KR102260902B1

KR102260902B1 - 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법

Info

Publication number: KR102260902B1
Application number: KR1020190156195A
Authority: KR
Inventors: 아키라 히라이
Original assignee: 긴미라이 가부시키가이샤
Priority date: 2019-11-28
Filing date: 2019-11-28
Publication date: 2021-06-03
Anticipated expiration: 2039-11-28
Also published as: TW202119973A; US20210161286A1; CN112841857A; JP2021084008A

Abstract

본 발명은 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 소결 은 함유 표면층을 갖는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 함유하는 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔은 우수한 제균 효과를 갖는다.

Description

은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법{Silver Sterilizing Sponge Teeth Cleaning Appliance, Silver Sterilizing Toothbrush And Making Method For The Same}

치과 의학상 충치, 치은염 및 치주염 등을 포함하는 다양한 구강질환은 여러 가지 원인에 의해 발병할 수 있다. 상기 원인은 전신적인 원인 및 국소적인 원인으로 나눌 수 있는데, 보다 중요한 원인은 국소적인 원인인 것으로 알려져 있다. 국소적인 원인으로 가장 중요한 것은 구강 내에 상주하는 세균 즉, 병원성 미생물이다.

한편, 자연계에는 수만 종에 이르는 미생물들이 각종 생태계에 폭 넓게 서식하고 있으며, 이러한 미생물들은 여러 질병 및 오염의 원인이 되기도 한다. 예를 들어, 사람의 구강 내에는 현재까지 밝혀진 바에 의하면 약 300 여종의 미생물이 치아표면, 치근부의 치아와 잇몸사이, 혀의 표면 등에 상주하고 있는 것으로 알려져 있으며, 이러한 미생물의 존재는 적절한 구강위생 활동이 이루어지는 경우 정상적 현상이라 할 수 있다.

그러나, 적절한 구강위생 활동이 이루어지지 아니하는 경우, 상기한 미생물 중 병원성 미생물에 의해 충치, 구취, 치은염 또는 치주질환 등 각종 구강질환이 야기될 수 있으며, 심한 경우 치아를 상실할 수도 있다. 일 예로, 구강 내에 상주하는 병원성 미생물의 발효작용에 의해 치아에 부착된 음식찌꺼기의 당분이나 전분 등의 탄수화물이 분해되어 생기는 젖산이 치아 경조직의 석회를 탈각시켜 충치가 발생할 수 있고, 혐기성 병원균체들이 대량 증식하는 경우 다양한 구강질환의 원인이 될 수 있다.

구강 내에 상주하는 병원성 미생물은 치아표면에 부착하여 몇 시간만 지나면 치태라고 하는 세균군집을 형성하고 증식하게 되며, 처음에는 눈에 보이는 치은 상부의 치아 표면에 집중적으로 병원성 미생물이 부착하여 치태를 형성하지만, 점차 진행되면 치은하부에 있는 치아표면에도 치태가 형성되게 된다. 상기 치태가 치아표면에서 형성될 경우, 병원성 미생물은 구강 내에 들어온 당분을 이용하여 산을 생산하고 이 산은 치아의 주성부인 무기질을 탈회시킴으로써 치아가 파괴되는 충치를 유발할 수 있다.

한편, 치은하부 치태에 있는 세균들 중 특히 혐기성 그람음성 미생물들은 독소, 단백질 분해효소 등을 분비하여 치주조직을 직접 파괴하거나 우리 몸의 면역세포들과 반응함으로써 다양한 면역물질의 생산을 유도하고 이들 물질이 치주조직의 염증과 파괴를 초래할 수 있다.

치아나 치주조직은 한번 파괴되면 치료는 될 수 있지만, 원래의 조직상태로 복구되지는 않는다는 점에서 그 심각성이 있고, 따라서 이들 국소원인의 대표적 요인인 병원성 미생물이 구강 내에서 번식하는 과정을 근본적으로 차단하는 것이 구강질환을 예방 또는 신속히 치료하는 방법일 수 있다.

