KR101494668B1 - light emitting diodes periodically patterned in trarnsparent electrode - Google Patents
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Abstract
투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드가 개시된다. 발광다이오드는 기판과, 기판의 상면에 배치된 n형 반도체와, n형 반도체 상면 일부영역에 배치된 음전극과, 일부영역을 제외한 n형 반도체 상면에 배치된 발광층과, 발광층 상면에 배치된 p형 반도체와, p형 반도체 상면에 배치된 투명전극 및 투명전극 상면에 배치된 양전극을 포함한다. 이때, 투명전극은 p형 반도체를 노출시키도록 상기 음전극이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위에 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴이 형성되거나, p형 반도체를 노출시키도록 상기 음전극이 배치된 영역과 인접한 테두리로부터 일정거리만큼 식각된 완전 식각 영역과, 완전 식각 영역으로부터 연장되어 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴이 형성된다. A light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode is disclosed. The light emitting diode includes a substrate, an n-type semiconductor disposed on the upper surface of the substrate, a negative electrode disposed on a part of the n-type semiconductor upper surface, a light emitting layer disposed on the n-type semiconductor except for a part of the region, A semiconductor, a transparent electrode arranged on the upper surface of the p-type semiconductor, and a positive electrode arranged on the upper surface of the transparent electrode. At this time, the transparent electrode may have a periodic pattern in which the same pattern is repeatedly etched repeatedly at the rim portion adjacent to the region where the negative electrode is disposed so as to expose the p-type semiconductor, or a region where the negative electrode is arranged to expose the p- A complete etch region etched away from the adjacent border by a certain distance and a periodic pattern extending from the complete etch region and repeatedly etched in the same shape are formed.
Description
본 발명은 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드에 관한 것이다. 보다 상세하게는 전류가 과도하게 몰리는 영역의 투명전극을 패터닝하여 전류밀도분포를 향상시키는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드에 관한 것이다.
The present invention relates to a light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode. And more particularly, to a light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode that improves a current density distribution by patterning a transparent electrode in an area where current is excessively drawn.
발광다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광 소자이다. 이러한 발광다이오드는 광통신 및 전자기기를 비롯하여 휴대폰, 카메라 플래시, LCD 백라이트 등 다양한 기기의 광원으로 널리 사용되고 있으며, 최근 발광 다이오드는 휘도가 점차 증가하게 되어 디스플레이용 광원, 자동차용 광원 및 조명용 광원으로 사용이 증가하고 있다. 또한 형광 물질을 이용하거나 다양한 색의 발광 다이오드를 조합함으로써 효율이 우수한 백색광을 발광하는 발광다이오드도 구현도 가능해졌다. Light emitting diodes (LEDs) are semiconductor light emitting devices that convert current into light. Such a light emitting diode is widely used as a light source for a variety of devices such as a cellular phone, a camera flash, and an LCD backlight as well as an optical communication and an electronic device. Recently, a light emitting diode has been increasingly used as a light source for a display, . It is also possible to realize a light emitting diode that emits white light having high efficiency by using a fluorescent material or combining light emitting diodes of various colors.
이러한 발광다이오드는 기본적으로 단방향 수직구조의 p-n접합구조를 가지는 발광다이오드가 널리 사용되고 있으며, 발광디아오드의 전류밀도 불균형을 해소하기 위한 연구는 꾸준히 진행되고 있다.
As such a light emitting diode, a light emitting diode having a pn junction structure of a unidirectional vertical structure is widely used, and studies for solving the current density unbalance of the light emitting diodes are progressing steadily.
도 1은 일반적인 발광다이오드의 평면도를 나타내고,1 is a plan view of a general light emitting diode,
도 2은 일반적인 발광다이오드의 단면도를 나타낸다.
2 shows a cross-sectional view of a typical light emitting diode.
