KR100816170B1 - Actuator device, liquid jet head and liquid jet device - Google Patents
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Abstract
작은 구동 전압으로 큰 왜곡을 얻을 수 있는 액츄에이터 장치 및 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치를 제공한다.An actuator device, a liquid ejection head, and a liquid ejection device capable of obtaining a large distortion with a small driving voltage are provided.
기판의 한쪽 면에 설치된 진동판을 통하여 설치되고 또한 하부 전극, 압전체층 및 상부 전극으로 이루어지는 압전 소자를 구비하며, 상기 압전체층의 압전 정수 d31과 상기 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 5C/m2 보다 크고, 상기 진동판의 탄성 컴플라이언스 S11 E가 2 × 10-8m2/N 보다 크게 한다.A piezoelectric element provided through a diaphragm provided on one side of the substrate and comprising a lower electrode, a piezoelectric layer, and an upper electrode, wherein the ratio between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer d 31. / S 11 E is greater than 5 C / m 2 , and the elastic compliance S 11 E of the diaphragm is greater than 2 x 10 -8 m 2 / N.
Description
도 l은 본 발명의 실시 형태 1에 관한 액체 분사 헤드의 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view of the liquid jet head according to the first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시 형태 1에 관한 액체 분사 헤드의 평면도 및 단면도이다. 2 is a plan view and a sectional view of a liquid jet head according to
도 3은 본 발명의 실시예의 왜곡과 발생 응력과의 관계를 나타내는 도이다.3 is a diagram showing a relationship between distortion and stress generated in an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 관한 잉크젯식 기록 장치의 개략 사시도이다.4 is a schematic perspective view of an inkjet recording apparatus according to an embodiment of the present invention.
<부호의 설명><Description of the code>
1O 유로 형성 기판 1O Euro Forming Substrate
12 압력 발생실12 pressure generating chamber
13 연통부13 communication departments
14 잉크 공급로With 14 ink supply
20 노즐 플레이트20 nozzle plate
21 노즐 개구21 nozzle opening
30 보호 기판30 protective board
31 리저버부31 reservoir
32 압전 소자 유지부부 32 Piezoelectric element holding part
33 관통 구멍33 through hole
40 컴플라이언스 기판 40 Compliance Board
50 탄성막50 elastic membrane
55 절연체막55 insulator film
60 하부 전극막 60 lower electrode film
70 압전체층 70 Piezoelectric Layer
80 상부 전극막80 upper electrode film
90 리드 전극90 lead electrodes
100 리저버100 reservoir
본 발명은, 압전 소자를 구비하는 액츄에이터 장치 및 액체방울을 분사하기 위한 구동원으로서 액츄에이터 장치를 구비하는 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
전압을 인가함으로써 변위하는 압전소자를 구비하는 액츄에이터 장치는, 예를 들면, 액체방울을 분사하는 액체 분사 헤드 등에 탑재된다. 이와 같은 액체 분사 헤드를 구비하는 액체 분사 장치로서는, 예를 들면, 압전 소자나 발열 소자에 의해 잉크방울 토출을 위한 압력을 발생시키는 복수의 압력 발생실과, 각 압력 발생실에 잉크를 공급하는 공통의 리저버와, 각 압력 발생실에 연통하는 노즐 개구를 갖춘 잉크젯식 기록 헤드를 구비하는 잉크젯식 기록 장치가 있고, 이 잉크젯식 기록 장치에서는, 인자(印字) 신호에 대응하는 노즐과 연통한 압력 발생실 내의 잉크에 토출 에너지를 인가하여 노즐 개구로부터 잉크방울을 토출시킨다.An actuator device including a piezoelectric element that is displaced by applying a voltage is, for example, mounted on a liquid jet head or the like for ejecting a droplet. As a liquid ejecting apparatus having such a liquid ejecting head, for example, a plurality of pressure generating chambers for generating pressure for ejecting ink droplets by a piezoelectric element or a heating element and a common supply of ink to the respective pressure generating chambers are provided. There is an inkjet recording apparatus having a reservoir and an inkjet recording head having a nozzle opening communicating with each pressure generating chamber. In this inkjet recording apparatus, a pressure generating chamber in communication with a nozzle corresponding to a printing signal is provided. The ejection energy is applied to the ink in the ink to eject the ink droplet from the nozzle opening.
이와 같은 잉크젯식 기록 헤드에는, 상술한 바와 같이 압력 발생실로서 압력 발생실 내에 구동 신호에 의해 줄(Joule)열을 발생하는 저항선 등의 발열 소자를 설치하고, 이 발열 소자의 발생하는 버블에 의해서 노즐 개구로부터 잉크방울을 토출시키는 것과, 압력 발생실의 일부를 진동판으로 구성하여, 이 진동판을 압전 소자에 의해 변형시켜 노즐 개구로부터 잉크방울을 토출시키는 압전 진동식의 2종류의 것으로 대별(大別)된다.As described above, the inkjet recording head is provided with a heat generating element such as a resistance line that generates Joule heat by a drive signal in the pressure generating chamber as the pressure generating chamber, and by the bubbles generated by the heat generating element. Two types of piezoelectric vibration type which discharges ink droplets from a nozzle opening, a part of a pressure generating chamber consists of a diaphragm, deforms this diaphragm by a piezoelectric element, and discharges ink droplets from a nozzle opening. do.
또, 압전 진동식의 잉크젯식 기록 헤드에는, 압전 소자를 축방향으로 신장, 수축하는 축 진동 모드의 압전 액츄에이터를 사용한 것과, 굴곡 진동 모드의 압전 액츄에이터를 사용한 것의 2 종류가 실용화되어 있다.In addition, two types of piezoelectric vibrating inkjet recording heads are practically used, one using a piezoelectric actuator in an axial vibration mode in which the piezoelectric element is extended and contracted in the axial direction, and one using a piezoelectric actuator in a bending vibration mode.
