JPWO2001007401A1 - Tricyclic compounds and pharmaceutical compositions containing the same - Google Patents
Tricyclic compounds and pharmaceutical compositions containing the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】 式(I): [式中、A環、B環およびC環は芳香族炭素環またはヘテロ環等であり、A環等が置換基を有していてもよい5員のヘテロ環である場合はW1等が結合を示し、XおよびX’は−O−または−NH−等であり、Yは低級アルキル、低級アルケニル等であり、V1およびV2は単結合等であり、RaおよびRbは水素、低級アルキル、低級アルケニル等であるか、一緒になってRcRdC=または−(CReRf)r−を形成し、RcおよびRdは水素、低級アルキル、低級アルコキシ等であり、ReおよびRfは水素、低級アルキル等であり、nは0〜2であり、rは2〜6である]で示される化合物、そのプロドラッグ、その塩またはそれらの溶媒和物およびそれらを含有する医薬組成物を提供する。 (57) [Abstract] A compound of formula (I): [wherein ring A, ring B and ring C are aromatic carbocycles or heterocycles or the like; when ring A or the like is a 5-membered heterocycle which may have a substituent, W1 or the like represents a bond; X and X' are -O- or -NH- or the like; Y is lower alkyl, lower alkenyl or the like; V1 and V2 are single bonds or the like; Ra and Rb are hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl or the like, or are joined together to form RcRdC = or -( CReRf )r-; Rc and Rd are hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy or the like; Re and Rf are hydrogen, lower alkyl or the like; n is 0 to 2; and r is 2 to 6]; a prodrug thereof; a salt thereof; or a solvate thereof; and a pharmaceutical composition containing them are provided.
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は新規三環式化合物、それを含有する免疫抑制剤、抗アレルギー剤およ
びIgE抗体産生抑制剤に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel tricyclic compound, and to an immunosuppressant, an antiallergic agent and an IgE antibody production inhibitor containing the same.
背景技術
近年数多く行なわれるようになった組織、臓器等の移植手術の大きな問題点は
、術後の移植部分を排斥しようとする拒絶反応である。それを回避することが移
植手術を成功させる上で非常に重要となっている。BACKGROUND ART A major problem in the recent surgeries for transplanting tissues and organs is the rejection reaction that attempts to reject the transplanted part after surgery. Avoiding this reaction is extremely important for the success of transplant surgery.
アザチオプリン、コルチコイド、シクロスポリンAやタクロリムス等種々の免
疫抑制剤が開発・実用化され、臓器または組織移植に対する拒絶反応、骨髄移植
によって起こる移植片対宿主反応の予防および治療に用いられている。しかし、
これらは効果や副作用の点で必ずしも満足できるものではない。 Various immunosuppressants such as azathioprine, corticoids, cyclosporine A, and tacrolimus have been developed and put to practical use and are used to prevent and treat rejection reactions after organ or tissue transplants and graft-versus-host reactions that occur after bone marrow transplants.
These methods are not necessarily satisfactory in terms of efficacy and side effects.
一方、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎、気管支喘息、アレルギー性結膜
炎等のアレルギー性疾患も近年世界的に増加の傾向にあり、大きな問題となって
いる。従来の抗アレルギー剤は、肥満細胞からの化学伝達物質の遊離抑制剤、遊
離した化学伝達物質の受容体阻害剤またはアレルギー性炎症反応の抑制剤等であ
るが、これらはいずれも対症療法であり、根本的なアレルギー性疾患の治療薬と
なっていない。 On the other hand, allergic diseases such as atopic dermatitis, allergic rhinitis, bronchial asthma, and allergic conjunctivitis have been increasing worldwide in recent years, posing a major problem. Conventional antiallergic drugs include inhibitors of the release of chemical mediators from mast cells, receptor inhibitors of the released chemical mediators, and inhibitors of allergic inflammatory reactions, but these are all symptomatic treatments and do not serve as therapeutic agents for the underlying allergic diseases.
これらの点から、より有効性が高く、安全な医薬の開発が求められていた。In view of these points, there has been a demand for the development of more effective and safer medicines.
本願化合物と類似骨格を有し、免疫抑制作用または抗アレルギー作用を有する
化合物がWO94/27980、WO95/13067、WO96/15123
、WO95/15318、WO96/40659、WO96/40143、WO
96/38412、WO96/10012、WO97/24356、WO97/
27181、WO97/24324、WO97/39999、WO97/443
33、WO97/46524、WO98/04508、WO98/24766、
WO98/24782、WO98/56785、FR2301250、US55
93991、特公昭47−7368、特開昭51−91259、特開平8−31
63、特開平9−124571、特開平9−71564、特開平9−12457
1、特開平11−79993、Bioorganic & Medicinal
Chemistry Letters,Vol.5,No.18,p 214
3−2146(1995)、J.Med.Chem.,1974,Vol.17
,No.11,1177−1181等に記載されている。また、本願化合物と類
似骨格を有する液晶性化合物が特開昭58−121225、特開平9−8725
3、特開昭63−253065、特開平1−106864、特開平1−1068
71、特開平2−83346、特開平9−48760および特開平9−3106
3、WO88/07992等に、殺虫・殺ダニ活性を有する化合物が特開平8−
193067に、循環器系疾患および精神病治療作用を有する化合物がEP06
00717A1に、中枢神経系疾患治療作用を有する化合物がWO95/159
54に、血小板凝集阻害作用を有する化合物がWO93/08181、WO93
/10091、WO93/14077に開示されている。 Compounds having a similar skeleton to the compound of the present invention and having immunosuppressive or antiallergic effects are disclosed in WO94/27980, WO95/13067, WO96/15123
, WO95/15318, WO96/40659, WO96/40143, WO
96/38412, WO96/10012, WO97/24356, WO97/
27181, WO97/24324, WO97/39999, WO97/443
33, WO97/46524, WO98/04508, WO98/24766,
WO98/24782, WO98/56785, FR2301250, US55
93991, JP-B 47-7368, JP-A 51-91259, JP-A 8-31
63, JP-A-9-124571, JP-A-9-71564, JP-A-9-12457
1, Japanese Patent Application Publication No. 11-79993, Bioorganic & Medicinal
Chemistry Letters, Vol. 5, No. 18, p 214
3-2146 (1995), J. Med. Chem. , 1974, Vol. 17
, No. 11, 1177-1181, etc. Liquid crystal compounds having a skeleton similar to that of the compound of the present invention are described in JP-A-58-121225 and JP-A-9-8725.
3, JP-A-63-253065, JP-A-1-106864, JP-A-1-1068
71, JP-A-2-83346, JP-A-9-48760 and JP-A-9-3106
3, WO88/07992, etc. disclose compounds having insecticidal and acaricidal activity.
EP06193067 discloses compounds having therapeutic effects on cardiovascular diseases and psychiatric disorders.
00717A1, a compound having a therapeutic effect on central nervous system diseases is disclosed in WO95/159
54, compounds having platelet aggregation inhibitory activity are disclosed in WO93/08181 and WO93
/10091, WO93/14077.
発明の開示
本発明の目的は、優れた免疫抑制作用および/または抗アレルギー作用を有す
る化合物並びにそれを含有する医薬組成物を提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a compound having excellent immunosuppressive and/or antiallergic activity and a pharmaceutical composition containing the same.
本発明は、
[1]式(I):
[式中、A環、B環およびC環は各々独立して置換基を有していてもよい芳香族
炭素環または置換基を有していてもよく、ベンゼン環と縮合していてもよい5員
または6員のヘテロ環であり、A環、B環および/またはC環が置換基を有して
いてもよい5員のヘテロ環である場合はW1、W2および/またはW3が結合を
示す。 The present invention relates to a compound of formula (I): [In the formula, ring A, ring B and ring C each independently represent an aromatic carbon ring which may have a substituent or a 5- or 6-membered heterocycle which may have a substituent and which may be fused with a benzene ring, and when ring A, ring B and/or ring C is an optionally substituted 5-membered heterocycle, W 1 , W 2 and/or W 3 represent a bond.]
Xは−O−、−CH2−、−NR1−(ここでR1は水素、置換基を有していて
もよい低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルキルカルボニル)または−
S(O)p−(ここでpは0〜2の整数)であり、
X’は−O−または−NH−であり、
Yは水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい
低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有してい
てもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいシクロアルケニル、置換基
を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいスル
ファモイル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいアリ
ールまたは置換基を有していてもよい5員または6員のヘテロ環式基であり、
Xが−CH2または−NR1−であるとき、Yはハロゲンであってもよく、Xが
−O−または−NR1−であるときYは置換基を有していてもよい低級アルキル
スルホニルまたは置換基を有していてもよいアリールスルホニルであってもよい
。X is -O-, -CH2- , -NR1- (wherein R1 is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, lower alkenyl or lower alkylcarbonyl), or -
S(O)p- (wherein p is an integer of 0 to 2), X' is -O- or -NH-, Y is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted acyl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted cycloalkenyl, optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted sulfamoyl, optionally substituted amino, optionally substituted aryl or an optionally substituted 5- or 6-membered heterocyclic group, when X is -CH2 or -NR1- , Y may be halogen, and when X is -O- or -NR1- , Y may be optionally substituted lower alkylsulfonyl or optionally substituted arylsulfonyl.
V1およびV2は一方が単結合であり、他方が単結合、−O−、−NH−、−O
CH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH(OR2)−(
R2は水素または低級アルキル)、−CO−、−NHCHR3−または−CHR
3NH−(R3は水素またはヒドロキシ)である。One of V1 and V2 is a single bond, and the other is a single bond, —O—, —NH—, —O
CH2- , -CH2O- , -CH=CH-, -C≡C-, -CH( OR2 )-(
R2 is hydrogen or lower alkyl), -CO-, -NHCHR3- or -CHR
3 NH— (R 3 is hydrogen or hydroxy).
RaおよびRbは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、
置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアリール
、置換基を有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいアシル
、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニルまたは置換基を有してい
てもよい低級アルキルスルホニルであるか、一緒になってRcRdC=または−
(CReRf)r−を形成し、
RcおよびRdは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、
置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アル
キニル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよい
低級アルキルチオ、置換基を有していてもよい低級アルケニルオキシ、置換基を
有していてもよい低級アルキニルオキシ、置換基を有していてもよいシクロアル
キル、置換基を有していてもよいアリールまたは置換基を有していてもよい5員
または6員のヘテロ環式基であるか、一緒になって結合している炭素原子と共に
置換基を有していてもよいシクロアルキリデンを形成し、
Reは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、
Rfは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、
nは0〜2の整数であり、rは2〜6の整数である。]
で示される化合物、
[2]A環、B環およびC環が各々独立して置換基を有していてもよいベンゼン
環または置換基を有していてもよい6員のヘテロ環であり、V1およびV2が共
に単結合であり、nが0である、[1]記載の化合物、
[3]A環が置換基を有していてもよいベンゼン環である、[1]または[2]
記載の化合物、
[4]B環が置換基を有していてもよいベンゼン環、置換基を有していてもよい
ピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよ
いピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、[1]また
は[2]記載の化合物、
[5]A環、B環およびC環のうち、2つが置換基を有していてもよいベンゼン
環であり、1つが置換基を有していてもよい6員ヘテロ環である、[1]または
[2]記載の化合物、
[6]置換基を有していてもよい6員ヘテロ環が置換基を有していてもよいピリ
ジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよいピ
リダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、[1]、[2]
または[5]記載の化合物、
[7]式(I’):
(式中、C環は置換基を有していてもよいベンゼン環または置換基を有していて
もよく、1または2のヘテロ原子を含む6員ヘテロ環であり、
Yは水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい
低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいシクロアルケニルまたは置
換基を有していてもよいアミノであり、
R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10およびR11は各々独立して水素
、ハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級
アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよ
いシクロアルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、置換基を有
していてもよい低級アルキルスルホニルオキシ、カルボキシまたは置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシカルボニルであり、
X、X’Ra、Rbおよびnは[1]と同義である。)
で示される化合物、
[8]R4およびR5が各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシまたは低級ア
ルコキシである、[7]記載の化合物、
[9]R6およびR7が共に水素である、[7]記載の化合物、
[10]R8が水素または置換基を有していてもよい低級アルキルである、[7
]記載の化合物、
[11]R9が保護されていてもよいヒドロキシ、置換基を有していてもよい低
級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシである、[7]記載
の化合物、
[12]R10が保護されていてもよいヒドロキシ、置換基を有していてもよい
低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシまたは置換基を有して
いてもよい低級アルコキシカルボニルである、[7]記載の化合物、
[13]R11が水素、保護されていてもよいヒドロキシまたは置換基を有して
いてもよい低級アルキルである、[7]記載の化合物、
[14]C環が置換基を有していてもよいベンゼン環、置換基を有していてもよ
いピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していても
よいピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、[1]、
[2]または[7]のいずれかに記載の化合物、
[15]Xが−O−、−CH2−または−NH−である、[1]、[2]または
[7]のいずれかに記載の化合物、
[16]Xが−NH−である、[1]、[2]または[7]のいずれかに記載の
化合物、
[17]Yが水素、低級アルキル、アリールアルキル、低級アルケニルまたはシ
クロアルキルである、[1]、[2]または[7]のいずれかに記載の化合物、
[18]RaおよびRbが各々独立して水素、炭素数1〜6の低級アルキル、炭
素数2〜6のアルケニルまたは炭素数1〜6のアルコキシカルボニルであるか、
一緒になってRcRdC=または−(CReRf)r−を形成し、RcおよびR
dが各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、
炭素数1〜6のアルコキシ、フェニルまたは5員もしくは6員の芳香族ヘテロ環
式基であるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6のシ
クロアルキリデンを形成し、Reは各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキル
、炭素数1〜6のアルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、炭
素数1〜6のアルキル、炭素数1〜6のアルコキシまたはアミノであり、rは4
または5である、[1]、[2]または[7]のいずれかに記載の化合物、
[19]nが0または1であり、X’が−O−であり、RaおよびRbが一緒に
なってRcRdC=を形成し、RcおよびRdは各々独立して水素、炭素数1〜
6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数1〜6のアルコキシまたはフ
ェニルであるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6の
シクロアルキリデンを形成する、[1]、[2]または[7]のいずれかに記載
の化合物、
[20]nが0であり、X’が−NH−であり、RaおよびRbが一緒になって
RcRdC=を形成し、RcおよびRdは各々独立して水素、炭素数1〜6のア
ルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数1〜6のアルコキシまたはフェニル
であるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6のシクロ
アルキリデンを形成する、[1]、[2]または[7]のいずれかに記載の化合
物、
[21]nが0であり、X’が−NH−であり、RaおよびRbが各々独立して
水素、低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルコキシカルボニルであるか
、一緒になって−(CReRf)r−を形成し、Reは各々独立して水素、低級
アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、低級
アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、rは4または5である、[1]
、[2]または[7]のいずれかに記載の化合物、
[22]C環はハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキシで置換されてい
てもよいベンゼン環またはハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキシで置
換されていてもよいピリジン環であり、
XおよびX’は各々独立して−O−または−NH−であり、
Yは水素、低級アルキル、アリールアルキル、低級アルケニルまたはシクロアル
キルであり、
R4およびR5は各々独立して水素またはハロゲンであり、
R6およびR7は共に水素であり、
R8が水素または低級アルキルであり、
R9がヒドロキシ、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、
R10がヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキシカル
ボニルであり、
R11が水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、
RaおよびRbは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルケニルまたは低級
アルコキシカルボニルであるか、一緒になってRcRdC=または−(CReR
f)r−を形成し、
RcおよびRdは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アル
コキシまたはフェニルであるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素
数5または6のシクロアルキリデンを形成し、Reは各々独立して水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、
nは0または1であり、rは4または5である、[7]記載の化合物、
、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を提供す
る。R a and R b each independently represent hydrogen, optionally substituted lower alkyl,
optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted aryl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted acyl, optionally substituted lower alkoxycarbonyl or optionally substituted lower alkylsulfonyl, or together represent R c R d C= or -
(CR e R f )r-, wherein R c and R d each independently represent hydrogen or optionally substituted lower alkyl;
[2] a compound represented by the formula (I): optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted lower alkylthio, optionally substituted lower alkenyloxy, optionally substituted lower alkynyloxy, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted aryl, or optionally substituted 5- or 6-membered heterocyclic group, or taken together with the carbon atom to which it is attached form an optionally substituted cycloalkylidene, each R e is independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino, each R f is independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino, n is an integer of 0 to 2 , and r is an integer of 2 to 6 ; [3] a compound represented by the formula (I):
[4] the compound according to [1] or [2], wherein ring B is an optionally substituted benzene ring, an optionally substituted pyridine ring, an optionally substituted pyrimidine ring, an optionally substituted pyridazine ring, or an optionally substituted pyrazine ring; [5] the compound according to [1] or [2], wherein two of ring A, ring B, and ring C are optionally substituted benzene rings, and one is an optionally substituted 6-membered heterocycle; [6] the optionally substituted 6-membered heterocycle is an optionally substituted pyridine ring, an optionally substituted pyrimidine ring, an optionally substituted pyridazine ring, or an optionally substituted pyrazine ring;
Or the compound according to [5], [7] a compound of formula (I'): (wherein Ring C is an optionally substituted benzene ring or an optionally substituted 6-membered heterocycle containing 1 or 2 heteroatoms; Y is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted cycloalkenyl or optionally substituted amino; R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 each independently is hydrogen, halogen, optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted cycloalkoxy, optionally substituted lower alkylthio, optionally substituted lower alkylsulfonyloxy, carboxy or optionally substituted lower alkoxycarbonyl; and X, X′, R a , R b and n are as defined in [1]), [8] the compound according to [7], wherein R 4 and R 5 each independently are hydrogen, halogen, hydroxy or lower alkoxy, [9] The compound according to [7], wherein R 6 and R 7 are both hydrogen; [10] The compound according to [7], wherein R 8 is hydrogen or optionally substituted lower alkyl.