도 1을 참조하면, 발광다이오드의 윗면은 투명전극(50) 상면에 배치된 양전극(64), n형 반도체층(20) 상면에 배치된 음전극(62)을 포함한다. Referring to FIG. 1, the upper surface of the light emitting diode includes a
음전극(62)은 n형 반도체(20) 상면 일부에 배치된 제 1패드부 및 제 1패드부로부터 연장되는 제1핑거부를 포함한다. The
양전극(64)은 투명전극(50) 상면 일부에 배치된 제2 패드부 및 제 2패드부로부터 연장되는 제 2핑거부를 포함한다.
The
도 2을 참조하면, 발광다이오드는 하부에 형성된 기판(10) 상에 n형 반도체(20), p형 반도체(40) 및 이들 사이에 게재되는 발광층(30)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the light emitting diode includes an n-
그리고, 상기 n형 반도체(20)과 p형 반도체(40)는 외부 전원에 각각 전기적으로 연결되는 음전극(62)과, 양전극(64)을 각각 구비한다.The n-
이를 통해, 발광다이오드는 p형 반도체(40)에서 발광층(30)을 거쳐 n형 반도체(20)으로 전류가 흐른다. 따라서, 발광다이오드의 양전극(64)에 양의 부하를, 음전극(62)에 음의 부하를 가하게 되면, p형 반도체(40)과 n형 반도체(20)로부터 각각 정공과 전자들이 발광층(30)으로 모여 재결합함으로써 발광을 하게 된다.
Accordingly, current flows from the p-
이러한 발광다이오드의 과도한 전류밀도는 내부 양자효율을 감소시켜 발광효율을 감소시킨다. GaN 기반 발광 다이오드의 경우 일반적인 구조에서 p형GaN 층 위에 전류 확산을 위해 ITO등의 투명전극 필름을 형성한다. 이 경우 (+) 금속 전극을 통해 일정한 전압을 ITO필름 위에 가하더라도 저항이 가장 작은 곳으로 전류가 몰리는 현상(current crowding)이 (-) 금속 전극 주변에서 발생하게 되고 이 부분이 과도하게 전류가 몰려 내부 양자효율이 감소하게 된다. 또한 다른 영역은 상대적으로 전류분포가 낮아져 이를 극복하기 위해 인가 전압을 높여 발열이 발생하게 된다. 따라서, 이를 해결하기 위한 전류밀도분포를 향상시키는 발광다이오드가 요구된다.
The excessive current density of such light emitting diodes reduces the internal quantum efficiency and reduces the luminous efficiency. In the case of a GaN-based light emitting diode, a transparent electrode film such as ITO is formed on the p-type GaN layer in order to diffuse current. In this case, even if a constant voltage is applied to the ITO film through the (+) metal electrode, a current crowding phenomenon occurs around the (-) metal electrode where the resistance is smallest. The internal quantum efficiency is decreased. In other regions, the current distribution is relatively low. In order to overcome this, the applied voltage is increased to generate heat. Therefore, there is a demand for a light emitting diode that improves the current density distribution to solve this problem.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 전류밀도분포를 향상을 제공하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드를 제공하는데 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a light emitting diode in which a periodic pattern is formed on a transparent electrode for improving a current density distribution.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 내부양자 효율 및 발광 효율의 향상을 제공하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드를 제공하는데 있다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode to improve internal quantum efficiency and luminous efficiency.
