KR102279006B1 - 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 2는, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 횡단면도이다.
도 3은, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 우측면도이다.
도 4는, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 좌측면도이다.
도 5는, 캐리어 반송 기구를 나타내는 도이다.
도 6은, 캐리어 버퍼 장치를 나타내는 도이다.
도 7은, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 8은, 종래의 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 도이다.
도 9는, 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 도이다.
도 10은, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 종단면도이다.
도 11은, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 횡단면도이다.
도 12는, 실시예 2에 따른 인터페이스 블록에 설치된 오프너 배치를 나타내는 평면도이다.
도 13은, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 14는, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 종단면도이다.
도 15는, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 횡단면도이다.
도 16은, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 우측면도이다.
도 17은, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 18은, 실시예 4에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 종단면도이다.
도 19는, 실시예 4에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 횡단면도이다.
도 20은, 실시예 4에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 우측면도이다.
도 21은, 실시예 4에 따른 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 22는, 기판 처리 장치의 동작을 설명하기 위한 도이다.
도 23은, 변형예에 따른 기판 처리 장치를 부분적으로 나타내는 횡단면도이다.
도 24는, 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치의 구성 및 동작을 설명하기 위한 도이다.
도 25는, 다른 변형예에 따른 기판 처리 장치의 구성 및 동작을 설명하기 위한 도이다.
Claims (11)
- 기판을 처리하는 기판 처리 장치는,
일렬로 배치된 복수의 처리 블록으로서, 적어도 1개의 일단측의 처리 블록 및, 적어도 1개의 타단측의 처리 블록을 가지는 상기 복수의 처리 블록;
상기 복수의 처리 블록 중 일단의 처리 블록에 연결하여, 복수의 기판을 수납하는 것이 가능한 캐리어를 재치(載置)하기 위한 제1 캐리어 재치대가 설치된 인덱서 블록;
상기 복수의 처리 블록 중 타단의 처리 블록에 연결하여, 외부 장치에 대해서 기판의 반입 및 반출을 행하는 인터페이스 블록으로서, 상기 캐리어를 재치하기 위한 제2 캐리어 재치대가 설치된 상기 인터페이스 블록;
을 포함하고,
상기 인덱서 블록은, 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 일단측의 처리 블록에 이송하고,
상기 일단측의 처리 블록은, 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하며,
상기 타단측의 처리 블록은, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 인터페이스 블록에 이송하고,
상기 인터페이스 블록은, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 외부 장치에 반출하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하고,
상기 타단측의 처리 블록은, 상기 인터페이스 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 타단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는, 기판 처리 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 복수의 처리 블록은, 제1 처리를 행하는 제1 처리 블록과, 제2 처리를 행하는 제2 처리 블록을 구비하고,
상기 인덱서 블록은, 상기 제1 처리 블록에 연결하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 처리 블록에 연결하고,
상기 제2 처리 블록은, 상기 제1 처리 블록에 연결하며,
상기 인덱서 블록은, 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 제1 처리 블록에 이송하고,
상기 제1 처리 블록은, 이송된 기판에 대해서 상기 제1 처리를 행하고, 상기 제1 처리가 행해진 기판을 상기 제2 처리 블록에 이송하며,
상기 제2 처리 블록은, 상기 제1 처리가 행해진 기판을 상기 인터페이스 블록에 이송하고,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제1 처리가 행해진 기판을 상기 외부 장치에 반출하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 제3 처리가 행해진 기판을 상기 제2 처리 블록에 이송하고,
상기 제2 처리 블록은, 상기 인터페이스로부터 이송된 기판에 대해서 상기 제2 처리를 행하고, 상기 제2 처리가 행해진 기판을 상기 인터페이스 블록에 이송하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는, 기판 처리 장치. - 기판을 처리하는 기판 처리 장치는,
일렬로 배치된 복수의 처리 블록으로서, 적어도 1개의 일단측의 처리 블록 및, 적어도 1개의 타단측의 처리 블록을 가지는 상기 복수의 처리 블록;
상기 복수의 처리 블록 중 일단의 처리 블록에 연결하여, 복수의 기판을 수납하는 것이 가능한 캐리어를 재치하기 위한 제1 캐리어 재치대가 설치된 인덱서 블록;
상기 복수의 처리 블록 중 타단의 처리 블록에 연결하여, 외부 장치에 대해서 기판의 반입 및 반출을 행하는 인터페이스 블록으로서, 상기 캐리어를 재치하기 위한 제2 캐리어 재치대가 설치된 상기 인터페이스 블록;
을 포함하고,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하고,
상기 타단측의 처리 블록은, 상기 인터페이스 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 타단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 외부 장치에 반출하고,
상기 인터페이스 블록은, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하며,