상기와 같은 구강질환을 유발하는데 미생물로는 스트렙토코커스 뮤탄스, 포피로모나스 긴기발리스 등이 있다. 스트렙토코커스 뮤탄스는 충치발생의 원인균으로, 다양한 구강질환의 원인이 되고 있다. 특히, 스트렙토코커스 뮤탄스의 생육과정 중 생성되는 글루칸과 젖산은 치아의 에나멜질을 파괴하고 프라그를 생성하여 충치를 유발시킨다.

최근, 노인이나 유아를 대상으로 하는 구강 내 청결성을 유지하고, 제균 효과를 갖는 칫솔의 개발이 요구되고 있다.

한국등록특허 제10-1046621호

종래의 칫솔은 구강의 청결을 유지하기 위한 것이며, 제균 효과를 주기에는 부족하였다. 따라서, 본 발명은 노인이나 유아 등의 대상에 적합한 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법을 제공한다.

그러나, 본원이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 일 실시형태는 은 제균성 스폰지 및 스틱을 구비하는 은 제균성 스폰지 양치 기구에 있어서, 상기 은 제균성 스폰지의 일측면에 상기 스틱이 삽입되고, 상기 은 제균성 스폰지는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함하며, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자 및 무기계 광물 입자는 소결된 은 함유 표면층이 형성되고, 상기 은 제균성 스폰지의 내부 및 표면에 상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 분산되어 있는 은 제균성 스폰지 양치 기구를 제공한다.

또한, 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정, 제균성 스폰지를 제조하는 공정, 은 제균성 스폰지를 이용하여 양치 기구를 제조하는 공정을 포함하는 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법이며, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정은, 물에 은염류 화합물 분말을 첨가하고 용해시켜 은염류 용해액을 제조하는 제1 공정, 상기 은염류 용해액을 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포하는 제2 공정, 및 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포된 은염류 용해액을 질소 분위기에서 또는 산소분위기에서 소결하여, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 소결된 은 함유 표면층을 형성하는 제3 공정을 포함하며, 상기 제균성 스폰지를 제조하는 공정에 의하여, 상기 은 제균성 스폰지의 내부 및 표면에 상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 분산되어 있는 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법을 제공한다.

본 발명의 다른 실시형태는 은 제균성 브러시 및 스틱을 구비하는 은 제균성 칫솔에 있어서, 상기 은 제균성 브러시는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함하고, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자 및 무기계 광물 입자는 소결된 은 함유 표면층이 형성되고, 상기 은 제균성 브러시의 내부 및 표면에 상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 분산되어 있는 은 제균성 칫솔을 제공한다.

또한, 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자에 은 소결된 피막을 형성하는 공정, 은 제균성 브러시를 제조하는 공정 및 상기 은 제균성 브러시를 사용하여 칫솔을 제조하는 공정을 포함하며, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정은, 물에 은염류 화합물 분말을 첨가하고 용해시켜 은염류 용해액을 제조하는 제1 공정, 상기 은염류 용해액을 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포하는 제2 공정, 및 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포된 은염류 용해액을 질소 분위기에서 또는 산소분위기에서 소결하여, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 소결된 은 함유 표면층을 형성하는 제3 공정을 포함하며, 상기 제균성 브러시를 제조하는 공정에 의하여, 상기 은 제균성 브러시의 내부 및 표면에 상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 분산되어 있는 은 제균성 칫솔의 제조방법을 제공한다.

본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구, 은 제균성 칫솔은 그 내부 및 표면에 소결된 은(銀)이 함유된 표면층을 갖는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 구비함으로써, 우수한 제균 효과를 갖는다. 또한, 은 제균성 스폰지, 은 제균성 칫솔의 표면에 소결된 은이 함유된 표면층을 갖는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 치아에 접촉하면서 물리적으로 치석을 제거하는 효과도 있다.