상기 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드는, 기판과, 기판의 상면에 배치된 n형 반도체와, n형 반도체 상면 일부영역에 배치된 음전극과, 일부영역을 제외한 n형 반도체 상면에 배치된 발광층과, 발광층 상면에 배치된 p형 반도체와, p형 반도체 상면에 배치된 투명전극 및 투명전극 상면에 배치된 양전극을 포함하고, 투명전극은 상기 p형 반도체를 노출시키도록 상기 음전극이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위에 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴이 형성될 수 있다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode according to an embodiment of the present invention includes a substrate, an n-type semiconductor disposed on an upper surface of the substrate, A p-type semiconductor disposed on an upper surface of the light emitting layer, a transparent electrode disposed on an upper surface of the p-type semiconductor, and a positive electrode disposed on an upper surface of the transparent electrode, A periodic pattern in which the same shape is repeatedly etched may be formed at a rim portion adjacent to the region where the negative electrode is disposed to expose the p-type semiconductor.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광다이오드는, 기판과, 기판의 상면에 배치된 n형 반도체와, n형 반도체 상면 일부 영역에 배치된 음전극과, 일부영역을 제외한 n형 반도체 상면에 배치된 발광층과, 발광층 상면에 배치된 p형 반도체와, p형 반도체 상면에 배치된 투명전극 및 투명전극 상면에 배치된 양전극을 포함하고, 투명전극은 상기 p형 반도체를 노출시키도록 상기 음전극이 배치된 영역과 인접한 테두리로부터 일정거리만큼 식각된 완전 식각 영역과, 완전 식각 영역으로부터 연장되어 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴이 형성될 수 있다.
According to another embodiment of the present invention, there is provided a light emitting diode comprising a substrate, an n-type semiconductor disposed on an upper surface of the substrate, a negative electrode disposed on a part of the n-type semiconductor upper surface, Type semiconductor disposed on the upper surface of the light emitting layer, a transparent electrode disposed on the upper surface of the p-type semiconductor, and a positive electrode disposed on the upper surface of the transparent electrode, wherein the transparent electrode is arranged so as to expose the p- A complete etch region etched away by a distance from the border adjacent to the etched region and a periodic pattern extending from the etch region and repeatedly etched in the same pattern may be formed.
또한, 본 발명에 따른 주기적 패턴은 삼각 형태 또는 사다리꼴 형태를 가지고 연속적으로 형성되며, 삼각 형태의 주기적 패턴은 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um이고, 사다리꼴 형태의 주기적 패턴은 짧은 폭이 1um~100um이고 긴 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um이다.
In addition, the periodic pattern according to the present invention is formed continuously with a triangular or trapezoidal shape, wherein the triangular periodic pattern has a width of 2 탆 to 200 탆 and a length of 2 탆 to 200 탆, and a trapezoidal periodic pattern has a width of 1um ~ 100um long and 2um ~ 200um long and 2um ~ 200um long.
또한, 본 발명에 따른 주기적 패턴은 직사각 형태를 가지고, 상호 이격되어 단속적으로 형성되며, 폭이 1um~200um이고, 길이가 1um~200um이다.
In addition, the periodic pattern according to the present invention has a rectangular shape, is intermittently formed intermittently, has a width of 1 탆 to 200 탆, and a length of 1 탆 to 200 탆.
또한, 본 발명에 따른 주기적 패턴은 반원 형태, 반타원 형태 및 호 형태 중 어느 하나의 형태를 가지고, 연속적으로 형성되며, 폭이 2um~200um이고, 길이가 1um~100um이다.
In addition, the periodic pattern according to the present invention has a semi-circular shape, semi-elliptic shape, or arc shape, and is formed continuously, having a width of 2 袖 m to 200 袖 m and a length of 1 袖 m to 100 袖 m.
또한, 본 발명에 따른 주기적 패턴은 격자 형태를 가지고, 연속적으로 형성되며, 격자의 두께가 1um~200um인 선분이 일정 간격을 가지고 상기 격자형태를 이루며, 격자 사이의 세로폭은 1um~200um이고, 격자 사이의 가로폭은 1um~200um이다.
In addition, the periodic pattern according to the present invention has a lattice shape and is continuously formed. The line segments having a thickness of 1 to 200 [mu] m are formed in the lattice shape with a certain interval, the vertical width between lattices is 1 [mu] The horizontal width between the grids is 1 to 200 μm.
또한, 본 발명에 따른 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화한다.
In addition, the width or length of the periodic pattern according to the present invention may be constant, gradual, or irregular.
