[go: up one dir, main page]

KR101569004B1 - 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 - Google Patents

기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101569004B1
KR101569004B1 KR1020130087937A KR20130087937A KR101569004B1 KR 101569004 B1 KR101569004 B1 KR 101569004B1 KR 1020130087937 A KR1020130087937 A KR 1020130087937A KR 20130087937 A KR20130087937 A KR 20130087937A KR 101569004 B1 KR101569004 B1 KR 101569004B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reactor
substrate
movable
ski plate
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020130087937A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150012432A (ko
Inventor
박형상
탁영덕
Original Assignee
(주)아이작리서치
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)아이작리서치 filed Critical (주)아이작리서치
Priority to KR1020130087937A priority Critical patent/KR101569004B1/ko
Publication of KR20150012432A publication Critical patent/KR20150012432A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101569004B1 publication Critical patent/KR101569004B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H10P72/3302
    • H10P72/3306
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 화학 기상 증착 또는 원자층 증착을 수행할 수 있는 반응기 내부에 기판을 이송할 수 있는 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법에 관한 것으로서, 지지대; 상기 지지대에 설치된 제 1 가이드부재를 따라 반응기 방향으로 전후진이 가능한 제 1 가동대; 상기 제 1 가동대를 상기 반응기 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 1 가동장치; 상기 제 1 가동대에 의해서 상기 반응기 내부로 로딩될 수 있고, 기판이 안착될 수 있는 적어도 하나의 스키 플레이트; 및 상기 제 1 가동대에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 상기 제 1 가동대에 선택적으로 고정 또는 해제시킬 수 있는 고정 부재;를 포함할 수 있다.