전자(前者)는 압전 소자의 단면을 진동판에 맞닿게 한 것으로 압력 발생실의 용적을 변화시킬 수 있어, 고밀도 인쇄에 적절한 헤드의 제작이 가능하다 반면, 압전 소자를 노즐 개구의 배열 피치에 일치시켜서 즐치상(櫛齒狀)으로 분리한다고 하는 곤란한 공정이나, 분리할 수 있었던 압전 소자를 압력 발생실에 위치 결정하여 고정하는 작업이 필요하여, 제조 공정이 복잡하다는 문제가 있다. The former makes the cross section of the piezoelectric element abut the diaphragm to change the volume of the pressure generating chamber, thereby making it possible to manufacture a head suitable for high density printing, while matching the piezoelectric element to the arrangement pitch of the nozzle opening. There is a problem that a difficult process of separating into a bladder phase and a job of positioning and fixing the separated piezoelectric element in a pressure generating chamber are required, and the manufacturing process is complicated.
이것에 대해서 후자(後者)는, 압전 재료의 그린 시트(green shee)를 압력 발생실의 형상에 맞추어 붙이고, 이것을 소성(燒成)하다는 비교적 간단한 공정으로 진동판에 압전 소자를 부착할 수 있지만, 굴곡 진동을 이용하는 관계상, 어느 정도 의 면적이 필요하여, 고밀도 배열이 곤란하다는 문제가 있다.On the other hand, the latter can attach the piezoelectric element to the vibration plate by a relatively simple process of attaching the green shee of the piezoelectric material to the shape of the pressure generating chamber and firing it. Due to the use of vibration, there is a problem in that a certain area is required, and high density arrangement is difficult.
한편, 후자의 기록 헤드의 단점을 해소하기 위하여, 진동판의 표면 전체에 걸쳐 성막(成膜) 기술에 의해 균일한 압전 재료 층을 형성하고, 이 압전 재료 층을 리소그래피(lithography)법에 의해 압력 발생실에 대응하는 형상으로 분리하여 각 압력 발생실 마다 독립하도록 압전 소자를 형성한 것이 제안되어 있다(특허문헌 1참조).On the other hand, in order to solve the disadvantage of the latter recording head, a uniform piezoelectric material layer is formed by a film forming technique over the entire surface of the diaphragm, and the piezoelectric material layer is subjected to pressure generation by lithography. It is proposed to separate the piezoelectric element into a shape corresponding to the seal and to form the piezoelectric element so as to be independent of each pressure generating chamber (see Patent Document 1).
이것에 의하면 압전 소자를 진동판에 접착하는 작업이 불필요하게 되어, 리소그래피법이라는 정밀하면서, 또한 간편한 수법으로 압전 소자를 고밀도로 부착할 수 있을 뿐만 아니라, 압전 소자의 두께를 얇게 할 수 있어 고속 구동이 가능하게 된다는 이점이 있다.This eliminates the work of adhering the piezoelectric element to the diaphragm, and allows the piezoelectric element to be attached at a high density with a precise and simple method of lithography, and to reduce the thickness of the piezoelectric element. This has the advantage of being possible.
이와 같은 압전 소자의 왜곡 최적 조건은, 압전체의 분극축(쌍극자)과 전기장과의 이루는 각 θ가 압전체의 어느 쪽의 영역에 있어서도 동일한 구조, 즉, 엔지니어드·도메인(engineered·domain) 구조인 것이고, 사방면체정계(rhombohedral system)에서는 전계(電界)(E)가 면방위(001) 방향으로 인가된 상태가 가장 큰 왜곡을 얻을 수 있다고 여겨지고 있어, 왜곡 쉬움의 계수인 압전 정수 d31이나 d33이 가능한 한 큰 압전체 결정의 조성 개량을 하고, 릴렉서(relaxor) 강유전체 단결정(PMN-P T)(특허문헌 2참조)나 PZN-PT 등이 알려져 있다.The distortion optimum condition of the piezoelectric element is that the angle θ between the polarization axis (dipole) of the piezoelectric element and the electric field is the same structure in either region of the piezoelectric body, that is, an engineered domain structure, In the rhombohedral system, the state in which the electric field E is applied in the direction of the plane direction 001 is considered to obtain the largest distortion, and the piezoelectric constants d 31 and d 33, which are coefficients of easy distortion, The composition of the piezoelectric crystal as large as possible is improved, and a relaxor ferroelectric single crystal (PMN-P T) (see Patent Document 2), PZN-PT, and the like are known.
그렇지만, 이와 같은 강유전체는, d33이 2500pC/N 이상 있지만, 부하를 건 상태에서의 최대 발생 응력은 20MPa 정도이고, 오히려 PZT의 35MPa이 큰 것을 발견 했다.However, in such a ferroelectric, although d 33 is more than 2500pC / N, it discovered that the maximum generated stress in the state which load is about 20MPa, but rather 35MPa of PZT is large.
[특허문헌 1]특개 평5-2861131호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. H5-2861131
[특허문헌 2]특표2001-509312호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-509312
본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여, 작은 구동 전압으로 큰 왜곡을 얻을 수 있는 액츄에이터 장치 및 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide an actuator device, a liquid jet head, and a liquid jet device that can obtain a large distortion with a small drive voltage.
<발명을 해결하기 위한 수단>Means for Solving the Invention
상기 과제를 해결하는 본 발명의 제 1 형태는, 기판의 한쪽 면에 설치된 진동판을 통하여 설치되고, 또한 하부 전극, 압전체층 및 상부 전극으로 이루어지는 압전 소자를 구비하고, 상기 압전체층의 압전 정수 d31와 상기 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 5C/m2 보다 크고, 상기 진동판 탄성 컴플라이언스 S11 E가 2 × 10-8m2/N 보다 큰 것을 특징으로 하는 액츄에이터 장치이다.A first aspect of the present invention for solving the problems is arranged via a vibration plate provided on one surface of the substrate and having a piezoelectric element formed of a lower electrode, a piezoelectric layer and an upper electrode, the piezoelectric constant of the piezoelectric layer d 31 And the ratio d 31 / S 11 E to the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer is greater than 5 C / m 2 , and the diaphragm elastic compliance S 11 E is greater than 2 x 10 -8 m 2 / N. Device.
