KR102667810B1 - 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서 및 이의 제조 방법 - Google Patents
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- 239000004005 microsphere Substances 0.000 title claims abstract description 128
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 21
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 38
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 38
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 27
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 4
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 4
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 3
- 238000000053 physical method Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/14—Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/04—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof using blowing gases generated by a previously added blowing agent
- C08J9/12—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof using blowing gases generated by a previously added blowing agent by a physical blowing agent
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- C08J9/141—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/16—Making expandable particles
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/22—After-treatment of expandable particles; Forming foamed products
- C08J9/228—Forming foamed products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/36—After-treatment
- C08J9/365—Coating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
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- G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
- G01L1/2287—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
Description
도 2의 (a), (b), (c)는 본 발명의 일실시예에 따른 바텀업 접근(Bottom-up approach) 방식으로 3차원 몰드를 형성하는 방법을 나타낸 개념도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서에 구비된 중공미소구를 나타낸 일방향에서의 단면도이다.
도 4의 (a), (b)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서가 열처리되어 열팽창하는 것을 나타낸 개념도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서에 구비된 탄성중합체의 소재를 나타낸 실제사진이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서에 구비된 중공미소구가 기설정된 열팽창 조건에서 열처리되어 열팽창되는 과정을 상세히 나타낸 도면이다.
도 7의 (a), (b), (c)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서가 제조되는 과정을 순차적으로 나타낸 개념도이다.
도 8의 (a), (b), (c)는 도 7의 (a), (b), (c)에서의 상태를 촬영한 도면이다.
도 9의 (a), (b)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서가 가해지는 하중(압력) 및 접촉 영역을 나타낸 도면이다.
도 10의 (a), (b), (c)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법에 의해 제조된 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서가 가압판과의 접촉 영역 및 하중의 크기에 따라 통전되는 경로의 수가 변화하는 것을 나타낸 개념도이다.
도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 12의 (a), (b)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법에 의해 제조된 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서가 적용된 압력에 대한 동적 감지 성능을 나타낸 그래프이다.
도 13의 (a), (b)는 본 발명의 일실시예에 따른 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법에 의해 제조된 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서에 대한 압력반응곡선을 나타낸 그래프이다.
20: 가압판
100: 중공미소구
110: 탄성중합체
120: 탄화수소
200: 고분자물질(PDMS)
300: 필름
400: 금속층
500: 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서
Claims (11)
- 가압되는 압력의 크기 및 상기 압력의 접촉 영역의 변화에 따라 통전되는 경로의 수가 변화하여 상기 압력을 감지하는 물리센서에 있어서,
플레이트의 상면에 위치하는 다수의 중공미소구;
상기 다수의 중공미소구를 둘러싸도록 상기 플레이트의 상면에 투입되는 고분자물질;
상기 다수의 중공미소구에 의해 3차원 표면 형상이 형성된 상태로 상기 고분자물질이 경화된 필름; 및
상기 필름의 상면에 금속이 증착되어 형성되는 도전체인 금속층;을 포함하고,
상기 필름은 상기 다수의 중공미소구를 열처리함에 따라 상기 다수의 중공미소구가 열팽창하여 상기 다수의 중공미소구의 상부와 상응하는 상기 3차원 표면 형상이 형성되며,
상기 금속은 상기 다수의 중공미소구의 열팽창이 완료된 상태에서 상기 필름에 증착되는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 제1 항에 있어서,
상기 중공미소구는,
구 형상의 열가소성 플라스틱으로 이루어진 탄성중합체; 및
상기 탄성중합체의 내부에 위치하는 탄화수소;를 포함하고,
상기 탄성중합체는 액체 상태의 상기 탄화수소가 열처리되어 기체 상태로 상변화함에 따라 외부로 팽창되는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 제2 항에 있어서,
상기 탄성중합체의 소재는 TEMS 파우더인 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 제2 항에 있어서,
상기 탄화수소는 3분 동안 170℃의 온도로 열처리되고,
상기 탄성중합체의 직경은 열팽창되는 상기 탄화수소에 의해 5μm 내지 14μm에서 25μm 내지 48 μm로 팽창되는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 제 1 항에 있어서,
상기 고분자물질은 실리콘(PDMS: Polydimethylslioxane)인 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 제1 항에 있어서,
상기 금속층이 도전된 상태에서 가압판에 의해 상기 금속층의 상면에 가해지는 하중의 접촉 영역 및 하중의 크기에 따라 통전되는 경로의 수가 변화하는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서.