Description

기판 이송 장치 및 기판 이송 방법{Transfer apparatus for substrate and transfer method for substrate}
본 발명은 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학 기상 증착 또는 원자층 증착을 수행할 수 있는 반응기 내부에 기판을 이송할 수 있는 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법에 관한 것이다.
일반적으로 기판에 각종 증착 공정을 수행하는 반응기 내부로 기판을 이송하는 종래의 기판 이송 장치는, 기판을 이송암으로 들어서 이송하는 일종의 로봇을 이용했었다.
그러나, 이러한 종래의 기판 이송 장치는, 기판이 대형화됨에 따라 기판을 들어 올리는 이송암이 휘어지거나 변형되어 기판이 이탈되거나 부품들이 서로 충돌하거나 파손되는 등 기판을 안정적으로 이송할 수 없었던 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 스키 플레이트를 이용하여 안전하고 견고하게 대형 기판을 이송할 수 있고, 스키 플레이트를 복수개 또는 다층으로 사용하여 복수개의 대형 기판을 동시에 이송할 수 있어서 생산성을 크게 향상시킬 수 있게 하는 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 기판 이송 장치는, 지지대; 상기 지지대에 설치된 제 1 가이드부재를 따라 반응기 방향으로 전후진이 가능한 제 1 가동대; 상기 제 1 가동대를 상기 반응기 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 1 가동장치; 상기 제 1 가동대에 의해서 상기 반응기 내부로 로딩될 수 있고, 기판이 안착될 수 있는 적어도 하나의 스키 플레이트; 및 상기 제 1 가동대에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 상기 제 1 가동대에 선택적으로 고정 또는 해제시킬 수 있는 고정 부재;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 지지대는, 상기 스키 플레이트를 구름 지지할 수 있는 제 1 로울러가 설치되는 것일 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 스키 플레이트는, 상기 기판의 일부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼가 설치되는 제 1 스키 플레이트; 및 상기 제 1 스키 플레이트와 평행하게 설치되며, 상기 기판의 타부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼가 설치되는 제 2 스키 플레이트;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 스키 플레이트는, 바닥에 로울러가 설치될 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 고정 부재는, 상기 제 1 가동대에 설치되고, 승하강 액츄에이터에 의해 승하강될 수 있는 승하강판; 및 상기 승하강판에 설치되고, 상기 스키 플레이트에 형성된 후크홀에 삽입될 수 있는 후크;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 제 1 가동 장치는, 상기 지지대에 설치되는 제 1 모터; 및 상기 제 1 모터에 의해 회전되고, 상기 제 1 가동대가 나사 전후진되도록 상기 제 1 가동대를 나사 관통하는 제 1 나사봉;을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 지지대는, 고정대에 설치된 제 2 가이드부재를 따라 상기 반응기 방향으로 전후진이 가능하게 설치되고, 상기 지지대를 상기 반응기 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 2 가동 장치;를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 제 2 가동 장치는, 상기 고정대에 설치되는 제 2 모터; 및 상기 제 2 모터에 의해 회전되고, 상기 지지대가 나사 전후진되도록 상기 지지대를 나사 관통하는 제 2 나사봉;을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따른 기판 이송 장치는, 상기 반응기 내부에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 수용하는 적어도 하나의 수용홈을 갖는 스키 플레이트 수용대;를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 사상에 따른 기판 이송 장치는, 상기 수용홈에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 구름 지지할 수 있는 제 2 로울러;를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 기판 이송 방법은, 반응기의 게이트를 개방하는 단계; 제 2 가동 장치를 이용하여 지지대를 상기 반응기 방향으로 1차 전진시키는 단계; 스키 플레이트가 상기 반응기 내부로 로딩될 수 있도록 제 1 가동 장치를 이용하여 제 1 가동대를 상기 반응기 방향으로 2차 전진시키는 단계; 고정 장치를 이용하여 상기 제 1 가동대와 스키 플레이트와의 고정을 해제시키는 단계; 상기 제 1 가동 장치를 이용하여 상기 제 1 가동대를 1차 후진시키는 단계; 상기 제 2 가동 장치를 이용하여 상기 지지대를 2차 후진시키는 단계; 및 상기 반응기의 게이트를 폐쇄하고, 반응 공정을 진행하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 안정적이고 정확하면서 부품의 변형을 방지할 수 있는 기판 이송이 가능하고, 대량의 기판이라도 동시에 신속하게 이송할 수 있어서 장비의 성능을 향상시키고, 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 기판 이송 장치를 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 1의 기판 이송 장치를 나타내는 정단면도이다.