[11] The compound according to [7], wherein R 9 is optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted lower alkoxy, [12] The compound according to [7], wherein R 10 is optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, or optionally substituted lower alkoxycarbonyl, [13] The compound according to [7], wherein R 11 is hydrogen, optionally protected hydroxy, or optionally substituted lower alkyl, [14] The compound according to [1], wherein Ring C is an optionally substituted benzene ring, an optionally substituted pyridine ring, an optionally substituted pyrimidine ring, an optionally substituted pyridazine ring, or an optionally substituted pyrazine ring,
[15] The compound according to any one of [1], [2] or [7], wherein X is -O-, -CH2- or -NH-, [16] The compound according to any one of [1], [2] or [7], wherein X is -NH-, [17] The compound according to any one of [1], [2] or [7], wherein Y is hydrogen, lower alkyl, arylalkyl, lower alkenyl or cycloalkyl, [18] Ra and Rb are each independently hydrogen, lower alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms or alkoxycarbonyl having 1 to 6 carbon atoms,
Together they form RcRdC = or -( CReRf ) r-, and Rc and R
each d is independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, or alkenyl having 2 to 6 carbon atoms;
each R e is independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, or amino; each R f is independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, or amino;
or 5; [19] the compound according to any one of [1], [2], or [7], wherein n is 0 or 1, X′ is —O—, R a and R b together form R c R d C=, and R c and R d are each independently hydrogen, a C-C ...
[20] a compound according to any one of [1], [2] or [7], wherein n is 0, X' is -NH-, Ra and Rb are taken together to form RcRdC = , and Rc and Rd are each independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms or phenyl , or are taken together to form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms with the carbon atom to which they are attached; [ 21 ] a compound according to any one of [1], [2] or [7], wherein n is 0, X' is -NH-, Ra and Rb are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl or lower alkoxycarbonyl, or are taken together to form - ( CReRf )r-, and R Each e is independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; each Rf is independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; and r is 4 or 5. [1]
, the compound according to either [2] or [7], [22] Ring C is a benzene ring optionally substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy, or a pyridine ring optionally substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy, X and X' are each independently -O- or -NH-, Y is hydrogen, lower alkyl, arylalkyl, lower alkenyl or cycloalkyl, R4 and R5 are each independently hydrogen or halogen, R6 and R7 are both hydrogen, R8 is hydrogen or lower alkyl, R9 is hydroxy, lower alkyl or lower alkoxy, R10 is hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy or lower alkoxycarbonyl, R11 is hydrogen, hydroxy or lower alkyl, Ra and Rb are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl or lower alkoxycarbonyl , or are taken together to form RcRdC = or -( CReR
Rc and Rd are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl, lower alkoxy, or phenyl, or are taken together with the carbon atom to which they are attached to form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms; Re are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; Rf are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; n is 0 or 1; and r is 4 or 5.
また、別の態様として、[1]〜[22]のいずれかに記載の化合物、そのプ
ロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組
成物、詳しくは免疫抑制剤、抗アレルギー剤またはIgE抗体産生抑制剤を提供
する。また、免疫反応抑制、アレルギー性疾患の治療および/または予防のため
の医薬を製造するための、[1]〜[22]のいずれかに記載の化合物、そのプ
ロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用、[1]〜
[22]のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される
塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、免疫反応抑制の方法、
アレルギー性疾患治療の方法および/または予防の方法を提供する。 In another aspect, the present invention provides a pharmaceutical composition containing the compound according to any one of [1] to [22], a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof, more specifically an immunosuppressant, an antiallergic agent, or an IgE antibody production inhibitor. The present invention also provides the use of the compound according to any one of [1] to [22], a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof for the manufacture of a medicament for suppressing immune responses and treating and/or preventing allergic diseases.
A method for suppressing an immune response, comprising administering the compound according to any one of [22], a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
Methods for treating and/or preventing allergic diseases are provided.
発明を実施するための最良の形態
本明細書中において、「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を
包含する。特にフッ素および塩素が好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In this specification, the term "halogen" includes fluorine, chlorine, bromine and iodine. Fluorine and chlorine are particularly preferred.
「保護されていてもよいヒドロキシ」の保護基としては、通常用いられるもの
であればいずれも好適に使用できるが、例えばt−ブチル、ベンジル、t−ブチ
ルジメチルシリル、メトキシメチルおよびアセチル等が挙げられる。 As the protecting group for the "optionally protected hydroxy", any commonly used group can be suitably used, including, for example, t-butyl, benzyl, t-butyldimethylsilyl, methoxymethyl, and acetyl.
「低級アルキル」とは、炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜8、さらに好
ましくは炭素数1〜6、最も好ましくは炭素数1〜3の直鎖または分枝状のアル
キルを包含し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、n−オクチ
ル、イソオクチル、n−ノニルおよびn−デシル等が挙げられる。 The term "lower alkyl" includes straight-chain or branched alkyl having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, isohexyl, n-heptyl, isoheptyl, n-octyl, isooctyl, n-nonyl, and n-decyl.
「置換基を有していてもよい低級アルキル」の置換基としては、ハロゲン;保
護されていてもよいヒドロキシ;低級アルコキシで置換されていてもよい低級ア
ルコキシ;アシル;アシルオキシ;カルボキシ;低級アルコキシカルボニル;メ
ルカプト;低級アルキルチオ;ヒドロキシ、低級アルキルもしくは置換基を有し
ていてもよいアシルで置換されていてもよいアミノ;ヒドロキシ、低級アルコキ
シ、カルボキシ低級アルコキシ、アリール低級アルコキシまたは5員もしくは6
員のヘテロ環式基で置換されていてもよいイミノ;カルバモイルもしくは低級ア
ルコキシカルボニルで置換されていてもよいヒドラゾノ;低級アルキルもしくは
アミノで置換されていてもよいカルバモイル;低級アルキルで置換されていても
よいチオカルバモイル;低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されていても
よいシクロアルキル;低級アルキルで置換されていてもよいシクロアルケニル;
シアノ;ヒドロキシ、低級アルキル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニルま
たは低級アルコキシで1以上置換されていてもよいフェニル;低級アルキルで置
換されていてもよく、ベンゼン環と縮合していてもよい5員または6員のヘテロ
環式基等が挙げられ、1以上の任意の位置がこれらの置換基で置換されていても
よい。好ましくはハロゲン;ヒドロキシ;アシル;アシルオキシ;カルボキシ;
低級アルコキシカルボニル;フェニル;低級アルキルフェニル;低級アルコキシ
フェニル;またはピリジル等で置換されていてもよい低級アルキルであり、さら
に好ましくはフェニルで置換されていてもよい低級アルキルであり、最も好まし
くは非置換低級アルキルである。 Substituents of "optionally substituted lower alkyl" include halogen; optionally protected hydroxy; lower alkoxy optionally substituted with lower alkoxy; acyl; acyloxy; carboxy; lower alkoxycarbonyl; mercapto; lower alkylthio; amino optionally substituted with hydroxy, lower alkyl or acyl optionally having a substituent; hydroxy, lower alkoxy, carboxy lower alkoxy, aryl lower alkoxy or 5- or 6-membered alkyl.
imino optionally substituted with a 3-membered heterocyclic group; hydrazono optionally substituted with carbamoyl or lower alkoxycarbonyl; carbamoyl optionally substituted with lower alkyl or amino; thiocarbamoyl optionally substituted with lower alkyl; cycloalkyl optionally substituted with lower alkyl or lower alkoxy; cycloalkenyl optionally substituted with lower alkyl;
Examples include cyano; phenyl which may be substituted with one or more of hydroxy, lower alkyl, carboxy, lower alkoxycarbonyl, or lower alkoxy; 5- or 6-membered heterocyclic groups which may be substituted with lower alkyl and which may be fused with a benzene ring, and the like, and one or more arbitrary positions may be substituted with these substituents. Preferred are halogen; hydroxy; acyl; acyloxy; carboxy;
Lower alkoxycarbonyl; phenyl; lower alkylphenyl; lower alkoxyphenyl; or lower alkyl optionally substituted by pyridyl or the like, more preferably lower alkyl optionally substituted by phenyl, and most preferably unsubstituted lower alkyl.
「低級アルコキシ」、「低級アルコキシカルボニル」、「低級アルキルスルホ
ニル」、「低級アルキルスルホニルオキシ」、「低級アルキルチオ」、「低級ア
ルキルアミノ」、「芳香族ヘテロ環低級アルキル」および「低級アルキレンジオ
キシ」の低級アルキル部分は上記「低級アルキル」と同様である。 The lower alkyl moiety of "lower alkoxy", "lower alkoxycarbonyl", "lower alkylsulfonyl", "lower alkylsulfonyloxy", "lower alkylthio", "lower alkylamino", "aromatic heterocyclic lower alkyl" and "lower alkylenedioxy" is the same as the above "lower alkyl".
「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」、「置換基を有していてもよい
低級アルコキシカルボニル」、「置換基を有していてもよい低級アルキルスルホ
ニル」および「置換基を有していてもよい低級アルキルチオ」の置換基としては
ハロゲン;保護されていてもよいヒドロキシ;アシルオキシで置換されていても
よい低級アルコキシ;アシル;ヒドロキシまたはカルボキシで置換されていても
よいアシルオキシ;カルボキシ;低級アルコキシカルボニル;低級アルキルチオ
;低級アルキルで置換されていてもよいアミノ;低級アルキルもしくは低級アル
コキシで置換されていてもよいフェニル;ヘテロ環式基;ヘテロ環カルボニルオ
キシ等が挙げられ、1以上のこれらの置換基で置換されていてもよい。好ましく
は非置換の低級アルコキシである。 Substituents of "optionally substituted lower alkoxy", "optionally substituted lower alkoxycarbonyl", "optionally substituted lower alkylsulfonyl" and "optionally substituted lower alkylthio" include halogen; optionally protected hydroxy; lower alkoxy optionally substituted with acyloxy; acyl; acyloxy optionally substituted with hydroxy or carboxy; carboxy; lower alkoxycarbonyl; lower alkylthio; amino optionally substituted with lower alkyl; phenyl optionally substituted with lower alkyl or lower alkoxy; heterocyclic group; heterocyclic carbonyloxy and the like, which may be substituted with one or more of these substituents. Preferably, it is unsubstituted lower alkoxy.