본 발명에 따른 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드에 의하면, 전류가 과도하게 몰리는 부근의 투명전극에 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴을 형성하여 투명전극의 저항성분을 조절함으로써 전류밀도불균형을 해소하는 발광다이오드를 제공할 수 있다.
According to the light emitting diode having the periodic pattern formed on the transparent electrode according to the present invention, a periodic pattern in which the same shape is repeatedly etched is formed on the transparent electrode in the vicinity of the current is excessively drawn, thereby adjusting the resistance component of the transparent electrode, It is possible to provide a light emitting diode that can solve the problem.
또한, 투명전극을 주기적인 구조로 패터닝하여 높여 내부양자효율 및 발광효율을 높일 수 있는 발광다이오드를 제공할 수 있다.
Also, it is possible to provide a light emitting diode capable of increasing the internal quantum efficiency and luminous efficiency by patterning the transparent electrode with a periodic structure.
도 1은 일반적인 발광다이오드의 평면도를 나타내고,
도 2는 일반적인 발광다이오드의 단면도를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 발광다이오드의 평면도을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제 1실시예에 따른 발광다이오드 구조의 단면을 도시한 도면이다.
도5a는 본 발명의 제 1실시예에 따른 삼각형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다.
도 5b는 본 발명의 제 1실시예에 따른 직사각 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다.
도 5c는 본 발명의 제 1실시예에 따른 반원 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다.
도 5d는 본 발명의 제 1실시예에 따른 격자 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제 2실시예에 따른 발광다이오드 평면도를 도시한 도면이다. 1 is a plan view of a general light emitting diode,
2 is a cross-sectional view of a general light emitting diode.
3 is a plan view of a light emitting diode according to a first embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of a light emitting diode structure according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 5A is a diagram illustrating a triangular periodic pattern according to the first exemplary embodiment of the present invention. FIG.
5B is a view showing a rectangular pattern in a rectangular shape according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5C is a diagram showing a periodic pattern of a semicircular shape according to the first embodiment of the present invention. FIG.
5D is a diagram illustrating a periodic pattern in the form of a lattice according to the first embodiment of the present invention.
6 is a plan view of a light emitting diode according to a second embodiment of the present invention.
이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명할 수 있다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 할 수 있다. 또한 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 당업자에게 자명하거나 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather obvious or understandable to those skilled in the art.
도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 발광다이오드의 평면도을 도시한 도면이다. 3 is a plan view of a light emitting diode according to a first embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 음전극(62)은 n형 반도체(20) 상면 일부에 배치된 음전극 패드부(62a) 및 상기 음전극 패드부(62a)로부터 연장되는 음전극 핑거부(62b)를 포함한다. 3, the
양전극(64)은 투명전극(50) 상면 일부에 배치된 양전극 패드부(64a) 및 상기 양전극 패드부(64a)로부터 연장되는 양전극 핑거부(64b)를 포함한다.
The
발광다이오드의 투명전극(50)은 p형 반도체를 노출시키도록 음전극(62)이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위에 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴(P1)을 형성한다.
The
주기적 패턴(P1)은 삼각 형태 또는 사다리꼴 형태를 가지고, 연속적으로 형성된다. 상기 삼각 형태의 주기적 패턴은 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um이고, 상기 사다리꼴 형태의 주기적 패턴은 짧은 폭이 1um~100um이고 긴 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um이다.
The periodic pattern P1 has a triangular or trapezoidal shape and is formed continuously. The triangular periodic pattern has a width of 2 um to 200 um and a length of 2 um to 200 um, wherein the trapezoidal periodic pattern has a short width of 1 um to 100 um, a long width of 2 um to 200 um, and a length of 2 um to 200 um.
주기적 패턴(P1)은 직사각 형태를 가지고, 상호 이격되어 단속적으로 형성된다. 직사각 형태의 주기적 패턴은 폭이 1um~200um이고, 길이가 1um~200um이다.