상기 타단측의 처리 블록은, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 일단측의 처리 블록에 이송하고,
상기 일단측의 처리 블록은, 상기 타단측의 처리 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하며,
상기 인덱서 블록은, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는, 기판 처리 장치. - 청구항 3에 있어서,
상기 복수의 처리 블록은, 제1 처리를 행하는 제1 처리 블록과, 제2 처리를 행하는 제2 처리 블록을 구비하고,
상기 인덱서 블록은, 상기 제1 처리 블록에 연결하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 처리 블록에 연결하고,
상기 제2 처리 블록은, 상기 제1 처리 블록에 연결하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 제2 처리 블록에 이송하고,
상기 제2 처리 블록은, 상기 인터페이스 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 상기 제2 처리를 행하며,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 처리가 행해진 기판을 상기 외부 장치에 반출하고,
상기 인터페이스 블록은, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 제3 처리가 행해진 기판을 상기 제2 처리 블록에 이송하고,
상기 제2 처리 블록은, 상기 제3 처리가 행해진 기판을 상기 제1 처리 블록에 이송하고,
상기 제1 처리 블록은, 상기 제2 처리 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 상기 제1 처리를 행하며,
상기 인덱서 블록은, 상기 제1 처리가 행해진 기판을 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는, 기판 처리 장치. - 청구항 4에 있어서,
상기 인터페이스 블록은, 제4 처리를 행하는 처리 유닛과, 기판 반송 기구를 구비하고,
상기 기판 반송 기구는, 적어도 상기 제2 처리 블록, 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어, 및 상기 처리 유닛의 사이에서 기판을 이송하는, 기판 처리 장치. - 청구항 4에 있어서,
상기 인터페이스 블록은, 상기 제2 처리 블록에 연결하여, 상기 제2 캐리어 재치대가 설치된 제2 인덱서 블록과, 상기 제2 인덱서 블록에 연결하여, 상기 외부 장치에 대해서 기판의 반입 및 반출을 행하는 IF 본체 블록을 구비하고,
상기 제2 인덱서 블록은, 상기 제2 처리 블록, 상기 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어, 및 상기 IF 본체 블록의 사이에서 기판을 이송하는 제1 기판 반송 기구를 구비하고,
상기 IF 본체 블록은, 제4 처리를 행하는 처리 유닛과, 제2 기판 반송 기구를 구비하고, 상기 제2 기판 반송 기구는, 적어도 상기 제2 인덱서 블록 및 상기 처리 유닛의 사이에서 기판을 이송하는, 기판 처리 장치. - 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 캐리어 재치대와 상기 제2 캐리어 재치대의 사이에서 상기 캐리어를 반송하는 캐리어 반송 기구를 더 구비하고 있는, 기판 처리 장치. - 청구항 7에 있어서,
상기 캐리어 반송 기구는, 상기 제1 처리 블록 및 상기 제2 처리 블록 위에 탑재되어 있는, 기판 처리 장치. - 청구항 7에 있어서,
상기 제1 처리 블록 및 상기 제2 처리 블록 중 적어도 한쪽 위에 탑재된 캐리어 보관 선반을 더 구비하고,
상기 캐리어 반송 기구는, 상기 제1 캐리어 재치대, 상기 제2 캐리어 재치대 및 상기 캐리어 보관 선반의 사이에서 상기 캐리어를 반송하는, 기판 처리 장치. - 일렬로 배치된 복수의 처리 블록으로서, 적어도 1개의 일단측의 처리 블록 및, 적어도 1개의 타단측의 처리 블록을 가지는 상기 복수의 처리 블록과,
상기 복수의 처리 블록 중 일단의 처리 블록에 연결하여, 복수의 기판을 수납하는 것이 가능한 캐리어를 재치하기 위한 제1 캐리어 재치대가 설치된 인덱서 블록과,
상기 복수의 처리 블록 중 타단의 처리 블록에 연결하여, 외부 장치에 대해서 기판의 반입 및 반출을 행하는 인터페이스 블록을 구비한 기판 처리 장치의 기판 반송 방법은,
상기 인덱서 블록에 의해, 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 일단측의 처리 블록에 이송하는 공정;
상기 일단측의 처리 블록에 의해, 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하는 공정;
상기 타단측의 처리 블록에 의해, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 인터페이스 블록에 이송하는 공정;
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 외부 장치에 반출하는 공정;
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하는 공정;
상기 타단측의 처리 블록에 의해, 상기 인터페이스 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하는 공정;
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 타단측의 처리 블록에서 처리된 기판을, 상기 인터페이스 블록에 설치된 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는 공정을 포함하는, 기판 반송 방법. - 일렬로 배치된 복수의 처리 블록으로서, 적어도 1개의 일단측의 처리 블록 및, 적어도 1개의 타단측의 처리 블록을 가지는 상기 복수의 처리 블록과,
상기 복수의 처리 블록 중 일단의 처리 블록에 연결하여, 복수의 기판을 수납하는 것이 가능한 캐리어를 재치하기 위한 제1 캐리어 재치대가 설치된 인덱서 블록과,
상기 복수의 처리 블록 중 타단의 처리 블록에 연결하여, 외부 장치에 대해서 기판의 반입 및 반출을 행하는 인터페이스 블록을 구비한 기판 처리 장치의 기판 반송 방법은,
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 인터페이스 블록에 설치된 제2 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어로부터 기판을 취출하여, 취출한 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하는 공정;
상기 타단측의 처리 블록에 의해, 상기 인터페이스 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하는 공정;
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 타단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 외부 장치에 반출하는 공정;
상기 인터페이스 블록에 의해, 상기 외부 장치로부터 기판을 반입하여, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 타단측의 처리 블록에 이송하는 공정;
상기 타단측의 처리 블록에 의해, 상기 외부 장치에서 처리된 기판을 상기 일단측의 처리 블록에 이송하는 공정;
