KR100727345B1

KR100727345B1 - 모발로부터 오염물을 세척 및 제거하기 위한 조성물 및방법

Info

Publication number: KR100727345B1
Application number: KR1020000020747A
Authority: KR
Inventors: 메츠게리에프
Original assignee: 칼곤 코포레이션
Priority date: 1999-04-20
Filing date: 2000-04-19
Publication date: 2007-06-13
Anticipated expiration: 2020-04-19
Also published as: KR20010039579A; EP1046390A1; JP2001106616A

Abstract

본원에서는 모발로부터 다가 금속, 무기염류, 먼지, 및 피지를 제거하는데 사용하기 위한 조성물을 개시한다. 상기 조성물은 산성 pH를 가지며, 분산제 및 물과, 임의적으로 무기 환원제, 킬레이트제, 겔화제, 및 계면활성제의 혼합물을 포함한다. 또한, 본원에서는 상기 조성물을 이용하여 모발로부터 무기염류를 제거하는 방법을 개시한다.

모발, 무기염류, 다가 금속, 분산제, 환원제, 킬레이트제, 겔화제, 계면활성제, 산성 pH.

Description

모발로부터 오염물을 세척 및 제거하기 위한 조성물 및 방법{COMPOSITIONS AND METHODS FOR CLEANING AND REMOVING CONTAMINANTS FROM HAIR}

본 발명은 사람의 모발(hair)을 처리 및/또는 세척하여, 모발로부터 무기염류 석출물(mineral deposit), 먼지, 피지, 및 구리, 철, 납, 아연, 알루미늄, 카드뮴 및 경수 무기염류(water hardness minerals)의 금속(예, 칼슘, 마그네슘 등)과 같은 다가 금속 이온을 제거하기 위한 조성물 및 이를 이용하는 방법에 관한 것이다.

모발에 무기염류가 석출하는 것은 피할 수 없는 현상이다. 전세계의 많은 대중이 이용하는 우물물 및 지표수(surface water)에는 많은 종류의 무기염류가 다량으로 함유되어 있다. 또한, 급수(water supply)가 주기적으로 염소처리되는 경우에는 배관으로부터 구리 및 철 이온이 물에 침출될 수도 있다. 수영하는 사람은 수영장에 자주 넣어지는 특정한 살조제 형태의 일정한 구리원과 접촉하게 된다.

모발은 황-함유 섬유 단백질인 케라틴으로 이루어진다. 케라틴의 등전점, 특히 모발의 등전점은 일반적으로 pH 3.2 내지 4.0 이다. 따라서, 목욕, 수영 및 기타 활동동안에 모발이 일반적으로 노출되는 pH (약5.5 내지 7.5)에서, 모발은 순 음전하를 가진다. 따라서, 양전하를 가지는 다가 금속 이온이 상기 모발의 음전하 표면으로 끌어당겨 진다.

모발은 이러한 금속 이온의 강한 흡착제이다. 상기 모발에 대한 상기 금속 이온의 결합력은, 상기 다가 금속이 상기 음이온 자리에 의해 상기 섬유 단백질상에 포착되기만 하면 상기 음이온 자리로부터 용리하기 어려울 정도로 강하다. 따라서, 모발에 금속이 점차적으로 축적되며, 이러한 축적은 시간이 경과함에 따라 더욱 많아진다. 무기염류가 모발에 일반적으로 결합하는 정도는 상기 섬유 단백질의 상태, 다공성 및 길이 외에도 노출 수준 및 기간과 같은 몇몇의 인자에 따라 좌우된다.

철, 구리, 및 납과 같은 일반적인 무기 염류는 명백히 모발을 변색시킨다. 철은 붉은 빛을 띤 오랜지색으로, 구리는 녹색으로, 그리고 납은 검정색으로 변색시킨다. 칼슘 및 마그네슘은 모발을 변색시키지는 않지만, 모발에 건조하고 푸석푸석한 느낌을 준다. 이러한 무기염류는 일반적인 처리 방법을 통해서는 모발 및 피부로부터 제거될 수 없는 석출물(deposit)을 형성한다.

이러한 금속 석출물은 여러 가지의 원치않는 부작용을 초래할 수 있다. 구리, 납 및 철과 같은 금속은 모발 염색 및 파마와 같은 화학적 처리를 방해할 수 있다. 철- 및/또는 구리-오염된 모발은 모발 다공성 및 무기염류 축적이 다양하기 때문에 염료가 불균일하고 예측할 수 없게 석출될 수 있다. 무기염류 축적의 이러한 변화로 인해 염료분자의 촉매 작용 속도 및 형성 속도가 모발 줄기(hair shaft)를 따라 상이하게 됨으로써 염료가 불균일하게 축적된다. 또한, 철은 티오글리콜 산 및 그 유도체와 같은 환원제와 반응하여 원치 않는 자주빛을 나타냄으로써 파마를 방해할 수 있다. 철 및 구리 모두는 재결합 단계의 중화 용액에서 과산화물의 분해를 촉진함으로써, 티올기를 완전히 산화시키기 위한 상기 과산화물의 능력을 감소시킨다. 따라서, 파마가 약해지고 모발이 약하게 된다.

미합중국 특허 제 4,581,229호는 모발로부터 중금속을 제거하기 위하여 란탄염을 주성분으로 하는 조성물을 사용하는 것을 개시하고 있다. 그러나, 상기 특허는 모발로부터 아주 낮은 수준(200 ppm이하)의 산화제2철을 제거하는 것만을 개시하고 있다. 또한, 상기 특허는 킬레이트제에 의한 간섭 때문에 킬레이트제 및 착물화제를 란탄염과 함께 사용하는 것에 대하여는 경고하고 있다.

미합중국 특허 제 5,625,167호는 모발로부터 무기질을 제거하는 방법을 개시하고 있다. 이 특허의 방법은 킬레이트제들의 혼합물을 5 내지 8의 pH 범위에서 사용하는 것을 포함한다. 상기 킬레이트제들의 혼합물은 킬레이트제가 단독으로 사용되는 경우에는 모발로부터 금속 이온을 충분히 제거하지 못하기 때문에 추천되는 것이다.

미합중국 특허 제 5,804,172호는 무기염류의 제거를 위한 조성물을 개시하고 있다. 상기 조성물은 산성화제, 환원제, 킬레이트제 및 겔화제의 혼합물을 포함한다. 상기 조성물에 대한 논리는, EDTA에 의한 킬레이트화가 최저의 효율만을 가지기 때문에, 무기염류와 모발 단백질사이의 결합을 약화시키기 위하여 산성화제 및 환원제를 사용할 필요가 있었다는 것이다.

모발로부터 금속 오염물의 제거를 위한 효과적인 모발 세척 처리제가 없다는 것을 입증하는 과학 문헌 및 특허 문헌에도 불구하고, 시중에는 모발로부터 무기질 오염물을 제거할 수 있다고 주장하는 다수의 상업적인 제품이 있다. 일반적으로 이러한 주장은 상기 제품이 단순히 킬레이트제를 포함한다는 것에 근거하여 이루어진다. 그러나, 이러한 제품은 금속염이 모발에 다시 석출될 수 있다는 점에서 불충분한 것으로 발견되었다.

