KR102765473B1 - Display device - Google Patents
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Abstract
일 실시예의 표시장치는 발광 소자 및 발광 소자 상에 배치되고, 발광 소자를 밀봉하는 봉지 부재를 포함하고, 봉지 부재는 발광 소자 상에 배치되고, 굴절률이 1.58 이상 1.64 이하인 제1 무기층, 제1 무기층 상에 배치되는 유기층 및 유기층 상에 배치되고, 굴절률이 1.58 이상 2.00 이하인 제2 무기층을 포함하여 효율이 향상되고, 신뢰성이 우수할 수 있다.A display device of one embodiment includes a light-emitting element and an encapsulating member disposed on the light-emitting element and sealing the light-emitting element, wherein the encapsulating member is disposed on the light-emitting element and includes a first inorganic layer having a refractive index of 1.58 or more and 1.64 or less, an organic layer disposed on the first inorganic layer, and a second inorganic layer disposed on the organic layer and having a refractive index of 1.58 or more and 2.00 or less, so that efficiency can be improved and reliability can be excellent.
Description
본 발명은 표시장치에 대한 발명으로, 보다 상세하게는 외부광에 의한 반사를 저감시키고 광 효율을 높이기 위해 컬러제어층 상에 배치되는 광학제어층을 포함하는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more specifically, to a display device including an optical control layer disposed on a color control layer to reduce reflection due to external light and increase light efficiency.
표시장치는 이미지를 표시하는 장치로서, 텔레비전, 휴대 전화, 태블릿 컴퓨터, 네비게이션, 게임기 등과 같은 멀티 미디어 장치에 사용되는 다양한 표시장치들이 개발되고 있다. 또한, 최근에는 광이용 효율을 증대시키고 컬러 밸런스를 개선한 자발광 형 표시장치에 대한 개발이 진행되고 있다.A display device is a device that displays images, and various display devices used in multimedia devices such as televisions, mobile phones, tablet computers, navigation devices, and game consoles are being developed. In addition, development of self-luminous display devices that increase light utilization efficiency and improve color balance is currently underway.
자발광 표시장치는 애노드, 발광층 및 캐소드로 구성되는 발광 소자를 포함한다. 발광층은 수분 또는 산소에 매우 취약하여 외부로부터 수분 또는 산소가 침투하는 경우, 발광층이 변질되어 다크 스팟(dark spot), 픽셀 수축(pixel shrinkage) 등과 같은 각종 불량이 발생할 수 있다는 문제가 있으며, 이러한 문제를 개선하기 위하여 발광 소자를 보호하기 위한 봉지부가 사용되고 있다.A self-luminous display device includes a light-emitting element composed of an anode, a light-emitting layer, and a cathode. The light-emitting layer is very vulnerable to moisture or oxygen, and if moisture or oxygen penetrates from the outside, the light-emitting layer may deteriorate, causing various defects such as dark spots and pixel shrinkage. To improve this problem, a sealing part is used to protect the light-emitting element.
본 발명은 효율이 개선된 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention aims to provide a display device with improved efficiency.
또한, 본 발명은 외부에서 진입하는 산소 또는 수분 등의 이물을 차단하고, 신뢰성이 향상된 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, the present invention aims to provide a display device that blocks foreign substances such as oxygen or moisture from entering from the outside and has improved reliability.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 발광 소자 및 발광 소자 상에 배치되고, 발광 소자를 밀봉하는 봉지 부재를 포함하고, 봉지 부재는 발광 소자 상에 배치되고, 굴절률이 1.58 이상 1.64 이하인 제1 무기층, 제1 무기층 상에 배치되는 유기층 및 유기층 상에 배치되고, 굴절률이 1.58 이상 2.00 이하인 제2 무기층을 포함한다. A display device according to one embodiment of the present invention includes a light-emitting element and a sealing member disposed on the light-emitting element and sealing the light-emitting element, wherein the sealing member is disposed on the light-emitting element and includes a first inorganic layer having a refractive index of 1.58 or more and 1.64 or less, an organic layer disposed on the first inorganic layer, and a second inorganic layer disposed on the organic layer and having a refractive index of 1.58 or more and 2.00 or less.
제1 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 1.5 μm 이하일 수 있다. The thickness of the first weapon layer may be 0.5 μm or more and 1.5 μm or less.
제1 무기층은 질산화 실리콘, 질화 실리콘 및 산화 실리콘 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The first inorganic layer may include at least one of silicon nitride, silicon nitride, and silicon oxide.
제2 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 1.5 μm 이하일 수 있다. The thickness of the second weapon layer may be 0.5 μm or more and 1.5 μm or less.
제2 무기층은 굴절률이 서로 다른 2 이상의 서브 무기층들을 포함할 수 있다. The second inorganic layer may include two or more sub-inorganic layers having different refractive indices.
제2 무기층은 굴절률이 1.58 이상 1.64 이하인 제1 서브 무기층 및 굴절률이 1.80 이상 2.00 이하인 제2 서브 무기층을 포함할 수 있다. The second inorganic layer may include a first sub-inorganic layer having a refractive index of 1.58 or more and 1.64 or less and a second sub-inorganic layer having a refractive index of 1.80 or more and 2.00 or less.
제1 서브 무기층의 두께와 제2 서브 무기층의 두께비는 3:1 내지 5:1일 수 있다. The thickness ratio of the first sub-weapon layer to the second sub-weapon layer can be 3:1 to 5:1.
제1 서브 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 0.6 μm 이하일 수 있다. The thickness of the first sub-weapon layer may be 0.5 μm or more and 0.6 μm or less.
제2 서브 무기층의 두께는 0.1 μm 이상 0.2 μm 이하일 수 있다. The thickness of the second sub-weapon layer may be 0.1 μm or more and 0.2 μm or less.
제1 서브 무기층은 질산화 실리콘 또는 산화 실리콘을 포함할 수 있다. The first sub-layer may comprise silicon nitride or silicon oxide.
제2 서브 무기층은 질화 실리콘, 산화 알루미늄, 및 산화 티타늄 중 어느 하나를 포함할 수 있다. The second sub-weapon layer may include any one of silicon nitride, aluminum oxide, and titanium oxide.
제2 서브 무기층은 봉지 부재의 최상부에 배치될 수 있다.A second sub-weapon layer may be placed on the top of the bag member.
제2 무기층은 Si-O 결합을 비포함하는 질화 실리콘을 포함하고, 0.15 μm 이상 0.25 μm 이하의 두께를 가질 수 있다.The second inorganic layer may include silicon nitride that does not include Si-O bonds and may have a thickness of 0.15 μm or more and 0.25 μm or less.
제2 무기층의 수소 함량은 2.8 X 1022 atom/cm3 이하일 수 있다.The hydrogen content of the second weapon layer can be less than or equal to 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 .
제2 무기층 전체에 있어서 질소 대 실리콘의 몰비율은 1 이상 1.3 이하일 수 있다.The molar ratio of nitrogen to silicon throughout the second inorganic layer may be 1 or more and 1.3 or less.
제2 무기층의 밀도는 2.3g/cm3 이상 2.6 g/cm3 이하일 수 있다.The density of the second weapon layer may be greater than or equal to 2.3 g/cm 3 and less than or equal to 2.6 g/cm 3 .
발광 소자는 제1 전극, 제1 전극 상에 배치된 제2 전극, 및 제1 전극 및 제2 전극 사이에 배치된 중간층을 포함할 수 있다. 중간층은 유기 발광 물질 및 양자점 발광 물질 중 적어도 하나를 포함하는 발광층을 포함할 수 있다.The light-emitting element may include a first electrode, a second electrode disposed on the first electrode, and an intermediate layer disposed between the first electrode and the second electrode. The intermediate layer may include an emissive layer including at least one of an organic light-emitting material and a quantum dot light-emitting material.
표시장치는 발광 소자 및 봉지 부재 사이에 배치되는 캡핑층을 더 포함할 수 있다. The display device may further include a capping layer disposed between the light emitting element and the encapsulating member.
표시장치는 캡핑층과 봉지 부재 사이에 배치되고, 굴절률이 1.3 이상 1.4이하인 커버층을 더 포함할 수 있다. The display device may further include a cover layer disposed between the capping layer and the sealing member and having a refractive index of 1.3 or more and 1.4 or less.
표시장치는 봉지 부재 상에 배치되고, 양자점을 포함하는 색변환층을 더 포함할 수 있다.The display device is disposed on the encapsulating member and may further include a color conversion layer including quantum dots.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 발광 소자, 발광 소자 상에 배치되고, 제1 두께를 갖는 제1 무기층, 제1 무기층 상에 배치되는 유기층 및 유기층 상에 배치되는 제2 무기층을 포함할 수 있다. 제2 무기층은 제1 두께보다 작은 제2 두께를 갖는 제1 서브 무기층 및 제1 서브 무기층 상에 배치되고 제2 두께보다 작은 제3 두께를 갖는 제2 서브 무기층을 포함할 수 있다.A display device according to one embodiment of the present invention may include a light-emitting element, a first inorganic layer disposed on the light-emitting element and having a first thickness, an organic layer disposed on the first inorganic layer, and a second inorganic layer disposed on the organic layer. The second inorganic layer may include a first sub-inorganic layer having a second thickness smaller than the first thickness, and a second sub-inorganic layer disposed on the first sub-inorganic layer and having a third thickness smaller than the second thickness.
제2 두께와 제3 두께의 비는 3:1 내지 5:1일 수 있다.The ratio of the second thickness to the third thickness can be 3:1 to 5:1.
제1 무기층은 제1 굴절률을 갖고, 제1 서브 무기층은 제2 굴절률을 갖고, 제2 서브 무기층은 제1 굴절률 및 제2 굴절률보다 큰 제3 굴절률을 가질 수 있다. 제1 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하일 수 있고, 제2 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하이고, 제3 굴절률은 1.80 이상 2.00 이하일 수 있다. The first inorganic layer may have a first refractive index, the first sub-inorganic layer may have a second refractive index, and the second sub-inorganic layer may have a third refractive index greater than the first and second refractive indices. The first refractive index may be 1.58 or more and 1.64 or less, the second refractive index may be 1.58 or more and 1.64 or less, and the third refractive index may be 1.80 or more and 2.00 or less.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 발광 소자, 및 봉지 부재를 포함할 수 있다. 봉지 부재는 발광 소자 상에 배치되고, 발광 소자를 밀봉할 수 있다.A display device according to one embodiment of the present invention may include a light-emitting element and a sealing member. The sealing member is disposed on the light-emitting element and may seal the light-emitting element.
봉지 부재는 제1 무기층, 제1 무기층 상에 배치되는 유기층, 및 유기층 상에 배치되는 제2 무기층을 포함할 수 있다. 제2 무기층은 Si-O 결합을 비포함하는 질화 실리콘을 포함하고, 0.15 μm 이상 0.25 μm 이하의 두께를 가질 수 있다. 제2 무기층은 제2 무기층 전체를 기준으로 1 이상 1.3 이하의 질소 대 실리콘의 몰비율을 가지며, 2.8 X 1022 atom/cm3 이하의 수소 함량을 가질 수 있다.The encapsulating member may include a first inorganic layer, an organic layer disposed on the first inorganic layer, and a second inorganic layer disposed on the organic layer. The second inorganic layer may include silicon nitride that does not include a Si—O bond, and may have a thickness of 0.15 μm or more and 0.25 μm or less. The second inorganic layer may have a molar ratio of nitrogen to silicon of 1 or more and 1.3 or less based on the entirety of the second inorganic layer, and may have a hydrogen content of 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 or less.
제2 무기층의 밀도는 2.3g/cm3 이상 2.6 g/cm3 이하일 수 있다. 제1 무기층의 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하이고, 상기 제2 무기층의 굴절률은 1.58 이상 2.00 이하일 수 있다.The density of the second inorganic layer may be 2.3 g/cm 3 or more and 2.6 g/cm 3 or less. The refractive index of the first inorganic layer may be 1.58 or more and 1.64 or less, and the refractive index of the second inorganic layer may be 1.58 or more and 2.00 or less.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치에 따르면, 효율이 향상된 표시장치를 제공할 수 있다.According to a display device according to one embodiment of the present invention, a display device with improved efficiency can be provided.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치에 따르면, 외부에서 진입하는 산소 또는 수분 등의 이물을 효과적으로 차단하고, 표시장치의 신뢰성이 향상될 수 있다.According to a display device according to one embodiment of the present invention, foreign substances such as oxygen or moisture entering from the outside can be effectively blocked, and the reliability of the display device can be improved.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 결합 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치에 포함되는 화소들 중 하나의 회로도이다.
도 3은 도 1b의 I-I'선에 대응하는 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 4b 는 청색 발광층을 포함하는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치 및 비교예 표시장치의 효율을 도시한 그래프이다.
도 4c는 백색 발광층을 포함하는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치 및 비교예 표시장치의 효율을 도시한 그래프이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치 및 비교예 표시장치의 효율을 도시한 그래프이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.FIG. 1a is a perspective view of a combined display device according to one embodiment of the present invention.
FIG. 1b is an exploded perspective view of a display device according to one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram of one of the pixels included in a display device according to one embodiment of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view corresponding to line I-I' of Figure 1b.
FIG. 4a is a cross-sectional view of a display device according to one embodiment of the present invention.
FIG. 4b is a graph showing the efficiency of a display device according to one embodiment of the present invention including a blue light-emitting layer and a comparative example display device.