도 1은, 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법을 나타낸다.
도 3은 본 발명의 은 제균성 칫솔을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 은 제균성 칫솔의 제조방법을 나타낸다.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원의 구현예를 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.

은 제균성 스폰지 양치 기구 및 이의 제조 방법

도 1은, 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구를 나타낸다.

도 1(a)는 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구(100A)의 실시형태를 나타낸다. 은 제균성 스폰지 양치 기구(100A)는 은 제균성 스폰지(10) 및 스틱(20)을 구비한다. 상기 은 제균성 스폰지(10)의 일측면에는 상기 스틱(20)이 삽입된다. 상기 은 제균성 스폰지(10)는 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함한다.

도 1(b)는 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구(100B)의 다른 실시형태를 나타낸다. 은 제균성 스폰지 양치 기구(100B)는 은 제균성 스폰지(11) 및 스틱(21)을 구비한다. 상기 은 제균성 스폰지(11)의 일측면에는 상기 스틱(21)이 삽입된다. 여기서, 은 제균성 스폰지(11)의 전면 및 후면에는, 단차(11a,11b,11c)를 갖음으로써, 치아 사이를 보다 면밀하게 닦을 수 있다. 상기 은 제균성 스폰지(11)는 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함한다.

특히, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자는 은 제균성 스폰지(10,11)의 내부뿐만 아니라 은 제균성 스폰지(10,11)의 표면에도 분산되어 있다. 따라서, 물에 은 이온을 용출하여 제균 효과를 발휘하면서, 은 제균성 스폰지(10,11)로 입 안을 문지를 때, 은 제균성 스폰지(10,11)의 표면에 분산되어 있는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 치석을 제거할 수도 있다.

이하에는, 은 제균성 스폰지 양치 기구의 구체적인 제조 방법에 대하여 설명한다.

도 2는 본 발명의 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법을 나타낸다. 본 발명의 제조방법은, 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정(S1), 은 제균성 스폰지를 제조하는 공정(S2), 은 제균성 스폰지를 이용하여 양치 기구를 제조하는 공정(S3)을 포함한다.

본 발명의 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정(S1)은, 물에 은염류 화합물 분말을 첨가하고 용해시켜 은염류 용해액을 제조하는 제1 공정(S11); 상기 은염류 용해액을 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포하는 제2 공정(S12); 및 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포된 은염류 용해액을 질소 분위기에서 또는 산소분위기에서 소결하여, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 소결된 은 함유 표면층을 형성하는 제3 공정(S13);을 포함한다.

상기에서는 소결된 은 코팅된 입자로서 500℃ 이상의 온도에서 내열성이 있는 탈크 입자, 세라믹 입자 또는 무기계 광물 입자를 사용한다.

은 염류 화합물은 탄산은, 염소산은, 염화은, 크롬산은, 바나듐산은, 망간산은, 질산은, 아질산은, 과염소산은, 인산은, 아세트산은 등 및 이들의 혼합물로부터 선택될 수 있다. 여기서, 하기 화학식 1의 질산은을 바람직하게 사용할 수 있다.

[화학식 1]

여기서, 질산은의 은염류 용해액을 코팅하여 소결된 은 함유 표면층을 형성하기 위해서는 가열 공정이 필요하다. 질산은의 녹는점은 212도℃이지만 질산은이 분해되는 온도는 440℃이다. 따라서, 소결 온도로서 440℃ 내지 500℃를 사용할 수 있다. 따라서, 소결된 우수한 은 함유 표면층은 우수한 제균성을 가질 수 있다.

질소분위기 또는 산소분위기에서 소결된 은 함유 표면층의 두께는 0.1㎛ 내지 100 ㎛가 바람직하며, 10㎛ 내지 80 ㎛가 더욱 바람직하다.

상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자에 대한 질소분위기 또는 산소분위기에서 소결된 은 함유 표면층의 중량비는 100:0.1~50이 바람직하며, 100:1~40이 더욱 바람직하다. 상기 범위에서 빠른 제균 특성을 얻는데 좋다.

