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KR100529814B1 - 3-(치환된페닐)-5-(티에닐또는푸릴)-1,2,4-트리아졸살충제 - Google Patents

3-(치환된페닐)-5-(티에닐또는푸릴)-1,2,4-트리아졸살충제 Download PDF

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KR100529814B1
KR100529814B1 KR1019980710582A KR19980710582A KR100529814B1 KR 100529814 B1 KR100529814 B1 KR 100529814B1 KR 1019980710582 A KR1019980710582 A KR 1019980710582A KR 19980710582 A KR19980710582 A KR 19980710582A KR 100529814 B1 KR100529814 B1 KR 100529814B1
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프랜시스 이. 티스델
브리스 도날드 에이취. 드
로버트 지. 서
피터 엘. 존슨
게리 디. 스톡데일
메리 엘. 애쉬
크리스토퍼 티. 해밀턴
크리스토퍼 제이. 헤이튼
조지 더블류. 존슨
모리스 치 훙 얍
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다우 아그로사이언시즈 엘엘씨
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Abstract

본 발명의 3-(치환된 페닐)-5-(티에닐 또는 푸릴)-1,2,4-트리아졸 화합물은 곤충 살충제 및 진드기 구충제로서 유용하다. 이 화합물을 제조하기 위한 신규한 합성 방법 및 중간체와, 이 화합물을 함유하는 살충제 조성물, 및 이 화합물을 사용하여 곤충과 진드기를 방제하는 방법도 제공된다.

Description

3-(치환된 페닐)-5-(티에닐 또는 푸릴)-1,2,4-트리아졸 살충제
본 발명은 살충제 및 진드기 구충제로서 유용한 신규 화합물, 당해 화합물을 제조하기 위한 신규한 합성 방법 및 중간체, 당해 화합물을 함유하는 살충제 조성물, 및 당해 화합물을 사용하여 곤충과 진드기를 방제하는 방법을 제공한다.
신규한 살충제 및 진드기 구충제에 대한 절박한 요구가 있다. 곤충과 진드기는 현재 사용되는 살충제와 진드기 구충제에 대한 내성이 커지고 있다. 400여종 이상의 절지동물은 하나 이상의 살충제에 대해 내성을 가지고 있다. DDT, 카바메이트 및 오가노포스페이트와 같은 오래된 살충제들 중의 일부에 대한 내성의 증가는 잘 공지되어 있다. 그러나, 새로운 피레트로이드 살충제 및 진드기 구충제의 일부에 대한 내성은 이미 전개되고 있다. 그러므로, 새로운 살충제 및 진드기 구충제, 특히 신규하거나 특수한 방식의 작용을 갖는 화합물이 요구된다.
다수의 3,5-디페닐-1H-1,2,4-트리아졸 유도체는 진드기 구충 활성을 갖는 것으로 문헌에 기재되어 있다[참조: 미국 특허 제5,482,951호, 일본 특허 제8092224호, 유럽 특허 제572142호, 일본 특허 제08283261호]. 그러나, 본 출원인이 알기로는 이들 화합물 중에 시판된 제품은 없다. 니트로푸라닐 트리아졸은 엘.이. 벤자민(L.E. Benjamin) 및 에이취.알. 스나이더(H.R. Snyder)에 의해, 항미생물 물질로서 기재되어 있고(J. Heterocyclic Chem. 1976, 13, 1115), 다른 문헌에서는 항균 물질로서 기재되어 있다(J. Med. Chem. 1973, 16(4), 312-319; J. Med. Chem. 1974, 17(7), 756-758). 본 발명은 곤충과 진드기에 대항한 상업적 수준의 활성을 갖는 신규한 화합물을 제공한다.
발명의 요약
본 발명은 특히 곤충과 진드기의 방제에 유용한 신규한 치환된 티에닐 및 푸라닐 트리아졸 유도체를 제공한다.
더욱 특히, 본 발명은 하기 화학식 1의 신규한 살충 활성 화합물 또는 식물학적으로 허용되는 이의 산 부가염을 제공한다.
[화학식 1]
위의 화학식 1에서,
Ar은 치환된 페닐이고,
Y는 O 또는 S이며,
R2는 저급 알킬, 할로알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐 또는 알콕시알킬이고,
R3은 H, 할로, 저급 알킬, (C7-C21) 직쇄 또는 측쇄 알킬, 하이드록시, 저급 알콕시, 할로알킬, 할로알콕시, 알콕시알킬, 알콕시알콕시, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 할로알케닐, CN, NO2, COR6, CO2R6, CON(R6)2, (C3-C6)사이클로알킬, S(O)mR6, -OSO2R6, SCN, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -(CH2)qOR6, -(CH2)qSR6, -(CH2)qNR6R6, -O(CH2)qR6, -S(CH2)qR6, -NR6(CH2)qR6, , ,, , , , , , -Si(R7)3, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, 티에닐, 치환된 티에닐, 피리미딜, 치환된 피리미딜, 피라졸릴 또는 치환된 피라졸릴로부터 선택되고,
R4 및 R5는 독립적으로 H, 할로, 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로알킬, 할로알콕시, CN, CO2R6, CON(R6)2 또는 S(O)m알킬이거나,
R4 및 R5가 인접한 탄소원자에 부착되는 경우, 이들은 함께 1 또는 2개의 할로, 저급 알킬, 저급 알콕시 또는 할로알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성할 수 있으며,
R6은 H, 저급 알킬, 할로알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 페닐 또는 치환된 페닐이고,
R7은 저급 알킬이며,
m은 0, 1 또는 2이고,
n은 1 또는 2이며,
p는 2 내지 6의 정수이고,
q는 0 또는 1이다.
바람직한 군의 화합물은 다음 화학식 1A의 화합물 또는 식물학적으로 허용되는 이의 산 부가염이다.
[화학식 1A]
위의 화학식 1A에서,
R1 및 R1'는 독립적으로 H, Cl, F, 메틸, 할로메틸, 메톡시 또는 할로메톡시이고,
Y는 O 또는 S이며,
R2는 저급 알킬, 할로알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐 또는 알콕시알킬이고,
R3은 H, 할로, 저급 알킬, (C7-C21) 직쇄 알킬, 하이드록시, 저급 알콕시, 할로알킬, 할로알콕시, 알콕시알킬, 알콕시알콕시, 저급 알케닐, 할로알케닐, CN, NO2, CO2R6, CON(R6)2, (C3-C6) 사이클로알킬, S(O)mR6, SCN, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -CH2OR6, -CH2SR6, -CH2NR6R6, -OCH2R6, -SCH2R6, -NR6CH2R6, , , , , , , , 또는 로부터 선택되며,
R4 및 R5는 독립적으로 H, 할로, 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로알킬, 할로알콕시, CN, CO2R6, CON(R6)2 또는 S(O)m 알킬이거나,
R4 및 R5는 1 또는 2개의 할로, 저급 알킬, 저급 알콕시 또는 할로알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성하며,
R6은 H, 저급 알킬, 할로알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 페닐 또는 치환된 페닐이고,
m은 0, 1 또는 2이며,
n은 1 또는 2이고,
p는 2 내지 6의 정수이다.
화학식 1A의 바람직한 화합물은,
a) R1'가 F인 화학식 1A의 화합물 부류(class);
b) Y가 황인 화학식 1A의 화합물 부류;
c) R1 및 R1'가 독립적으로 Cl 또는 F인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 및 b)의 화합물 부류;
d) R1 및 R1'가 둘 다 F인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 c)의 화합물 부류;
e) R1 및 R1'가 둘 다 Cl인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 c)의 화합물 부류;
f) R1은 Cl이고 R1'가 F인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 c)의 화합물 부류;
g) R2가 메틸인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 f) 중의 하나의 화합물 부류;
h) R3, R4 및 R5가 독립적으로 H, 할로, 메틸 및 메톡시로부터 선택된 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 g) 중의 하나의 화합물 부류;
i) R3, R4 및 R5가 독립적으로 H 또는 할로인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 g) 중의 하나의 화합물 부류;
j) R3, R4 및 R5가 독립적으로 H, Cl 또는 Br인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 g) 중의 하나의 화합물 부류;
k) R3, R4 및 R5가 각각 할로인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 g) 중의 하나의 화합물 부류; 및
l) R3, R4 및 R5가 각각 클로로인 화학식 1A의 화합물, 특히 상기 a) 내지 g) 중의 하나의 화합물 부류를 포함한다.
특히 바람직한 부류의 화합물은 다음 화학식 1B의 화합물을 포함한다.
[화학식 1B]
위의 화학식 1B에서,
R1 및 R1'는 독립적으로 F 또는 Cl이고,
R2는 저급 알킬, 가장 바람직한 것은 메틸이며,
R3, R4 및 R5는 독립적으로 H, Cl 또는 Br이다.
본 발명은 또한 화학식 1의 화합물을 제조하기 위한 신규한 방법 및 중간체와 신규한 조성물 및 사용방법을 제공한다. 이러한 것들은 이하에 상세하게 설명할 것이다.
본 명세서 전반에 걸쳐서, 별다른 언급이 없는 한, 모든 온도는 섭씨온도(℃)이고, 모든 백분율(%)은 중량%이다.
용어 "저급 알킬"은 (C1-C6) 직쇄 탄화수소 또는 (C3-C6) 측쇄 또는 사이클릭 탄화수소 그룹을 의미한다.
용어 "저급 알케닐" 및 "저급 알키닐"은 각각 하나 이상의 이중결합 또는 삼중결합을 함유하는 (C2-C6) 직쇄 탄화수소 또는 (C3-C6) 측쇄 탄화수소 그룹을 의미한다.
용어 "저급 알콕시"는 -O-저급 알킬을 의미한다.
용어 "할로메틸" 및 "할로알킬"은 하나 이상의 할로겐 원자로 치환된 메틸 및 저급 알킬 그룹을 의미한다.
용어 "할로메톡시" 및 "할로알콕시"는 하나 이상의 할로겐 원자로 치환된 메톡시 및 저급 알콕시 그룹을 의미한다.
용어 "알콕시알킬"은 저급 알콕시 그룹으로 치환된 저급 알킬 그룹을 의미한다.
용어 "치환된 나프틸", "치환된 티에닐", "치환된 피리미딜", "치환된 피라졸릴", "치환된 피리딜" 및 "치환된 이소옥사졸릴"은 독립적으로 할로, 할로(C1-C4) 알킬, CN, NO2, (C1-C4)알킬, (C3-C4) 측쇄 알킬, 페닐, (C1-C4)알콕시 또는 할로(C1-C4)알콕시로부터 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환된 환 시스템을 의미한다.