FIG. 4c is a graph showing the efficiency of a display device according to one embodiment of the present invention including a white light-emitting layer and a comparative example display device.
FIG. 5a is a cross-sectional view of a display device according to one embodiment of the present invention.
FIG. 5b is a graph showing the efficiency of a display device according to one embodiment of the present invention and a comparative example display device.
FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views of a display device according to one embodiment of the present invention.
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views of a display device according to one embodiment of the present invention.
본 명세서에서, 어떤 구성요소(또는 영역, 층, 부분 등)가 다른 구성요소 “상에 있다”, “연결 된다”, 또는 “결합된다”고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 배치/연결/결합될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 구성요소가 배치될 수도 있다는 것을 의미한다. In this specification, when a component (or region, layer, portion, etc.) is referred to as being “on,” “connected to,” or “coupled to” another component, it means that it can be directly disposed/connected/coupled to the other component, or that a third component may be disposed between them.
한편, "직접 배치"된다는 것은 층, 막, 영역, 판 등의 부분과 다른 부분 사이에 추가되는 층, 막, 영역, 판 등이 없는 것을 의미하는 것일 수 있다. 예를 들어, "직접 배치"된다는 것은 두 개의 층 또는 두 개의 부재들 사이에 접착 부재 등의 추가 부재를 사용하지 않고 배치하는 것을 의미하는 것일 수 있다. Meanwhile, "directly placed" may mean that there are no additional layers, films, regions, plates, etc., between one part, such as a layer, film, region, or plate, and another part. For example, "directly placed" may mean placing two layers or two parts without using an additional part, such as an adhesive material, between them.
동일한 도면부호는 동일한 구성요소를 지칭한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께, 비율, 및 치수는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.Identical drawing symbols refer to identical components. Also, in the drawings, the thicknesses, proportions, and dimensions of components are exaggerated for the purpose of effectively explaining the technical contents.
“및/또는”은 연관된 구성들이 정의할 수 있는 하나 이상의 조합을 모두 포함한다.“And/or” includes any combination of one or more of the associated constructs that can be defined.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are only used to distinguish one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly indicates otherwise.
또한, “아래에”, “하측에”, “위에”, “상측에” 등의 용어는 도면에 도시된 구성들의 연관관계를 설명하기 위해 사용된다. 상기 용어들은 상대적인 개념으로, 도면에 표시된 방향을 기준으로 설명된다.Additionally, terms such as “below,” “lower,” “above,” and “upper,” are used to describe the relationships between components depicted in the drawings. These terms are relative concepts and are described based on the directions indicated in the drawings.
다르게 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 용어 (기술 용어 및 과학 용어 포함)는 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에서 정의된 용어와 같은 용어는 관련 기술의 맥락에서 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하고, 이상적인 또는 지나치게 형식적인 의미로 해석되지 않는 한, 명시적으로 여기에서 정의됩니다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. In addition, terms that are defined in commonly used dictionaries, such as terms, should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the relevant art, and are explicitly defined herein, unless they are interpreted in an idealized or overly formal sense.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. It should be understood that the terms "include" or "have" are intended to specify the presence of a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but do not exclude in advance the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 결합 사시도이다. 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 분해 사시도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치에 포함되는 화소들 중 하나의 회로도이다. FIG. 1A is a perspective view of a display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is an exploded perspective view of a display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram of one of the pixels included in a display device according to an embodiment of the present invention.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD)는 베이스 부재(BS), 베이스 부재(BS) 상에 배치된 표시층(DL) 및 표시층(DL) 상에 배치된 봉지 부재(EN)을 포함한다.Referring to FIGS. 1A and 1B, a display device (DD) according to one embodiment of the present invention includes a base member (BS), a display layer (DL) disposed on the base member (BS), and an encapsulation member (EN) disposed on the display layer (DL).
일 실시예에서 평면형 표시면을 구비한 표시장치(DD)를 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 표시장치(DD)는 곡면형 표시면 또는 입체형 표시면을 포함할 수도 있다. 입체형 표시면은 서로 다른 방향을 지시하는 복수 개의 표시영역들을 포함하고, 예컨대, 다각 기둥형 표시면을 포함할 수도 있다. In one embodiment, a display device (DD) having a flat display surface is illustrated, but is not limited thereto. The display device (DD) may include a curved display surface or a three-dimensional display surface. The three-dimensional display surface may include a plurality of display areas indicating different directions, and may include, for example, a polygonal columnar display surface.
일 실시예에 따른 표시장치(DD)는 리지드 표시장치일 수 있고, 또는 플렉서블 표시장치일 수 있다. 표시장치(DD)가 플렉서블 표시장치인 경우, 폴더플 표시장치일 수 있다.The display device (DD) according to one embodiment may be a rigid display device or a flexible display device. If the display device (DD) is a flexible display device, it may be a foldable display device.
표시장치(DD)는 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)을 포함한다. 표시영역(DA)은 영상을 표시한다. 표시장치(DD)의 두께 방향에서 보았을 때, 표시영역(DA)은 대략적으로 직사각형 형상을 갖는 것일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The display device (DD) includes a display area (DA) and a non-display area (NDA). The display area (DA) displays an image. When viewed in the thickness direction of the display device (DD), the display area (DA) may have an approximately rectangular shape, but is not limited thereto.
표시영역(DA)은 복수의 화소 영역들(PX-B, PX-G, PX-R)을 포함한다. 화소 영역들(PX-B, PX-G, PX-R)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 화소 영역들(PX-B, PX-G, PX-R)은 화소 정의막(PDL; 도 3 참조)에 의해 정의될 수 있다. 화소 영역들(PX-B, PX-G, PX-R)은 각각에는 화소(PX; 도 2 참조)가 배치될 수 있다. 화소들 각각은 발광 소자(ED; 도 2 참조)를 포함한다. 본 발명에서 화소는 발광형 화소일 수 있고, 또는 투과형 화소일 수 있다. The display area (DA) includes a plurality of pixel areas (PX-B, PX-G, PX-R). The pixel areas (PX-B, PX-G, PX-R) can be arranged in a matrix form. The pixel areas (PX-B, PX-G, PX-R) can be defined by a pixel defining layer (PDL; see FIG. 3). A pixel (PX; see FIG. 2) can be arranged in each of the pixel areas (PX-B, PX-G, PX-R). Each of the pixels includes a light-emitting element (ED; see FIG. 2). In the present invention, the pixel can be an emissive pixel or a transmissive pixel.
표시장치(DD)는 서로 다른 파장의 광을 방출하는 제1 화소 영역, 제2 화소 영역 및 제3 화소 영역을 포함할 수 있다. 도 1b에 도시된 일 실시예에서 제1 화소 영역은 청색 화소 영역(PX-B), 제2 화소 영역은 녹색 화소 영역(PX-G), 제3 화소 영역은 적색 화소 영역(PX-R)일 수 있다. 즉, 일 실시예에서, 표시장치(DD)은 청색 화소 영역(PX-B), 녹색 화소 영역(PX-G), 및 적색 화소 영역(PX-R)을 포함하는 것일 수 있다. 청색 화소 영역(PX-B)은 청색광을 방출하는 청색 발광 영역이고, 녹색 화소 영역(PX-G)과 적색 화소 영역(PX-R)은 각각 녹색 발광 영역 및 적색 발광 영역을 나타내는 것이다.The display device (DD) may include a first pixel region, a second pixel region, and a third pixel region that emit light of different wavelengths. In one embodiment illustrated in FIG. 1B, the first pixel region may be a blue pixel region (PX-B), the second pixel region may be a green pixel region (PX-G), and the third pixel region may be a red pixel region (PX-R). That is, in one embodiment, the display device (DD) may include a blue pixel region (PX-B), a green pixel region (PX-G), and a red pixel region (PX-R). The blue pixel region (PX-B) is a blue light-emitting region that emits blue light, and the green pixel region (PX-G) and the red pixel region (PX-R) represent a green light-emitting region and a red light-emitting region, respectively.
비표시영역(NDA)은 영상을 표시하지 않는다. 표시장치(DD)의 두께 방향(DR3)에서 보았을 때, 비표시영역(NDA)은 예를 들어, 표시영역(DA)을 둘러싸는 것일 수 있다. 비표시영역(NDA)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)으로 표시영역(DA)과 인접할 수 있다.The non-display area (NDA) does not display an image. When viewed in the thickness direction (DR3) of the display device (DD), the non-display area (NDA) may, for example, surround the display area (DA). The non-display area (NDA) may be adjacent to the display area (DA) in the first direction (DR1) and the second direction (DR2).
도 2를 참조하면, 화소들(PX) 각각은 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DAL) 및 구동 전압 라인(DVL)으로 이루어진 배선부와 연결될 수 있다. 화소들(PX) 각각은 배선부에 연결된 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2), 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 연결된 발광 소자(ED) 및 커패시터(Cst)를 포함한다.Referring to FIG. 2, each of the pixels (PX) can be connected to a wiring section consisting of a gate line (GL), a data line (DAL), and a driving voltage line (DVL). Each of the pixels (PX) includes a thin film transistor (TFT1, TFT2) connected to the wiring section, a light emitting element (ED) connected to the thin film transistor (TFT1, TFT2), and a capacitor (Cst).
게이트 라인(GL)은 제1 방향(DR1)으로 연장된다. 데이터 라인(DAL)은 게이트 라인(GL)과 교차하는 제2 방향(DR2)으로 연장된다. 구동 전압 라인(DVL)은 데이터 라인(DAL)과 실질적으로 동일한 방향, 즉 제2 방향(DR2)으로 연장된다. 게이트 라인(GL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 주사 신호를 전달하고, 데이터 라인(DAL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 데이터 신호를 전달하며, 구동 전압 라인(DVL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 구동 전압을 제공한다.A gate line (GL) extends in a first direction (DR1). A data line (DAL) extends in a second direction (DR2) intersecting the gate line (GL). A driving voltage line (DVL) extends in substantially the same direction as the data line (DAL), i.e., in the second direction (DR2). The gate line (GL) transmits a scan signal to the thin film transistors (TFT1, TFT2), the data line (DAL) transmits a data signal to the thin film transistors (TFT1, TFT2), and the driving voltage line (DVL) provides a driving voltage to the thin film transistors (TFT1, TFT2).
박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)는 발광 소자(ED)를 제어하기 위한 구동 박막 트랜지스터(TFT2)와, 구동 박막 트랜지스터(TFT2)를 스위칭 하는 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)를 포함할 수 있다. 본 발명이 일 실시예에서는 화소들(PX) 각각이 두 개의 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)를 포함하는 것을 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니고, 화소들(PX) 각각이 하나의 박막 트랜지스터와 커패시터를 포함할 수도 있고, 화소들(PX) 각각이 셋 이상의 박막 트랜지스터와 둘 이상의 커패시터를 구비할 수도 있다.The thin film transistors (TFT1, TFT2) may include a driving thin film transistor (TFT2) for controlling the light emitting element (ED), and a switching thin film transistor (TFT1) for switching the driving thin film transistor (TFT2). In one embodiment of the present invention, each of the pixels (PX) includes two thin film transistors (TFT1, TFT2), but is not limited thereto, and each of the pixels (PX) may include one thin film transistor and a capacitor, or each of the pixels (PX) may have three or more thin film transistors and two or more capacitors.
구체적으로 도시하지는 않았으나, 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)는 제1 게이트 전극, 제1 소스 전극 및 제1 드레인 전극을 포함한다. 제1 게이트 전극은 게이트 라인(GL)에 연결되며, 제1 소스 전극은 데이터 라인(DAL)에 연결된다. 제1 드레인 전극은 콘택홀에 의해 제1 공통 전극과 연결된다. 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)는 게이트 라인(GL)에 인가되는 주사 신호에 따라 데이터 라인(DAL)에 인가되는 데이터 신호를 구동 박막 트랜지스터(TFT2)에 전달한다.Although not specifically illustrated, the switching thin film transistor (TFT1) includes a first gate electrode, a first source electrode, and a first drain electrode. The first gate electrode is connected to a gate line (GL), and the first source electrode is connected to a data line (DAL). The first drain electrode is connected to a first common electrode via a contact hole. The switching thin film transistor (TFT1) transmits a data signal applied to the data line (DAL) to the driving thin film transistor (TFT2) according to a scan signal applied to the gate line (GL).
발광 소자(ED)는 구동 박막 트랜지스터(TFT2)에 연결된 제1 전극 및 제2 전원전압을 수신하는 제2 전극을 포함한다. 발광 소자(ED)는 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 발광 패턴을 포함할 수 있다. The light emitting element (ED) includes a first electrode connected to a driving thin film transistor (TFT2) and a second electrode receiving a second power supply voltage. The light emitting element (ED) may include a light emitting pattern disposed between the first electrode and the second electrode.
발광 소자(ED)는 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 턴-온 구간동안 발광된다. 발광 소자(ED)에서 생성된 광의 컬러는 발광 패턴을 이루는 물질에 의해 결정된다. 예컨대, 발광 소자(ED)에서 생성된 광의 컬러는 적색, 녹색, 청색, 백색 중 어느 하나일 수 있다.The light-emitting element (ED) emits light during the turn-on period of the driving thin film transistor (TFT2). The color of the light generated from the light-emitting element (ED) is determined by the material forming the light-emitting pattern. For example, the color of the light generated from the light-emitting element (ED) can be any one of red, green, blue, and white.