이러한 제 1 형태에서는, 압전체층의 압전 정수 d31과 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 소정치보다 크고 또한 진동판의 탄성 컴플라이언스가 소정치보다 크기 때문에, 충분한 왜곡 변형을 얻을 수 있다.In this first aspect, since the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer is larger than the predetermined value, and the elastic compliance of the diaphragm is larger than the predetermined value, sufficient distortion deformation Can be obtained.
본 발명의 제 2 형태는, 제 1 형태에 있어서, 상기 d31 / S11 E가 7.5C/m2보다 큰 것을 특징으로 하는 액츄에이터 장치이다.According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the d 31 / S 11 E is larger than 7.5C / m 2 , which is an actuator device.
이러한 제 2 형태에서는, 압전체층의 압전 정수 d31과 상기 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E 가 7.5C/m2 보다 크기 때문에, 고밀도화된 액츄에이터에 있어서도 충분한 왜곡 변형을 얻을 수 있다.In this second aspect, since the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer is larger than 7.5 C / m 2 , sufficient distortion deformation is achieved even in a densified actuator. You can get it.
본 발명의 제 3 형태는, 제 1 또는 2의 형태에 있어서, 상기 압전체층이 티탄산지르콘산연(Pb(Zr,Ti)O3)을 주체로 하고, Y, Ce 및 Nd로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 한 종류의 원소를 첨가제로 하여 혼입한 것인 것을 특징으로 하는 액츄에이터 장치이다.According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the piezoelectric layer is mainly composed of lead zirconate titanate (Pb (Zr, Ti) O 3 ) and is selected from the group consisting of Y, Ce, and Nd. An actuator device characterized by mixing one kind of element as an additive.
이러한 제 3 형태에서는, PZT에 소정의 원소를 첨가제로서 혼입하는 것에 의해, 압전체층의 압전 정수 d31과 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비가 더욱 커진다.In such a third embodiment, by mixing a predetermined element into PZT as an additive, the ratio between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer is further increased.
본 발명의 제 4 형태는, 제 3 형태에 있어서, Nb, Ta, Sb 및 W의 군으로부터 선택되는 적어도 한 종류의 원소를 첨가제로서 함유하는 것을 특징으로 하는 액츄에이터 장치이다.A 4th aspect of this invention is an actuator apparatus which contains as an additive at least 1 sort (s) of elements chosen from the group of Nb, Ta, Sb, and W in 3rd aspect.
이러한 제 4 형태에서는, PZT에 소정의 원소를 첨가제로서 더 혼입하는 것에 의해, 소망한 특성의 향상을 더욱 도모할 수 있다.In this fourth aspect, the desired properties can be further improved by further mixing the predetermined element into the PZT as an additive.
본 발명의 제 5 형태는, 제 3 또는 4의 형태에 있어서, 상기 첨가제가, 총 몰(mole)비로 10at% 미만 함유되는 것을 특징으로 하는 액츄에이터 장치이다.A fifth aspect of the present invention is the actuator device according to the third or fourth aspect, wherein the additive is contained in a total molar ratio of less than 10 at%.
이러한 제 5 형태에서는, 첨가제의 양을 소정치보다 작게 함으로써, 압전체층의 압전 정수 d31과 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E 를 소정치보다 크게 하기 쉬워진다.In such a fifth aspect, by making the amount of the additive smaller than the predetermined value, it becomes easy to increase the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer.
본 발명의 제 6 형태는, 제 1 ~ 5 중 어느 하나의 형태의 액츄에이터 장치를, 상기 기판에 형성된 압력 발생실에 그 압력 발생실 내의 액체를 노즐 개구로부터 토출시키기 위한 압력을 발생시키는 압력 발생 수단으로서 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드이다. A sixth aspect of the present invention provides pressure generating means for generating an actuator device according to any one of the first to fifth aspects to generate pressure for discharging liquid in the pressure generating chamber from a nozzle opening to a pressure generating chamber formed in the substrate. It is provided with a liquid jet head characterized in that.
이러한 제 6 형태에서는, 압전체층의 압전 정수 d31과 압전체층의 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 소정치보다 크고 또한 진동판의 탄성 컴플라이언스를 소정치보다 크기 때문에, 충분한 왜곡 변형을 얻을 수 있어, 작은 전압으로 큰 왜곡을 얻을 수 있는 액체 분사 헤드를 제공할 수 있다.In this sixth aspect, since the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer is larger than the predetermined value and the elastic compliance of the diaphragm is larger than the predetermined value, sufficient distortion deformation It is possible to provide a liquid jet head capable of obtaining a large distortion with a small voltage.
본 발명의 제 7 형태는, 제 6 형태의 액체 분사 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 장치이다.According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid ejection head according to the sixth aspect.
이러한 제 7 형태에서는, 액체방울의 토출 특성을 현저하게 향상한 액체 분사 헤드를 가지는 액체 분사 장치를 제공할 수 있다.In this seventh aspect, it is possible to provide a liquid ejecting apparatus having a liquid ejecting head which significantly improves the ejection characteristics of the droplets.
<발명을 실시하기 위한 바람직한 형태>Preferred Mode for Carrying Out the Invention
이하에 본 발명을 실시 형태에 근거하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, this invention is demonstrated in detail based on embodiment.
