KR102737108B1 - Artificial marble having same texture as natural stone and manufacturing method thereof - Google Patents
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- 239000002928 artificial marble Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000004575 stone Substances 0.000 title description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 247
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 139
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 35
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 31
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 25
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 13
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 10
- 239000010985 leather Substances 0.000 claims description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 61
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 48
- 210000003462 vein Anatomy 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 235000019587 texture Nutrition 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- -1 organic peroxide compound Chemical class 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 5
- 239000011439 engineered stone Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 1-hydroperoxybutane Chemical compound CCCCOO AKUNSTOMHUXJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CC IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWPKTBMRVATCBL-UHFFFAOYSA-N 3-[1-[1-[(2-methylphenyl)methyl]piperidin-4-yl]piperidin-4-yl]-1h-benzimidazol-2-one Chemical compound CC1=CC=CC=C1CN1CCC(N2CCC(CC2)N2C(NC3=CC=CC=C32)=O)CC1 CWPKTBMRVATCBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INJOMKTZOLKMBF-UHFFFAOYSA-N Guanfacine Chemical compound NC(=N)NC(=O)CC1=C(Cl)C=CC=C1Cl INJOMKTZOLKMBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- MWNQXXOSWHCCOZ-UHFFFAOYSA-L sodium;oxido carbonate Chemical compound [Na+].[O-]OC([O-])=O MWNQXXOSWHCCOZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical group 0.000 description 1
- 230000002889 sympathetic effect Effects 0.000 description 1
- 229940065385 tenex Drugs 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B14/00—Use of inorganic materials as fillers, e.g. pigments, for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of inorganic materials specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
- C04B14/02—Granular materials, e.g. microballoons
- C04B14/04—Silica-rich materials; Silicates
- C04B14/06—Quartz; Sand
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/08—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for reshaping the surface, e.g. smoothing, roughening, corrugating, making screw-threads
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B14/00—Use of inorganic materials as fillers, e.g. pigments, for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of inorganic materials specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
- C04B14/02—Granular materials, e.g. microballoons
- C04B14/30—Oxides other than silica
- C04B14/303—Alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B26/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing only organic binders, e.g. polymer or resin concrete
- C04B26/02—Macromolecular compounds
- C04B26/10—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C04B26/18—Polyesters; Polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/60—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only artificial stone
- C04B41/72—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only artificial stone involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/54—Substitutes for natural stone, artistic materials or the like
- C04B2111/542—Artificial natural stone
- C04B2111/545—Artificial marble
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 제1 바인더 수지, 제1 무기 입자 및 제1 무기 분말을 포함하는 제1 조성물; 및 제2 바인더 수지, 제2 무기 입자 및 제2 무기 분말을 포함하는 제2 조성물을 포함하는 인조대리석으로서, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이한 것인 인조대리석 및 이의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an artificial marble comprising a first composition comprising a first binder resin, a first inorganic particle, and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, a second inorganic particle, and a second inorganic powder, wherein at least one surface of the artificial marble comprises at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and wherein at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different, and a method for manufacturing the same.
Description
본 발명은 천연석과 같은 질감을 갖는 인조대리석 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to artificial marble having a texture similar to natural stone and a method for manufacturing the same.
인조대리석은 천연 석분이나 광물 등을 아크릴, 불포화 폴리에스테르, 에폭시 등의 수지나 시멘트와 같은 베이스에 배합하고, 안료 등의 첨가제를 첨가하여 천연석의 패턴과 질감을 구현한 인조 합성체이다. 대표적으로 아크릴계 인조대리석, 폴리에스테르계 인조대리석, 에폭시계 인조대리석, 엔지니어드 스톤계 인조대리석 등이 있다.Artificial marble is an artificial composite material that embodies the pattern and texture of natural stone by mixing natural stone powder or minerals with a base such as acrylic, unsaturated polyester, epoxy, resin, or cement, and adding additives such as pigments. Representative examples include acrylic artificial marble, polyester artificial marble, epoxy artificial marble, and engineered stone artificial marble.
엔지니어드 스톤(Engineered stone)은 이스톤(E-stone)이라고도 불리며, 석영 및 천연 석분을 주성분으로 하는 인조대리석이다. 엔지니어드 스톤은 실내 바닥, 벽 장식, 주방 상판 등에서 수요가 점차 증가하고 있으며, 이에 따라 다양한 디자인을 구현할 수 있는 기술이 요구되고 있다. Engineered stone, also known as E-stone, is an artificial marble made mainly of quartz and natural stone powder. Engineered stone is increasingly in demand for indoor floors, wall decorations, kitchen countertops, etc., and accordingly, technology that can implement various designs is required.
특히, 최근 인테리어 시장에서는 보다 천연석의 외관과 비슷한 자연스러운 질감의 디자인에 관한 관심이 점차 높아지고 있는 추세이다.In particular, in the recent interior market, interest in designs with a natural texture that is more similar to the appearance of natural stone is gradually increasing.
본 발명의 목적은 천연석과 같은 질감을 갖는 인조대리석 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to provide artificial marble having a texture similar to natural stone and a method for manufacturing the same.
본 발명의 일 실시상태는 제1 바인더 수지, 제1 무기 입자 및 제1 무기 분말을 포함하는 제1 조성물; 및 제2 바인더 수지, 제2 무기 입자 및 제2 무기 분말을 포함하는 제2 조성물을 포함하는 인조대리석으로서, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이한 것인 인조대리석을 제공한다.One embodiment of the present invention provides an artificial marble comprising a first composition comprising a first binder resin, a first inorganic particle, and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, a second inorganic particle, and a second inorganic powder, wherein at least one surface of the artificial marble comprises at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different.
본 발명의 또 하나의 실시상태는 Another embodiment of the present invention is
제1 바인더 수지, 제1 무기 입자 및 제1 무기 분말을 포함하는 제1 조성물; 및 제2 바인더 수지, 제2 무기 입자 및 제2 무기 분말을 포함하는 제2 조성물을 준비하는 단계; A step of preparing a first composition comprising a first binder resin, first inorganic particles and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, second inorganic particles and second inorganic powder;
상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 경화하는 단계; 및A step of curing the first composition and the second composition; and
레더피니시 방법에 의하여 경화된 상기 제1 및 제2 조성물의 표면마감을 하는 단계Step of surface finishing the first and second compositions cured by a leather finish method
를 포함하고, 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이한 것인 인조대리석의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method for manufacturing an artificial marble, wherein at least one surface of the artificial marble includes at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different.
본 발명의 인조대리석은 각각 개별적으로 혼합된 제1 조성물과 제2 조성물을 포함하고, 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이한 특성을 가짐으로써 일률적인 질감을 갖는 기존의 인조대리석에 비하여, 천연석과 같은 소재 고유의 질감을 다채롭게 구현할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 조성물이 포함된 영역과 상기 제2 조성물이 포함된 영역이 경도가 상이한 재료를 포함함으로써, 레더피니시 방법과 같은 표면마감 처리를 하는 경우, 재료의 경도에 따라 상이한 표면마감 상태, 예컨대 표면조도, 내스크래치성, 및/또는 두께를 갖는 인조대리석을 제공할 수 있다. The artificial marble of the present invention comprises a first composition and a second composition, each of which is mixed individually, and at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed have different characteristics in at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness, thereby enabling the artificial marble to implement a variety of textures inherent in a material such as natural stone, compared to existing artificial marble having a uniform texture. For example, since the region including the first composition and the region including the second composition include materials having different hardnesses, when a surface finish treatment such as a leather finish method is performed, an artificial marble having a different surface finish state, such as surface roughness, scratch resistance, and/or thickness, depending on the hardness of the material can be provided.
도 1 내지 도 3은 실시예 1 내지 3에서 제조한 인조대리석의 표면의 사진을 각각 나타낸 것이다. Figures 1 to 3 each show photographs of the surfaces of artificial marble manufactured in Examples 1 to 3.
이하, 본 발명의 실시상태들에 대하여 상세히 설명한다. 다만, 이하의 설명들은 상기 실시상태들을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위를 한정하기 위한 것은 아니다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the following descriptions are intended to exemplify the embodiments and are not intended to limit the scope of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in this specification should not be interpreted as limited to their usual or dictionary meanings, and should be interpreted as meanings and concepts that conform to the technical idea of the present invention based on the principle that the inventor can appropriately define the concept of the term in order to explain his or her own invention in the best way.
본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 예시적인 실시상태들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도는 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. The terms used in this specification are used only to describe exemplary embodiments and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly indicates otherwise.
본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 특정 구성요소가 존재함을 설명하기 위한 것이며, 다른 구성요소들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.In this specification, terms such as “include,” “have,” or “have” are intended to describe the presence of a specific component, and do not exclude in advance the possibility of the presence or addition of other components.
본 명세서에서, 특정 구성요소의 "상"에 존재한다는 표현은 특정 구성요소의 일측에 존재함을 표현하기 위한 것이며, 상하 관계를 한정하기 위한 것은 아니며, 또한 상기 구성요소와 물리적으로 접촉하는 것으로 한정되지 아니하고, 상기 구성 요소와의 사이에 다른 부재가 추가로 구비될 수 있음을 의미한다.In this specification, the expression “existing on” a specific component is intended to express existence on one side of the specific component, and is not intended to limit a superior-subordinate relationship. Also, it is not limited to physical contact with the component, and means that other members may be additionally provided between the component and the component.
본 명세서에서, 패턴(Pattern)이란, 전면층과 구별되는 표현으로서, 특정 재료가 하나의 층의 전체 부피를 차지하는 전면층과는 달리, 특정 재료가 하나의 층의 일부 부피만을 차지하고, 해당 층의 일부가 빈공간 또는 다른 물질로 채워진 것을 의미한다. In this specification, the term “pattern” is an expression that is distinct from the front layer, and means that, unlike the front layer in which a specific material occupies the entire volume of one layer, a specific material occupies only a portion of the volume of one layer, and a portion of the layer is filled with empty space or another material.