다시 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 봉지 부재(EN)는 베이스 부재(BS) 및 표시층(DL) 상에 배치된다. 봉지 부재(EN)는 표시층(DL)을 커버한다. 봉지 부재(EN)는 외부 산소, 수분 및 오염 물질로부터 표시층(DL)을 보호한다. 봉지 부재(EN)에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.Referring again to FIGS. 1a and 1b, the encapsulating member (EN) is disposed on the base member (BS) and the display layer (DL). The encapsulating member (EN) covers the display layer (DL). The encapsulating member (EN) protects the display layer (DL) from external oxygen, moisture, and contaminants. A detailed description of the encapsulating member (EN) will be described later.
도 3은 도 1b의 I-I'선에 대응하는 단면도이다. Figure 3 is a cross-sectional view corresponding to line I-I' of Figure 1b.
도 3을 참조하면, 표시장치(DD)는 베이스 부재(BS), 표시층(DL), 캡핑층(CAL), 커버층(COL) 및 봉지 부재(EN)를 포함한다. 베이스 부재(BS)는 베이스층(SUB), 버퍼층(BFL) 및 박막 트랜지스터(TFT) 등을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 3, the display device (DD) includes a base member (BS), a display layer (DL), a capping layer (CAL), a cover layer (COL), and an encapsulating member (EN). The base member (BS) may include a base layer (SUB), a buffer layer (BFL), and a thin film transistor (TFT).
베이스층(SUB)은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 유리, 플라스틱, 수정 등의 절연성 물질로 형성될 수 있다. 베이스층(SUB)을 이루는 유기 고분자로는 PET(Polyethylene terephthalate), PEN(Polyethylene naphthalate), 폴리이미드(Polyimide), 폴리에테르술폰(Polyethersulfone) 등을 들 수 있다. 베이스층(SUB)은 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급 용이성, 방수성 등을 고려하여 선택될 수 있다.The base layer (SUB) is not particularly limited as long as it is commonly used, but may be formed of an insulating material such as glass, plastic, or crystal. Organic polymers forming the base layer (SUB) include PET (Polyethylene terephthalate), PEN (Polyethylene naphthalate), polyimide, and polyethersulfone. The base layer (SUB) may be selected in consideration of mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofing.
베이스층(SUB) 상에는 기능층이 배치될 수 있다. 도 3에서는 기능층으로 버퍼층(BFL)이 배치된 것을 예시적으로 도시하였으나, 기능층은 배리어층을 포함할 수도 있다. 버퍼층(BFL)은 베이스 부재(BS)와 표시층(DL)의 결합력을 향상시키는 기능을 하고, 배리어층은 표시층(DL)에 이물질이 유입되는 것을 방지하는 기능을 할 수 있다.A functional layer may be arranged on the base layer (SUB). In Fig. 3, a buffer layer (BFL) is illustrated as an example of being arranged as the functional layer, but the functional layer may also include a barrier layer. The buffer layer (BFL) may have a function of improving the bonding strength between the base member (BS) and the display layer (DL), and the barrier layer may have a function of preventing foreign substances from entering the display layer (DL).
버퍼층(BFL) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)가 배치될 수 있다. 박막 트랜지스터(TFT)는 발광 소자(ED)를 제어하기 위한 구동 박막 트랜지스터와, 구동 박막 트랜지스터를 스위칭 하는 스위칭 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다.A thin film transistor (TFT) may be arranged on the buffer layer (BFL). The thin film transistor (TFT) may include a driving thin film transistor for controlling the light emitting element (ED) and a switching thin film transistor for switching the driving thin film transistor.
박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층(SM), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함할 수 있다. 반도체층(SM)은 반도체 소재로 형성되며, 박막 트랜지스터(TFT)의 활성층으로 동작한다. 반도체층(SM)은 각각 무기 반도체 또는 유기 반도체로부터 선택되어 형성될 수 있다.A thin film transistor (TFT) may include a semiconductor layer (SM), a gate electrode (GE), a source electrode (SE), and a drain electrode (DE). The semiconductor layer (SM) is formed of a semiconductor material and acts as an active layer of the thin film transistor (TFT). The semiconductor layer (SM) may be formed by selecting from an inorganic semiconductor or an organic semiconductor, respectively.
반도체층(SM) 상에는 게이트 절연층(GI)이 제공된다. 게이트 절연층(GI)은 반도체층(SM)을 커버한다. 게이트 절연층(GI)은 유기 절연물 및 무기 절연물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.A gate insulating layer (GI) is provided on the semiconductor layer (SM). The gate insulating layer (GI) covers the semiconductor layer (SM). The gate insulating layer (GI) may include at least one of an organic insulating material and an inorganic insulating material.
게이트 절연층(GI) 상에는 게이트 전극(GE)이 제공된다. 게이트 전극(GE)은 반도체층(SM)의 채널 영역에 대응되는 영역을 커버하도록 형성될 수 있다.A gate electrode (GE) is provided on the gate insulating layer (GI). The gate electrode (GE) can be formed to cover an area corresponding to a channel area of the semiconductor layer (SM).
층간 절연층(IL)의 상에는 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)이 제공된다. 드레인 전극(DE)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 콘택홀에 의해 반도체층(SM)의 드레인 영역과 접촉하고, 소스 전극(SE)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 콘택홀에 의해 반도체층(SM)의 소스 영역과 접촉할 수 있다.A source electrode (SE) and a drain electrode (DE) are provided on an interlayer insulating layer (IL). The drain electrode (DE) can be in contact with a drain region of the semiconductor layer (SM) through a contact hole formed in the gate insulating layer (GI) and the interlayer insulating layer (IL), and the source electrode (SE) can be in contact with a source region of the semiconductor layer (SM) through a contact hole formed in the gate insulating layer (GI) and the interlayer insulating layer (IL).
소스 전극(SE), 드레인 전극(DE) 및 층간 절연층(IL) 상에는 패시베이션층(PL)이 제공된다. 패시베이션층(PL)은 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 그 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다.A passivation layer (PL) is provided on the source electrode (SE), the drain electrode (DE), and the interlayer insulating layer (IL). The passivation layer (PL) may function as a protective film that protects the thin film transistor (TFT) or may function as a planarizing film that planarizes the upper surface thereof.
표시층(DL)은 발광 소자(ED) 및 화소 정의막(PDL)을 포함할 수 있다.The display layer (DL) may include a light emitting element (ED) and a pixel defining layer (PDL).
패시베이션층(PL) 상에는 발광 소자(ED)가 제공된다. 발광 소자(ED)는 제1 전극(EL1), 제1 전극(EL1) 상에 배치된 제2 전극(EL2) 및 제1 전극(EL1) 및 제2 전극(EL2) 사이에 배치되는 중간층(CL)을 포함한다. 발광 소자(ED)는 전면 발광형일 수 있다. 다만, 이에 의하여 한정되는 것은 아니며, 발광 소자(ED)는 배면 발광형일 수도 있다.A light-emitting element (ED) is provided on a passivation layer (PL). The light-emitting element (ED) includes a first electrode (EL1), a second electrode (EL2) disposed on the first electrode (EL1), and an intermediate layer (CL) disposed between the first electrode (EL1) and the second electrode (EL2). The light-emitting element (ED) may be a front-emitting type. However, the present invention is not limited thereto, and the light-emitting element (ED) may be a back-emitting type.
제1 전극(EL1)은 화소 전극 또는 양극일 수 있다. 제1 전극(EL1)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다. 제1 전극(EL1)이 투과형 전극인 경우, 제1 전극(EL1)은 투명 금속 산화물, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide) 또는 ITZO(indium tin zinc oxide)를 포함할 수 있다. 제1 전극(EL1)이 반투과형 전극 또는 반사형 전극인 경우, 제1 전극(EL1)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 또는 금속의 혼합물을 포함할 수 있다.The first electrode (EL1) may be a pixel electrode or an anode. The first electrode (EL1) may be a transmissive electrode, a semi-transmissive electrode, or a reflective electrode. When the first electrode (EL1) is a transmissive electrode, the first electrode (EL1) may include a transparent metal oxide, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), or indium tin zinc oxide (ITZO). When the first electrode (EL1) is a semi-transmissive electrode or a reflective electrode, the first electrode (EL1) may include Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, or a mixture of metals.
제2 전극(EL2)은 공통 전극 또는 음극일 수 있다. 제2 전극(EL2)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다. 제2 전극(EL2)이 투과형 전극인 경우, 제2 전극(EL2)은 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg, BaF, Ba, Ag 또는 이들의 화합물이나 혼합물(예를 들어, Ag와 Mg의 혼합물)을 포함할 수 있다. 다만, 이에 의하여 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide) 또는 ITZO(indium tin zinc oxide)를 포함하는 것일 수도 있다. 제2 전극(EL2)이 반투과형 전극 또는 반사형 전극인 경우, 제2 전극(EL2)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Mo, Ti 또는 이들의 화합물이나 혼합물(예를 들어, Ag와 Mg의 혼합물)을 포함할 수 있다. 또는 상기 물질로 형성된 반사막이나 반투과막 및 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 등으로 형성된 투명 도전막을 포함하는 복수의 층 구조일 수 있다.The second electrode (EL2) may be a common electrode or a cathode. The second electrode (EL2) may be a transmissive electrode, a semi-transmissive electrode or a reflective electrode. When the second electrode (EL2) is a transmissive electrode, the second electrode (EL2) may include Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg, BaF, Ba, Ag or a compound or mixture thereof (for example, a mixture of Ag and Mg). However, the present invention is not limited thereto, and may include, for example, ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO (zinc oxide) or ITZO (indium tin zinc oxide). When the second electrode (EL2) is a semi-transmissive electrode or a reflective electrode, the second electrode (EL2) may include Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Mo, Ti, or a compound or mixture thereof (for example, a mixture of Ag and Mg). Or, it may have a multi-layer structure including a reflective film or a semi-transmissive film formed of the above materials and a transparent conductive film formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium tin zinc oxide (ITZO), or the like.
제1 전극(EL1) 상에는 화소 정의막(PDL)이 배치될 수 있다. 구체적으로, 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(EL1)의 일부를 커버하고, 다른 일부를 노출시킬 수 있다. 이에 한정하는 것은 아니나, 화소 정의막(PDL)은 금속-불소 이온 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 화소 정의막(PDL)은 LiF, BaF2, 및 CsF 중 어느 하나의 금속-불소 이온 화합물로 구성될 수 있다. 금속-불소 이온 화합물은 소정의 두께를 가질 경우, 절연 특성을 갖는다.A pixel defining layer (PDL) may be arranged on the first electrode (EL1). Specifically, the pixel defining layer (PDL) may cover a part of the first electrode (EL1) and expose another part. Although not limited thereto, the pixel defining layer (PDL) may include a metal-fluorine ion compound. For example, the pixel defining layer (PDL) may be composed of a metal-fluorine ion compound of any one of LiF, BaF 2 , and CsF. When the metal-fluorine ion compound has a predetermined thickness, it has an insulating property.
화소 정의막(PDL)은 개구부(PDL-OP)를 정의할 수 있다. 화소 정의막(PDL)의 개구부(PDL-OP)는 발광 영역을 정의하는 것일 수 있다.A pixel defining layer (PDL) can define an aperture (PDL-OP). The aperture (PDL-OP) of the pixel defining layer (PDL) can define a light-emitting area.
제1 전극(EL1) 및 제2 전극(EL2) 사이에는 중간층(CL)이 배치될 수 있다. 중간층(CL)은 화소 정의막(PDL)에 정의된 개구부(PDL-OP)에 배치될 수 있다. 중간층(CL)은 화소 정의막(PDL)의 개구부(PDL-OP)에 의해 정의되는 발광 영역에 중첩할 수 있다. 중간층(CL)은 후술하는 도 4a를 통해 더욱 상세히 설명한다.An intermediate layer (CL) may be placed between the first electrode (EL1) and the second electrode (EL2). The intermediate layer (CL) may be placed in an opening (PDL-OP) defined in a pixel defining layer (PDL). The intermediate layer (CL) may overlap an emission area defined by the opening (PDL-OP) of the pixel defining layer (PDL). The intermediate layer (CL) will be described in more detail with reference to FIG. 4a below.
봉지 부재(EN)는 제1 무기층(IOL1), 유기층(OL) 및 제2 무기층(IOL2)을 포함한다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 무기층 및 유기층을 추가로 포함할 수 있다. 봉지 부재(EN)는 발광 소자(ED) 상에 배치되고, 발광 소자(ED)를 밀봉한다.The encapsulating member (EN) includes a first inorganic layer (IOL1), an organic layer (OL), and a second inorganic layer (IOL2). However, the present invention is not limited thereto, and may additionally include inorganic layers and organic layers. The encapsulating member (EN) is disposed on the light-emitting element (ED) and seals the light-emitting element (ED).
