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KR101928803B1 - (메트)아크릴계 조성물, 이를 포함하는 도료 및 경화체 - Google Patents

(메트)아크릴계 조성물, 이를 포함하는 도료 및 경화체 Download PDF

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KR101928803B1
KR101928803B1 KR1020187022940A KR20187022940A KR101928803B1 KR 101928803 B1 KR101928803 B1 KR 101928803B1 KR 1020187022940 A KR1020187022940 A KR 1020187022940A KR 20187022940 A KR20187022940 A KR 20187022940A KR 101928803 B1 KR101928803 B1 KR 101928803B1
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카즈키 코우노
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은, 점도가 낮고, 경화시에 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 가지며, 또한, 저온에서 보관했을 때에 결정의 석출이 장기간 억제되는 조성물, 및 이를 포함하는 도료를 제공하는 것이다. 상기 과제는, 일 실시형태에 따르면, (A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트를 60~95질량부와, (B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올을 5~40질량부 포함하는, 조성물에 의해 해결할 수 있다.
Figure 112018078605548-pct00046

Description

(메트)아크릴계 조성물, 이를 포함하는 도료 및 경화체
본 발명은, (메트)아크릴계 조성물, 및 이를 포함하는 도료에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 이 조성물의 경화체에 관한 것이기도 하다.
최근, 광학용 오버코트제, 하드코트제, 반사방지막, 안경렌즈, 광파이버, 광도파로, 홀로그램 등의 광학부품에는, 가공·생산성이 우수한 점으로부터 수지재료가 널리 이용되고 있다. 나아가 광학부품의 분야에서는 소형화나 박형화의 경향이 높아지고 있으며, 이에 수반하여, 굴절률이 높은 재료가 요구되고 있다. 그리고, 이러한 요구에 대해서는, 경화시에 고굴절률을 갖는 수지 조성물을 포함하는 도료가 널리 이용되고 있다. 한편, 이러한 도료는 일반적으로 비교적 점도가 높다는 특징이 있으므로, 얇게 도포하기 곤란한 경우가 있었다. 이에 이 점을 개량한 점도가 낮은 조성물이 제안되어 있다.
예를 들어, 특허문헌 1에서는, 페닐벤질아크릴레이트의 이성체인 o-페닐벤질아크릴레이트(OPBA; 혹은 2-페닐벤질아크릴레이트)와 p-페닐벤질아크릴레이트(PPBA; 혹은 4-페닐벤질아크릴레이트)를 특정 비율로 혼합함으로써, 고굴절률이면서 저점도의 조성물이 제안되어 있다. 또한, 특허문헌 2에서는, 페닐벤질아크릴레이트와 이관능(메트)아크릴레이트 또는 디페닐 유도체를 혼합함으로써, 고굴절률이면서 저점도의 조성물이 얻어진다고 기재되어 있다.
특허문헌 3에서는, 페닐벤질(메트)아크릴레이트(A)와, 분자구조중에 방향환을 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트(X)와, 라디칼중합개시제(Y)를 필수 성분으로서 함유하는 라디칼중합성 조성물로 함으로써, 무용제계이더라도 도공에 적합한 낮은 점도를 가지며, 또한, 그 경화물이 고굴절률을 나타내는 조성물이 제안되어 있다.
특허문헌 4에서는, 방향족 탄화수소골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물과, 특정 구조를 갖는 환상(메트)아크릴레이트 화합물과 중합개시제(C)를 함유하는 수지 조성물을 이용함으로써, 유기EL소자의 봉지재에 적합한 수지 조성물과, 경화성이 우수하고, 가시광투과율, 경화수축률, 수증기투과도가 낮은 경화물이 제공되고 있다.
일본특허공개 2012-82387호 공보 일본특허공개 2012-82386호 공보 일본특허공개 2013-18982호 공보 일본특허공개 2014-193970호 공보
이상과 같이, 지금까지 고굴절률이면서 저점도의 여러가지 조성물이 제안되어 있다. 그러나, 이러한 조성물은 보관중에 중합반응 등이 일어나는 것을 방지하기 위해, 원칙적으로 실온 이하(구체적으로는 0℃ 이하)에서 보관할 필요가 있는데, 이 경우 조성물 중에 결정이 석출되어, 저온에서 보관하는 것이 곤란하다는 문제점이 있었다. 이 점에 대해서는, 특허문헌 1 및 2에서도 검토되어 있는데, 보관조건이 0℃에서 2일간으로 매우 짧은 것이었다. 이 때문에, 보다 장기에 걸처 결정의 석출을 억제할 수 있으며, 또한, 점도가 낮고, 경화시에 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 갖는 조성물이 요구되고 있다.
따라서 본 발명은, 점도가 낮고, 경화시에 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 가지며, 또한, 저온에서 보관했을 때에 결정의 석출이 장기간 억제되는 조성물, 및 이를 포함하는 도료를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은, 상기 조성물의 경화체를 제공하는 것도 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 특정 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트와 특정 구조를 갖는 방향족 알코올을 소정의 질량비로 배합함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명에 이르렀다.
즉 본 발명은, 이하에 기재하는 특징을 갖는 것이다.
[1]
(A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트를 60~95질량부와,
[화학식 1]
Figure 112018078605548-pct00001
[식(1) 중,
X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고(여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이고; 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성할 수도 있다);
Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
R1은, 수소원자 또는 메틸기이고;
R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
m은, 0~10의 정수이고;
n은, 1~2의 정수이고;
p는, 0~4의 정수이고;
q는, 0~5의 정수이다]
(B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올을 5~40질량부
[화학식 2]
Figure 112018078605548-pct00002
[식(2) 중,
R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이고(여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다);
m은, 0~10의 정수이고;
r은, 0~5의 정수이고,
단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이다.]
포함하는, 조성물.
[2]
상기 식(1) 중, p 및 q가 모두 0인, [1]에 기재된 조성물.
[3]
상기 식(2) 중, -(R9)sH가, -(CH2CH2O)-H, -(CH2CH2O)2-H, -(CH2CH(CH3)O)-H, 또는 -(CH2CH(CH3)O)2-H인, [1] 또는 [2]에 기재된 조성물.
[4]
상기 식(2) 중, r이 0인, [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[5]
상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와의 공중합이 가능한, 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체를 추가로 포함하는, [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[화학식 3]
Figure 112018078605548-pct00003
[식(3) 중,
R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕실기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 5~20의 시클로알콕실기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기, 및 할로겐원자로부터 선택되고,
R12는, 수소원자 또는 메틸기이고;
X는, 단결합, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO- 및 하기 일반식(4)~(7)로 이루어지는 군 중, 어느 하나의 구조를 나타내고;
