, 하나의 제1 캐리지 유닛(121)에 제1 플레이트(121P)는 2개 구비될 수 있다. 따라서 하나의 제1 캐리지 유닛(121)은 2개 이상의 용기(F)를 동시에 반송 및 이적재할 수 있다.Referring to FIG. 5, a plurality of first plates (121P) may be provided on one first carriage unit (121), and two first plates (121P) may be provided on one first carriage unit (121). Accordingly, one first carriage unit (121) can simultaneously transport and load two or more containers (F).

제1 캐리지 로봇(121B)은, 제1 플레이트(121P)를 매개로 제1 수평 이동 유닛(121M)에 연결될 수 있으며, 용기(F)를 핸들링할 수 있다. 제1 캐리지 로봇(121B)은 제1 플레이트(121P)의 상면에 설치될 수 있고, 다관절 로봇암을 구비하여 방사방향으로 길이가 연장 및 회전될 수 있다.The first carriage robot (121B) can be connected to the first horizontal movement unit (121M) via the first plate (121P) and can handle the container (F). The first carriage robot (121B) can be installed on the upper surface of the first plate (121P) and has a multi-joint robot arm so that the length can be extended and rotated in the radial direction.

제2 캐리지 유닛(122)은 제2 랙 마스터(112)를 따라 이동 통로(U1, U2)를 이동할 수 있다. 제2 캐리지 유닛(122)은, 제2 가이드 부재(122G), 제2 수평 이동 유닛(122M), 제2 리니어 모터 코일(122C), 제2 플레이트(122P) 및 제2 캐리지 로봇(122B)을 포함할 수 있다. 제2 캐리지 유닛(122)은 제1 캐리지 유닛(121)과 동일한 구조를 이룰 수 있다.The second carriage unit (122) can move along the movement passage (U1, U2) along the second rack master (112). The second carriage unit (122) can include a second guide member (122G), a second horizontal movement unit (122M), a second linear motor coil (122C), a second plate (122P), and a second carriage robot (122B). The second carriage unit (122) can have the same structure as the first carriage unit (121).

제2 가이드 부재(122G)는 제2 레일(112R)에 의해 가이드될 수 있다. 제2 가이드 부재(122G)는 제2 레일(112R)을 따라 제2 캐리지 유닛(122)이 상하 방향 이동이 가능하게 제공될 수 있다. The second guide member (122G) may be guided by the second rail (112R). The second guide member (122G) may be provided to enable the second carriage unit (122) to move up and down along the second rail (112R).

제2 수평 이동 유닛(122M)은 제2 가이드 부재(122G)에 연결될 수 있으며, 제2 방향(Y 방향)으로 제2 캐리지 로봇(122B)을 이동시킬 수 있다. 예시로 제1 수평 이동 유닛(121M)은, 제2 방향(Y 방향)으로 길이가 연장되거나 복원되는 텔레스코픽으로 제공될 수 있다.The second horizontal movement unit (122M) can be connected to the second guide member (122G) and can move the second carriage robot (122B) in the second direction (Y direction). For example, the first horizontal movement unit (121M) can be provided as a telescope whose length is extended or restored in the second direction (Y direction).

제2 리니어 모터 코일(122C)은, 마스터 모듈(110)의 리니어 모터 자석(112M)과 상호 작용을 이루어, 제2 캐리지 유닛(122)을 이동시킬 수 있다. 제1 리니어 모터 코일(121C)은 제1 수평 이동 유닛(121M)에 연결될 수 있다.The second linear motor coil (122C) can interact with the linear motor magnet (112M) of the master module (110) to move the second carriage unit (122). The first linear motor coil (121C) can be connected to the first horizontal movement unit (121M).

한편 마스터 모듈(110)에 리니어 모터 코일이 마련되면, 캐리지 모듈(120)은 리니어 모터 자석이 구비될 수 있다. 즉, 리니어 모터 자석(111M, 112M)과 제1, 2 리니어 모터 코일(121C, 122C)은, 캐리지 모듈(120)의 상하 이동을 위한 다양한 구조 및 위치 변경이 가능하다.Meanwhile, when a linear motor coil is provided in the master module (110), the carriage module (120) can be equipped with a linear motor magnet. That is, the linear motor magnets (111M, 112M) and the first and second linear motor coils (121C, 122C) can have various structural and positional changes for the up and down movement of the carriage module (120).