도 4 내지 도 10은 도 1의 기판 이송 장치를 이용한 기판 이송 방법을 단계적으로 나타내는 정단면도들이다.
도 11은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 기판 이송 장치를 나타내는 정단면도이다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 방법을 나타내는 순서도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치(100)를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1의 기판 이송 장치(100)를 나타내는 평면도이고, 도 3은 도 1의 기판 이송 장치(100)를 나타내는 정단면도이다.
먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치(100)는, 크게 지지대(10)와, 제 1 가동대(20)와, 제 1 가동장치(30)와, 스키 플레이트(40) 및 고정 부재(50)를 포함할 수 있다.
여기서, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 지지대(10)는 일종의 캐리어 플레이트라 할 수 있는 것으로서, 상기 스키 플레이트(40)에 안착된 기판(1)을 지지할 수 있다.
또한, 상기 제 1 가동대(20)는, 예를 들어서, 상기 지지대(10)를 기준으로 상대적으로 전후진될 수 있는 것으로서, 상기 지지대(10)에 설치된 제 1 가이드부재(G1)를 따라 반응기(200) 방향으로 전후진이 가능한 것일 수 있다.
여기서, 더욱 구체적으로는, 상기 제 1 가이드부재(G1)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 반응기(200) 방향으로 길게 형성되는 일종의 LM 가이드일 수 있고, 이외에도 각종 가이드봉이나, 가이드레일이나, 가이드홈이나, 가이드돌기 등이 적용될 수 있다.
또한, 상기 지지대(10)는, 예를 들어서, 후술될 상기 스키 플레이트(40)를 구름 지지할 수 있는 제 1 로울러(R1)가 설치될 수 있다.
또한, 상기 제 1 가동장치(30)는, 도 1 에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가동대(20)를 상기 반응기(200) 방향으로 전후진시킬 수 있는 장치일 수 있다.
즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가동장치(30)는, 상기 지지대(10)에 설치되는 제 1 모터(31) 및 상기 제 1 모터(31)에 의해 회전되고, 상기 제 1 가동대(20)가 나사 전후진되도록 상기 제 1 가동대(20)를 나사 관통하는 제 1 나사봉(32)을 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 1 모터(31)에 의해서 상기 제 1 나사봉(32)이 정회전되면, 상기 제 1 나사봉(32)에 나사 관통된 상기 제 1 가동대(20)가 상기 제 1 가이드부재(G1)를 따라 상기 반응기(200) 방향으로 전진될 수 있다.
역으로, 상기 제 1 모터(31)에 의해서 상기 제 1 나사봉(32)이 역회전되면, 상기 제 1 나사봉(32)에 나사 관통된 상기 제 1 가동대(20)가 상기 제 1 가이드부재(G1)를 따라 상기 반응기(200) 방향과 반대 방향으로 후진될 수 있다.
이러한, 상기 제 1 가동장치(30)는, 상기 제 1 모터(31) 및 제 1 나사봉(32) 이외에도, 가동대를 전후진시키는 리니어 모터 조합, 나사봉에 의해 나사 전후진되는 가동대 조합, 실린더에 의해 전후진되는 피스톤 조합, 구동 풀리와 종동 풀리 사이에서 일면이 전후진되는 밸트 조합, 구동 스프로킷휠과 종동 스프로킷휠 사이에서 일면이 전후진되는 체인 조합, 피니언 기어에 의해 치합되어 전후진되는 랙기어 조합 등 다양한 형태의 가동 장치들이 적용될 수 있다.
또한, 상기 스키 플레이트(40)는, 예를 들어서, 상기 제 1 가동대(20)에 의해서 상기 반응기(200) 내부로 로딩되어, 공정이 진행되는 동안, 기판(1)과 함께 상기 반응기(200) 내부에 위치되는 것으로서, 상기 기판(1)이 안착될 수 있도록 상면에 기판 안착면이 길게 형성되는 지지구조물일 수 있다.
여기서, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 스키 플레이트(40)는, 제 1 스키 플레이트(40-1) 및 제 2 스키 플레이트(40-2)를 포함할 수 있다.
즉, 예를 들어서, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 스키 플레이트(40-1)는, 상기 기판(1)의 일부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판(1)의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼(S)가 설치될 수 있다.