용어 "치환된 페닐"은 독립적으로 할로, (C1-C10)알킬, 측쇄 (C3-C6)알킬, 할로(C1-C7)알킬, 하이드록시(C1-C7)알킬, (C1-C7)알콕시, 할로(C1-C7)알콕시, 페녹시, 페닐, NO2, OH, CN, (C1-C4)알카노일, 벤조일, (C1-C4)알카노일옥시, (C1-C4)알콕시카보닐, 페녹시카보닐 또는 벤조일옥시로부터 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환된 페닐 그룹을 의미한다.
용어 "치환된 벤젠설포닐"은 p-클로로벤젠설포닐 및 p-톨루엔설포닐을 의미한다.
별다른 지시가 없는 한, 한 그룹이 확인된 부류로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환될 수 있다고 언급되는 경우, 이러한 치환체는 독립적으로 당해 부류로부터 선택될 수 있다.
합성
화학식 1의 화합물은 미국 특허 제 5,380,944호 및 제 5,284,860호에 기재된 방법(제조방법 1, 2 및 3)으로 제조할 수 있다. 이하에 또 다른 방법을 설명하려고 한다.
예를들면, R1'가 F인 화학식 1의 화합물은 하기 반응식 I에 따라 제조할 수 있다.
[반응식 I]
상기 반응식 I에서,
Ar, R2, R3, R4, R5 및 Y는 화학식 1에서 정의한 바와 같고,
W는 통상의 아미노 보호 그룹이다.
통상의 아미노 보호 그룹의 예로는 카보벤질옥시 그룹, 3급-알콕시카보닐 그룹, 아미드, 포스피닐 및 포스포릴 그룹, 및 설페닐 및 설포닐 그룹을 포함하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 반응식 I에 도시된 바와 같이, N-보호된 아미드라존(2)을 촉매로서 산 또는 염기 존재하에 화학식 3의 화합물과 반응시킨다. 화학식 2 및 3의 중간체는 잘 공지된 절차를 적용하여 얻을 수 있다.
화학식 3의 중간체의 예는 3,4,5-트리클로로티오펜-2-카복실산 클로라이드이다. 이와 같은 카복실산은, 테트라클로로티오펜을 n-부틸리튬으로 처리한 다음 이산화탄소로 급냉시킴으로써 수득할 수 있다[참조: J. Organometal. 1968, 13, 419-430]. 하기 실시예 2에 설명한 바와 같이, 종래의 방법으로 카복실산을 산 클로라이드로 전환시킨다.
반응식 II는 보호된 벤즈아미드라존 출발 물질(2)의 제조를 설명한다.
[반응식 II]
Z가 O 또는 S이고, R10이 저급 알킬인 벤즈이미데이트 유도체(4)를, Ar, W 및 R2가 반응식 I의 경우에서 정의한 바와 같은 하이드라진 유도체(5)와 반응시킨다.
화학식 5의 중간체의 예는 N-메틸-N-t-부틸카복시하이드라진이다. 부위 특이적 1-알킬[1,2,4]트리아졸을 만들 때 이를 사용하는 경우가 문헌에 기재되어 있다[참조: Chem. Ber. 1982, 115, 2807-2818]. 벤즈이미드 화합물의 제조방법은 널리 공지되어 있다. 그 예가 문헌[Synth. Commun. 1983, 13, 753]에 기재되어 있다.
본 발명의 또 다른 관점은 반응식 III에 도시된 바와 같이, R1 및 R1'가 F인 화학식 1A의 화합물을 제조하는 신규한 방법이다.
[반응식 III]
위의 반응식 III에서,
R11은 저급 알킬, 바람직하게는 메틸이며,
R12는 저급 알킬, 바람직하게는 메틸이고,
Het는 화학식 9의 푸릴 또는 티에틸 그룹(여기서, Y, R3, R4 및 R5는 화학식 1에서 정의한 바와 같다)이다.
반응식 III에 도시된 방법은 또한 Het가 다양한 다른 헤테로사이클릭 그룹 중의 하나, 예를 들면 피리딜 또는 피라졸릴인 화합물의 제조에 사용할 수도 있다.
본 발명의 또 다른 관점에서, 본 발명은 상기 정의된 바와 같은 화학식 6 및 7의 신규한 중간체를 제공한다.
반응식 III의 단계 a에 도시된 바와 같이, 2,6-디플루오로벤조니트릴을 실온에서 피리딘 중의 트리에틸아민, 황화나트륨 수화물 및 염산과 반응시켜 2,6-디플루오로벤젠티오아미드를 얻는다.
반응식 III의 단계 b에서, 2,6-디플루오로벤젠티오아미드를 아세톤 중에서 저급 알킬 요오다이드, 예를 들면 요오도메탄과 반응시켜 화학식 6의 S-(저급 알킬)티오-2,6-디플루오로벤즈이미디늄 요오다이드를 얻는다. 아세톤이 바람직한 용매이지만, DMF 또는 THF와 같은 다른 극성 비양성자성 용매를 사용할 수 있다.
반응식 III의 단계 c에서, S-(저급 알킬)티오-2,6-디플루오로벤즈이미디늄 요오다이드를 N-t-부톡시카보닐-N-(저급 알킬)하이드라진과 반응시켜서 화학식 7의 아미드라존을 얻는다. 반응은 0℃ 내지 사용한 용매의 비점의 온도에서 메탄올이나 에탄올, 바람직하게는 메탄올 중에서 수행한다.
반응식 III의 단계 d에서, 화학식 7의 아미드라존을, 0℃ 내지 사용한 용매의 비점의 온도에서 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로포름, 디클로로메탄 또는 1,2-디클로로에탄과 같은 비반응성 유기 용매 중에서 티오펜 또는 푸란 산 클로라이드와 반응시킨다.
반응식 III의 공정은 이미 공개된 공정보다 온화한 조건을 사용하므로, 열에 민감한 헤테로고리를 사용할 수 있다. 또한, 더 높은 수율 수득한다.
반응식 III의 단계 a 내지 c에 대한 상세한 설명은 실시예 1에 기재한다. 단계 d에 대한 상세한 설명은 실시예 2 내지 4에 기재한다.
실시예 1
다음 단계는 하기 화학식 2a의 아미드라존의 제조를 설명한다.
[화학식 2a]
A. 2,6-디플루오로벤젠티오아미드
기계식 교반기, 드라이아이스 응축기, 적하 깔때기 및 표백제를 넣은 트랩으로 난 배출구가 장치된 3ℓ들이 3구 환저 플라스크에, 피리딘 550㎖, 2,6-디플루오로벤조니트릴(208g, 1.50몰), 트리에틸아민(202g, 279㎖, 2.0몰) 및 황화나트륨 수화물(521g, 2.17몰; 플라스크에 맞도록 충분히 작은 조각으로 분쇄한 것)을 넣었다. 교반시킨 혼합물의 온도를 약 5℃로 저하시키고, 슬러리에 진한 염산(143g, 288㎖, 3.99몰)을 적가하였다. 발열을 주목하고, 염산의 첨가속도는 반응 혼합물의 온도가 전체 첨가시간 75분 동안 25℃를 초과하지 않도록 한다. 냉각욕을 제거하고, 슬러리를 실온까지 가온시키고, 밤새 교반하였다. 혼합물을 물(2ℓ)에 붓고, 에테르(3×500㎖)로 추출하였다. 에테르 층을 묽은 황산, 물, 염수 순으로 세척하고, MgSO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 조 생성물 232g을 수득하였다. 쿠겔뢰르(kugelrohr) 증류에 의해 생성물로부터 출발물질을 제거하여, 2,6-디플루오로벤젠티오아미드 197g(76%)을 수득한다. 이 물질을 추가 정제 없이 사용하였다.
B. S-메틸티오-2,6-디플루오로벤즈이미디늄 요오다이드
기계식 교반기와 적하 깔때기가 장치된 3ℓ들이 3구 플라스크에, 아세톤 1150㎖와 2,6-디플루오로벤젠티오아미드 197g(1.14몰)을 첨가하였다. 교반시킨 용액의 온도를 약 5℃로 저하시키고, 요오도메탄(161g, 70.6㎖, 1.14몰)을 적가하였다. 얼음욕을 제거하고, 슬러리를 밤새 교반하였다. 생성되는 황색 고상물을 여과에 의해 제거하고 에테르로 세척하여 223g을 수득하였다. 진공 중에서 용매를 제거함으로써 여액으로부터 추가의 물질을 수득하였다. 잔류물에 에테르를 첨가하고 생성되는 고상물을 여과에 의해 제거하여 추가의 물질 57g을 수득하였다. 한데 모은 고상물은 모두 280g(77.9% 수율)의 S-메틸티오-2,6-디플루오로-벤즈이미디늄 요오다이드이었다. 융점 168-169℃.
1H NMR (DMSO-d6) δ 7.7(m, 1H), 7.4(m, 2H), 2.7(s, 3H).
C. N-3급-부톡시카보닐-N-메틸하이드라진
기계식 교반기와 적하 깔때기가 장치된 1ℓ들이 3구 환저 플라스크에, 메틸 하이드라진(42.2g, 0.916몰) 및 THF(100㎖)를 넣었다. 혼합물의 온도를 5℃로 저하시키고, THF(150㎖)에 용해시킨 디-3급-부틸 디카보네이트(100g, 0.458몰)의 용액을 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 실온에서 밤새 교반하였다. 고무상 침전물로부터 액체를 따라내고, 진공 중에서 용매를 제거하여 맑은 액체 약 70g을 수득하였다. 고무상 침전물을 메틸렌 클로라이드와 물 사이에 분배시킨다. 메틸렌 클로라이드를 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하였다. 생성되는 잔류물을 앞에서 증발시켜 얻은 것과 한데 모아 약 20mmHg(비점 77-78℃)에서 증류시켜, N-3급-부톡시카보닐-N-메틸하이드라진(40.2g, 60% 수율)을 수득하였다.
1H NMR (CDCl3) δ 4.1(s, b, 2H), 3.05(s, 3H), 1.5(s, 9H).
D. 화학식 2a의 아미드라존
기계식 교반기, 적하 깔때기 및 표백제를 넣은 트랩으로 난 배출구가 장치된 1ℓ들이 환저 플라스크에, S-메틸-2,6-디플루오로벤즈이미늄 요오다이드(63.8g, 0.202몰)과 메탄올(180㎖)을 첨가하였다. 교반시킨 용액에 N-3급-부톡시카보닐-N-메틸하이드라진(29.6g, 0.202몰)을 적가하였다. 용액을 밤새 교반하고, 진공 중에서 메탄올을 제거하였다. 잔류물을 에테르로 연마하고, 여과에 의해 고상물을 제거하여, 화학식 2a의 아미드라존(66.3g, 79.0% 수율)을 수득하였다. 융점 172-173℃(분해).