제2 플레이트(122P)는, 선반으로 제공될 수 있으며, 제2 수평 이동 유닛(122M)과 제2 캐리지 로봇(122B)을 연결할 수 있다. 제2 플레이트(122P)는, 제2 수평 이동 유닛(122M)의 작동에 의해, 제2 캐리지 로봇(122B)과 함께 제2 방향(Y 방향)으로 이동할 수 있다.The second plate (122P) can be provided as a shelf and can connect the second horizontal movement unit (122M) and the second carriage robot (122B). The second plate (122P) can move in the second direction (Y direction) together with the second carriage robot (122B) by the operation of the second horizontal movement unit (122M).

예를 들어 제2 플레이트(122P)는 제1 플레이트(121P)와 동일하거나 유사하게 하나 이상 마련될 수 있어, 2개 구비될 수 있다. 따라서 하나의 제2 캐리지 유닛(122)은 2개 이상의 용기(F)를 동시에 반송 및 이적재할 수 있다.For example, one or more second plates (122P) may be provided that are identical or similar to the first plate (121P), so that two may be provided. Accordingly, one second carriage unit (122) can simultaneously transport and load two or more containers (F).

이에 따라, 1층(1F)에서 제1 캐리지 유닛(121)이 다수의 용기(F)의 이적재 작업을 이루면서, 3층(3F)에서 제2 캐리지 유닛(122)이 다수의 용기(F)의 이적재 작업을 이룰 수 있다.Accordingly, while the first carriage unit (121) on the first floor (1F) can perform the transfer operation of a plurality of containers (F), the second carriage unit (122) on the third floor (3F) can perform the transfer operation of a plurality of containers (F).

제2 캐리지 로봇(122B)은, 제2 플레이트(122P)를 매개로 제1 수평 이동 유닛(121M)에 연결될 수 있으며, 용기(F)를 핸들링할 수 있다. 제2 캐리지 로봇(122B)은 제2 플레이트(122P)의 상면에 설치될 수 있으며, 다관절 로봇암을 구비하여 방사방향으로 길이가 연장 및 회전될 수 있다.The second carriage robot (122B) can be connected to the first horizontal movement unit (121M) via the second plate (122P) and can handle the container (F). The second carriage robot (122B) can be installed on the upper surface of the second plate (122P) and has a multi-joint robot arm so that its length can be extended and rotated in the radial direction.

제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)은 상하 방향의 상대 위치가 변경되도록 서로 근접하는 방향으로 이동할 수 있다. 이때 이동 통로(U1, U2)를 공유하는 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)이 충돌하지 않도록, 제1 수평 이동 유닛(121M)과 제2 수평 이동 유닛(122M)이 작동될 수 있다. The first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) can move in a direction approaching each other so that their relative positions in the vertical direction are changed. At this time, the first horizontal movement unit (121M) and the second horizontal movement unit (122M) can be operated so that the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122), which share the movement passage (U1, U2), do not collide.

즉 제1 수평 이동 유닛(121M)과 제2 수평 이동 유닛(122M) 각각은, 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)이 동일한 높이에서 제1 캐리지 로봇(121B)과 제2 캐리지 로봇(122B)이 제2 방향(Y 방향)에서 이격되는 방향으로 작동될 수 있다.That is, each of the first horizontal movement unit (121M) and the second horizontal movement unit (122M) can be operated in a direction in which the first carriage robot (121B) and the second carriage robot (122B) are spaced apart in the second direction (Y direction) at the same height as the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122).

예시로 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122)은 비반송층(2F)에서 상하 위치가 변경되도록 서로 근접 이동할 수 있다. 이때 제1 수평 이동 유닛(121M)과 제2 수평 이동 유닛(122M) 각각은 비반송층(2F)에서 작동되어, 텔레스코픽의 길이가 연장될 수 있다(도 4 및 도 5 참조). 그리고 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122) 각각이, 비반송층(2F)을 지나면서 상하 위치의 변경이 완료되면 텔레스코픽의 길이가 복원되어 제1 캐리지 유닛(121)과 제2 캐리지 유닛(122) 각각의 위치가 원위치로 복귀될 수 있다(도 3 참조).For example, the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) can move close to each other so that their up-and-down positions are changed on the non-transport layer (2F). At this time, each of the first horizontal movement unit (121M) and the second horizontal movement unit (122M) is operated on the non-transport layer (2F), so that the length of the telescope can be extended (see FIGS. 4 and 5). Then, when each of the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) completes the change in the up-and-down position while passing through the non-transport layer (2F), the length of the telescope is restored, so that the positions of each of the first carriage unit (121) and the second carriage unit (122) can return to their original positions (see FIG. 3).