본 명세서에 있어서, 베인 패턴(Vein Pattern)이란 정맥 또는 나뭇가지를 닮은 패턴을 의미하는 것으로서, 일정 이상의 길이를 갖도록 연속된 패턴을 의미한다. 본 명세서에 있어서, 상기 베인 패턴은 직선 또는 특정 형태의 곡선으로 한정되지 않는다. 본 명세서에서, 베인 패턴은 줄무늬 패턴으로도 언급될 수 있다. In this specification, the Vein Pattern refers to a pattern resembling veins or tree branches, and refers to a continuous pattern having a length greater than a certain length. In this specification, the Vein Pattern is not limited to a straight line or a curve of a specific shape. In this specification, the Vein Pattern may also be referred to as a striped pattern.
본 명세서에서, "베이스"란 인조대리석에서 패턴 이외의 바탕 부분을 의미한다. In this specification, “base” means a base portion of artificial marble other than a pattern.
본 명세서에서, "제1 조성물과 제2 조성물이 혼합된 영역"이란 인조대리석의 표면 중 제1 조성물과 제2 조성물이 혼합되어 있는 영역을 의미하며, 제1 조성물만으로 이루어진 영역 및 제2 조성물만으로 이루어진 영역의 폭이 2 cm 미만인 영역을 의미한다. In this specification, the term “region where the first composition and the second composition are mixed” means a region on the surface of an artificial marble where the first composition and the second composition are mixed, and means a region where the width of the region composed solely of the first composition and the region composed solely of the second composition are less than 2 cm.
이하, 본 발명의 실시상태들에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석은 제1 바인더 수지, 제1 무기 입자 및 제1 무기 분말을 포함하는 제1 조성물; 및 제2 바인더 수지, 제2 무기 입자 및 제2 무기 분말을 포함하는 제2 조성물을 포함하는 인조대리석으로서, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이한 것을 특징으로 한다. According to one embodiment of the present invention, an artificial marble comprises a first composition comprising a first binder resin, first inorganic particles, and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, second inorganic particles, and second inorganic powder, wherein at least one surface of the artificial marble comprises at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different.
상기 실시상태에 따른 인조대리석은 별도의 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물을 각각 포함하면서, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면이 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이하다. 일 예로서, 상기 제1 조성물이 구비된 영역과 상기 제2 조성물이 구비된 영역의 재료의 경도가 상이한 경우, 인조대리석에 대하여 레더피니시 방법과 같은 표면마감 처리를 하면, 각각의 영역에서의 재료의 경도의 차이에 따라, 인조대리석은 영역별로 상이한 표면마감 상태, 예컨대 표면조도, 및/또는 내스크래치성을 가질 수 있으며, 영역별로 연마되는 정도가 달라 두께가 달라질 수 있다. 이에 따라 천연석과 같은 다채로운 질감을 구현할 수 있다. The artificial marble according to the above embodiment comprises the first composition and the second composition separately, and at least one surface of the artificial marble comprises at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of the surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different. As an example, when the hardness of the material of the region provided with the first composition and the region provided with the second composition are different, when the artificial marble is subjected to a surface finish treatment such as a leather finish method, depending on the difference in the hardness of the material in each region, the artificial marble may have a different surface finish state, such as surface roughness and/or scratch resistance, for each region, and the degree of polishing may be different for each region, so that the thickness may vary. Accordingly, a variety of textures like natural stone can be implemented.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 조성물에 포함된 성분들의 혼합 정도 및 상기 제2 조성물에 포함된 성분들의 혼합 정도는 각각 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물의 혼합 정도에 비하여 더 높다. 예컨대, 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물에 각각 포함된 성분들은 상대적으로 균일하게 혼합된 상태로 존재할 수 있다. 여기서 균일하게 혼합된 상태란 완전한 균일 상태만을 의미하는 것은 아니며, 각 성분들이 인조대리석 기술분야에서 허용되는 정도로 적절히 분산된 경우를 의미한다. 예컨대, 상기 제1 또는 제2 조성물에 포함되는 성분들을 균일 믹서를 이용하여 혼합할 수 있는 정도의 범위 내에서 혼합된 것을 의미한다. According to one embodiment, the degree of mixing of the components included in the first composition and the degree of mixing of the components included in the second composition are each higher than the degrees of mixing of the first composition and the second composition. For example, the components included in each of the first composition and the second composition may exist in a relatively uniformly mixed state. Here, the uniformly mixed state does not mean a completely uniform state, but means a case where each component is appropriately dispersed to a degree acceptable in the field of artificial marble technology. For example, it means that the components included in the first or second composition are mixed within a range that can be mixed using a uniform mixer.
반면, 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 서로 혼합되는 정도는 상대적으로 낮다. 예컨대, 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물은 서로 불균일하게 혼합된 상태일 수 있다. 여기서, 불균일하게 혼합된 상태란, 제1 조성물과 제2 조성물 각각의 성분들이 서로 완전히 혼합되지 않고 적어도 일부가 각 조성을 그대로 유지한 채 존재하는 것을 의미한다. 다시 말하면, 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 불균일하게 혼합된 상태인 경우, 상기 제1 조성물 중 적어도 일부 또는 전부와 상기 제2 조성물의 적어도 일부 또는 전부가 다른 조성물의 성분들과 혼합되지 않은 채로 인조대리석에 존재함을 의미한다. 이에 따라, 상기 제1 조성물이 존재하는 영역과 상기 제2 조성물이 존재하는 영역의 사이는 경계면이 형성될 수 있다. 예컨대, 제1 조성물과 제2 조성물을 각각 별도의 믹서를 이용하여 혼합한 후, 각각 혼합된 제1 조성물과 제2 조성물을 불균일하게 혼합한다. On the other hand, the degree to which the first composition and the second composition are mixed with each other is relatively low. For example, the first composition and the second composition may be in a state in which they are non-uniformly mixed with each other. Here, the non-uniformly mixed state means that the components of each of the first composition and the second composition are not completely mixed with each other and at least some of them remain as they are. In other words, when the first composition and the second composition are in a state in which they are non-uniformly mixed, it means that at least a part or all of the first composition and at least a part or all of the second composition exist in the artificial marble without being mixed with the components of the other composition. Accordingly, a boundary surface may be formed between the region where the first composition exists and the region where the second composition exists. For example, the first composition and the second composition are each mixed using a separate mixer, and then the first composition and the second composition that are each mixed are non-uniformly mixed.
불균일 혼합은 예컨대 링믹서(Ring Mixer)를 이용하여 수행할 수 있으며, 링믹서 의 속도, 회전수 등을 조절함으로써 혼합 정도를 조절할 수 있다. 인조대리석에 패턴을 형성할 때, 제1 조성물, 제2 조성물, 및 필요에 따라 제3 혹은 그 이상의 조성물을 각각의 믹서에 넣어 다양한 패턴을 형성할 수 있다. 이 때 각 믹서의 조성물 종류, 함량, 순서, 링믹서의 혼합 정도에 따라 그 패턴을 다양하게 할 수 있다.Non-uniform mixing can be performed, for example, using a ring mixer, and the mixing degree can be controlled by adjusting the speed, rotation speed, etc. of the ring mixer. When forming a pattern on artificial marble, the first composition, the second composition, and, if necessary, a third or more compositions can be placed in each mixer to form various patterns. At this time, the pattern can be varied depending on the type, content, and order of the compositions of each mixer and the mixing degree of the ring mixer.
불균일 혼합의 또 하나의 예로서, 제1 조성물, 제 2 조성물, 및 필요에 따라 제3 혹은 그 이상의 조성물을 각각 별도의 믹서를 이용하여 혼합한 후, 각각 균일 혼합된 제1 조성물, 제2 조성물, 및 필요에 따라 제3 혹은 그 이상의 조성물 중 적어도 하나의 조성물에 나머지 조성물을 직접 분상할 수 있다. 이 경우 직접 분상한 위치에 패턴이나 베이스 등 원하는 형태로 패턴을 형성할 수 있다. 분상이란, 개별적으로 혼합된 1종 또는 2종 이상의 조성물을 몰드에 떨어뜨려 채우는 공정을 의미한다. 이 때 각각의 조성물들은 분상 전에 개별적으로 혼합된다. 필요에 따라 분상 후 패턴 형성을 위해 엠보롤, 로봇 등으로 홈을 파고, 혼합물을 채우는 로봇 등을 이용하여 별도 조성물을 사용하여 홈을 채울 수 있다. 상기 제3 혹은 그 이상의 조성물을 사용하는 경우, 이들 조성물로는 제1 조성물 및/또는 제2 조성물과 동종의 재료를 포함하는 조성물을 사용해도 좋고, 제1 조성물 및/또는 제2 조성물에 포함되는 성분들과 경도가 상이한 적어도 하나의 성분을 포함하는 조성물을 사용해도 좋다. As another example of non-uniform mixing, the first composition, the second composition, and optionally the third or more compositions are mixed using separate mixers, and then the remaining compositions can be directly sprayed onto at least one of the first composition, the second composition, and optionally the third or more compositions, which are uniformly mixed. In this case, a pattern can be formed in a desired shape such as a pattern or base at the directly sprayed position. Spraying refers to a process of dropping and filling one or more individually mixed compositions into a mold. At this time, each composition is individually mixed before spraying. If necessary, a groove can be dug using an embossing roller, a robot, etc. to form a pattern after spraying, and a robot, etc. can be used to fill the groove using a separate composition to fill the groove. When the third or more compositions are used, these compositions may be compositions containing the same material as the first composition and/or the second composition, or may be compositions containing at least one component having a different hardness from the components included in the first composition and/or the second composition.
일 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이하도록 하기 위하여, 상기 제1 조성물의 제1 무기 입자가 상기 제2 조성물의 제2 무기 입자와 경도 등의 성질이 상이하거나, 및/또는 상기 제1 조성물의 제1 무기 분말이 상기 제2 조성물의 제2 무기 분말과 경도 등의 성질이 상이하도록 조절할 있다. 입자 또는 분말의 경도 차이가 클수록 동일 조건에서 인조대리석이 연마되는 정도가 높기 때문에 거칠기 차이가 크게 될 수 있다. 또한, 제1 조성물 및 제2 조성물에 각각 경도가 상이한 분말만을 사용하는 경우에 비하여, 경도가 상이한 입자를 사용하는 경우에 거칠기의 차이가 더 크게 구현될 수 있다. According to one embodiment, at least one surface of the artificial marble includes at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and in order to make at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region different, the first inorganic particles of the first composition may have different properties such as hardness from the second inorganic particles of the second composition, and/or the first inorganic powder of the first composition may have different properties such as hardness from the second inorganic powder of the second composition. The greater the difference in hardness of the particles or powders, the higher the degree to which the artificial marble is polished under the same conditions, and thus the roughness difference may become greater. In addition, the difference in roughness may be greater when particles having different hardnesses are used, compared to when only powders having different hardnesses are used in the first composition and the second composition, respectively.