The periodic pattern P1 has a rectangular shape and is formed intermittently and spaced apart from each other. The periodic pattern of a rectangular shape has a width of 1 to 200 μm and a length of 1 to 200 μm.
주기적 패턴(P1)은 반원 형태, 반타원 형태 및 호 형태 중 어느 하나의 형태를 가지고, 연속적으로 형성된다. 반원형태, 반타원 형태 및 호 형태의 주기적 패턴은 폭이 2um~200um이고, 길이가 1um~100um이다.
The periodic pattern P1 has a semi-circular shape, a semi-elliptical shape, and an arc shape, and is formed continuously. Semicircular, semi-elliptical, and arc-shaped periodic patterns are 2 to 200 μm wide and 1 to 100 μm long.
주기적 패턴(P1)은 격자 형태를 가지고, 연속적으로 형성된다. 주기적 패턴은 격자의 두께가 1um~200um인 선분이 일정 간격을 가지고 상기 격자형태를 이루며, 격자 사이의 세로폭은 1um~200um이고, 격자 사이의 가로폭은 1um~200um이다.
The periodic pattern P1 has a lattice shape and is formed continuously. In the periodic pattern, a line segment having a thickness of 1 to 200 .mu.m has a predetermined interval and has a lattice shape. The vertical width between the lattices is 1 to 200 .mu.m, and the width between the lattices is 1 to 200 .mu.m.
패터닝을 하지 않은 경우, 음전극(62)에서 도달거리가 가장 짧은 투명전극(50) 중 음전극이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위에 전류가 과도하게 몰리게 된다. 그러나, 패터닝한 경우에는 상기 테두리 부위의 투명전극 비율을 낮춘다. 이것은 투명전극(50)에서 상기 테두리 부위의 저항을 높이고, 투명전극(50) 중 상기 테두리 부위에 과도하게 몰리던 전류의 양을 줄일 수 있다. 이것은 다이오드의 전류를 분산시켜 전밀 밀도 분포를 고르게 할 수 있다.
In the case where the patterning is not performed, the current is excessively concentrated at the edge portion of the
도 4는 본 발명의 제 1실시예에 따른 발광다이오드 구조의 단면을 도시한 도면이다. 4 is a cross-sectional view of a light emitting diode structure according to a first embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 발광다이오드는 기판(10)과, 기판(10)의 상면에 배치된 n형 반도체(20)와, n형 반도체(20) 상면 일부영역에 배치된 음전극(62)과, 일부영역을 제외한 n형 반도체(20) 상면에 배치된 발광층(30)과, 발광층(30) 상면에 배치된 p형 반도체(40)와, p형 반도체(40) 상면에 배치된 투명전극(50) 및 투명전극(50) 상면에 배치된 양전극(64)을 포함한다.
4, the light emitting diode includes a
발광다이오드부는 금속 유기 화학 기상 증착법(metal organic chemical vapor deposition: MOCVD) 등의 방법을 사용하여 베이스기반 상에 n형 반도체층, 발광층, p형 반도체층을 차례로 성장시켜 형성될 수 있다. 이때, 상기 n형층, 활성층, p형층은 당업계에 알려진 통상적인 질화갈륨계 화합물, 예컨대 GaN, GaAIN, InGaN, InAlGaN 또는 이들의 혼합물 등을 사용하여 형성시킬 수 있다. 또한, 활성층은 단일 양자 우물 구조 또는 다중 양자 우물구조(multiple quantum well: MQW)일 수 있다. 전술한 p형 반도체층, 발광층, n형 반도체층 이외에 다른 버퍼층을 포함할 수도 있다. 상기 질화갈륨계 화합물의 성분비를 조절함으로써 장파장에서부터 단파장까지의 발광다이오드를 자유롭게 제작할 수 있으며 모든 발광다이오드에 적용할 수 있다.