또한, 예를 들어서, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 스키 플레이트(40-2)는, 상기 제 1 스키 플레이트(40-1)와 평행하게 설치되며, 상기 기판(1)의 타부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판(1)의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼(S)가 설치될 수 있다.
도 1에서는 1개의 기판(1)에 2개의 스키 플레이트(40), 즉 상기 제 1 스키 플레이트(40-1) 및 상기 제 2 스키 플레이트(40-2)가 설치되는 것을 예시하였으나, 이외에도, 하나의 기판(1)을 지지하는 상기 스키 플레이트(40)의 설치 개수는 1개, 3개, 4개, 5개 이상 등 매우 다양할 수 있다.
또한, 도시하지 않았지만, 상기 스키 플레이트(40)는, 바닥에 로울러(미도시)가 설치될 수도 있다.
또한, 상기 고정 부재(50)는, 상기 제 1 가동대(20)에 설치되는 것으로서, 상기 스키 플레이트(40)를 상기 제 1 가동대(20)에 선택적으로 고정 또는 해제시킬 수 있는 장치일 수 있다.
예를 들면, 상기 고정 부재(50)는, 상기 제 1 가동대(20)에 설치되고, 승하강 액츄에이터(52)에 의해 승하강될 수 있는 승하강판(51) 및 상기 승하강판(51)에 설치되고, 상기 스키 플레이트(40)에 형성된 후크홀(H)에 삽입될 수 있는 후크(53);를 포함할 수 있다.
따라서, 상기 고정 부재(50)의 승하강 액츄에이터(52)에 의해 상기 승하강판(51)이 상승되면, 상기 후크(53)가 상기 스키 플레이트(40)의 후크홀(H)로부터 이탈되면서, 상기 스키 플레이트(40)가 자유로워질 수 있다.
역으로, 상기 고정 부재(50)의 승하강 액츄에이터(52)에 의해 상기 승하강판(51)이 하강되면, 상기 후크(53)가 상기 스키 플레이트(40)의 후크홀(H)에 삽입되어 상기 스키 플레이트(40)가 상기 제 1 가동대(20)에 구속될 수 있다.
여기서, 상기 승하강 액츄에이터(52)는, 모터를 포함할 수 있고, 이외에도 모터에 캠조합, 링크조합, 기어조합, 밸트/풀리조합, 체인/스프로킷휠조합, 나사봉/가동대조합 등 각종 동력전달부재를 이용하여 상기 승하강판(51)을 승하강시킬 수 있는 장치일 수 있다. 이러한 상기 승하강 액츄에이터(52)에 대한 기술적인 구성은 해당 분야에 종사하는 당업자에게 이미 널리 공지된 기술로 여기서 상세한 설명은 생략한다.
한편, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 지지대(10)는, 고정대(60)에 설치된 제 2 가이드부재(G2)를 따라 상기 반응기(200) 방향으로 전후진이 가능하게 설치될 수 있다.
여기서, 더욱 구체적으로는, 상기 제 2 가이드부재(G2)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 반응기(200) 방향으로 길게 형성되는 일종의 LM 가이드일 수 있고, 이외에도 각종 가이드봉이나, 가이드레일이나, 가이드홈이나, 가이드돌기 등이 적용될 수 있다.
또한, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치(100)는, 상기 지지대(10)를 상기 반응기(200) 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 2 가동 장치(70)를 더 포함할 수 있다.
즉, 상기 제 2 가동 장치(70)는, 상기 지지대(10)를 움직일 수 있는 장치로서, 상기 고정대(60)에 설치되는 제 2 모터(71) 및 상기 제 2 모터(71)에 의해 회전되고, 상기 지지대(10)가 나사 전후진되도록 상기 지지대(10)를 나사 관통하는 제 2 나사봉(72)을 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 2 모터(71)에 의해서 상기 제 2 나사봉(72)이 정회전되면, 상기 제 2 나사봉(72)에 나사 관통된 상기 지지대(10)가 상기 제 2 가이드부재(G2)를 따라 상기 반응기(200) 방향으로 전진될 수 있다.
역으로, 상기 제 2 모터(71)에 의해서 상기 제 2 나사봉(72)이 역회전되면, 상기 제 2 나사봉(72)에 나사 관통된 상기 지지대(10)가 상기 제 2 가이드부재(G2)를 따라 상기 반응기(200) 방향과 반대 방향으로 후진될 수 있다.
이러한, 상기 제 2 가동장치(70)는, 상기 제 2 모터(71) 및 제 2 나사봉(72) 이외에도, 가동대를 전후진시키는 리니어 모터 조합, 나사봉에 의해 나사 전후진되는 가동대 조합, 실린더에 의해 전후진되는 피스톤 조합, 구동 풀리와 종동 풀리 사이에서 일면이 전후진되는 밸트 조합, 구동 스프로킷휠과 종동 스프로킷휠 사이에서 일면이 전후진되는 체인 조합, 피니언 기어에 의해 치합되어 전후진되는 랙기어 조합 등 다양한 형태의 가동 장치들이 적용될 수 있다.
한편, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치(100)는, 상기 반응기(200) 내부에 설치되고, 상기 스키 플레이트(40)를 수용하는 적어도 하나의 수용홈(80a)을 갖는 스키 플레이트 수용대(80) 및 상기 수용홈(80a)에 설치되고, 상기 스키 플레이트(40)를 구름 지지할 수 있는 제 2 로울러(R2)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 상기 스키 플레이트(40)는 상기 반응기(200) 내부로 로딩된 후, 상기 스키 플레이트 수용대(80)의 상기 수용홈(80a) 내부의 제 2 로울러(R2)에 안착되어 상기 기판(1)의 가공 공정이 진행되는 동안, 상기 기판(1)을 지속적으로 지지할 수 있다.