여기서, 제1 무기 입자, 제2 무기 입자, 제1 무기 분말 및 제2 무기 분말은 각각 1종의 입자 또는 분말로 이루어질 수 있으나, 2종 이상의 입자 또는 분말을 포함하는 경우도 본 발명의 범위에 포함된다. 구체적으로, 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물 중 어느 하나, 또는 둘 다 각각은 2종 이상의 바인더 수지, 2종 이상의 무기 입자 또는 2종 이상의 무기 분말이 혼합된 혼합조성물을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 무기 입자와 제2 무기 입자가 각각 1종의 입자로만 이루어진 경우, 제2 무기 입자 전부가 제1 무기 입자 전부와 경도 등의 성질이 상이할 수 있다. 다른 예로서, 제1 무기 입자가 2 종 이상의 입자를 포함하는 경우, 제2 무기 입자 중 적어도 1 종의 입자가 제1 무기 입자의 적어도 1종의 입자와 경도 등의 성질이 상이할 수 있다. 마찬가지로, 제2 무기 분말의 전부 또는 적어도 1종이 제1 무기 분말의 전부 또는 적어도 1종과 경도 등의 성질이 상이할 수 있다. Here, the first inorganic particle, the second inorganic particle, the first inorganic powder, and the second inorganic powder may each be composed of one type of particle or powder, but a case where they include two or more types of particles or powders is also included in the scope of the present invention. Specifically, either one of the first composition and the second composition, or both may each include a mixed composition in which two or more types of binder resins, two or more types of inorganic particles, or two or more types of inorganic powders are mixed. For example, when the first inorganic particle and the second inorganic particle are each composed of only one type of particle, all of the second inorganic particles may have different properties, such as hardness, from all of the first inorganic particles. As another example, when the first inorganic particle includes two or more types of particles, at least one type of particle among the second inorganic particles may have different properties, such as hardness, from at least one type of particle among the first inorganic particles. Similarly, all or at least one type of the second inorganic powder may have different properties, such as hardness, from all or at least one type of the first inorganic powder.
또한, 제2 무기 입자가 2종 이상의 입자를 포함하는 경우, 제1 무기 입자의 적어도 1종과 경도 등의 성질이 동일한 입자를 포함할 수 있으나, 성질이 동일한 입자의 제2 무기 입자 중의 함량이 제1 무기 입자 중의 함량과 상이할 수 있다. 마찬가지로, 제2 무기 분말이 2종 이상의 분말을 포함하는 경우, 제1 무기 분말의 적어도 1종과 경도 등의 성질이 동일한 분말을 포함할 수 있으나, 성질이 동일한 분말의 제2 무기 분말 중의 함량이 제1 무기 분말 중의 함량과 상이할 수 있다. 이 경우, 제1 조성물과 제2 조성물에 성질이 동일한 입자 또는 분말이 포함되더라도, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이해 질 수 있다. 상기와 같은 함량 차이에 따라 동일 조건에서 인조대리석의 연마시 연마되는 부분의 면적, 분포, 두께 등에 차이가 발생할 수 있다. 구체적으로, 제1 무기입자와 제2 무기입자의 함량차이에 따라 더 깎여 나가는 부분의 면적, 분포 또는 두께 차이가 생길 수 있을 것 같습니다.In addition, when the second inorganic particles include two or more types of particles, they may include particles having the same properties as at least one type of the first inorganic particles, such as hardness, but the content of the particles having the same properties in the second inorganic particles may be different from the content in the first inorganic particles. Similarly, when the second inorganic powder includes two or more types of powder, they may include powder having the same properties as at least one type of the first inorganic powder, such as hardness, but the content of the powder having the same properties in the second inorganic powder may be different from the content in the first inorganic powder. In this case, even if the first composition and the second composition include particles or powders having the same properties, at least one surface of the artificial marble includes at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region may be different. Depending on the difference in content as mentioned above, there may be differences in the area, distribution, thickness, etc. of the polished portion when polishing artificial marble under the same conditions. Specifically, it seems that there may be differences in the area, distribution, or thickness of the portion that is further removed depending on the difference in content between the first and second inorganic particles.
일 실시상태에 따르면, 상기 제2 무기 입자가 상기 제1 무기 입자와 경도가 상이한 입자를 포함하거나, 상기 제1 무기 입자와 동일한 경도의 입자를 상기 제1 무기 입자와 상이한 함량으로 포함할 수 있다. According to one embodiment, the second inorganic particles may include particles having a different hardness from the first inorganic particles, or may include particles having the same hardness as the first inorganic particles in a different content from the first inorganic particles.
상기 제2 무기 입자가 상기 제1 무기 입자와 경도가 상이한 입자를 포함하는 경우, 상기 제2 무기 입자 전부가 제1 무기 입자 중 적어도 1 종과 경도가 상이할 수도 있고, 제2 무기 입자는 추가로 상기 제1 무기 입자와 경도가 동일한 입자를 포함할 수 있다. 마찬가지로, 상기 제1 무기 입자가 상기 제2 무기 입자와 경도가 상이한 입자를 포함하는 경우, 상기 제1 무기 입자 전부가 제2 무기 입자 중 적어도 1 종과 경도가 상이할 수도 있고, 제1 무기 입자는 추가로 상기 제2 무기 입자와 경도가 동일한 입자를 포함할 수 있다.When the second inorganic particles include particles having a different hardness from the first inorganic particles, all of the second inorganic particles may have a different hardness from at least one of the first inorganic particles, and the second inorganic particles may further include particles having the same hardness as the first inorganic particles. Similarly, when the first inorganic particles include particles having a different hardness from the second inorganic particles, all of the first inorganic particles may have a different hardness from at least one of the second inorganic particles, and the first inorganic particles may further include particles having the same hardness as the second inorganic particles.
상기 제2 무기 입자 및 상기 제1 무기 입자가 동일한 경도의 입자를 포함하는 경우, 상기 제2 무기 입자의 전부 또는 적어도 1종은 상기 제1 무기 입자 중 적어도 1종과 동일한 경도의 입자일 수 있으며, 이 경우, 제1 및 제2 무기 입자 중에 동일한 경도의 입자는 제1 무기 입자 중의 함량과 제2 무기 입자 중의 함량이 상이할 수 있다. When the second inorganic particles and the first inorganic particles include particles having the same hardness, all or at least one of the second inorganic particles may be particles having the same hardness as at least one of the first inorganic particles, and in this case, the content of particles having the same hardness among the first and second inorganic particles may be different in the first inorganic particles and the second inorganic particles.
일 실시상태에 따르면, 상기 제2 무기 입자는 상기 제1 무기 입자의 적어도 1종과 경도의 차이가 1 내지 4인 입자를 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 및 제2 무기 입자의 경도는 각각 3~7일 수 있다. According to one embodiment, the second inorganic particles may include particles having a hardness difference of 1 to 4 from at least one of the first inorganic particles. For example, the hardness of the first and second inorganic particles may be 3 to 7, respectively.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 무기 입자 및 상기 제2 무기 입자는 각각 석영, 알루미나, 알루미늄 수산화물 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 이 때, 상기 예시들의 경도는 각각 석영 7, 알루미나 8, 알루미늄 수산화물 3, 알루미늄 3일 수 있다. According to one embodiment, the first inorganic particle and the second inorganic particle may each include at least one selected from quartz, alumina, aluminum hydroxide, and aluminum. At this time, the hardness of the examples may be quartz 7, alumina 8, aluminum hydroxide 3, and aluminum 3, respectively.
또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 제2 무기 분말이 상기 제1 무기 분말과 경도가 상이한 분말을 포함하거나, 상기 제1 무기 분말과 동일한 경도의 분말을 상기 제1 무기 분말과 상이한 함량으로 포함할 수 있다. According to another embodiment, the second inorganic powder may include a powder having a different hardness from the first inorganic powder, or may include a powder having the same hardness as the first inorganic powder in a different amount from the first inorganic powder.
상기 제2 무기 분말이 상기 제1 무기 분말과 경도가 상이한 분말을 포함하는 경우, 상기 제2 무기 분말 전부가 제1 무기 분말 중 적어도 1 종과 경도가 상이할 수도 있고, 제2 무기 분말은 추가로 상기 제1 무기 분말과 경도가 동일한 분말을 포함할 수 있다. 마찬가지로, 상기 제1 무기 분말이 상기 제2 무기 분말과 경도가 상이한 분말을 포함하는 경우, 상기 제1 무기 분말 전부가 제2 무기 분말 중 적어도 1 종과 경도가 상이할 수도 있고, 제1 무기 분말은 추가로 상기 제2 무기 분말과 경도가 동일한 분말을 포함할 수 있다.When the second inorganic powder includes powder having a different hardness from that of the first inorganic powder, all of the second inorganic powders may have a different hardness from that of at least one of the first inorganic powders, and the second inorganic powder may further include powder having the same hardness as that of the first inorganic powder. Similarly, when the first inorganic powder includes powder having a different hardness from that of the second inorganic powder, all of the first inorganic powders may have a different hardness from that of at least one of the second inorganic powders, and the first inorganic powder may further include powder having the same hardness as that of the second inorganic powder.
상기 제2 무기 분말 및 상기 제1 무기 분말이 동일한 경도의 분말을 포함하는 경우, 상기 제2 무기 분말의 전부 또는 적어도 1종은 상기 제1 무기 분말 중 적어도 1종과 동일한 경도의 분말일 수 있으며, 이 경우, 제1 및 제2 무기 분말 중에 동일한 경도의 분말은 제1 무기 분말 중의 함량과 제2 무기 분말 중의 함량이 상이할 수 있다.When the second inorganic powder and the first inorganic powder include powders having the same hardness, all or at least one of the second inorganic powders may be powders having the same hardness as at least one of the first inorganic powders, and in this case, the powders having the same hardness among the first and second inorganic powders may have different contents in the first inorganic powder and the second inorganic powder.