은 제균성 스폰지를 제조하는 공정(S2)은, 원료를 혼합하는 공정(S1), 혼합된 원료를 교반하는 공정(S2), 교반된 원료를 숙성하는 공정(S3), 숙성된 원료를 가류하는 공정(S4), 냉각하는 공정(S5), 적절한 크기로 재단하는 공정(S6)을 포함한다.

원료를 혼합하는 공정(S1)은, 은 소결된 피막을 형성한 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 폴리에스테르 폴리올, 폴리에틸렌 폴리올, 또는 이들의 혼합물, 이소시아네이트, 색소, 발포제, 가류제 등을 혼합한다. 여기서, 은 소결된 피막을 형성한 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자는 혼합하는 원료의 전 중량에 대하여, 1중량%이상 내지 50중량%이하가 바람직하고, 5중량%이상 내지 20중량%이하가 더욱 바람직하다. 상기 범위 미만이면 제균 효과나 치석을 제거하는 효과를 기대할 수 없고, 상기 범위를 넘으면 제조된 폴리우레탄 스폰지가 하드(hard)하게 되고, 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 응집되어 바람직하지 않다.

그 외의 원료는, 폴리우레탄 스폰지의 공지된 혼합 비율을 사용할 수 있다. 색소는 제조된 폴리우레탄 스폰지가 색을 띄게 하기 위하여 사용한다.

혼합된 원료를 교반하는 공정(S2)은 원료를 교반기에 넣고, 10rpm 내지 100rpm으로 균일하게 혼합하면서 교반한다.

교반된 원료를 숙성하는 공정(S3)은 20℃ 내지 30℃, 1시간 내지 3시간에서 처리한다. 이 범위에서 숙성함으로써, 얻어진 혼합물에 작은 미세 기포를 큰 기포로 성장시켜 스폰지의 기포를 일정하게 만들 수 있다.

숙성된 원료를 가류하는 공정(S4)은 숙성된 원료를 가류기에 넣어 120℃ 내지 140℃, 30분 내지 1시간에서 처리한다. 이 처리에 의하여 가류제를 기화시켜, 폴리우레탄 스폰지에 탄성력을 줄 수 있다.

냉각하는 공정(S5)은 가류 처리된 원료를 실온까지 서서히 냉각한다.

적절한 크기로 재단하는 공정(S6)은 은 제균성 스폰지를 입안에 넣기 쉽고, 또한 은 제균성 스폰지로 치아를 문지르기 적절한 사이즈로 폴리우레탄 스폰지를 재단한다. 또한, 폴리우레탄 스폰지의 내부에 스틱을 넣어 고정시키기 위해서, 폴리우레탄 스폰지의 측면에 얇고 긴 구멍을 형성한다.

은 제균성 스폰지를 제조하는 공정(S2)에 의하여, 은 제균성 스폰지의 내무 및 표면에, 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 분산된다.

본 발명의 은 제균성 스폰지를 이용하여 양치 기구를 제조하는 공정(S3)은, 스틱을 준비하는 공정(S31), 상기 스틱을 은 제균성 스폰지에 고정하는 공정(S32)을 포함한다.

스틱을 준비하는 공정(S31)은, 얻어진 폴리우레탄 스폰지에 스틱을 삽입하여 치아를 문지르기 위해서, 얇고 긴 스틱을 준비한다. 스틱의 재질로는, 나무, 플라스틱을 이용할 수 있다.

스틱을 은 제균성 스폰지에 고정하는 공정(S32)은 폴리우레탄 스폰지의 측면에 형성된 얇고 긴 구멍에 스틱을 고정한다. 스틱을 폴리우레탄 스폰지의 측면에 고정하기 위해서는, 스틱에 접착제를 사용해도 되고, 폴리우레탄 스폰지의 측면에 형성된 구멍의 단면보다도 스틱의 단면을 크게 하여 물리적으로 고정시켜도 된다.