The light emitting diode portion may be formed by successively growing an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer on a base base by a method such as metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). At this time, the n-type layer, the active layer and the p-type layer may be formed using a conventional gallium nitride compound known in the art such as GaN, GaAIN, InGaN, InAlGaN or a mixture thereof. In addition, the active layer may be a single quantum well structure or a multiple quantum well structure (MQW). And may include a buffer layer other than the above-described p-type semiconductor layer, light emitting layer, and n-type semiconductor layer. By controlling the composition ratio of the gallium nitride compound, light emitting diodes ranging from a long wavelength to a short wavelength can be freely manufactured and applied to all light emitting diodes.
즉, 발광다이오드는 기판(10), n형 반도체층(20), 발광층(30), p형 반도체층(40)이 금속 유기 화학 기상 증착법을 이용하여 차례대로 증착된다. 차례대로 증착된 후, p형반도체층(40) 표면에 전압을 걸어주기 위한 양전극(64)이 형성된다. 또한 발광다이오드는 p형 반도체층 표면에서 n형 반도체층 일부분까지 식각된 후 음전극(62)이 형성된다.
That is, the
도5a는 본 발명의 제 1실시예에 따른 삼각형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다. FIG. 5A is a diagram illustrating a triangular periodic pattern according to the first exemplary embodiment of the present invention. FIG.
도 5a를 참조하면, 삼각형태의 주기적 패턴은 삼각형태가 연속적으로 형성된 것이다. 삼각형태의 주기적 패턴의 폭 W는 2um ~ 200um이고, 길이는 S는 2um~200um이다. 또한 삼각형태의 주기적 패턴에서 짧은 폭 Wo의 길이가 발생하면 사다리꼴이 된다. 사다리꼴 형태의 주기적 패턴은 짧은 폭Wo이 1um~100um이고 긴 폭W가 2um ~ 200um이고 길이S가 2um~200um이다. 삼각형태의 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화한다.
Referring to FIG. 5A, a triangular-shaped periodic pattern is formed by successively forming a triangular shape. The width W of the triangular periodic pattern is 2 to 200 μm and the length S is 2 to 200 μm. In addition, when the length of the short width Wo occurs in the triangular periodic pattern, it becomes a trapezoid. The periodic pattern of the trapezoidal shape has a short width Wo of 1 to 100 μm, a long width W of 2 to 200 μm and a length S of 2 to 200 μm. The width or length of the triangular periodic pattern changes constantly, progressively or irregularly.
도 5b는 본 발명의 제 1실시예에 따른 직사각 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다. 5B is a view showing a rectangular pattern in a rectangular shape according to the first embodiment of the present invention.
도 5b를 참조하면, 직사각 형태의 주기적 패턴은 직사각 형태가 상호 이격되어 단속적으로 형성된 것이다. 직사각 형태의 주기적 패턴의 폭W는 1um~200um이고, 길이 S가 1um~200um이다. 직사각 형태의 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화할 수 있다.
Referring to FIG. 5B, the rectangular pattern is formed by intermittently spacing the rectangular patterns. The width W of the periodic pattern in the rectangular shape is 1 to 200 μm, and the length S is 1 to 200 μm. The width or length of the periodic pattern of the rectangular shape may be constant, gradual or irregular.
도 5c는 본 발명의 제 1실시예에 따른 반원 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다. FIG. 5C is a diagram showing a periodic pattern of a semicircular shape according to the first embodiment of the present invention. FIG.
도 5c를 참조하면, 반원 형태의 주기적 패턴은 반원형태가 연속적으로 형성된 것이다. 반원 형태의 주기적 패턴은 폭W가 2um~200um이고, 길이S가 1um~100um이다. 또한, 반원형태뿐만 아니라 반타원 형태 또는 호 형태를 가질 수 있다. 반원형태, 반타원 형태, 호 형태 중 어느 하나의 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화할 수 있다.
Referring to FIG. 5C, the semicircular periodic pattern is formed in a semicircular shape continuously. The semicircular periodic pattern has a width W of 2 to 200 μm and a length S of 1 to 100 μm. It can also have semi-elliptical or arc form as well as semicircular form. The width or length of the periodic pattern of any one of semicircular, semi-elliptic, and arc shapes may be constant, gradual, or irregular.