일 실시상태에 따르면, 상기 제2 무기 분말은 상기 제1 무기 분말의 적어도 1종과 경도의 차이가 1 내지 4인 분말을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 및 제2 무기 분말의 경도는 각각 3~7일 수 있다. According to one embodiment, the second inorganic powder may include a powder having a hardness difference of 1 to 4 from at least one of the first inorganic powders. For example, the hardness of the first and second inorganic powders may be 3 to 7, respectively.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 무기 분말 및 상기 제2 무기 분말은 각각 석영, 알루미나, 유리, 알루미늄 수산화물, 퓨즈드 실리카 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 이 때, 상기 예시들의 경도는 각각 석영 7, 알루미나 8, 유리 6.5, 알루미늄 수산화물 3, 퓨즈드 실리카 6.5, 알루미늄 3일 수 있다. 상기 예시들 중 경도가 상이한 분말을 선택하여 사용함으로써 전술한 바와 같이 인조대리석 표면의 거칠기 차이를 나타냄으로써 천연석의 질감을 구현할 수 있다. According to one embodiment, the first inorganic powder and the second inorganic powder may each include at least one selected from quartz, alumina, glass, aluminum hydroxide, fused silica, and aluminum. At this time, the hardness of the examples may be quartz 7, alumina 8, glass 6.5, aluminum hydroxide 3, fused silica 6.5, and aluminum 3, respectively. By selecting and using powders having different hardnesses among the examples, it is possible to express a difference in roughness of the surface of the artificial marble as described above, thereby implementing the texture of natural stone.
본 명세서에 있어서, 상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면 상의, 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역의 표면조도, 내스크래치성, 또는 두께가 상이함을 하기와 같은 방법으로 측정할 수 있다. In the present specification, the difference in surface roughness, scratch resistance, or thickness of at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed on at least one surface of the artificial marble can be measured by the following method.
표면조도는 각 영역의 단면곡선에서 가장 높은 봉우리 5개의 평균 높이와 가장 깊은 골짜기 5개의 평균 깊이의 차인 10점평균거칠기 통해서 측정할 수 있다. 구체적으로, 표면의 거칠기가 다른 두 영역에 3cm 기준선을 설정 후 0.2mm 간격으로 마이크로미터로 두께 측정 후, 10점 평균거칠기(ten point median height)를 계산하였다. 이와 같은 방법으로 측정된 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역의 10점평균거칠기의 차이는 10~250㎛일 수 있다. 예컨대, 상기 제1 조성물이 구비된 영역과 상기 제2 조성물이 구비된 영역의 각각의 10점평균거칠기는 각각 10~50㎛ 및 100~250㎛일 수 있다.Surface roughness can be measured through the ten-point median roughness, which is the difference between the average height of the five highest peaks and the average depth of the five deepest valleys in the cross-sectional curve of each area. Specifically, after setting a 3 cm reference line in two areas with different surface roughness, the thickness was measured with a micrometer at intervals of 0.2 mm, and the ten-point median roughness (ten point median height) was calculated. The difference in the ten-point average roughness of at least two areas among the area provided with the first composition, the area provided with the second composition, and the area where the first composition and the second composition are mixed, measured by this method, may be 10 to 250 μm. For example, the ten-point average roughness of the area provided with the first composition and the area provided with the second composition may be 10 to 50 μm and 100 to 250 μm, respectively.
내스크래치성은 Scratch hardenss test 방법에 의하여 측정할 수 있다. 구체적으로, 내스크래치성은 ERICHSEN 사의 Scratch Hardness Tester 413, 13196 Diamond tip을 사용하여 측정할 수 있다. 이와 같은 방법으로 측정된 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역의 내스크래치성의 차이는 0 N 초과 0.6 N 이하일 수 있다. 예컨대, 상기 제1 조성물이 구비된 영역과 상기 제2 조성물이 구비된 영역의 각각의 내스크래치성은 1.2~1.6N 및 0.8~1.2N 일 수 있다.Scratch resistance can be measured by a Scratch hardenss test method. Specifically, scratch resistance can be measured using a Scratch Hardness Tester 413, 13196 Diamond tip from ERICHSEN. The difference in scratch resistance of at least two regions among the region provided with the first composition, the region provided with the second composition, and the region where the first composition and the second composition are mixed, measured by this method, may be more than 0 N and less than or equal to 0.6 N. For example, the scratch resistance of the region provided with the first composition and the region provided with the second composition may be 1.2 to 1.6 N and 0.8 to 1.2 N, respectively.
두께는 인조대리석의 판면에 수직인 두께 방향으로의 길이를 의미하며 각 영역 상의 3 cm 길이의 임의의 가상의 직선 상의 1cm 간격의 3점 두께의 평균값에 의하여 측정할 수 있다. 이와 같은 방법으로 측정된 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역의 두께의 차이는 20~400㎛일 수 있다. 예컨대, 상기 제1 조성물이 구비된 영역과 상기 제2 조성물이 구비된 영역의 각각의 두께는 20T 제품 기준 19.880~20.120mm 및 19.400~19.900 mm, 30T 제품 기준 29.880~30.120mm 및 29.400~29.900mm일 수 있다.Thickness refers to the length in the thickness direction perpendicular to the surface of the artificial marble, and can be measured by the average value of the thickness at three points at 1 cm intervals on an arbitrary imaginary straight line that is 3 cm long on each region. The difference in the thickness of at least two regions among the region provided with the first composition, the region provided with the second composition, and the region where the first composition and the second composition are mixed, which are measured in this way, may be 20 to 400 μm. For example, the thickness of each of the region provided with the first composition and the region provided with the second composition may be 19.880 to 20.120 mm and 19.400 to 19.900 mm for a 20T product, and 29.880 to 30.120 mm and 29.400 to 29.900 mm for a 30T product, respectively.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 조성물이 구비된 영역과 상기 제2 조성물이 구비된 영역은 각각 베이스와 패턴일 수 있다. 일 예에 따르면, 상기 제2 무기 입자가 상기 제1 무기 입자의 경도보다 높은 경도를 갖는 입자를 포함하거나, 상기 제2 무기 분말이 상기 제1 무기 분말의 경도 보다 높은 경도를 갖는 입자를 포함할 수 있다. 이 경우, 베인 패턴의 표면은 베이스의 표면에 비하여표면조도, 내스크래치성, 및/또는 두께가 더 큰 특성을 갖는다. 필요에 따라, 상기 제2 조성물이 구비된 영역과 상기 제1 조성물이 구비된 영역은 각각 베이스와 패턴일 수 있다.According to one embodiment, the area provided with the first composition and the area provided with the second composition may be a base and a pattern, respectively. According to one example, the second inorganic particles may include particles having a hardness higher than that of the first inorganic particles, or the second inorganic powder may include particles having a hardness higher than that of the first inorganic powder. In this case, the surface of the vein pattern has greater surface roughness, scratch resistance, and/or thickness than the surface of the base. If necessary, the area provided with the second composition and the area provided with the first composition may be a base and a pattern, respectively.
상기 베이스와 패턴의 형태는 다양한 방식으로 구현될 수 있으며, 패턴 구현 방식에 따라 각 영역의 형태가 결정될 수 있다. 예컨대, 2톤, 멀티톤, 동조 엠보, 그라데이션, 베인 패턴 등이 형태가 구현될 수 있으며, 베인 패턴은 베인의 길이에 따라 숏베인 및 롱베인 등으로 구분될 수 있다. The shape of the above base and pattern can be implemented in various ways, and the shape of each area can be determined according to the pattern implementation method. For example, shapes such as 2-tone, multi-tone, synchronized embossing, gradient, and vein pattern can be implemented, and the vein pattern can be classified into short vein and long vein according to the length of the vein.
일 예로서, 패턴으로서 베인의 길이가 짧은 숏베인을 포함하는 인조대리석에서, 숏베인 영역이 경도가 큰 재료를 포함하는 영역인 경우, 숏베인 영역의 표면이 돌출된 상태일 수 있다. 구체적으로 숏베인 영역이 베이스 영역과 상이한 착색제 종류 또는 함량을 포함하는 경우, 색상이 다른 숏베인 영역만 돌출될 수 있다. 형태는 숏베인의 모양에 따라 달라질 수 있다. As an example, in an artificial marble including a short vein as a pattern, if the short vein area is an area including a material with high hardness, the surface of the short vein area may be in a protruding state. Specifically, if the short vein area includes a different type or content of a coloring agent from the base area, only the short vein area having a different color may be protruded. The form may vary depending on the shape of the short vein.
또 하나의 예로서, 패턴으로서 베인의 길이가 긴 롱베인을 포함하는 인조대리석에서, 롱베인 영역이 경도가 작은 재료를 포함하는 영역인 경우 롱베인 영역의 두께가 베이스 영역에 비하여 두께가 얇을 수 있다. 두께는 인조대리석의 연마 정도에 따라 달라질 수 있다. As another example, in an artificial marble having a long vein as a pattern, if the long vein area is an area containing a material with low hardness, the thickness of the long vein area may be thinner than that of the base area. The thickness may vary depending on the degree of polishing of the artificial marble.
또 하나의 예로서, 패턴으로서 동조 엠보에 의하여 형성한 베인 패턴을 포함하는 인조대리석에서, 베인 패턴이 경도가 낮은 재료를 포함하는 영역인 경우 베인 패턴의 두께가 베이스부에 비하여 얇아질 수 있다. As another example, in an artificial marble including a vein pattern formed by a sympathetic embossing as a pattern, if the vein pattern is a region including a material with low hardness, the thickness of the vein pattern may be thinner than that of the base portion.
또 하나의 예로서, 멀티톤 패턴을 포함하는 인조대리석에서, 경도가 상이한 재료를 포함하는 영역들이 고르게 분포되어 랜덤하게 두께 차이가 나타날 수 있다. As another example, in artificial marble containing a multi-tone pattern, areas containing materials of different hardness may be evenly distributed, resulting in random thickness differences.