1H NMR (DMSO-d6) δ 12.3(s, b, 1H), 10.4(d, b, 2H), 7.9(m, 1H), 7.4(m, 2H), 3.1(s, 3H), 1.5(s, 9H).
실시예 2
3-(2,6-디플루오로페닐)-5-(3-n-헥실티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 35)
무수 1,2-디클로로에탄(25㎖) 중의 3-n-헥실-2-티오펜 카복실산(0.5g, 2.4밀리몰)의 혼합물에, 염화티오닐(2.0㎖)와 디메틸포름아미드 한방울을 첨가하였다. 혼합물을 4시간 동안 환류시켰다. 냉각시킨 후, 반응 혼합물을 진공 중에서 증발시키고, 잔류물을 무수 톨루엔(25㎖)과 화학식 2a의 아미드라존(실시예 1) 1.24g(3.0밀리몰)과 혼합하였다. 혼합물을 밤새 환류시키고, 냉각시킨 다음, 염수와 에테르 사이에 분배하였다. 유기 상을 MgSO4로 건조시키고, 용매를 증발시키고, 잔류물을, 용출액으로서 에틸 아세테이트/헥산(5:95 내지 20:80)을 사용하여 실리카 겔에서 크로마토그래피시켰다. 생성물 분획을 한데 모으고 증발시켜서 오일로서 표제 화합물(0.66g, 76% 수율)을 수득하였다.
1H NMR δ 7.26-7.46(m, 2H), 6.97-7.06(m, 2H), 3.97(s, 3H), 2.71(m, 2H), 1.23(m, 6H), 0.84(m, 3H),
C19H21F2N3S에 대한 원소분석:
계산치; C 63.14, H 5.86, N 11.63, S 8.87;
실측치; C 62.90, H 5.79, N 11.70, S 8.77.
실시예 3
3-(2,6-디플루오로페닐)-5-(4-p-클로로벤젠설포닐-3-메틸티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 12)
톨루엔 100㎖ 중의 화합물 2a의 아미드라존(실시예 1)(0.9g, 2.2밀리몰)과 티오펜 산 클로라이드인, 4-(p-클로로벤젠설포닐)-3-메틸티오펜-2-카보닐 클로라이드(0.75g, 2.2밀리몰)의 용액에, 교반하면서 p-톨루엔설폰산 1수화물 1당량(0.4g, 2.2밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물을 딘-스타크(Dean-Stark) 트랩을 사용하여 밤새 환류시켜서 물을 제거하였다. 용액을 냉각시키고 용매를 진공 중에서 제거하였다. 잔류물을 디클로로메탄 100㎖에 용해시키고, 2N NaOH로 세척한 다음, 물로 세척하였다. 유기 상을 MgSO4로 건조시키고, 용매를 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트/헥산으로부터 재결정화시켜서 회백색 결정으로서 생성물 0.6g을 얻었다. 융점: 183-185℃. 수율: 59.4%.
1H NMR δ 8.4(s, 1H), 7.8(d, 2H), 7.4(d, 2H), 7.3(m, 1H), 7.0(m, 2H), 3.98(s, 3H), 2.25(s, 3H).
C20H14F2ClN3O2S2에 대한 원소분석:
계산치; C 51.55, H 3.01, N 9.02;
실측치; C 51.76, H 3.26, N 8.92.
실시예 4
3-(2,6-디플루오로페닐)-5-(5-p-클로로페닐)푸란-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 13)
톨루엔 100㎖ 중의 화합물 2a의 아미드라존(실시예 1)(1.0g, 2.4밀리몰)과 5-(p-클로로페닐)-푸란-2-카보닐 클로라이드(0.61g, 2.4밀리몰)의 용액에, 교반하면서 p-톨루엔설폰산 1수화물 1당량(0.43g, 2.4밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물을 딘-스타크 트랩을 사용하여 밤새 환류시켜서 물을 제거하였다. 용액을 냉각시키고 용매를 진공 중에서 제거하였다. 잔류물을 디클로로메탄 100㎖에 용해시키고, 2N NaOH로 세척한 다음, 물로 세척하였다. 유기 상을 MgSO4로 건조시키고, 용매를 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트/헥산으로부터 재결정화시켜서 회백색 결정으로서 생성물 0.6g을 얻었다. 융점: 171-173℃. 수율 44.9%.
C19H12F2ClN3O에 대한 원소분석:
계산치; C 61.37, H 3.23, N 11.30;
실측치; C 61.34, H 3.19, N 11.06.
본 발명은 또한 다음 반응식 IV에 도시된 바와 같은 화학식 1A의 화합물을 제조하는 신규한 방법을 제공하였다.
[반응식 IV]
위의 반응식 IV에서,
R1, R1', Y, R3, R4 및 R5는 화학식 1에서 정의한 바와 같고,
R14는 메탄설포닐, 벤젠설포닐 또는 치환된 벤젠설포닐이다.
단계 a에서, 2,6-치환된 벤조일클로라이드(10)를, THF 중의 트리에틸아민 및 화학식 11의 하이드라지드(여기서, R14는 메탄설포닐, 벤젠설포닐 또는 치환된 벤젠설포닐, 즉 p-Cl 또는 p-CH3 벤젠설포닐이다)와 반응시켜서, 화학식 12의 치환된 벤즈하이드라존을 얻는다.
단계 b에서, 화학식 12의 치환된 벤즈하이드라존을, N,N-디메틸포름아미드 중의 수소화나트륨과 먼저 반응시킨 다음, 요오도메탄과 반응시켜서, 화학식 13의 치환된 하이드라진을 생성하였다.
단계 c에서, 화학식 13의 치환된 하이드라진을, 예를들면 PCl5을 사용하여 염소화시켜, 화학식 14의 치환된 벤질하이드라조노일 클로라이드를 생성한다. 이 반응은 디클로로에탄과 같은 비반응성 유기 용매 중에서 수행한다.
단계 d에서, 화학식 14의 치환된 벤질하이드라조노일 클로라이드는 o-디클로로벤젠과 같은 용매 중에서 화학식 15의 시아노티오펜 또는 시아노푸란과 염화알루미늄의 혼합물과 반응시켜, 화학식 16의 3-(2,6-치환된 페닐)-5-(치환된 티에닐)-1-(메틸[1,2,4]트리아졸을 생성한다.
반응식 IV의 단계 a 내지 c의 상세한 설명은 실시예 5에 주어진다. 단계 d의 상세한 설명은 실시예 6 내지 실시예 9, 11, 13 및 15에 주어진다.
실시예 5
다음 단계는 화학식 14a의 벤즈하이드라조노일 클로라이드의 제조를 보여준다.
[화학식 14a]
A. 1-벤젠설포닐-2-(2,6-디클로로)벤즈하이드라존
응축기, 기계식 교반기 및 온도계가 장치된 1ℓ들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, THF(500㎖)와 벤젠설포닐 하이드라지드(41.1g, 0.238몰) 및 트리에틸아민(24.1g, 33.2㎖, 0.238몰)을 첨가하였다. 생성되는 용액을 -5℃로 냉각시키고, 2,6-디클로로벤조일 클로라이드(50.0g, 34.2㎖, 0.238몰)을 55분 동안 적가하고, 이때, 온도는 0℃ 이상 상승되지 않도록 한다. 반응 혼합물을 1시간 동안 교반한 다음, 냉각욕을 제거하고, 반응 혼합물을, TLC 및 HPLC에 의해 모니터링하면서 실온에서 21시간 교반하였다. 진공 중에서 용매의 대부분을 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌(1000㎖)과 물(2×200㎖) 사이에 분배시켰다. 유기 층을 포화 염수(250㎖)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 백색 고상물을 얻었다. 백색 고상물을 에테르 중에서 슬러리화하고 여과에 의해 제거하고 진공 중에서 밤새 건조시켜 1-벤젠설포닐-2-(2,6-디클로로벤즈)하이드라존 74.3g(90.5% 수율)을 얻었다. 융점; 180-181℃.
TIC 질량분석 345/347/349.
1H NMR (CDCl3) δ 8.05(m, 2H), 7.9(m, 1H), 7.5-7.7(m, 4H), 7.3(m, 3H).
B. 1-(2,6-디클로로)벤조일-2-메틸-2-벤젠설포닐 하이드라진
기계식 교반기와 온도계 및 적하 깔때기가 장치된 1ℓ들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 수소화나트륨의 현탁액(60% 분산액 8.49g, 0.212몰)을 헥산(3부)으로 세척하고, 최종 세척으로부터 헥산의 대부분을 흡입에 의해 제거하였다. N,N-디메틸포름아미드(200㎖)를 첨가하고, 슬러리의 온도를 -5℃로 저하시켰다. N,N-디메틸포름아미드 300㎖ 중의 N-벤젠설포닐-2,6-디클로로-벤즈하이드라존(73.3g, 0.212몰)의 용액을, 120분에 걸쳐 적가하고, 이때 온도는 3℃ 이상 상승되지 않도록 하고 수소 방출 속도는 처리하기 쉬운 속도로 유지시킨다. 첨가가 진행됨에 따라, 혼합물이 레몬색으로 변하고 진해졌지만, 첨가를 완료했을 때에는 혼합물이 맑고 쉽게 교반된다. 생성되는 혼합물을 0℃에서 1시간 동안 교반하고, 냉각욕을 제거하고, 추가로 1시간동안 교반하였다(온도를 15℃로 상승시킴). 그 다음에 혼합물을 -5℃로 냉각시키고, 온도가 0℃ 이상 상승되지 않도록 하는 속도로 요오도메탄(30.0g, 13.2㎖)을 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 반응 혼합물을 실온으로 가온시키고 2시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 염수(300㎖)로 희석시키고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기 층을 포화 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 N,N-디메틸포름아미드로 오염된 조 생성물을 수득하고, 진공 펌프를 통해 제거하였다. 조 혼합물을 헥산/에틸 아세테이트에서 결정화시키고, 여과에 의해 고상물을 제거하고, 진공 중에서 건조시켜 40.2g을 얻었다. 여액으로부터 용매를 제거하여 1-(2,6-디클로로벤조일)-2-메틸-2-벤젠설포닐 하이드라진 총량(80.9% 수율)에 대한 추가의 21.4g을 얻었다. 융점; 177-178℃.
1H NMR (CDCl3)δ 8.0(m, 2H), 7.4-7.8(m, 4H), 7.2(m, 3H), 3.4 및 3.05(3H에 대하여 합해진 2개의 s).