도 4 내지 도 10은 도 1의 기판 이송 장치(100)를 이용한 기판 이송 방법을 단계적으로 나타내는 정단면도들이다.
도 4 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 상술된 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 장치(100)의 기판 이송 과정을 보다 상세하게 설명하면, 먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 반응기(200)의 게이트(G)를 개방할 수 있다.
이어서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 가동 장치(70)를 이용하여 지지대(10)를 상기 반응기(200) 방향으로 1차 전진시켜서 도킹시킬 수 있다.
이 때, 상기 기판(1)이 안착된 상기 스키 플레이트(40)를 구름 지지하는 제 1 로울러(R1)의 높이는, 상기 반응기(200) 내부의 상기 스키 플레이트 수용대(80)의 제 2 로울러(R2)의 높이와 맞출 수 있다.
이어서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 스키 플레이트(40)가 상기 반응기(200) 내부로 로딩될 수 있도록 상기 제 1 가동 장치(30)를 이용하여 상기 제 1 가동대(20)를 상기 반응기(200) 방향으로 2차 전진시킬 수 있다.
이어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 고정 장치(50)를 이용하여 상기 제 1 가동대(20)와 상기 스키 플레이트(40)와의 고정을 해제시키기 위하여 상기 고정 부재(50)의 승하강 액츄에이터(52)에 의해 상기 승하강판(51)이 상승되면, 상기 후크(53)가 상기 스키 플레이트(40)의 후크홀(H)로부터 이탈되면서, 상기 스키 플레이트(40)가 자유로워질 수 있다.
이어서, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가동 장치(30)를 이용하여 상기 제 1 가동대를 1차 후진시킬 수 있다.
이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 가동 장치(70)를 이용하여 상기 지지대(10)를 2차 후진시킬 수 있다.
이어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 반응기(200)의 게이트(G)를 폐쇄하고, 반응 공정을 진행할 수 있다.
이어서, 반응 공정을 마치면, 상술된 과정을 역으로 수행하여 상기 기판(1) 및 상기 기판(1)을 지지하는 상기 스키 플레이트(40)를 상기 반응기(200)로부터 언로딩할 수 있다.
그러므로, 제 1 로울러(R1) 및 제 2 로울러(R2)에 의해 항상 구름 지지되는 상기 스키 플레이트(40)를 이용하여 안전하고 견고하게 대형 기판이라도 이송암의 휨현상이나 변형을 방지할 수 있다.
도 11은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 기판 이송 장치를 나타내는 정단면도이다.
도 11에 도시된 바와 같이, 이러한 상기 스키 플레이트(40)는 다층(도면에서는 3개 층)으로 형성될 수 있다. 즉, 도 11에 도시된 바와 같이, 한번에 3개의 기판(1)을 동시에 이송시키는 것도 가능하다.
그러므로, 복수개의 스키 플레이트(40)들을 다층으로 사용하여 복수개의 대형 기판을 동시에 이송할 수 있어서 생산성을 크게 향상시킬 수 있다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 방법을 나타내는 순서도이다.
도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 이송 방법은, 반응기(200)의 게이트(G)를 개방하는 단계(S1)와, 제 2 가동 장치(70)를 이용하여 지지대(10)를 상기 반응기(200) 방향으로 1차 전진시키는 단계(S2)와, 상기 스키 플레이트(40)가 상기 반응기(200) 내부로 로딩될 수 있도록 제 1 가동 장치(30)를 이용하여 제 1 가동대(20)를 상기 반응기(200) 방향으로 2차 전진시키는 단계(S3)와, 상기 고정 장치(50)를 이용하여 상기 제 1 가동대(20)와 스키 플레이트(40)와의 고정을 해제시키는 단계(S4)와, 상기 제 1 가동 장치(30)를 이용하여 상기 제 1 가동대를(20) 1차 후진시키는 단계(S5)와, 상기 제 2 가동 장치(70)를 이용하여 상기 지지대(10)를 2차 후진시키는 단계(S6) 및 상기 반응기(200)의 게이트(G)를 폐쇄하고, 반응 공정을 진행하는 단계(S7)를 포함할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10: 지지대
G1: 제 1 가이드부재
200: 반응기
20: 제 1 가동대
30: 제 1 가동장치
40: 스키 플레이트
50: 고정 부재
100: 기판 이송 장치
R1: 제 1 로울러
1: 기판
S: 스토퍼
40-1: 제 1 스키 플레이트
40-2: 제 2 스키 플레이트
52: 승하강 액츄에이터
51: 승하강판
H: 후크홀
53: 후크
31: 제 1 모터
32: 제 1 나사봉
60: 고정대
G2: 제 2 가이드부재
70: 제 2 가동 장치
71: 제 2 모터
72: 제 2 나사봉
80: 스키 플레이트 수용대
80a: 수용홈
R2: 제 2 로울러
G: 게이트