더불어 도면에 도시하지 않았으나, 반송층(1F, 3F)에는 포트 및/또는 자율주행 로봇 등과 같이 용기(F)의 반송을 위한 보조 수단/장치가 마련될 수 있다. 그리고 각층(1F, 3F)에는 부시가 마련되어 공간이 구획될 수도 있다.In addition, although not shown in the drawing, auxiliary means/devices for returning containers (F), such as ports and/or autonomous robots, may be provided on the return floors (1F, 3F). In addition, bushes may be provided on each floor (1F, 3F) to partition the space.

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the above and the attached drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical idea or essential characteristics thereof. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

100: 타워 리프트
110: 마스터 모듈
111: 제1 랙 마스터
112: 제2 랙 마스터
120: 캐리지 모듈100: Tower Lift
110: Master Module
111: 1st Rack Master
112: 2nd Rack Master
120: Carriage module

Claims (8)

상하 방향으로 마련되는 제1 랙 마스터;
상하 방향으로 마련되며, 상기 제1 랙 마스터와의 사이에 이동 통로가 형성되도록 상기 제1 랙 마스터와 이웃하여 위치되는 제2 랙 마스터;
상기 제1 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제1 캐리지 유닛; 및
상기 제2 랙 마스터를 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제2 캐리지 유닛을 포함하고,
상기 이동 통로는, 수평면의 제1 방향의 길이가 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛 각각의 제1 방향의 길이 합보다 작은 제1 길이를 가지고,
상기 제1 캐리지 유닛은, 물품을 핸들링하는 제1 캐리지 로봇과, 수평면에서 상기 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향으로 상기 제1 캐리지 로봇을 이동시키는 제1 수평 이동 유닛을 포함하고,
상기 제2 캐리지 유닛은, 상기 물품을 핸들링하는 제2 캐리지 로봇과, 상기 제2 방향에서 상기 제1 수평 이동 유닛과 반대 방향으로 상기 제2 캐리지 로봇을 이동시키는 제2 수평 이동 유닛을 포함하고,
상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛은 상하 방향의 상대 위치가 변경되도록 서로 근접하는 방향으로 이동하면,
상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각은, 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛의 충돌을 방지하도록, 상기 제1 캐리지 로봇과 상기 제2 캐리지 로봇이 상기 제2 방향에서 이격되는 방향으로 작동되고,
상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛은 상하 방향의 상대 위치가 변경되는, 타워 리프트.The first rack master is arranged in the vertical direction;
A second rack master positioned adjacent to the first rack master so that a passageway is formed between the first rack master and the second rack master, and is arranged in a vertical direction;
A first carriage unit moving along the moving passage along the first rack master; and
A second carriage unit is included that moves along the moving passage along the second rack master.
The above moving passage has a first length in a first direction of the horizontal plane that is less than the sum of the first direction lengths of each of the first carriage unit and the second carriage unit,
The first carriage unit includes a first carriage robot for handling an article, and a first horizontal movement unit for moving the first carriage robot in a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane.
The second carriage unit includes a second carriage robot for handling the article, and a second horizontal movement unit for moving the second carriage robot in the second direction in an opposite direction to the first horizontal movement unit,
When the first carriage unit and the second carriage unit move in a direction closer to each other so that their relative positions in the vertical direction change,
Each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit is operated in a direction in which the first carriage robot and the second carriage robot are separated from each other in the second direction so as to prevent a collision between the first carriage unit and the second carriage unit.
A tower lift in which the first carriage unit and the second carriage unit change their relative positions in the vertical direction. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 랙 마스터와 상기 제2 랙 마스터 각각은, 반도체 제조 라인에서 반송층과 비반송층을 가로지르며,
상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛은 상기 비반송층에서 상하 위치가 변경되며, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각은 상기 비반송층에서 작동되는, 타워 리프트.In the first paragraph,
Each of the above first rack master and the above second rack master crosses the return layer and the non-return layer in the semiconductor manufacturing line,
A tower lift, wherein the first carriage unit and the second carriage unit change their vertical positions in the non-conveying layer, and each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit operates in the non-conveying layer. 제4항에 있어서,
상기 이동 통로는, 상기 반송층에서 상기 제2 방향의 길이가 제2 길이를 가지고, 상기 비반송층에서 상기 제2 방향의 길이가 상기 제2 길이보다 길게 이루어진 제3 길이를 가져, 상기 비반송층에서 풋프린트(footprint)가 확장되는, 타워 리프트.In paragraph 4,
A tower lift, wherein the above-mentioned moving passage has a second length in the second direction in the above-mentioned transport layer, and a third length in the above-mentioned non-transport layer, the second length being longer than the second length, so that the footprint is expanded in the above-mentioned non-transport layer. 제1항에 있어서,
상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각은, 상기 제2 방향으로 길이가 연장되거나 복원되는 텔레스코픽을 포함하는, 타워 리프트.In the first paragraph,