상술한 예는 가공의 관점에서 우수한 폴리우레탄 스폰지를 예로 들었으나, SBR(Styrene Butadiene Rubber), NR(Natural Rubber), 라텍스, 실로콘, 실리콘계 엘라스토머로 이루어진 군에서 선택되는 1개 이상을 포함하는 물질을 사용해도 된다.

본 발명의 은 제균성 스폰지를 노인이나 유아 등을 대상으로 사용하는 경우, 은 제균성 스폰지를 물에 넣고 입 안을 문지름으로써, 구강 내의 청결성을 유지할 수 있다.

또한, 은 제균성 스폰지의 표면이나 내부에 은 소결 피막을 형성한 입자가 물과 접촉하고, 이에 따라 생성된 은 이온이 물에 확산하여 구강 내에 제균 효과를 발휘할 수 있다. 나아가, 1일에 통상 1회 내지 3회 정도 양치를 한다. 여기서, 은 제균성 스폰지를 사용한 후에, 은 제균성 스폰지를 물로 씻고 보관하게 된다. 다음에 은 제균성 스폰지를 사용할 때, 은 제균성 스폰지에 남아 있는 물은 은 소결 피막을 형성한 입자와 접촉하는 시간이 길어져 많은 양의 은 이온을 포함하고 있다. 따라서, 제균 효과가 매우 높아지게 된다.

또한, 은 제균성 스폰지의 표면에는 은 소결 피막을 형성한 입자가 분산되어 있으므로, 은 제균성 스폰지로 치아를 문지를 때, 치석이 제거되는 효과가 있다.

은 제균성 칫솔 및 이의 제조방법

도 3은 본 발명의 은 제균성 칫솔을 나타낸다.

도 3(a)는 본 발명의 은 제균성 칫솔(200)의 실시형태를 나타낸다.

본 발명의 은 제균성 칫솔(200)은 은 제균성 브러시(30) 및 스틱(40)을 구비한다. 상기 은 제균성 브러시(30)는 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함한다.

이하에는, 본 발명의 은 제균성 치솔의 제조방법에 대하여 설명한다.

도 4는 본 발명의 은 제균성 칫솔의 제조방법을 나타낸다. 본 발명의 제조방법은 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자에 은 소결된 피막을 형성하는 공정(R1), 은 제균성 브러시를 제조하는 공정(R2), 은 제균성 브러시를 사용하여 칫솔을 제조하는 공정(R3)을 포함한다.

탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자에 은 소결된 피막을 형성하는 공정(R1)은 상술한 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법에서 기재한 바와 동일하다.

은 제균성 브러시를 제조하는 공정(R2)은, 폴리우레탄 수지, 폴리부틸렌테르프탈레이트 수지, 및 나이론으로 이루어진 군에서 선택된 화합물 또는 이들의 혼합물인 폴리계 수지, 은 소결 피막을 형성한 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자, 기능성 첨가제를 혼합하는 공정(R21), 압출기의 노출로 혼합물을 압출하는 공정(R22), 냉각하고 건조하는 공정(R23), 은 제균성 브러시를 일정 크기로 커팅 및 연마하는 공정(R24)을 포함한다.

여기서, 은 소결 피막을 형성한 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자는 혼합하는 원료의 전 중량에 대하여, 1중량%이상 내지 50중량%이하가 바람직하고, 5중량%이상 내지 20중량%이하가 더욱 바람직하다. 상기 범위 미만이면 제균 효과나 치석을 제거하는 효과를 기대할 수 없고, 상기 범위를 넘으면 브러시 내에서 탈크 입자가 응집되어 바람직하지 않다.

그 외 원료는, 칫솔의 공지된 혼합 비율을 사용할 수 있다.