「低級アルケニル」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する炭素数2〜
10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数3〜6の直鎖または分
枝状のアルケニルを包含する。具体的にはビニル、プロペニル(2−プロペニル
等、イソプロペニル等)、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、
ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、
ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニルおよびデセニル等を包含す
る。 The term "lower alkenyl" refers to a group having 2 to 10 carbon atoms and one or more double bonds at any position.
10, preferably straight-chain or branched alkenyl having 2 to 8 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms. Specific examples include vinyl, propenyl (e.g., 2-propenyl, isopropenyl, etc.), butenyl, isobutenyl, prenyl, butadienyl,
pentenyl, isopentenyl, pentadienyl, hexenyl, isohexenyl,
It includes hexadienyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl and the like.
「置換基を有していてもよい低級アルケニル」の置換基は上記「置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシ」の置換基と同様であり、1以上の任意の位置がこ
れらの置換基で置換されていてもよい。特にハロゲン置換または非置換であるも
のが好ましい。 The substituents of the "optionally substituted lower alkenyl" are the same as those of the above-mentioned "optionally substituted lower alkoxy", and any one or more positions may be substituted with these substituents. Particularly preferred are those substituted with halogen or unsubstituted.
[低級アルケニルオキシ」、「低級アルケニルオキシカルボニル」および「低
級アルケニルアミノ」の低級アルケニル部分は上記「低級アルケニル」と同様で
ある。 The lower alkenyl moiety of "lower alkenyloxy", "lower alkenyloxycarbonyl" and "lower alkenylamino" is the same as the above "lower alkenyl".
「置換基を有していてもよい低級アルケニルオキシ」、「置換基を有していて
もよい低級アルケニルオキシカルボニル」および「置換基を有していてもよい低
級アルケニルチオ」の置換基は上記「置換基を有していてもよい低級アルコキシ
」の置換基と同様である。1以上の任意の位置がこれらの置換基で置換されてい
てもよい。 The substituents of "optionally substituted lower alkenyloxy", "optionally substituted lower alkenyloxycarbonyl" and "optionally substituted lower alkenylthio" are the same as the substituents of the above-mentioned "optionally substituted lower alkoxy". One or more arbitrary positions may be substituted with these substituents.
「低級アルキニル」とは、炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに
好ましくは炭素数3〜6の直鎖状または分枝状のアルキニルを包含し、具体的に
は、エチニル、プロピニル(2−プロピニル等)、ブチニル(2−ブチニル等)
、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニルおよびデシニル等
が挙げられる。これらは1以上の任意の位置に三重結合を有しており、さらに二
重結合を有していてもよい。 The term "lower alkynyl" includes straight-chain or branched alkynyl having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, and more preferably 3 to 6 carbon atoms, and specifically includes ethynyl, propynyl (e.g., 2-propynyl), butynyl (e.g., 2-butynyl), etc.
pentynyl, hexynyl, heptynyl, octynyl, nonyl, decynyl, etc. These have a triple bond at one or more arbitrary positions, and may further have a double bond.
「置換基を有していてもよい低級アルキニル」の置換基は上記「置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシ」の置換基と同様である。1以上の任意の位置がこ
れらの置換基で置換されていてもよい。 The substituents of the "optionally substituted lower alkynyl" are the same as the substituents of the above-mentioned "optionally substituted lower alkoxy". One or more arbitrary positions may be substituted with these substituents.
「低級アルキニルオキシ」の低級アルキニル部分および「置換基を有していて
もよい低級アルキニルオキシ」の置換基は上記「低級アルキニル」および「置換
基を有していてもよい低級アルキニルオキシ」と同様である。 The lower alkynyl moiety of "lower alkynyloxy" and the substituents of "optionally substituted lower alkynyloxy" are the same as those of the above "lower alkynyl" and "optionally substituted lower alkynyloxy".
「アシル」とは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜6、最も好まし
くは炭素数1〜4の直鎖または分枝のアルキルカルボニルまたは炭素数3〜10
、さらに好ましくは炭素数3〜6、最も好ましくは炭素数3〜4の直鎖または分
枝のアルケニルカルボニル、炭素数4〜9、好ましくは炭素数4〜7のシクロア
ルキルカルボニルおよびアリールカルボニルを包含する。具体的には、ホルミル
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、
ヘキサノイル、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイル
、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロオクチルカル
ボニルおよびベンゾイル等を包含する。 "Acyl" refers to a straight-chain or branched alkylcarbonyl having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and most preferably 1 to 4 carbon atoms, or a straight-chain or branched alkylcarbonyl having 3 to 10 carbon atoms.
, more preferably straight-chain or branched alkenylcarbonyl having 3 to 6 carbon atoms, most preferably 3 to 4 carbon atoms, cycloalkylcarbonyl and arylcarbonyl having 4 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 7 carbon atoms. Specific examples include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl,
Examples include hexanoyl, acryloyl, propioloyl, methacryloyl, crotonoyl, cyclopropylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, cyclooctylcarbonyl, and benzoyl.
「アロイル」とはアリールカルボニルおよび芳香族ヘテロ環カルボニルを意味
する。ここで芳香族ヘテロ環とは、例えばピロール環、イミダゾール環、ピラゾ
ール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアゾール
環、トリアジン環、イソキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、
イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環およびチオフェ
ン環等である。 The term "aroyl" refers to arylcarbonyl and aromatic heterocyclecarbonyl. Here, examples of aromatic heterocycle include pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazole ring, triazine ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring,
Examples include an isothiazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, a furan ring, and a thiophene ring.
「置換基を有していてもよいアシル」の置換基は上記「置換基を有していても
よい低級アルコキシ」の置換基と同様であり、さらにアリールカルボニルは低級
アルキルを置換基として有していてもよい。 The substituents of the "optionally substituted acyl" are the same as the substituents of the above-mentioned "optionally substituted lower alkoxy", and the arylcarbonyl may further have a lower alkyl as a substituent.
「アシルオキシ」のアシル部分は上記「アシル」と同様である。「置換基を有
していてもよいアシルオキシ」の置換基も上記「置換基を有していてもよいアシ
ル」と同様であり、1以上の任意の位置がこれらの置換基で置換されていてもよ
い。 The acyl moiety of "acyloxy" is the same as the above-mentioned "acyl". The substituents of "optionally substituted acyloxy" are the same as those of the above-mentioned "optionally substituted acyl", and any one or more positions may be substituted with these substituents.
「低級アルキルカルボニル」とは炭素数2〜4の脂肪族アシルを包含し、アセ
チル、プロピオニル、ブチリルおよびイソブチリル等を包含する。特にアセチル
が好ましい。 The term "lower alkylcarbonyl" includes aliphatic acyl having 2 to 4 carbon atoms, such as acetyl, propionyl, butyryl, and isobutyryl. Acetyl is particularly preferred.
「シクロアルキル」とは炭素数3〜6の炭素環式基であり、例えばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル等を包含する。 "Cycloalkyl" refers to a carbocyclic group of 3 to 6 carbon atoms and includes, for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl.
「置換基を有していてもよいシクロアルキル」の置換基としては低級アルキル
、ハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、カルボキシ、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルコキシ、低級アルキレンジオキシ、低級アルコキシで置換さ
れていてもよいイミノ、アリールまたは5員もしくは6員のヘテロ環式基等が挙
げられ、1以上の任意の位置が置換されていてもよい。好ましくは非置換シクロ
アルキルである。 Substituents of "optionally substituted cycloalkyl" include lower alkyl, halogen, optionally protected hydroxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl, lower alkoxy, lower alkylenedioxy, imino optionally substituted with lower alkoxy, aryl, or 5- or 6-membered heterocyclic group, and may be substituted at any one or more positions. Unsubstituted cycloalkyl is preferred.
「シクロアルケニル」とは、上記シクロアルキルの環中の任意の位置に1以上
の二重結合を有しているものを包含し、具体的にはシクロプロペニル、シクロブ
テニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルおよびシクロヘキサジエニル等が
挙げられる。 The term "cycloalkenyl" includes the above-mentioned cycloalkyls having one or more double bonds at any position in the ring, and specific examples include cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl, and cyclohexadienyl.
「置換基を有していてもよいシクロアルケニル」の置換基は上記「シクロアル
キル」の置換基と同様である。1以上の任意の位置がこれらの置換基で置換され
ていてもよい。 The substituents of the "optionally substituted cycloalkenyl" are the same as those of the above-mentioned "cycloalkyl". Any one or more positions may be substituted with these substituents.
「シクロアルキリデン」とは、炭素数3〜6の2価の炭素環の基を包含し、具
体的にはシクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデンおよびシ
クロヘキシリデンを包含する。「置換基を有していてもよいシクロアルキリデン
」の置換基は上記「シクロアルキル」の置換基と同様であり、1以上の任意の位
置がこれらの置換基で置換されていてもよい。好ましくは非置換シクロアルキリ
デンである。 "Cycloalkylidene" includes divalent carbon ring groups having 3 to 6 carbon atoms, and specifically includes cyclopropylidene, cyclobutylidene, cyclopentylidene, and cyclohexylidene. The substituents of "optionally substituted cycloalkylidene" are the same as those of the above-mentioned "cycloalkyl," and any one or more positions may be substituted with these substituents. Unsubstituted cycloalkylidene is preferred.
「置換基を有していてもよいアミノ」の置換基としては、置換基を有していて
もよい低級アルキル[ここで置換基とは低級アルコキシ、シクロアルキル、置換
基を有していてもよいアミノ(置換基とはアシルオキシ低級アルコキシで置換さ
れていてもよいアロイル)、置換基を有していてもよいアリール(置換基とは低
級アルキル、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル)または
ヘテロ環式基];低級アルケニル;低級アルキニル;シクロアルキル;低級アル
キル、カルボキシ、アシル、低級アルコキシカルボニルで置換されていてもよい
アリール;低級アルキルで置換されていてもよいスルファモイル;置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシカルボニル[ここで置換基とはハロゲン、アシルオ
キシ、ヒドロキシ置換アシルオキシ、カルボキシ置換アシルオキシまたはヘテロ
環カルボニルオキシ等];低級アルキルスルホニル等が挙げられる。置換アミノ
の好ましい例は低級アルキルアミノ、低級アルケニルアミノ、シクロアルキルア
ミノ、フェニルアミノおよび低級アルコキシカルボニルアミノ等である。1以上
の任意の位置がこれらの置換基で置換されていてもよい。 Substituents of the "optionally substituted amino" include optionally substituted lower alkyl [wherein the substituent is lower alkoxy, cycloalkyl, optionally substituted amino (wherein the substituent is aroyl optionally substituted with acyloxy-lower alkoxy), optionally substituted aryl (wherein the substituent is lower alkyl, lower alkoxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl) or heterocyclic group]; lower alkenyl; lower alkynyl; cycloalkyl; aryl optionally substituted with lower alkyl, carboxy, acyl, lower alkoxycarbonyl; sulfamoyl optionally substituted with lower alkyl; optionally substituted lower alkoxycarbonyl [wherein the substituent is halogen, acyloxy, hydroxy-substituted acyloxy, carboxy-substituted acyloxy, heterocyclic carbonyloxy, etc.]; lower alkylsulfonyl, etc. Preferred examples of substituted amino include lower alkylamino, lower alkenylamino, cycloalkylamino, phenylamino, and lower alkoxycarbonylamino. One or more arbitrary positions may be substituted with these substituents.
「置換基を有していてもよいカルバモイル」とは、低級アルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル等から選択される1以上の基で置換されていてもよいカル
バモイル等を包含する。 The term "carbamoyl which may be substituted" includes carbamoyl which may be substituted with one or more groups selected from lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, and the like.
「置換基を有していてもよいスルファモイル」とは、低級アルキル、低級アル
ケニル、低級アルキニル等から選択される1以上の基で置換されていてもよいス
ルファモイル等を包含する。 The term "optionally substituted sulfamoyl" includes sulfamoyl and the like which may be substituted with one or more groups selected from lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl and the like.
「芳香族炭素環」とは、単環または多環の芳香族炭素環であり、ベンゼン環、
ナフタレン環、アントラセン環およびフェナントレン環等を包含する。特にベン
ゼン環が好ましい。また、「芳香族炭素環」は別の炭素環と縮合していてもよく
、インダン環、インデン環、ジヒドロナフタレン環も包含する。 The term "aromatic carbocycle" refers to a monocyclic or polycyclic aromatic carbocycle, such as a benzene ring,
It includes a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, etc. A benzene ring is particularly preferred. The "aromatic carbocyclic ring" may be condensed with another carbocyclic ring, and also includes an indane ring, an indene ring, and a dihydronaphthalene ring.
「アリール」とは、単環または多環の芳香族炭素環から水素を1つ除いた基で
あり、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル等を包含する。特
にフェニルが好ましい。また、「アリール」は別の炭素環と縮合していてもよく
、縮合している炭素環に結合手を有していてもよい。例えばインダニル、インデ
ニル、ジヒドロナフチル等を包含する。 "Aryl" refers to a group in which one hydrogen atom has been removed from a monocyclic or polycyclic aromatic carbon ring, and includes phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, and the like. Phenyl is particularly preferred. Furthermore, "aryl" may be fused with another carbon ring, and the fused carbon ring may have a bond. Examples include indanyl, indenyl, dihydronaphthyl, and the like.