제1 무기층(IOL1)은 표시층(DL) 상에 배치된다. 제1 무기층(IOL1)은 발광 소자(ED) 상에 배치된다. 구체적으로, 제1 무기층(IOL1)은 제2 무기층(IOL2) 보다 발광 소자(ED)에 인접하여 배치될 수 있다. 제1 무기층(IOL1)은 발광 소자(ED)의 제2 전극(EL2) 상에 접촉하여 배치될 수 있다. 제1 무기층(IOL1)은 발광 소자(ED) 및 화소 정의막(PDL)에 중첩하도록 배치될 수 있다. 제1 무기층(IOL1)은 무기물을 포함할 수 있다. 제1 무기층(IOL1)은 증착법 등에 의해 형성될 수 있고, 예를 들어, 플라즈마 화학기상증착법(Plasma-Enhanced CVD; PECVD)을 이용하여 형성할 수 있다. 제1 무기층(IOL1)은 발광 소자(ED)를 봉지하고, 발광 소자(ED)에 이물질이 유입되는 것을 방지하는 배리어막의 기능을 할 수 있다.A first inorganic layer (IOL1) is disposed on a display layer (DL). The first inorganic layer (IOL1) is disposed on a light-emitting element (ED). Specifically, the first inorganic layer (IOL1) may be disposed closer to the light-emitting element (ED) than the second inorganic layer (IOL2). The first inorganic layer (IOL1) may be disposed in contact with a second electrode (EL2) of the light-emitting element (ED). The first inorganic layer (IOL1) may be disposed to overlap the light-emitting element (ED) and the pixel defining film (PDL). The first inorganic layer (IOL1) may include an inorganic material. The first inorganic layer (IOL1) may be formed by a deposition method or the like, and may be formed, for example, by using a plasma-enhanced CVD (PECVD). The first inorganic layer (IOL1) can function as a barrier film to encapsulate the light-emitting element (ED) and prevent foreign substances from entering the light-emitting element (ED).
유기층(OL)은 제1 무기층(IOL1) 상에 배치된다. 유기층(OL)은 제1 무기층(IOL1) 상에 직접 배치될 수 있다. 유기층(OL)은 소정의 두께를 가지고, 발광 소자(ED)를 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 봉지 부재(EN)의 내부 스트레스를 완화시킬 수 있고, 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다. 유기층(OL)은 유기물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 폴리이미드 및 폴리에틸렌 등을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 유기물을 포함하는 유기층(OL)의 굴절률은 1.35 내지 1.55일 수 있다. 유기층(OL)은 증착법, 코팅법 등에 의해 형성될 수 있다.An organic layer (OL) is disposed on a first inorganic layer (IOL1). The organic layer (OL) may be disposed directly on the first inorganic layer (IOL1). The organic layer (OL) has a predetermined thickness and may function as a protective film for protecting a light emitting element (ED), may relieve internal stress of an encapsulating member (EN), and may function as a planarizing film for planarizing an upper surface. The organic layer (OL) may include an organic material, and may include, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, polyimide, and polyethylene, but is not limited thereto. The refractive index of the organic layer (OL) including the organic material may be 1.35 to 1.55. The organic layer (OL) may be formed by a deposition method, a coating method, or the like.
제2 무기층(IOL2)은 유기층(OL) 상에 배치된다. 제2 무기층(IOL2)은 유기층(OL) 상에 직접 배치될 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 발광 소자(ED) 및 화소 정의막(PDL)에 중첩하도록 배치될 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 제1 무기층(IOL1)과 평면상에서 전면적으로 중첩할 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 무기물을 포함한다. 제2 무기층(IOL2)은 제1 무기층(IOL1)에 포함된 무기물과 동일한 무기물을 포함할 수 있고, 또는 상이한 무기물을 포함할 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 증착법 등에 의해 형성될 수 있고, 예를 들어, 플라즈마 화학기상증착법(Plasma-Enhanced CVD; PECVD), 또는 유도쌍 플라즈마 화학기상증착법(Inductively Coupled Plasma; ICPCVD) 등을 이용하여 형성할 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 발광 소자(ED)를 봉지하고, 발광 소자(ED)에 이물질이 유입되는 것을 방지하는 배리어막의 기능을 할 수 있다.The second inorganic layer (IOL2) is disposed on the organic layer (OL). The second inorganic layer (IOL2) can be directly disposed on the organic layer (OL). The second inorganic layer (IOL2) can be disposed to overlap the light emitting element (ED) and the pixel defining layer (PDL). The second inorganic layer (IOL2) can completely overlap the first inorganic layer (IOL1) in a plane. The second inorganic layer (IOL2) includes an inorganic material. The second inorganic layer (IOL2) can include the same inorganic material as the inorganic material included in the first inorganic layer (IOL1), or can include a different inorganic material. The second inorganic layer (IOL2) can be formed by a deposition method or the like, and can be formed by, for example, using a plasma-enhanced CVD (PECVD) method or an inductively coupled plasma chemical vapor deposition (ICPCVD). The second inorganic layer (IOL2) can function as a barrier film to encapsulate the light-emitting element (ED) and prevent foreign substances from entering the light-emitting element (ED).
표시장치(DD)는 캡핑층(CAL)을 더 포함할 수 있다. 캡핑층(CAL)은 발광 소자(ED)와 봉지 부재(EN) 사이에 배치될 수 있다. 캡핑층(CAL)은 제2 전극(EL2)을 커버하도록 배치될 수 있다. 캡핑층(CAL)은 제2 전극(EL2)과 제1 무기층(IOL1) 사이에 배치될 수 있다.The display device (DD) may further include a capping layer (CAL). The capping layer (CAL) may be arranged between the light emitting element (ED) and the encapsulating member (EN). The capping layer (CAL) may be arranged to cover the second electrode (EL2). The capping layer (CAL) may be arranged between the second electrode (EL2) and the first inorganic layer (IOL1).
캡핑층(CAL)은 광투과성을 가질 수 있으며, 발광 소자(ED)를 보호하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 캡핑층(CAL)은 발광층에서 발생된 빛이 효율적으로 외부로 방출될 수 있도록 돕는 역할을 수행할 수도 있다. 캡핑층(CAL)은 광투과성을 갖는 무기 물질 및 유기 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 캡핑층(CAL)은 굴절률이 서로 다른 두 개 이상의 물질로 만들어질 수도 있다. 예를 들어, 캡핑층(CAL)은 고굴절률 물질과 저굴절률 물질의 혼합 사용에 의하여 만들어질 수 있다. 고굴절률 물질과 저굴절률 물질은 유기 물질일 수도 있고 무기 물질일 수도 있다. 캡핑층(CAL)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 30nm 이상 1000nm 이하일 수 있다.The capping layer (CAL) may have light transmittance and may play a role of protecting the light emitting element (ED). In addition, the capping layer (CAL) may play a role of helping light generated from the light emitting layer to be efficiently emitted to the outside. The capping layer (CAL) may include at least one of an inorganic material and an organic material having light transmittance. In addition, the capping layer (CAL) may be made of two or more materials having different refractive indices. For example, the capping layer (CAL) may be made by using a mixture of a high refractive index material and a low refractive index material. The high refractive index material and the low refractive index material may be either organic or inorganic materials. The thickness of the capping layer (CAL) is not particularly limited, and may be, for example, 30 nm or more and 1000 nm or less.
표시장치(DD)는 커버층(COL)을 더 포함할 수 있다. 커버층(COL)은 발광 소자(ED)와 봉지 부재(EN) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 커버층(COL)은 캡핑층(CAL)과 봉지 부재(EN) 사이에 배치될 수 있다. 커버층(COL)은 굴절률이 1.3 이상 1.4 이하일 수 있다. 커버층(COL)은 발광층에서 발생된 광이 효율적으로 외부로 방출될 수 있도록 돕는 역할을 수행할 수 있다. 커버층(COL)에 포함되는 재료는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 불화리튬(LiF)을 포함할 수 있다.The display device (DD) may further include a cover layer (COL). The cover layer (COL) may be arranged between the light-emitting element (ED) and the encapsulating member (EN). In addition, the cover layer (COL) may be arranged between the capping layer (CAL) and the encapsulating member (EN). The cover layer (COL) may have a refractive index of 1.3 or more and 1.4 or less. The cover layer (COL) may play a role in helping light generated from the light-emitting layer to be efficiently emitted to the outside. The material included in the cover layer (COL) is not particularly limited, and may include, for example, lithium fluoride (LiF).
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-1)의 단면도이고, 도 4b 및 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-1, DD-1') 및 비교예 표시장치(Com-DD1, Com-DD1')의 상대 효율을 도시한 그래프이다.FIG. 4a is a cross-sectional view of a display device (DD-1) according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4b and 4c are graphs showing relative efficiencies of a display device (DD-1, DD-1') according to an embodiment of the present invention and a comparative example display device (Com-DD1, Com-DD1').
도 4a에서는 도 3 대비 베이스 부재(BS)는 간략히 도시되었다. 이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.In Fig. 4a, the base member (BS) in comparison with Fig. 3 is schematically illustrated. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to Figs. 1 to 3 is omitted.
도 4a를 참고하면, 중간층(CL)은 발광층(EML)을 포함할 수 있다. 발광층(EML)은 적색, 녹색, 청색, 백색 중 어느 하나를 발광할 수 있다. 발광층(EML)은 단층일 수 있다. 또한, 발광층(EML)은 텐덤(tandem)이라 지칭되는 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 청색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/황색 발광층 또는 청색 발광층/녹색 발광층 등의 2층의 텐덤 구조일 수 있고, 청색 발광층/청색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/황색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/녹색 발광층/청색 발광층 등의 3층의 텐덤 구조일 수 있다. 또한, 상기 발광층 사이에는 각각 전하생성층을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4a, the intermediate layer (CL) may include an emitting layer (EML). The emitting layer (EML) may emit any one of red, green, blue, and white. The emitting layer (EML) may be a single layer. In addition, the emitting layer (EML) may have a multilayer structure referred to as a tandem. For example, it may have a two-layer tandem structure such as blue emitting layer/blue emitting layer, blue emitting layer/yellow emitting layer, or blue emitting layer/green emitting layer, and it may have a three-layer tandem structure such as blue emitting layer/blue emitting layer/blue emitting layer, blue emitting layer/yellow emitting layer/blue emitting layer, blue emitting layer/green emitting layer/blue emitting layer. In addition, a charge generation layer may be further included between the emitting layers.
발광층(EML)은 발광물질을 포함할 수 있다. 발광 물질의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 유기화합물 및/또는 무기화합물일 수 있다. 일 실시예에서, 발광 물질은 양자점(Quantum Dot) 물질일 수 있다. 양자점의 코어는 II-VI족 화합물, III-V족 화합물, IV-VI족 화합물, IV족 원소, IV족 화합물 및 이들의 조합에서 선택될 수 있다.The emission layer (EML) may include an emission material. The type of the emission material is not particularly limited, and may be an organic compound and/or an inorganic compound. In one embodiment, the emission material may be a quantum dot material. The core of the quantum dot may be selected from a group II-VI compound, a group III-V compound, a group IV-VI compound, a group IV element, a group IV compound, and a combination thereof.
중간층(CL)은 발광층 이외에 복수의 공통층들이 더 배치될 수 있다. 구체적으로, 중간층(CL)은 정공 수송 영역(HTR), 발광층(EML) 및 전자 수송 영역(ETR)이 순차적으로 적층된 것일 수 있다. 정공 수송 영역(HTR)은 제1 전극(EL1) 상에 제공되고, 정공 주입층, 정공 수송층, 정공 버퍼층 및 전자 저지층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 전자 수송 영역(ETR)은 발광층(EML) 상에 제공되며, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The intermediate layer (CL) may further include a plurality of common layers in addition to the emitting layer. Specifically, the intermediate layer (CL) may be formed by sequentially stacking a hole transport region (HTR), an emitting layer (EML), and an electron transport region (ETR). The hole transport region (HTR) is provided on the first electrode (EL1) and may include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole buffer layer, and an electron blocking layer. The electron transport region (ETR) is provided on the emitting layer (EML) and may include at least one of a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
봉지 부재(EN)는 제1 무기층(IOL1), 제1 무기층(IOL1) 상에 직접 배치되는 유기층(OL) 및 유기층(OL) 상에 직접 배치되는 제2 무기층(IOL2)을 포함한다.The encapsulation member (EN) includes a first inorganic layer (IOL1), an organic layer (OL) directly disposed on the first inorganic layer (IOL1), and a second inorganic layer (IOL2) directly disposed on the organic layer (OL).
일 실시예에서, 제1 무기층(IOL1)은 굴절률이 1.64 이하일 수 있다. 제1 무기층(IOL1)의 굴절률이 1.64를 초과하는 경우, 제1 무기층(IOL1)과 유기층(OL)의 굴절률 차이가 커지므로, 발광층(EML)에서 방출되는 광이 제1 무기층(IOL1)과 유기층(OL) 사이에서 계면 반사되는 비율이 커질 수 있다. 이에 따라 발광 소자의 미소공진(microcavity) 효과에 영향을 주어 표시장치(DD-1)의 효율이 감소하게 된다.In one embodiment, the first inorganic layer (IOL1) may have a refractive index of 1.64 or less. When the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) exceeds 1.64, the difference in refractive indices between the first inorganic layer (IOL1) and the organic layer (OL) increases, so that the ratio of light emitted from the light-emitting layer (EML) that is reflected at the interface between the first inorganic layer (IOL1) and the organic layer (OL) increases. Accordingly, the microcavity effect of the light-emitting element is affected, thereby reducing the efficiency of the display device (DD-1).