C. N-(벤젠설포닐)-N-메틸-(2,6-디클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드
자석 교반기와 응축기가 장치된 1ℓ들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, N-벤젠설포닐-N-메틸-2,6-디클로로벤조일 하이드라진(35.9g, 0.10몰), 1,2-디클로로에탄(500㎖) 및 오염화인(31.2g, 0.15몰)을 첨가하였다. 혼합물의 온도를 환류온도까지 상승시키고, 30분 동안 교반시켰다. 진공 중에서 용매를 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌에 용해시키고 물로 조심스럽게 희석하였다. 유기 상을 물로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 오일을 얻고, 에틸 아세테이트/헥산 혼합물로 연마하는 경우 고상화시켜서 백색 결정 고상물로서 N-벤젠설포닐-N-메틸-2,6-디클로로벤즈하이드라조노일 클로라이드를 36.1g(95.7% 수율) 수득하였다. 융점; 103-104℃.
1H NMR (CDCl3) δ 7.9(m, 2H), 7.4-7.7(m, 3H), 7.2-7.4(m, 3H), 3.1(s, 3H).
동일한 절차를 사용하여 N-벤젠설포닐-N-메틸-2-클로로-6-플루오로벤즈하이드라조노일 클로라이드를 얻었다.
실시예 6
3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 2)
o-디클로로벤젠 18ml 중의 N-메틸-N-벤젠설포닐-2-클로로-6-플루오로벤즈하이드라조노일 클로라이드(47.5g, 0.313몰)와 2-시아노-3,4,5-트리클로로티오펜(26.5g, 0.125몰)의 혼합물에, 염화알루미늄(11.1g, 0.083몰)을 첨가하였다. 혼합물을 140 내지 150℃로 유지시킨 예열한 오일 욕에 넣었다. 혼합물을 뜨거운 오일 욕에 40분 동안 유지한 다음, 욕을 제거하고, 서서히 냉각시키면서 2시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 2N 수산화나트륨(알루미늄염을 용해시키기에 충분한 300ml)에 붓고, 염화메틸렌으로 추출하였다(250ml씩 3회). 유기 상을 한데 모으고, 염수로 세척하고, MgSO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 조 생성물을 얻었다. 잔류물을 실리카 겔(150g)에 놓은 다음, 용출액으로서 에틸 아세테이트/헥산을 사용하여 크로마토그래피시켜서 표제 화합물 39.7g(55.3% 수율)을 얻었다. GC 분석에 의한 순도; 99.4%. 융점 129-130℃.
1H NMR (CDCl3) δ 7.3(m, 2H), 7.1(m, 1H), 4.0(s, 3H).
C13H6Cl4FN3S에 대한 원소분석:
계산치; C 39.32, H 1.52, N 10.58.
실측치; C 39.08, H 1.30, N 10.34.
실시예 7
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 45)
기계식 교반기와 응축기가 장치된 500ml들이 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, o-디클로로벤젠(150ml), 2-시아노-3,4,5-트리클로로티오펜(23.6g, 111밀리몰) 및 염화알루미늄(14.8g, 111밀리몰)을 첨가하였다. 교반시킨 반응 혼합물을 145 내지 150℃의 오일 욕으로 넣었다. 혼합물의 내부 온도가 133℃에 도달했을 때, N-(벤젠설포닐)-N-메틸-(2,6-디클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(35.0g, 92.6밀리몰)을 5g씩 40분에 걸쳐서 첨가하였다. 온도가 141℃로 상승한다. 반응 혼합물을 HPLC와 GC에 의해 모니터링하면서 1시간 40분 동안 N-(벤젠설포닐)-N-메틸-(2,6-디클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드를 첨가하기 시작할 때부터 교반시켰다. 반응기로부터 오일 욕을 제거하고, 혼합물을 약 90℃로 냉각시키고, 교반시킨 2N 질산은(350ml)에 첨가하였다. 혼합물을 5분 동안 교반하고, pH가 염기가 되었는지 확인하고, 염화메틸렌(800ml)로 희석하였다. 염화메틸렌층을 물(250ml)로 세척하고, 염수(250ml)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하고 쿠겔뢰르 증류에 의해 o-디클로로벤젠과 벤젠설포닐 클로라이드를 제거하였다. 에틸 아세테이트로부터 담황색 고상물을 재결정화시켜 표제 화합물을 31.3g(81.7% 수율) 수득하였다. 융점 146-147℃.
1H NMR (CDCl3) δ 7.2-7.5(m, 3H), 4.0(s, 3H).
실시예 8
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(티엔-3-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 48)
N-(벤젠설포닐)-N-메틸-(2,6-디클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(1.13g, 3밀리몰), 3-시아노티오펜(0.327g, 6밀리몰) 및 염화알루미늄(0.40g, 3밀리몰)을 혼합하고, 135 내지 140℃에서 약 14시간 동안 가열한 다음, 실온에서 약 48시간 동안 교반하였다. 그 다음에 혼합물을 디클로로메탄으로 희석하고, 물로 세척하고, 염수로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조시켰다. 크로마토그래피시켜서 맑은 오일로서 표제 화합물 290mg을 생성하였다.
1H NMR (CDCl3)δ 7.27-7.85(m, 5H), 4.15(s, 3H).
실시예 9
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 50)
N-(벤젠설포닐)-N-메틸-2,6-디클로로벤즈하이드라조노일 클로라이드(0.42g, 1.1밀리몰), 3-시아노티오펜(0.24g, 2.2밀리몰) 및 염화알루미늄(0.147g, 1.1밀리몰)을 혼합하고, 138℃에서 약 8시간 동안 가열하였다. 그 다음에 혼합물을 1M NaOH의 빙욕에 붓고, 1시간 동안 교반하고, 디클로로메탄으로 추출하고, 염수로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조시키고, 오일 230mg으로 농축시켰다. 크로마토그래피(SiO2, 10% EtOAc-Hex)를 수행하여 백색 고상물로서 생성물(100mg)을 얻었다. 융점; 161-163℃.
본 발명은 또한 반응식 V에 도시된 바와 같은 화학식 16의 화합물을 제조하는 방법을 제공한다:
[반응식 V]
위의 반응식 V에서,
R15는 메틸, 페닐, p-클로로페닐 또는 p-톨릴이고,
R14는 메탄설포닐, 벤젠설포닐 또는 치환된 벤젠설포닐이며,
R1, R1', R3, R4 및 R5는 화학식 1에 대해 정의한 바와 같다.
반응식 V의 단계 a에서, 화학식 17의 설포닐 클로라이드는 트리에틸아민의 존재하에 THF와 같은 비반응성 유기 용매 중에서 메틸 하이드라진과 반응시킨다. 반응은 실온에서 행할 수 있다. 통상 4시간 동안 완료된다.
반응식 V의 단계 b에서, 화학식 19의 설포닐 하이드라진은 화학식 10의 2,6-치환된 벤조일 클로라이드와 반응하여 화학식 13의 중간체를 얻는다.
반응식 V의 단계 c 및 d는 반응식 IV의 단계 c 및 d와 같다.
실시예 10
이 실시예는 화학식 14b의 벤즈하이드라조노일 클로라이드의 제조를 보여준다:
[화학식 14b]
A. 2-메틸-2-(4-메틸페닐)설포닐 하이드라진
기계식 교반기와 온도계 및 적하 깔때기가 장치된 100ml들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, THF(25㎖)와 메틸하이드라진(2.53g, 2.92ml, 55밀리몰) 및 트리에틸아민(4.35g, 5.99㎖, 55밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물의 온도를 약 5℃로 저하시키고, THF 25ml의 중에 용해된 4-메틸벤젠설포닐 클로라이드(9.5g, 50밀리몰)를, 온도가 10℃ 이상 오르지 않도록 하는 속도로 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물에 에테르(100ml)를 첨가하고, 생성되는 슬러리를 물(50ml)로 세척하고, 염수(50ml)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 표제 화합물 9.5g(수율; 95%)을 수득하였다.
1H NMR (CDCl3) δ 7.7(d, 2H), 7.4(d, 2H), 3.6(s, b, 2H), 2.8(s, 3H), 2.4(s, 3H).
B. 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-(4-메틸페닐)설포닐 하이드라진
기계식 교반기와 온도계 및 응축기가 장치된 100ml들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 2-메틸-2-[(4-메틸페닐)설포닐]하이드라진(9.5g, 47.4밀리몰), 피리딘(3.75g, 3.83ml, 47.4밀리몰), 4-디메틸아미노피리딘(0.30g, 2.4밀리몰) 및 아세토니트릴(50ml)을 첨가하였다. 생성되는 혼합물을 10℃로 냉각시키고, 온도가 10℃ 이상 오르지 않도록 하는 속도로 2-플루오로-6-클로로벤조일 클로라이드(8.99g, 45.2밀리몰)를 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물로부터 진공 중에서 용매를 제거하여 회백색 고상물을 얻고, 고상물을 염화메틸렌으로 희석하고, 1N HCl(20ml)로 추출하고, 염화나트륨 포화용액(20ml)으로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 회백색 고상물을 얻었다. 이 물질을 에틸 아세테이트로 재결정화시켜서 결정 고상물로서 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-(4-메틸페닐)설포닐]하이드라진 5.6g(수율; 34.7%)을 수득하였다. 융점: 135-136℃.
1H NMR(CDCl3) δ 7.6-7.8(m, 3H), 7.0-7.4(m, 5H), 3.4 및 3.0(3H에 대하여 합해진 s), 2.4 및 2.45(3H에 대하여 합해진 s).
13C(CDCl3) 160.2, 144.7, 133.6, 132.7, 132.6, 132.1, 131.9, 130.2, 129.6, 129.0, 128.7, 125.7, 114.6, 114.3, 37.7, 21.7.
C15H14ClFN2O3S에 대한 원소분석:
계산치: C 50.49, H 3.59, N 7.85.
실측치: C 50.55, H 3.89, N 7.81.
C. N-(4-메틸벤젠설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드
자기 교반기와 응축기가 장치된 250ml들이 1구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-[(4-메틸페닐)설포닐]하이드라진(5.0g, 14.0밀리몰), 에틸렌 디클로라이드(50ml) 및 오염화인(3.2g, 21.6밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물을 환류 온도까지 가열하고, 그 온도에서 약 30분 동안 유지시켰다. 50/50 에틸 아세테이트/헥산(출발물질 Rf=0.55; 생성물 Rf=0.70)을 사용하여 TLC에 의해 반응의 진행을 모니터링하였다. 진공 중에서 용매를 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌(100ml)에 용해시키고, 물로 조심스럽게 희석하였다. 유기 상을 물로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 황색 오일을 얻고, 냉각시켜서 고체화시켰다. 고상물을 헥산/에틸 아세테이트(70/30)에서 슬러리화하고, 여과에 의해서 제거하여, N-(4-메틸벤젠설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드를 4.5g(수율: 87%) 수득하였다. 융점; 98-99℃.