도 5d는 본 발명의 제 1실시예에 따른 격자 형태의 주기적 패턴을 도시한 도면이다. 5D is a diagram illustrating a periodic pattern in the form of a lattice according to the first embodiment of the present invention.
도 5d를 참조하면, 격자형태의 주기적 패턴은 격자 형태를 가지고, 연속적으로 형성된 것이다. 격자형태의 주기적 패턴은 격자의 두께 t가1um~200um인 선분이 일정 간격을 가지고 격자형태를 이룬다. 또한, 격자 사이의 세로폭 W1는 1um~200um이고, 격자 사이의 가로폭 W2는 1um~200um이다.
Referring to FIG. 5D, the periodic pattern in a lattice form has a lattice shape and is formed continuously. The periodic pattern of the lattice form is a lattice shape with a constant interval of the segments having a thickness t of 1 μm to 200 μm. In addition, the vertical width W1 between the lattices is 1 um to 200 um, and the lateral width W2 between the lattices is 1 um to 200 um.
도 6은 본 발명의 제 2실시예에 따른 발광다이오드 평면도를 도시한 도면이다. 6 is a plan view of a light emitting diode according to a second embodiment of the present invention.
도 6을 참조하면, 음전극(62)은 n형 반도체(20) 상면 일부에 배치된 음전극 패드부(62a) 및 상기 음전극 패드부(62a)로부터 연장되는 음전극 핑거부(62b)를 포함한다. 6, the
양전극(64)은 투명전극(50) 상면 일부에 배치된 양전극 패드부(64a) 및 상기 양전극 패드부(64a)로부터 연장되는 양전극 핑거부(64b)를 포함한다.
The
발광다이오드의 투명전극(50)은 p형 반도체를 노출시키도록 음전극(62)이 배치된 영역과 인접한 테두리로부터 일정거리만큼 식각된 완전 식각 영역(P2)이 형성되며, 상기 식각된 일정거리는 1um ~ 200um이다. The
또한 투명전극(50)은 완전 식각 영역(P2)으로부터 연장되어 동일한 형태가 반복적으로 식각된 주기적 패턴(P1)을 형성한다.
The
주기적 패턴(P1)은 음전극(62)이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위 전체에 형성되거나 일부에만 형성될 수 있다. 주기적 패턴(P1)은 전극과 패드의 디자인에 따라 음전극(62)이 배치된 영역과 인접한 테두리 부위 전체에 형성되거나 일부에만 형성될 수 있다. The periodic pattern P1 may be formed on all or only a part of the edge portion adjacent to the region where the
또한 상기 주기적 패턴(P1)의 형태 및 구체적인 규격은 앞서 설명한 제 1실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다
Further, the shape and the specific dimensions of the periodic pattern P1 are the same as those of the first embodiment described above, so a detailed description thereof will be omitted
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation in the embodiment in which said invention is directed. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the scope of the appended claims.
10: 기판
20: n형 반도체
30: 발광층
40: p형 반도체
50: 투명전극
62: 음전극
62a: 음전극 패드부
62b: 음전극 핑거부
64: 양전극
64a: 양전극 패드부
64b: 양전극 핑거부10: substrate
20: n type semiconductor
30: light emitting layer
40: p-type semiconductor
50: transparent electrode
62: negative polarity
62a: negative electrode pad portion
62b:
64: positive polarity
64a: positive electrode pad portion
64b:
Claims (11)
상기 투명전극은 상기 음전극이 배치되기 위해 식각된 테두리 부위에 동일한 형태로 연속적으로 반복되게 형성된 주기적 패턴을 형성하여 상기 p형 반도체를 노출시키고,
상기 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
Type semiconductor; a light-emitting layer disposed on an upper surface of the n-type semiconductor excluding the partial region; and a p-type semiconductor layer disposed on the upper surface of the light- Type semiconductor, a transparent electrode arranged on the upper surface of the p-type semiconductor, and a positive electrode arranged on the upper surface of the transparent electrode,
The transparent electrode may be formed in a periodic pattern formed continuously and repeatedly in the same shape at the edge portion of the etched electrode to expose the p-type semiconductor,
Wherein a width or a length of the periodic pattern is constant, gradually or irregularly changed.