「置換基を有していてもよい芳香族炭素環」、「置換基を有していてもよいア
リール」および「置換基を有していてもよいベンゼン環」の置換基としては、ハ
ロゲン;保護されていてもよいヒドロキシ;ハロゲンもしくはカルボキシで置換
されていてもよい低級アルキル;ハロゲン、アリール、芳香族ヘテロ環式基もし
くは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;低級アルケニル;
低級アルキニル;シクロアルキル;低級アルケニルオキシ;低級アルキニルオキ
シ;シクロアルコキシ;アシル;アシルオキシ;カルボキシ;低級アルコキシカ
ルボニル;低級アルケニルオキシカルボニル;低級アルキルチオ;低級アルキニ
ルチオ;低級アルキル、シクロアルキル低級アルキル、アリール低級アルキル、
ヘテロアリール低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、ハロゲンで置
換されていてもよいアシル、低級アルコキシカルボニルもしくは低級アルキルス
ルホニルで置換されていてもよいアミノ;グアニジノ;ニトロ;低級アルキルス
ルホニル;ジヒドロキシボリル;ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル
スルホニルオキシ;アリールスルホニル;アリールスルホニルオキシ;アリール
;または5員もしくは6員のヘテロ環式基等が挙げられ、1以上の任意の位置が
これらの置換基で置換されていてもよい。好ましい置換基はハロゲン;保護され
ていてもよいヒドロキシ;ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル;アリ
ールもしくは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;低級アル
ケニル;低級アルケニルオキシ;アシル;アシルオキシ;低級アルコキシカルボ
ニル;低級アルキルチオ;低級アルキル、低級アルケニル、ハロゲンで置換され
ていてもよいアシルもしくは低級アルキルスルホニルで置換されていてもよいア
ミノ;ニトロ;低級アルキルスルホニル;ハロゲンで置換されていてもよい低級
アルキルスルホニルオキシ;またはアリールスルホニルオキシであり、さらに好
ましくはハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルボキシま
たは低級アルコキシカルボニルである。 Substituents of the "optionally substituted aromatic carbocycle", the "optionally substituted aryl" and the "optionally substituted benzene ring" include halogen; optionally protected hydroxy; lower alkyl optionally substituted with halogen or carboxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen, aryl, aromatic heterocyclic group or lower alkoxy; lower alkenyl;
Lower alkynyl; cycloalkyl; lower alkenyloxy; lower alkynyloxy; cycloalkoxy; acyl; acyloxy; carboxy; lower alkoxycarbonyl; lower alkenyloxycarbonyl; lower alkylthio; lower alkynylthio; lower alkyl, cycloalkyl lower alkyl, aryl lower alkyl,
Examples include heteroaryl lower alkyl, lower alkenyl, cycloalkyl, acyl which may be substituted with halogen, amino which may be substituted with lower alkoxycarbonyl or lower alkylsulfonyl; guanidino; nitro; lower alkylsulfonyl; dihydroxyboryl; lower alkylsulfonyloxy which may be substituted with halogen; arylsulfonyl; arylsulfonyloxy; aryl; or a 5- or 6-membered heterocyclic group, and any one or more positions may be substituted with these substituents. Preferred substituents are halogen; optionally protected hydroxy; lower alkyl optionally substituted with halogen; lower alkoxy optionally substituted with aryl or lower alkoxy; lower alkenyl; lower alkenyloxy; acyl; acyloxy; lower alkoxycarbonyl; lower alkylthio; amino optionally substituted with lower alkyl, lower alkenyl, acyl optionally substituted with halogen or lower alkylsulfonyl; nitro; lower alkylsulfonyl; lower alkylsulfonyloxy optionally substituted with halogen; or arylsulfonyloxy, more preferably halogen, hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy, carboxy or lower alkoxycarbonyl.
「アリールアルキル」、「アリールスルホニル」、「アリールスルホニルオキ
シ」および「アリールカルボニル」のアリール部分は上記「アリール」と同様で
あり、特にフェニルが好ましい。 The aryl moiety of "arylalkyl", "arylsulfonyl", "arylsulfonyloxy" and "arylcarbonyl" is the same as the above "aryl", and phenyl is particularly preferred.
「置換基を有していてもよいアリールスルホニル」の置換基は上記「置換基を
有していてもよいアリール」の置換基と同様であり、1以上の任意の位置がこれ
らの置換基で置換されていてもよい。特に非置換のものが好ましい。 The substituents of the "optionally substituted arylsulfonyl" are the same as those of the above-mentioned "optionally substituted aryl", and any one or more positions may be substituted with these substituents. Unsubstituted ones are particularly preferred.
「5員または6員のヘテロ環」とは、O、SおよびNから任意に選択されるヘ
テロ原子を環内に1以上有する5員または6員のヘテロ環を包含し、具体的には
ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環(4−ピリジル等)、
ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアゾール環、トリアジン環、イ
ソキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チ
アゾール環、チアジアゾール環、フラン環およびチオフェン環等の芳香族ヘテロ
環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロピリジン環、ジヒドロピリダジン環、ジヒ
ドロピラジン環、ジオキサン環、オキサチオラン環、チアン環、ピロリジン環、
ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン
環、ピペリジン環、ピペラジン環およびモルホリン環等の非芳香族ヘテロ環等が
挙げられる。 The term "5- or 6-membered heterocycle" includes 5- or 6-membered heterocycles having one or more heteroatoms selected from O, S, and N in the ring, and specifically includes pyrrole rings, imidazole rings, pyrazole rings, pyridine rings (4-pyridyl, etc.),
aromatic heterocycles such as a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a triazole ring, a triazine ring, an isoxazole ring, an oxazole ring, an oxadiazole ring, an isothiazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, a furan ring, and a thiophene ring, a tetrahydropyran ring, a dihydropyridine ring, a dihydropyridazine ring, a dihydropyrazine ring, a dioxane ring, an oxathiolane ring, a thiane ring, a pyrrolidine ring,
Examples of the heterocyclic ring include a non-aromatic heterocyclic ring such as a pyrroline ring, an imidazolidine ring, an imidazoline ring, a pyrazolidine ring, a pyrazoline ring, a piperidine ring, a piperazine ring, and a morpholine ring.
「1または2のヘテロ原子を含む5員または6員ヘテロ環」とは、上記「5員
または6員のヘテロ環」中、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリ
ジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、イソキサゾール環、オキサ
ゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、フラン環およびチオフェン環等の
芳香族ヘテロ環、ジオキサン環、オキサチオラン環、チアン環、ジヒドロピリジ
ン環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピラゾ
リジン環、ピラゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環およびモルホリン環等の
非芳香族ヘテロ環を包含する。特に芳香族ヘテロ環が好ましい。 The "5- or 6-membered heterocycle containing one or two heteroatoms" includes aromatic heterocycles such as pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, isoxazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, furan ring, and thiophene ring, and non-aromatic heterocycles such as dioxane ring, oxathiolane ring, thiane ring, dihydropyridine ring, pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, piperidine ring, piperazine ring, and morpholine ring. Aromatic heterocycles are particularly preferred.
A環、B環またはC環における「5員または6員のヘテロ環」としては、好ま
しくはそれぞれ2位および5位に結合手を有するピリジン環およびピリミジン環
である。 The "5- or 6-membered heterocyclic ring" in ring A, ring B or ring C is preferably a pyridine ring or a pyrimidine ring having bonds at the 2- and 5-positions, respectively.
Yにおける「5員または6員のヘテロ環式基」としては、好ましくは4−ピリ
ジル、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3−チエニル、1,2−ジヒド
ロピリジン−5−イル、2,3−ジヒドロピリダジン−6−イル、1,2−ジヒ
ドロピラジン−5−イル等が挙げられる。 The "5- or 6-membered heterocyclic group" for Y is preferably 4-pyridyl, 2-furyl, 3-furyl, 2-thienyl, 3-thienyl, 1,2-dihydropyridin-5-yl, 2,3-dihydropyridazin-6-yl, 1,2-dihydropyrazin-5-yl, or the like.
「ベンゼン環と縮合していてもよい5員または6員のヘテロ環」の例としては
、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、インダゾール環、
シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、ベンゾイソキサゾール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイソ
チアゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアゾール環、
イソベンゾフラン環、インドリン環、イソインドリン環およびクロメン環等が挙
げられる。これらは縮合しているヘテロ環に結合手を有していてもよい。 Examples of the "5- or 6-membered heterocyclic ring optionally condensed with a benzene ring" include an indole ring, an isoindole ring, a benzimidazole ring, an indazole ring,
a cinnoline ring, a phthalazine ring, a quinazoline ring, a benzisoxazole ring, a benzoxazole ring, a benzoxadiazole ring, a benzothiazole ring, a benzisothiazole ring, a benzofuran ring, a benzothiophene ring, a benzotriazole ring,
Examples include an isobenzofuran ring, an indoline ring, an isoindoline ring, and a chromene ring, which may have a bond to the fused hetero ring.
「置換基を有していてもよい5員または6員のヘテロ環」、「置換基を有して
いてもよく、ベンゼン環と縮合していてもよい5員または6員のヘテロ環」およ
び「置換基を有していてもよく、1または2のヘテロ原子を含む5員または6員
ヘテロ環」の置換基としては、ハロゲン;保護されていてもよいヒドロキシ;ヒ
ドロキシまたはアシルオキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲン、
アリールまたは5員もしくは6員のヘテロ環で置換されていてもよい低級アルコ
キシ;低級アルケニル;低級アルケニルオキシ;低級アルキニル;低級アルキニ
ルオキシ;アシルオキシ;カルボキシ;低級アルコキシカルボニル;メルカプト
;低級アルキルチオ;低級アルケニルチオ;ハロゲン、置換基を有していてもよ
い低級アルキル(置換基とはシクロアルキルまたは5員もしくは6員のヘテロ環
)、ハロゲンで置換されていてもよいアシル、低級アルケニル、シクロアルキル
もしくは低級アルキルスルホニルでモノまたはジ置換されていてもよいアミノ;
低級アルキルスルホニルで置換されていてもよいイミノ;ニトロ;低級アルキル
スルホニル;アリール;5員または6員のヘテロ環;オキソ;またはオキシド等
が挙げられ、1以上の任意の位置が置換されていてもよい。好ましくはハロゲン
;ヒドロキシ;低級アルキル;低級アルコキシ;カルボキシ;低級アルコキシカ
ルボニル;低級アルキルまたは低級アルケニルで置換されていてもよいアミノ等
であり、特に好ましくは低級アルキルである。 Substituents of the "optionally substituted 5- or 6-membered heterocycle", the "optionally substituted 5- or 6-membered heterocycle which may be fused with a benzene ring" and the "optionally substituted 5- or 6-membered heterocycle containing 1 or 2 heteroatoms" include halogen; optionally protected hydroxy; lower alkyl which may be substituted with hydroxy or acyloxy; halogen,
lower alkoxy optionally substituted with aryl or a 5- or 6-membered heterocycle; lower alkenyl; lower alkenyloxy; lower alkynyl; lower alkynyloxy; acyloxy; carboxy; lower alkoxycarbonyl; mercapto; lower alkylthio; lower alkenylthio; amino optionally mono- or di-substituted with halogen, optionally substituted lower alkyl (the substituent is cycloalkyl or a 5- or 6-membered heterocycle), acyl optionally substituted with halogen, lower alkenyl, cycloalkyl or lower alkylsulfonyl;
Examples include imino optionally substituted with lower alkylsulfonyl, nitro, lower alkylsulfonyl, aryl, 5- or 6-membered heterocycle, oxo, or oxide, which may be substituted at any one or more positions. Preferred are halogen, hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl, amino optionally substituted with lower alkyl or lower alkenyl, and particularly preferred is lower alkyl.
「置換基を有していてもよく、1または2のヘテロ原子を含む5員または6員
ヘテロ環」の置換基も上記と同様であるが、好ましくは低級アルキルで置換され
たものまたは非置換のものである。 The substituents of the "optionally substituted 5- or 6-membered heterocycle containing 1 or 2 heteroatoms" are the same as those described above, but are preferably unsubstituted or substituted with lower alkyl.
「A環、B環および/またはC環が置換基を有していてもよい5員のヘテロ環
である場合はW1、W2および/またはW3が結合を示す」とは、A環が5員の
ヘテロ環である場合にはW1が結合を示し、A環に対するV1およびXの結合位
置が
となることを意味する。同様にB環またはC環が5員のヘテロ環である場合には
、W2またはW3が各々結合を示し、V1およびV2の結合位置が
となることを意味する。X、V1またはV2はそれぞれA環、B環またはC環の
構成原子であるヘテロ原子と直接結合してもよい。 The phrase "when ring A, ring B and/or ring C is a 5-membered heterocyclic ring which may have a substituent, W 1 , W 2 and/or W 3 represent a bond" means that when ring A is a 5-membered heterocyclic ring, W 1 represents a bond, and the bonding positions of V 1 and X to ring A are Similarly, when ring B or ring C is a 5-membered heterocycle, W2 or W3 represents a bond, and the bonding positions of V1 and V2 are X, V1 or V2 may be directly bonded to a heteroatom which is a constituent atom of ring A, ring B or ring C, respectively.
「RaおよびRbが一緒になって−(CReRf)r−を形成する」とは、R
aおよびRbが結合しているN原子と一緒になって、置換基を有していてもよい
含窒素飽和ヘテロ環を形成することを意味し、例えば置換基を有していてもよい
アジリジン、置換基を有していてもよいアゼチジン、置換基を有していてもよい
ピロリジン、置換基を有していてもよいピペリジンおよび置換基を有していても
よいペルヒドロアゼピン(ここで置換基とは低級アルキル、低級アルコキシまた
はアミノ)を包含する。複数のReおよび複数のRfは各々独立して水素、低級
アルキル、低級アルコキシまたはアミノを示してよく、具体的には−(CH2)
2−、−(CH2)3−、−CH(Me)(CH2)3−、−CH2CH(OM
e)(CH2)3−、−(CH2)3CH(NH2)(CH2)2−等が挙げら
れる。 "R a and R b together form -(CR e R f )r-" means that R
R a and R b together with the N atom to which they are bonded form a nitrogen-containing saturated heterocycle which may have a substituent, and examples thereof include aziridine which may have a substituent, azetidine which may have a substituent, pyrrolidine which may have a substituent, piperidine which may have a substituent, and perhydroazepine which may have a substituent (wherein the substituent is lower alkyl, lower alkoxy, or amino). A plurality of R e and a plurality of R f may each independently represent hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino, and specifically, -(CH 2 )
2- , -( CH2 ) 3- , -CH(Me)( CH2 ) 3- , -CH2CH (OM
e) ( CH2 ) 3- , -( CH2 ) 3CH ( NH2 )( CH2 ) 2- and the like.