1H NMR (CDCl3) δ 7.8(d, 2H), 7.2-7.5(m, 4H), 7.1(m, H), 3.1(s, 3H), 2.5(s, 3H).
13C(CDCl3) 161.6, 158.5, 144.6, 140.7, 133.6, 132.1, 131.9, 131.1, 129.5, 125.6, 125.5, 114.7, 114.4, 38.1, 21.6.
C15H13Cl2FN2O3S에 대한 원소분석:
계산치: C 48.01, H 3.49, N 7.47.
실측치; C 48.10, H 3.49, N 7.47.
실시예 11
3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 2)
자기 교반기와 온도계가 장치된 50ml들이 목이 있는 플라스크에, 질소 분위기 하에서, N-(4-메틸벤젠설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(실시예 10)(1.4g, 3.73밀리몰), 2-시아노-3,4,5-트리클로로티오펜(0.83g, 3.92밀리몰), 염화알루미늄(0.53g, 4.0밀리몰) 및 o-디클로로벤젠(10ml)를 첨가하였다. 반응 혼합물이 들어있는 플라스크를 120℃로 유지된 예열된 오일 욕에 담갔다. 8분 이내에 반응 혼합물의 온도를 109℃로 상승시키고, 추가로 30분 동안 계속 가열하였다. 오일 욕으로부터 플라스크를 꺼내고, 교반시킨 반응 혼합물이 약 80℃에 도달하면 빨리 교반하면서 용액(얼음 10ml을 갖는 수산화나트륨 10g)에 붓고, 그 다음에, 추출을 위해 염화메틸렌(50ml)에 첨가하였다. 유기 상을 물(25ml)로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하였다. 쿠겔뢰르 증류에 의해 잔류물로부터 o-디클로로벤젠을 제거하여, 잔류물을 얻고, 에테르 20ml에 용해시키고, 실온에서 활성탄과 함께 교반하고, 여과하고, 진공 중에서 여액으로부터 용매를 제거하였다. 고상물을 에틸 아세테이트로부터 재결정화시켜서, 결정 고상물로서 3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸 0.9g(수율: 60.8%)을 수득하였다.
HPLC 분석에 의한 순도; 97% 초과.
1H NMR (CDCl3) δ 7.2-7.4(m, 2H), 7.0-7.4(m, 1H), 4.0(s, 3H).
실시예 12
이 실시예는 화학식 14c의 벤즈하이드라조노일 클로라이드의 제조를 보여준다:
[화학식 14c]
A. 2-메틸-2-[(4-클로로페닐)설포닐] 하이드라진
기계식 교반기와 온도계 및 적하 깔때기가 장치된 100ml들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, THF(25㎖)와 메틸하이드라진(2.53g, 2.92ml, 55밀리몰) 및 트리에틸아민(4.35g, 43밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물의 온도를 약 5℃로 저하시키고, THF 25ml 중에 용해시킨 조악한 4-클로로페닐설포닐 클로라이드(10.5g, 50밀리몰, 4-클로로페닐 설폰산 함유)를, 온도가 10℃ 이상 오르지 않도록 하는 속도로 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 실온에서 밤새 가온 교반하였다. 반응 혼합물에 에테르(100ml)를 첨가하고, 생성되는 슬러리를 물(50ml)로 세척하고, 염수(50ml)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 2-메틸-2-[(4-클로로페닐)설포닐] 하이드라진 5.4g(수율: 49%)을 수득하였다.
1H NMR (CDCl3) δ 7.8(d, 2H), 7.6(d, 2H), 3.6(s, b, 2H), 2.9(s, 3H).
B. 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-[(4-클로로페닐)설포닐]하이드라진
자기 교반기와 응축기가 장치된 100ml들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 2-메틸-2-[(4-클로로페닐)설포닐]하이드라진(5.4g, 24.5밀리몰), 피리딘(1.93g, 1.98ml, 24.5밀리몰), 4-디메틸아미노피리딘(0.15g, 1.2밀리몰) 및 아세토니트릴(50ml)을 첨가하였다. 혼합물을 10℃로 냉각시키고, 온도가 10℃ 이상 오르지 않도록 하는 속도로, 2-플루오로-6-클로로벤조일 클로라이드(4.65g, 23.4밀리몰)를 적가하였다. 혼합물을 실온에서 밤새 교반하였다. 반응 혼합물로부터 진공 중에서 용매를 제거하여 회백색 고상물을 얻고, 고상물을 염화메틸렌으로 희석하고, 1N HCl(20ml)로 추출하고, 포화 중탄산나트륨 용액(20ml)으로 추출하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여, 황색 오일로서 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-[(4-클로로페닐)설포닐]하이드라진을 수득하고, 이것을 추가 정제없이 사용하였다.
C. N-(4-클로로페닐설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드
자기 교반기와 응축기가 장치된 250ml들이 1구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-(4-클로로페닐설포닐)하이드라진(7.3g, 16.8밀리몰, HPLC에 의한 순도; 87%), 에틸렌 디클로라이드(50ml) 및 오염화인(6.03g, 28.9밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물을 환류온도까지 가열하고, 그 온도에서 약 30분 동안 유지하였다. 진공 중에서 용매를 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌(100ml)에 용해시키고, 물로 조심스럽게 희석하였다. 유기 상을 물로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 황색 오일을 얻고, 뜨거운 에틸 아세테이트에 용해시키고, 헥산을 첨가하여 운점에 도달하고, 스크래칭으로 냉각시키면 고상물이 형성되었다. 고상물을 헥산/에틸 아세테이트(70/30)로부터 재결정화시키고, 시딩하여 N-(4-클로로페닐설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(2.7g, 수율: 40.9%)을 수득하였다. 융점; 100-101℃.
1H NMR (CDCl3) δ 7.8(d, 2H), 7.2-7.5(m, 4H), 7.1(m, H), 3.1(s, 3H), 2.5(s, 3H).
C14H10Cl3FN2O2S에 대한 원소분석:
계산치; C 42.50, H 2.55, N 7.08.
실측치; C 42.56, H 2.47, N 6.99.
실시예 13
3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 2)
자기 교반기와 온도계가 장치된 50ml들이 목이 있는 플라스크에, 질소 분위기 하에서, N-(4-클로로페닐설포닐)-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(제조 방법 4)(2.7g, 6.8밀리몰), 2-시아노-3,4,5-트리클로로티오펜(1.44g, 6.8밀리몰), 염화알루미늄(1.18g, 8.9밀리몰) 및 o-디클로로벤젠(20ml)를 첨가하였다. 반응 혼합물이 들어있는 플라스크를 120℃로 유지된 예열된 오일 욕에 담갔다. 8분 이내에 반응 혼합물의 온도를 109℃로 상승시키고, 추가로 50분 동안 계속 가열하였다. 오일 욕으로부터 플라스크를 꺼내고, 교반시킨 반응 혼합물이 약 80℃에 도달하면 빨리 교반하면서 얼음 20ml을 갖는 수산화나트륨 20g의 용액에 붓고, 그 다음에, 추출을 위해 염화메틸렌(100ml)에 첨가하였다. 유기 상을 물로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하였다. 쿠겔뢰르 증류에 의해 잔류물로부터 o-디클로로벤젠을 제거하여, 잔류물을 얻고, 에테르 50ml에 용해시키고, 실온에서 활성탄과 함께 교반하고, 여과하고 진공 중에서 여액으로부터 용매를 제거하였다. 생성되는 회백색 고상물을 재결정화시켜서, 결정 고상물로서 3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸 1.8g(수율: 26.6%)을 수득하였다.
HPLC 분석에 의한 순도; 98% 초과.
실시예 14
이 실시예는 화학식 14d의 벤즈하이드라조노일 클로라이드의 제법을 보여준다:
[화학식 14d]
A. 2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진
기계식 교반기와 온도계 및 적하 깔때기가 장치된 250ml들이 3구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, THF(100㎖)와 메틸하이드라진(5.07g, 5.85ml, 110밀리몰) 및 트리에틸아민(11.1g, 15.3ml, 110밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물의 온도를 약 5℃로 저하시키고, 메탄설포닐 클로라이드(11.4g, 7.73ml, 100밀리몰)를, 온도가 10℃ 이상 오르지 않도록 하는 속도로 적가하였다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 실온에서 가온하고 밤새 교반하였다. 반응 혼합물에 에테르(100ml)를 첨가하고, 물(50ml)로 세척하고, 염수(50ml)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진 2.4g(수율: 19.3%)을 수득하였다.
1H NMR(CDCl3) δ 3.8(s, b, 2H), 2.95(s, 3H), 2.9(s, 3H).
B. 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진
50ml에, 질소 분위기 하에서, 2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진(2.4g, 19.3밀리몰), 피리딘(1.5g, 1.55ml, 19.3밀리몰) 및 아세토니트릴(50ml)을 첨가하였다. 혼합물을 약 0℃로 냉각시키고, 2-클로로-6-플루오로벤조일 클로라이드(3.77g, 19.3밀리몰)를 적가하였다. 혼합물을 실온로 가온시키고, 50/50 에틸 아세테이트/헥산(2-클로로-6-플루오로벤조일 클로라이드의 Rf=0.7; 생성물의 Rf=0.44)을 사용하여 TLC에 의해 모니터링하면서 약 3시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물로부터 진공 중에서 용매를 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌에 용해시키고, 1N 염산(10ml)을 사용하여 추출하고, 포화 중탄산나트륨으로 추출하고, MgSO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여, 반고상물 4.6g을 얻었다. 이 물질을 에틸 아세테이트로부터 재결화시켜서 결정 고상물로서 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진(1.8g, 수율; 33.3%)을 수득하였다. 융점; 135-136℃.
1H NMR(CDCl3) δ 7.8(s, b, 1H), 7.2-7.4(m, 3H), 3.4(s, 3H), 3.15(s, 3H).
C9H10ClFN2O3S에 대한 원소분석:
계산치; C 38.51, H 3.59, N 9.98.
실측치; C 38.28, H 3.41, N 9.48.