도 4b 및 도 4c를 참조하면, 제1 무기층(IOL1)의 굴절률에 따른 표시장치의 광 효율 차이를 확인할 수 있다. 표시장치(DD-1)의 효율은 전류-전압-휘도(current-voltage-luminance: IVL)특성을 측정하여 평가하였다. 비교예 및 실시예는 4a에 따른 표시장치(DD-1)와 동일한 구조를 가지며, 다만, 봉지 부재(EN)의 제1 무기층(IOL1)의 굴절률만이 상이하다. 그래프에서, 동일한 구조는 생략하고, 봉지 부재의 구조만을 표시하였다. 구체적으로 비교예 표시장치(Com-DD1, Com-DD1')는 질산화 실리콘을 포함하고 굴절률이 1.76인 제1 무기층(IOL1'), 유기층(OL) 및 굴절률 1.90인 제2 무기층(IOL2)을 포함하는 봉지 부재를 포함하며, 일 실시예의 표시장치(DD-1, DD-1')은 질산화 실리콘을 포함하고 굴절률 1.60인 제1 무기층(IOL1), 유기층(OL) 및 굴절률 1.90인 제2 무기층(IOL2)을 포함하는 봉지 부재를 포함한다.Referring to FIGS. 4b and 4c, the difference in light efficiency of the display device according to the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) can be confirmed. The efficiency of the display device (DD-1) was evaluated by measuring the current-voltage-luminance (IVL) characteristics. The comparative example and the embodiment have the same structure as the display device (DD-1) according to 4a, except that only the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) of the sealing member (EN) is different. In the graph, the same structure is omitted, and only the structure of the sealing member is shown. Specifically, the comparative display devices (Com-DD1, Com-DD1') include an encapsulating member including a first inorganic layer (IOL1') containing silicon nitride and having a refractive index of 1.76, an organic layer (OL), and a second inorganic layer (IOL2) having a refractive index of 1.90, and the display devices (DD-1, DD-1') of one embodiment include an encapsulating member including a first inorganic layer (IOL1) containing silicon nitride and having a refractive index of 1.60, an organic layer (OL), and a second inorganic layer (IOL2) having a refractive index of 1.90.
도 4b는 표시장치가 청색 발광층을 포함할 때, 상대적 광 효율을 도시한 그래프이다. 비교예 표시장치(Com-DD1)의 효율을 100%로 할 때, 일 실시예에 따른 표시장치(DD-1)는 비교예 대비 효율이 2% 상승된 약 102%의 효율을 나타냈다. 도 4c는 표시장치가 백색 발광층을 포함할 때, 상대적 광 효율을 도시한 그래프이다. 비교예 표시장치(Com-DD1')의 효율을 100%로 할 때, 일 실시예에 따른 표시장치(DD-1')는 비교예 대비 효율이 3.5% 상승된 약 103.5%의 효율을 나타냈다. 이는 제1 무기층(IOL1)의 굴절률을 낮추어 제1 무기층(IOL1)과 유기층(OL) 사이의 계면 반사가 감소됨에 따라 표시장치의 효율이 향상된 것으로 판단된다. 따라서, 본 발명에 따른 표시장치(DD, DD-1, DD-1')는 제1 무기층(IOL1)의 굴절률을 1.64 이하로 제어함으로써 효율이 향상될 수 있다.FIG. 4b is a graph showing relative light efficiency when the display device includes a blue light-emitting layer. When the efficiency of the comparative display device (Com-DD1) is 100%, the display device (DD-1) according to one embodiment exhibited efficiency of about 102%, which is 2% higher than the comparative example. FIG. 4c is a graph showing relative light efficiency when the display device includes a white light-emitting layer. When the efficiency of the comparative display device (Com-DD1') is 100%, the display device (DD-1') according to one embodiment exhibited efficiency of about 103.5%, which is 3.5% higher than the comparative example. It is judged that the efficiency of the display device is improved as the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) is lowered, thereby reducing the interface reflection between the first inorganic layer (IOL1) and the organic layer (OL). Therefore, the display device (DD, DD-1, DD-1') according to the present invention can have improved efficiency by controlling the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) to 1.64 or less.
또한, 일 실시예에서, 제1 무기층(IOL1)은 굴절률이 1.58 이상일 수 있다. 제1 무기층(IOL1)의 굴절률이 1.58 미만인 경우, 배리어막의 기능이 저하되어 발광 소자(ED)에 산소, 수분 및 이물질 등이 유입되는 것을 제대로 방지할 수 없게 된다. 특히, WHTS(Wet High Temperature Storage) 측정실험 결과, 제1 무기층(IOL1)의 굴절률이 1.58 미만인 경우 다수의 암점 등이 발생하여 표시장치가 불량 또는 사용 불가로 평가되었으나, 제1 무기층(IOL1)은 굴절률이 1.58 이상인 경우, 표시장치는 양호로 평가되었다. 여기서, WHTS 측정실험은 고온, 고습 상태의 보관시험으로서, 85℃ 및 습도 85%의 오븐(oven) 속에서 500시간 동안 표시장치를 방치하여 암점의 발현 여부 등을 정성적으로 평가하는 것을 말한다. 따라서, 본 발명에 따른 표시장치(DD, DD-1, DD-1')는 제1 무기층(IOL1)의 굴절률이 1.58 이상으로 제어함으로써, 제1 무기층(IOL1)이 배리어막의 기능을 효과적으로 수행하여 신뢰성이 향상될 수 있다.In addition, in one embodiment, the first inorganic layer (IOL1) may have a refractive index of 1.58 or more. When the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) is less than 1.58, the function of the barrier film deteriorates and the light emitting element (ED) cannot be properly prevented from being exposed to oxygen, moisture, foreign substances, etc. In particular, as a result of a WHTS (Wet High Temperature Storage) measurement test, when the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) is less than 1.58, a large number of dark spots, etc. occurred and the display device was evaluated as defective or unusable, but when the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) is 1.58 or more, the display device was evaluated as good. Here, the WHTS measurement test is a high-temperature, high-humidity storage test, which refers to qualitatively evaluating whether dark spots, etc. occur by leaving the display device in an oven at 85°C and 85% humidity for 500 hours. Accordingly, the display device (DD, DD-1, DD-1') according to the present invention can improve reliability by controlling the refractive index of the first inorganic layer (IOL1) to be 1.58 or higher, so that the first inorganic layer (IOL1) effectively performs the function of a barrier film.
일 실시예에서, 제1 무기층(IOL1)의 두께는 0.5 μm 이상 1.5 μm 이하일 수 있다. 제1 무기층(IOL1)의 두께는 제2 무기층(IOL2)에 비해 크거나, 같을 수 있다. 또 다른 실시예에서, 제1 무기층(IOL1)의 두께는 0.7 μm 이상 1.2 μm 이하일 수 있다.In one embodiment, the thickness of the first inorganic layer (IOL1) may be greater than or equal to 0.5 μm and less than or equal to 1.5 μm. The thickness of the first inorganic layer (IOL1) may be greater than or equal to the thickness of the second inorganic layer (IOL2). In another embodiment, the thickness of the first inorganic layer (IOL1) may be greater than or equal to 0.7 μm and less than or equal to 1.2 μm.
일 실시예에서, 제1 무기층(IOL1)은 상대적으로 흡수계수가 낮은 무기물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 질산화 실리콘(silicon oxynitride; SiON), 질화 실리콘(silicon nitride; SiN) 및 산화 실리콘(silicon oxide; SiO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제1 무기층(IOL1)은 두께 범위를 조절하고, 상대적으로 흡수계수가 낮은 무기물을 포함함으로써, 배리어막의 기능을 효과적으로 수행하면서도 제1 무기층(IOL1)에 의해 흡수되는 광량을 최소로 하여 표시장치(DD, DD-1, DD-1') 효율이 감소하는 것을 방지할 수 있다. In one embodiment, the first inorganic layer (IOL1) can include an inorganic material having a relatively low absorption coefficient, and can include, for example, but not limited to, at least one of silicon oxynitride (SiON), silicon nitride (SiN), and silicon oxide (SiO). The first inorganic layer (IOL1) can effectively perform the function of a barrier film by controlling a thickness range and including an inorganic material having a relatively low absorption coefficient, thereby minimizing the amount of light absorbed by the first inorganic layer (IOL1), thereby preventing a decrease in the efficiency of the display device (DD, DD-1, DD-1').
일 실시예에서, 유기층(OL)의 두께는 0.5 μm 이상 1.3 μm 이하일 수 있다. 유기층(OL)은 단층일 수 있고, 또는, 복수의 층을 포함할 수 있다. In one embodiment, the thickness of the organic layer (OL) can be greater than or equal to 0.5 μm and less than or equal to 1.3 μm. The organic layer (OL) can be a single layer, or can include a plurality of layers.
일 실시예에서, 제2 무기층(IOL2)은 굴절률이 1.58 이상 2.00 이하일 수 있다. 일 실시예에서, 제2 무기층(IOL2)의 두께는 0.1 μm 이상 1.5 μm 이하일 수 있다. 또 다른 실시예에서, 제2 무기층(IOL2)의 두께는 0.1 μm 이상 1.0 μm 이하일 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 단층일 수 있고, 또는, 복수 개의 서브 무기층을 포함할 수 있다. 제2 무기층(IOL2)이 복수 개의 서브 무기층들을 포함할 때, 각 서브층들은 상기 범위 내에서 굴절률 및/또는 두께가 동일하거나 상이할 수 있으며, 상세한 내용은 후술한다.In one embodiment, the second inorganic layer (IOL2) can have a refractive index of 1.58 or more and 2.00 or less. In one embodiment, the thickness of the second inorganic layer (IOL2) can be 0.1 μm or more and 1.5 μm or less. In another embodiment, the thickness of the second inorganic layer (IOL2) can be 0.1 μm or more and 1.0 μm or less. The second inorganic layer (IOL2) can be a single layer, or can include a plurality of sub-inorganic layers. When the second inorganic layer (IOL2) includes a plurality of sub-inorganic layers, each of the sub-layers can have the same or different refractive index and/or thickness within the above range, which will be described in detail later.
다시 도 4a를 참조하면, 일 실시예에서 제2 무기층(IOL2)이 단층인 경우 제2 무기층(IOL2)의 두께는 0.15 μm 이상 0.25 μm 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 0.15 μm 이상 0.2 μm 이하일 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 질화 실리콘(SIxNy, x 및 y는 각각 독립적으로 1 이상 5 이하의 정수)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 무기층은 Si3N4 등의 질화 실리콘으로 구성될 수 있다.Referring again to FIG. 4a, in one embodiment, when the second inorganic layer (IOL2) is a single layer, the thickness of the second inorganic layer (IOL2) may be 0.15 μm or more and 0.25 μm or less, more preferably 0.15 μm or more and 0.2 μm or less. The second inorganic layer (IOL2) may include silicon nitride (SI x N y , where x and y are each independently an integer greater than or equal to 1 and less than or equal to 5). For example, the second inorganic layer may be composed of silicon nitride such as Si 3 N 4 .
질화 실리콘은 Si-O(실리콘-산소) 결합을 포함하지 않는 것일 수 있다. 또한 질화 실리콘에서 단위 부피(cm3)당 수소 함량은 0 atom/cm3 이상 2.8 X 1022 atom/cm3 이하 일 수 있다. 질화 실리콘에서 질소 대 실리콘의 몰 비율은 1 이상 1.3 이하일 수 있다.The silicon nitride may not contain a Si-O (silicon-oxygen) bond. Additionally, the hydrogen content per unit volume (cm 3 ) in the silicon nitride may be greater than or equal to 0 atom/cm 3 and less than or equal to 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 . The molar ratio of nitrogen to silicon in the silicon nitride may be greater than or equal to 1 and less than or equal to 1.3.
질화 실리콘이 상술한 조건을 만족하는 경우, 약 460nm의 중심 파장을 갖는 광에 대한 질화 실리콘의 흡수계수는 0에 수렴할 수 있다. 따라서, 발광층(EML)에서 방출되는 청색광이 제2 무기층(IOL2)에 의해 흡수되는 양이 작아지므로 표시장치(DD)의 청색광의 출광 효율이 향상될 수 있다.When silicon nitride satisfies the conditions described above, the absorption coefficient of silicon nitride for light having a center wavelength of about 460 nm can converge to 0. Accordingly, the amount of blue light emitted from the light-emitting layer (EML) absorbed by the second inorganic layer (IOL2) decreases, so that the blue light emission efficiency of the display device (DD) can be improved.
제2 무기층(IOL2)이 상술한 조건을 만족하는 질화 실리콘을 포함하는 경우, 제2 무기층(IOL2)의 밀도는 2.3 g/cm3 이상 2.6 g/cm3 이하 일 수 있다. 따라서, 배리어 특성이 우수하고, 외부로부터의 수분 침투가 더 효과적으로 방지될 수 있다.When the second inorganic layer (IOL2) includes silicon nitride satisfying the conditions described above, the density of the second inorganic layer (IOL2) can be 2.3 g/cm 3 or more and 2.6 g/cm 3 or less. Accordingly, the barrier properties are excellent, and moisture penetration from the outside can be prevented more effectively.
제2 무기층(IOL2)의 두께가 0.15 μm 이상 0.25 μm 이하인 경우, 봉지 부재(EN)가 폴더블 표시장치에 적용되어 여러 번 폴딩 되는 경우에도 봉지 부재(EN)의 손상이 방지될 수 있다. 따라서, 봉지 부재(EN)의 손상으로 인한 외부 수분 침투가 방지되므로 표시장치(DD)의 내구성이 향상될 수 있다. 제2 무기층(IOL2)의 두께가 0.15 μm 미만인 경우 봉지 부재(EN)의 방습성이 저하될 수 있으며, 제2 무기층(IOL2)의 두께가 0.25 μm를 초과하는 경우 봉지 부재(EN)가 폴더플 표시장치에 적용 될 때, 봉지 부재(EN)의 내구성이 감소할 수 있다.When the thickness of the second inorganic layer (IOL2) is 0.15 μm or more and 0.25 μm or less, damage to the encapsulating member (EN) can be prevented even when the encapsulating member (EN) is applied to a foldable display device and folded multiple times. Accordingly, since external moisture penetration due to damage to the encapsulating member (EN) is prevented, the durability of the display device (DD) can be improved. When the thickness of the second inorganic layer (IOL2) is less than 0.15 μm, the moisture resistance of the encapsulating member (EN) may be deteriorated, and when the thickness of the second inorganic layer (IOL2) exceeds 0.25 μm, the durability of the encapsulating member (EN) may be reduced when the encapsulating member (EN) is applied to a foldable display device.