(실시 형태 1)(Embodiment 1)
도 1은, 본 발명의 실시 형태 1에 관한 잉크젯식 기록 헤드의 개략 구성을 나타내는 분해 사시도이고, 도 2는, 도 1의 평면도 및 그 A-A'단면도이다.1 is an exploded perspective view showing a schematic configuration of an inkjet recording head according to
도시한 바와 같이, 유로 형성 기판(10)은, 본 실시 형태에서는 실리콘 단결정 기판으로부터 되고, 그 양면에는 미리 열산화에 의해 형성된 이산화 실리콘으로 이루어지는, 두께 0.5 ~ 2μm의 탄성막(50)이 형성되어 있다.As illustrated, the flow
이 유로 형성 기판(10)에는, 그 다른쪽 면에서부터 이방성 에칭하는 것에 의해, 복수의 방화벽(11)에 의해서 구획된 압력 발생실(12)이 병설되고, 그 길이 방향 외측에는, 각 압력 발생실(12)의 공통의 잉크실이 되는 리저버(100)의 일부를 구성하는 연통부(13)가 형성되며, 각 압력 발생실(12)의 길이 방향 일단부와 각각 잉크 공급로(14)를 통하여 연통되어 있다. 잉크 공급로(14)는, 압력 발생실(12) 보다 좁은 폭으로 형성되고 있어, 연통부(13)로부터 압력 발생실(12)로 유입하는 잉크의 유로 저항을 일정하게 유지하고 있다.In this flow
또, 유로 형성 기판(10)의 개구면 측에는, 각 압력 발생실(12)의 잉크 공급로(14)와는 반대 측에서 연통하는 노즐 개구(21)가 뚫어 설치된 노즐 플레이트(20)가 접착제나 열용착 필름 등의 접착층(51)을 통하여 고착되어 있다. 또한, 노즐 플레이트(20)는, 두께가 예를 들면, 0.01 ~ 1mm로, 선팽창 계수가 300℃이하로, 예를 들면 2.5 ~ 4.5[× 1O-6/℃]인 글라스세라믹, 또는 스테인리스강 등으로 이루어진 다. 노즐 플레이트(20)은, 한쪽 면에서 유로 형성 기판(10)의 일면(一面)을 전면적으로 가리고, 실리콘 단결정 기판을 충격이나 외력으로부터 보호하는 보강판의 역할도 한다. 또, 노즐 플레이트(20)는, 유로 형성 기판(10)과 열팽창 계수가 대략 동일한 재료로 형성되도록 하여도 좋다. 이 경우에는, 유로 형성 기판(10)과 노즐 플레이트(20)와의 열에 의한 변형이 대략 동일하게 되기 때문에, 열강화성의 접착제 등을 이용하여 용이하게 접합할 수 있다.Moreover, the
한편, 유로 형성 기판(10)의 개구면과는 반대 측에는, 상술한 바와 같이, 이산화 실리콘으로 이루어진 두께가 예를 들면, 약 1.0μm의 탄성막(50)이 형성되고, 이 탄성막(50) 위에는, 산화 지르코늄(ZrO2) 등으로 이루어진 두께가 예를 들면, 약 O.4μm의 절연체막(55)이 적층 형성되어 있다. 또, 이 절연체막(55) 위에는, 이리듐(Ir)으로 이루어진 두께가 약 0.1 ~ 0.5μm인 하부 전극막(60)과, 티탄산지르콘산연(PZT) 등으로 이루어진 두께가 예를 들면, 약 1.0μm 의 압전체층(70)과, 금, 백금 또는 이리듐 등으로 이루어진 두께가 예를 들면, 약 0.05μm 상부 전극막(80)이, 후술하는 프로세스로 적층 형성되어, 압전 소자(300)를 구성하고 있다. 여기서, 압전 소자(300)는, 하부 전극막(60), 압전체층(70) 및 상부 전극막(80)을 포함한 부분을 말한다. 일반적으로는, 압전 소자(300)의 어느 것이 한쪽의 전극을 공통 전극으로 하고, 다른 쪽의 전극 및 압전체층(70)을 각 압력 발생실(12) 마다 패터닝하여 구성한다. 그리고, 여기서는 패터닝된 어느 것이 한쪽의 전극 및 압전체층(70)으로 구성되어, 양전극으로의 전압 인가에 의해 압전 왜곡이 생기는 부분 을 압전체 능동부(320)라고 한다.On the other hand, on the side opposite to the opening surface of the flow
본 실시 형태에서는, 하부 전극막(60)은 압전 소자(300)의 공통 전극으로 하고, 상부 전극막(80)을 압전 소자(300)의 개별 전극으로 하고 있지만, 구동 회로나 배선의 사정으로 이것을 반대로 하여도 지장은 없다. 어느 쪽의 경우에 있어서도, 각 압력 발생실(12) 마다 압전체 능동부(320)가 형성되어 있게 된다. 또, 여기서는, 압전 소자(300)와 이 압전 소자(300)의 구동에 의해 변위가 생기는 진동판을 맞추어 액츄에이터 장치라고 칭한다. 또한, 박막의 패터닝에 의해, 탄성막(50) 및 절연체막(55)이 진동판으로서 작용하는 경우나 압전 소자(300)를 구성하는 하부 전극막(60)도 진동판으로서 기능을 담당하는 경우도 있다.In the present embodiment, the
여기서, 압전체층(70)은, 그 압전 정수 d31과 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 5C/m2 보다 크고, 바람직하게는 7.5C/m2 보다 크게 되는 재료로 하는 것이 바람직하다. 또, 진동판의 탄성 컴플라이언스 S11 E는, 2 × 10-8m2/N 보다 크게 되도록 하는 것이 바람직하다.Here, the piezoelectric layer 70 is a material in which the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 and the elastic compliance S 11 E is larger than 5 C / m 2 , and preferably larger than 7.5 C / m 2 . It is preferable. In addition, the elastic compliance S 11 E of the diaphragm is preferably such that greater than 2 × 10 -8 m 2 / N .