상기 투명전극은 상기 음전극이 배치되기 위해 식각된 테두리로부터 일정거리만큼 식각된 완전 식각 영역과, 상기 완전 식각 영역으로부터 연장되어 동일한 형태로 연속적으로 반복되게 형성된 주기적 패턴을 형성하여 상기 p형 반도체를 노출시키고,
상기 주기적 패턴의 폭 또는 길이는 일정하거나, 점진적으로 또는 불규칙적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
Type semiconductor; a light-emitting layer disposed on an upper surface of the n-type semiconductor excluding the partial region; and a p-type semiconductor layer disposed on the upper surface of the light- Type semiconductor, a transparent electrode arranged on the upper surface of the p-type semiconductor, and a positive electrode arranged on the upper surface of the transparent electrode,
The transparent electrode may include a complete etch region etched away from the etched rim to arrange the negative electrode and a periodic pattern extending continuously from the complete etch region to be repeated in the same pattern to expose the p- And,
Wherein a width or a length of the periodic pattern is constant, gradually or irregularly changed.
상기 주기적 패턴은 삼각 형태 또는 사다리꼴 형태를 가지고, 연속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the periodic pattern has a triangular or trapezoidal shape and is continuously formed.
상기 삼각 형태의 주기적 패턴은 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um이고,
상기 사다리꼴 형태의 주기적 패턴은 짧은 폭이 1um~100um이고 긴 폭이 2um ~ 200um이고 길이가 2um~200um인 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
The method of claim 3,
Wherein the triangular periodic pattern has a width of 2 um to 200 um and a length of 2 um to 200 um,
Wherein the periodic pattern of the trapezoidal shape has a short width of 1 um to 100 um, a long width of 2 um to 200 um, and a length of 2 um to 200 um.
상기 주기적 패턴은 직사각 형태를 가지고, 상호 이격되어 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the periodic pattern has a rectangular shape and is intermittently spaced apart from each other.
상기 주기적 패턴은 폭이 1um~200um이고, 길이가 1um~200um인 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
6. The method of claim 5,
Wherein the periodic pattern has a width of 1 um to 200 um and a length of 1 um to 200 um.
상기 주기적 패턴은 반원 형태, 반타원 형태 및 호 형태 중 어느 하나의 형태를 가지고, 연속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the periodic pattern has one of a semi-circular shape, a semi-elliptical shape, and an arc shape, and is formed continuously.
상기 주기적 패턴은 폭이 2um~200um이고, 길이가 1um~100um인 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
8. The method of claim 7,
Wherein the periodic pattern has a width of 2 to 200 [mu] m and a length of 1 to 100 [mu] m.
상기 주기적 패턴은 격자 형태를 가지고, 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the periodic pattern has a lattice shape and is formed continuously. A light emitting diode having a periodic pattern formed on a transparent electrode.
상기 주기적 패턴은 격자의 두께가 1um~200um인 선분이 일정 간격을 가지고 상기 격자형태를 이루며, 격자 사이의 세로폭은 1um~200um이고, 격자 사이의 가로폭은 1um~200um인 것을 특징으로 하는 투명전극에 주기적 패턴이 형성된 발광다이오드.
10. The method of claim 9,
Wherein the periodic pattern has a line segment having a thickness of 1 to 200 [mu] m at a predetermined interval and has a lattice shape, a vertical width between lattices of 1 [mu] m to 200 [mu] m, and a lateral width between lattices of 1 [ A light emitting diode in which a periodic pattern is formed on an electrode.
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