따라서, 모발용 금속-세척 처리제가 절실히 요구된다. 이러한 세척 처리제는 안전하여야하며, 다양한 이가 및 삼가 금속에 대하여 효과적이어야 한다. 또한, 이러한 세척 처리제는 섬유 단백질의 보전성(integrity) 및 구조에 악영향을 미치거나 모발의 색상을 변화시키지 않고 모발로부터 금속 및 오염물만을 제거하기에 충분히 순해야(mild) 한다.

본 발명은 모발로부터 금속, 금속 이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물로서,

(a) 유효량의 음이온성 분산제, 및

(b) 잔여량의 물을 포함하며, 2 내지 6의 pH를 가지는 수성 조성물을 제공한다.

또한, 상기 조성물은

(c) 유효량의 환원제 및

(d) 유효량의 킬레이트제를 포함할 수도 있다.

상기 조성물이 금속제거제(demetallizing agent)로 사용되는 경우에는, 상기 조성물은 상기 성분 (a), (b), (c), 및 (d)외에도, (e)유효량의 한계 스케일 억제 제(threshold scale inhibitor), 및 (f) 유효량의 겔화제를 더 포함한다.

상기 조성물이 모발의 세척을 위한 청정용 샴푸(clarifying shampoo)로 사용되는 경우에는, 상기 조성물은 상기 성분 (a), (b), (c), 및 (d)외에도, (g) 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제로 이루어진 그룹에서 선택되는 유효량의 계면활성제 성분을 더 함유한다.

본 발명에 따른 모발 처리 방법은 모발을 상기 조성물중 어느 하나와 접촉시키는 것을 포함한다.

본 발명은, 모발이 조성물과 접촉한 후 세척되고 과량의 중금속 및 경수 금속 이온을 가지지 않도록, 모발로부터 무기염류를 제거하기에 적당하고 상기 제거되는 무기염류가 모발에 다시 석출하는 것을 방지하기에 적당한 조성물을 제공한다. 뜻밖에도, 상기 조성물은 상기 금속 염의 제거 후 모발주위의 수성액에 금속 염을 분산시키고, 모발의 케라틴 섬유를 따라 존재하는 또 다른 음이온 부위에 상기 제거되는 금속 염이 다시 석출하는 것을 방지한다.

뜻밖에도, 산성 pH에서 사용되는 상기 음이온성 분산제 (a)의 혼합물은 모발 표면으로부터 과량의 다가 금속 이온, 이의 상응하는 염 및 기타 무기 염류를 효과적으로 제거할 수 있다. 이러한 효과는 (c) 환원제, 및 (d) 최소한 하나의 킬레이트제가 포함되는 경우에 증가될 수 있다.

상기 조성물이 금속제거제(demetallizing agent)로 사용되는 경우, 상기 조성물은 (e) 한계 스케일 억제제 및 (f) 겔화제를 또한 함유한다. 상기 조성물이 모발의 세척을 위한 청정용 샴푸로 사용되는 경우, 상기 조성물은, (e) 한계 스케일 억제제 및 (f) 겔화제 대신에, (g) 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제로 이루어지는 그룹에서 선택되는 계면활성제 성분을 함유한다.

이러한 조성물은 모발로부터 원치 않는 무기염류의 개선된 제거를 제공할 수 있다. 전술한 바와 같이, 모발로부터 다가 금속 이온을 제거하기 위한 종래의 어떤 조성물은 모발상에 다가 금속 이온을 다시 석출시킬 수 있다. 이것은 모발로부터 과량의 무기 염류 제거의 원하는 이점이 달성될 수 없으므로 제품을 불충분하게 만드는 것일 수 있다.

본 발명의 발명자는 케라틴 모발 섬유의 등전점 근처로 pH를 적당히 조절하면, 모발상에 유효 전하가 전혀 없거나 또는 거의 없게 된다는 것을 발견하였다. 이와 같이 모발상에서 음이온 전하가 감소함으로써, 모발 표면상에 양이온성 다가 금속 이온을 유지하는 추진력이 크게 감소한다. 적당히 강한 산을 함유하는 음이온성 분산제를 사용하면, 다가 금속 이온이 모발로부터 모발 주위의 수성액(안정화된 분산액)으로 제거될 수 있다. 다가 금속 이온의 종류에 따라, 금속의 산화 상태를 더욱 낮게 만들기 위한 환원제를 사용하면 상기 분산제의 성능이 개선될 수 있다. 또한, 모발에 경수 염 결정이 석출되는 경우, 한계 스케일 억제제를 사용하면, 모발로부터 상기 결정을 제거하여 주위의 수성액에서 안정화하는 상기 분산제의 성능이 개선될 수 있다. 또한, 상기 분산제는 모발로부터 킬레이트화 금속을 더욱 용이하게 제거하여 모발 주위의 수성액에 더욱 용이하게 현탁시킬 수 있으므로, 킬레이트가 임의적으로 사용될 수도 있다.

또한 본 발명은 모발로부터 환경 오염물, 피지 및 무기 염류를 제거하기 위한 조성물을 제공한다. 이러한 조성물은 상술한 바와 같은 성분들을 함유할 수 있다. 이러한 조성물이 청정용 샴푸로 사용되는 경우에는 환경 오염물 및 피지를 갖는 모발을 세척하기에 충분한 양의 표면 활성제를 또한 함유한다.

본 발명의 조성물은 무기염류제거용 처리제(demineralizing treatment)로 사용되는 경우 pH 2내지 6의 수용액을 포함하는 것이 바람직한데, 유효량의 상기 음이온성 분산제 (a)는 약 0.1 내지 약 10 중량%이고, 유효량의 상기 환원제 (c)는 약 0.05 내지 약 5 중량% 이고, 유효량의 상기 킬레이트제 (d)는 약 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 한계 스케일 억제제 (e)는 약 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 겔화제 (f)는 약 0.05 내지 약 5 중량% 이다. 이러한 조성물은 모발 단백질로부터 금속성 무기염류를 제거하고, 모발상에 상기 제거되는 금속성 무기염류를 다시 석출시킴이 없이 상기 제거된 무기염류를 주위의 수성액에서 안정화시킬 수 있는 것이다.

또한 본 발명은 모발을 세척할 뿐 아니라 모발 단백질로부터 금속성 무기 염류를 제거할 수 있는 샴푸 조성물을 제공한다. 이러한 청정용 샴푸 조성물은 pH 2 내지 6의 수용액으로 이루어지는 것이 바람직한데, 유효량의 상기 음이온성 분산제 (a)는 약 0.1 내지 약 10 중량%이고, 유효량의 상기 환원제 (c)는 약 0.05 내지 약 5 중량% 이고, 유효량의 상기 킬레이트제 (d)는 약 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 상기 계면활성제 성분 (g)는 약 1 내지 약 25 중량% 이다. 이러한 조성물은 모발 단백질로부터 먼지, 피지 및 금속성 무기 염류를 제거하고, 모발로부터 상기 조성물의 세척이 종료될 때 까지 모발상에 상기 제거된 금속성 무기 염류를 다시 석출시킴이 없이 상기 제거된 금속성 무기 염류를 상기 모발 주위의 수성액에서 안정화시킬 수 있는 것이다.