이와 같이 압전체층(70)의 압전 정수 d31과 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E를 소정치 이상으로 하는 것은, 박막 타입의 액츄에이터 장치에 있어서의 왜곡 변형을 충분히 크게 하여, 액체 분사 헤드로 했을 때에 충분한 액체 토출량을 얻을 수 있도록 하기 위한 것이다.Thus it is that the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 and an elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer 70 by more than a predetermined value, sufficient to increase the distortion deformation in the actuator device of the thin-film type, a liquid This is to ensure that a sufficient liquid discharge amount can be obtained when the injection head is used.
더 상세히 말하면, 박막 타입의 액츄에이터 장치에서는, 종래와 같이 압전 정수만의 향상을 도모하여도 충분한 왜곡 변형은 얻지 못하고, 압전체층의 압전 정수 및 탄성 컴플라이언스의 비가 중요해진다. 즉, 진동판을 구동하기 위한 압전체층(70)으로서는, 압전 정수가 어느 정도 큰 것은 물론이지만, 어느 정도의 딱딱함이 없으면 충분한 왜곡 변형을 얻을 수 없다고 하는 지견(知見)에 근거하여, 본 발명은 완성되었다.More specifically, in the thin film type actuator device, even if the piezoelectric constant is improved only in the related art, sufficient distortion deformation cannot be obtained, and the piezoelectric constant and elastic compliance ratio of the piezoelectric layer become important. That is, as the piezoelectric layer 70 for driving the diaphragm, the piezoelectric constant is of course somewhat large, but the present invention is completed based on the knowledge that sufficient distortion deformation cannot be obtained without a certain degree of rigidity. It became.
박막의 경우의 압전 특성 향상의 포인트는, 탄성 컴플라이언스를 필요이상으로 크게 하지 않고 d31을 높이는 것이 필요하다. 예를 들면, 벌크재와 같이 고농도로 첨가제를 첨가하면, 컴플라이언스가 크게 되고, 부하에 대해서 일을 하지 않게 된다. 박막에서는 왜곡이 구동원이 되지만, 벌크재에서는 저전압 영역에 있어서의 왜곡의 대전압 감도가 구동원이 되므로, 후술하는 바와 같은 첨가제의 첨가량이 완전히 다라져 있다.Of improving the piezoelectric characteristics in the case of the thin film is a point, without increasing the acoustic compliance than necessary, it is necessary to increase the d 31. For example, when additives are added at high concentrations, such as bulk materials, compliance is increased and no work is performed on the load. In the thin film, the distortion becomes a driving source, but in the bulk material, since the large voltage sensitivity of the distortion in the low voltage region becomes the driving source, the amount of the additive added as described later is completely different.
상술한 바와 같은 압전 소자(300)에 있어서, 구동시의 발생 응력은, 압전체층(70)으로의 인가 전압을 V, 압전체층(70)의 두께를 tPZT로 하면, 이하의 계산에 의해 시산(試算)된다.In the
발생 응력 = (d31 / S11 E)·(V / tPZT)Generated stress = (d 31 / S 11 E ) · (V / t PZT )
또, 이 발생 응력은, 압전체층(70)의 신장 탄성률을 EPZT로 하면, EPZT = (1 / S11 E)이기 때문에, 발생 응력은 이하의 식에서 나타낸다.Moreover, since this generated stress is E PZT = (1 / S 11 E ) when the elongation elastic modulus of the piezoelectric layer 70 is set to E PZT , the generated stress is expressed by the following equation.
발생 응력 = EPZT · d31 ·(V / tPZT)Generated stress = E PZT · d 31 · (V / t PZT )
그리고, 이 발생 응력은 왜곡 변형된 진동판이 돌아오려고 하는 힘보다 크지 않으면, 액체를 토출할 수 없다. 또한, 진동판이 돌아오려고 하는 힘, 즉, 진동판의 응력은, 진동판의 신장 탄성률을 ESub, 진동판의 두께를 tSub, 폭을 W, 변위를 δ으로 하면, 이하의 식에서 나타낸다.And this generated stress cannot discharge a liquid unless it is larger than the force which the distortion-deformed diaphragm tries to return. In addition, the force which a diaphragm tries to return, ie, the stress of a diaphragm, is represented by the following formula, when the elongation elastic modulus of a diaphragm is E Sub , the thickness of a diaphragm is t Sub , the width is W, and a displacement is delta.
진동판의 응력 = [ESub·(tSub)2 / W2tPZT]· δStress of diaphragm = [E Sub · (t Sub ) 2 / W 2 t PZT ] · δ
여기서, 압전체층(70)의 압전 정수 d31과 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 5C/m2 보다 크다고 하는 조건은, 300nm 정도의 굴곡 변위를 얻을 수 있는 조건으로, 360dpi의 액체 분사 헤드로 실용 레벨의 액체 토출량을 얻을 수 있는 것이고, 7.5C/m2 보다 크면 500nm 정도의 굴곡 변위를 얻을 수 있는 조건이 된다.Here, the condition that the ratio d 31 / S 11 E between the piezoelectric constant d 31 and the elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer 70 is larger than 5 C / m 2 is a condition that can obtain a bending displacement of about 300 nm. The liquid ejection head of the practical level can be obtained by the liquid ejecting head of. If it is larger than 7.5 C / m 2 , the bending displacement of about 500 nm is obtained.
한편, 이와 같은 액츄에이터 장치를 예를 들면 액체 분사 헤드에 이용하여 액체를 토출하기 위해서는, 진동판의 탄성 컴플라이언스 S11 E는, 2 × 10-8m2/N 보다 큰것이 바람직하다.On the other hand, in order to this, for the same actuator device For discharging the liquid by using the liquid-jet head, the elastic compliance S 11 E of the diaphragm is preferably greater than 2 × 10 -8 m 2 / N .