本発明は、本発明化合物(I)の製薬上許容される塩を包含する。例えば塩酸
、硫酸、硝酸、リン酸、フッ化水素酸、臭化水素酸等の鉱酸の塩;ギ酸、酢酸、
酒石酸、乳酸、クエン酸、フマール酸、マレイン酸、コハク酸等の有機酸の塩;
アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム等の有機塩基
の塩;ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の塩またはカルシウム、マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属の塩等を挙げることができる。 The present invention includes pharmaceutically acceptable salts of Compound (I) of the present invention. For example, salts of mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, hydrobromic acid, etc.; salts of formic acid, acetic acid,
Salts of organic acids such as tartaric acid, lactic acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, and succinic acid;
Examples include salts of organic bases such as ammonium, trimethylammonium, and triethylammonium; salts of alkali metals such as sodium and potassium, and salts of alkaline earth metals such as calcium and magnesium.
本発明は本発明化合物(I)の溶媒和物(好ましくは水和物)を包含する。溶
媒和物としては有機溶媒および/または水との溶媒和物が挙げられる。水和物を
形成するときは、任意の数の水分子と配位していてもよい。 The present invention includes solvates (preferably hydrates) of Compound (I) of the present invention. Examples of solvates include solvates with organic solvents and/or water. When forming a hydrate, the compound may be coordinated with any number of water molecules.
本発明は、化合物(I)の全ての立体異性体(例えばアトロプ異性体等)を包
含する。 The present invention includes all stereoisomers (for example, atropisomers) of compound (I).
化合物(I)は全て免疫抑制作用、抗アレルギー作用および/またはIgE抗
体産生抑制作用を有しているが、その中でも特に以下の化合物が好ましい。 All of the compounds (I) have immunosuppressive, antiallergic and/or IgE antibody production inhibitory effects, but the following compounds are particularly preferred.
式(I)において、
1)A環が置換基を有していてもよい芳香族炭素環または置換基を有していても
よい5員または6員のヘテロ環である(以下、A環がA−1であるとする)化合
物、
A環が置換基を有していてもよいベンゼン環または置換基を有していてもよい6
員ヘテロ環である(以下、A環がA−2であるとする)化合物、
A環が置換基を有していてもよいベンゼン環である(以下、A環がA−3である
とする)化合物、
A環が置換基(ハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、低級アルキル、低
級アルコキシ、カルボキシまたは低級アルコキシカルボニル)を有していてもよ
いベンゼン環である(以下、A環がA−4であるとする)化合物、
A環が置換基(ハロゲン、ヒドロキシまたは低級アルコキシ)を有していてもよ
いベンゼン環である(以下、A環がA−5であるとする)化合物、
A環がハロゲンで置換されていてもよいベンゼン環である(以下、A環がA−6
であるとする)化合物、
2)B環が置換基を有していてもよい芳香族炭素環または置換基を有していても
よい5員または6員のヘテロ環である(以下、B環がB−1であるとする)化合
物、
B環が置換基を有していてもよいベンゼン環または置換基を有していてもよい6
員ヘテロ環である(以下、B環がB−2であるとする)化合物、
B環が置換基を有していてもよいベンゼン環である(以下、B環がB−3である
とする)化合物、
B環が置換基(ハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、置換基を有してい
てもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、または置換
基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル)を有していてもよいベンゼン
環である(以下、B環がB−4であるとする)化合物、
B環が置換基(ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキ
シカルボニル)を有していてもよいベンゼン環である(以下、B環がB−5であ
るとする)化合物、
B環が
である(以下、B環がB−6であるとする)化合物、
3)C環が置換基を有していてもよい芳香族炭素環または置換基を有していても
よい5員または6員のヘテロ環である(以下、C環がC−1であるとする)化合
物、
C環が置換基を有していてもよいベンゼン環または置換基を有していてもよい、
1または2のヘテロ原子を含む6員ヘテロ環である(以下、C環がC−2である
とする)化合物、
C環がC環が置換基を有していてもよいベンゼン環、置換基を有していてもよい
ピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよ
いピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である(以下、C環
がC−3であるとする)化合物、
C環がベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環またはピラジン環
(これらはハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されていてもよ
い)である(以下、C環がC−4であるとする)化合物、
C環がベンゼン環またはピリジン環(これらはハロゲン、低級アルキルまたは低
級アルコキシで置換されていてもよい)である(以下、C環がC−5であるとす
る)化合物、
4)Xが−O−、−CH2−または−NR1−(ここでR1は水素または置換基
を有していてもよい低級アルキル)である(以下、XがX1であるとする)化合
物、
Xが−O−、−CH2−または−NH−である(以下、XがX2であるとする)
化合物、
Xが−O−または−NH−である(以下、XがX3であるとする)化合物、
Xが−NH−である(以下、XがX4であるとする)化合物、
5)Yが水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していても
よい低級アルケニルまたは置換基を有していてもよいシクロアルキルである(以
下、YがY1であるとする)化合物、
Yが水素、低級アルキル、アリールアルキル、低級アルケニルまたはシクロアル
キルである(以下、YがY2であるとする)化合物、
Yが低級アルキル、ベンジルまたは低級アルケニルである(以下、YがY3であ
るとする)化合物、
Yがプレニルである(以下、YがY4であるとする)化合物、
6)V1およびV2が共に単結合である化合物、
7)RaおよびRbは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルケニルまたは
低級アルコキシカルボニルであるか、一緒になってRcRdC=または−(CR
eRf)r−を形成し、RcおよびRdは各々独立して水素、低級アルキル、低
級アルケニル、低級アルコキシ、アリールまたはヘテロ環式基であるか、一緒に
なって結合している炭素原子と共にシクロアルキリデンを形成し、Reは各々独
立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独
立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、rは2〜6の
整数である(以下、RaおよびRbがRab−1であるとする)化合物、
RaおよびRbが各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキル、炭素数2〜6の
アルケニルまたは炭素数1〜6のアルコキシカルボニルであるか、一緒になって
RcRdC=または−(CReRf)r−を形成し、RcおよびRdは各々独立
して水素、炭素数1〜6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数1〜6
のアルコキシ、フェニルまたは5員もしくは6員の芳香族ヘテロ環式基であるか
、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6のシクロアルキリ
デンを形成し、Reは各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキル、炭素数1〜
6のアルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、炭素数1〜6の
アルキル、炭素数1〜6のアルコキシまたはアミノであり、rは4または5であ
る(以下、RaおよびRbがRab−2であるとする)化合物、
RaおよびRbが各々独立して水素、炭素数1〜3のアルキルまたは炭素数1〜
4のアルコキシカルボニルであるか、一緒になってRcRdC=または−(CR
eRf)r−を形成し、RcおよびRdが各々独立して水素、炭素数1〜3のア
ルキル、炭素数2〜4のアルケニルまたは炭素数1〜3のアルコキシであり、R
eは各々独立して水素または炭素数1〜3のアルキルであり、Rfは各々独立し
て水素または炭素数1〜3のアルキルであり、rは4または5である(以下、R
aおよびRbがRab−3であるとする)化合物、
RaおよびRbが各々独立して水素、炭素数1〜3のアルキルまたは炭素数1〜
4のアルコキシカルボニルであるか、一緒になってRcRdC=を形成し、Rc
およびRdの一方が炭素数1〜3のアルキルであり、他方が水素、炭素数1〜3
のアルキルまたは炭素数1〜3の低級アルコキシである(以下、RaおよびRb
がRab−4であるとする)化合物、
RaおよびRbが一緒になってRcRdC=を形成し、RcおよびRdの一方が
炭素数1〜3のアルキルであり、他方が炭素数1〜3のアルキルまたは炭素数1
〜3の低級アルコキシである(以下、RaおよびRbがRab−5であるとする
)化合物、
8)nが0または1である(以下、nがn1であるとする)化合物、
nが1である(以下、nがn2であるとする)化合物、
9)A環、B環、C環、X、Y、Ra、Rbおよびnが以下の組み合わせのいず
れかであり、V1およびV2が共に単結合である化合物。In formula (I),
1) ring A is an aromatic carbocyclic ring which may have a substituent, or
A compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring (hereinafter, the A ring is assumed to be A-1).
wherein ring A is an optionally substituted benzene ring or an optionally substituted 6
a compound in which ring A is a benzene ring optionally having a substituent (hereinafter, a compound in which ring A is A-3)
a compound in which ring A is substituted with a substituent (halogen, optionally protected hydroxy, lower alkyl,
lower alkoxy, carboxy or lower alkoxycarbonyl).
A compound in which ring A is a benzene ring (hereinafter referred to as A-4),
wherein ring A may have a substituent (halogen, hydroxy, or lower alkoxy).
Compounds in which the A ring is an optionally halogen-substituted benzene ring (hereinafter, the A ring is referred to as A-6)
2) a compound in which ring B is an aromatic carbocyclic ring optionally having a substituent, or
A compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring (hereinafter, the B ring is assumed to be B-1).
wherein ring B is an optionally substituted benzene ring or an optionally substituted 6
a compound in which ring B is a benzene ring optionally having a substituent (hereinafter, a compound in which ring B is B-3);
) compounds in which ring B has a substituent (halogen, optionally protected hydroxy,
optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, or substituted
Benzene optionally having a lower alkoxycarbonyl group)
A compound in which ring B is a ring (hereinafter, ring B is referred to as B-4),
where ring B is a substituent (hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy, or lower alkoxy)
The B ring is B-5.
(Let's say the compound has ring B.)(hereinafter, the B ring is referred to as B-6),
3) a compound in which the C ring is an aromatic carbocycle which may have a substituent or a
A compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring (hereinafter, the C ring is assumed to be C-1)
The C ring is an optionally substituted benzene ring or an optionally substituted benzene ring,
It is a 6-membered heterocycle containing 1 or 2 heteroatoms (hereinafter, the C ring is C-2
a compound in which the C ring is a benzene ring optionally having a substituent,
pyridine ring, optionally substituted pyrimidine ring, optionally substituted pyrimidine ring,
a pyridazine ring or a pyrazine ring which may have a substituent (hereinafter referred to as C ring)
is C-3),
wherein the C ring is a benzene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, or pyrazine ring
(These may be substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy.
(Hereinafter, the C ring is assumed to be C-4)
Compounds in which the C ring is a benzene ring or a pyridine ring (these are not halogenated, lower alkyl, or lower alkyl).
(hereinafter, the C ring is assumed to be C-5.)
4) Compounds in which X is —O—, —CH2-or-NR1- (where R1is hydrogen or a substituent
(hereinafter, X is assumed to be X1)
substance,
X is -O-, -CH2- or -NH- (hereinafter, X is assumed to be X2).
Compounds in which X is -O- or -NH- (hereinafter referred to as X3),
Compounds in which X is -NH- (hereinafter referred to as X4),
5) Compounds in which Y is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted lower alkyl
and optionally substituted lower alkenyl or optionally substituted cycloalkyl (the following
(Hereinafter, Y is assumed to be Y1) Compounds in which Y is hydrogen, lower alkyl, arylalkyl, lower alkenyl, or cycloalkyl
Compounds in which Y is lower alkyl, benzyl, or lower alkenyl (hereinafter, Y is Y2),
compounds in which Y is lower alkyl, benzyl, or lower alkenyl (hereinafter, Y is Y3),
(hereinafter, Y is assumed to be Y4)
6) Compounds where Y is prenyl (hereinafter, Y is assumed to be Y4)
7) Compounds where V1and V2and R are both single bonds,
7) Raand Rbare each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl, or
lower alkoxycarbonyl, or together with RcRdC= or −(CR
eRf)r-, and Rcand Rdare each independently hydrogen, lower alkyl, lower
lower alkenyl, lower alkoxy, aryl or heterocyclic group, or together
together with the carbon atom to which they are attached form a cycloalkylidene, and ReEach is unique
R is hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino;fEach is unique
each independently represents hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; and r is 2 to 6.
is an integer (hereinafter referred to as Raand Rb(where R is Rab-1)aand Rbeach independently represents hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms,
alkenyl or alkoxycarbonyl having 1 to 6 carbon atoms, or together
RcRdC= or −(CReRf)r-, and Rcand Rdare independent
and hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms,
alkoxy, phenyl or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group of the formula
, and the carbon atoms to which they are bonded together form a cycloalkyl group having 5 or 6 carbon atoms.
Form a den and Reare each independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms,
6 alkoxy or amino, and Rfare each independently hydrogen, a C1 to C6
alkyl, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, or amino; and r is 4 or 5.
(hereinafter referred to as Raand Rb(where R is Rab-2)aand Rbeach independently represents hydrogen, alkyl having 1 to 3 carbon atoms, or alkyl having 1 to 3 carbon atoms
4 alkoxycarbonyl, or together with RcRdC= or −(CR
eRf)r-, and Rcand Rdare each independently hydrogen, a C 1-3 alkyl group
alkyl, alkenyl having 2 to 4 carbon atoms, or alkoxy having 1 to 3 carbon atoms; R
eare each independently hydrogen or alkyl having 1 to 3 carbon atoms; Rfare independent of each other
is hydrogen or alkyl having 1 to 3 carbon atoms, and r is 4 or 5 (hereinafter referred to as R
aand Rb(where R is Rab-3)aand Rbeach independently represents hydrogen, alkyl having 1 to 3 carbon atoms, or alkyl having 1 to 3 carbon atoms
4 alkoxycarbonyl, or together with RcRdC=, and Rc
and Rdone of which is alkyl having 1 to 3 carbon atoms, and the other is hydrogen,
or lower alkoxy having 1 to 3 carbon atoms (hereinafter referred to as Raand Rb
(assuming that R is Rab-4)aand RbTogether, RcRdC=, and Rcand RdOne of the
alkyl having 1 to 3 carbon atoms, and the other is alkyl having 1 to 3 carbon atoms or
and lower alkoxy having a molecular weight of 1 to 3 (hereinafter referred to as Raand RbLet be Rab-5
) Compounds,
8) Compounds where n is 0 or 1 (hereinafter referred to as n1),
Compounds where n is 1 (hereinafter referred to as n2),
9) Ring A, Ring B, Ring C, X, Y, Ra, Rband n is one of the following combinations:
Reka and V1and V2A compound in which both are single bonds.