본 발명에 따른 수성 조성물은 산성으로서, pH는 바람직하게는 약 2 내지 6, 더 바람직하게는 약 3 내지 5 이다. 2 보다 아주 낮은 pH 에서, 상기 조성물에 장기간 노출되면 피부 자극이 발생되고 모발이 손상될 수 있다. 6보다 아주 높은 pH에서는 무기염류등을 제거하는 것이 그다지 효과적이지 못하다.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 약 0.1 내지 10 중량%, 더 바람직하게는 약 0.1 내지 약 5 중량%, 가장 바람직하게는 약 1 내지 약 3 중량%의 음이온성 분산제 (a)를 함유한다. 상기 분산제의 양이 0.1 중량% 보다 아주 낮은 경우에는, 모발 오염물을 분산시키는 효과가 최소화되는 반면에, 10 중량%보다 아주 높은 경우에는 더 추가적인 분산을 제공하지 않고 조성물의 코스트를 증가시키기만 한다.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 약 0.05 내지 약 5 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 환원제 (c)를 함유한다. 상기 환원제의 농도가 0.05 중량% 보다 아주 낮은 경우에는 환원제의 효과가 최소화되는 반면에, 5중량%보다 아주 높은 경우에는 모발 손상 및 피부 자극이 발생할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 약 0.05 내지 약 5 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5내지 약 1.5 중량%의 킬레이트제 (d)를 함유한다. 상기 킬레이트제의 농도가 0.05 중량%보다 아주 낮은 경우에는 킬레이트제의 효과가 최소화되는 반면에, 5중량%보다 아주 높은 경우에는 추가의 이점이 없이 코스트가 증가되는 한편 모발 손상 및 피부 자극이 발생할 수 있다. 상기 킬레이트제의 농도가 아주 높은 경우에는, 상기 킬레이트제가 표면 금속을 잡아당기는 것이 아니라 모발 구조의 일부분을 잡아당겨서 모발을 손상시킬 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 약 0.05 내지 약 5 중량%, 더 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 한계 스케일 억제제를 함유한다. 상기 한계 스케일 억제제의 농도가 0.05 중량%보다 아주 낮은 경우에는, 상기 한계 스케일 억제제의 효과가 최소화되는 반면에, 5중량%보다 아주 높은 경우에는 추가되는 이점이 별로 없이 코스트를 증가시키기만 한다.

본 발명에 따른 무기염류 제거용 조성물은 바람직하게는 약 0.05 내지 약 5 중량%, 더 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 겔화제를 함유한다. 상기 겔화제의 기능은 상기 조성물에 점도를 부여하여 상기 조성물을 모발상에 유지시키기 위한 것이다. 상기 겔화제의 농도가 0.05 중량%보다 아주 낮은 경우에는, 그 효과가 최소화되고 상기 조성물이 모발로부터 바로 이탈한다. 낮은 농도의 겔화제가 샴푸용으로 우수할 뿐 아니라, 세척되기 전에 모발에 고정되는 무기염류 제거용 조성물용으로도 우수하였다. 겔화제의 농도가 5중량%보다 아주 높은 경우에는, 상기 조성물은 처리될 모든 모발과 긴밀하 게 접촉할 수 없을 정도로 점착성을 가질 수 있다.

본 발명에 따른 청정용 샴푸 조성물은 약 1 내지 약 25 중량%, 바람직하게는 약 3 내지 약 20 중량%, 더 바람직하게는 약 6 내지 약 15 중량%, 가장 바람직하게는 약 8 내지 약 14 중량%의 계면활성제 성분을 함유할 수 있다. 상기 계면활성제의 농도가 1중량% 보다 아주 낮은 경우에는 그 효과가 최소화되고 상기 조성물이 모발을 잘 세척하지 못한다. 다른 한편으로, 상기 계면 활성제의 농도가 약 25 중량%보다 아주 높은 경우에는 추가되는 이점이 없이 코스트를 증가시키기만 한다.

본 발명의 조성물은 건조 형태로 제조되지만, 사용시에는 물에 부가할 필요가 있다. 따라서, 본 발명의 유용한 형태는 수성 조성물이다. 물은 상기 조성물의 대부분을 차지하는 것으로서, 특히 무기염류 제거용 조성물에서는 약 98중량% 정도로 높을 수 있다. 물은 특히 청정용 샴푸 조성물에서는 약 60중량% 정도로 낮을 수 있는데, 이는 상기 계면 활성제 성분이 다른 성분들보다 아주 더 높은 농도로 존재할 수 있기 때문이다. 따라서, 물의 양은 변화될 수 있는데, 바람직하게는 약 98 내지 약 60 중량%, 더 바람직하게는 약 97 내지 약 80 중량% 이다.

본 발명의 특히 바람직한 무기염류 제거용 조성물은 pH가 약 3 내지 5 이며 약 1% 내지 3%의 분산제, 약 0.1 내지 약 1.0중량%의 환원제, 약 0.05 내지 약 1.0 중량%의 킬레이트제, 약 0.05 내지 약 1.0 중량%의 한계 스케일 억제제 및 약 0.1 내지 약 2.0 중량%의 겔화제를 함유하는 수용액을 포함한다.

또한, 본 발명의 무기염류 제거용 조성물은 건조한 분말 형태로 공급되고, 나중에 물에 용해되어 모발에 사용될 수도 있다. 본 발명에 따른 특히 바람직한 무기염류 제거용 건조 조성물은 약 1 내지 5 %의 분산제, 약 0.5 내지 약 3%의 환원제, 약 0.5 내지 약 3%의 킬레이트제, 약 1% 내지 약 25 %의 겔화제 및 약 50% 내지 약 80%의 시트르산(pH 조절제)을 포함한다. 이러한 건조한 분말은 사용시에 물에 충분히 용해되어 모발에 사용된다.

본 발명에 따른 특히 바람직한 청정용 샴푸는 pH가 약 3 내지 약 5 이고, 약 1% 내지 약 3%의 분산제, 약 0.1 내지 약 1.0 중량%의 환원제, 약 0.05 내지 약 1.0 중량%의 킬레이트제, 약 0.05 내지 약 1.0중량%의 한계 스케일 억제제, 약 5% 내지 약 10 중량%의 음이온성 계면활성제 및 약 0.1 내지 약 5 중량%의 양쪽성 계면활성제를 함유하는 수용액을 포함한다.