이하, 실시예 및 비교예를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 무기층(IOL2) 및 이를 포함하는 표시장치(DD)의 효과에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the effects of the second inorganic layer (IOL2) and the display device (DD) including the same according to one embodiment of the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples.
실시예 1 및 비교예 1의 표시장치는, 도 4a에 도시된 표시장치(DD-1)와 동일한 적층 구조를 가진다. 실시예 1 및 비교예 1의 표시장치는 제2 무기층을 제외하고는 동일한 재료 및 구조로 형성하였다.The display devices of Example 1 and Comparative Example 1 have the same laminated structure as the display device (DD-1) illustrated in Fig. 4a. The display devices of Example 1 and Comparative Example 1 were formed with the same materials and structure except for the second inorganic layer.
실시예 1의 표시장치는 질화실리콘을 증착하여 0.2 μm의 제2 무기층을 형성하였다. 비교예 1의 표시장치는 질화실리콘을 증착하여 0.7 μm의 제2 무기층을 형성하였다.The display device of Example 1 formed a second inorganic layer of 0.2 μm by depositing silicon nitride. The display device of Comparative Example 1 formed a second inorganic layer of 0.7 μm by depositing silicon nitride.
실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 물성은 하기 표 1과 같다.The properties of the second inorganic layer of Example 1 and Comparative Example 1 are as shown in Table 1 below.
실시예 1 및 비교예 1에 따른 제2 무기층을 푸리에 변환 적외선 분광법으로 측정한 결과 실시예 1의 제2 무기층은 Si-O 결합에 해당되는 피크(peak)가 검출되지 않았으며, 비교예 1의 제2 무기층은 Si-O 결합에 해당되는 피크(peak)가 검출되었다. 따라서, 실시예 1의 제2 무기층은 Si-O결합을 포함하지 않는 것을 알 수 있다. 실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 수소 함량은 동적 2차 이온 질량 분석기(D-SIMS. Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry)를 이용하여 측정하였다.The second inorganic layers according to Example 1 and Comparative Example 1 were measured using Fourier transform infrared spectroscopy. As a result, no peak corresponding to Si-O bonds was detected in the second inorganic layer of Example 1, whereas a peak corresponding to Si-O bonds was detected in the second inorganic layer of Comparative Example 1. Therefore, it can be seen that the second inorganic layer of Example 1 does not include Si-O bonds. The hydrogen content of the second inorganic layers of Example 1 and Comparative Example 1 was measured using a dynamic secondary ion mass spectrometer (D-SIMS).
실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 질소와 실리콘의 몰 비율은 X선 광전자 분광법(XPS, X-ray Photoelectron Spectroscopy)을 이용하여 측정하였다. Si2p는 Si의 2p 오비탈의 몰수를 측정한 것이다. 실시예 1의 제2 무기층의 질소와 실리콘의 몰 비율은 49.86%와 48.50%로 나타난 바, 실시예 1의 제2 무기층의 질소 대 실리콘의 몰비율은 1 이상인 것으로 측정되었다. 동일한 방법으로 측정한 비교예 1의 제2 무기층의 질소와 실리콘의 몰 비율은 47.94%와 50.50%로 나타난 바, 비교예 1의 제2 무기층의 질소 대 실리콘의 몰비율은 1 이하인 것으로 측정되었다.The molar ratios of nitrogen and silicon of the second inorganic layer of Example 1 and Comparative Example 1 were measured using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Si 2p is a measurement of the molar number of 2p orbitals of Si. The molar ratios of nitrogen and silicon of the second inorganic layer of Example 1 were found to be 49.86% and 48.50%, indicating that the molar ratio of nitrogen to silicon of the second inorganic layer of Example 1 was 1 or greater. The molar ratios of nitrogen and silicon of the second inorganic layer of Comparative Example 1, measured by the same method, were found to be 47.94% and 50.50%, indicating that the molar ratio of nitrogen to silicon of the second inorganic layer of Comparative Example 1 was 1 or less.
실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 밀도는 X선 반사 측정(X-ray Reflectometry)를 이용하여 측정하였다.The density of the second inorganic layer of Example 1 and Comparative Example 1 was measured using X-ray reflectometry.
실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 흡수계수는 460 nm 의 중심 파장을 갖는 청색광을 기준으로 측정하였다.The absorption coefficients of the second inorganic layer of Example 1 and Comparative Example 1 were measured based on blue light having a center wavelength of 460 nm.
실시예 1 및 비교예 1의 제2 무기층의 굴절률은 1.9였다.The refractive index of the second inorganic layer of Example 1 and Comparative Example 1 was 1.9.
실시예 1 및 비교예 1의 표시장치로 MVTR(Moisture vapor transmission rate) 값을 측정 하였다. MVTR 측정 결과는 하기 표 2에 나타내었다.The MVTR (Moisture vapor transmission rate) value was measured using the display devices of Example 1 and Comparative Example 1. The MVTR measurement results are shown in Table 2 below.
실시예 1에 따른 표시장치는 비교예 1에 비하여 얇은 두께를 가짐에도 불구하고 낮은 수분 투과율을 나타냈다. 실시예 1의 제2 무기층이 Si-O 결합을 불포함하고, 1 이상의 질소 대 실리콘의 몰비율을 가지며, 2.8 X 1022 atom/cm3 이하의 적은 수소 함량을 갖고, 비교예 1에 비해 높은 밀도를 가진다. 따라서, 실시예 1의 제2 무기층은 우수한 배리어 특성을 가져 낮은 수분 투과율을 나타내는 것으로 보인다. 한편, 일 실시예에 따른 표시장치의 광내구성을 측정하기 위하여 실시예들 및 비교예들에 따른 표시장치의 광 노출 정도에 따른 광투과율 변화량을 측정하였으며, 표 3에 측정 결과를 나타냈다. 광투과율 변화량은 하기와 같은 방법으로 측정하였다.The display device according to Example 1 exhibited low moisture permeability despite having a thinner thickness than Comparative Example 1. The second inorganic layer of Example 1 does not include Si-O bonds, has a molar ratio of nitrogen to silicon of 1 or more, and has a molecular weight of 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 It has a low hydrogen content and a high density compared to Comparative Example 1. Therefore, it appears that the second inorganic layer of Example 1 has excellent barrier properties and exhibits low moisture permeability. Meanwhile, in order to measure the light durability of the display device according to one embodiment, the change in light transmittance according to the degree of light exposure of the display device according to the Examples and Comparative Examples was measured, and the measurement results are shown in Table 3. The change in light transmittance was measured by the following method.
광투과율 변화량 1은 405nm의 중심 파장을 갖는 심청색 광을 기준으로 총 2회 측정한 값이고, 광투과율 변화량 2는 430nm의 중심파장을 갖는 심청색 광을 기준으로 총 2회 측정한 값이다.The change in
실시예 2 및 비교예 2는 각각 2 μm의 두께로 제2 무기층을 증착하였고, 실시예 3 및 비교예 3은 각각 4 μm의 두께로 제2 무기층을 증착하였으며, 실시예 4 및 비교예 4는 각각 7 μm의 두께로 제2 무기층을 증착하였다. 실시예 2 내지 실시예 4의 제2 무기층의 물성은 표 1에 도시된 실시예 1의 물성과 동일하며, 비교예 2 내지 비교예 4의 제2 무기층의 물성은 표 1에 도시된 비교예 1의 물성과 동일하다.Example 2 and Comparative Example 2 each deposited the second inorganic layer to a thickness of 2 μm, Example 3 and Comparative Example 3 each deposited the second inorganic layer to a thickness of 4 μm, and Example 4 and Comparative Example 4 each deposited the second inorganic layer to a thickness of 7 μm. The properties of the second inorganic layers of Examples 2 to 4 are the same as the properties of Example 1 shown in Table 1, and the properties of the second inorganic layers of Comparative Examples 2 to 4 are the same as the properties of Comparative Example 1 shown in Table 1.
실시예들 및 비교예들에 따른 투과율 변화량은 광에 노출시키기 전의 광투과율을 측정하고, 총 40 사이클 동안 광에 노출시킨 이후의 광투과율을 측정하여, 광에 노출되기 전과 노출된 후의 광투과율의 변화 비율을 계산하였다. 한 사이클 동안, 표시장치를 1120 Watt(W)의 세기를 갖는 광에 8시간 동안 노출 시켰다.The change in transmittance according to the examples and comparative examples was calculated by measuring the light transmittance before exposure to light and the light transmittance after exposure to light for a total of 40 cycles, and calculating the ratio of change in light transmittance before and after exposure to light. During one cycle, the display device was exposed to light having an intensity of 1120 Watts (W) for 8 hours.
투과율이 상승한 경우 투과율 변화량을 음의 값으로 표시하였으며, 투과율이 작아진 경우 투과율 변화량을 양의 값으로 표시 하였다.When the transmittance increased, the change in transmittance was indicated as a negative value, and when the transmittance decreased, the change in transmittance was indicated as a positive value.
표 3 참조 시, 실시예 2 내지 4의 경우 표시장치가 광에 노출된 경우에도 투과율에 실질적인 변화가 없었다. 비교예 2 내지 4의 경우 표시장치가 광에 노출된 이후 투과율이 감소 하였으며, 특히 405nm의 중심 파장을 갖는 광의 투과율이 현저히 감소하였으며, 제2 무기층의 두께가 증가함에 따라 투과율이 더욱 감소하였다. 또한 비교예 4를 참조하면, 제2 무기층이 7 μm의 두께로 형성되었을 때 430nm의 중심 파장을 갖는 광에 대한 투과율이 유의미하게 감소하였다. 실시예 2 내지 4는 표 1에 기재된 물성을 갖는 제2 무기층을 포함하여 높은 내구성을 갖기 때문에 광에 의한 손상을 적게 받아 투과율에 변화가 없었던 것으로 판단된다. 비교예 2 내지 4의 경우 낮은 내구성을 갖는 제2 무기층을 포함하므로, 제2 무기층이 광에 의한 손상을 받아 투과율이 감소한 것으로 판단된다. 또한, 제2 무기층의 두께가 두꺼워 질수록, 손상 받은 영역이 커지게 되므로 투과율의 감소율도 더 커진 것으로 판단된다.As shown in Table 3, in the cases of Examples 2 to 4, there was no substantial change in transmittance even when the display device was exposed to light. In the cases of Comparative Examples 2 to 4, the transmittance decreased after the display device was exposed to light, and in particular, the transmittance of light having a center wavelength of 405 nm significantly decreased, and the transmittance decreased further as the thickness of the second inorganic layer increased. In addition, as shown in Comparative Example 4, when the second inorganic layer was formed to a thickness of 7 μm, the transmittance for light having a center wavelength of 430 nm significantly decreased. It is judged that Examples 2 to 4 had high durability by including the second inorganic layer having the properties described in Table 1, so that there was little change in transmittance due to light damage. In the cases of Comparative Examples 2 to 4, since the second inorganic layer had low durability, it is judged that the second inorganic layer was damaged by light, which caused the transmittance to decrease. In addition, as the thickness of the second layer of armor increases, the damaged area increases, and thus the rate of decrease in transmittance is judged to increase.
이하 도 5a, 5b, 실시예 및 비교예를 참조하여 복수 개의 서브 무기층들을 포함하는 제2 무기층(IOL2) 및 이를 포함하는 표시장치의 효과에 대하여 구체적으로 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 5a and 5b, examples and comparative examples, the effects of a second inorganic layer (IOL2) including a plurality of sub-inorganic layers and a display device including the same will be specifically described.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-2)의 단면도이고, 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-2) 및 비교예 표시장치(Com-DD2)의 상대적 효율을 도시한 그래프이다. 이하, 도 1 내지 도 4c를 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Fig. 5a is a cross-sectional view of a display device (DD-2) according to one embodiment of the present invention, and Fig. 5b is a graph showing the relative efficiency of a display device (DD-2) according to one embodiment of the present invention and a comparative example display device (Com-DD2). Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to Figs. 1 to 4c is omitted.
도 5a를 참조하면, 표시장치(DD-2)는 봉지 부재(EN-1)를 포함하고, 봉지 부재(EN-1)는 복수 개의 서브 무기층들을 포함하는 제2 무기층(IOL2)을 포함할 수 있다. 제2 무기층(IOL2)은 굴절률 및 두께가 상이한 제1 서브 무기층(Sub-IOL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5a, the display device (DD-2) includes an encapsulating member (EN-1), and the encapsulating member (EN-1) may include a second inorganic layer (IOL2) including a plurality of sub-inorganic layers. The second inorganic layer (IOL2) may include a first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) and a second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) having different refractive indices and thicknesses.