또 하나의 예로서, 그라데이션 패턴을 포함하는 인조대리석은 경도가 낮은 입자 및/또는 분말의 함량 차이로 구현 가능하다. 예컨대, Mixer 1에 무기 입자로서 석영 100wt%, Mixer 2에 무기 입자로서 석영 60wt%/알루미늄 수산화물 40wt%, Mixer 3에 석영 40wt%/알루미늄 수산화물 60wt%를 포함하는 조성물을 각각 넣고 직접 원하는 패턴이 되도록 위치에 맞게 분상하여 그라데이션 패턴을 구현하는 경우, 동일 조건 브러쉬 연마 후 Mixer 1의 조성물이 구비된 영역의 두께가 제일 두껍고, Mixer 2의 조성물이 구비된 영역 및 Mixer 3의 조성물이 구비된 영역 순으로 두께 차이가 날 수 있다. Mixer 1, 2 및 3의 조성물로 이루어진 각 영역을 서로 유사한 색상으로 구성시에는 색상의 그라데이션 구현도 가능하다. As another example, artificial marble including a gradient pattern can be implemented by a difference in the content of low-hardness particles and/or powder. For example, when a composition including 100 wt% of quartz as an inorganic particle in Mixer 1, 60 wt% of quartz/40 wt% of aluminum hydroxide as inorganic particles in Mixer 2, and 40 wt% of quartz/60 wt% of aluminum hydroxide as inorganic particles in Mixer 3 are respectively added and dispersed at positions so as to directly form a desired pattern to implement a gradient pattern, after brush polishing under the same conditions, the thickness of the area provided with the composition of Mixer 1 may be the thickest, followed by the thickness difference between the area provided with the composition of Mixer 2 and the area provided with the composition of Mixer 3. When each area composed of the compositions of Mixers 1, 2, and 3 is configured with a similar color, it is also possible to implement a color gradient.
상기 제1 및 제2 무기 입자는 입도가 0.1 내지 4 mm 인 무기 입자들일 수 있다. 상기 입도는 Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer 입도분석기를 사용하여 측정할 수 있다. The above first and second inorganic particles may be inorganic particles having a particle size of 0.1 to 4 mm. The particle size can be measured using a Beckman Coulter LS 13 320 Particle size analyzer.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 무기 분말 및 상기 제2 무기 분말은 입도가 0.1 mm 이하, 예컨대 0.001 mm 이상 0.1 mm 이하인 무기 분말일 수 있다. 입도의 측정 방법은 무기 입자와 관련된 설명이 적용될 수 있다. According to one embodiment, the first inorganic powder and the second inorganic powder may be inorganic powders having a particle size of 0.1 mm or less, for example, 0.001 mm or more and 0.1 mm or less. The method of measuring the particle size may be applied to the description related to inorganic particles.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 바인더 수지 및 상기 제2 바인더 수지는 상기 제1 및 제2 조성물 각각 100중량%를 기준으로 20 중량% 미만으로 포함된다. 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 및 제2 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함할 수 있다.According to one embodiment, the first binder resin and the second binder resin are contained in an amount of less than 20 wt% based on 100 wt% of each of the first and second compositions. According to one embodiment, the first and second binder resins may contain 90 wt% or more of an unsaturated polyester resin.
통상 무기 입자, 무기 분말 등을 포함하는 무기물 함량이 80 중량% 이상이고, 바인더 수지가 20 중량% 미만인 경우 '이스톤' 이라 한다. 바인더 수지가 30 중량% 수준이거나 그 이상인 경우 '솔리드 서피스(solid surface)'라고 한다. 보통 '이스톤'의 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르계(unsaturated polyester, (UPE)) 가 많이 사용되나 이에 한정되지 않고 PMMA 등 다양하게 연구되고 있다. 또한 통상의 '솔리드 서피스'의 바인더 수지는 PMMA 고분자와 MMA 모노머를 수산화알루미늄과 혼합하여 경화시켜 MMA가 많이 사용되나, 또한 이에 한정되지 않고 다양한 수지가 연구되고 있다. 본 발명은 상기 정의에 따른 '이스톤' 에 대한 것이다. When the inorganic content including inorganic particles, inorganic powders, etc. is 80 wt% or more and the binder resin is less than 20 wt%, it is called 'Easton'. When the binder resin is 30 wt% or more, it is called 'solid surface'. Unsaturated polyester (UPE) is usually used as the binder resin of 'Easton', but it is not limited to this, and various types such as PMMA are being studied. In addition, MMA is often used as the binder resin of the typical 'solid surface', but it is not limited to this, and various resins are being studied. The present invention relates to 'Easton' according to the above definition.
상기 제1 및 제2 바인더 수지는 각각 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 내지 2.5 중량부, 촉매제 0.05 내지 0.3 중량부, 및 커플링제 0.5 내지 7 중량부를 혼합하고 분산시킨 후 경화하여 제조할 수 있다.The first and second binder resins can be manufactured by mixing and dispersing 0.4 to 2.5 parts by weight of a curing agent, 0.05 to 0.3 parts by weight of a catalyst, and 0.5 to 7 parts by weight of a coupling agent per 100 parts by weight of an unsaturated polyester resin, and then curing.
상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물 또는 이의 경화물을 포함할 수 있다.상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 포함하는 수지 혼합물을 이용하여 제조될 수 있다. 바람직하게는 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물을 이용하여 제조한다. 더욱 바람직하게는 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 60 중량% 내지 75 중량% 및 비닐계 단량체 25 중량% 내지 40 중량%로 이루어지는 조성물을 이용하여 제조한다. The unsaturated polyester resin may include a composition comprising an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100:30 to 70, or a cured product thereof. The unsaturated polyester resin may be produced using a resin mixture comprising an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer. Preferably, the unsaturated polyester resin is produced using a composition comprising an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100:30 to 70. More preferably, the unsaturated polyester resin is produced using a composition comprising 60 to 75 wt% of an unsaturated polyester polymer and 25 to 40 wt% of a vinyl monomer.
상기 불포화 폴리에스테르 수지는 통상적으로 상기 비닐계 단량체 내에 불포화 폴리에스테르 고분자가 희석되어 점성이 있는 용액일 수 있다. 따라서, 상기 비닐계 단량체를 전술한 범위의 함량으로 만족시킴으로써, 점도를 줄여주어 상기 불포화 폴리에스테르 수지를 취급하는데 더욱 용이하게 할 수 있다. 게다가 상기 비닐계 단량체는 부산물의 생성 없이, 상기 불포화 폴리에스테르 수지를 폴리에스테르 분자 사슬의 교차결합에 의해 액체에서 고체로 경화시킬 수 있다. 상기 불포화 폴리에스테르 수지의 중량평균분자량은 1,000-10,000 g/mol이다.The above unsaturated polyester resin can be a viscous solution in which an unsaturated polyester polymer is diluted in the above vinyl monomer. Therefore, by satisfying the content of the vinyl monomer in the above-mentioned range, the viscosity can be reduced, making it easier to handle the unsaturated polyester resin. In addition, the vinyl monomer can harden the unsaturated polyester resin from a liquid to a solid by cross-linking of polyester molecular chains without generating by-products. The weight average molecular weight of the unsaturated polyester resin is 1,000-10,000 g/mol.
상기 불포화 폴리에스테르 고분자는 특별히 제한되지 않으며, 예컨대, 포화 또는 불포화 이염기산; 및 다가 알코올의 축합반응을 통해 제조되는 불포화 폴리에스테르 고분자를 사용할 수 있다. 상기 포화 또는 불포화 이염기산으로는 오쏘(ortho)-프탈산, 이소프탈산, 무수말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 이타콘산, 프탈산, 무수프탈산, 테레프탈산, 호박산, 아디핀산, 세바신산 또는 테트라히드로프탈산을 사용할 수 있다. 또한, 상기 다가 알코올로는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 수소화 비스페놀 A, 트리메틸롤 프로판 모노아릴에테르, 네오펜틸 글리콜, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올 및/또는 글리세린을 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 아크릴산, 프로피온산 또는 안식향산과 같은 일염기산; 또는 트리멜리트산 또는 벤졸의 테트라카본산과 같은 다염기산을 더 사용할 수 있다.The above unsaturated polyester polymer is not particularly limited, and for example, an unsaturated polyester polymer produced through a condensation reaction of a saturated or unsaturated dibasic acid; and a polyhydric alcohol can be used. As the saturated or unsaturated dibasic acid, ortho-phthalic acid, isophthalic acid, maleic anhydride, citraconic acid, fumaric acid, itaconic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, or tetrahydrophthalic acid can be used. In addition, as the polyhydric alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, hydrogenated bisphenol A, trimethylol propane monoaryl ether, neopentyl glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol and/or glycerin can be used. In addition, a monobasic acid such as acrylic acid, propionic acid or benzoic acid; or a polybasic acid such as trimellitic acid or the tetracarboxylic acid of benzol can be further used as needed.
상기 비닐계 단량체의 종류로는 알킬 아크릴레이트 단량체 또는 방향족 비닐계 단량체를 사용할 수 있으나, 불포화 폴리에스테르 고분자와의 반응성을 고려하여, 방향족 비닐계 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 예컨대, 상기 방향족 비닐계 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐 톨루엔, 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환된 알킬 스티렌 및 할로겐으로 치환된 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 스티렌 단량체를 사용할 수 있다.As the type of the above vinyl monomer, an alkyl acrylate monomer or an aromatic vinyl monomer can be used. However, considering the reactivity with the unsaturated polyester polymer, it is preferable to use an aromatic vinyl monomer. For example, as the above aromatic vinyl monomer, at least one selected from the group consisting of styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyl toluene, alkyl styrene substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and styrene substituted with a halogen can be used. A styrene monomer is preferably used.
