KR100816213B1 - 반도체기판 과식각 방지장치 및 그 식각방법 - Google Patents
반도체기판 과식각 방지장치 및 그 식각방법 Download PDFInfo
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- 식각액 순환장치에 순수를 공급하는 순수공급펌프, 상기 식각액 순환장치와 순수공급펌프 사이에 설치된 개/폐 밸브, 상기 순수공급펌프 전기적으로 연결되어 순수공급펌프를 구동 및 정지시키며 상기 개/폐 밸브와 전기적으로 연결되어 상기 개/폐 밸브를 개/폐시키는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체기판 과식각 방지장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 식각액 순환 장치와 상기 개/폐 밸브 사이에는 역류 방지 밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체기판 과식각 방지장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어부는 반도체기판 수납장의 안착시 신호를 내보내는 센싱부; 상기 센싱부의 신호를 받아 순수공급펌프를 가동하며, 상기 순수공급펌프의 가동 시간을 측정하여 임계 시간이 되었을 때를 연산한 후 출력 신호를 내보내는 MCU부; 상기 MCU부에서 출력된 신호를 받아 상기 순수 공급펌프를 정지하고, 상기 개/폐 밸브를 차단하는 계전부; 및 상기 센싱부와 MCU부 및 계전부에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체기판 과식각 방지장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 제어부는 상기 MCU부에 신호를 입력하여 상기 개/폐 밸브와 상기 순수 공급펌프를 구동 및 정지시킬 수 있는 구동조작부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체기판 과식각 방지장치.
- 반도체기판이 수납된 반도체기판 수납장을 식각용기에 넣는 단계;순수 공급펌프를 가동하여 상기 식각용기에 순수를 공급하고 임계시간을 측정하여 다음 단계의 진행 여부를 판단하는 단계; 및반도체기판을 식각하는 임계 시간이 지나면 순수 공급 펌프를 정지시키고 개/폐 밸브를 차단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체기판 과식각 방지방법.
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN107564840A (zh) * | 2017-08-01 | 2018-01-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法 |
| KR20250077935A (ko) * | 2023-11-24 | 2025-06-02 | (재)한국나노기술원 | 과식각 감지 기능이 구비된 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176853A (ja) * | 1993-10-25 | 1995-07-14 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | エッチング液管理装置 |
| KR0160387B1 (ko) * | 1995-12-20 | 1999-02-01 | 김광호 | 반도체 식각공정의 diw 추가 공급방법 및 그 장치 |
| KR19990039681A (ko) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 습식식각설비 |
| JPH11251283A (ja) | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Sony Corp | 半導体製造装置 |
| KR20020009699A (ko) * | 2000-07-26 | 2002-02-02 | 윤종용 | 습식 식각 장치의 불화수소산 공급 시스템 |
-
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- 2006-11-24 KR KR1020060117104A patent/KR100816213B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176853A (ja) * | 1993-10-25 | 1995-07-14 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | エッチング液管理装置 |
| KR0160387B1 (ko) * | 1995-12-20 | 1999-02-01 | 김광호 | 반도체 식각공정의 diw 추가 공급방법 및 그 장치 |
| KR19990039681A (ko) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 습식식각설비 |
| JPH11251283A (ja) | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Sony Corp | 半導体製造装置 |
| KR20020009699A (ko) * | 2000-07-26 | 2002-02-02 | 윤종용 | 습식 식각 장치의 불화수소산 공급 시스템 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107564840A (zh) * | 2017-08-01 | 2018-01-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法 |
| CN107564840B (zh) * | 2017-08-01 | 2020-11-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法 |
| KR20250077935A (ko) * | 2023-11-24 | 2025-06-02 | (재)한국나노기술원 | 과식각 감지 기능이 구비된 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
| KR102901259B1 (ko) | 2023-11-24 | 2025-12-18 | (재)한국나노기술원 | 과식각 감지 기능이 구비된 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
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