제2 무기층(IOL2)이 두 개의 서브 무기층들(Sub-IOL1, Sub-IOL2)을 포함하는 경우, 제2 무기층(IOL2)의 두께는 0.5 μm 이상 1.5 μm 이하일 수 있다. 예를 들어, 제2 무기층(IOL2)의 두께는 0.5 μm 이상 1.0 μm 이하일 수 있다.When the second inorganic layer (IOL2) includes two sub-inorganic layers (Sub-IOL1, Sub-IOL2), the thickness of the second inorganic layer (IOL2) may be 0.5 μm or more and 1.5 μm or less. For example, the thickness of the second inorganic layer (IOL2) may be 0.5 μm or more and 1.0 μm or less.
제1 서브 무기층(Sub-IOL1)은 유기층(OL) 상에 직접 배치될 수 있다. 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 굴절률은 제1 무기층(IOL1)의 굴절률과 동일하거나, 유사할 수 있고, 예를 들어, 1.58 이상 1.64 이하일 수 있다. 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)은 유기층(OL) 상에 직접 배치되므로 표시장치(DD-2)의 효율 저하를 방지하고, 배리어막의 기능을 효과적으로 수행하기 위하여 제1 무기층(IOL1)과 유사하게 굴절률이 제어될 수 있다. The first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) may be directly disposed on the organic layer (OL). The refractive index of the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) may be the same as or similar to the refractive index of the first inorganic layer (IOL1), and may be, for example, 1.58 or more and 1.64 or less. Since the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) is directly disposed on the organic layer (OL), the refractive index may be controlled similarly to that of the first inorganic layer (IOL1) in order to prevent a decrease in the efficiency of the display device (DD-2) and effectively perform the function of a barrier film.
제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 두께는 제1 무기층(IOL1)의 두께보다 작을 수 있고, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께보다 클 수 있다. 일 실시예에서, 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 두께는 0.5 μm 이상 0.6 μm 이하일 수 있다. The thickness of the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) may be less than the thickness of the first inorganic layer (IOL1) and greater than the thickness of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2). In one embodiment, the thickness of the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) may be greater than or equal to 0.5 μm and less than or equal to 0.6 μm.
일 실시예에서, 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)은 상대적으로 흡수계수가 낮은 무기물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 질산화 실리콘(silicon oxynitride; SiON) 또는 산화 실리콘(silicon oxide; SiO)을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)은 두께 및 굴절률의 범위를 조절하고, 상대적으로 흡수계수가 낮은 무기물을 포함함으로써, 배리어막의 기능을 효과적으로 수행하면서도 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)에 의해 흡수되는 광량을 최소로 하여 표시장치(DD-2)의 효율이 감소하는 것을 방지할 수 있다.In one embodiment, the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) can include an inorganic material having a relatively low absorption coefficient, for example, but not limited to, silicon oxynitride (SiON) or silicon oxide (SiO). The first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) can effectively perform the function of a barrier film by controlling a range of thickness and refractive index and including an inorganic material having a relatively low absorption coefficient, thereby minimizing the amount of light absorbed by the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1), thereby preventing a decrease in the efficiency of the display device (DD-2).
제2 서브 무기층(Sub-IOL2)은 제1 서브 무기층(Sub-IOL1) 상에 배치될 수 있다. 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)은 봉지 부재(EN-1)의 최상부에 배치될 수 있다. 봉지 부재(EN-1)의 최상부에 배치되는 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)은 발광 소자(ED)에 산소, 수분 및 이물질 등이 유입되는 것을 방지하는 기능이 가장 중요하다. 따라서, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 굴절률은 제1 무기층(IOL1) 및 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 굴절률보다 클 수 있다. 일 실시예에서, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 굴절률은 1.80 이상 2.00 이하일 수 있다. The second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be disposed on the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1). The second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be disposed on the uppermost part of the sealing member (EN-1). The second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) disposed on the uppermost part of the sealing member (EN-1) has the most important function of preventing oxygen, moisture, foreign substances, etc. from entering the light emitting element (ED). Therefore, the refractive index of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be greater than the refractive indices of the first inorganic layer (IOL1) and the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1). In one embodiment, the refractive index of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be 1.80 or more and 2.00 or less.
제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께(t2)는 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 두께(t1)보다 작을 수 있다. 일 실시예에서, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께(t2)는 0.1 μm 이상 0.2 μm 이하일 수 있다. 굴절률이 큰 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)은 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)에 비해 흡수계수가 크므로 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께(t2)가 0.2 μm 초과하는 경우, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)에 의해 흡수되는 광량이 커져 표시장치의 효율이 저하될 수 있다. The thickness (t2) of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be smaller than the thickness (t1) of the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1). In one embodiment, the thickness (t2) of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be 0.1 μm or more and 0.2 μm or less. Since the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) having a high refractive index has a high absorption coefficient compared to the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1), when the thickness (t2) of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) exceeds 0.2 μm, the amount of light absorbed by the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) increases, which may lower the efficiency of the display device.
일 실시예에서, 제1 서브 무기층(Sub-IOL1)의 두께(t1)와 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께(t2) 비(t1:t2)는 3:1 내지 5:1 일 수 있다.In one embodiment, the ratio (t1:t2) of the thickness (t1) of the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) to the thickness (t2) of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may be 3:1 to 5:1.
도 5b를 참조하면, 제2 무기층(IOL2)에 따른 표시장치의 광 효율 차이를 확인할 수 있다. 표시장치의 효율은 전류-전압-휘도(current-voltage-luminance: IVL)특성을 측정하여 평가하였다. 비교예 표시장치(Com-DD2)는 도 4b의 비교예 표시장치(Com-DD1)와 구성이 동일하다. 일 실시예의 표시장치(DD-2)는 도 5a에 표시장치와 동일하고, 청색 발광층을 포함하며, 굴절률이 1.60인 제1 무기층(IOL1), 유기층(OL) 및 굴절률이 1.60인 제1 서브 무기층(Sub-IOL1) 및 굴절률이 1.90인 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)을 포함하는 봉지 부재를 포함한다. 비교예 표시장치(Com-DD2)의 효율을 100%로 할 때, 일 실시예에 따른 표시장치(DD-2)는 비교예 대비 효율이 9.1% 상승된 약 109.1%의 효율을 나타냈다. 이는 도 4b 및 도 4c의 일 실시예에 따른 표시장치(DD-1, DD-1') 보다 향상된 효율이며, 굴절률이 1.90인 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)의 두께를 줄여 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)에서 흡수되는 광량이 감소되어 효율이 더욱 향상된 것으로 판단된다. 따라서, 본 발명에 따른 표시장치(DD-2)는 굴절률 및 두께가 제어된 제1 서브 무기층(Sub-IOL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)을 포함함으로써 효율이 향상될 수 있다.Referring to FIG. 5b, the difference in light efficiency of the display device according to the second inorganic layer (IOL2) can be confirmed. The efficiency of the display device was evaluated by measuring the current-voltage-luminance (IVL) characteristics. The comparative display device (Com-DD2) has the same configuration as the comparative display device (Com-DD1) of FIG. 4b. The display device (DD-2) of one embodiment is the same as the display device of FIG. 5a, includes a blue light-emitting layer, and includes a first inorganic layer (IOL1) having a refractive index of 1.60, an organic layer (OL), and an encapsulating member including a first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) having a refractive index of 1.60 and a second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) having a refractive index of 1.90. When the efficiency of the comparative display device (Com-DD2) is 100%, the display device (DD-2) according to one embodiment exhibited an efficiency of about 109.1%, which is a 9.1% increase in efficiency compared to the comparative example. This is an improved efficiency compared to the display devices (DD-1, DD-1') according to one embodiment of FIGS. 4b and 4c, and it is judged that the efficiency was further improved because the thickness of the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) having a refractive index of 1.90 was reduced, thereby reducing the amount of light absorbed in the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2). Therefore, the display device (DD-2) according to the present invention can have improved efficiency by including the first sub-inorganic layer (Sub-IOL1) and the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) having controlled refractive index and thickness.
일 실시예에서, 제2 서브 무기층(Sub-IOL2)은 흡수계수가 상대적으로 큰 무기물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 질화 실리콘, 산화 알루미늄, 및 산화 티타늄 중 어느 하나를 포함할 수 있다. In one embodiment, the second sub-inorganic layer (Sub-IOL2) may include an inorganic material having a relatively high absorption coefficient, for example, one of silicon nitride, aluminum oxide, and titanium oxide.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 이하, 도 1 내지 도 5b를 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views of a display device according to one embodiment of the present invention. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to FIGS. 1 to 5B is omitted.
도 6a를 참조하면, 표시장치(DD-3)는 발광 소자(ED)와 봉지 부재(EN-1) 사이에 배치된 커버층(COL)을 포함할 수 있다. 커버층(COL)은 발광 소자(ED) 상에 직접 배치되고, 봉지 부재(EN-1)는 커버층(COL) 상에 직접 배치될 수 있다.Referring to FIG. 6a, the display device (DD-3) may include a cover layer (COL) disposed between the light emitting element (ED) and the encapsulating member (EN-1). The cover layer (COL) may be disposed directly on the light emitting element (ED), and the encapsulating member (EN-1) may be disposed directly on the cover layer (COL).
도 6b를 참조하면, 표시장치(DD-4)는 발광 소자(ED)와 봉지 부재(EN-1) 사이에 배치된 캡핑층(CAL)을 포함할 수 있다. 캡핑층(CAL)은 발광 소자(ED) 상에 직접 배치되고, 봉지 부재(EN-1)는 캡핑층(CAL) 상에 직접 배치될 수 있다.Referring to FIG. 6b, the display device (DD-4) may include a capping layer (CAL) disposed between the light-emitting element (ED) and the encapsulating member (EN-1). The capping layer (CAL) may be disposed directly on the light-emitting element (ED), and the encapsulating member (EN-1) may be disposed directly on the capping layer (CAL).
도 6c를 참조하면, 표시장치(DD-5)는 발광 소자(ED) 상에 직접 배치된 봉지 부재(EN-1)를 포함할 수 있다. 이 경우, 표시장치(DD-5)는 커버층 및 캡핑층은 포함하지 않을 수 있다.Referring to FIG. 6c, the display device (DD-5) may include an encapsulating member (EN-1) directly disposed on the light emitting element (ED). In this case, the display device (DD-5) may not include a cover layer and a capping layer.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 색변환층(CCL)을 포함하는 표시장치의 단면도이다. 도 7b는 도 7a에 대응되는 일 실시예에 따른 3개의 화소 영역들(PX-R, PX-G, PX-B)를 도시하였다. 이하, 도 1 내지 도 6c을 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views of a display device including a color conversion layer (CCL) according to an embodiment of the present invention. FIG. 7B illustrates three pixel areas (PX-R, PX-G, PX-B) according to an embodiment corresponding to FIG. 7A. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to FIGS. 1 to 6C will be omitted.
도 7a를 참조하면, 표시장치(DD-6)는 봉지 부재(EN) 상에 배치된 색변환층(CCL)을 포함할 수 있다. 도시하지 않았으나, 발광 소자(ED)와 봉지 부재(EN) 사이에 캡핑층(CAL) 및/또는 커버층(COL)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7a, the display device (DD-6) may include a color conversion layer (CCL) disposed on an encapsulating member (EN). Although not shown, a capping layer (CAL) and/or a cover layer (COL) may be included between the light emitting element (ED) and the encapsulating member (EN).
도 7b를 참조하면, 발광층(EML)은 제1 내지 제3 화소 영역들(PX-R, PX-G, PX-B)에 공통으로 중첩되어 배치되며, 일체의 형상을 가질 수 있다. 발광층(EML)은 동일한 청색광을 제공할 수 있다.Referring to FIG. 7b, the light-emitting layer (EML) is commonly overlapped and arranged in the first to third pixel areas (PX-R, PX-G, PX-B) and may have an integral shape. The light-emitting layer (EML) may provide the same blue light.
도 7b에서 발광소자(ED)는 하나의 중간층(CL)을 포함하는 것으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않으며, 텐덤(tandem)이라 지칭되는 다층 구조의 중간층(CL)을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 제1 중간층, 제2 중간층 및 제3 중간층을 포함할 수 있으며, 이 경우, 발광층은 청색 발광층/청색 발광층/청색 발광층 등의 구조를 가질 수 있다.In Fig. 7b, the light emitting element (ED) is illustrated as including one intermediate layer (CL), but is not limited thereto, and may include a multilayered intermediate layer (CL) referred to as a tandem. For example, it may include a first intermediate layer, a second intermediate layer, and a third intermediate layer, and in this case, the light emitting layer may have a structure such as blue light emitting layer/blue light emitting layer/blue light emitting layer.
색변환층(CCL)은 제1 화소 영역(PX-B), 제2 화소 영역(PX-G), 및 제3 화소 영역(PX-R)에 대응하는 투과필터(TF) 및 색변환부재(CCF)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서 3개의 화소 영역들에 대응하게 1개의 투과필터(TF) 및 2개의 색변환부재(CCF1, CCF2)를 포함하는 색변환층(CCL)을 예시적으로 도시하였다.The color conversion layer (CCL) may include a transmission filter (TF) and a color conversion member (CCF) corresponding to the first pixel area (PX-B), the second pixel area (PX-G), and the third pixel area (PX-R). In the present embodiment, a color conversion layer (CCL) including one transmission filter (TF) and two color conversion members (CCF1, CCF2) corresponding to three pixel areas is exemplarily illustrated.