Claims (11)

  1. 지지대;
    상기 지지대에 설치된 제 1 가이드부재를 따라 반응기 방향으로 전후진이 가능한 제 1 가동대;
    상기 제 1 가동대를 상기 반응기 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 1 가동장치;
    상기 제 1 가동대에 의해서 상기 반응기 내부로 로딩될 수 있고, 기판이 안착될 수 있는 적어도 하나의 스키 플레이트; 및
    상기 제 1 가동대에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 상기 제 1 가동대에 선택적으로 고정 또는 해제시킬 수 있는 고정 부재;
    를 포함하고,
    상기 고정 부재는,
    상기 제 1 가동대에 설치되고, 승하강 액츄에이터에 의해 승하강될 수 있는 승하강판; 및
    상기 승하강판에 설치되고, 상기 스키 플레이트에 형성된 후크홀에 삽입될 수 있는 후크;
    를 포함하고,
    상기 지지대는, 상기 스키 플레이트를 구름 지지할 수 있는 제 1 로울러가 설치되는 것인, 기판 이송 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 스키 플레이트는,
    상기 기판의 일부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼가 설치되는 제 1 스키 플레이트; 및
    상기 제 1 스키 플레이트와 평행하게 설치되며, 상기 기판의 타부분을 가로질러서 지지할 수 있고, 선단에 기판의 이탈을 방지할 수 있는 스토퍼가 설치되는 제 2 스키 플레이트;
    를 포함하는, 기판 이송 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 스키 플레이트는, 바닥에 로울러가 설치되는 것인, 기판 이송 장치.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 가동 장치는,
    상기 지지대에 설치되는 제 1 모터; 및
    상기 제 1 모터에 의해 회전되고, 상기 제 1 가동대가 나사 전후진되도록 상기 제 1 가동대를 나사 관통하는 제 1 나사봉;
    을 포함하는, 기판 이송 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지대는,
    고정대에 설치된 제 2 가이드부재를 따라 상기 반응기 방향으로 전후진이 가능하게 설치되고,
    상기 지지대를 상기 반응기 방향으로 전후진시킬 수 있는 제 2 가동 장치;
    를 더 포함하는, 기판 이송 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 가동 장치는,
    상기 고정대에 설치되는 제 2 모터; 및
    상기 제 2 모터에 의해 회전되고, 상기 지지대가 나사 전후진되도록 상기 지지대를 나사 관통하는 제 2 나사봉;
    을 포함하는, 기판 이송 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 반응기 내부에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 수용하는 적어도 하나의 수용홈을 갖는 스키 플레이트 수용대;
    를 더 포함하는, 기판 이송 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 수용홈에 설치되고, 상기 스키 플레이트를 구름 지지할 수 있는 제 2 로울러;
    를 더 포함하는, 기판 이송 장치.
  11. 반응기의 게이트를 개방하는 단계;
    제 2 가동 장치를 이용하여 지지대를 상기 반응기 방향으로 1차 전진시키는 단계;
    스키 플레이트가 상기 반응기 내부로 로딩될 수 있도록 제 1 가동 장치를 이용하여 제 1 가동대를 상기 반응기 방향으로 2차 전진시키는 단계;
    고정 장치를 이용하여 상기 제 1 가동대와 스키 플레이트와의 고정을 해제시키는 단계;
    상기 제 1 가동 장치를 이용하여 상기 스키 플레이트를 상기 반응기 내부로 이송 후 상기 제 1 가동대를 1차 후진시키는 단계;
    상기 제 2 가동 장치를 이용하여 상기 지지대를 2차 후진시키는 단계; 및
    상기 반응기의 게이트를 폐쇄하고, 반응 공정을 진행하는 단계;
    를 포함하는, 기판 이송 방법.
KR1020130087937A 2013-07-25 2013-07-25 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 Active KR101569004B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130087937A KR101569004B1 (ko) 2013-07-25 2013-07-25 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130087937A KR101569004B1 (ko) 2013-07-25 2013-07-25 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150012432A KR20150012432A (ko) 2015-02-04
KR101569004B1 true KR101569004B1 (ko) 2015-11-13