式(I’)において
1)C環が置換基を有していてもよい芳香族炭素環または置換基を有していても
よい6員のヘテロ環である(以下、C環がC−1’であるとする)化合物、
C環がC環がC−2である化合物、C環がC−3である化合物、C環がC−4で
ある化合物、C環がC−5である化合物、
2)XがX1である化合物、XがX2である化合物、XがX3である化合物、X
がX4である化合物、
3)YがY1である化合物、YがY2である化合物、YがY3である化合物、Y
がY4である化合物、
4)R4、R5、R6およびR7が各々独立して水素、ハロゲン、保護されてい
てもよいヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルボキシまたは低級ア
ルコキシカルボニルである(以下、R4〜R7がR47−1であるとする)化合
物、
R4、R5、R6およびR7が各々独立して水素またはハロゲンである(以下、
R4〜R7がR47−2であるとする)化合物、
R4およびR5の一方が水素であり、他方がハロゲンであり、R6およびR7が
共に水素である(以下、R4〜R7がR47−3であるとする)化合物、
5)R8、R9、R10およびR11が各々独立して水素、ハロゲン、保護され
ていてもよいヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有
していてもよい低級アルコキシ、カルボキシまたは置換基を有していてもよい低
級アルコキシカルボニルである(以下、R8〜R11がR811−1であるとす
る)化合物、
R8、R9、R10およびR11が各々独立して水素、保護されていてもよいヒ
ドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキシカルボニルであ
る(以下、R8〜R11がR811−2であるとする)化合物、
R8およびR11が各々独立して水素、ヒドロキシ、低級アルキルまたは低級ア
ルコキシカルボニルであり、R9およびR10が各々独立してヒドロキシ、低級
アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキシカルボニルである(以下、R8
〜R11がR811−3であるとする)化合物、
R8が水素または低級アルキルであり、R9がヒドロキシ、低級アルキルまたは
低級アルコキシであり、R10がヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシま
たは低級アルコキシカルボニルであり、R11が水素、ヒドロキシまたは低級ア
ルキルまたは低級アルコキシカルボニルである(以下、R8〜R11がR811
−4であるとする)化合物、
R8、R9、R10およびR11のそれぞれの組み合わせが上記B−6と同様で
ある(以下、R8〜R11がR811−5であるとする)化合物、
6)RaおよびRbがRab−1である化合物、RaおよびRbがRab−2で
ある化合物、RaおよびRbがRab−3である化合物、RaおよびRbがRa
b−4である化合物、RaおよびRbがRab−5である化合物、
7)nがn1である化合物、nがn2である化合物、
8)C環、X、Y、Ra、Rbおよびnが以下の組み合わせのいずれかであり、
R4〜R7がR47−3であり、R8〜R11がR811−4である化合物。 In formula (I'), 1) the C ring is an aromatic carbocyclic ring optionally having a substituent or a substituted or unsubstituted aromatic carbocyclic ring.
Compounds in which the C ring is C-1',
compounds in which the C ring is C-2,
compounds in which the C ring is C-3,
compounds in which the C ring is C-4
a compound in which the C ring is C-5,
2) a compound in which X is X1, a compound in which X is X2, a compound in which X is X3,
is X4,
3) a compound where Y is Y1, a compound where Y is Y2, a compound where Y is Y3,
is Y4,
4) R4, R5, R6and R7are each independently hydrogen, halogen, or protected
Optionally, hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy, carboxy or lower alkyl
alkoxycarbonyl (hereinafter referred to as R4~R7is R47-1) Compound
thing,
R4, R5, R6and R7are each independently hydrogen or halogen (hereinafter,
R4~R7(where R is R47-2) Compound,
R4and R5one of which is hydrogen and the other is halogen, and R6and R7but
Both are hydrogen (hereinafter referred to as R4~R7is R47-3) Compound,
5) R8, R9, R10and R11are each independently hydrogen, halogen, or protected
optionally substituted hydroxy, optionally substituted lower alkyl,
optionally substituted lower alkoxy, carboxy or optionally substituted lower
alkoxycarbonyl (hereinafter referred to as R8~R11is R811-1
(R) compound,8, R9, R10and R11each independently represents hydrogen, optionally protected hydroxyl
hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy or lower alkoxycarbonyl
(hereinafter referred to as R8~R11(assuming that R811-2) Compound,
R8and R11are each independently hydrogen, hydroxy, lower alkyl or lower alkyl
alkoxycarbonyl, and R9and R10are each independently hydroxy, lower alkyl
alkyl, lower alkoxy, or lower alkoxycarbonyl (hereinafter referred to as R8
~R11(assuming that R811-3) Compound,
R8is hydrogen or lower alkyl, and R9is hydroxy, lower alkyl or
lower alkoxy, and R10is hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy or
or lower alkoxycarbonyl, R11is hydrogen, hydroxy or lower alkyl
alkyl or lower alkoxycarbonyl (hereinafter referred to as R8~R11is R811
-4) compound,
R8, R9, R10and R11Each combination is the same as B-6 above.
(hereinafter referred to as R8~R11is R811-5) Compound,
6) Raand Rba compound in which R is Rab-1;aand Rbis Rab-2
A compound, Raand Rba compound in which R is Rab-3;aand RbRa
b-4, the compound Raand Rbis Rab-5,
7) Compounds where n is n1, compounds where n is n2,
8) Compounds where C ring, X, Y, Ra, Rband n is any of the following combinations:
R4~R7is R47-3, and R8~R11A compound in which R811-4 is
本発明の好ましい例示としてより具体的には、化合物(I)においてA環、B
環、C環、X、Y、RaおよびRbの組み合わせ((ABC,RaRb)で表す
)が以下に示すものであり、V1およびV2が単結合のものである。 More specifically, preferred examples of the present invention include compounds (I) in which ring A, ring B
The combinations of the ring, ring C, X, Y, Ra and Rb (represented by (ABC,RaRb)) are as shown below, and V1 and V2 are single bonds.
(表1〜3は表4〜表12で用いるA1、A2、・・・、B1、B2、・・・C
1、C2、・・・の各記号の表す部分構造を示し、表4〜表12はABC1、A
BC2、・・・の各記号の表すA環、B環およびC環の組み合わせを示し、表1
3はRaRb1、RaRb2、・・・の各記号の表すRaおよびRbの組み合わ
せを示す。表中、cHexはシクロヘキシル、cPrはシクロプロピルを表す。
)
A環、B環、C環、X、Y、RaおよびRbの組み合わせが以下のものが好まし
い。(Tables 1 to 3 are A1, A2, ..., B1, B2, ... C used in Tables 4 to 12.
Tables 4 to 12 show the partial structures represented by the symbols ABC1, A, C2, ...
The combinations of rings A, B and C represented by the symbols BC2, ... are shown in Table 1.
3 shows the combinations of Ra and Rb represented by each symbol RaRb1, RaRb2, ... In the table, cHex represents cyclohexyl, and cPr represents cyclopropyl.
) The combinations of ring A, ring B, ring C, X, Y, R a and R b are preferably as follows.
上記化合物のうち、さらに好ましくは、 X’が−O−であり、nが0である化合物、 X’が−O−であり、nが1である化合物または X’が−NH−であり、nが0である化合物である。 Among the above compounds, more preferred are compounds in which X' is -O- and n is 0, compounds in which X' is -O- and n is 1, and compounds in which X' is -NH- and n is 0.
以下に化合物(I)の製造方法を説明する。The method for producing compound (I) is explained below.
[A法]
例えば、下記式(I’)で示される化合物(以下、化合物(I’)とする)を
得る場合には、式(II)で示される化合物(以下、化合物(II)とする)と
式(III)で示される化合物(以下、化合物(III)とする)より製造する
ことができる。[Method A] For example, a compound represented by the following formula (I') (hereinafter referred to as compound (I')) can be produced from a compound represented by formula (II) (hereinafter referred to as compound (II)) and a compound represented by formula (III) (hereinafter referred to as compound (III)).
(式中、置換基Lはハロゲン、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、
低級アルキルスルホニルオキシまたはアリールスルホニルオキシ等の脱離基であ
り、その他の各記号は前記と同義)
化合物(II)および(III)を適当な溶媒(例えばベンゼン、トルエン、
アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、メタノールまたはエタノール等)中、必
要であれば塩基(例えば水素化ナトリウム、カリウム t−ブトキシド、ピリジ
ン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
等)存在下、0℃〜加熱下で数分〜数十時間反応させることにより目的化合物(
I’)が得られる。 (wherein the substituent L is halogen, lower alkylsulfonyl, arylsulfonyl,
The other symbols are as defined above. Compounds (II) and (III) are dissolved in a suitable solvent (e.g., benzene, toluene,
The target compound (
I') is obtained.
RaおよびRbが一緒になってRcRdC=を形成する化合物(I’’)を得
る場合には、前記と同様にRcRdC=N−X’Hと化合物(II)より製造す
るか、または化合物(II)から得られるRaおよびRbが水素である化合物(
I’)と式(IV)で示される化合物(以下、化合物(IV)とする)により製
造することができる。 When compound (I'') in which R a and R b combine to form R c R d C= can be obtained, it can be prepared from R c R d C=N-X'H and compound (II) in the same manner as above, or a compound (I'') in which R a and R b are hydrogen, obtained from compound (II) can be prepared.
I') and a compound represented by formula (IV) (hereinafter referred to as compound (IV)).
(式中、各記号は前記と同義)
まず、化合物(II)を適当な溶媒(例えばトルエン、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、メタノール
またはエタノール等)中、あるいは無溶媒でヒドラジンと反応させ化合物(I’
、X’=NH)を得るか、ジャーナル オブ ケミカル ソサイエティ、192
6、2348に記載のN−ヒドロキシフタルイミドを用いる方法、あるいはジャ
ーナル オブ ケミカル ソサイエティ、1927、874に記載のベンゾヒド
ロキサム酸を用いる方法等により化合物(I’、X’=O)を得る。得られた化
合物をケトンあるいはアルデヒド等のカルポニル化合物(IV)と、必要であれ
ば酸触媒(塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、低級アルカンスルホン酸またはアリ
ールスルホン酸等)の存在下脱水縮合すると目的化合物(I’’)が得られる。 (wherein each symbol has the same meaning as defined above) First, compound (II) is dissolved in a suitable solvent (e.g., toluene, tetrahydrofuran,
N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, pyridine, methanol, ethanol, or the like) or without a solvent to give compound (I'
, X' = NH) or Journal of Chemical Society, 192
Compound (I', X' = O) is obtained by a method using N-hydroxyphthalimide as described in Journal of Chemical Society, 6, 2348, or a method using benzohydroxamic acid as described in Journal of Chemical Society, 1927, 874. The obtained compound is subjected to dehydration condensation with a carbonyl compound (IV) such as a ketone or aldehyde, if necessary, in the presence of an acid catalyst (hydrochloric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, lower alkanesulfonic acid, arylsulfonic acid, etc.), to obtain the target compound (I'').
さらに、得られた化合物(I’’)のRcあるいはRdのいずれか一方が低級
アルコキシである場合には、適当な溶媒(例えばトルエン、テトラヒドロフラン
、ジオキサンまたはジクロロメタン等)中、酸(塩酸、酢酸または過塩素酸等)
存在下、カルボニル化合物(RcC(=O)Rd)と反応させ、別のRcおよび
Rdを有する目的化合物に変換する事ができる。 Furthermore, when either R c or R d of the obtained compound (I″) is lower alkoxy, the compound (I″) can be reacted with an acid (hydrochloric acid, acetic acid, perchloric acid, etc.) in a suitable solvent (e.g., toluene, tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, etc.)
In the presence of a carbonyl compound (R c C(═O)R d ), the compound can be converted to a target compound having different R c and R d .
尚、RaおよびRbが水素である化合物(I’)は、式(II’)で示される
化合物(以下、化合物(II’)とする)から合成することも可能である。 The compound (I') in which R a and R b are hydrogen can also be synthesized from a compound represented by formula (II') (hereinafter referred to as compound (II')).
(式中、QはNH2であるか、鈴木反応に悪影響を与えず、さらに一般的な方法
により置換基Lに変換可能な基であり、その他の各記号は前記と同義)
例えば、化合物(II’、Q=OH)を適当な塩基(例えば水素化ナトリウム
、カリウム t−ブトキシド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等)を用いてアルコキシドまたはフェノキシドとし、クロラミンまたはO−ア
リールスルホニルヒドロキシルアミン(ジャーナル オブ オーガニックケミス
トリー、1973(38)1239−1241等に記載)と反応させるか、化合
物(II’、Q=NH2)をクロラミンあるいはヒドロキシルアミン−O−スル
ホン酸(ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー、1949(14)8
13に記載)と反応させればよい。 (wherein Q is NH2 or a group that does not adversely affect the Suzuki reaction and can be converted to the substituent L by a general method, and other symbols have the same meanings as above.) For example, compound (II', Q = OH) is converted into an alkoxide or phenoxide using a suitable base (e.g., sodium hydride, potassium t-butoxide, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), and the alkoxide or phenoxide is reacted with chloramine or O-arylsulfonylhydroxylamine (described in Journal of Organic Chemistry, 1973 (38) 1239-1241, etc.), or compound (II', Q = NH2 ) is converted into an alkoxide or phenoxide with chloramine or O-arylsulfonylhydroxylamine (described in Journal of Organic Chemistry, 1949 (14) 888-890, etc.).
13).