분산제 (a)

본 발명의 무기염류 제거용 조성물 및 청정용 샴푸 조성물은 한 종 이상의 수용성 음이온 분산제를 함유한다. 효과적인 분산제로는 모발로부터 다가 금속 이온을 제거하고 이를 모발 주위의 수성액에 현탁시켜서 재석출을 방지할 수 있는 어떤 음이온성 물질을 들 수 있다. 특히 효과적이게 되는 특별한 부류의 화합물로는 아크릴산 및/또는 메타크릴산, 인산염 및 폴리인산염의 저분자량 단독 중합체 및 공중합체, 및 음전하를 가지도록 변형되어진 저분자량 다당류 및 셀룰로오스가 있다.

상기 아크릴산 및/또는 메타크릴산의 저분자량 단독중합체 및 공중합체는 이소프로판올, 이아황산염 또는 메르켑탄 화합물과 같은 중합 조절제의 존재하에서 그리고 과산화물 및 과산염, 예를들어 산화된 과황산염, 하이포아인산나트륨, 하이 포아인산 등과 같은 중합 촉매의 존재하에서 통상적인 유리기 중합함으로써 얻어지는 것이다. 하기의 단량체 및/또는 공단량체가 사용될 수 있다: 아크릴산, 메타크릴산, 2-아크릴아미도-2-프로판 술폰산(AMPSA), 2-메타크릴아미도-2-프로판 술폰산, 이타콘산, 크로톤산, 푸마르산, 말레산, 말레산 무수물, 또는 그렇지 않으면, 이소크로톤산, 아코니트산(시스 또는 트랜스), 메사콘산, 신나핀산, 운데실렌산, 술폰화 스티렌, 비닐 술폰에이트, 3-알릴옥시-2-히드록시 프로필 술폰산, 비닐 포스폰산, 및 설펜옥시 메탈릴 에테르(유리산 또는 부분적으로 중화된 염의 형태로 존재함), 아크롤레인, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 아크릴산 및 메타크릴산의 에스테르, 및 특히, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 디이소부틸렌, 비닐 아세테이트, 스티렌, α-메틸스티렌, 메틸 비닐 케톤, 및 히드록시 프로필 아크릴레이트.

사용될 수 있는 상기 인산염 및 폴리인산염으로는 폴리인산염 및 육메타인산나트륨 등이 있다.

음전하를 가지도록 변형되어진 상기 저분자량 다당류 및 셀룰로오스로는 카르복시메틸이눌린, 디카르복시 이눌린, 카르복시메틸 셀룰로오스, 술폰화 리그닌, 카르복시화 리그닌, 산화 리그닌, 및 이들의 염 등이 있다.

본 발명에 따른 음이온성 분산제의 특히 바람직한 예로는 아크릴산 약 60 중량% 와, Calgon Corporation으로부터 상표명 pHREEGard로 입수가능한 2-메타아크릴아미도-2-프로판 술폰산, 네덜란드의 COSUN으로부터 입수가능한 카르복시메틸이눌린 물질의 CMxxPP 라인과 같은 카르복시메틸 이눌린, COSUN으로부터 입수가능한 디카르복시이눌린 물질의 DCxxPP (여기서, xx는 0 내지 100의 정수임)와 같은 디카르복시 이눌린 및/또는 Calgon Corporation으로부터 입수가능한 육메타인산나트륨 40 중량%로 이루어지는 중합체가 있다.

환원제 (c)

환원제는 또다른 원소 또는 화합물에 전자(들)를 제공함으로써 쉽게 환원될 수 있는 물질이다. 이러한 환원제는 더욱 높은 전하의 금속 양이온이 전자를 수용하도록 함으로써 더욱 낮은 양전하를 나타낸다. 철의 경우에 있어서, 제 1 철의 형태가 제 2 철 형태보다 아주 더 안정하다. 이러한 제 1 철 형태는 쉽게 킬레이트화될 수 있고, 및/또는 분산될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 충분한 양의 환원제를 부가하면, 금속들은 철 (III) 내지 철(II)와 같은 더욱 낮은 산화 상태로 환원됨으로써, 킬레이트가 더욱 용이하게 형성될 수 있다.

본 발명의 조성물 및 방법에서 유용하게 되는 환원제는 아스코르브산 및 에리토르브산과 같은 유기 환원제이거나, 또는 아황산염(아황산수소 포함), 티오황산염, 과황산염, 및 과요오드산염, 또는 이들의 암모늄, 칼륨 또는 나트륨 염으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 무기 환원제일 수 있다. 무기 아황산염 환원제가 바람직하다. 이러한 무기 아황산염 환원제는 이아황산염 및 메타아황산염으로 이루어진 그룹에서 선택되는 것이 가장 바람직하다. 더 바람직한 무기 환원제는 아황산수소의 염인데, 이아황산나트륨 및 황산수소나트륨이 가장 바람직하다.

본 발명에 포함될 수 있는 환원제는 산화된 철, 구리, 납, 크롬 및 주석 등에 전자를 전달하여, 상기 금속의 산화 상태를 감소시킴으로써 시스테인-금속 결합 강도를 저하시키기 위한 것이다. 예를 들어, 철이 Fe +3에서 Fe+2로 환원되면 시스테인-철 결합 강도가 감소함으로써 분산제에 의한 철의 제거가 용이해 진다. 하이포아인산, 아스코르브산 및 에리토르브산이 바람직한 환원제이다.

킬레이트제 (d)

킬레이트제는 원자가 용액에서 금속과 하나의 배위 결합을 형성하는 유기 화합물이다. 본 발명에 따른 킬레이트제가 존재하면, 철과 같은 일부의 환원된 금속은 용액에서 유지됨으로써 모발의 표면상으로 다시 석출되는 것이 방지될 수 있다. 본 발명의 방법에서 이러한 킬레이트제는 금속 이온을 가용성 유기 고리 구조상에 "고착"(locking)시키는 작용을 한다. 또한 이러한 킬레이트제는 미반응 금속 및 환원된 금속을 가용성화시킨다.

본 발명의 킬레이트제는 포스폰산염 및 폴리카르복실산(폴리아미노 카르복실산 포함)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 것이 바람직하고, 에틸렌디아민 테트라아세트산 (EDTA), 디카르복시 이눌린, 말레산, 옥살산, 시트르산, 및 이들의 염으로 이루어진 그룹에서 선택되는 것이 더욱 바람직하다. 이중에서 더욱 바람직한 킬레이트제는 EDTA의 염 및 시트르산염이고 가장 바람직한 킬레이트제는 EDTA의 염 및 디카르복시 이눌린인데, 이는 이러한 킬레이트제는 본 발명에 따른 방법에서 사용되는 pH 범위에서 가장 효과적으로 사용되기 때문이다. 코스트 및 효능의 측면에서, 디카르복시 이눌린 및 EDTA의 나트륨 염이 가장 바람직하다.

금속 이온을 격리하고 분산제에 의한 금속 이온의 제거를 촉진하기 위하여 강한 킬레이트제를 부가할 수 있다. 환원제와 함께 본 발명의 산성 물질들은 킬레 이트제(들)과 분산제(들)의 혼합물이 효과적으로 사용될 수 있을 정도까지 금속-시스테인 결합을 감소시킨다.