본 발명에 있어서, 압전체층(70)의 압전 정수 d31과 탄성 컴플라이언스 S11 E와 의 비 d31 / S11 E가 5C/m2 보다 크고, 바람직하게는 7.5C/m2 보다 크게 되도록 한 압전체층(70)로서는, 티탄산지르콘산연(PZT)이 바람직하다. PZT를 이용하면, 경도와 압전 정수가 충분히 큰 압전체층(70)이 실현될 수 있기 때문이다. 또한, 압전 정수가 현저히 큰 것으로서 개발된 PMN-PT나 PZN-PT는, 너무 부드러워서 상술한 조건을 만족할 수 있는 것은 거의 없다.In the present invention, the ratio d 31 / S 11 E of the piezoelectric constant d 31 and an elastic compliance S 11 E of the piezoelectric layer 70 is greater than 5C / m 2, preferably from one to greater than 7.5C / m 2 As the piezoelectric layer 70, lead zirconate titanate (PZT) is preferable. When PZT is used, the piezoelectric layer 70 having a sufficiently high hardness and piezoelectric constant can be realized. In addition, PMN-PT and PZN-PT, which have been developed as having a significantly large piezoelectric constant, are too soft to satisfy the above-described conditions.
여기서, PZT에 경도를 현저히 작게 하지 않고 한편 압전 정수를 향상시키는 첨가제를 혼입시켜도 좋다. 이와 같은 첨가제로서는, Y, Ce 및 Nd로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 한 종류의 원소를 들 수 있다. Y나 Ce는, 결정화율의 향상을 도모함과 동시에 열적 안정성을 향상시키고, 또, Nd는 조성 분포의 균일화를 도모하고, 이것에 의해, 압전 정수를 향상시키는 것이다.Here, the additive which improves a piezoelectric constant may be mixed in PZT without remarkably reducing hardness. As such an additive, at least 1 type of element chosen from the group which consists of Y, Ce, and Nd is mentioned. Y and Ce improve the crystallization rate, improve thermal stability, and Nd aims to uniformize the composition distribution, thereby improving the piezoelectric constant.
또, 이러한 원소에 더하여, Nb Ta, Sb 및 W의 군으로부터 선택되는 적어도 한 종류의 원소를 첨가제로서 함유시켜도 좋다. Nb는 산소 결손을 방지하고, Ta는 컴플라이언스를 상승시켜 왜곡을 쉽게 하며, Sb는 컴플라이언스를 작게 하고, 또, W는 유전율을 크게 하여 변위-전압 특성의 선형성을 향상시키는 것으로, 어느 쪽도 상술한 Y, Ce 및 Nd와 함께 이용하여 효과가 있다.In addition to these elements, at least one element selected from the group of Nb Ta, Sb, and W may be included as an additive. Nb prevents oxygen vacancies, Ta increases compliance, making distortion easier, Sb decreases compliance, and W increases dielectric constant to improve linearity of displacement-voltage characteristics. It is effective in combination with Y, Ce and Nd.
이와 같은 첨가제는, 총몰비로 10at% 미만 함유되도록 하는 것이 바람직하다. 그 이상 첨가하면, 압전체층(70)이 부드러워져, 즉, 신장 탄성률이 작아져, 상술한 조건을 얻을 수 없게 되기 때문이다. 또한, 이와 같은 첨가제는, 산화물 상태로 PZT 내에 존재하게 된다.Such additives are preferably contained in a total molar ratio of less than 10 at%. If it is added more than that, the piezoelectric layer 70 becomes soft, that is, the elongation elastic modulus becomes small, and the above-described conditions cannot be obtained. In addition, such an additive will exist in PZT in an oxide state.
본 발명에 있어서는 이와 같은 재료를 이용하여 압전체층(70)을 성막하여 소정의 두께로 하고, 압전 정수나 신장 탄성률을 소정의 값이 되도록 하지만, 예를 들면, 압전체층(70)을 0.5 ~ 2μm 전후의 두께로 형성한다.In the present invention, the piezoelectric layer 70 is formed by using such a material to form a predetermined thickness, and the piezoelectric constant and the elongation modulus are set to a predetermined value. For example, the piezoelectric layer 70 is 0.5 to 2 m. It is formed in the thickness before and after.