상기 경화제는 바인더의 경화 반응을 위해 포함될 수 있는 것으로, 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 경화제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 경화제는 유기퍼옥사이드계 화합물 또는 아조계 화합물일 수 있다. 상기 유기퍼옥사이드계 화합물은 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제(TBPB, Trigonox C, akzo nobel), 디아실퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드, 케톤퍼옥사이드, 퍼옥시에스테르, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드, 알킬 퍼에스테르, 퍼카보네이트 및 퍼옥시디카보네이트 중 선택된 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 일 예로, 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제, 벤조일퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠밀하이드로 퍼옥사이드, 과산화메틸에틸케톤, t-부틸 퍼옥시 말레산, t-부틸 하이드로 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 또는 t--아밀 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트일 수 있으나 반드시 이로 제한되는 것은 아니다.The above curing agent can be included for the curing reaction of the binder, and any curing agent used in the production of engineered stone can be used, but is not particularly limited. The above curing agent can be an organic peroxide compound or an azo compound. The organic peroxide compound can be one or two or more selected from tertbutyl peroxybenzoate thermal curing agent (TBPB, Trigonox C, Akzo Nobel), diacyl peroxide, hydroperoxide, ketone peroxide, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, alkyl perester, percarbonate, and peroxydicarbonate. Examples thereof include, but are not necessarily limited to, tert-butyl peroxybenzoate thermosetting agent, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, butyl hydroperoxide, cumyl hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl peroxy maleate, t-butyl hydroperoxide, acetyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butyl peroxy neodecanoate, or t-amyl peroxy 2-ethyl hexanoate.
또한 상기 아조계 화합물은 아조비스이소부티로니트릴 (azobisisobutyronitrile)일 수 있으나 반드시 이로 제한되는 것은 아니다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 내지 2.5 중량부를 포함할 수 있다. 상기 경화제가 상기 경화제가 0.4 중량부 이상으로 포함될 때 바인더 수지의 경화가 충분히 일어날 수 있고, 2.5 중량부 이하로 포함될 때 바인더의 변색 발생을 방지할 수 있다. In addition, the azo compound may be, but is not necessarily limited to, azobisisobutyronitrile. The binder resin may contain 0.4 to 2.5 parts by weight of a hardener based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the hardener is contained in an amount of 0.4 parts by weight or more, sufficient hardening of the binder resin can occur, and when the hardener is contained in an amount of 2.5 parts by weight or less, discoloration of the binder can be prevented.
상기 촉매제로는 저온에서 바인더의 경화를 촉진하기 위해 포함될 수 있는 것으로, 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 촉매제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 촉매제는 코발트계, 바나듐계 또는 망간계 등의 금속 비누류, 제3급 아민류, 제4급 암모늄염 및 메르캅탄류 중 선택된 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 예컨대 코발트 6% 촉매제(Hex-Cem, Borchers)를 사용할 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 촉매제는 0.05 내지 0.3 중량부 포함될 수 있다. 상기 촉매제가 0.05 중량부 이상으로 포함될 때 경화를 촉진하는 데 유리하고, 0.3 중량부 이하로 포함될 때 바인더의 변색 발생을 방지할 수 있다. The above catalyst can be included to promote hardening of the binder at a low temperature, and can be a catalyst used in the production of engineered stone, but is not particularly limited thereto. The catalyst can be one or more selected from metal soaps such as cobalt-based, vanadium-based or manganese-based, tertiary amines, quaternary ammonium salts and mercaptans. For example, a cobalt 6% catalyst (Hex-Cem, Borchers) can be used. The binder resin can include 0.05 to 0.3 parts by weight of the catalyst relative to 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the catalyst is included in an amount of 0.05 parts by weight or more, it is advantageous in promoting hardening, and when it is included in an amount of 0.3 parts by weight or less, it can prevent discoloration of the binder.
상기 커플링제는 상기 바인더 수지와 천연 광물 입자와 같은 무기 입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시켜 주기 위해 포함될 수 있는 것으로, 실란계 또는 실리케이트계일 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 커플링제는 0.5 내지 7 중량부 포함될 수 있다. 상기 커플링제가 0.5 중량부 이상으로 포함될 때 상기 무기 입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시키는 데 유리하고, 7 중량부 이하로 포함될 때 원재료 단가를 낮추는데 유리하다.The coupling agent may be included to improve the bonding strength between the binder resin and inorganic particles such as natural mineral particles and/or quartz powder, and may be a silane-based or silicate-based agent. The binder resin may include 0.5 to 7 parts by weight of the coupling agent based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the coupling agent is included in an amount of 0.5 parts by weight or more, it is advantageous in improving the bonding strength with the inorganic particles and/or quartz powder, and when it is included in an amount of 7 parts by weight or less, it is advantageous in lowering the unit cost of raw materials.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물은 각각 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 700 중량부 및 무기 분말 200 내지 400 중량부를 포함할 수 있다. 이때, 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자는 500 내지 700 중량부 포함되며, 바람직하게는 550 내지 650 중량부 포함된다. 이때, 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 분말은 200 내지 400 중량부 포함되며, 바람직하게는 250 내지 350 중량부를 포함된다.According to one embodiment, the first composition and the second composition may each contain 500 to 700 parts by weight of inorganic particles and 200 to 400 parts by weight of inorganic powder with respect to 100 parts by weight of the binder resin. At this time, the inorganic particles are contained in an amount of 500 to 700 parts by weight, and preferably 550 to 650 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the binder resin. At this time, the inorganic powder is contained in an amount of 200 to 400 parts by weight, and preferably 250 to 350 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the binder resin.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 조성물 및/또는 상기 제2 조성물은 필요에 따라 착색제, 예컨대 안료를 추가로 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 조성물 중 어느 하나에만 착색제가 포함될 수도 있고, 둘 다에 착색제가 포함될 수 있다. 둘 다에 착색제가 포함되는 경우, 이들은 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. 안료는 상기 상기 제1 조성물 및/또는 상기 제2 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 내지 2 중량부로 포함될 수 있다. 상기 안료로는 인조대리석의 제조에 일반적으로 사용되는 안료이면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 안료로는 무기 안료가 사용될 수 있으며, 예컨대 TiO2, NiO·Sb2O3·20TiO2, Fe2O3, Fe3O4 등이 될 수 있다.According to one embodiment, the first composition and/or the second composition may further include a colorant, for example, a pigment, as needed. The colorant may be included in only one of the first and second compositions, or in both. When the colorant is included in both, they may be the same or different. The pigment may be included in an amount of 0.01 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the first composition and/or the second composition. The pigment may be a pigment generally used in the production of artificial marble and is not particularly limited. The pigment may be an inorganic pigment, and may include, for example, TiO 2 , NiO·Sb 2 O 3 ·20TiO 2 , Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , etc.
본 발명의 또 하나의 실시상태는Another embodiment of the present invention is
제1 바인더 수지, 제1 무기 입자 및 제1 무기 분말을 포함하는 제1 조성물; 및 제2 바인더 수지, 제2 무기 입자 및 제2 무기 분말을 포함하는 제2 조성물을 준비하는 단계; A step of preparing a first composition comprising a first binder resin, first inorganic particles and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, second inorganic particles and second inorganic powder;
상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 경화하는 단계; 및A step of curing the first composition and the second composition; and
레더피니시 방법에 의하여 경화된 상기 제1 및 제2 조성물의 표면마감을 하는 단계를 포함하는 전술한 실시상태들에 따른 인조대리석의 제조방법을 제공한다. 이와 같은 방법에 의하여 전술한 실시상태들에 따른 인조대리석을 제조할 수 있다. A method for manufacturing an artificial marble according to the above-described embodiments is provided, which includes a step of surface finishing the first and second compositions cured by a leather finish method. An artificial marble according to the above-described embodiments can be manufactured by this method.
먼저, 상기 제1 및 제2 조성물 각각은 바인더 수지에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 무기 분말을 첨가하여 혼합하고 잘 섞어 조성물을 제조하는 단계에 의하여 수행될 수 있다. 이때, 바인더 수지에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 무기 분말을 첨가하여 혼합하고 잘 섞어 인조대리석 조성물을 제조할 때, 하나 이상의 색상의 안료 및/또는 칩을 함께 섞어 인조대리석 조성물을 제조할 수 있다. 또한 바인더 수지에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 무기 분말, 안료 및/또는 칩을 함께 섞어 제1의 서브 인조대리석 조성물을 제조하고, 안료 및/또는 칩의 종류를 상이하게 사용하되 같은 방식으로 제2의 서브 인조대리석 조성물을 제조하고, 이런 식으로 둘 이상의 적은 양의 서브(sub) 인조대리석 조성물들을 복수 개 제조한 후 이를 섞어 최종적인 인조대리석 조성물을 제조하여 이용할 수도 있다. 이때, 서브 인조대리석 조성물은 각각 서로 다른 안료 및/또는 칩을 포함할 수 있으며, 인조대리석 제조 시 사용되는 각각의 서브 인조대리석 조성물의 첨가량 또한 상이할 수 있다. 또한 복수 개의 서브 인조대리석 조성물을 섞어 최종적인 인조대리석 조성물을 제조할 때, 서브 인조대리석 조성물들이 서로 완전히 잘 섞이게 혼합하지 않고, 서브 인조대리석 조성물들이 최종 인조대리석 조성물의 군데군데에 덩어리가 져서 남아있을 수 있도록 불균일하게 혼합하는 것이 바람직하다. 여기서, 각 서브 인조대리석 조성물은 전술한 제1 조성물 및 제2 조성물에 대응할 수 있다. First, each of the first and second compositions It can be carried out by a step of mixing inorganic particles into a binder resin, mixing the mixture well, adding inorganic powder, mixing and mixing well to prepare a composition. At this time, when mixing the inorganic particles into the binder resin, mixing the mixture well, adding inorganic powder, mixing and mixing well to prepare an artificial marble composition, one or more colored pigments and/or chips can be mixed together to prepare an artificial marble composition. In addition, a first sub-artificial marble composition can be prepared by mixing inorganic particles into the binder resin, mixing the mixture well, and mixing the inorganic powder, pigment and/or chips together, and a second sub-artificial marble composition can be prepared using different types of pigments and/or chips in the same manner, and two or more small amounts of sub-artificial marble compositions can be prepared in this manner, and then they can be mixed to prepare a final artificial marble composition and used. At this time, the sub-artificial marble compositions may each include different pigments and/or chips, and the addition amount of each sub-artificial marble composition used in the manufacture of the artificial marble may also be different. In addition, when mixing a plurality of sub-artificial marble compositions to manufacture a final artificial marble composition, it is preferable that the sub-artificial marble compositions are not mixed completely well with each other, but are mixed unevenly so that the sub-artificial marble compositions may remain in lumps here and there in the final artificial marble composition. Here, each sub-artificial marble composition may correspond to the first composition and the second composition described above.