Y 및 Z는, 각각 독립적으로, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이다.]
[화학식 4]
Figure 112018078605548-pct00004
[식(4) 중,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기, 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이고;
c는 1~20의 정수를 나타낸다.]
[화학식 5]
Figure 112018078605548-pct00005
[식(5) 중, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R15 및 R16은 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
[화학식 6]
Figure 112018078605548-pct00006
[식(6) 중, R17~R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R17 및 R18 그리고 R19 및 R20은, 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
[화학식 7]
Figure 112018078605548-pct00007
[식(7) 중, R21~R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기이다.]
[6]
상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와 상기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올의 합계 100질량부에 대해, 상기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체를 1~20질량부 포함하는, [5]에 기재된 조성물.
[7]
상기 식(3) 중, X가 일반식(5)로 표시되는 구조를 갖는, [5] 또는 [6]에 기재된 조성물.
[8]
활성 에너지선 경화성 조성물인, [1]~[7] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[9]
[1]~[8] 중 어느 하나에 기재된 조성물을 포함하는 도료.
[10]
(A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 중합체, 또는
[화학식 8]
Figure 112018078605548-pct00008
[식(1) 중,
X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고(여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이고; 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성할 수도 있다);
Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
R1은, 수소원자 또는 메틸기이고;
R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
m은, 0~10의 정수이고;
n은, 1~2의 정수이고;
p는, 0~4의 정수이고;
q는, 0~5의 정수이다]
상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 공중합체와,
[화학식 9]
Figure 112018078605548-pct00009
[식(3) 중,
R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕실기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 5~20의 시클로알콕실기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기, 및 할로겐원자로부터 선택되고,
R12는, 수소원자 또는 메틸기이고;
X는, 단결합, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO- 및 하기 일반식(4)~(7)로 이루어지는 군 중, 어느 하나의 구조를 나타내고;
Y 및 Z는, 각각 독립적으로, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이다.]
[화학식 10]
Figure 112018078605548-pct00010
[식(4) 중,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기, 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이고;
c는 1~20의 정수를 나타낸다.]
[화학식 11]
Figure 112018078605548-pct00011
[식(5) 중, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R15 및 R16은 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
[화학식 12]
Figure 112018078605548-pct00012
[식(6) 중, R17~R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R17 및 R18 그리고 R19 및 R20은, 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
[화학식 13]
Figure 112018078605548-pct00013
[식(7) 중, R21~R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기이다.]
(B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올
[화학식 14]
Figure 112018078605548-pct00014
[식(2) 중,
R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이고(여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다);
m은, 0~10의 정수이고;
r은, 0~5의 정수이고,
단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이다.]
를 포함하고,
상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 상기 방향족 알코올의 질량비가 60:40~95:5인, 경화체.
[11]
[1]~[8] 중 어느 하나에 기재된 조성물이 경화되어 이루어지는 경화체.
본 발명에 따르면, 점도가 낮고, 경화시에 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 가지며, 또한, 저온에서 보관했을 때에 결정의 석출이 장기간 억제되는 조성물, 및 이를 포함하는 도료를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 상기 조성물의 경화체를 제공할 수도 있다.
이하, 본 발명의 실시의 형태에 대하여, 상세하게 설명한다.
<조성물>
본 발명의 조성물은, (A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트를 60~95질량부와,
[화학식 15]
Figure 112018078605548-pct00015
[식(1) 중,
X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고(여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이고; 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성할 수도 있다);
Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
R1은, 수소원자 또는 메틸기이고;
R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
m은, 0~10의 정수이고;
n은, 1~2의 정수이고;
p는, 0~4의 정수이고;
q는, 0~5의 정수이다]
(B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올을 5~40질량부
[화학식 16]
Figure 112018078605548-pct00016
[식(2) 중,
R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이고(여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다);
m은, 0~10의 정수이고;
r은, 0~5의 정수이고,
단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이다.]
포함하여 이루어진다.
상기와 같이 일반식(1)의 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트와 일반식(2)의 구조를 갖는 방향족 알코올을 소정의 질량비로 포함하는 본 발명의 조성물은, 점도가 낮고, 경화시에 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 가지며, 또한, 저온에서 보관했을 때에 결정의 석출을 장기간 억제할 수 있다. 이론에 구속되는 것은 아니나, 일반식(1)의 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에 대해 일반식(2)의 구조를 갖는 방향족 알코올을 소정량 첨가함으로써, 조성물의 점도가 내려갈 뿐만 아니라, 결정의 성장도 억제되어 있는 것으로 보인다.