가장 바람직한 킬레이트제로는 EDTA 및, COSUN(네덜란드 SENSUS 소재)으로부터 입수가능한 디카르복시이눌린 물질의 DCxxPP 계열과 같은 디카르복시 이눌린이 있다.

한계 스케일 억제제(e)

모발에 경수 염 결정이 석출되는 경우에는, 분산제가 모발 표면으로부터 상기 경수 염 결정을 제거하는 것을 돕기 위해 한계 스케일 억제제(threshold scale inhibitor)를 사용할 수 있다.

약 65년 전, 특정의 무기 폴리인산염은 격리 또는 킬레이트화에 필요한 농도보다 아주 작은 양으로 부가되는 때 경수 염의 침전을 방지할 수 있는 것으로 발견되었다. 본원에서 사용되는 용어 폴리인산염은 P2O5에 대한 금속 산화물의 몰비가 1:1 내지 2:1 인 인산염을 의미한다.

임의적으로, 분산제의 효과를 증가시키기 위해 어떤 수용성 인산염을 사용할 수 있다. 이러한 인산염의 예로는 오르토 인산염, 육메타인산나트륨과 같은 축합 인산염, 인산 에스테르, 저급 알킬 모노-, 디-, 및 트리-알킬 인산염과 같은 유기 인산 에스테르, 및 분자적으로 탈수된 인산염이 있다. 상기의 알킬기는 2 내지 4의 탄소수를 가지며 측쇄 또는 비측쇄일 수 있다. 이러한 알킬기는 히드록시, 아미드, 할로겐화물, 황산염, 술폰산염, 또는 이들의 결합물로 치환될 수 있다.

또한, 경수 석출물을 가용성화시키기 위해서 수용성 포스폰산염이 오랫동안 사용되어 왔다. 이러한 수용성 포스폰산염으로는 2-포스포노-1,2,4-트리카르복시부탄, 아미노 트리(메틸렌 포스폰산), 히드록시에틸리덴 디포스폰산, 포스포노숙신산, 벤젠 포스폰산, 2-아미노에틸 포스폰산, 폴리아미노 포스폰에이트 등이 있다. 그 밖의 포스폰산염이 미합중국 특허 제 3,837,803호에서 확인되며, 상기 특허의 개시 내용은 본원에 참조로 인용된다. 바람직한 포스폰산염은 2-포스포노-1,2,4-트리카르복시부탄, 아미노 트리(메틸렌 포스폰산) 및 히드록시에틸리덴 디포스폰산이다.

pH

본 발명의 조성물의 pH는 산성, 바람직하게는 2 내지 6, 더 바람직하게는 3 내지 5 이다. 이러한 산성 pH는 모발 단백질상의 음전하를 감소시킬 뿐 아니라 모발상에 석출되는 대부분의 경수 염의 용해도를 증가시킨다.

겔화제 (f)

본 발명의 조성물에 포함되는 겔화제는 상기 조성물과 모발 줄기의 긴밀한 접촉을 유지하기 위한 것이다. 본 발명의 조성물의 젤라틴질 점조도는 상기 조성물을 모발 줄기에 유지시키고, 헤어 디자이너가 상기 조성물을 적당한 압력으로 짜내서 상기 조성물을 모발 줄기내에 위치시킬 수 있도록 하기 위해 필요한 것이다. 이러한 겔화제의 적당한 예로는 크산탄 검, 카라기난, 셀룰로오스, 셀룰로오스 검, 메틸 셀룰로오스, 카보머, 카르복시메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 구아르, 히드록시 에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스, 키토산, 히드록시프로필 전분, 히드록시프로필 구아르, 시클로덱스트린, 히드록시프로필 시클로덱스트 린, 히드록시프로필 메틸 셀룰로오스, 젤라틴, 히드록시프로필 젤라틴, 단백질, 히드록시프로필 단백질, 폴리아크릴아미드, 폴리(아크릴산), 폴리아크릴산나트륨, 폴리(아크릴아미도메틸프로판 술폰산), 폴리(아크릴아크릴아미도메틸프로판 술폰산)나트륨 염, 및 아크릴아미드 공중합체가 있다. 바람직한 겔화제는 크산탄 검이다.

계면활성제 (g)

음이온성 계면활성제

본 발명의 샴푸 조성물은 세척 성능을 제공하기 위해, 성분(g)의 최소한 일부분으로서 음이온성 계면활성제를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 음이온성 계면활성제는 상기 샴푸의 pH에서 음이온성이 되는 하나 이상의 음이온성 세정 계면활성제를 포함할 수 있다.

성분 (g)의 음이온성 계면활성제는 오직 게면활성제로만 이루어질 수 있으며 약 1 중량% 내지 약 25 중량%의 수준으로 존재할 수 있다.

본 발명에서 유용하게 되는 음이온성 세정 계면활성제로는 미합중국 특허 제 5,573,709호에서 개시된 것들이 있으며, 상기 특허의 모든 개시내용은 본원에 참조로 인용된다. 이러한 계면활성제의 예로는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트가 있다. 본 발명에서 사용될 수 있는 알킬 에테르 설페이트의 특별한 예로는 라우릴 설페이트, 라우릴 에테르 설페이트, 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트, 경지(tallow) 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트, 및 경지 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트의 나트륨 및 암모늄 염이 있다. 아주 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 개개의 화합물들의 혼합물을 포함하는 것들인데, 이러한 혼합물은 약 12 내지 약 16 탄소수의 평균 알킬 사슬 길이 및 약 1 내지 약 6 몰 산화 에틸렌의 평균 에톡시화도를 갖는다.

또 다른 적당한 부류의 음이온성 세정 계면활성제는 알킬 황산염이다. 이러한 알킬 황산염의 중요한 예로는 약 8 내지 24 탄소수, 바람직하게는 약 12 내지 약 18 탄소수를 갖는 메탄계 탄화수소(이소-, 네오-, 이네소- 및 n-파라핀 포함)와 술폰화제(예, SO3, H2SO4, 발연황산)의 유기 황산 반응 생성물의 염이 있다. 이러한 염은 표백 및 가수분해를 포함한 공지의 술폰화 방법에 따라 얻어진다.