투과필터(TF)는 제1 화소 영역(PX-B)에 대응하여 배치될 수 있다. 투과필터(TF)는 발광체를 포함하지 않으며, 발광층(EML)에서 제공된 광을 투과시킬 수 있다. 투과필터(TF)는 투명 고분자 수지를 포함할 수 있고, 또한, 색 순도의 향상을 위하여, 청색 안료 및 염료 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.A transmission filter (TF) may be arranged corresponding to the first pixel area (PX-B). The transmission filter (TF) does not include a light-emitting body and may transmit light provided from the light-emitting layer (EML). The transmission filter (TF) may include a transparent polymer resin, and may further include at least one of a blue pigment and a dye to improve color purity.
제1 색변환부재(CCF1) 및 제2 색변환부재(CCF2)는 제2 화소 영역(PX-G) 및 제3 화소 영역(PX-R)에 대응하여 배치되고, 발광층(EML)에서 제공된 광을 흡수하여 다른 색 광으로 방출할 수 있다. 제1 색변환부재(CCF1) 및 제2 색변환부재(CCF2)는 발광체를 포함할 수 있고, 발광체는 양자점을 포함할 수 있다. The first color conversion member (CCF1) and the second color conversion member (CCF2) are arranged corresponding to the second pixel area (PX-G) and the third pixel area (PX-R), and can absorb light provided from the light-emitting layer (EML) and emit light of a different color. The first color conversion member (CCF1) and the second color conversion member (CCF2) can include a light-emitting body, and the light-emitting body can include a quantum dot.
서로 이격되어 배치된 투과필터(TF)와 제1 색변환부재(CCF1), 제1 색변환부재(CCF1)와 제2 색변환부재(CCF2) 사이에는 차광부(BM)가 배치될 수 있다. 차광부(BM)는 블랙 안료 또는 염료를 포함하는 유기 차광 물질 또는 무기 차광 물질을 포함하여 형성될 수 있다. 차광부(BM)는 주변영역(NPX)에 중첩할 수 있다. 차광부(BM)는 빛샘 현상을 방지하고, 인접하는 투과필터(TF) 및 색변환부재들(CCF1, CCF2) 사이의 경계를 구분하는 것일 수 있다. 다만, 차광부(BM)는 생략될 수 있고, 색변환부재(CCF)가 직접 배치될 수 있다.A shielding member (BM) may be arranged between the transmission filter (TF) and the first color conversion member (CCF1), and between the first color conversion member (CCF1) and the second color conversion member (CCF2), which are arranged to be spaced apart from each other. The shielding member (BM) may be formed by including an organic shielding material or an inorganic shielding material including a black pigment or dye. The shielding member (BM) may overlap a peripheral area (NPX). The shielding member (BM) may prevent light leakage and may distinguish a boundary between adjacent transmission filters (TF) and color conversion members (CCF1, CCF2). However, the shielding member (BM) may be omitted, and the color conversion member (CCF) may be arranged directly.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described above with reference to preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art or having ordinary knowledge in the art that various modifications and changes may be made to the present invention without departing from the spirit and technical scope of the present invention as set forth in the claims below.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the scope of the patent claims.
DD : 표시장치 BS : 베이스 부재
DL : 표시층 ED : 발광 소자
EN : 봉지 부재 IOL : 무기층
OL: 유기층DD: Display device BS: Base absence
DL: Display layer ED: Light-emitting element
EN : Bag-free IOL : Mineral layer
OL: Organic layer
Claims (28)
상기 발광 소자 상에 배치되고, 상기 발광 소자를 밀봉하는 봉지 부재를 포함하고,
상기 봉지 부재는
상기 발광 소자 상에 배치되고, 굴절률이 1.58 이상 1.64 이하인 제1 무기층;
상기 제1 무기층 상에 배치되는 유기층; 및
제1 서브 무기층 및 상기 제1 서브 무기층을 사이에 두고 상기 유기층과 이격된 제2 서브 무기층을 포함하고, 상기 유기층 상에 배치되는 제2 무기층;을 포함하고,
상기 제1 서브 무기층의 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하이고, 상기 제1 서브 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 0.6 μm 이하이고,
상기 제2 서브 무기층의 굴절률은 1.80 이상 2.00 이하이고, 상기 제2 서브 무기층의 두께는 0.1 μm 이상 0.2 μm 이하인 표시장치. light emitting element; and
A sealing member is disposed on the light-emitting element and includes a sealing member that seals the light-emitting element.
The above bag absence
A first inorganic layer disposed on the light-emitting element and having a refractive index of 1.58 or more and 1.64 or less;
an organic layer disposed on the first inorganic layer; and
A first sub-inorganic layer and a second sub-inorganic layer spaced apart from the organic layer with the first sub-inorganic layer interposed therebetween, and a second inorganic layer disposed on the organic layer;
The refractive index of the first sub-weapon layer is 1.58 or more and 1.64 or less, and the thickness of the first sub-weapon layer is 0.5 μm or more and 0.6 μm or less,
A display device wherein the refractive index of the second sub-inorganic layer is 1.80 or more and 2.00 or less, and the thickness of the second sub-inorganic layer is 0.1 μm or more and 0.2 μm or less.
상기 제1 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 1.5 μm 이하인 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein the thickness of the first weapon layer is 0.5 μm or more and 1.5 μm or less.
상기 제1 무기층은 질산화 실리콘, 질화 실리콘 및 산화 실리콘 중 적어도 하나를 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein the first inorganic layer comprises at least one of silicon nitride, silicon nitride, and silicon oxide.
상기 제1 서브 무기층의 두께와 상기 제2 서브 무기층의 두께비는 3:1 내지 5:1 인 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein a thickness ratio of the first sub-weapon layer to the second sub-weapon layer is 3:1 to 5:1.
상기 제1 서브 무기층은 질산화 실리콘 또는 산화 실리콘을 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein the first sub-inorganic layer comprises silicon nitride or silicon oxide.
상기 제2 서브 무기층은 질화 실리콘, 산화 알루미늄, 및 산화 티타늄 중 어느 하나를 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein the second sub-inorganic layer comprises one of silicon nitride, aluminum oxide, and titanium oxide.
상기 제2 서브 무기층은 상기 봉지 부재의 최상부에 배치되는 표시장치.In the first paragraph,
The second sub-weapon layer is a display device arranged on the uppermost part of the bag member.
상기 제2 무기층은 Si-O 결합을 비포함하는 질화 실리콘을 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device wherein the second inorganic layer comprises silicon nitride that does not contain Si-O bonds.
상기 제2 무기층의 수소 함량은 2.8 X 1022 atom/cm3 이하인 표시장치.In Article 13,
A display device wherein the hydrogen content of the second inorganic layer is 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 or less.
상기 제2 무기층 전체에 있어서 질소 대 실리콘의 몰비율은 1 이상 1.3 이하인 표시장치.In Article 13,
A display device wherein the molar ratio of nitrogen to silicon in the entire second inorganic layer is 1 or more and 1.3 or less.
상기 제2 무기층의 밀도는 2.3g/cm3 이상 2.6 g/cm3 이하인 표시장치.In Article 13,
A display device wherein the density of the second inorganic layer is 2.3 g/cm 3 or more and 2.6 g/cm 3 or less.
상기 발광 소자는 제1 전극;
상기 제1 전극 상에 배치된 제2 전극; 및
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 배치되고, 유기 발광 물질 및 양자점 발광 물질 중 적어도 하나를 포함하는 발광층을 포함하는 중간층;을 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
The above light emitting element comprises a first electrode;
a second electrode disposed on the first electrode; and
A display device comprising an intermediate layer disposed between the first electrode and the second electrode, the intermediate layer including a light-emitting layer including at least one of an organic light-emitting material and a quantum dot light-emitting material.
상기 발광 소자 및 상기 봉지 부재 사이에 배치되는 캡핑층을 더 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device further comprising a capping layer disposed between the light-emitting element and the sealing member.
상기 캡핑층과 상기 봉지 부재 사이에 배치되고, 굴절률이 1.3 이상 1.4이하인 커버층을 더 포함하는 표시장치.In Article 18,
A display device further comprising a cover layer disposed between the capping layer and the sealing member and having a refractive index of 1.3 or more and 1.4 or less.
상기 봉지 부재 상에 배치되고, 양자점을 포함하는 색변환층을 더 포함하는 표시장치.In the first paragraph,
A display device further comprising a color conversion layer including quantum dots, the color conversion layer being disposed on the above-mentioned bag member.
상기 발광 소자 상에 배치되고, 제1 두께를 갖는 제1 무기층;
상기 제1 무기층 상에 배치되는 유기층; 및
상기 유기층 상에 배치되는 제2 무기층; 을 포함하고,
상기 제2 무기층은 상기 제1 두께보다 작은 제2 두께를 갖는 제1 서브 무기층 및 상기 제1 서브 무기층 상에 배치되고 상기 제2 두께보다 작은 제3 두께를 갖는 제2 서브 무기층을 포함하고,
상기 제2 서브 무기층은 상기 제1 서브 무기층을 사이에 두고 상기 유기층과 이격되고,
상기 제1 서브 무기층의 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하이고, 상기 제1 서브 무기층의 상기 제2 두께는 0.5 μm 이상 0.6 μm 이하이고,
상기 제2 서브 무기층의 굴절률은 1.80 이상 2.00 이하이고, 상기 제2 서브 무기층의 상기 제3 두께는 0.1 μm 이상 0.2 μm 이하인 표시장치.light emitting element;
A first inorganic layer disposed on the light-emitting element and having a first thickness;
an organic layer disposed on the first inorganic layer; and
A second inorganic layer disposed on the organic layer;
The second inorganic layer includes a first sub-inorganic layer having a second thickness smaller than the first thickness and a second sub-inorganic layer disposed on the first sub-inorganic layer and having a third thickness smaller than the second thickness,
The second sub-inorganic layer is spaced apart from the organic layer with the first sub-inorganic layer therebetween,
The refractive index of the first sub-weapon layer is 1.58 or more and 1.64 or less, and the second thickness of the first sub-weapon layer is 0.5 μm or more and 0.6 μm or less,
A display device wherein the refractive index of the second sub-inorganic layer is 1.80 or more and 2.00 or less, and the third thickness of the second sub-inorganic layer is 0.1 μm or more and 0.2 μm or less.
상기 제2 두께와 제3 두께의 비는 3:1 내지 5:1 인 표시장치. In Article 21,
A display device wherein the ratio of the second thickness and the third thickness is 3:1 to 5:1.
상기 제1 무기층의 굴절률은 상기 제2 서브 무기층의 굴절률보다 작은 표시장치.In Article 21,
A display device in which the refractive index of the first inorganic layer is smaller than the refractive index of the second sub-inorganic layer.
상기 제1 무기층의 상기 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하인 표시장치.In Article 23,
A display device wherein the refractive index of the first weapon layer is 1.58 or more and 1.64 or less.
상기 발광 소자 상에 배치되고, 상기 발광 소자를 밀봉하는 봉지 부재를 포함하고,
상기 봉지 부재는
제1 무기층;
상기 제1 무기층 상에 배치되는 유기층; 및
제1 서브 무기층 및 상기 제1 서브 무기층을 사이에 두고 상기 유기층과 이격된 제2 서브 무기층을 포함하고, 상기 유기층 상에 배치되는 제2 무기층; 을 포함하고,
상기 제2 무기층은
Si-O 결합을 비포함하는 질화 실리콘을 포함하고,
상기 제2 무기층 전체를 기준으로 1 이상 1.3 이하의 질소 대 실리콘의 몰비율을 가지며,
2.8 X 1022 atom/cm3 이하의 수소 함량을 갖고,
상기 제1 서브 무기층의 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하이고, 상기 제1 서브 무기층의 두께는 0.5 μm 이상 0.6 μm 이하이고,
상기 제2 서브 무기층의 굴절률은 1.80 이상 2.00 이하이고, 상기 제2 서브 무기층의 두께는 0.1 μm 이상 0.2 μm 이하인 표시장치.light emitting element; and
A sealing member is disposed on the light-emitting element and includes a sealing member that seals the light-emitting element.
The above bag absence
1st weapon layer;
an organic layer disposed on the first inorganic layer; and
A second inorganic layer comprising a first sub-inorganic layer and a second sub-inorganic layer spaced apart from the organic layer with the first sub-inorganic layer interposed therebetween, and a second inorganic layer disposed on the organic layer;
The above second weapon layer
Contains silicon nitride that does not contain Si-O bonds,
The above second inorganic layer has a molar ratio of nitrogen to silicon of 1 or more and 1.3 or less based on the entire layer,
Having a hydrogen content of less than 2.8 X 10 22 atoms/cm 3 ,
The refractive index of the first sub-weapon layer is 1.58 or more and 1.64 or less, and the thickness of the first sub-weapon layer is 0.5 μm or more and 0.6 μm or less,
A display device wherein the refractive index of the second sub-inorganic layer is 1.80 or more and 2.00 or less, and the thickness of the second sub-inorganic layer is 0.1 μm or more and 0.2 μm or less.
상기 제2 무기층의 밀도는 2.3g/cm3 이상 2.6 g/cm3 이하인 표시장치.In Article 26,
A display device wherein the density of the second inorganic layer is 2.3 g/cm 3 or more and 2.6 g/cm 3 or less.
상기 제1 무기층의 굴절률은 1.58 이상 1.64 이하인 표시장치.In Article 26,
A display device wherein the refractive index of the first weapon layer is 1.58 or more and 1.64 or less.
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