상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 경화하는 단계는 상기 제1 및 제2 조성물을 몰드에 투입하고 진공진동압축 성형 단계; 상기 제1 및 제2 조성물을 경화하는 단계; 및 경화가 완료된 후 실온으로 식히고(냉각) 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 단계는 상기 제1 및 제2 조성물을 몰드에 투입하고 진공가압 장비를 이용하여 다짐성형하는 진공진동압축 성형 단계, 그 후 90 내지 130 ℃에서 30분 내지 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고(냉각) 그 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계에 의하여 수행될 수 있다. The step of curing the first composition and the second composition may include a step of putting the first and second compositions into a mold and performing a vacuum vibration compression molding step; a step of curing the first and second compositions; and a step of cooling to room temperature (cooling) and removing the first and second compositions from the mold (demolding) after curing is complete, thereby manufacturing an artificial marble. Specifically, the step may be performed by a step of putting the first and second compositions into a mold and performing a vacuum vibration compression molding step of compacting using a vacuum pressurizing device, followed by a step of curing at 90 to 130° C. for 30 minutes to 1 hour, followed by cooling to room temperature (cooling) and removing the first and second compositions from the mold (demolding) after curing is complete, thereby manufacturing an artificial marble.
상기 경화된 상기 제1 및 제2 조성물의 표면마감을 하는 단계는 레더피니시 방법에 의하여 수행된다. 상기 표면마감은 연마(polishing)로 표현될 수도 있다. 레더피니시 방법은 브러시 패드를 이용하는 방법으로서, 인조대리석의 부분별 경도에 따라, 강한 경도를 가진 부분은 상대적으로 덜 식각되고, 덜 강한 경도를 가진 부분은 상대적으로 더 식각되도록 표면 마감을 수행할 수 있다. The step of surface finishing the above-mentioned hardened first and second compositions is performed by a leather finish method. The surface finishing may also be expressed as polishing. The leather finish method is a method using a brush pad, and the surface finishing can be performed so that, depending on the hardness of each part of the artificial marble, a part with strong hardness is relatively less etched, and a part with less strong hardness is relatively more etched.
본 발명과 같이, 제1 조성물과 제2 조성물이 경도가 상이한 입자 또는 분말을 포함하지 않거나, 경도가 동일한 입자 또는 분말의 함량을 달리하지 않는 경우, 레더피니시 방법을 이용하여 표면마감을 하는 경우에도 인조대리석 전면이 무광 처리된 것과 같은 효과밖에 나타나지 않지만, 본 발명에 따르면 제1 조성물과 제2 조성물이 구비된 영역 각각에서의 경도 차이로 인하여 영역별로 천연석과 같은 자연스러운 질감이 구현될 수 있다. 표면 마감시 브러쉬 패드를 사용할 수 있으며, 브러쉬 패드로는 거칠기에 따라 36 grit, 46 grit, 60 grit, 120 grit, 220 grit, 300 grit의 것을 사용할 수 있으며, 낮은 수치의 grit의 패드, 예컨대 36 grit 내지 60 grit는 표면의 거칠기를 만들기 위해 사용될 수 있고, 높은 수치의 grit, 예컨대 120 grit 내지 300 grit는 조금 더 부드러운 마감을 위하여 사용될 수 있다. As in the present invention, when the first composition and the second composition do not contain particles or powders having different hardness, or do not have different contents of particles or powders having the same hardness, even when the surface is finished using a leather finish method, only an effect similar to a matte finish is exhibited on the entire surface of the artificial marble. However, according to the present invention, a natural texture like natural stone can be implemented for each region due to the difference in hardness in each region where the first composition and the second composition are provided. A brush pad can be used for the surface finishing, and brush pads of 36 grit, 46 grit, 60 grit, 120 grit, 220 grit, and 300 grit can be used depending on the roughness. A pad of a low grit value, for example, 36 grit to 60 grit, can be used to create surface roughness, and a pad of a high grit value, for example, 120 grit to 300 grit, can be used for a slightly softer finish.
일 실시상태에 따르면, 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 경화하는 단계 이전 또는 도중에 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 혼합 또는 패턴화하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때 혼합은 상기 제1 및 제2 조성물 각각의 성분들이 혼합된 정도 보다는 상대적으로 낮은 정도로 수행될 수 있다. 패턴화는 인조대리석 분야에서 사용되는 패턴화방법이 이용될 수 있으며, 예컨대 상기 제1 또는 제2 조성물이 2톤, 멀티톤, 베인 패턴, 그라데이션, 동조 엠보 패턴을 구현하는 데 사용될 수 있다. According to one embodiment, the method may further include a step of mixing or patterning the first composition and the second composition before or during the step of curing the first composition and the second composition. At this time, the mixing may be performed at a relatively lower degree than the degree to which the components of each of the first and second compositions are mixed. The patterning may utilize a patterning method used in the field of artificial marble, and for example, the first or second composition may be used to implement a two-tone, multi-tone, vein pattern, gradient, or synchronized embossing pattern.
상기 혼합 또는 패턴화는 전술한 제1 및 제2 조성물을 몰드에 투입하는 단계 도중 또는 이후와 진공진동압축 단계 이전에 수행될 수 있다. The above mixing or patterning may be performed during or after the step of introducing the first and second compositions described above into the mold and before the vacuum vibration compression step.
2톤(2tone)은 두 개의 믹서를 사용하여 비슷한 색상톤의 조성물을 Ring mixer에서 불균일하게 혼합 후 분상하여 패턴을 형성할 수 있다. 2-tone can be formed by mixing similar color tones unevenly in a ring mixer and then dispersing them using two mixers to form a pattern.
멀티톤은 세 개의 믹서에서 서로 색상이 상이한 세 가지 조성물을 제조한 후 Ring mixer에서, 필요에 따라 2톤 보다 더 균일하게 혼합하여, 세 가지 색상의 혼합물이 random하게 섞이도록 하여 형성할 수 있다. Multitones can be formed by preparing three compositions of different colors in three mixers, then mixing them more evenly than two tones, if necessary, in a ring mixer, so that the three color mixtures are mixed randomly.
숏베인은 주형 벨트에서 분체 안료를 균일하게 분사함으로써 형성할 수 있다. 베이스 조성물 덩어리 사이에 들어간 분체 안료들이, 인조대리석을 경화한 후 연마하였을 때 드러나며 숏베인을 형성한다. 이 때. 사용하는 분체 안료는 무기 입자와 안료를 포함할 수 있다. Shot veins can be formed by uniformly spraying powder pigments from a mold belt. Powder pigments that are inserted between the lumps of base composition are revealed when the artificial marble is hardened and polished, forming shot veins. At this time, the powder pigment used may include inorganic particles and pigments.
선폭이 좁은 롱베인은 베이스 조성물을 주형한 후 엠보롤 또는 로봇으로 선을 그은 후 액상안료 또는 분체안료를 투입하여 형성할 수 있고, 선폭이 넓은 롱베인은 베이스 조성물을 주형한 후 로봇으로 홈을 판후 패턴 조성물을 투입하여 형성할 수 있다. Long veins with narrow line widths can be formed by molding a base composition, drawing lines with an embossing roller or robot, and then injecting liquid pigment or powder pigment, while long veins with wide line widths can be formed by molding a base composition, creating grooves with a robot, and then injecting a pattern composition.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 후술하는 실시예들에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가지 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples in order to specifically explain the present invention. However, the examples according to the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention is not limited to the examples described below. The examples of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the art.
[인조대리석의 제조방법][Method for manufacturing artificial marble]
(1) 하기 표 1의 영역 A, 영역 A, 영역 B의 재료를 각각 계량하였다. (1) Materials for areas A, A, and B in Table 1 below were each measured.
(2) Planetary Mixer A에 영역 A 재료 중 UPE 수지와 입자(sand)를 넣고 60rpm 으로 1분 혼합한 후, 분말(powder)을 넣고 동일 rpm으로 2분 혼합하였다. 영역 B도 동일한 방법으로 Planetary mixer B에서 혼합하였다. (2) UPE resin and particles (sand) from the materials in area A were added to planetary mixer A and mixed at 60 rpm for 1 minute, then powder was added and mixed at the same rpm for 2 minutes. Area B was also mixed in the same way in planetary mixer B.
(3) 실시예 3 내지 5 및 비교예 1은 영역 A, 영역 B의 재료의 혼합물을 모두 Planetary mixer A에 넣고 20rpm 속도로 5회 회전하여 불균일 혼합한 후 몰드에 분상하였다. 실시예 1 및 2의 경우 불균일 혼합 없이 베이스와 베인 영역을 칸막이로 구분하여 베이스 영역에 영역 A 혼합물, 베인 영역에 영역 B 혼합물을 몰드에 분상하였다. (3) In Examples 3 to 5 and Comparative Example 1, the mixture of materials in areas A and B was placed in planetary mixer A and rotated 5 times at a speed of 20 rpm to mix non-uniformly, and then sprayed onto a mold. In the case of Examples 1 and 2, the base and vane areas were separated by a partition without non-uniform mixing, and the area A mixture was sprayed onto the base area and the area B mixture was sprayed onto the vane area.
(4) 진공-진동-압축 장비에서, 진공 5mbar, 압력 2.5 bar 조건에서 2500 rpm으로 15초, 2900rpm으로 45초 진동을 가한 후 몰드를 상판 130℃, 하판 130℃에서 30분 경화시켰다. (4) In a vacuum-vibration-compression equipment, the mold was vibrated at 2,500 rpm for 15 seconds and 2,900 rpm for 45 seconds under the conditions of a vacuum of 5 mbar and a pressure of 2.5 bar, and then cured at 130°C on the upper plate and 130°C on the lower plate for 30 minutes.
(5) Brush 패드를 사용하여 레더피니시 공정을 수행하였다. 거칠기가 거친(Grit 혹은 방수가 낮은) 패드에서 부드러운 패드를 거쳐가며 연마하였다. 구체적으로, Tenex 사의 Filiflex and Airflex Antiquing Brush로서, 36 grit Diamond brush, 36 grit Filiflex, 46 grit Filiflex, 60 grit Filiflex, 120 grit Airflex, 220 grit Airflex 및 300 grit Airflex를 거쳐가며 연마하였다. 연마 장치(Polishing machine)의 RPM 과 pressure는 각각 750RPM 및 1/2 bar 를 사용하였다. (5) The leather finish process was performed using a Brush pad. Polishing was performed by going from a rough pad (low grit or water resistance) to a soft pad. Specifically, polishing was performed by going from a 36 grit Diamond brush, 36 grit Filiflex, 46 grit Filiflex, 60 grit Filiflex, 120 grit Airflex, 220 grit Airflex, and 300 grit Airflex with Filiflex and Airflex Antiquing Brush from Tenex. The RPM and pressure of the polishing machine were 750 RPM and 1/2 bar, respectively.