이하, 본 발명의 조성물에 포함되는 각 성분에 대하여, 순서대로 설명한다.
1. (메트)아크릴레이트
본 발명의 조성물에 이용되는 (메트)아크릴레이트는 하기 일반식(1)로 표시되는 구조를 갖는다.
[화학식 17]
Figure 112018078605548-pct00017
식(1) 중, X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고, 바람직하게는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -O-, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이다. 여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이다. 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성하고 있을 수도 있다. 바람직하게는, R2 및 R3은, 모두 수소원자이다.
Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이다.
R1은, 수소원자 또는 메틸기이고, 바람직하게는 수소원자이다.
R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이다.
m은, 0~10의 정수이고, 바람직하게는 0~5의 정수이고, 보다 바람직하게는 0이다.
n은, 1~2의 정수이고, 바람직하게는 1이다.
p는, 0~4의 정수이고, 바람직하게는 0~2의 정수이고, 보다 바람직하게는 0이다.
q는, 0~5의 정수이고, 바람직하게는 0~2의 정수이고, 보다 바람직하게는 0이다.
더욱 바람직하게는, p 및 q가 모두 0이다.
상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로는, 예를 들어, 4-페닐벤질(메트)아크릴레이트, 3-페닐벤질(메트)아크릴레이트, 2-페닐벤질(메트)아크릴레이트, 4-비페닐벤질(메트)아크릴레이트, 3-비페닐벤질(메트)아크릴레이트, 2-비페닐벤질(메트)아크릴레이트, 4-벤질벤질(메트)아크릴레이트, 3-벤질벤질(메트)아크릴레이트, 2-벤질벤질(메트)아크릴레이트, 4-페네틸벤질(메트)아크릴레이트, 3-페네틸벤질(메트)아크릴레이트, 2-페네틸벤질(메트)아크릴레이트, 4-페네틸페네틸(메트)아크릴레이트, 3-페네틸페네틸(메트)아크릴레이트, 2-페네틸페네틸(메트)아크릴레이트, 4-(4-메틸페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(4-메틸페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(4-메틸페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 4-(4-메톡시페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(4-메톡시페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(4-메톡시페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 4-(4-브로모페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(4-브로모페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(4-브로모페닐)벤질(메트)아크릴레이트, 4-벤조일벤질(메트)아크릴레이트, 3-벤조일벤질(메트)아크릴레이트, 2-벤조일벤질(메트)아크릴레이트, 4-(페닐설피닐)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(페닐설피닐)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(페닐설피닐)벤질(메트)아크릴레이트, 4-(페닐설포닐)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(페닐설포닐)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(페닐설포닐)벤질(메트)아크릴레이트, 4-((페녹시카르보닐)옥시)벤질(메트)아크릴레이트, 3-((페녹시카르보닐)옥시)벤질(메트)아크릴레이트, 2-((페녹시카르보닐)옥시)벤질(메트)아크릴레이트, 4-(((메트)아크릴옥시)메틸)페닐벤조에이트, 3-(((메트)아크릴옥시)메틸)페닐벤조에이트, 2-(((메트)아크릴옥시)메틸)페닐벤조에이트, 페닐4-(((메트)아크릴옥시)메틸)벤조에이트, 페닐3-(((메트)아크릴옥시)메틸)벤조에이트, 페닐2-(((메트)아크릴옥시)메틸)벤조에이트, 4-(1-페닐시클로헥실)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(1-페닐시클로헥실)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(1-페닐시클로헥실)벤질(메트)아크릴레이트, 4-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 3-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 2-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 4-(페닐티오)벤질(메트)아크릴레이트, 3-(페닐티오)벤질(메트)아크릴레이트, 2-(페닐티오)벤질(메트)아크릴레이트 및 3-메틸-4-(2-메틸페닐)벤질메타크릴레이트를 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중, 바람직하게는, 2-페닐벤질(메트)아크릴레이트, 4-페닐벤질(메트)아크릴레이트, 4-페녹시벤질(메트)아크릴레이트 및 4-벤질벤질(메트)아크릴레이트이고, 보다 바람직하게는, 2-페닐벤질아크릴레이트, 4-페닐벤질아크릴레이트, 4-페녹시벤질아크릴레이트 및 4-벤질벤질아크릴레이트이다.
본 발명의 조성물에 포함되는 (메트)아크릴레이트의 배합량은, 60~95질량부이고, 바람직하게는 65~90질량부이고, 보다 바람직하게는 70~90질량부이다. (메트)아크릴레이트의 배합량을 60질량부 이상으로 함으로써, 경화 후의 굴절률을 1.600 이상의 높은 값으로 유지할 수 있고, 배합량을 95질량부 이하로 함으로써, 방향족 알코올과 혼합하여 효과적으로 결정석출을 억제할 수 있다. 나아가, (메트)아크릴레이트의 배합량을 60~95질량부로 함으로써, 건조성이나 내수성도 우수한 경화체를 얻을 수 있다.
2. 방향족 알코올
본 발명의 조성물에 이용되는 방향족 알코올은, 하기 일반식(2)로 표시되는 구조를 갖는다.
[화학식 18]
Figure 112018078605548-pct00018
식(2) 중, R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이다.
R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이다. 여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다.
m은, 0~10의 정수이고, 바람직하게는 0~5의 정수이고, 보다 바람직하게는 1~3의 정수이다.
r은, 0~5의 정수이고, 바람직하게는 0~2의 정수이고, 보다 바람직하게는 0이다.
단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이고, 바람직하게는 1~5의 정수이고, 보다 바람직하게는 1~3의 정수이다.
식(2) 중, -(R9)sH가, -(CH2CH2O)-H, -(CH2CH2O)2-H, -(CH2CH(CH3)O)-H, 또는 -(CH2CH(CH3)O)2-H인 것이 바람직하다.
상기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올로는, 예를 들어, 벤질알코올, 4-메틸벤질알코올, 3-메틸벤질알코올, 2-메틸벤질알코올, 2-페닐에탄올, 3-페닐프로판올, 1-페닐-1-프로판올, 1-페닐-2-프로판올, 4-페닐-1-부탄올, 4-페닐-2-부탄올, 1-페닐-2-부탄올, 2-페닐-2-부탄올, 페닐글리콜, 페닐디글리콜, 벤질글리콜, 벤질디글리콜, 페닐프로필렌글리콜 및 페닐디프로필렌글리콜을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중, 바람직하게는, 벤질알코올 및 벤질글리콜이다.
본 발명의 조성물에 포함되는 방향족 알코올의 배합량은, 5~40질량부이고, 바람직하게는 10~35질량부이고, 보다 바람직하게는 10~30질량부이다. 방향족 알코올의 배합량을 5질량부 이상으로 함으로써, 효과적으로 결정석출을 억제할 수 있고, 40질량부 이하로 함으로써, 경화 후의 높은 굴절률 및 양호한 건조성을 유지할 수 있다.
3. 다가비닐계 단량체
본 발명의 조성물은, 필요에 따라, 상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와의 공중합이 가능한, 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체를 추가로 포함할 수 있다.
[화학식 19]
Figure 112018078605548-pct00019
식(3) 중, R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕실기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 5~20의 시클로알콕실기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기, 및 할로겐원자로부터 선택되고, 바람직하게는 수소원자이다.