또한, 본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 합성 음이온성 세정 계면활성제의 또 다른 예로는 올레핀 술폰에이트, 베타-알킬옥시 알칸 술폰에이트, 및 이소티온산으로 에스테르화하고 수산화나트륨으로 중화한 지방산의 반응 생성물 및 숙신남산염이 있다. 상기 숙신남산의 특별한 예로는 디소듐 N-옥타데실 술포숙신남에이트, 테트라소듐 N-(1,2-디카르복시에틸)-N-옥타데실술포신남에이트, 소듐 술포숙신산의 디아밀 에스테르, 소듐 술포숙신산의 디헥실 에스테르, 소듐 술포숙신산의 디옥틸 에스테르 등이 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 바람직한 음이온성 세정 계면활성제로는 황산라우릴암모늄, 황산라우레쓰암모늄, 황산라우릴트리에틸아민, 황산라우레쓰트리에틸아민, 황산라우릴트리에탄올아민, 황산라우레쓰트리에탄올아민, 황산라우릴모노에탄올아민, 황산라우레쓰모노에탄올아민, 황산라우릴디에탄올아민, 황산라우레쓰디에탄올아민, 황산나트륨라우릴모노글리세리드, 황산라우릴나트륨, 황산라우레쓰나트륨, 황산라우릴칼륨, 황산라우레쓰칼륨, 사코신산라우릴나트륨, 사코 신산라우로일나트륨, 라우릴 사코신, 코코일 사코신, 황산코코일암모늄, 황산라우로일암모늄, 황산코코일나트륨, 황산라우로일나트륨, 황산코코일칼륨, 황산라우릴칼륨, 황산라우릴트리에탄올아민, 황산코코일모노에탄올아민, 황산라우릴모노에탄올아민, 황산트리데실벤젠나트륨, 및 황산도데실벤젠나트륨이 있다.

양쪽성 계면활성제

본 발명의 모발 조절 샴푸 조성물은 양쪽성 세정 계면활성제를 함유하는 것이 바람직하고, 양쪽성 세정 계면활성제와함께 음이온성 계면활성제를 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 이러한 양쪽성 계면활성제의 양은 약 10 중량%를 넘지 않는 것이 바람직하다. 본 발명의 조성물에서 사용될 수 있는 양쪽성 세정 계면활성제의 예로는 지방족 2차 및 3차 아민의 유도체로 광범위하게 나타내어지는 것들이 있다. 이러한 유도체에서, 상기 지방족 치환체는 약 8 내지 약 18 탄소수를 함유하고 또 카르복시기, 술폰산기, 황산기, 인산기, 또는 포스폰산기와 같은 음이온성 수용해기를 함유한다. 이러한 정의에 속하는 화합물의 예로는 3-도데실아미노프로피온산나트륨, 사코신산라우릴나트륨, N-알킬타우린(예, 미합중국 특허 제 2,656,072호의 개시내용에 따라 도데실아민을 이소티온산나트륨과 반응시켜서 제조한 것), N-고급 알킬 아스파르트산 (예, 미합중국 특허 제 2,438,091호의 개시내용에 따라 제조된 것), 및 미합중국 특허 제 2,528,378호에 기재된 바와 같이 제조되는 것으로 상표명 MIRANOLTM으로 시판되는 제품이 있다.

또한 베타인과 같은 양쪽성 이온이 양쪽성 계면활성제의 일부분으로서 포함될 수 있고 본 발명에서 유용하게 된다. 본 발명에서 유용하게 되는 베타인의 예 로는 코코디메틸 카르복시메틸 베타인, 코코아미도프로필 베타인, 코코베타인, 라우릴아미도프로필베타인, 올레일 베타인, 라우릴 디메틸 카르복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸알파카르복시에틸 베타인, 세틸 디메틸카르복시메틸 베타인, 라우릴 비스-(2-히드록시에틸)카르복시메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-히드록시프로필)카르복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카르복시프로필 베타인, 및 라우릴 비스-(2-히드록시프로필)알파-카르복시에틸 베타인과 같은 고급 알킬 베타인; 코코 디메틸 술포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 술포프로필 베타인, 라우릴 디메틸 술포에틸 베타인, 라우릴 비스-(2-히드록시에틸)술포프로필 베타인 등으로 표시될 수 있는 술포베타인; 및 아미도베타인 및 아미도술포베타인(여기서, RCONH(CH2)3 기가 상기 베타인의 질소 원자에 부착되어 있음)이 있다.

본 발명의 바람직한 샴푸는 음이온성 계면활성제와 양쪽 이온성 계면활성제 및/또는 양쪽성 계면활성제의 결합물을 함유한다. 본 발명의 특히 바람직한 샴푸는 소량 내지 약 16 중량%, 바람직하게는 약 3중량% 내지 약 16 중량%의 황산알킬, 소량 내지 약 16 중량%, 바람직하게는 약 3 중량% 내지 약 12 중량%의 에톡시화 황산알킬, 및 소량 내지 약 10 중량%, 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 8 중량%의, 양쪽성 세정 계면활성제 및 양쪽이온성 세정 계면활성제를 함유하는데, 여기서 황산알킬, 에톡시화 황산알킬 또는 이들의 혼합물은 최소한 5 중량% 이상이고, 전체 게면활성제의 수준은 약 6 중량% 내지 약 20 중량%이다.

(실시예)

실시예 1

하기 표 1의 성분들을 일정하게 교반하면서 물에 부가했다.

표 1: 무기염류 제거용 겔

성 분	중 량	중 량%
크산탄검(f) 50% 수성 하이포아인산(c) 디소듐 EDTA(d) 60% 수성 히드록시에틸리덴 디포스폰산(e) 60% 수성 피로인산염(e) 45% 수성 AA/AMPSA공중합체(a) 10% 수성 수산화나트륨(pH조절) 탈이온수(b) 최종 pH=4.1	2.50g 1.25g 0.25g 0.25g 0.25g 5.00g 5.50g 240.5 g	1.0 0.25 0.1 0.06 0.06 0.9 0.22 97.41

*AA: 아크릴산

*AMPSA: 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산

실시예 2

동일한 모발 집단으로부터 세 가지의 모발 시편을 하기와 같이 준비했다.

무기염류 제거성능

시편 1(비교)-DeMeo Brohers로부터 입수한 비처리 및 표백된 갈색 모발.

시편 2(비교)-16 시간동안 하기 표 2의 합성 경수로 적신 표백된 갈색 모발.

시편 3(본 발명)-16 시간동안 하기 표 2의 합성 경수로 적시고, 표준 헤어 드라이어로 송풍 건조하고, 120 ℉에서 60분간 실시예 1의 처리제에 적시고, 90초동안 탈이온수로 헹군 표백된 갈색 모발.

표 2

합성 경수
수도물 CaCl₂ H₂O MgSO₄ Na₂SiO₃	1,000g 0.6g 0.2g 0.2g

상기 모발 시편들을 침지시킨 후 모발상의 칼슘 및 마그네슘의 양을 원자 흡착 분광분석법에 따라 측정했다. 그 측정 결과를 다음 표 3에 평균으로 나타냈다.

표 3

	칼슘(ppm)	마그네슘(ppm)
시편 1 (비교) 시편 2 (비교) 시편 3 (본 발명)	5,820 12,801 4,218	763 1,531 399

상기 표 3의 데이터는 실시예 1의 조성물이 모발로부터 경수 석출물을 제거할 수 있음을 입증한다.

실시예 3

하기 표 4의 성분을 건조 배합하여 분말을 형성했다. 상기 분말은 사용시에 물에 용해할 수 있는 것이다.