C. N-메탄설포닐-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드
자기 교반기와 응축기가 장치된 250ml들이 1구 환저 플라스크에, 질소 분위기 하에서, 1-(2-플루오로-6-클로로벤조일)-2-메틸-2-메탄설포닐 하이드라진(1.6g, 7.12밀리몰, 에틸렌 디클로라이드(25ml) 및 오염화인(2.2g, 10.7밀리몰)을 첨가하였다. 혼합물을 환류온도까지 가열하고, 그 온도에서 약 30분 동안 유지하였다. 50/50 에틸 아세테이트/헥산(출발물질의 Rf=0.44; 생성물의 Rf=0.60)을 사용하여 TLC에 의해 반응의 진행을 모니터하였다. 진공 중에서 용매를 제거하고, 잔류물을 염화메틸렌(50ml)에 용해시키고, 물로 조심스럽게 희석하였다. 유기 상을 물로 세척하고(50ml씩 2회), 염수(50ml)로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하여 무색 오일을 얻고, 냉각시켜서 고체화시켰다. 고상물을 헥산/에틸 아세테이트(70/30)로부터 재결정화시켜서, N-메탄설포닐-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(1.2g, 수율: 56.6%)을 수득하였다. 융점; 83-85℃.
HPLC 분석에 의한 순도 :93%.
1H NMR(CDCl3) δ 7.8(d, 2H), 7.0-7.4(m, 3H), 3.45 및 3.35(3H에 부가되는 s), 3.15 및 3.05(3H에 부가되는 s).
실시예 15
3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 2)
자기 교반기와 온도계가 장치된 50ml들이 목이 있는 플라스크에, 질소 분위기 하에서, N-메탄설포닐-N-메틸-(2-플루오로-6-클로로벤즈)하이드라조노일 클로라이드(실시예 14)(1.0g, 3.3밀리몰), 2-시아노-3,4,5-트리클로로티오펜(0.78g, 3.7밀리몰), 염화알루미늄(0.49g, 3.7밀리몰) 및 o-디클로로벤젠(10ml)를 첨가하였다. 반응 혼합물이 들어있는 플라스크를 120℃로 유지된 예열된 오일 욕에 담갔다. 10분 이내에 반응 혼합물의 온도를 111℃로 상승시키고, 추가로 90분 동안 계속 가열하였다. GC 분석 결과, 반응의 전환율이 약 66%이었다. 오일 욕으로부터 플라스크를 꺼냈다. 교반시킨 반응 혼합물이 약 90℃에 도달하면 빨리 교반하면서 얼음10ml을 갖는 수산화나트륨 10g의 용액에 붓고, 그 다음에, 추출을 위해 염화메틸렌(50ml)에 첨가하였다. 유기 상을 물(25ml)로 세척하고, 염수로 세척하고, Na2SO4로 건조시키고, 진공 중에서 용매를 제거하였다. 쿠겔뢰르 증류에 의해 잔류물로부터 o-디클로로벤젠을 제거하여, 잔류물을 얻고, 에테르 20ml에 용해시키고, 실온에서 활성탄과 함께 교반하고, 여과하고 진공 중에서 여액으로부터 용매를 제거하여, 3,4,5-트리클로로-2-시아노티오펜으로 오염된 3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(0.4g)을 수득하였다.
본 발명의 화합물은 실시예 16 및 17에 설명된 바와 같이, 본 발명의 다른 화합물을 제공하도록 일반적인 방법을 사용하여 변화시킬 수 있다.
실시예 16
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(5-브로모-3,4-디클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 46)
THF 중의 3-(2,6-디클로로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(325mg, 1.0밀리몰)의 용액에 -78℃에서 n-부틸리튬(2.5밀리몰)을 천천히 첨가하고, 혼합물을 1시간 동안 교반하였다. 브롬(3.0밀리몰)을 첨가하고, 반응물을 2시간 동안 교반한 다음, 물로 희석하고, 에테르로 추출하고, 염수로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조시켰다. 생성물을 진한 오일 620mg으로 농축시켰다. 이것을 크로마토그래피(SiO2, 10% EtOAc-Hex)시켜서 분홍색 고상물로서 표제 화합물 79mg을 수득하였다. 융점: 197-199℃.
실시예 17
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(5-브로모티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(화합물 47)
3-(2,6-디클로로페닐)-5-(티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸(75mg, 0.242밀리몰)과 브롬(39mg, 0.242밀리몰)을 빙초산(3ml)에 혼합하고, 혼합물을 실온에서 밤새 교반한 다음, 5시간 동안 95℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 중탄산나트륨 포화용액에 붓고, 에테르로 추출하고, 황산마그네슘으로 건조시킨다. 이것을 크로마토그래피(SiO2, 25% Hex-CH2Cl2)시켜서 백색 왁스상 고상물로서 표제 화합물을 수득하였다. 융점: 130-132℃.
화학식 1의 화합물의 식물학적으로 허용되는 산 부가염도 본 발명의 범위 내에 포함된다. 예를들면, 사불화붕소, 염화수소, 브롬화수소, 요오드화수소, 황산수소 또는 유기산 염을 사용할 수 있다.
다음 표 1에서 확인된 화합물을 제조하고 시험하였다.
[표 1a]
[표 1b]
[표 1c]
[표 1d]
[표 1e]
[표 1f]
[표 1g]
[표 1h]
[표 1i]
[표 1j]
[표 1k]
[표 1l]
[표 1m]
[표 1n]
[표 1o]
[표 1p]
[표 1q]
CA+는 50ppm에서 목화 진딧물에 대한 활성을 나타내고,
TSSM‡는 100ppm에서 두점박이 거미 진드기에 대한 활성을 나타내며,
WF*는 800ppm에서 가루이(white fly)에 대한 활성을 나타낸다. 이 시험 절차는 아래에 설명한다.
각 경우에 등급은 다음과 같이 분류한다.
살충제 및 진드기 구충제 이용
본 발명의 화합물은 또한 곤충, 진드기 및 진딧물의 방제에 유용하다. 그러므로, 본 발명은 또한, 곤충 또는 진드기 억제량의 화학식 1의 화합물을 곤충 또는 진드기의 서식처에 적용함을 포함하여, 곤충, 진드기 또는 진딧물을 억제하는 방법에 관한 것이다.
본 화합물은 곤충과 진드기의 군집을 감소시키는데 유용하며, 곤충 또는 진드기를 불활성화하기에 유효한 양의 화학식 1의 화합물을, 곤충 또는 진드기의 서식처에 적용함을 포함하여, 곤충 또는 진드기 군집을 억제하는 방법에서 유용하다. 곤충 또는 진드기의 "서식처"란 용어는 본원에서 이들 주변의 공기, 이들이 먹는 음식 또는 이들이 접촉하는 물체를 포함한, 곤충이나 진드기가 살거나 이들의 알이 존재하는 환경을 의미하는 것으로 사용된다. 예를 들면, 식물 섭취 곤충 또는 진드기는 곤충이나 진드기가 먹는 식물의 부분, 특히 잎에 본 활성 화합물을 적용함으로써 방제할 수 있다. 이러한 활성 화합물은 직물, 종이, 저장된 곡식 또는 종자에 적용되어 이들 물질을 보호하는데 유용할 수도 있는 것으로 사료된다. 용어 "곤충이나 진드기의 억제"는 살아있는 곤충이나 진드기의 수를 감소시키거나, 곤충이나 진드기의 생존 가능한 알의 수를 감소시키는 것을 의미한다. 화합물에 의해 수행된 감소의 범위는 물론 화합물의 적용량, 사용된 특수한 화합물 및 목적하는 곤충이나 진드기 종에 따라 다르다. 적어도 불활성화시키는 양을 사용해야 한다. 용어 "곤충을 불활성화시키는 양" 및 "진드기를 불활성화시키는 양"은, 처리된 곤충이나 진드기 집단을 측정할 수 있을 만큼 감소시키기에 충분한 양을 설명하기 위해서 사용된 것이다. 일반적으로 약 1 내지 약 1000ppm 범위의 활성 화합물이 사용된다.
바람직한 구체화에서, 본 발명은 진딧물 또는 진드기를 불활성화시키기에 유효한 양의 화학식 1의 화합물을 식물에 적용함을 포함하여, 진드기 또는 진딧물을 억제하는 방법에 관한 것이다.
목화 진딧물( Aphis gossypii )에 대한 살충 시험
아세톤:에탄올(90:10) 용매 2ml에 각 시험 화합물 2mg을 용해시켜서 분무 용액을 준비하였다. 이 화학 용액 2ml를, 0.05% 트윈(Tween) 20 계면활성제를 함유하는 물 38ml에 첨가하여 50ppm 분무 용액을 만들었다.
호박 떡잎을, 분무 용액의 적용 전에, 16 내지 20시간 동안 목화 진딧물로 감염시켰다(모든 잎 단계). 분무용액 총 2ml를 사용하여, 감염된 각 호박 떡잎의 양쪽에 스위핑 작용으로 이 용액을 분무하였다(각각 양쪽에 0.5ml씩 2회). 식물을 공기건조시키고 26℃ 및 40% RH로 조절된 방에서 3일 동안 유지한 후, 시험을 평가하였다. 평가는 해부 현미경을 사용하여 실제 수를 세고, 처리되지 않은 것에 대해 시험한 것을 비교하여 수행하였다.
두점박이 거미 진드기( Tetranychus urticae )에 대한 살충 시험
살란제 방법:
10마리의 어른 암컷 두점박이 거미 진드기를 목화원의 8장의 2.2cm 잎 디스크 위에 놓고, 24시간 동안 산란시킨 후, 제거하였다. 잎 디스크를 3초 동안 100ppm 시험 용액에 침지한 다음, 건조시키고 16개의 디스크는 비처리 네거티브 대조용으로서 둔다. 디스크를 한천 기질 위에 놓고, 24℃의 온도와 90%의 상대 습도에서 6일 동안 방치하였다. 처리된 디스크 위에 부화된 유충의 수와 비처리 디스크 위에 부화된 유충의 수를 기초로 한 방제율을 표1에 기재하였다.
실험실 조건 하에서 고구마 가루이(Bemisia tabacia)에 대한 시험 화합물의 평가
시료 화합물을 함유하는 유리병에 아세톤:에탄올(90:10) 용매 혼합물 5ml를 첨가함으로써 각 시험 화합물 16mg을 용해시켰다. 이 용액을 0.05% 트윈 20 계면활성제를 함유하는 물 15ml에 첨가하여, 800ppm 분무 용액 20ml를 생성하였다.