R12는, 수소원자 또는 메틸기이다.
X는, 단결합, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO- 및 하기 일반식(4)~(7)로 이루어지는 군 중, 어느 하나의 구조를 나타낸다.
Y 및 Z는, 각각 독립적으로, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이다.
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이고, 바람직하게는 p 및 q는 모두 0이다.
하기 식(4) 중,
[화학식 20]
Figure 112018078605548-pct00020
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기, 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내고, 여기서, 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다. 바람직하게는 R13 및 R14는 모두 수소원자이다.
c는 1~20의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1~10의 정수, 보다 바람직하게는 1~5의 정수를 나타낸다.
하기 식(5) 중,
[화학식 21]
Figure 112018078605548-pct00021
R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R15 및 R16은 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고, 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다. 바람직하게는, R15 및 R16은 모두 수소원자인 것이 바람직하다.
하기 식(6) 중,
[화학식 22]
Figure 112018078605548-pct00022
R17~R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R17 및 R18 그리고 R19 및 R20은, 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고, 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다. 바람직하게는, R17~R20은 모두 수소원자이다.
하기 식(7) 중,
[화학식 23]
Figure 112018078605548-pct00023
R21~R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기이다. 바람직하게는, R21~R30은 모두 수소원자이다.
상기 식(3) 중, X가 일반식(5)로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
상기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체로는, 예를 들어, 9,9-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 4,4’-이소프로필리덴디페놀디(메트)아크릴레이트, 2,2’-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]프로판, 비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]메탄, 1,1’-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]메탄, 비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]에테르, 비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]설폭사이드, 비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]설파이드, 비스(4-(2-(메트)(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]설폰, 비스(4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]케톤, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트 및 4,4’-디(메트)아크릴로일옥시비페닐 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 9,9-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 4,4’-이소프로필리덴디페놀디(메트)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트 및 2,2’-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]프로판이 바람직하고, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트 및 9,9-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌이 보다 바람직하다. 또한, 상기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어, 신나카무라화학공업주식회사제의 ABE-300이나 A-BPE-4, A-BPEF, 쿄에이샤화학주식회사제의 라이트아크릴레이트BP-4EAL, 신나카무라화학공업주식회사제의 비스코트#700HV, 히타치화성주식회사제의 FA-324A 등을 들 수 있는데, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체의 배합량은, 바람직하게는, 상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와 상기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올의 합계 100질량부에 대해, 1~20질량부 포함하는 것이 바람직하고, 5~15질량부가 보다 바람직하고, 8~12질량부가 더욱 바람직하다. 다가비닐계 단량체를 1~20질량부 배합시킴으로써, 다른 특성을 손상시키는 일 없이, 경화 후의 조성물의 건조성을 향상시킬 수 있다.
4. 임의의 첨가제
본 발명의 조성물은, 상기 구성성분 이외에, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서 용도에 따라 여러가지 임의의 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는, 열안정제, 산화방지제, 난연제, 난연조제, 자외선흡수제, 이형제 및 착색제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종류의 첨가제가 예시된다. 첨가제의 배합량은, 상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와 상기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올의 합계 100질량부에 대해, 0.005질량부~0.1질량부인 것이 바람직하고, 0.01질량부~0.05질량부인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 조성물은, 공지의 임의의 방법에 의해 제조할 수 있고, 상기 서술한 구성성분을 단순히 혼합함으로써 제조할 수도 있다.
본 발명의 조성물은, 여러가지 방법에 의해 경화할 수 있다. 상세에 대해서는 후술하나, 본 발명의 조성물은, 바람직하게는, 활성 에너지선 경화성 조성물이다.
<도료>
본 발명의 도료는, 상기 조성물을 포함하여 이루어진다. 본 발명의 도료는 주로, 광학부재용의 코트제나 하드코트제 등의 용도에 이용할 수 있다.
본 발명의 도료를 플라스틱 등 일반적인 기재에 도포하는 경우에 있어서는, 각종 기재의 표면의 습윤을 돕기 위해, 도료중에, 실리콘 혹은 아크릴계 화합물과 같은 습윤제를 첨가할 수도 있다. 적절한 습윤제로는, 빅케미사로부터 입수할 수 있는 BYK331, BYK333, BYK340, BYK347, BYK348, BYK378, BYK380, BYK381 등이 있다. 이들을 첨가하는 경우에는, 도료의 전체질량을 기준으로 0.01~2.0질량%의 범위가 바람직하다.
또한, 각종 재료에 대한 점착성을 향상시키기 위해, 도료중에, 필요에 따라 자일렌 수지, 테르펜 수지, 페놀 수지, 로진 수지 등의 점착부여제를 첨가할 수도 있다. 이들을 첨가하는 경우에는, 도료의 전체질량을 기준으로 0.01~2.0질량%의 범위가 바람직하다.
각종 재료에 대한 접착성을 향상시키기 위해, 도료중에 실란커플링제, 티탄커플링제 등의 커플링제를 첨가할 수도 있다. 이들을 첨가하는 경우에는, 도료의 전체질량을 기준으로 0.01~5.0질량%의 범위가 바람직하다.
또한, 내충격성 등의 여러 성능을 향상시키기 위해, 도료중에 실리카, 알루미나, 마이카, 탈크, 알루미늄플레이크, 유리플레이크 등의 무기필러를 첨가할 수도 있다. 이들을 첨가하는 경우에는, 도료의 전체질량을 기준으로 0.01~10.0질량%의 범위가 바람직하다.
나아가, 본 발명의 도료를 금속이나 콘크리트, 플라스틱 등 일반적인 기재에 도포하는 경우에 있어서는, 교반혼합이나 도포시에 발생하는 기포의 소실을 돕기 위해, 도료중에, 실리콘계 혹은 아크릴계 화합물로 이루어지는 소포제를 첨가할 수도 있다. 적절한 소포제로는, 빅케미사로부터 입수할 수 있는 BYK019, BYK052, BYK065, BYK066N, BYK067N, BYK070, BYK080 등을 들 수 있는데, 특히 BYK065가 바람직하다. 이들을 첨가하는 경우에는, 도료의 전체질량을 기준으로 0.01~3.0질량%의 범위가 바람직하다.
본 발명의 도료에는, 필요에 따라 인산아연, 인산철, 몰리브덴산칼슘, 산화바나듐, 수분산실리카, 흄드실리카 등의 방청첨가제, 프탈로시아닌계 유기안료, 축합다환계 유기안료 등의 유기안료, 산화티탄, 산화아연, 탄산칼슘, 황산바륨, 알루미나, 카본블랙 등의 무기안료 등의 각 성분을 필요량 첨가할 수도 있다.
본 발명의 도료를 각종 기재 상에 도포할 때의 도장형식으로는, 예를 들어, 바코터도공, 메이어바도공, 에어나이프도공, 그라비어도공, 리버스그라비어도공, 마이크로그라비어도공, 마이크로리버스그라비어코터도공, 다이코터도공, 슬롯다이코터도공, 바큠다이코터도공, 딥도공, 스핀코트도공, 스프레이도공, 브러싱 등의 일반적으로 사용되는 도장형식 어느 것이나 사용될 수 있다. 롤도포 또는 스프레이도포가 바람직하다.
<경화체>
본 발명의 경화체는, 상기 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화체이다. 본 발명의 경화체는, 1.580 이상의 높은 굴절률을 가지며, 또한, 건조성 및 내수성도 우수하다. 또한, 본 발명의 경화체는, 1.585 이상의 높은 굴절률을 갖는 것이 바람직하고, 1.590 이상의 높은 굴절률을 갖는 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 경화체는,
(A)일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 중합체, 또는
[화학식 24]
Figure 112018078605548-pct00024
일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 공중합체와,
[화학식 25]
Figure 112018078605548-pct00025
(B)일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올을 포함하고,
[화학식 26]
Figure 112018078605548-pct00026
일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 방향족 알코올의 질량비가 60:40~95:5인 경화체이다.
여기서, 일반식(1)에 있어서의 X, Y, R1, R4, R5, m, n, p 및 q는, 각각 본 발명의 조성물의 것과 동일하다. 또한, 일반식(2)에 있어서의 R6, R7, m 및 r, 그리고 일반식(3)에 있어서의 R10, R11, R12, X, Y, Z, p 및 q도, 각각 본 발명의 조성물의 것과 동일하다.
한편, 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위란, 하기 식(1a)의 구조를 갖는 구성단위를 나타내고,
[화학식 27]
Figure 112018078605548-pct00027
일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체로부터 유도되는 구성단위란, 하기 식(3a)의 구조를 갖는 구성단위를 나타낸다.
[화학식 28]
Figure 112018078605548-pct00028
여기서, 일반식(1a)에 있어서의 X, Y, R1, R4, R5, m, n, p 및 q는, 각각 일반식(1)의 것과 대응하고, 일반식(3a)에 있어서의 R10, R11, R12, X, Y, Z, p 및 q는, 일반식(3)의 것과 대응한다.
본 발명의 경화체는, 상기와 같이, 본 발명의 조성물을 경화함으로써 얻어진다. 여기서, 경화를 행하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 여러가지 공지의 방법에 의해 행할 수도 있다. 예를 들어, 본 발명의 조성물은, 활성 에너지선을 조사함에 따른 광중합에 의해 경화시킬 수도 있다. 본 명세서에 있어서, 「활성 에너지선」이란, 자외선, 전자선, 이온빔, 및 X선 등을 의미한다.
본 발명의 조성물을 활성 에너지선에 의해 경화시키는 경우, 광중합개시제는 반드시 필요하지는 않다. 그러나, 광중합개시제를 첨가하는 경우, 예를 들어, Ciba사로부터 입수 가능한 Irgacure(등록상표)2959(1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, Irgacure(등록상표)184(1-하이드록시시클로헥실페닐케톤), Irgacure(등록상표)500(1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조페논), Irgacure(등록상표)651(2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온), Irgacure(등록상표)369(2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1), Irgacure(등록상표)907(2-메틸-1[4-메틸티오페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, Irgacure(등록상표)819(비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, Irgacure(등록상표)1800(비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드,1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤), Irgacure(등록상표)1800(비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드,2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판-1-온), Irgacure(등록상표)OXE01(1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), Darocur(등록상표)1173(2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판-1-온), Darocur(등록상표)1116, 1398, 1174 및 1020, CGI242(에탄온(エタノン),1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), BASF사로부터 입수 가능한 LucirinTPO(2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드), Lucirin TPO-L(2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드), 일본시버헤그너사로부터 입수 가능한 ESACURE1001M(1-[4-벤조일페닐설파닐]페닐]-2-메틸-2-(4-메틸페닐설포닐)프로판-1-온, 아사히덴카사로부터 입수 가능한 아데카옵토머(등록상표)N-1414(카바졸·페논계), 아데카옵토머(등록상표)N-1717(아크리딘계), 아데카옵토머(등록상표)N-1606(트리아진계), 산와케미컬제의 TFE-트리아진(2-[2-(푸란-2-일)비닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진), 산와케미컬제의 TME-트리아진(2-[2-(5-메틸푸란-2-일)비닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진), 산와케미컬제의 MP-트리아진(2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진), 미도리화학제 TAZ-113(2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진), 미도리화학제 TAZ-108(2-(3,4-디메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진), 벤조페논, 4,4’-비스디에틸아미노벤조페논, 메틸-2-벤조페논, 4-벤조일-4’-메틸디페닐설파이드, 4-페닐벤조페논, 에틸미힐러즈케톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 티옥산톤암모늄염, 벤조인, 4,4’-디메톡시벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1,1,1-트리클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논 및 디벤조수베론, o-벤조일안식향산메틸, 2-벤조일나프탈렌, 4-벤조일비페닐, 4-벤조일디페닐에테르, 1,4-벤조일벤젠, 벤질, 10-부틸-2-클로로아크리돈, [4-(메틸페닐티오)페닐]페닐메탄), 2-에틸안트라퀴논, 2,2-비스(2-클로로페닐)4,5,4’,5’-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)1,2’-비이미다졸, 2,2-비스(o-클로로페닐)4,5,4’,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸, 트리스(4-디메틸아미노페닐)메탄, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-(디메틸아미노)에틸벤조에이트, 부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 등을 들 수 있다. 이들 광중합개시제는 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있다. 또한, 이들 광중합개시제의 첨가량은, 조성물 중, 0.01질량%~15질량%, 바람직하게는 0.1질량%~10질량%의 범위이다.
실시예
이하, 본 발명에 대하여 실시예를 참조하여 상세히 설명하나, 본 발명의 기술적 범위는 이것으로 한정되는 것은 아니다. 실시예 중의 「부」 및 「%」는, 각각 「질량부」 및 「질량%」를 나타낸다.
또한, 실시예 및 비교예에 있어서의 각 물성의 측정은, 이하의 방법에 의해 행하였다.
1. 조성물 점도
하기에 기재된 방법으로 얻어지는 조성물의 점도를, E형 점도계(TV-22형)를 이용하여, 측정온도: 25℃에서 측정하였다.
2. 조성물의 굴절률
하기에 기재된 방법으로 얻어지는 조성물을, 다파장 아베굴절률계 DR-M2(주식회사 아타고사제)를 이용하여, 측정파장: 589nm, 측정온도: 23℃에서 측정하였다.
3. 경화물의 굴절률
하기에 기재된 방법으로 얻어지는 조성물의 경화물을, 다파장 아베굴절률계 DR-M2(주식회사 아타고사제)를 이용하여, 측정파장: 589nm, 측정온도: 23℃에서 측정하였다.
4. 건조성
하기에 기재된 방법으로 얻어지는 조성물의 경화체의 표면을 메탄올을 적신 면봉으로 문지르고, 경화체 표면에 있어서의 외관의 변화를 육안으로 평가하였다.
A: 변화없음
B: 약간 문지른 흔적이 있음
C: 약간 백화
D: 용해
5. 내수성
하기에 기재된 방법으로 얻어지는 조성물의 경화체에, 물을 1방울(약 2ml) 적하하고, 물이 증발하지 않도록 위에서부터 덮개를 하여, 23℃에서 1일 방치한다. 그 후, 물을 닦아내어, 경화체 표면에 있어서의 외관의 변화를 육안으로 평가하였다.
A: 변화없음
B: 약간 흔적있음
C: 약간 백화
D: 백화
<실시예 1: 조성물a 및 그의 경화체의 조제>
2-페닐벤질아크릴레이트 20질량부, 4-페닐벤질아크릴레이트 70질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물a를 얻었다. 다음에, 기재인 두께 50μm의 폴리에스테르필름(토요보주식회사제; 토요보에스테르필름E5100)에, 조성물a를 도포하고(도포량: 약 20μm두께), 바로, 540mJ/cm2의 자외선 조사량이 되도록 설정한 컨베이어타입의 자외선 조사장치U-0303(주식회사GS유아사제, 고압수은램프 사용, 램프출력: 80W/cm, 컨베이어스피드: 3m/min)을 이용하여 자외선을 조사하고, 조성물a의 경화체를 얻었다.
<실시예 2: 조성물b 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 90질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물b를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물b의 경화체를 얻었다.
<실시예 3: 조성물c 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 90질량부, 방향족 알코올로서 벤질알코올 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물c를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물c의 경화체를 얻었다.
<실시예 4: 조성물d 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 90질량부, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 10질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물d를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물d의 경화체를 얻었다.
<실시예 5: 조성물e 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 90질량부, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 5질량부, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트(신나카무라화학공업주식회사제의 ABE-300) 5질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물e를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물e의 경화체를 얻었다.
여기서, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트(신나카무라화학공업주식회사제의 ABE-300)는 하기의 구조식을 가지며, p+q=3이다.
[화학식 29]
Figure 112018078605548-pct00029
<실시예 6: 조성물f 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 90질량부, 에톡시화비스페놀A디아크릴레이트(신나카무라화학공업주식회사제의 ABE-300) 10질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물f를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물f의 경화체를 얻었다.
<실시예 7: 조성물g 및 그의 경화체의 조제>
4-페녹시벤질아크릴레이트 90질량부, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 10질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물g를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물g의 경화체를 얻었다.
<실시예 8: 조성물h 및 그의 경화체의 조제>
4-벤질벤질아크릴레이트 90질량부, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 10질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물h를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물h의 경화체를 얻었다.
<실시예 9: 조성물i 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 70질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 30질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물i를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물i의 경화체를 얻었다.
<실시예 10: 조성물j 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 60질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 40질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물j를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물j의 경화체를 얻었다.
<실시예 11: 조성물k 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 60질량부, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 10질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 40질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물k를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물k의 경화체를 얻었다.
<비교예 1: 조성물l 및 그의 경화체의 조제>
2-페닐벤질아크릴레이트 30질량부, 4-페닐벤질아크릴레이트 70질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물l를 얻었다. 다음에, 실시예 1과 동일한 수순으로 조성물l의 경화체를 얻었다.
<비교예 2: 조성물m 및 그의 경화체의 조제>
4-페닐벤질아크릴레이트 50질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 50질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물m을 얻었다. 다음에, 조성물m의 경화체를 얻었다.
<비교예 3: 조성물n의 조제>
4-페닐페닐아크릴레이트 90질량부, 방향족 알코올로서 벤질글리콜 10질량부, 광중합개시제로서 Irgacure184(치바·스페셜티·케미컬즈제) 3질량부를 배합하고, 잘 교반함으로써, 조성물n을 얻었다. 그러나, 조성물n은 다른 실시예 및 비교예의 조성물과 달리, 고체상태이며, 물성의 측정 및 경화를 행할 수 없었다.
상기 실시예 1~11 및 비교예 1~3에서 얻어진 조성물의 조성을 표 1에 나타낸다. 또한, 얻어진 조성물 및 경화체의 각 물성을 표 2에 나타낸다.
Figure 112018078605548-pct00030
Figure 112018078605548-pct00031

Claims (11)

  1. (A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트를 60~95질량부와,
    Figure 112018078774275-pct00032

    [식(1) 중,
    X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고(여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이고; 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성할 수도 있다);
    Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
    R1은, 수소원자 또는 메틸기이고;
    R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
    m은, 0~10의 정수이고;
    n은, 1~2의 정수이고;
    p는, 0~4의 정수이고;
    q는, 0~5의 정수이다]
    (B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올을 5~40질량부
    Figure 112018078774275-pct00033

    [식(2) 중,
    R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
    R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이고(여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다);
    m은, 0~10의 정수이고;
    r은, 0~5의 정수이고,
    단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이다.]
    포함하는, 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 식(1) 중, p 및 q가 모두 0인, 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 식(2) 중, -(R9)sH가, -(CH2CH2O)-H, -(CH2CH2O)2-H, -(CH2CH(CH3)O)-H, 또는 -(CH2CH(CH3)O)2-H인, 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 식(2) 중, r이 0인, 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와의 공중합이 가능한, 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체를 추가로 포함하는, 조성물.
    Figure 112018078774275-pct00034

    [식(3) 중,
    R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕실기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 5~20의 시클로알콕실기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기, 및 할로겐원자로부터 선택되고,
    R12는, 수소원자 또는 메틸기이고;
    X는, 단결합, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO- 및 하기 일반식(4)~(7)로 이루어지는 군 중, 어느 하나의 구조를 나타내고;
    Y 및 Z는, 각각 독립적으로, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
    p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이다.]
    Figure 112018078774275-pct00035

    [식(4) 중,
    R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기, 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이고;
    c는 1~20의 정수를 나타낸다.]
    Figure 112018078774275-pct00036

    [식(5) 중, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R15 및 R16은 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
    Figure 112018078774275-pct00037

    [식(6) 중, R17~R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R17 및 R18 그리고 R19 및 R20은, 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
    Figure 112018078774275-pct00038

    [식(7) 중, R21~R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기이다.]
  6. 제5항에 있어서,
    상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트와 상기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올의 합계 100질량부에 대해, 상기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체를 1~20질량부 포함하는, 조성물.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 식(3) 중, X가 일반식(5)로 표시되는 구조를 갖는, 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    활성 에너지선 경화성 조성물인, 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 포함하는 도료.
  10. (A)하기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 중합체, 또는
    Figure 112018078774275-pct00039