은 제균성 브러시를 사용하여 칫솔을 제조하는 공정(R3)은 얻어진 은 제균성 브러시를 스틱에 고정하는 공정을 포함한다. 은 제균성 브러시를 스틱에 고정하는 공정은 공지의 방법을 사용할 수 있다.

본 발명의 은 제균성 칫솔을 사용하게 되면, 은 제균성 브러시가 치아를 클리닝하면서, 또한 제균 특성을 가질 수 있다. 즉, 입안의 타액이 은 제균성 브러시와 접촉하게 되어 은 이온이 용출되어 제균 효과를 가질 수 있다. 그리고, 은 제균성 칫솔을 사용하고 씻으면, 브러시에 물이 일부 남아 있을 수 있고, 그러한 물과 은 소결 피막을 형성한 입자와 접촉하는 시간이 길어져 많은 양의 은 이온을 포함하고 있다. 따라서, 제균 효과가 높아지게 된다.

또한, 은 제균성 브러시의 표면에 분산되어 있는 은 소결 피막을 형성한 입자가 치아를 브러시할 때, 치석을 제거하는 효과도 있다.

이하, 본 발명의 실험예를 이용하여 더욱 상세하게 설명하고자 하며, 본 발명의 범위는 하기의 실험예에 국한되는 것은 아니다.

[실험예] 본 발명의 제균성 평가

다음은 제균성 실험을 실시하였다. 시험은 일본 식품 분석 센터에서 실시하였다.

진지발리스 및 뮤탄스 시험균을 보통 한천 배지(에이켄 가가쿠 가부시키가이샤)에서 35℃ (±1℃), 18시간 ~ 24시간 배양한 후, 정제수(황색 포도상구균은 생리식염수)에서 부유시켜, 균수가 10⁷~10⁸/ml가 되도록 조제하여 시험균액으로 하였다. 검체는 다음과 같다.

(검체) 은 소결된 코팅층을 갖는 금속섬유

(대조) 감균(減菌) 합성 수지제 용기에 정제수를 넣은 것

(시험액) 건열 멸균(170℃,1시간)한 검체에 미네랄 워터를 200ml 담은 시료에 시험균액 2ml를 접종하여 시험액으로 하였다. 20℃(±1℃)에서 보존하고 6시간 및 24시간 후에 시험액을 SCDLP 배지(培地) (니혼 세이야쿠 가부시키가이샤)에서 바로 10배로 희석하여, 시험액 중의 생균수를 균수 측정용 배지를 이용하여 측정하였다.

시험결과는 다음의 표1,2로 표시하였다. 제균성 시험의 결과, 진지발리스 및 뮤탄균에 대하여 충분한 제균효과가 있는 것으로 확인되었다. 표1은 시험액의 진지발리스 시험균 하에서 시간에 따른 생균수 측정 결과이며, 표2는 시험액의 뮤탄스 시험균 하에서 시간에 따른 생균수 측정 결과이다.

시험액의 생균수 측정 결과

시험균	측정 대상	생균수(/ml)
시험균	측정 대상	개시 후	5분후	10분후	15분후	20분후	25분후
진지발리스	검체^*	-	2.4x10⁵	30,000	10,000	<10,000	<10,000
진지발리스	대조	6.4x10⁵	3.0x10⁵	1.6x10⁵	1.1x10⁵	6.1x10⁵	1.8x10⁵

^*(<10,000: 검출되지 않음을 의미함) 보존온도: 20℃

상기 표1과 같이, 본 발명의 시험액은 진지발리스 균에 대하여 5분~10분 부터 대조군과 극명하게 차이나는 생균수를 확인할 수 있었다. 20분후부터는 생균수가 거의 검출되지 않음을 확인하였다.