Family

ID=52488475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130087937A Active KR101569004B1 (ko) 2013-07-25 2013-07-25 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101569004B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100488929B1 (ko) * 1997-12-11 2005-08-31 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 반입/반출기능이구비된수동대차

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100488929B1 (ko) * 1997-12-11 2005-08-31 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 반입/반출기능이구비된수동대차

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150012432A (ko) 2015-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9175416B2 (en) Substrate holder and plating apparatus
US8998561B2 (en) Gripping device, transfer device, processing device, and manufacturing method for electronic device
JP5068738B2 (ja) 基板処理装置およびその方法
JP6700149B2 (ja) 姿勢変更装置
CN103959454B (zh) 基板保持装置
KR101428522B1 (ko) 진공처리시스템, 진공처리시스템에 사용되는 버퍼모듈 및진공처리시스템의 트레이 이송방법
TW201737410A (zh) 機械手單元及移載方法
KR19990045148A (ko) 기판의 정렬장치 및 방법
CN103890926A (zh) 装载端口、efem
CN103569699B (zh) 基板传送装置
KR102141200B1 (ko) 이송 로봇 및 이를 포함하는 이송 장치
CN105151776B (zh) 一种机械手
JP2015091621A (ja) 4つのロボットアームの可変ハンドを備えた搬送ロボット
CN107039324B (zh) 一种全自动管式pecvd上下料机及方法
KR101209654B1 (ko) 트레이 틸트 장치
TWI811554B (zh) 將物品移動至處理站之裝置及方法、輸送系統及處理設備
CN106104786A (zh) 基板搬送系统及方法
TWI374109B (ko)
KR101569004B1 (ko) 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법
KR20110127448A (ko) 기판 처리장치
KR20150004467A (ko) 기판 플립형 레이져 가공 장치 및 레이져 가공 방법
TWI756449B (zh) 移載設備
WO2016074173A1 (zh) 基板校准方法与装置
KR100661299B1 (ko) 다층박막 제작장치
KR20210142259A (ko) 커버부재를 갖는 기판 이송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

D14-X000 Search report completed

St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

T11-X000 Administrative time limit extension requested

St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000

E13-X000 Pre-grant limitation requested

St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181031

Year of fee payment: 4

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191031

Year of fee payment: 5

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 5

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 6

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 7

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 8

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 9

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 10

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 11

U11 Full renewal or maintenance fee paid

Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-4-4-U10-U11-OTH-PR1001 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE)

Year of fee payment: 11

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000