- 가압되는 압력의 크기 및 상기 압력의 접촉 영역의 변화에 따라 통전되는 경로의 수가 변화하여 상기 압력을 감지하는 물리센서의 제조 방법에 있어서,
(a) 플레이트 위에 고분자물질을 위치시키는 단계;
(b) 상기 고분자물질에 다수의 중공미소구를 혼합시키는 단계;
(c) 상기 고분자물질과 상기 다수의 중공미소구를 열처리하여 열팽창시키는 단계; 및
(d) 상기 열팽창된 고분자물질과 다수의 중공미소구로 구성되는 필름의 표면에 금속을 증착시키는 단계;를 포함하고,
상기 필름은 상기 다수의 중공미소구를 열처리함에 따라 상기 다수의 중공미소구가 열팽창하여 상기 다수의 중공미소구의 상부와 상응하는 3차원 표면 형상이 형성되며,
상기 금속은 상기 다수의 중공미소구의 열팽창이 완료된 상태에서 상기 필름에 증착되는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법.
- 제7 항에 있어서,
상기 (b) 단계는,
(b1) 상기 고분자물질에 상기 다수의 중공미소구를 혼합시키는 단계;
(b2) 스핀 코팅 또는 필름 애플리케이터(film applicator)에 의해 상기 고분자물질이 상기 다수의 중공미소구를 감싸도록 펼쳐지는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법.
- 제7 항에 있어서,
상기 (c) 단계는,
(c1) 상기 고분자물질과 상기 다수의 중공미소구에 3분 동안 170℃의 온도로 열을 가하는 열처리를 수행하는 단계;
(c2) 상기 중공미소구에 구비된 탄성중합체가 상기 탄성중합체의 내부에 위치하는 탄화수소의 열팽창에 의해 외부로 팽창되는 단계; 및
(c3) 상기 고분자물질이 경화되면서 상기 다수의 중공미소구와 함께 필름으로 형성되는 단계;를 포함하고,
상기 탄성중합체의 직경은 상기 탄화수소에 의해 5μm 내지 14μm에서 25μm 내지 48 μm로 팽창되는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법.
- 제7 항에 있어서,
상기 (d) 단계는,
(d1) 상기 열팽창된 고분자물질과 다수의 중공미소구로 구성되는 필름의 표면에 금속을 증착시키는 단계; 및
(d2) 상기 필름의 표면에 상기 금속이 증착된 금속층이 형성되는 단계;를 포함하고,
상기 금속층은 도전체인 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법.
- 제7 항에 있어서,
상기 (d) 단계 이후,
상기 필름이 전도성 회로와 합지하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서의 제조 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220058292A KR102667810B1 (ko) | 2022-05-12 | 2022-05-12 | 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서 및 이의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220058292A KR102667810B1 (ko) | 2022-05-12 | 2022-05-12 | 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서 및 이의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230158769A KR20230158769A (ko) | 2023-11-21 |
| KR102667810B1 true KR102667810B1 (ko) | 2024-05-21 |
Family
ID=88982274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020220058292A Active KR102667810B1 (ko) | 2022-05-12 | 2022-05-12 | 중공미소구를 이용한 3차원 표면 형상이 적용된 물리센서 및 이의 제조 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102667810B1 (ko) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110220619A (zh) | 2019-07-15 | 2019-09-10 | 合肥工业大学 | 基于空心球结构的柔性压力传感器及其制备方法 |
| CN111473891A (zh) | 2020-04-23 | 2020-07-31 | 合肥工业大学 | 基于开孔-闭孔结构的复合介质层柔性电容式触觉传感器及其制备方法 |
| CN113340483A (zh) | 2021-05-31 | 2021-09-03 | 重庆大学 | 一种仿生微结构的柔性力学传感器及其制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102215926B1 (ko) * | 2019-06-28 | 2021-02-17 | 한국생산기술연구원 | 미세 균열이 형성된 스트레인 게이지의 제작방법 |
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- 2022-05-12 KR KR1020220058292A patent/KR102667810B1/ko active Active
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| CN113340483A (zh) | 2021-05-31 | 2021-09-03 | 重庆大学 | 一种仿生微结构的柔性力学传感器及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20220512 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20240105 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20240513 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20240516 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20240516 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |