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KR102197900B1 - 광학 재료용 수지 조성물, 광학 필름 및 액정 표시 장치 - Google Patents

광학 재료용 수지 조성물, 광학 필름 및 액정 표시 장치 Download PDF

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KR102197900B1
KR102197900B1 KR1020167006504A KR20167006504A KR102197900B1 KR 102197900 B1 KR102197900 B1 KR 102197900B1 KR 1020167006504 A KR1020167006504 A KR 1020167006504A KR 20167006504 A KR20167006504 A KR 20167006504A KR 102197900 B1 KR102197900 B1 KR 102197900B1
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유스케 다지리
다카노리 오오츠보
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디아이씨 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 해서, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와 폴리에스테르 수지(B)를 함유하는 광학 재료용 수지 조성물이며, 당해 폴리에스테르 수지(B)가, 그 주쇄에 방향환 함유 구조 단위를 갖고, 당해 주쇄의 말단은 모노 카르복시산의 잔기 또는 모노 알코올의 잔기로 봉지(封止)되어 있으며, 또한 수평균 분자량이 300∼5,000의 폴리에스테르 수지(B1)인 광학 재료용 수지 조성물을 제공한다.

Description

광학 재료용 수지 조성물, 광학 필름 및 액정 표시 장치{RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIAL, OPTICAL FILM, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적(好適)하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치에 관한 것이다.
최근, 디스플레이 시장의 확대에 수반하여, 화상을 보다 선명하게 보고자 하는 요구가 높아지고 있어, 단순한 투명 재료가 아닌, 보다 고도한 광학 특성이 부여된 광학 재료가 요구되고 있다.
일반적으로 고분자는 분자 주쇄 방향과 그에 수직 방향으로 굴절률이 다르기 때문에 복굴절을 일으킨다. 용도에 따라서는, 이 복굴절을 엄밀하게 컨트롤하는 것이 요구되고 있으며, 액정의 편광판에 사용되는 보호 필름의 경우는, 전광선 투과율이 같아도 복굴절이 보다 작은 고분자 재료 성형체가 필요한 것으로 여겨지며, 트리아세틸셀룰로오스가 대표적인 재료로서 사용된다.
이러한 가운데, 최근은, 액정 디스플레이가 대형화해, 그에 필요한 고분자 광학 재료 성형품이 대형화함에 따라서, 외력의 치우침에 의해 생기는 복굴절의 분포를 작게 하기 위하여, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 재료가 요구되고 있다.
외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 성형품이 얻어지는 재료는, 즉, 광탄성 계수가 작은 성형품이 얻어지는 고분자 광학 재료이며, 이러한 재료 중에서도, 저가인 재료로서 아크릴계 수지가 주목받고 있다. 구체적으로는, 아크릴계 수지와, 가소제로서 지방족 폴리에스테르계 수지를 포함하는 수지 조성물이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 그러나, 당해 특허문헌 1에 개시된 광학 재료를 사용해도, 광탄성 계수가 충분히 작은 광학 필름을 얻는 것은 곤란했다.
국제공개 제2006/077776호 팸플릿
본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 아크릴계 수지와, 폴리에스테르 수지를 포함하는 수지 조성물에 있어서, 당해 폴리에스테르 수지로서, 주쇄에 방향환 구조를 갖고, 당해 주쇄의 말단이 봉지(封止)되어 있으며, 또한 특정 범위의 분자량의 폴리에스테르 수지를 사용함에 의해, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 부재가 얻어지는 것, 당해 수지 조성물은 특히 광학 필름을 제조할 때에 호적한 것, 당해 광학 필름은 액정 표시 장치를 제조할 때의 부재로서 호적하게 사용할 수 있는 것 등을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와, 폴리에스테르 수지(B)를 함유하는 광학 재료용 수지 조성물이며, 당해 폴리에스테르 수지(B)가, 그 주쇄에 방향환 함유 구조 단위를 갖고, 당해 주쇄의 말단은 모노 카르복시산의 잔기 또는 모노 알코올의 잔기로 봉지되어 있으며, 또한 수평균 분자량이 300∼5,000의 폴리에스테르 수지(B1)인 것을 특징으로 하는 광학 재료용 수지 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은, 상기 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은, 상기 광학 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따르면, 저렴한 재료인 아크릴계 수지를 사용해서, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물을 제공할 수 있다. 이 수지 조성물을 사용함에 의해, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 그리고, 이 광학 필름을 사용함으로써, 외력에 의해 화면의 가시성이 변하기 어려운 액정 표시 장치를 얻을 수 있다.
본 발명에서 사용하는 중합체(A)는, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지며, 구체적으로는, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 필수로 해서 필요에 따라 다른 중합성 단량체를 병용해 중합시켜 얻어진다. 상기 (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들면, 아크릴산; 메타크릴산; 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산t-부틸시클로헥실, 메타크릴산메틸 등의 메타크릴산알킬에스테르; 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산부틸, 아크릴산이소프로필, 아크릴산2-에틸헥실 등의 아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 중합체(A) 중에서도, 메타크릴산메틸을 사용해서 얻어지는 것, 구체적으로는, 메타크릴산메틸의 단독 중합체 또는, 메타크릴산메틸과 다른 단량체와의 공중합체가 광학 특성이 우수한 필름이 얻어지며, 또한, 경제성도 우수하므로 바람직하다.
상기 다른 단량체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산류 또는 메타크릴산메틸 이외의 (메타)아크릴산에스테르류; 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물류; 아크릴로니트릴, 메타크릴니트릴 등의 시안화비닐류; N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드류; 무수 말레산 등의 불포화 카르복시산 무수물류; 말레산 등의 불포화산류 등을 들 수 있다.
상기 다른 단량체로서 예시한 방향족 비닐 화합물류, 시안화비닐류, 말레이미드류, 불포화 카르복시산 무수물류, 불포화산류 등의 단량체는, 메타크릴산메틸을 사용하지 않는 경우여도 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 사용할 수 있다.
상기 메타크릴산메틸과 다른 단량체를 공중합시켜 중합체(A)로서 사용할 중합체를 얻을 경우, 다른 단량체로서는, 방향족 비닐 화합물류가 내열성과 경제성이 우수한 광학 필름이 얻어지므로 바람직하며, 그 중에서도, 스티렌, α-메틸스티렌이 보다 바람직하다. 여기에서, 방향족 비닐 화합물류의 사용량은, 메타크릴산메틸 100질량부에 대해, 1∼50질량부가 바람직하며, 2∼30질량부가 보다 바람직하다.
또한, 상기 다른 단량체로서는, 불포화 카르복시산 무수물류를 사용함으로써 내열성이 우수한 광학 필름이 얻어지는 효과를 기대할 수 있다. 불포화 카르복시산 무수물류 중에서도 무수 말레산이 바람직하다. 여기에서, 불포화 카르복시산 무수물류의 사용량은, 메타크릴산메틸 100질량부에 대해, 1∼100질량부가 바람직하며, 5∼90질량부가 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 중합체(A)는, (메타)아크릴산이나, (메타)아크릴산알킬에스테르를 단독으로 사용해도 되며, 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 상기 다른 단량체에 대해서도 단독으로 사용해도 되며, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명에서 사용하는 중합체(A)의 중량 평균 분자량은, 50,000∼200,000이, 강도가 있는 광학 필름 등의 성형품이 얻어지며, 또한, 유동성이 충분하고, 성형 가공성도 우수한 수지 조성물이 얻어지므로 바람직하며, 70,000∼150,000이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명에서 사용하는 중합체(A)의 수평균 분자량은, 15,000∼100,000이 바람직하며, 20,000∼50,000이 보다 바람직하다.
여기에서, 본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은 GPC 측정에 의거해 폴리스티렌 환산한 값이다. 또, GPC의 측정 조건은 이하와 같다.
[GPC 측정 조건]
측정 장치 : 「도소가부시키가이샤제 HLC-8220 GPC」
칼럼 : 도소가부시키가이샤제 가드 칼럼 「HHR-H」(6.0㎜ I.D.×4㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)
검출기 : ELSD(오르테크제 「ELSD2000」)
데이터 처리 : 도소가부시키가이샤제 「GPC-8020 모델Ⅱ 데이터 해석 버전 4.30」
측정 조건 : 칼럼 온도 40℃
전개 용매 테트라히드로퓨란(THF)
유속 1.0㎖/분
시료 : 수지 고형분 환산으로 1.0질량%의 테트라히드로퓨란 용액을 마이크로 필터로 여과한 것(5㎕).
표준 시료 : 상기 「GPC-8020 모델Ⅱ 데이터 해석 버전 4.30」의 측정 매뉴얼에 준거해서, 분자량이 기지(旣知)인 하기의 단분산 폴리스티렌을 사용했다.
(단분산 폴리스티렌)
도소가부시키가이샤제 「A-500」
도소가부시키가이샤제 「A-1000」
도소가부시키가이샤제 「A-2500」
도소가부시키가이샤제 「A-5000」
도소가부시키가이샤제 「F-1」
도소가부시키가이샤제 「F-2」
도소가부시키가이샤제 「F-4」
도소가부시키가이샤제 「F-10」
도소가부시키가이샤제 「F-20」
도소가부시키가이샤제 「F-40」
도소가부시키가이샤제 「F-80」
도소가부시키가이샤제 「F-128」
도소가부시키가이샤제 「F-288」
도소가부시키가이샤제 「F-550」
본 발명에서 사용하는 중합체(A)를 제조하는 방법으로서는, 예를 들면, 캐스트 중합, 괴상(塊狀) 중합, 현탁 중합, 용액 중합, 유화 중합, 음이온 중합 등의 각종 중합 방법을 사용할 수 있다. 제조 방법 중에서도, 괴상 중합이나 용액 중합이, 미소한 이물의 혼입이 적은 중합체가 얻어지므로 바람직하다. 용액 중합을 행할 경우에는, 원료의 혼합물을 톨루엔, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소의 용매에 용해해서 조정한 용액을 사용할 수 있다. 괴상 중합에 의해 중합시킬 경우에는, 통상적으로 행해지는 바와 같이 가열에 의해 생기는 유리(遊離) 라디칼이나 전리성 방사선 조사에 의해 중합을 개시시킬 수 있다.
상기 중합 반응에 사용되는 개시제로서는, 일반적으로 라디칼 중합에 있어서 사용되는 임의의 개시제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 아조비스이소부틸니트릴 등의 아조 화합물; 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물 등이 사용된다. 중합할 때에, 90℃ 이상의 고온 하에서 중합을 행하게 할 경우에는, 용액 중합이 일반적이므로, 10시간 반감기 온도가 80℃ 이상이며 또한 사용하는 유기 용매에 가용(可溶)인 과산화물, 아조비스 개시제 등이 바람직하며, 구체적으로는 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 시클로헥산퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, 1,1-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴), 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴 등을 들 수 있다. 이들 개시제는 0.005∼5질량%의 범위에서 사용된다.
본 발명에서 사용하는 중합체(A)를 중합할 때에는, 필요에 따라서 분자량조정제를 사용해도 된다. 상기 분자량조절제는, 일반적인 라디칼 중합에 있어서 사용하는 임의의 것이 사용되며, 예를 들면, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, 티오글리콜산2-에틸헥실 등의 메르캅탄 화합물을 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 분자량조절제는, 중합도가 상기한 범위 내로 제어되는 바와 같은 농도 범위에서 첨가된다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)는, 폴리에스테르 수지의 주쇄에 방향환 함유 구조 단위를 갖고, 당해 주쇄의 말단은 모노 카르복시산의 잔기 또는 모노 알코올의 잔기로 봉지되어 있으며, 또한 수평균 분자량이 300∼5,000인 폴리에스테르 수지이다. 주쇄에 방향환 함유 구조 단위를 함유시킴에 의해 저첨가량으로 수지 조성물의 광탄성 계수의 절대값을 작게 할 수 있다는 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 당해 주쇄의 말단을 모노 카르복시산 또는 모노 알코올의 잔기로 봉지함에 의해 상기 중합체(A)와의 상용성(相溶性), 즉 투명성이 우수하며, 광학 부재로서 최적인 광학 필름을 제공할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)는, 수평균 분자량(Mn)이 300∼5,000일 필요가 있다. (Mn)이 300보다 작으면, 수지 조성물의 광탄성 계수의 절대값을 작게 하는 본 발명의 효과를 충분히 나타내는 것이 곤란해짐과 함께, 수지 조성물의 내열성이 현저하게 저하하므로 바람직하지 않다. 또한, (Mn)이 5,000보다 크면 상기 중합체(A)와의 상용성이 양호해지지 않아, 투명성의 저하나 브리드의 발생도 일어나, 광학 필름을 제조하는데 최적인 조성물로 되기 어려우므로 바람직하지 않다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)의 (Mn)은 350∼3,000이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)로서는, 예를 들면, 이하의 일반식으로 표시되는 폴리에스테르 수지 등을 예시할 수 있다.
B-(G1-A1)n-G1-B (1)
B-(G2-A2)n-G2-B (2)
B-(G2-A1)n-G2-B (3)
B1-(G1-A2)n-G1-B1 (4)
여기에서, 상기 B는 탄소수 6∼12의 아릴 모노 카르복시산의 잔기 또는 탄소 원자수 1∼8의 지방족 모노 카르복시산의 잔기를 나타내고, B1는, 탄소수 6∼12의 아릴 모노 카르복시산의 잔기를 나타낸다. G1는 탄소 원자수 2∼12의 알킬렌글리콜의 잔기 또는 탄소 원자수 4∼12의 옥시알킬렌글리콜의 잔기를 나타내고, G2는 탄소수 6∼18의 아릴글리콜의 잔기를 나타낸다. A1는, 탄소수 6∼12의 아릴디카르복시산의 잔기를 나타내고, A2는 탄소 원자수 2∼12의 알킬렌디카르복시산의 잔기를 나타낸다. n은 1∼30이다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1) 중에서도, 광탄성 계수의 절대값을 작게 하며, 또한, 투명성이 우수한 광학 필름을 제공할 수 있으므로 상기 일반식(1) 또는 일반식(2)으로 표시되는 폴리에스테르 수지가 바람직하고, 일반식(1)으로 표시되는 폴리에스테르 수지가 보다 바람직하다.
상기 일반식(1)∼(4)으로 표시되는 폴리에스테르 수지는, 예를 들면, 하기에 나타내는 방법으로 얻을 수 있다.
방법 1 : 일반식(1)∼(4)의 각 잔기를 구성하는 모노 카르복시산, 디카르복시산 및 글리콜을 일괄로 투입하고, 이들을 반응시키는 방법.
방법 2 : 일반식(1)∼(4)의 잔기를 구성하는 디카르복시산과 글리콜을, 수산기의 당량이 카르복시기의 당량보다도 많아지는 조건 하에서 반응시켜 수산기를 주쇄의 말단에 갖는 폴리에스테르 수지를 얻은 후, 당해 폴리에스테르 수지와 B 또는 B1의 잔기를 구성하는 모노 카르복시산 또는 모노 카르복시산 유도체를 반응시키는 방법.
상기 B를 구성하는 원료인 탄소수 6∼12의 아릴 모노 카르복시산으로서는, 예를 들면, 벤조산, 디메틸벤조산, 트리메틸벤조산, 테트라메틸벤조산, 에틸벤조산, 프로필벤조산, 부틸벤조산, 쿠민산, 파라tert부틸벤조산, 오르토톨루일산, 메타톨루일산, 파라톨루일산, 에톡시벤조산, 프로폭시벤조산, 나프토산, 니코틴산, 푸로산, 아니스산 등이나, 이들의 메틸에스테르 및 산염화물 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 탄소 원자수 1∼8의 지방족 모노 카르복시산으로서는, 예를 들면, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 헥산산, 옥탄산, 옥틸산 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
그 중에서도, 중합체(A)와의 상용성이 우수한 폴리에스테르 수지(B1)가 얻어지므로 파라톨루일산, 벤조산이 보다 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서 「탄소 원자수」란, 카르보닐탄소를 포함하지 않는 탄소 원자수를 말한다.
상기 B1는, 예를 들면, 상기 B의 예로서 든 탄소수 6∼12의 아릴 모노 카르복시산의 잔기 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 G1를 구성하는 원료인 탄소 원자수 2∼12의 알킬렌글리콜로서는, 예를 들면, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸글리콜), 2,2-디에틸-1,3-프로판디올(3,3-디메틸올펜탄), 2-n-부틸-2-에틸-1,3프로판디올(3,3-디메틸올헵탄), 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2,4-트리메틸1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 중합체(A)와의 상용성이 우수한 폴리에스테르 수지(B1)가 얻어지므로 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올이 바람직하며, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜이 보다 바람직하다.
상기 G1를 구성하는 원료인 탄소 원자수 4∼12의 옥시알킬렌글리콜로서는, 예를 들면, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 G2를 구성하는 원료인 탄소 원자수 6∼18의 아릴글리콜로서는, 예를 들면, 하이드로퀴논, 레조르신, 비스페놀A 및 비스페놀A의 알킬렌옥사이드 부가물, 비스페놀F 및 비스페놀F의 알킬렌옥사이드 부가물, 비페놀 및 비페놀의 알킬렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 A1를 구성하는 원료인 아릴디카르복시산으로서는, 예를 들면, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산디메틸 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 저첨가량으로 수지 조성물의 광탄성 계수의 절대값을 작게 할 수 있으므로 테레프탈산 또는 테레프탈산디메틸이 바람직하다.
즉, 본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1) 중에서도, 일반식(1)에 있어서, B가 벤조산의 잔기 또는 p-톨루일산의 잔기이고, G1가 에틸렌글리콜의 잔기 또는 프로필렌글리콜의 잔기이고, A1가 테레프탈산의 잔기 또는 테레프탈산디메틸의 잔기인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)의 산가(酸價)로서는, 중합체(A)와 상용성이 양호한 폴리에스테르 수지(B1)가 얻어지므로 5 이하가 바람직하며, 1 이하가 보다 바람직하다. 또한, 중합체(A)와 상용성이 양호한 폴리에스테르 수지(B1)가 얻어지므로 수산기가는 50 이하가 바람직하며, 20 이하가 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)는, 예를 들면, 상기한 원료를, 필요에 따라서 에스테르화 촉매의 존재 하에서, 예를 들면, 180∼250℃의 온도 범위 내에서 10∼25시간, 에스테르화 반응시킴에 의해 제조할 수 있다. 또, 에스테르화 반응의 온도, 시간 등의 조건은 특히 한정하지 않으며, 적의(適宜) 설정해도 된다.
상기 에스테르화 촉매로서는, 예를 들면, 테트라이소프로필티타네이트, 테트라부틸티타네이트 등의 티타늄계 촉매; 디부틸주석옥사이드 등의 주석계 촉매; p-톨루엔설폰산 등의 유기 설폰산계 촉매 등을 들 수 있다.
상기 에스테르화 촉매의 사용량은, 적의 설정하면 되지만, 통상적으로, 원료의 전량 100질량부에 대해, 0.001∼0.1질량부의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 폴리에스테르 수지(B1)의 성상(性狀)은, 상기 개질제의 Mn이나 조성 등의 요인에 따라 다르지만, 통상적으로, 상온에서 액체, 고체, 페이스트상 등이다.
본 발명의 광학 재료용 수지 조성물 중의 폴리에스테르 수지(B1)의 함유량은, 사용하는 중합체(A)의 광탄성 계수에도 따르지만, 수지 조성물의 광탄성 계수의 절대값을 작게 할 수 있으므로 상기 중합체 100질량부에 대해서 0.1∼15질량부가 바람직하며, 1∼10질량부가 보다 바람직하고, 2∼8질량부가 더 바람직하다.
본 발명의 광학 필름은, 상기 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 광학 필름은, 광탄성 계수가 극히 작은 특징을 가지며, 구체적으로는 광탄성 계수의 절대값이 2.0×10-12/㎩ 이하, 보다 바람직하게는 1.0×10-12/㎩ 이하이다. 이렇게, 본 발명의 광학 필름은 광탄성 계수가 작고, 그 결과 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아져, 외력에 의해 화면의 가시성이 변하기 어려운 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.
본 발명에 있어서, 광탄성 계수는, 하기에 나타내는 방법으로 측정했다.
<광탄성 계수(CR)의 측정 방법>
본 발명의 광학 필름의 일례로서 연신해서 얻어지는 광학 필름을 사용해, 이 광학 필름을 연신 방향으로 폭 15㎜로 오려내, 측정 샘플을 얻는다. 이 측정 샘플을 광탄성 측정용 인장 지그(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)에 고정하고, 127.3g·f로부터 727.3g·f까지 100g·f마다 측정 샘플을 인장할 때의 가중(加重)을 변화시켜, 각각의 가중을 걸었을 때의 588㎚에 있어서의 면 내 위상차 변화를 위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)로 측정한다. 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행한다.
본 발명의 광학 재료용 조성물을 사용함에 의해, 각종 광학용의 성형체의 제조에 사용할 수 있다. 그 중에서도, 필름상의 성형체(광학 필름)를 제조하는데 본 발명의 광학 재료용 조성물을 사용할 수 있다. 상기 광학 필름에 있어서, 예를 들면, 적어도 1축 방향으로 연신되어 있으며, 광탄성 계수의 절대값이 2(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름은, 위상차 필름 등의 위상차를 필요로 하며 응력에 따른 복굴절의 변화가 작은 특성이 요구되는 용도에 호적하게 사용할 수 있다. 상기 위상차 필름으로서는, 광탄성 계수의 절대값이 1(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름이 바람직하며, 광탄성 계수의 절대값이 0.5(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름이 보다 바람직하다. 이러한 광학 필름의 TD 방향과 MD 방향의 연신 배율은, 목적에 따라서 적의 선택하고, 상기 폴리에스테르계 수지(B1)의 양을 조정함에 의해, 복굴절이 작은 광학적으로 등방인 광학 필름에서부터 복굴절이 큰 위상차 필름까지 얻을 수 있다.
본 발명의 광학 재료용 수지 조성물에는, 상기 중합체(A), 폴리에스테르 수지(B1) 이외의 중합체를, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 혼합할 수 있다. 상기 중합체(A), 폴리에스테르 수지(B1) 이외의 중합체로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리스티렌, 스티렌아크릴로니트릴 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리아미드, 폴리페닐렌설파이드 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리에스테르 수지(B1) 이외의 폴리에스테르, 폴리설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아세탈 등의 열가소성 수지; 및 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1종류를 혼합해도 되며, 2종 이상을 혼합해도 된다.
추가로, 본 발명의 효과를 현저하게 손상시키지 않는 범위 내에서, 각종 목적에 따라 임의의 첨가제를 배합할 수 있다. 첨가제의 종류는, 수지나 고무상 중합체의 배합에 일반적으로 사용되는 것이면 특히 제한은 없다. 첨가제로서는, 예를 들면, 무기 충전제, 산화철 등의 안료; 스테아르산, 베헨산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 에틸렌비스스테아로아미드 등의 활제(滑劑); 이형제(離型劑); 파라핀계 프로세스 오일, 나프텐계 프로세스 오일, 방향족계 프로세스 오일, 파라핀, 유기 폴리실록산, 미네랄 오일 등의 연화제·가소제; 힌더드 페놀계 산화방지제, 인계 열안정제, 락톤계 열안정제, 비타민E계 열안정제 등의 산화방지제; 힌더드 아민계 광안정제, 벤조에이트계 광안정제 등의 광안정제; 벤조페논계 자외선흡수제, 트리아진계 자외선흡수제, 벤조트리아졸계 자외선흡수제 등의 자외선흡수제; 난연제; 대전방지제; 유기 섬유, 유리 섬유, 탄소 섬유, 금속 위스커 등의 보강제; 착색제, 그 외 첨가제 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 재료용 수지 조성물은, 상기 중합체(A)와 폴리에스테르 수지(B1)를 함유하면 되며, 그 제조 방법은 특히 제한이 없다. 구체적으로는, 예를 들면, 상기 중합체(A)와 폴리에스테르 수지(B1)와, 필요에 따라서 상기 첨가제를 단축(單軸) 압출기, 2축 압출기, 밴버리 믹서, 브라벤더, 각종 니더 등의 용융 혼련기를 사용해서 용융 혼련하는 방법에 의해 얻을 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 광학 필름을 얻기 위해서는, 예를 들면, 압출 성형, 캐스트 성형 등의 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들면, T다이, 원형 다이 등이 장착된 압출기 등을 사용해서, 미연신 상태의 광학 필름을 압출 성형할 수 있다. 압출 성형에 의해 본 발명의 광학 필름을 얻는 경우는, 사전에 상기 중합체(A), 폴리에스테르 수지(B1)를 용융 혼련해서 얻어지는 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 사용할 수도 있고, 압출 성형 시에 중합체(A)와 폴리에스테르 수지(B1)를 용융 혼련해, 그대로 압출 성형할 수도 있다. 또한, 상기 중합체(A) 및 폴리에스테르 수지(B1) 성분을 용해하는 용매를 사용해서, 상기 중합체(A), 폴리에스테르 수지(B)를 당해 용매 중에 용해해, 소위 도프액을 얻은 후, 캐스트 성형하는 용액 유연법(流延法)(솔벤트 캐스트법)에 의해 미연신 상태의 본 발명의 광학 필름을 얻을 수도 있다.
이하에, 용액 유연법에 대하여, 상세히 기술한다. 용액 유연법으로 얻어지는 광학 필름은, 실질적으로 광학 등방성을 나타낸다. 상기 광학 등방성을 나타내는 필름은, 예를 들면 액정 디스플레이 등의 광학 재료에 사용할 수 있으며, 그 중에서도 편광판용 보호 필름에 유용하다. 또한, 상기 방법에 의해서 얻어진 필름은, 그 표면에 요철이 형성되기 어려워, 표면평활성이 우수하다.
상기 용액 유연법은, 일반적으로, 상기 중합체(A)와 상기 폴리에스테르 수지(B1)를 유기 용제 중에 용해시켜, 얻어진 수지 용액을 금속 지지체 상에 유연시키는 제1 공정과, 유연시킨 상기 수지 용액 중에 포함되는 유기 용제를 증류 제거하고 건조시켜서 필름을 형성하는 제2 공정, 그에 이어, 금속 지지체 상에 형성된 필름을 금속 지지체로부터 박리하고 가열 건조시키는 제3 공정으로 이루어진다.
상기 제1 공정에서 사용하는 금속 지지체로서는, 무단(無端)벨트상 또는 드럼상의 금속제의 것 등을 예시할 수 있으며, 예를 들면, 스테인리스제이고 그 표면이 경면 마감이 실시된 것을 사용할 수 있다.
상기 금속 지지체 상에 수지 용액을 유연시킬 때에는, 얻어지는 필름에 이물이 혼입하는 것을 방지하기 위하여, 필터로 여과한 수지 용액을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 제2 공정의 건조 방법으로서는, 특히 한정하지 않지만, 예를 들면 30∼50℃의 온도 범위의 바람을 상기 금속 지지체의 상면 및/또는 하면에 쏘임으로써, 유연(流延)한 상기 수지 용액 중에 포함되는 유기 용제의 50∼80질량%를 증발시켜, 상기 금속 지지체 상에 필름을 형성시키는 방법을 들 수 있다.
다음으로, 상기 제3 공정은, 상기 제2 공정에서 형성된 필름을 금속 지지체 상으로부터 박리하고, 상기 제2 공정보다도 높은 온도 조건 하에서 가열 건조시키는 공정이다. 상기 가열 건조 방법으로서는, 예를 들면 100∼160℃의 온도 조건에서 단계적으로 온도를 상승시키는 방법이, 양호한 치수 안정성을 얻을 수 있기 때문에, 바람직하다. 상기 온도 조건에서 가열 건조함에 의해, 상기 제2 공정 후의 필름 중에 잔존하는 유기 용제를 거의 완전하게 제거할 수 있다.
또, 상기 제1 공정∼제3 공정에서, 유기 용매는 회수해 재사용하는 것도 가능하다.
상기 중합체(A)와 상기 폴리에스테르 수지(B)를 유기 용제에 혼합시켜 용해할 때에 사용할 수 있는 유기 용제로서는, 그들을 용해 가능한 것이면 특히 한정하지 않지만, 예를 들면, 클로로포름, 이염화메틸렌, 염화메틸렌 등의 용매를 들 수 있다.
상기 수지 용액 중의 중합체(A)의 농도는, 10∼50질량%가 바람직하며, 15∼35질량%가 보다 바람직하다.
본 발명의 광학 필름의 막두께는, 20∼120㎛의 범위가 바람직하며, 25∼100㎛의 범위가 보다 바람직하고, 25∼80㎛의 범위가 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 예를 들면, 상기한 방법으로 얻어지는 미연신 상태의 광학 필름을 필요에 따라서, 기계적 흐름 방향으로 종 1축 연신, 기계적 흐름 방향으로 직행하는 방향으로 횡 1축 연신함으로써 연신된 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 롤 연신과 텐터 연신의 축차 2축 연신법, 텐터 연신에 의한 동시 2축 연신법, 튜블러 연신에 의한 2축 연신법 등에 의해서 연신함에 의해 2축 연신된 연신 필름을 얻을 수 있다. 연신 배율은 적어도 어느 한쪽 방향으로 0.1% 이상 1000% 이하인 것이 바람직하며, 0.2% 이상 600% 이하인 것이 더 바람직하고, 0.3% 이상 300% 이하인 것이 특히 바람직하다. 이 범위로 설계함에 의해, 복굴절, 내열성, 강도의 관점에서 바람직한 연신된 광학 필름이 얻어진다.
본 발명에 따른 광학 필름은, 광학 재료로서, 액정 표시 장치, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 필드 이미션 디스플레이, 리어 프로젝션 텔레비전 등의 디스플레이에 사용되는 편광판 보호 필름, 1/4 파장판, 1/2 파장판, 시야각 제어 필름, 액정 광학 보상 필름 등의 위상차 필름, 디스플레이 전면판 등에 호적하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물은, 그 밖에도, 광통신 시스템, 광교환 시스템, 광계측 시스템의 분야에 있어서, 도파로, 렌즈, 광파이버, 광파이버의 기재, 피복 재료, LED의 렌즈, 렌즈 커버 등에도 사용할 수 있다.
[실시예]
이하, 본 발명을 실시예에 의거해 더 구체적으로 설명한다. 예 중의 부 및 %는 언급이 없는 한 질량 기준이다.
합성예 1〔폴리에스테르 수지(B1)의 합성〕
온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 내용적 3리터의 사구 플라스크에, 1,2-프로필렌글리콜 476g, 테레프탈산디메틸 554g, p-톨루일산 817g을 투입하고 승온했다. 플라스크 내 온도가 130℃로 된 시점에서 에스테르화 촉매로서 테트라이소프로필티타네이트를, 1,2-프로필렌글리콜, 테레프탈산디메틸 및 p-톨루일산의 합계량에 대해서 60ppm 가하고, 질소 기류 하에서 교반하면서 170℃로부터 1시간에 10℃의 승온 속도로, 생성하는 물, 메탄올을 증류 제거하면서 220℃까지 승온했다. 그 후, 220℃에서 15시간 축합 반응시켰다. 반응 후, 200℃에서 미반응의 1,2-프로필렌글리콜 및 올리고머를 감압 증류 제거함에 의해 수평균 분자량이 450이며, 산가가 0.19이고, 수산기가가 11인 폴리에스테르 수지(B1-1)를 얻었다.
합성예 2(동상(同上))
에틸렌글리콜 224g, 1,2-프로필렌글리콜 274g, 테레프탈산 871g, p-톨루일산 272g을 사용한 이외는 합성예 1과 마찬가지로 해서, 수평균 분자량이 1,060이며, 산가가 0.43이고, 수산기가가 16인 폴리에스테르 수지(B1-2)를 얻었다.
합성예 3(동상)
1,2-프로필렌글리콜 468g, 테레프탈산디메틸 524g 및 벤조산 733g을 사용한 이외는 합성예 1과 마찬가지로 해서, 수평균 분자량이 450이며, 산가가 0.07이고, 수산기가가 4인 폴리에스테르 수지(B1-3)를 얻었다.
합성예 4〔비교 대조용 폴리에스테르 수지(b'1)의 합성〕
온도계, 교반기 및 환류 냉각기를 구비한 내용적 1리터의 사구 플라스크에, 에틸렌글리콜 341g, 아디프산 659g을 투입했다. 추가로, 테트라이소프로필티타네이트를 에틸렌글리콜 및 아디프산의 합계량에 대해서 30ppm 가하고, 질소 기류 하에서 교반하면서 220℃까지 승온해, 24시간 반응시켜, 수평균 분자량이 1,100이며, 산가가 0.19이고, 수산기가가 112인 비교 대조용 폴리에스테르 수지(b'1-1)를 얻었다.
합성예 5(동상)
숙신산 770g, 1,2-프로필렌글리콜 595g을 사용한 이외는 합성예 4와 마찬가지로 해서 수평균 분자량이 11,000이며, 산가가 0.7이고, 수산기가가 8인 비교 대조용 폴리에스테르 수지(b'1-2)를 얻었다.
실시예 1(광학 재료용 수지 조성물의 조제)
아크릴 수지(A1)〔메틸메타아크릴산/무수 말레산/스티렌=50/40/10(몰비)의 공중합체, 수평균 분자량 27,800〕 100부, 폴리에스테르 수지(B1-1) 5부를, 염화메틸렌 270부 및 메탄올 30부로 이루어지는 혼합 용제에 가해서 용해해 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물(도프액)을 얻었다.
이 도프액을 유리판 상에 두께 0.5㎜로 되도록 유연하고, 실온에서 16시간 건조시킨 후, 50℃에서 30분간, 추가로 100℃에서 60분간 건조시켜, 막두께 100㎛의 미연신 필름을 얻었다.
얻어진 미연신 필름을 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 구한 광학 재료용 수지 조성물(1)의 유리 전이 온도(Tg) +5℃의 온도에서 1축 연신(연신 배율 2배, 연신 속도 100%/분)을 행해, 연신 필름(1)을 작성했다. 여기에서, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용한 Tg의 측정은 하기의 조건에 따랐다.
<유리 전이 온도 Tg의 측정 조건>
시차 주사 열량 측정계 DSC822e(METTLER TOLEDO사제)를 사용했다. 구체적으로는, 수지 조성물 5㎎을 경량 알루미늄 팬에 넣고, 질소 분위기 하, 25℃로부터 150℃까지 매분 10℃로 승온한(1st run) 후, 0℃까지 일단 급냉하고, 다시, 0℃로부터 150℃까지 매분 10℃로 승온시켰다(2nd run). 유리 전이 온도 Tg는 2nd run에서 얻어진 DSC 곡선으로부터 중점법에 의해 결정했다.
얻어진 연신 필름(1)의 광학 특성, 구체적으로는 면 내 복굴절(Δn), 면 외 복굴절(ΔP), 광탄성 계수(CR) 및 헤이즈를 하기에 나타내는 방법에 따라서 평가했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
<면 내 복굴절(Δn) 및 면 외 복굴절(ΔP)의 평가 방법>
위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)을 사용해, 588㎚에 있어서의 굴절률을 구한 후, 하기 식에 따라서 면 내 복굴절(Δn) 및 면 외 복굴절(ΔP)을 구했다.
면 내 복굴절(Δn)=(nx)-(ny)
면 외 복굴절(ΔP)=[(nx)+(ny)]/2-(nz)
〔(nx) : 연신 방향의 굴절률, (ny) : 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률, (nz) : 필름 두께 방향의 굴절률〕
또, 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행했다.
<광탄성 계수(CR)의 평가 방법>
연신 필름을 연신 방향과 평행하게 폭 15㎜로 오려낸 연신 필름을 광탄성 측정용 인장 지그(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)에 고정하고, 127.3g·f로부터 727.3g·f까지 100g·f마다 가중을 변화시켰을 때의 588㎚에 있어서의 면 내 위상차(Re)의 변화를 위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)로 측정했다. 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행했다. 면 내 위상차(Re)는, 하기 식에 따라서 구했다.
Re=(nx-ny)×d
〔(nx) : 연신 방향의 굴절률, (ny) : 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률, d : 필름의 두께(㎛)〕
측정값에 대하여, 횡축에 응력(σ), 종축에 면 내 위상차(Re)를 플롯하고, 최소 제곱 근사에 의해 선형 영역의 직선의 기울기로부터 광탄성 계수(CR)를 구했다. 기울기의 절대값이 작을수록 광탄성 계수가 0에 가까운 것을 나타내며, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 필름인 것을 나타낸다.
<헤이즈의 평가>
니혼덴쇼쿠고교가부시키가이샤제 NDH-5000을 사용해서 JIS K 7136에 준거했다.
실시예 2∼9 및 비교예 1∼6
표 1에 나타내는 배합으로 광학 재료용 수지 조성물(도프액)을 얻은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 연신 필름(2)∼(9) 및 비교 대조용 연신 필름(1')∼(6')을 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 평가를 행하고, 그 결과를 표 1∼표 3에 나타낸다.
[표 1]
Figure 112016023615682-pct00001
표 1의 각주
측정 불능 : 필름의 헤이즈가 커 광학 특성 측정을 할 수 없었음
[표 2]
Figure 112016023615682-pct00002
표 2의 각주
아크릴 필름(A2) : 메타크릴산메틸/α-메틸스티렌=93/7(몰비)의 공중합체, 수평균 분자량 37,800)
측정 불능 : 필름의 헤이즈가 커 광학 특성 측정을 할 수 없었음
[표 3]
Figure 112016023615682-pct00003
표 3의 각주
아크릴 필름(A3) : 메타크릴산메틸의 단독 중합체, 수평균 분자량 32,000)
HAZE, ΔP는 측정하지 않음
본 발명의 광학용 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름은, 광학 탄성 계수가 작아, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 필름이다. 한편, 비교예의 광학 필름은 광학 탄성 계수의 절대값이 커 외력에 의한 복굴절의 변화가 크다.

Claims (9)

  1. (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와, 폴리에스테르 수지(B)를 함유하는 광학 재료용 수지 조성물이며,
    상기 중합체(A)의 중량 평균 분자량이 50,000∼200,000이며,
    당해 폴리에스테르 수지(B)가, 그 주쇄에 방향환 함유 구조 단위를 갖고, 당해 주쇄의 말단은 모노 카르복시산의 잔기 또는 모노 알코올의 잔기로 봉지(封止)되어 있으며, 또한 수평균 분자량이 300∼5,000의 폴리에스테르 수지(B1)인 것을 특징으로 하는 광학 재료용 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 수지(B1)가, 하기 일반식(1)
    B-(G1-A1)n-G1-B (1)
    (식 중, B는 탄소 원자수 6∼12의 아릴 모노 카르복시산의 잔기 또는 탄소 원자수 1∼8의 지방족 모노 카르복시산의 잔기를 나타낸다. G1는 탄소 원자수 2∼12의 알킬렌글리콜의 잔기 또는 탄소 원자수 4∼12의 옥시알킬렌글리콜의 잔기를 나타낸다. A1는, 탄소 원자수 6∼12의 아릴디카르복시산의 잔기를 나타낸다. n은 1∼30의 정수를 나타낸다)
    으로 표시되는 것인 광학 재료용 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 수지(B1)가, 수평균 분자량 350∼3,000의 폴리에스테르 수지인 광학 재료용 수지 조성물.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 일반식(1) 중의 B가 벤조산의 잔기 또는 p-톨루일산의 잔기이고, G1가 에틸렌글리콜의 잔기 또는 프로필렌글리콜의 잔기이고, A1가 테레프탈산의 잔기 또는 테레프탈산디메틸의 잔기인 광학 재료용 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 수지(B1)의 함유량이, 상기 중합체(A) 100질량부에 대해서 0.1∼15질량부인 광학 재료용 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 중합체(A)가 메타크릴산메틸을 사용해서 얻어지는 것인 광학 재료용 수지 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  8. 제7항에 있어서,
    편광판 보호용인 광학 필름.
  9. 제7항에 기재된 광학 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
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