표4 : 무기염류제거용 분말

성 분	농도
크산탄검(f) 수성하이포아인산 나트륨(c) 육메타인산나트륨(a) 디소듐 EDTA(d) 시트르산(pH조절)	20% 2% 10% 2% 76%

실시예 4

하기 표 5의 성분을 실시예 1에서와 같이 일정하게 교반하면서 물에 부가했다.

표 5: 천연-유도된 무기염류제거용 겔

성분	중 량	중 량%
크산탄검(f2) 카르복시메틸 이눌린¹(a) 디카르복시메틸 이눌린²(d) 아스코르브산(c) 시트르산(pH조절) 탈이온수(b) 최종 pH=5.3	0.50g 5.00g 0.50g 0.50g 0.50g 241.0g	1.0 2.0 0.2 0.2 0.2 96.4

¹분산제로 사용되는 치코리(chicory)로 부터 유도한

카르복시메틸화 이눌린(불포화도=2.2)

²킬레이트제로 사용되는 치코리로 부터 유도한 산화 이눌린

(20% 디카르복시화)

실시예 5

동일 집단으로부터 얻은 세 가지의 모발 시편을 실시예 2 에서와 같이 준비했다.

시편 4(비교)-표백된 갈색 모발.

시편 5(비교)-합성 경수로 적신 표백된 갈색 모발.

시편 6(본 발명)-합성 경수로 적시고, 84-95℉에서 28분간 실시예 4의 조성물로 처리하고, 30초간 탈이온수로 헹군 표백된 갈색 모발.

상기의 모발 시편들을 침적시킨 후 모발상의 칼슘 및 마그네슘의 양을 원자 흡착 분광분석법에 따라 측정하였다. 그 측정 결과를 하기 표 6에 나타냈다.

표 6

	칼슘(ppm)	마그네슘(ppm)
시편 4 시편 5 시편 6	5,610 11,559 2,267	705 1,844 402

상기 표 6의 데이터는 실시예 4의 조성물이 모발로부터 경수 석출물을 제거할 수 있음을 입증한다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 산성 pH를 가지며 분산제 및 물과, 임의적으로 무기 환원제, 킬레이트제, 겔화제, 및 계면활성제의 혼합물을 포함하는 수성 조성물을 이용하여 모발로부터, 무기염류 석출물, 먼지, 피지, 및 구리, 철, 납, 아연, 알루미늄, 카드뮴 및 경수 무기염류(water hardness minerals)의 금속(예, 칼슘, 마그네슘 등)과 같은 다가 금속 이온을 효과적으로 제거할 수 있다.

Claims

a. (1) 음이온성 분산제로서 아크릴산, 메타크릴산, 2-아크릴아미도-2-프로판 술폰산(AMPSA), 2-메타크릴아미도-2-프로판 술폰산, 이타콘산, 크로톤산, 푸마르산, 말레산, 말레산 무수물, 이소크로톤산, 아코니트산(시스 또는 트랜스), 메사콘산, 신나핀산, 운데실렌산, 안젤산, 카넬산, 히드록시아크릴산, 술폰화 스티렌, 비닐 술폰에이트, 3-알릴옥시-2-히드록시 프로필 술폰산, 비닐 포스폰산, 설펜옥시 메탈릴 에테르(유리산 또는 부분적으로 중화된 염의 형태로 존재함), 아크롤레인, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 아크릴산 및 메타크릴산의 에스테르, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 디이소부틸렌, 비닐 아세테이트, 스티렌, α-메틸스티렌, 메틸 비닐 케톤, 및 히드록시 프로필 아크릴레이트들로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 단량체로 구성되는 중합체,

(2) 카르복시메틸 이눌린, 디카르복시 이눌린, 카르복시메틸 셀룰로오스, 술폰화 리그닌, 카르복시화 리그닌, 산화 리그닌, 폴리아스파르트산, 및 이들의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 음이온성 분산제, 및

(3) 음이온성 분산제로서 육메타인산나트륨

들 중 어느 하나로서의 유효량의 음이온성 분산제; 및

b. 잔여량의 물을 포함하며,

pH가 2 내지 6인 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
제 1 항에 있어서,

c. 아황산염, 티오아황산염, 과황산염, 과요오드산염, 하이포아인산, 및 하이포아인산염으로 이루어진 무기 환원제 그룹에서 선택되는 유효량의 환원제와;

d. 디카르복시 이눌린 및 에틸렌 디아민테트라아세트산(EDTA)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 유효량의 킬레이트제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
제 2 항에 있어서,

e. 2-포스포노-1,2,4-트리카르복시부탄, 아미노 트리(메틸렌 포스폰산) 및 히드록시에틸리덴 디포스폰산으로 이루어진 그룹에서 선택되는 유효량의 한계 스케일 억제제(threshold scale inhibitor)와;

f. 크산탄 검, 카라기난, 셀룰로오스, 셀룰로오스 검, 메틸 셀룰로오스, 카보머, 카르복시메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 구아르, 히드록시 에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스, 키토산, 히드록시프로필 키토산, 히드록시프로필 전분, 히드록시프로필 구아르, 시클로덱스트린, 히드록시프로필 시클로덱스트린, 히드록시프로필 메틸 셀룰로오스, 젤라틴, 히드록시프로필 젤라틴, 단백질, 히드록시프로필 단백질, 폴리아크릴아미드, 폴리(아크릴산), 폴리아크릴산나트륨, 폴리(아크릴아미도메틸프로판 술폰산), 폴리(아크릴아크릴아미도메틸프로판 술폰산)나트륨 염, 및 아크릴아미드 공중합체로 이루어진 그룹에서 선택되는 유효량의 겔화제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
제 2 항에 있어서,

g. (1) 황산라우릴암모늄, 황산라우레쓰암모늄, 황산라우릴트리에틸아민, 황산라우레쓰트리에틸아민, 황산라우릴트리에탄올아민, 황산라우레쓰트리에탄올아민, 황산라우릴모노에탄올아민, 황산라우레쓰모노에탄올아민, 황산라우릴디에탄올아민, 황산라우레쓰디에탄올아민, 황산나트륨라우릴모노글리세리드, 황산라우릴나트륨, 황산라우레쓰나트륨, 황산라우릴칼륨, 황산라우레쓰칼륨, 사코신산라우릴나트륨, 사코신산라우로일나트륨, 라우릴 사코신, 코코일 사코신, 황산코코일암모늄, 황산라우로일암모늄, 황산코코일나트륨, 황산라우로일나트륨, 황산코코일칼륨, 황산라우릴칼륨, 황산라우릴트리에탄올아민, 황산코코일모노에탄올아민, 황산라우릴모노에탄올아민, 황산트리데실벤젠나트륨, 및 황산도데실벤젠나트륨중 한 종 이상으로 이루어진 그룹에서 선택되는 음이온성 계면활성제; 및

(2) 양쪽성 계면활성제;

로 이루어진 그룹에서 선택되는 유효량의 계면활성제 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
제 3 항에 있어서,