[B法]
また化合物(I’)は、式(V)で示される化合物(以下、化合物(V)とす
る)と式(VI)で示される化合物(以下、化合物(VI)とする)を反応させ
ることにより製造することもできる。[Method B] Compound (I') can also be produced by reacting a compound represented by formula (V) (hereinafter referred to as compound (V)) with a compound represented by formula (VI) (hereinafter referred to as compound (VI)).
(式中、MおよびDは一方がジヒドロキシボリル、ジ低級アルキルボリルまたは
ジ低級アルコキシボリルであり、他方はハロゲンまたは−OSO2(CqF2q
+1)(qは0〜4の整数)であり、その他の各記号は前記と同義である)
化合物(V)および化合物(VI)を適当な溶媒(例えばベンゼン、トルエン
、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エタノールまたはメタノール等)と水との混合系または無水系でパラ
ジウム触媒(例えばPd(PPh3)4、PdCl2(PPh3)2、PdCl
2、Pd(OAc)2またはPdCl2(CH3CN)2等、好ましくはPd(
PPh3)4)の存在下、塩基性条件(塩基としては例えばK3PO4、NaH
CO3、NaOEt、Na2CO3、Et3N、Ba(OH)2、Cs2CO3
、CsF、NaOHまたはAg2CO3等)で室温〜加熱下、数十分〜数十時間
反応させれば化合物(I’)が得られる。 (wherein one of M and D is dihydroxyboryl, di-lower alkylboryl, or
di-lower alkoxyboryl, the other being halogen or —OSO2(CqF2q
+1) (q is an integer from 0 to 4, and the other symbols are as defined above). Compound (V) and compound (VI) are dissolved in a suitable solvent (e.g., benzene, toluene).
, N,N-dimethylformamide, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, di
Paraffin is a mixture of water and ethanol or anhydrous water.
Pd(PPh3) 4, PdCl2(PPh3)2, PdCl
2, Pd(OAc)2or PdCl2(CH3CN)2etc., preferably Pd(
PPh3)4) in the presence of basic conditions (for example, K3P.O.4, NaH
CO3, NaOEt, Na2CO3, Et3N, Ba(OH)2, Cs2CO3
, CsF, NaOH or Ag2CO3etc.) at room temperature or under heating for several tens of minutes to several tens of hours
The reaction gives compound (I').
化合物(VI)は公知化合物を用いてもよく、上記化合物(I’)および(I
’’)と同様の方法により得られる化合物を用いてもよい。 Compound (VI) may be a known compound, and the compounds (I') and (I
Compounds obtained by the same method as in the compound (II) may also be used.
置換基Mおよび置換基Dの一方は、鈴木反応(Chemical Commu
nication 1979,866、有機合成化学協会誌、1993年、第5
1巻、第11号、第91頁〜第100頁)に適用可能なボリル基であればいずれ
でもよく、好ましくはジヒドロキシボリルである。また、他方は鈴木反応に適用
可能な脱離基であればいずれでもよく、例えばハロゲンまたは−OSO2(Cq
F2q+1)(ここでqは0〜4の整数)等を用いることができる。特にハロゲ
ンまたはトリフルオロメタンスルホニルオキシ(以下OTfとする)等が好まし
く、最も好ましくは臭素、ヨウ素またはOTfである。One of the substituents M and D is a group selected from the group consisting of ...
nication 1979, 866, Journal of the Society of Synthetic Organic Chemistry, 1993, No. 5
Any boryl group applicable to the present invention (Vol. 1, No. 11, pp. 91-100) may be used.
The other is applicable to the Suzuki reaction.
Any available leaving group may be used, for example, halogen or -OSO2(Cq
F2q+1) (where q is an integer of 0 to 4), etc. can be used.
or trifluoromethanesulfonyloxy (hereinafter referred to as OTf), etc. are preferred.
Most preferred is bromine, iodine or OTf.
化合物(V)および(VI)のA環、B環およびC環のその他の置換基および
−X−Yは、鈴木反応に悪影響を与えない基、例えばハロゲンおよび−OSO2
(CqF2q+1)(ここでqは0〜4の整数)以外の基であればいずれでもよ
く、A環、B環およびC環のいずれかの置換基がハロゲンであっても、置換基M
の置換基Dとの反応性がそれらよりも高ければ本反応は支障なく進めることが可
能である。Other substituents on rings A, B and C of compounds (V) and (VI) and
-X-Y is a group that does not adversely affect the Suzuki reaction, such as halogen and -OSO2
(CqF2q+1) (where q is an integer of 0 to 4)
Even if any of the substituents on rings A, B and C is halogen, the substituent M
If the reactivity of with the substituent D is higher than that of the substituent D, this reaction can proceed without any problems.
It is Noh.
化合物(V)中、特に以下の式:
(式中、R4およびR5は一方が水素であり、他方がハロゲンであり、R9およ
びR10は各々独立して低級アルキルまたは低級アルコキシであり、Mはジヒド
ロキシボリル、ジ低級アルキルボリルまたはジ低級アルコキシボリルである)
で示される化合物(V−1)が好ましい。最も好ましいMとしてはジヒドロキシ
ボリルである。 Among the compounds (V), in particular those of the following formula: (wherein one of R4 and R5 is hydrogen and the other is halogen; R9 and R10 each independently represent lower alkyl or lower alkoxy; and M represents dihydroxyboryl, di-lower alkylboryl, or di-lower alkoxyboryl). Most preferred is compound (V-1) represented by the formula:
上記反応式中の化合物(II)および(II’)は、公知の化合物を用いても
よく、公知の方法または以下のような方法により合成することも可能である。 The compounds (II) and (II') in the above reaction scheme may be known compounds, and can be synthesized by known methods or the following method.
(式中、置換基QはNH2であるか、鈴木反応に悪影響を与えず、さらに一般的
な方法により置換基Lに変換可能な基であり、その他の各記号は前記と同義であ
る)
公知化合物またはWO98/04508記載の方法で得た化合物(V)と公知
化合物または公知化合物から常法により得られる(VI’)を用い、前記の工程
と同様にして鈴木反応より化合物(II)を得る。置換基Lが鈴木反応に悪影響
を与える場合は、化合物(VI’’)を用いてまず化合物(II’)を得、次に
置換基Qを置換基Lに変換すればよい。 (wherein the formula, the substituent Q is NH2 or a group that does not adversely affect the Suzuki reaction and can be converted to the substituent L by a conventional method, and the other symbols have the same meanings as above.) Compound (V) obtained by a known compound or the method described in WO98/04508 and compound (VI') obtained by a known compound or a conventional method from a known compound are used to obtain compound (II) by Suzuki reaction in the same manner as in the above step. When the substituent L adversely affects the Suzuki reaction, compound (II') can be first obtained using compound (VI''), and then the substituent Q can be converted to the substituent L.
例えば、置換基Qがヒドロキシである場合は、通常の条件によりハロゲンに変
換が可能であり、また、適当なスルホニル化剤(例えば、メタンスルホニルクロ
リド、p−トルエンスルホニルクロリドまたは無水トリフルオロメタンスルホン
酸等)を用いて目的化合物を得ることも出来る。置換基Qが予めベンジル、t−
ブチルジメチルシリルまたはメトキシメチル等の適当な保護基で保護されたヒド
ロキシである場合も、常法によりヒドロキシへ脱保護した後、上述の方法で目的
化合物が得られる。 For example, when the substituent Q is hydroxy, it can be converted to halogen under ordinary conditions, and the target compound can also be obtained using an appropriate sulfonylating agent (e.g., methanesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, trifluoromethanesulfonic anhydride, etc.).
In the case of a hydroxy protected with a suitable protecting group such as butyldimethylsilyl or methoxymethyl, the target compound can be obtained by the above-mentioned method after deprotection to the hydroxy by a conventional method.
また、置換基Qが低級アルキルチオまたは置換されていてもよいアリールチオ
である場合は、適当な酸化剤(例えば過酸化水素、過酢酸、m−クロロ過安息香
酸、オキソン−過硫酸化合物等)を用いて、それぞれ対応するスルホン体に変換
すればよい。 When the substituent Q is a lower alkylthio or an optionally substituted arylthio, it may be converted into the corresponding sulfone using an appropriate oxidizing agent (e.g., hydrogen peroxide, peracetic acid, m-chloroperbenzoic acid, oxone-persulfuric acid compound, etc.).
化合物(VI’’)中、特に以下の式:
(式中、C環は低級アルキルで置換されていてもよいピリジン環または低級アル
キルで置換されていてもよいピリミジン環であり、Qは保護されたヒドロキシ、
低級アルキルチオまたはアリールチオであり、Dはジヒドロキシボリル、ジ低級
アルキルボリルまたはジ低級アルコキシボリルであり、nは0〜2の整数である
)
で示される化合物が好ましく、さらに、Qが低級アルキルチオまたはフェニルチ
オであり、nが0であり、Dがジヒドロキシボリルである化合物が好ましい。無
置換のピリジンボロン酸は水溶性が高すぎて非常に合成が困難であったが、置換
基Qを導入することにより、合成が容易になり、高収率での製造が可能となる。 Among the compounds (VI″), in particular those of the following formula: wherein ring C is a pyridine ring optionally substituted with a lower alkyl or a pyrimidine ring optionally substituted with a lower alkyl; Q is a protected hydroxyl group;
Preferred are compounds represented by the formula: Q is lower alkylthio or arylthio, D is dihydroxyboryl, di-lower alkylboryl, or di-lower alkoxyboryl, and n is an integer of 0 to 2, and more preferred are compounds in which Q is lower alkylthio or phenylthio, n is 0, and D is dihydroxyboryl. Unsubstituted pyridineboronic acids are extremely difficult to synthesize due to their high water solubility, but the introduction of the substituent Q facilitates synthesis and enables production in high yields.
上記反応で用いる化合物(V)は、公知の化合物を用いればよく、V1が単結
合である場合は上記と同様に鈴木反応で公知化合物より製造してもよい。 The compound (V) used in the above reaction may be a known compound, and when V 1 is a single bond, it may be prepared from a known compound by Suzuki reaction in the same manner as above.
V1が−O−、−NH−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−
C≡C−、−CH(OR2)−(R2は水素または低級アルキル)、−CO−、
−NHCHR3−または−CHR3NH−(R3は水素またはヒドロキシ)であ
る場合は、以下のような方法により合成することができる。 V 1 is -O-, -NH-, -OCH2- , -CH2O- , -CH=CH-, -
C≡C—, —CH(OR 2 )— (R 2 is hydrogen or lower alkyl), —CO—,
When the compound is —NHCHR 3 — or —CHR 3 NH— (R 3 is hydrogen or hydroxy), it can be synthesized by the following method.
(式中、M’は常法によりMに変換可能でEおよびGの縮合反応に悪影響を与え
ない基であり、EおよびGはいずれか一方がヒドロキシまたはアミノであり、か
つ他方がハロゲン、低級アルキルスルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ
、低級アルキルスルホニルもしくはアリールスルホニルまたはこれらを置換基と
して有するメチルであるか、いずれか一方がリチウムまたはMg(Hal)(こ
こでHalはハロゲン)であり、かつ他方がカルボキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、カルバモイルまたはホルミルであるか、いずれか一方がホルミルであり、
かつ他方がハロゲン化メチルであるか、いずれか一方がエチニルであり、かつ他
方がハロゲンである。その他の各記号は前記と同義)
目的とする化合物(V’)のV1が、−O−、−NH−、−OCH2−、−C
H2O−、−NHCH2−、または−CH2NH−である場合、置換基Eおよび
Gのいずれか一方はヒドロキシまたはアミノであり、他方はハロゲン、低級アル
キルスルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、低級アルキルスルホニルも
しくはアリールスルホニル等の脱離基またはこれらの脱離基を置換基として有す
るメチルである。化合物(VII)および(VIII)を適当な溶媒(例えばベ
ンゼン、トルエン、アセトン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ピリジン、メタノールまたはエタノール等)中、塩基
(例えば水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウム等)存在下、さらに必要であれば銅触媒(銅
粉末、CuClまたはCuO等)等を加え、0℃〜加熱下で数分〜数十時間反応
させれば化合物(V’)が得られる。 (wherein M' is a group which can be converted to M by a conventional method and does not adversely affect the condensation reaction of E and G; one of E and G is hydroxy or amino, and the other is halogen, lower alkylsulfonyloxy, arylsulfonyloxy, lower alkylsulfonyl, arylsulfonyl, or methyl having any of these as a substituent; one of E and G is lithium or Mg(Hal) (wherein Hal is halogen) and the other is carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, or formyl; or one of E and G is formyl;
and the other is a halogenated methyl, or either one is ethynyl and the other is halogen. Other symbols are as defined above.) The compound (V') of interest, wherein V 1 is -O-, -NH-, -OCH 2 -, -C
When the substituents E and G are H2O- , -NHCH2- , or -CH2NH- , one of the substituents E and G is hydroxy or amino, and the other is a leaving group such as halogen, lower alkylsulfonyloxy, arylsulfonyloxy, lower alkylsulfonyl, or arylsulfonyl, or methyl having such a leaving group as a substituent. Compounds (VII) and (VIII) are reacted in a suitable solvent (e.g., benzene, toluene, acetone, acetonitrile, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, pyridine, methanol, or ethanol) in the presence of a base (e.g., sodium hydride, pyridine, triethylamine, potassium carbonate, sodium hydroxide, or potassium hydroxide), and if necessary, with a copper catalyst (e.g., copper powder, CuCl, or CuO), at 0°C or under heat for several minutes to several tens of hours to obtain compound (V').
化合物(VII)および化合物(VIII)の反応において、目的化合物のV
1が−CO−または−CH(OH)−である場合、置換基EおよびGのいずれか
一方はリチウムまたはMg(Hal)(ここでHalはハロゲン)等の有機金属
であり、他方はカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイルまたはホ
ルミルである。これら2つの化合物を適当な溶媒(例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンまたはジオキサン等)中、−78℃〜加熱
下で数分〜数時間反応させれば化合物(V’)が得られる。 In the reaction of compound (VII) and compound (VIII), V of the target compound
When 1 is -CO- or -CH(OH)-, one of the substituents E and G is an organic metal such as lithium or Mg(Hal) (wherein Hal is a halogen), and the other is carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, or formyl. These two compounds are reacted in an appropriate solvent (e.g., diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, dioxane, etc.) at -78°C or under heating for several minutes to several hours to obtain compound (V').