[평가 방법][Evaluation method]
A. 10점 평균거칠기A. 10 points average roughness
표면 조도(거칠기)는 표면의 거칠기가 다른 두 영역에 3cm 기준선을 설정 후 0.2mm 간격으로 마이크로미터로 두께 측정 후, 10점 평균거칠기(ten point median height)를 계산하였다. Surface roughness (roughness) was calculated by setting a 3 cm reference line in two areas with different surface roughness, measuring the thickness with a micrometer at 0.2 mm intervals, and calculating the ten point median height.
B. 내스크래치성 테스트B. Scratch resistance test
ERICHSEN 사의 Scratch Hardness Tester 413, 13196 Diamond tip을 사용하여 측정하였다. Measurements were made using Scratch Hardness Tester 413, 13196 Diamond tip from ERICHSEN.
C. 두께 차이C. Thickness difference
3 cm 길이의 가상의 직선 상의 1cm 간격의 3점 두께의 평균값을 측정하였다. The average value of the thickness at three points spaced 1 cm apart on an imaginary straight line of 3 cm in length was measured.
(N)Nesratchetness
(N)
(㎛)Thickness difference
(㎛)
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
영역 B : 28 Area A: 25
Area B: 28
영역 B : 1.5Area A: 1.4
Area B: 1.5
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
영역 B: 100Area A: 25
Area B: 100
영역 B (0.9N)Area A (1.4N)
Area B (0.9N)
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
석영 분말 28wt%, UPE 12 wt%, aluminum particles 60 wt%,
28 wt% quartz powder,
영역 B: 140Area A: 25
Area B: 140
영역 B (1.0N)Area A (1.4N)
Area B (1.0N)
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
영역 B: 110Area A: 25
Area B: 110
영역 B (1.1N)Area A (1.4N)
Area B (1.1N)
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
영역 B: 30Area A: 25
Area B: 30
영역 B (0.9N)Area A (1.4N)
Area B (0.9N)
석영 분말 28wt%UPE 12 wt%, quartz particles 60 wt%,
Quartz powder 28wt%
석영 입자 60wt%,
Quartz Powder 28wt%UPE 12%,
60 wt% quartz particles,
Quartz Powder 28wt%
영역 B: 25Area A: 25
Area B: 25
영역 B (1.4N)Area A (1.4N)
Area B (1.4N)
비교예 1은 영역 A와 영역 B에 동일한 조성을 사용함으로써 10점평균거칠기와 내스크래치성이 동일했다. 그러나, 영역 A에 비하여 영역 B에 경도가 작은 무기 분말을 포함하는 실시예 1 및 5, 영역 A에 비하여 영역 B에 경도가 작은 무기 입자를 포함하는 실시예 3 및 4와, 영역 A에 비하여 영역 B에 경도가 작은 무기 입자 및 무기 분말을 포함하는 실시예 2에서는 영역 A와 영역 B 사이에 10점평균거칠기, 내스크래치성 및 두께가 상이하므로, 천연석에 가까운 질감을 구현할 수 있었다. 실시예 1 내지 3에서 제조한 인조대리석의 표면의 사진을 각각 도 1 내지 3에 나타내었다. Comparative Example 1 had the same 10-point average roughness and scratch resistance by using the same composition in areas A and B. However, in Examples 1 and 5 including inorganic powder having lower hardness in area B than in area A, Examples 3 and 4 including inorganic particles having lower hardness in area B than in area A, and Example 2 including inorganic particles and inorganic powder having lower hardness in area B than in area A, the 10-point average roughness, scratch resistance, and thickness were different between areas A and B, so that a texture close to natural stone could be implemented. Surface photographs of the artificial marble manufactured in Examples 1 to 3 are shown in FIGS. 1 to 3, respectively.
Claims (22)
상기 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이하고,
상기 제1 무기 입자 및 상기 제2 무기 입자는 각각 석영, 알루미나, 알루미늄 수산화물 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하며,
상기 제1 무기 분말 및 상기 제2 무기 분말은 각각 석영, 알루미나, 유리, 알루미늄 수산화물 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,
상기 제2 무기 입자는 상기 제1 무기 입자와의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 입자를 포함하거나; 상기 제2 무기 분말은 상기 제1 무기 분말과의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 분말을 포함하거나; 또는 상기 제2 무기 입자는 상기 제1 무기 입자와의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 입자를 포함하고, 상기 제2 무기 분말은 상기 제1 무기 분말과의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 분말을 포함하는 것인 인조대리석.An artificial marble comprising a first composition comprising a first binder resin, a first inorganic particle, and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, a second inorganic particle, and a second inorganic powder.
At least one surface of the artificial marble includes at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different.
The first inorganic particle and the second inorganic particle each include at least one selected from quartz, alumina, aluminum hydroxide and aluminum,
The first inorganic powder and the second inorganic powder each include at least one selected from quartz, alumina, glass, aluminum hydroxide and aluminum,
An artificial marble wherein the second inorganic particles include inorganic particles having a difference in hardness of 1 to 4 from the first inorganic particles; or the second inorganic powder includes inorganic powder having a difference in hardness of 1 to 4 from the first inorganic powder; or the second inorganic particles include inorganic particles having a difference in hardness of 1 to 4 from the first inorganic particles, and the second inorganic powder includes inorganic powder having a difference in hardness of 1 to 4 from the first inorganic powder.
상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 경화하는 단계; 및
레더피니시 방법에 의하여 경화된 상기 제1 및 제2 조성물의 표면마감을 하는 단계
를 포함하고, 인조대리석의 적어도 하나의 표면은 상기 제1 조성물이 구비된 영역, 상기 제2 조성물이 구비된 영역, 및 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물이 혼합된 영역 중 적어도 2 영역을 포함하고, 각 영역의 표면조도, 내스크래치성, 및 두께 중 적어도 하나가 상이하고,
상기 제1 무기 입자 및 상기 제2 무기 입자는 각각 석영, 알루미나, 알루미늄 수산화물 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하며,
상기 제1 무기 분말 및 상기 제2 무기 분말은 각각 석영, 알루미나, 유리, 알루미늄 수산화물 및 알루미늄 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,
상기 제2 무기 입자는 상기 제1 무기 입자와의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 입자를 포함하거나; 상기 제2 무기 분말은 상기 제1 무기 분말과의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 분말을 포함하거나; 또는 상기 제2 무기 입자는 상기 제1 무기 입자와의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 입자를 포함하고, 상기 제2 무기 분말은 상기 제1 무기 분말과의 경도의 차이가 1 내지 4인 무기 분말을 포함하는 것인 청구항 1, 2, 4, 5, 7 내지 10, 12, 15, 17, 및 18 중 어느 한 항에 따른 인조대리석의 제조방법.A step of preparing a first composition comprising a first binder resin, first inorganic particles and a first inorganic powder; and a second composition comprising a second binder resin, second inorganic particles and second inorganic powder;
A step of curing the first composition and the second composition; and
Step of surface finishing the first and second compositions cured by a leather finish method
, and at least one surface of the artificial marble includes at least two regions among a region provided with the first composition, a region provided with the second composition, and a region where the first composition and the second composition are mixed, and at least one of surface roughness, scratch resistance, and thickness of each region is different.
The first inorganic particle and the second inorganic particle each include at least one selected from quartz, alumina, aluminum hydroxide and aluminum,
The first inorganic powder and the second inorganic powder each include at least one selected from quartz, alumina, glass, aluminum hydroxide and aluminum,
A method for manufacturing an artificial marble according to any one of claims 1, 2, 4, 5, 7 to 10, 12, 15, 17, and 18, wherein the second inorganic particles include inorganic particles having a hardness difference of 1 to 4 from the first inorganic particles; or the second inorganic powder includes inorganic powder having a hardness difference of 1 to 4 from the first inorganic powder; or the second inorganic particles include inorganic particles having a hardness difference of 1 to 4 from the first inorganic powder, and the second inorganic powder includes inorganic powder having a hardness difference of 1 to 4 from the first inorganic powder.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2023/004095 WO2023200149A1 (en) | 2022-04-14 | 2023-03-28 | Artificial marble having same texture as natural stone, and manufacturing method therefor |
| US18/848,383 US20250206662A1 (en) | 2022-04-14 | 2023-03-28 | Artificial marble having same texture as natural stone, and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220046504 | 2022-04-14 | ||
| KR20220046504 | 2022-04-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230147506A KR20230147506A (en) | 2023-10-23 |
| KR102737108B1 true KR102737108B1 (en) | 2024-12-02 |
Family
ID=88508645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020220107423A Active KR102737108B1 (en) | 2022-04-14 | 2022-08-26 | Artificial marble having same texture as natural stone and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102737108B1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009263662A (en) | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Toto Ltd | Artificial marble |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101270415B1 (en) | 2010-04-20 | 2013-06-07 | (주)엘지하우시스 | A marble chip, a marble comprising the same and preparation method thereof |
| KR101562092B1 (en) * | 2012-12-20 | 2015-10-20 | 제일모직주식회사 | Artificial Silica Marble Having Amorphous Pattern and Method for Preparing the Same |
| KR101991685B1 (en) * | 2015-12-01 | 2019-06-24 | (주)엘지하우시스 | Artificial marble composition and method of manufactuing artificial marble using the same |
| KR102343441B1 (en) * | 2018-09-07 | 2021-12-27 | (주)엘엑스하우시스 | Composition for artificial marble |
-
2022
- 2022-08-26 KR KR1020220107423A patent/KR102737108B1/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009263662A (en) | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Toto Ltd | Artificial marble |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20230147506A (en) | 2023-10-23 |
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| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20220826 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
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|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
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|
| PR1002 | Payment of registration fee |
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|
| PG1601 | Publication of registration |