상기 조성물은 금속제거용 조성물이고, 유효량의 상기 음이온성 분산제 (a)는 0.1 내지 10 중량%이고, 유효량의 상기 환원제 (c)는 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 상기 킬레이트제 (d)는 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 한계 스케일 억제제 (e)는 0.05 내지 5중량% 이고, 유효량의 상기 겔화제 (f)는 0.05 내지 5 중량%인 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
제 4 항에 있어서,

상기 조성물은 청정용 샴푸이고, 유효량의 상기 음이온성 분산제 (a)는 0.1 내지 10 중량%이고, 유효량의 상기 환원제 (c)는 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 상기 킬레이트제 (d)는 0.05 내지 5 중량% 이고, 유효량의 상기 계면활성제 성분 (g)는 1 내지 25 중량%인 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
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제 4 항에 있어서,

상기 조성물 중 0.1 내지 10 중량%는 코코디메틸 카르복시메틸 베타인, 코코아미도프로필 베타인, 코코베타인, 라우릴아미도프로필베타인, 올레일 베타인, 라우릴 디메틸 카르복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸알파카르복시에틸 베타인, 세틸 디메틸카르복시메틸 베타인, 라우릴 비스-(2-히드록시에틸)카르복시메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-히드록시프로필)카르복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카르복시프로필 베타인, 라우릴 비스-(2-히드록시프로필)알파-카르복시에틸 베타인, 코코 디메틸 술포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 술포프로필 베타인, 라우릴 디메틸 술포에틸 베타인, 라우릴 비스-(2-히드록시에틸)술포프로필 베타인, 3-도데실아미노프로피온산나트륨, 3-도데실아미노프로판 술폰산나트륨 및 사코신산라우릴나트륨중 한 종 이상으로 이루어진 그룹에서 선택되는 베타인 계면활성제 또는 양쪽성 계면활성제로부터 선택되는 계면활성제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 모발로부터 금속, 금속이온, 금속 염, 먼지, 및 피지를 제거하기에 적당한 수성 조성물.
모발을,

a. (1) 음이온성 분산제로서 아크릴산, 메타크릴산, 2-아크릴아미도-2-프로판 술폰산(AMPSA), 2-메타크릴아미도-2-프로판 술폰산, 이타콘산, 크로톤산, 푸마르산, 말레산, 말레산 무수물, 이소크로톤산, 아코니트산(시스 또는 트랜스), 메사콘산, 신나핀산, 운데실렌산, 안젤산, 카넬산, 히드록시아크릴산, 술폰화 스티렌, 비닐 술폰에이트, 3-알릴옥시-2-히드록시 프로필 술폰산, 비닐 포스폰산, 설펜옥시 메탈릴 에테르(유리산 또는 부분적으로 중화된 염의 형태로 존재함), 아크롤레인, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 아크릴산 및 메타크릴산의 에스테르, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 디이소부틸렌, 비닐 아세테이트, 스티렌, α-메틸스티렌, 메틸 비닐 케톤, 및 히드록시 프로필 아크릴레이트들로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 단량체로 구성되는 중합체,

(2) 카르복시메틸 이눌린, 디카르복시 이눌린, 카르복시메틸 셀룰로오스, 술폰화 리그닌, 카르복시화 리그닌, 산화 리그닌, 폴리아스파르트산, 및 이들의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 성분, 및

(3) 음이온성 분산제로서 육메타인산나트륨

들 중 어느 하나로서의 0.1 내지 10 중량%의 음이온성 분산제,

b. 아황산염, 티오아황산염, 과황산염, 과요오드산염, 하이포아인산, 및 하이포아인산염으로 이루어진 무기 환원제 그룹에서 선택되는 0.05 내지 5 중량%의 환원제,

c. 디카르복시 이눌린 및 에틸렌 디아민테트라아세트산(EDTA)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 0.05 내지 5 중량%의 킬레이트제,

d. 2-포스포노-1,2,4-트리카르복시부탄, 아미노 트리(메틸렌 포스폰산) 및 히드록시에틸리덴 디포스폰산으로 이루어진 그룹에서 선택되는 0.05 내지 5 중량%의 한계 스케일 억제제,

e. 크산탄 검, 카라기난, 셀룰로오스, 셀룰로오스 검, 메틸 셀룰로오스, 카보머, 카르복시메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 구아르, 히드록시 에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스, 키토산, 히드록시프로필 키토산, 히드록시프로필 전분, 히드록시프로필 구아르, 시클로덱스트린, 히드록시프로필 시클로덱스트린, 히드록시프로필 메틸 셀룰로오스, 젤라틴, 히드록시프로필 젤라틴, 단백질, 히드록시프로필 단백질, 폴리아크릴아미드, 폴리(아크릴산), 폴리아크릴산나트륨, 폴리(아크릴아미도메틸프로판 술폰산), 폴리(아크릴아크릴아미도메틸프로판 술폰산)나트륨 염, 및 아크릴아미드 공중합체로 이루어진 그룹에서 선택되는 0.05 내지 5 중량%의 겔화제, 및

f. 잔량으로서 물을

포함하며, pH가 2 내지 6인 무기염류 제거용 수성 조성물과 일시적으로 접촉시킨 후, 상기 모발을 씻어내는 것을 포함함을 특징으로 하는 모발로부터 무기 염류를 제거하기 위한 방법.
제 16 항에 있어서,

상기 무기염류 제거용 조성물은 (a) 0.1 내지 5 중량%의 음이온성 분산제와, (c) 0.1 내지 2 중량%의 환원제와, (d) 0.1 내지 2 중량%의 킬레이트제와, (e) 0.1 내지 2 중량%의 한계 스케일 억제제와, (f) 0.1 내지 2 중량%의 겔화제와, (b) 잔여량의 물을 함유하는 것을 특징으로 하는 모발로부터 무기 염류를 제거하기 위한 방법.
제 17 항에 있어서,

상기 무기염류 제거용 조성물은 (a) 1 내지 3 중량%의 음이온성 분산제와, (c) 0.5 내지 1.5 중량%의 환원제와, (d) 0.5 내지 1.5 중량%의 킬레이트제와, (e) 0.5 내지 1.5 중량%의 한계 스케일 억제제와, (f) 0.5 내지 1.5 중량%의 겔화제와, (b) 잔여량의 물을 함유하는 것을 특징으로 하는 모발로부터 무기 염류를 제거하기 위한 방법.
모발을, pH가 2 내지 6인 제 16 항의 청정용 샴푸 조성물과 일시적으로 접촉시킨 후 상기 모발을 헹구는 것을 포함함을 특징으로 하는 모발 세척 방법.
제 19 항에 있어서,

상기 청정용 샴푸 조성물은 (a) 1 내지 3 중량%의 음이온성 분산제와, (c) 0.5 내지 1.5 중량%의 환원제와, (d) 0.5 내지 1.5 중량%의 킬레이트제와, (g) 6 내지 15 중량%의 계면활성제 성분과, (b) 잔여량의 물을 함유하는 것을 특징으로 하는 모발 세척 방법.