온실 안에서 기른 5주 된 목화나무에서, 직경이 5cm 초과인 최상위 실제 잎 2장만 제외하고, 모든 잎을 제거하였다. 그 다음에 이 목화나무를 실험실의 가루이 군락에 3일 동안 두어 암컷 군락을 산란시킨다. 그 다음에, 가압 공기를 사용하여 시험 식물로부터 모든 가루이를 제거하였다. 그 다음에, 중공의 원뿔형 노즐이 부착된 휴대용 주사기를 사용하여 시험 식물에 분무 용액을 적용하였다. 식물 하나당 총 4ml로, 즉 각 잎의 앞뒤에 분무 용액 1ml을 적용하였다. 총 16ml의 분무 용액을 이용하여 각 시험 화합물에 대해 4회 반복하였다. 식물을 공기건조시킨 다음, 21일 동안 보관 챔버(26℃ 및 40% RH)에 놓았다. 해부 현미경 하에서, 나뭇잎 하나 당 빈 번데기집의 수를 세어 화합물 효율을 평가하였다. 빈 번데기집은, 가루이 알이 완전히 성장하여 성충 상태에 도달한 것을 나타내므로, 방제되지 않은 것을 의미한다.
시험 화합물을 함유하지 않는 그냥 용액만 분무한 식물에 대해 비교한 시험화합물의 빈 번데기집의 감소에 기초한 방제율을 다음 표1에 나타내었다.
호박에서 목화 진딧물에 대한 종자 처리시험
토양 혼합물(70% 모래/30% 토양 분쇄물)을 체로 쳐서, 4인치 단지에 2/3정도 채웠다. 4ml 부피인 중심에 현탁액으로서 화합물을 뿌렸다. 화합물을 뿌린 화학물질 영역에 놓은 호박씨를 토양 혼합물로 1cm 깊이로 덮었다. 단지에 물을 뿌리고 10일 동안 온실에 두면, 어느 시점에 각 식물은 감염될 수 있는 완전히 펼쳐진 잎을 갖게 된다. 그 다음에 식물을 진딧물로 감염시킨다. 4일 후에, 진딧물 수를 세었다. 그 결과를 다음 표에 요약해 놓았다.
호박 떡잎에 대한 목화 진딧물의 수
호박-1차 실제 잎에 대한 목화 진딧물의 수
잎에 적용했을 때, 진드기, 진딧물 및 곤충에 대해 효과적인 것 외에도, 화학식 1의 화합물은 전신 활성을 나타낸다. 따라서, 본 발명의 또 다른 양태는 유효량의 화학식 1의 화합물을 사용하여, 파종 전에 식물 종자를 처리하거나, 식물 종자가 파종될 토양을 처리하거나, 파종된 후 식물의 뿌리에 있는 토양을 처리하는 것을 포함하여, 곤충으로부터 식물을 보호하는 방법이다.
조성물
본 발명의 화합물은, 본 발명의 화합물 및 식물학적으로 허용되는 불활성 담체를 포함하는, 본 발명의 중요한 양태인 조성물의 형태로 사용된다. 본 조성물은 물에 분산시켜 사용하는 농축 제형이거나, 추가 처리하지 않고 사용되는 분진 또는 과립 제형이다. 본 조성물은, 농화학 기술 분야에서 일반적이지만, 본 발명의 화합물이 그 안에 존재하기 때문에 신규하고 중요한 절차 및 방식에 따라 제조된다. 그러나, 농화학자라면 임의의 원하는 조성물을 용이하게 제조할 수 있음을 확인하기 위해서, 조성물의 제형에 대한 일부 설명을 하려고 한다.
화합물이 사용되는 분산액은 대부분 본 화합물의 농축 제형으로부터 제조된 수성 현탁액 또는 유액이다. 그러한 수용성, 수 현탁성 또는 유화성 제형은 습윤성 분말로 일반적으로 공지된 고상물이거나, 유화성 농축물 또는 수성 현탁액으로 일반적으로 공지된 액체이다. 습윤성 분말은 수 분산성 과립을 형성하도록 압축시킬 수 있으며, 활성 화합물과 불활성 담체 및 계면활성제의 균질한 혼합물을 포함한다. 활성 화합물의 농도는 통상 약 10 내지 약 90중량%이다. 불활성 담체는 통상 애터펄가이트 점토, 몬트모릴로나이트 점토, 규조토 또는 정제된 실리케이트 중에서 선택된다. 효과적인 계면활성제는 습윤성 분말을 약 0.5 내지 약 10% 포함하며, 설폰화된 리그닌, 농축 나프탈렌설포네이트, 나프탈렌설포네이트, 알킬벤젠설포네이트, 알킬 설페이트 및 비이온성 계면활성제(예: 알킬 페놀의 에틸렌 옥사이드 부가물)로부터 선택된다.
본 화합물의 유화성 농축물은, 수 혼화성 용매, 또는 수 불혼화성 유기 용매와 유화제의 혼합물인 불활성 담체에 화합물을 편리한 농도로, 예를 들면 액체 1ℓ당 약 50 내지 약 500g, 즉 약 10 내지 약 50%의 농도로 용해시킨 것을 포함한다. 사용할 수 있는 유기 용매는 방향족, 특히 크실렌, 및 석유 분류물, 특히 중질 방향족 나프타와 같은 석유의 고비점 나프탈렌 부분 및 올레핀 부분을 포함한다. 기타 유기 용매로는, 예를 들면 로진 유도체를 포함하는 테르펜 용매, 사이클로헥사논과 같은 지방족 케톤, 및 2-에톡시에탄올과 같은 복합 알코올이 사용된다. 유화성 농축물에 적합한 유화제는 위에서 설명한 종래의 비이온성 계면활성제로부터 선택된다.
수성 현탁액은, 수성 비히클에 약 5 내지 약 50중량%의 농도로 분산시킨, 본 발명의 수 불용성 화합물의 현탁액을 포함하였다. 현탁액은 본 화합물을 미세하게 분쇄시키고, 이를 상기 설명된 것과 같은 종류로부터 선택된 계면활성제와 물을 포함하는 비히클에 격렬하게 혼합하여 제조한다. 수성 비히클의 밀도와 점도를 증가시키기 위해서, 무기염 및 합성 고무 또는 천연 고무와 같은 불활성 성분을 첨가할 수도 있다. 수성 혼합물을 제조하고 샌드밀, 볼밀 또는 피스톤 타입 균질화기와 같은 도구에서 균질화시킴으로써, 화합물을 동시에 분쇄 및 혼합시키는 것이 가장 효과적인 경우가 종종 있다.
상기 혼합물은 또한 과립 조성물로서 사용할 수도 있으며, 이것은 토양에 사용하기 위해서 특히 유용하다. 과립 조성물은 통상, 점토 또는 이와 유사한 저가의 물질로 전부 또는 대부분 이루어진 불활성 담체에 분산시킨, 본 화합물을 약 0.5 내지 약 10중량% 함유한다. 이러한 조성물은 통상 적합한 용매에 본 화합물을 용해시키고, 이를 약 0.5 내지 3mm의 적절할 입자 크기로 예비 형성시킨 과립 담체에 적용함으로써 제조된다. 이러한 조성물은 또한 담체와 화합물의 반죽 또는 페이스트를 만들고 파쇄하고 건조시켜서 원하는 과립 입자 크기로 만듦으로써 제형화 할 수도 있다.
본 화합물을 함유하는 분진은, 이 화합물의 분말형태를, 카올린 점토 및 분쇄된 화산암 등과 같은 적합한 분진형 농업용 담체와 직접 혼합함으로써 간단히 제조된다. 분진은 적합하게는 본 화합물을 약 1 내지 약 10% 함유할 수 있다.
어떤 이유 때문에 원하였다면, 농화학 분야에서 널리 사용되는, 분무 오일과 같은, 통상 독성이 적은 석유와 같은 적절한 유기 용매 중의 용액의 형태로 본 화합물을 사용하는 것도 실용적이다.
살충제 및 진드기 구충제는 일반적으로 액체 담체에 활성 성분을 분산시킨 형태로 사용된다. 담체 안의 활성 성분의 농도를 적용량이라고 보는 것이 일반적이다. 가장 널리 사용되는 담체는 물이다.
본 발명의 화합물은 에어로졸 조성물의 형태로 사용할 수도 있다. 이러한 조성물에서는, 활성 성분을 불활성 담체에 용해시키거나 분산시키며 이는 압력 발생 추진제 혼합물이다. 에어로졸 조성물은 용기 안에 포장되며, 용기로부터 혼합물이 분무 밸브를 통해서 분산된다. 추진제 혼합물은 유기 용매와 혼합될 수 있는 저비점 할로탄소, 또는 불활성 기체 또는 탄화수소 기체로 압축된 수성 현탁액을 포함한다.
곤충, 진드기 및 진딧물의 서식처에 적용될 화합물의 실제 양은 중요하지 않으며, 상기 실시예를 참고하여 당업계의 숙련자들에 의해 용이하게 결정할 수 있다. 일반적으로 본 화합물의 농도를 10 내지 5000ppm으로 하면 우수한 방제를 할 것으로 기대된다. 본 화합물을 많이 사용하였다 해도 100 내지 1500pm의 농도이면 충분할 것이다. 콩 및 목화와 같은 밭 작물의 경우에는, 본 화합물의 적합한 사용량은 약 0.5 내지 1.5 1b/A이며, 전형적으로 1200 내지 3600ppm의 화합물을 함유하는 분무 제형으로 5 내지 20gal/A로 사용된다. 감귤 작물의 경우에는, 적합한 사용량은 약 100 내지 1500gal/A의 분무 제형이며, 이것은 100 내지 1000ppm이다.
본 화합물이 사용되는 장소는 곤충이나 진드기가 서식하는 곳이면, 어느 곳이라도, 예를들면, 채소 작물, 과일나무와 견과 나무, 포도 넝쿨 및 관상용 식물에 사용할 수 있다. 많은 진드기 종이 특별한 숙주에 대해 특정적인 한, 상기 목록의 진드기 종들은 본 화합물이 사용될 수 있는 광범위한 세팅의 예시를 제공한다.
독성 작용에 저항하는 진드기 알의 독특한 능력 때문에, 새로 나타나는 유충을 방제하기 위해서 반복 적용 하는 것이 바람직할 수 있다(다른 공지된 진드기 구충제에서는 사실 그렇다).
본 발명의 화합물의 다음 제형은 본 발명의 실제에서 유용한 전형적인 조성물이다.
A. 0.75 유화성 농축물
B. 1.5 유화성 농축물
C. 1.0 유화성 농축물
D. 1.0 수성 현탁액
E. 1.0 수성 현탁액
F. 1.0 수성 현탁액
G. 습윤성 분말
H. 1.0 수성 현탁액
I. 1.0 유화성 농축물
J. 습윤성 분말
K. 0.5 유화성 농축물
L. 유화성 농축물
관련 출원
본 출원은 1997년 4월 24일자로 출원된 미국 특허출원 제60/044,697호와 1997년 11월 19일자로 출원된 미국 특허출원 제60/066,135호를 우선권으로 청구한다.