    [식(1) 중,
    X는, 단결합, -C(R2)(R3)-, -C(=O)-, -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)O-, -S-, -SO-, -SO2- 및 이들의 임의의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 기이고(여기서, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 페닐기 또는 페닐페닐기이고; 혹은, R2 및 R3은, 상호 연결하여, 이들이 결합하는 탄소원자와 하나가 되어 탄소수 3~10의 환상알킬기를 형성할 수도 있다);
    Y는, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
    R1은, 수소원자 또는 메틸기이고;
    R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
    m은, 0~10의 정수이고;
    n은, 1~2의 정수이고;
    p는, 0~4의 정수이고;
    q는, 0~5의 정수이다]
    상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가비닐계 단량체로부터 유도되는 구성단위를 포함하는 공중합체와,
    Figure 112018078774275-pct00040

    [식(3) 중,
    R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕실기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 5~20의 시클로알콕실기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 6~20의 아릴옥시기, 및 할로겐원자로부터 선택되고,
    R12는, 수소원자 또는 메틸기이고;
    X는, 단결합, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -CO- 및 하기 일반식(4)~(7)로 이루어지는 군 중, 어느 하나의 구조를 나타내고;
    Y 및 Z는, 각각 독립적으로, 분지되어 있을 수도 있는 탄소수 2~6의 알킬렌기, 탄소수 6~10의 시클로알킬렌기, 또는 탄소수 6~10의 아릴렌기이고;
    p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이다.]
    Figure 112018078774275-pct00041

    [식(4) 중,
    R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기, 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이고;
    c는 1~20의 정수를 나타낸다.]
    Figure 112018078774275-pct00042

    [식(5) 중, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R15 및 R16은 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
    Figure 112018078774275-pct00043

    [식(6) 중, R17~R20은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~5의 알콕시기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~12의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~5의 알케닐기 및 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 7~17의 아랄킬기로 이루어지는 군 중 어느 하나를 나타내거나, 또는, R17 및 R18 그리고 R19 및 R20은, 각각 서로 결합하여, 탄소수 1~20의 탄소환 혹은 복소환을 형성하고;
    상기 치환기는 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기이다.]
    Figure 112018078774275-pct00044

    [식(7) 중, R21~R30은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기이다.]
    (B)하기 일반식(2)로 표시되는 방향족 알코올
    Figure 112018078774275-pct00045

    [식(2) 중,
    R6은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~10의 분지상알킬기, 탄소수 3~10의 환상알킬기, 탄소수 1~10의 직쇄상알콕시기, 탄소수 3~10의 분지상알콕시기, 탄소수 3~10의 환상알콕시기, 할로겐원자, 페닐기 또는 페닐페닐기이고;
    R7은, 수소원자, -R8OH, -(R9)sH이고(여기서, R8은, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌기이고, R9는, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬렌옥시기 또는 탄소수 3~10의 분지상알킬렌옥시기이고, s는, 1~5의 정수이다);
    m은, 0~10의 정수이고;
    r은, 0~5의 정수이고,
    단, R7이 수소원자인 경우, m은 1~10의 정수이다.]
    을 포함하고,
    상기 일반식(1)로 표시되는 (메트)아크릴레이트로부터 유도되는 구성단위와 상기 방향족 알코올의 질량비가 60:40~95:5인, 경화체.
  11. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 조성물이 경화되어 이루어지는 경화체.
KR1020187022940A 2016-08-03 2017-06-27 (메트)아크릴계 조성물, 이를 포함하는 도료 및 경화체 Active KR101928803B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6870620B2 (ja) 2016-02-05 2021-05-12 三菱瓦斯化学株式会社 光拡散剤、光拡散性樹脂組成物および成形体
WO2018235688A1 (ja) * 2017-06-23 2018-12-27 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、半硬化物、硬化物、光学部材、レンズ及び化合物
JP6879876B2 (ja) * 2017-09-25 2021-06-02 三洋化成工業株式会社 硬化性組成物及び硬化物
JP7351222B2 (ja) * 2017-12-19 2023-09-27 三菱瓦斯化学株式会社 （メタ）アクリル系組成物の製造方法、（メタ）アクリル系組成物を含む塗料および硬化体
JP6799633B2 (ja) * 2019-04-24 2020-12-16 三菱瓦斯化学株式会社 （メタ）アクリル系組成物、それを含む塗料および硬化体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2889593B2 (ja) * 1989-05-24 1999-05-10 株式会社日立製作所 光学部品及びその製造方法とその応用装置
JP4394261B2 (ja) * 2000-07-18 2010-01-06 太陽インキ製造株式会社 可視光硬化性樹脂組成物
JP2006308840A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Nippon Kayaku Co Ltd 光学レンズ用高屈折率樹脂組成物およびその硬化物
ATE506383T1 (de) * 2006-02-23 2011-05-15 Mitsubishi Rayon Co (meth)acrylpolymerteilchen, methode zur ihren herstellung, plastisol und gegenstand
JP2010106046A (ja) * 2007-02-28 2010-05-13 Nippon Kayaku Co Ltd 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
JP5696890B2 (ja) 2010-09-14 2015-04-08 Dic株式会社 光学材料用高屈折組成物、及びその硬化物
WO2012172841A1 (ja) 2011-06-13 2012-12-20 Dic株式会社 ラジカル重合性組成物、硬化物及びプラスチックレンズ
EP2796506B1 (en) * 2011-12-19 2020-05-13 Lotte Advanced Materials Co., Ltd. Thermoplastic resin composition and molded products thereof
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