상기 일단측의 처리 블록에 의해, 상기 타단측의 처리 블록으로부터 이송된 기판에 대해서 미리 설정된 처리를 행하는 공정;
상기 인덱서 블록에 의해, 상기 일단측의 처리 블록에서 처리된 기판을 상기 제1 캐리어 재치대에 재치된 상기 캐리어에 복귀시키는 공정을 포함하는, 기판 반송 방법.
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Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7195841B2 (ja) * | 2018-09-21 | 2022-12-26 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
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| JP7114456B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-08-08 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板搬送方法 |
| JP7190900B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-12-16 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置 |
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| KR20230037990A (ko) * | 2021-09-10 | 2023-03-17 | 삼성전자주식회사 | Efem을 포함하는 웨이퍼 처리 장치 및 웨이퍼 처리 방법 |
| JP2024131483A (ja) * | 2023-03-16 | 2024-09-30 | キオクシア株式会社 | 半導体製造装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040005149A1 (en) | 2002-06-11 | 2004-01-08 | Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd. | Substrate treating apparatus and method |
| WO2009060541A1 (ja) | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Canon Anelva Corporation | インライン型ウェハ搬送装置 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3552178B2 (ja) * | 1995-09-27 | 2004-08-11 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板収納カセット、インターフェイス機構および基板処理装置 |
| JP3693783B2 (ja) * | 1997-03-21 | 2005-09-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP3353740B2 (ja) * | 1999-04-21 | 2002-12-03 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP3679690B2 (ja) * | 2000-07-12 | 2005-08-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| KR20020063664A (ko) | 2001-01-30 | 2002-08-05 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 소자 제조용 설비의 멀티챔버 시스템 |
| KR100542630B1 (ko) | 2004-04-28 | 2006-01-11 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조 설비 |
| JP4459831B2 (ja) | 2005-02-01 | 2010-04-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
| KR20070023191A (ko) | 2005-08-23 | 2007-02-28 | 삼성전자주식회사 | 멀티챔버시스템 및 이를 사용한 공정제어방법 |
| JP5025231B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2012-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送処理装置 |
| JP5148944B2 (ja) | 2007-08-14 | 2013-02-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム |
| KR100921638B1 (ko) | 2007-12-26 | 2009-10-14 | 주식회사 케이씨텍 | 습식 세정 장치 |
| JP4760919B2 (ja) * | 2009-01-23 | 2011-08-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
| JP5284808B2 (ja) | 2009-01-26 | 2013-09-11 | 株式会社Sokudo | ストッカー装置及び基板処理装置 |
| JP5462506B2 (ja) | 2009-03-18 | 2014-04-02 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5318005B2 (ja) | 2010-03-10 | 2013-10-16 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置、ストッカー装置および基板収納容器の搬送方法 |
| JP6243784B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-12-06 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置 |
| JP7190900B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-12-16 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置 |
| JP7175191B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-11-18 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板搬送方法 |
| JP7181081B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-11-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板搬送方法 |
-
2018
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-
2019
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040005149A1 (en) | 2002-06-11 | 2004-01-08 | Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd. | Substrate treating apparatus and method |
| WO2009060541A1 (ja) | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Canon Anelva Corporation | インライン型ウェハ搬送装置 |
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