또한, 압전체층(70)의 면방위는 (100)인 것이 바람직하다. 이와 같은 압전체층(70)으로 하기 위해서는, 종래 기술로서 설명한 바와 같이, 하부 전극막(60) 위에 티탄층을 형성하여 압전체층(70)을 자유 성장시켜도 좋고, 하부 전극막(60)을 (100)으로 형성하여 압전체층(70)을 에피택셜(epitaxial) 성장시켜도 좋으며, 하부 전극막(60) 위에 하지층(下地層)을 통하여 압전체층(70)을 설치해도 좋고, 이러한 구성은 특히 한정되지 않는다.In addition, it is preferable that the surface orientation of the piezoelectric layer 70 is (100). In order to form such a piezoelectric layer 70, as described in the related art, a titanium layer may be formed on the
한편, 압전 소자(300)의 개별 전극인 각 상부 전극막(80)에는, 잉크 공급로(14) 측의 단부 근방으로부터 나와서, 절연체막(55) 위에까지 연장하여 설치된다, 예를 들면, 금(Au) 등으로 이루어지는 리드 전극(90)이 접속되어 있다.On the other hand, each of the
이와 같은 압전 소자(300)가 형성된 유로 형성 기판(10) 위, 즉, 하부 전극막(60), 절연체막(55) 및 리드 전극(90) 위에는, 리저버(100)가 적어도 일부를 구성하는 리저버부(31)를 가지는 보호 기판(30)이 접착제(34)를 통하여 접합되어 있다. 이 리저버부(31)는, 본 실시 형태에서는, 보호 기판(30)을 두께 방향으로 관통하여 압력 발생실(12)의 폭 방향에 걸쳐 형성되고 있어, 상술한 바와 같이 유로 형성 기판(10)의 연통부(13)와 연통되어 각 압력 발생실(12)의 공통의 잉크실이 되는 리저버(100)를 구성하고 있다.The
또, 보호 기판(30)의 압전 소자(300)에 대향하는 영역에는, 압전 소자(300) 의 운동을 저해하지 않는 정도의 공간을 가지는 압전 소자 유지부(32)가 설치되어 있다. 보호 기판(30)은, 압전 소자(300)의 운동을 저해하지 않는 정도의 공간을 가지고 있으면 좋고, 이 공간은 밀봉되어 있어도, 밀봉되어 있지 않아도 좋다.Moreover, the piezoelectric
이와 같은 보호 기판(30)으로서는, 유로 형성 기판(10)의 열팽창율과 대략 동일한 재료, 예를 들면, 유리, 세라믹 재료 등을 이용하는 것이 바람직하고, 본 실시 형태에서는, 유로 형성 기판(10)과 동일 재료의 실리콘 단결정 기판을 이용하여 형성했다.As such a
또, 보호 기판(30)에는, 보호 기판(10)을 두께 방향으로 관통하는 관통 구멍(33)이 설치되어 있다. 그리고, 각 압전 소자(300)로부터 인출된 리드 전극(90)의 단부 근방은, 관통 구멍(33) 내에서 노출하도록 설치되어 있다.Moreover, the through
또, 보호 기판(30) 위에는, 병설된 압전 소자(300)를 구동하기 위한 구동 회로(110)가 고정되어 있다. 이 구동 회로(110)로서는, 예를 들면, 회로 기판이나 반도체 집적회로(IC) 등을 이용할 수 있다. 그리고, 구동 회로(110)와 리드 전극(90)은, 본딩 와이어 등의 도전성 와이어로 이루어진 접속 배선(120)을 통하여 전기적으로 접속되고 있다.Moreover, the
또, 이와 같은 보호 기판(30) 위에는, 봉하여 막는 막(41) 및 고정판(42)으로 이루어지는 컴플라이언스 기판(40)이 접합되어 있다. 여기서, 봉하여 막는 막(41)은, 강성이 낮은 가소성을 가진 재료(예를 들면, 두께가 6μm의 폴리페닐린 설파이드(polyphenylene sulfide)(PPS) 필름)로 이루어지고, 이 봉하여 막는 막(41) 에 의해서 리저버부(31)의 한쪽 면이 봉하여 막혀 있다. 또, 고정판(42)은, 금속 등의 경질의 재료(예를 들면, 두께가 30μm의 스테인리스강(SUS) 등)로 형성된다. 이 고정판(42)의 리저버(100)에 대향하는 영역은, 두께 방향으로 완전하게 제거된 개구부(43)로 되고 있기 때문에, 리저버(100)의 한쪽 면은 가소성을 가지는 봉하여 막는 막(41)만으로 봉하여 막혀 있다.Moreover, the compliance board |
또, 이 리저버(100)의 길이 방향으로 대략 중앙부 외측의 컴플라이언스 기판(40) 위에는, 리저버(100)에 잉크를 공급하기 위한 잉크 도입구(44)가 형성되어 있다. 또한, 보호 기판(30)에는, 잉크 도입구(44)와 리저버(100)의 측벽을 연통하는 잉크 도입로(35)가 설치되어 있다.Moreover, the
이와 같은 본 실시 형태의 잉크젯식 기록 헤드에서는, 도시하지 않는 외부 잉크 공급 수단과 접속한 잉크 도입구(44)로부터 잉크를 취입(取入)하고, 리저버(100)로부터 노즐 개구(21)에 이를 때까지 내부를 잉크로 채운 후, 구동 회로로부터의 기록 신호에 따라, 압력 발생실(12)에 대응하는 각각의 하부 전극막(60)과 상부 전극막(80) 사이에 전압을 인가하여, 탄성막(50), 절연체막(55), 하부 전극막(60) 및 압전체층(70)을 굴곡 변형 시키는 것에 의해, 각 압력 발생실(12) 내의 압력이 높아져 노즐 개구(21)로부터 잉크방울이 토출한다.In the inkjet recording head of this embodiment as described above, ink is taken in from the
(실시예)(Example)
압전체층(70)의 압전 정수 d31과 탄성 컴플라이언스 S11 E와의 비 d31 / S11 E가 5C/m2보다 크다는 조건은, 전계 강도 E = (V / tpzT)가 25V/μm로 하면, 발생 응력 EPZt·d31·E는 12.5MPa보다 크게 되지 않으면 안된다. 한편, 변위 δ을 360nm이상으로 하면, 왜곡으로 0.35%이상 필요하게 된다. 이와 같은 왜곡과 발생 응력과의 관계를 PZT, Y도프PZT(Y : 3at%첨가), 및 PZN - PT의 3종류의 압전체층에 대하여 도 3에 나타냈다.Ratio d 31 of the piezoelectric constant d 31 of the piezoelectric layer 70 and the elastic compliance S 11 E The condition that / S 11 E is greater than 5 C / m 2 is that when the electric field strength E = (V / t pzT ) is 25 V / μm, the generated stress E PZt · d 31 · E must be greater than 12.5 MPa. On the other hand, when the displacement δ is 360 nm or more, 0.35% or more is required for distortion. The relationship between such distortion and generated stress is shown in FIG. 3 for three kinds of piezoelectric layers of PZT, Y-doped PZT (Y: 3 at% added), and PZN-PT.
그 결과, PZT나 Y-PZT에서는, 본 발명의 조건을 만족하여 사용할 수 있는 범위가 넓지만, PZN-PT에서는 본 발명의 조건을 만족하는 압전체층은 거의 얻어지지 않는 것을 알았다.As a result, in PZT and Y-PZT, although the range which can satisfy | fill the conditions of this invention is wide, it turned out that hardly the piezoelectric layer which satisfy | fills the conditions of this invention is obtained in PZN-PT.