A tower lift, wherein each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit includes a telescope whose length is extended or restored in the second direction. 제1항에 있어서,
상기 제1 캐리지 유닛은, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제1 캐리지 로봇을 연결하며, 상기 제1 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제1 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제1 플레이트를 더 포함하고,
상기 제2 캐리지 유닛은, 상기 제2 수평 이동 유닛과 상기 제2 캐리지 로봇을 연결하며, 상기 제2 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제2 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제2 플레이트를 더 포함하는, 타워 리프트.In the first paragraph,
The first carriage unit further includes a first plate that connects the first horizontal movement unit and the first carriage robot and moves in the second direction together with the first carriage robot by operation of the first horizontal movement unit.
A tower lift, wherein the second carriage unit further includes a second plate that connects the second horizontal movement unit and the second carriage robot and moves in the second direction together with the second carriage robot by operation of the second horizontal movement unit. 상하 방향으로 마련되며 한 쌍의 제1 레일이 구비되는 제1 랙 마스터;
상하 방향으로 마련되며, 상기 제1 랙 마스터와의 사이에 이동 통로가 형성되도록 상기 제1 랙 마스터와 이웃하여 위치되며, 한 쌍의 제2 레일이 구비되는 제2 랙 마스터;
상기 제1 랙 마스터에서 상기 제1 레일을 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제1 캐리지 유닛; 및
상기 제2 랙 마스터에서 상기 제2 레일을 따라 상기 이동 통로를 이동하는 제2 캐리지 유닛을 포함하고,
상기 이동 통로는, 수평면의 제1 방향의 길이가 상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛 각각의 제1 방향의 길이 합보다 작은 제1 길이를 가지고,
상기 제1 캐리지 유닛은, 기판을 포함하는 물품을 핸들링하는 제1 캐리지 로봇과, 수평면에서 상기 제1 방향과 직각을 이루는 제2 방향으로 상기 제1 캐리지 로봇을 이동시키는 제1 수평 이동 유닛과, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제1 캐리지 로봇을 연결하며 상기 제1 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제1 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제1 플레이트를 포함하고,
상기 제2 캐리지 유닛은, 상기 물품을 핸들링하는 제2 캐리지 로봇과, 상기 제2 방향에서 상기 제1 수평 이동 유닛과 반대 방향으로 상기 제2 캐리지 로봇을 이동시키는 제2 수평 이동 유닛과, 상기 제2 수평 이동 유닛과 상기 제2 캐리지 로봇을 연결하며 상기 제2 수평 이동 유닛의 작동에 의해 상기 제2 캐리지 로봇과 함께 상기 제2 방향으로 이동하는 제2 플레이트를 포함하며,
상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각은, 상기 제2 방향으로 길이가 연장되거나 복원되는 텔레스코픽을 포함하고,
상기 제1 랙 마스터와 상기 제2 랙 마스터 각각은, 반도체 제조 라인에서 반송층과 비반송층을 가로지르며,
상기 제1 캐리지 유닛과 상기 제2 캐리지 유닛은 상기 비반송층에서 상하 위치가 변경되도록, 상기 제1 수평 이동 유닛과 상기 제2 수평 이동 유닛 각각의 상기 텔레스코픽은 상기 비반송층에서 길이가 연장되는, 타워 리프트.
A first rack master arranged in a vertical direction and equipped with a pair of first rails;
A second rack master positioned adjacent to the first rack master so as to form a passageway between the first rack master and the first rack master, the second rack master being provided with a pair of second rails;
A first carriage unit moving along the first rail in the first rack master; and
Including a second carriage unit moving along the second rail in the second rack master,
The above moving passage has a first length in a first direction of the horizontal plane that is less than the sum of the first direction lengths of each of the first carriage unit and the second carriage unit,
The first carriage unit comprises a first carriage robot for handling an article including a substrate, a first horizontal movement unit for moving the first carriage robot in a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane, and a first plate for connecting the first horizontal movement unit and the first carriage robot and moving in the second direction together with the first carriage robot by operation of the first horizontal movement unit.
The second carriage unit includes a second carriage robot for handling the article, a second horizontal movement unit for moving the second carriage robot in the second direction in an opposite direction to the first horizontal movement unit, and a second plate for connecting the second horizontal movement unit and the second carriage robot and moving together with the second carriage robot in the second direction by operation of the second horizontal movement unit.
Each of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit includes a telescope whose length is extended or restored in the second direction,
Each of the above first rack master and the above second rack master crosses the return layer and the non-return layer in the semiconductor manufacturing line,
A tower lift, wherein the first carriage unit and the second carriage unit have telescopic bodies extending in the non-conveying layer so that the upper and lower positions of the first horizontal movement unit and the second horizontal movement unit change in the non-conveying layer.
KR1020230035553A 2023-03-20 2023-03-20 Tower lift Active KR102801887B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020230035553A KR102801887B1 (en) 2023-03-20 2023-03-20 Tower lift