시험액의 생균수 측정 결과

시험균	측정 대상	생균수(/ml)
시험균	측정 대상	개시 후	5분후	10분후	15분후	20분후	25분후
뮤탄스	검체^*	-	4.7x10⁴	1.2x10⁴	2.4x10²	30	<10
뮤탄스	대조	7.1x10⁵	6.3x10⁵	6.3x10⁵	6.0x10⁵	6.2x10⁵	6.2x10⁵

^*(<10,000: 검출되지 않음을 의미함) 보존온도: 20℃

상기 표2와 같이, 본 발명의 시험액은 뮤탄스 균에 대하여 10분~15분 부터 대조군과 극명하게 차이나는 생균수를 확인할 수 있었으며, 20분후부터는 생균수가 거의 검출되지 않음을 확인하였다.

다음으로 소결된 은 함유 코팅층을 갖는 탈크 입자가 구강에서 어떤 효과를 갖는지를 조사하기 위해서, 은 이온 검출 시험을 실시하였다. 사용된 은 원료는 질산은 분말 수용액을 사용하였다. 또한, 탈크 입자는 식품첨가물 No.194 광물 탈크 입자를 사용하였다. 우선, 질산은 분말 100g을 물 1리터에 투입하여 용해액을 제조하였다. 그 후, 탈크 입자를 투입하여 은 용해액의 혼합물을 제조하고, 평균 450℃의 온도로 가열 소결하여, 은 소결 피막을 코팅한 탈크 입자를 얻었다. 그 후 입안의 타액으로 은 이온 용출 실험을 하였다. 5분 후에는 은 이온 함유량은 0.01ppm이었고, 10분 후에는 은 이온 함유량은 0.02ppm이었다. 따라서, 은 이온 함유량을 측정함으로써, 입안의 유해균인 진지발리스, 뮤탄스 등을 은 이온의 제균 효과를 확인할 수 있었다.

100A, 100B : 은 제균성 스폰지 양치 기구
200 : 은 제균성 칫솔
10, 11: 은 제균성 스폰지
20, 21: 은 제균성 스폰지용 스틱
30: 은 제균성 브러시
40: 은 제균성 브러시용 스틱

Claims

은 제균성 스폰지 및 스틱을 구비하는 은 제균성 스폰지 양치 기구에 있어서,
상기 은 제균성 스폰지의 일측면에 상기 스틱이 삽입되고,
상기 은 제균성 스폰지는 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자를 포함하며, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자 및 무기계 광물 입자는 소결된 은 함유 표면층이 형성되고,
상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자는 상기 은 제균성 스폰지의 내부 및 표면에 분산되어 있고, 치석 제거 가능한 진지발리스 제균용 은 제균성 스폰지 양치 기구.
탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정, 은 제균성 스폰지를 제조하는 공정, 은 제균성 스폰지를 이용하여 양치 기구를 제조하는 공정을 포함하는 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법이며,
상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자의 표면에 은 소결된 피막을 형성하는 공정은, 물에 은염류 화합물 분말을 첨가하고 용해시켜 은염류 용해액을 제조하는 제1 공정, 상기 은염류 용해액을 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포하는 제2 공정, 및 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 도포된 은염류 용해액을 질소 분위기에서 또는 산소분위기에서 소결하여, 상기 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자 상에 소결된 은 함유 표면층을 형성하는 제3 공정을 포함하며,
상기 은 제균성 스폰지를 제조하는 공정은, 원료를 혼합하는 공정, 혼합된 원료를 교반하는 공정, 교반된 원료를 숙성하는 공정, 숙성된 원료를 가류하는 공정, 냉각하는 공정, 재단하는 공정을 포함하며, 상기 원료를 혼합하는 공정에서, 혼합하는 원료의 전 중량에 대하여 은 소결된 피막을 형성한 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자는 5중량%이상 내지 20중량%이하이며,
상기 제균성 스폰지를 제조하는 공정에 의하여, 상기 소결된 은 함유 표면층이 형성된 탈크 입자, 세라믹 입자, 및 무기계 광물 입자에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 입자가 상기 은 제균성 스폰지의 내부 및 표면에 분산되어 있고, 치석 제거 가능한 진지발리스 제균용 은 제균성 스폰지 양치 기구의 제조방법.
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