(실시예 1)(Example 1)
조성(Pb1 .05Y0 .03)(Zr0 .53Ti0 .44X0 .03)으로 하고, X를 Nb, Ta, Sb, W로 변화시킨 때의 d31 / S11 E(C/m2)를 구했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.Composition (Pb 1 .05 Y 0 .03) (
(실시예 2)(Example 2)
조성(Pb1 .05Ce0 .03)(Zr0 .53Ti0 .44X0 .03)으로 하고, X를 Nb, Ta, Sb, W로 변화시킨 때의 d31 / S11 E(C/m2)를 구했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.Composition (Pb 1 .05 Ce 0 .03) (
(실시예 3)(Example 3)
조성(Pb1 .05Ce0 .03Y0 .02)(Zr0 .53Ti0 .44X0 .03)으로 하고, X를 (Nb+Ta), (Nb+Sb), (Nb+W), (Ta+Sb), (Ta+W)로 변화시킨 때의 d31 / S11 E(C/m2)를 구했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
그 결과, 첨가제를 혼입한 PZT에서는 본 발명에 적용할 수 있는 압전체층을 폭 넓게 제조할 수 있는 것을 알았다.As a result, in PZT mixed with additives, it has been found that a piezoelectric layer applicable to the present invention can be widely manufactured.
(다른 실시 형태)(Other embodiment)
이상, 본 발명의 실시 형태를 설명하였지만, 본 발명의 구성은 상술한 것으로 한정되는 것은 아니다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, the structure of this invention is not limited to what was mentioned above.
또, 이와 같은 본 발명의 액체 분사 헤드는, 잉크 카트리지 등과 연통하는 잉크 유로를 구비하는 기록 헤드 유니트의 일부를 구성하여, 액체 분사 장치에 탑재된다. 도 4는, 그 액체 분사 장치의 일례를 나타내는 개략도이다.The liquid jet head of the present invention constitutes a part of the recording head unit having an ink flow path communicating with an ink cartridge or the like, and is mounted on the liquid jet device. 4 is a schematic view showing an example of the liquid ejecting apparatus.
도 4에 나타내는 바와 같이, 액체 분사 헤드를 가지는 기록 헤드 유니트 1A 및 1B는, 잉크 공급 수단을 구성하는 카트리지 2A 및 2B 가 착탈 가능하게 설치되고, 이 기록 헤드 유니트 1A 및 1B를 탑재한 왕복대(3)는, 장치 본체(4)에 장착된 왕복대축(5)에 축 방향으로 이동이 자유롭게 설치되어 있다. 이 기록 헤드 유니트 1A 및 1B는, 예를 들면, 각각 블랙 잉크 조성물 및 칼라 잉크 조성물을 토출하는 것으로 하고 있다.As shown in Fig. 4, the
그리고, 구동 모터(6)의 구동력이 도시하지 않은 복수의 톱니바퀴 및 타이밍벨트(7)를 통하여 왕복대(3)에 전달되는 것으로, 기록 헤드 유니트 1A 및 1B를 탑재한 왕복대(3)는 왕복대축(5)에 따라서 이동된다. 한편, 장치 본체(4)에는 왕복대축(5)에 따라서 플레이튼(platen)(8)이 설치되어 있어, 도시하지 않은 급지 롤러 등에 의해 급지된 종이 등의 기록 매체인 기록 시트(S)가 플레이튼(8) 위에 반송되게 되어 있다.Then, the driving force of the
여기서, 상술한 실시 형태에 있어서는, 본 발명의 액체 분사 헤드의 일례로서 액체 분사 헤드를 설명했지만, 액체 분사 헤드의 기본적 구성은 상술한 것으로 한정되는 것은 아니다. 본 발명은, 넓게 액체 분사 헤드의 전반을 대상으로 한 것이며, 예를 들면, 프린터 등의 화상 기록 장치에 이용되는 각종의 각종 헤드, 액정 디스플레이 등의 칼라 필터의 제조에 이용되는 색재 분사 헤드, 유기 EL 디스플레이, FED(면발광 디스플레이) 등의 전극 형성에 이용되는 전극 재료 분사 헤드, 바이오 칩 제조에 이용되는 생체 유기물 분사 헤드 등에도 적용할 수 있다.Here, in the above-mentioned embodiment, although the liquid jet head was demonstrated as an example of the liquid jet head of this invention, the basic structure of a liquid jet head is not limited to what was mentioned above. The present invention broadly covers the first half of a liquid jet head, and for example, various heads used in image recording apparatuses such as printers, color material jet heads used for the manufacture of color filters such as liquid crystal displays, and organic materials. The present invention can also be applied to an electrode material injection head used for forming an electrode such as an EL display, a FED (surface light emitting display), and a bioorganic injection head used for manufacturing a biochip.
물론, 이와 같은 액체 분사 헤드를 탑재한 액체 분사 장치도 특히 한정되는 것에서는Of course, the liquid ejection apparatus equipped with such a liquid ejection head is also particularly limited.
또한, 본 발명은, 이와 같은 액체 분사 헤드에 압력 발생 수단으로서 탑재되는 액츄에이터 장치뿐만이 아니라, 모든 장치에 탑재되는 액츄에이터 장치에 적용할 수 있다. 예를 들면, 액츄에이터 장치는, 상술한 헤드 외에, 센서 등에도 적용할 수 있다.Further, the present invention can be applied not only to the actuator device mounted on the liquid jet head as a pressure generating means, but also to the actuator device mounted on all devices. For example, the actuator device can be applied to a sensor or the like in addition to the head described above.
이와 같이, 본 발명은, 작은 구동 전압으로 큰 왜곡을 얻을 수 있는 액츄에이터 장치 및 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치를 제공할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of providing an actuator device, a liquid jet head, and a liquid jet device that can obtain a large distortion with a small driving voltage.
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