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020230035553A KR102801887B1 (en) 2023-03-20 2023-03-20 Tower lift

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20240141348A KR20240141348A (en) 2024-09-27
KR102801887B1 true KR102801887B1 (en) 2025-04-28

Family

ID=92913107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020230035553A Active KR102801887B1 (en) 2023-03-20 2023-03-20 Tower lift

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102801887B1 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6531642B2 (en) * 2015-12-24 2019-06-19 株式会社ダイフク Goods transport equipment
JP7480635B2 (en) * 2020-08-21 2024-05-10 東京エレクトロン株式会社 Apparatus for transporting a substrate, system for processing a substrate, and method for processing a substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20240141348A (en) 2024-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102655164B1 (en) Transport vehicles and transport equipment
KR102041391B1 (en) Temporary storage system
CN112218806B (en) Storage system
US20110008136A1 (en) Reduced capacity carrier, transport load port, buffer system
KR20200033273A (en) Transport vehicle and transport equipment
KR20220160056A (en) Automated storage tower with multiple rows
NO344750B1 (en) Unloading arrangement and unloading station, as well as method of unloading an item from a storage container
US12103772B2 (en) Wafer storage system
JP2022023338A (en) Article storage facility
NO344619B1 (en) Storage system
US20080053754A1 (en) Automated warehouse and method for controlling stacker crane in automated warehouse
KR102801887B1 (en) Tower lift
CN117730043A (en) Overhead laboratory equipment transfer system
JP6861296B2 (en) Storage system with vertical transfer device
KR20260014643A (en) Warehouse picking systems and conveying systems
JP2010241547A (en) Traveling vehicle system
CN101356636B (en) Reduced capacity carrier, transport, load port, buffer system
CN116802131B (en) Flat storage equipment
CN116374459B (en) Warehousing systems and methods
CN120858063A (en) Pallet Switching Systems and Conveyors
TWM643077U (en) Compact warehouse device for rapid original position returning
KR102656725B1 (en) Interlayer transfer apparatus and physical distribution system including the same
US20230365331A1 (en) Apparatus for storing container in multiple stages and facility for transporting substrate
KR20230173839A (en) Ceiling storage system and control method thereof
TWI858638B (en) Miniature warehousing device capable of returning to original position quickly

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

D14-X000 Search report completed

St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000

PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

E13-X000 Pre-grant limitation requested

St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000