Claims (22)

  1. 다음 화학식 1의 화합물 또는 식물학적으로 허용되는 이의 산 부가염.
    화학식 1
    위의 화학식 1에서,
    Ar은 치환된 페닐이고,
    Y는 O 또는 S이며,
    R2는 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬,(C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 또는 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이고,
    R3은 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C7-C21) 직쇄 또는 측쇄 알킬; 하이드록시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 할로 원자에 의해 치환된 (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; CN, NO2, COR6, CO2R6, CON(R6)2, (C3-C6)사이클로알킬, S(O)mR6, -OSO2R6, SCN, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -(CH2)qOR6, -(CH2)qSR6, -(CH2)qNR6R6, -O(CH2)qR6, -S(CH2)qR6, -NR6(CH2)qR6, , , , , , , , , -Si(R7)3, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, 티에닐, 치환된 티에닐, 피리미딜, 치환된 피리미딜, 피라졸릴 및 치환된 피라졸릴로 이루어진 그룹으로부터 선택되고,
    R4 및 R5는 독립적으로 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; CN; CO2R6; CON(R6)2; 또는 S(0)n-(C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이거나,
    R4 및 R5가 인접 탄소원자에 부착되는 경우, 이들은 함께 1 또는 2개의 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 또는 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성할 수 있으며,
    R6은 H; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 페닐; 또는 치환된 페닐이고,
    R7은 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이며,
    m은 0, 1 또는 2이고,
    n은 1 또는 2이며,
    p는 2 내지 6의 정수이고,
    q는 0 또는 1이다.
  2. 다음 화학식 1A의 화합물 또는 식물학적으로 허용되는 이의 산 부가염.
    화학식 1A
    위의 화학식 1A에서,
    R1 및 R1'는 독립적으로 H, Cl, F, 메틸, 할로메틸, 메톡시 또는 할로메톡시이고,
    Y는 O 또는 S이며,
    R2는 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 또는 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이고,
    R3은 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C7-C21) 직쇄 알킬; 하이드록시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; CN, NO2, CO2R6, CON(R6)2, (C3-C6)사이클로알킬, S(O)mR6, SCN, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -CH2OR6, -CH2SR6, -CH2NR6R6, -OCH2R6, -SCH2R6, -NR6CH2R6, , , , , , , , 및 로 이루어진 그룹으로부터 선택되며,
    R4 및 R5는 독립적으로 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; CN; CO2R6; CON(R6)2; 또는 S(O)m- (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이거나,
    R4 및 R5는 1 또는 2개의 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 또는 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성하며,
    R6은 H; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 페닐; 또는 치환된 페닐이고,
    m은 0, 1 또는 2이며,
    n은 1 또는 2이고,
    p는 2 내지 6의 정수이다.
  3. 제2항에 있어서, Y가 황인 화합물.
  4. 제2항에 있어서, 그룹 가 화학식 의 2-티에닐 그룹인 화합물.
  5. 제2항에 있어서, R1이 클로로이고, R1'가 클로로 또는 플루오로인 화합물.
  6. 제2항에 있어서, R2가 메틸인 화합물.
  7. 제2항에 있어서, R3, R4 및 R5가 각각 할로인 화합물.
  8. 하기 화학식 1B의 화합물.
    화학식 1B
    위의 화학식 1B에서,
    R1 및 R1'는 독립적으로 F 또는 Cl이고,
    R2는 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬, 가장 바람직하게는 메틸이며,
    R3, R4 및 R5는 독립적으로 H, Cl 또는 Br이다.
  9. 제8항에 있어서, R1이 F 또는 Cl이고, R1'가 F인 화합물.
  10. 제9항에 있어서, 3-(2-클로로-6-플루오로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸인 화합물.
  11. 제8항에 있어서, R1 및 R1'가 Cl인 화합물.
  12. 제11항에 있어서, 3-(2,6-디클로로페닐)-5-(3,4,5-트리클로로티엔-2-일)-1-메틸[1,2,4]트리아졸인 화합물.
  13. 제1항의 화합물을 식물학적으로 허용되는 담체와 배합하여 포함하는, 곤충 또는 진드기 방제용 조성물.
  14. 곤충 또는 진드기를 불활성화할 수 있는 양의 제1항의 화합물을 곤충 또는 진드기의 방제가 필요한 서식처에 적용함을 포함하여, 곤충 또는 진드기를 방제하는 방법.
  15. 가루이(white fly)를 불활성화할 수 있는 양의 제1항의 화합물을 가루이의 방제가 필요한 서식처에 적용함을 포함하여, 가루이를 방제하는 방법.
  16. 진드기를 불활성화할 수 있는 양의 제1항의 화합물을 진드기의 방제가 필요한 서식처에 적용함을 포함하여, 진드기를 방제하는 방법.
  17. 진딧물을 불활성화할 수 있는 양의 제1항의 화합물을 진딧물의 방제가 필요한 서식처에 적용함을 포함하여, 진딧물을 방제하는 방법.
  18. 제1항의 화합물을 사용하여 파종 전에 식물 종자를 처리하거나, 식물 종자가 파종될 토양을 처리하거나, 파종된 후 식물의 뿌리에 있는 토양을 처리함을 포함하여, 진딧물, 진드기 또는 곤충으로부터 식물을 보호하는 방법.
  19. 화학식 2b의 화합물을 화학식 3의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, R1 및 R1'가 F인 제1항의 화합물의 제조방법.
    화학식 2b
    [화학식 3]
    위의 화학식 2b 및 3에서,
    R12는 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이고,
    R13은 카보벤질옥시, 3급 알콕시카보닐, 아미드, 포스피닐, 포스포릴, 설페닐 및 설포닐로 이루어진 그룹으로부터 선택된 아미노 보호 그룹이며,
    R3, R4 및 R5는 독립적으로 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 및 (C3-C6) 사이클릭 알킬로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
  20. (a) 화학식 6의 화합물을 화학식 a의 화합물과 반응시켜 화학식 2b의 화합물을 제조하는 단계 및
    (b) 화학식 2b의 화합물을 화학식 3의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, R1 및 R1'가 F인 제1항의 화합물의 제조방법.
    화학식 6
    [화학식 a]
    화학식 2b
    화학식 3
    위의 화학식 6, a, 2b 및 3에서,
    R11은 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이고,
    R12는 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이며,
    R13은 카보벤질옥시, 3급 알콕시카보닐, 아미드, 포스피닐, 포스포릴, 설페닐 및 설포닐로 이루어진 그룹으로부터 선택된 아미노 보호 그룹이고,
    R3, R4 및 R5는 독립적으로 H, 할로, (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 및 (C3-C6) 사이클릭 알킬로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
  21. 화학식 14의 화합물을 화학식 15의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, R2가 CH3인 제1항의 화합물의 제조방법.
    [화학식 14]
    [화학식 15]
    위의 화학식 14 및 15에서,
    R1 및 R1'는 제1항에서 정의한 바와 같고,
    R14는 메탄설포닐, 벤젠설포닐 또는 치환된 벤젠설포닐이며,
    R3는 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C7-C21) 직쇄 알킬; 하이드록시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; 할로 원자에 의해 치환된 (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; CN, NO2, CO2R6, CON(R6)2, (C3-C6)사이클로알킬, S(O)mR6, SCN, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -CH2OR6, -CH2SR6, -CH2NR6R6, -OCH2R6, -SCH2R6, -NR6CH2R6, , , , , , , , 및 로 이루어진 그룹으로부터 선택되며,
    R4 및 R5는 독립적으로 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; CN; CO2R6; CON(R6)2; 또는 S(O)m-(C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이거나,
    R4 및 R5가 인접 탄소원자에 부착되는 경우, 이들은 1 또는 2개의 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 또는 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성할 수 있으며,
    R6은 H, (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 페닐; 또는 치환된 페닐이고,
    m은 0, 1 또는 2이며,
    n은 1 또는 2이고,
    p는 2 내지 6의 정수이다.
  22. a) 화학식 10의 화합물을 화학식 11의 화합물과 반응시켜 화학식 12의 화합물을 생성하는 단계,
    b) 화학식 12의 화합물을 메틸화시켜 화학식 13의 화합물을 생성하는 단계,
    c) 화학식 13의 화합물을 염소화하여 화학식 14의 화합물을 생성하는 단계 및
    d) 화학식 14의 화합물을 화학식 15의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, R2가 CH3인 제1항의 화합물의 제조방법.
    [화학식 10]
    [화학식 11]
    [화학식 12]
    [화학식 13]
    [화학식 14]
    [화학식 15]
    위의 화학식 10 내지 15에서,
    R1 및 R1'는 독립적으로, H, Cl, F, 메틸, 할로메틸, 메톡시 또는 할로메톡시이고,
    R14는 메탄설포닐, 벤젠설포닐 또는 치환된 벤젠설포닐이며,
    R3는 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C7-C21) 직쇄 알킬; 하이드록시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; 할로 원자에 의해 치환된 (C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; CN, NO2, CO2R6, CONHR6, CON(R6)2, (C3-C6)사이클로알킬, S(O)mR6, SCN, 피리딜, 치환된 피리딜, 이소옥사졸릴, 치환된 이소옥사졸릴, 나프틸, 치환된 나프틸, 페닐, 치환된 페닐, -(CH2)nR6, -CH=CHR6, -C≡CR6, -CH2OR6, -CH2SR6, -CH2NR6R6, -OCH2R6, -SCH2R6, -NR6CH2R6, , , , , , , , , 및 로 이루어진 그룹으로부터 선택되며,
    R4 및 R5는 독립적으로 H; 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; CN; CO2R6; CONHR6; CON(R6)2; 또는 S(O)m-(C3-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬이거나,
    R4 및 R5는 1개 또는 2개의 할로; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; (C1-C6) 직쇄 알콕시, (C3-C6) 측쇄 알콕시 또는 (C3-C6) 사이클릭 알콕시; 또는 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬 그룹에 의해 치환될 수 있는 5 또는 6원 포화 또는 불포화 카보사이클릭 환을 형성하며,
    R6는 H; (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬; 할로 원자에 의해 치환된 (C1-C6) 직쇄 알킬, (C3-C6) 측쇄 알킬 또는 (C3-C6) 사이클릭 알킬;(C2-C6) 직쇄 알케닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알케닐; (C2-C6) 직쇄 알키닐 또는 (C3-C6) 측쇄 알키닐; 페닐; 또는 치환된 페닐이고,
    m은 0, 1 또는 2이며,
    n은 1 또는 2이고,
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