目的化合物のV1が−CH(OR2)−(R2は低級アルキル)である場合は
、まずV2が−CH(OH)−である化合物を得た後、それをアルキル化すれば
よい。 When V 1 of the target compound is —CH(OR 2 )— (R 2 is lower alkyl), a compound in which V 2 is —CH(OH)— is first obtained, and then this compound is alkylated.
また化合物(V’)のV1が−CO−である化合物は、V1が−CH(OH)
−である化合物(V’)を無水クロム酸またはジョーンズ試薬等の酸化剤を用い
、酸化剤に応じてt−ブチルアルコール、アセトン等の溶媒中、0℃〜加熱下で
数時間反応させて得ることもできる。さらに化合物(V’)のV1が−CH(O
H)−である化合物は、V1が−CO−である化合物を適当な溶媒(例えばジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサン、メタノー
ル、エタノール等)中、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化リチウムアルミニ
ウム等で還元することにより製造することも可能である。 In addition, in the compound (V'), V 1 is -CO-, V 1 is -CH(OH)
- can also be obtained by reacting compound (V') where V 1 of compound (V') is - with an oxidizing agent such as chromic anhydride or Jones reagent in a solvent such as t-butyl alcohol or acetone under heating at 0 °C for several hours depending on the oxidizing agent.
A compound in which V1 is —H)— can also be produced by reducing a compound in which V1 is —CO— with sodium borohydride, lithium aluminum hydride, or the like in a suitable solvent (e.g., diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, dioxane, methanol, ethanol, etc.).
化合物(V’)のV1が−CH=CH−である場合には、置換基EおよびGの
いずれか一方はホルミルであり、他方はハロゲン化メチル(ハロゲンとしては例
えば塩素、臭素またはヨウ素)である。この場合にはウィッティッヒ(Witt
ig)反応(オーガニック・リアクション(Organic Reaction
)、1965年、第14巻、270頁)により化合物(V’)が得られる。 When V1 of compound (V') is -CH=CH-, one of the substituents E and G is formyl, and the other is a methyl halide (e.g., chlorine, bromine, or iodine as the halogen). In this case, Wittig
ig) Reaction (Organic Reaction)
), 1965, vol. 14, p. 270) to obtain the compound (V').
化合物(V’)のV1が−CH≡CH−である場合には、置換基EおよびGの
いずれか一方はエチニルであり、他方はハロゲン(好ましくは臭素またはヨウ素
)であり、一般に用いられるパラジウム触媒を用いてカップリング反応(例えば
シンセシス(Synthesis)(1980)627、テトラヘドロン(Te
trahedron),1982,38,631)を行なうことにより合成でき
る。 When V 1 of compound (V′) is —CH≡CH—, one of the substituents E and G is ethynyl, and the other is halogen (preferably bromine or iodine), a coupling reaction (for example, Synthesis (1980) 627, Tetrahedron (Te
trahedron), 1982, 38, 631).
続いて化合物(V’)を常法により化合物(V)に変換する。Subsequently, compound (V') is converted to compound (V) by a conventional method.
例えば、M’がヒドロキシである場合は、適当な溶媒(例えばジクロロメタン
、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼンまたはトルエン等)中、塩基(
例えば水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミンまたは炭酸カリウム等)
の存在下、トリフルオロメタンスルホニル化剤(例えば無水トリフルオロメタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホニルクロリドまたはN−フェニルトリフ
ルオロメタンスルホンイミド等)と−20℃〜加熱下で数分〜数十時間反応させ
てMがOTfである目的化合物が得られる。 For example, when M' is hydroxy, a base (
For example, sodium hydride, pyridine, triethylamine, or potassium carbonate.
In the presence of the compound (III), the target compound in which M is OTf is obtained by reacting the compound with a trifluoromethanesulfonylating agent (e.g., trifluoromethanesulfonic anhydride, trifluoromethanesulfonyl chloride, or N-phenyltrifluoromethanesulfonimide) at −20° C. or under heating for several minutes to several tens of hours.
また、M’が水素である場合は、適当な溶媒(例えば酢酸、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、N,N−ジメチルホルムアミドまたは水等)中、ハ
ロゲン化剤(例えば塩素、臭素、ヨウ素またはN−ブロモコハク酸イミド等)と
−20℃〜加熱下で数分〜数十時間反応させてMがハロゲンである目的化合物が
得られる。 When M' is hydrogen, the reaction is carried out in a suitable solvent (e.g., acetic acid, dichloromethane,
The target compound in which M is a halogen atom is obtained by reacting the compound with a halogenating agent (e.g., chlorine, bromine, iodine, or N-bromosuccinimide) in a solvent (e.g., chloroform, carbon tetrachloride, N,N-dimethylformamide, or water) at −20° C. or under heating for several minutes to several tens of hours.
M’がホルミルである場合には、これを常法によりバイヤービリガー(Bae
yer−Villiger)酸化してホルミルオキシとし、さらに加水分解して
ヒドロキシとする。以下、上述と同様の方法によりMがOTfである化合物を得
ることができる。 When M' is formyl, it can be converted to a Baeyer-Villiger methyl ester by a conventional method.
Then, the compound in which M is OTf can be obtained by the same method as above.
M’がニトロである場合には、これを還元してアミノとし、サンドマイヤー(
Sandmeyer)反応によりMがハロゲンである化合物を得ればよい。 When M' is nitro, it is reduced to amino, and the Sandmeyer (
A compound in which M is halogen can be obtained by a Sandmeyer reaction.
化合物(I)を合成する方法としては上述の鈴木反応を利用するのが最も効率
がよく簡便で好ましいが、WO98/04508記載の通り、上記スキーム中の
ボリル基の代わりにケイ素、亜鉛、スズ等を用いて反応させることも可能である
。 The method for synthesizing compound (I) is preferably the Suzuki reaction described above, which is the most efficient, simplest, and most preferable. However, as described in WO98/04508, it is also possible to carry out the reaction using silicon, zinc, tin, etc. in place of the boryl group in the above scheme.
上記反応を実施する際に支障となる置換基を有する化合物については、その基
をあらかじめ適当な保護基で保護しておき、適当な段階で通常の方法により脱離
させればよい。例えばヒドロキシが反応の支障となる場合には、メトキシメチル
、メタンスルホニル、ベンジル、トリフルオロメタンスルホニル、t−ブチルジ
メチルシリル等で保護しておき、適当な段階で脱離させればよい。 For compounds having a substituent that would interfere with the above reaction, the group may be protected in advance with an appropriate protecting group and then removed by a conventional method at an appropriate stage. For example, when a hydroxyl group interferes with the reaction, the group may be protected with methoxymethyl, methanesulfonyl, benzyl, trifluoromethanesulfonyl, t-butyldimethylsilyl, etc. and then removed at an appropriate stage.
例えばメタンスルホニルでヒドロキシを保護する場合、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等の溶媒中、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下
でメタンスルホニルクロリドを氷冷下〜室温で数時間反応させればよい。脱保護
反応に付す場合にはジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等の溶媒中、1〜4Nの水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、それらの水溶液、ナトリウムメトキシドまたは
エチルマグネシウムブロミド等を加え、室温〜加熱下で数十分〜数時間反応させ
ればよい。 For example, when protecting a hydroxyl group with methanesulfonyl, methanesulfonyl chloride may be reacted in the presence of a base such as triethylamine or pyridine in a solvent such as dichloromethane, chloroform, or carbon tetrachloride under ice-cooling to room temperature for several hours. When deprotecting the compound, 1 to 4 N sodium hydroxide, potassium hydroxide, an aqueous solution thereof, sodium methoxide, or ethyl magnesium bromide may be added in a solvent such as dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, dioxane, or dimethoxyethane, and the reaction may be carried out at room temperature or under heating for several tens of minutes to several hours.
メトキシメチルをヒドロキシの保護基とする場合には、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン等の溶媒中で水素化ナトリウム、ジイソプロピル
エチルアミン等の存在下でクロロメチル メチル エーテルと反応させれば保護
されたヒドロキシを得ることができる。脱保護する場合にはメタノール、テトラ
ヒドロフラン、酢酸等の溶媒中で塩酸、硫酸等を用いて通常の脱保護反応を行え
ばよい。 When methoxymethyl is used as a protecting group for hydroxy, tetrahydrofuran,
A protected hydroxyl group can be obtained by reacting with chloromethyl methyl ether in the presence of sodium hydride, diisopropylethylamine, etc. in a solvent such as dioxane or dimethoxyethane. For deprotection, a conventional deprotection reaction can be carried out using hydrochloric acid, sulfuric acid, etc. in a solvent such as methanol, tetrahydrofuran, or acetic acid.
t−ブチルジメチルシリルを保護基とする場合には、N,N−ジメチルホルム
アミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン等の溶媒中、イ
ミダゾール、トリエチルアミン、2,6−ルチジン等の存在下でt−ブチルジメ
チルシリルクロリド、t−ブチルジメチルシリルトリフレート等と反応させれば
よい。脱保護反応はテトラヒドロフラン等の溶媒中でフッ化テトラブチルアンモ
ニウム等と反応させれば保護基の脱離が可能である。 When t-butyldimethylsilyl is used as the protecting group, the protecting group can be reacted with t-butyldimethylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl triflate, etc. in a solvent such as N,N-dimethylformamide, acetonitrile, tetrahydrofuran, dichloromethane, etc., in the presence of imidazole, triethylamine, 2,6-lutidine, etc. In the deprotection reaction, the protecting group can be removed by reacting with tetrabutylammonium fluoride, etc., in a solvent such as tetrahydrofuran.
上記のようにして得られた本発明化合物をさらにプロドラッグ化することも可
能である。 The compound of the present invention obtained as described above can be further converted into a prodrug.
「プロドラッグ」とは、生体内において、活性を有する本発明化合物へと容易
に変換され得る化合物群であり、プロドラッグ化は、通常用いられる方法であれ
ばいずれの方法でも行うことができる。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方
法および製造する方法は、例えばDesign of Prodrugs,El
sevier,Amsterdam 1985に記載されている。これに従って
、本発明化合物のいずれかの位置に結合しているカルボキシ、ヒドロキシまたは
アミノ等に、一般的にプロドラッグ化に用いられる基を導入すればよい。 "Prodrugs" are a group of compounds that can be easily converted in vivo into the active compounds of the present invention, and prodrug formation can be carried out by any commonly used method. Methods for selecting and producing appropriate prodrug derivatives are described, for example, in Design of Prodrugs, El
Sevier, Amsterdam, 1985. According to this, a group generally used for prodrug formation may be introduced into carboxy, hydroxy, amino, or the like, bonded to any position of the compound of the present invention.
例えば、A環またはC環の置換基としてヒドロキシがある場合、−COCH2
CH2COOH、−COCH=CHCOOH、−COCH2SO3H、−PO3
H 2、−COCH2NMe2、−CO−Py(Pyはピリジルを示す)等を導入
することができる。For example, when hydroxy is present as a substituent on the A ring or C ring, —COCH2
CH2COOH, -COCH=CHCOOH, -COCH2SO3H, -PO3
H 2, -COCH2NMe2, -CO-Py (Py represents pyridyl), etc.
It is possible.
また、A環またはC環の置換基としてアミノがある場合には、例えば−COO
CRgRhOCOCH2Ri[RgおよびRhは各々独立して水素または低級ア
ルキルであり、RiはH、−OH、−CONHRj−OCONHRj、−(NH
COCRkRl)tNHCOCH3、−(NHCOCRkRl)tNHCOC2
H5、−CSNH2、−(OCH2CH2)SOH、−OCH3、−(OCH2
CH2)SOCH3、−COCH3、−COC2H5、−OCOCH3、−OC
OC2H5、−NHOH、−NHCONH2、−NHCSNH2、−NHSO2
CH3、−N(SO2CH3)2、−SO2NH2、−SOCH3、−SO2C
H3、−OCH2CONH2、−OCH2CON(CH3)2、−SO2N(C
H3)2、−PO(OCH3)2、−NHCSNHC2H5、−CH=NNHC
ONH2、−CH=NNHCSNH2、−CH=NNHSO2CH3、トリアゾ
リルおよびテトラゾリル等であり、Rj、RkおよびR1は水素または低級アル
キルであり、sは1または2であり、tは0〜2の整数である]、−COOCH
(CH3)OCOC(CH3)3、−COOCH2OCO(CH2)14CH3
、−COOCH2OCO−Pyr、−CH2NHCO−C6H4−o−OCH2
OAc等を導入すればよい。When the A ring or C ring has an amino group as a substituent, for example, —COO
CRgRhOCOCH2Ri[Rgand Rhare each independently hydrogen or a lower alkyl group.
It is Rukill and Riis H, —OH, —CONHRj-OCONHRj, -(NH
COCRkRl) tNHCOCH3, -(NHCOCRkRl) tNHCOC2
H5, -CSNH2, −(OCH2CH2)SOH, -OCH3, −(OCH2
CH2)SOCH3, -COCH3, -COC2H5, -OCOCH3, -OC
O.C.2H5, -NHOH, -NHCONH2, -NHCSNH2, -NHSO2
CH3, -N(SO2CH3)2, -SO2NH2, -SOCH3, -SO2C
H3, -OCH2CONH2, -OCH2CON (CH3)2, -SO2N (C
H3)2, -PO(OCH3)2, -NHCSNHC2H5, —CH═NNHC
ONH2, -CH=NNHCSNH2, -CH=NNHSO2CH3, triazo
aryl and tetrazolyl, and Rj, Rkand R1is hydrogen or lower alkane
where s is 1 or 2, and t is an integer from 0 to 2;
(CH3)OCOC(CH3)3, -COOCH2OCO (CH2)14CH3
, -COOCH2OCO-Pyr, -CH2NHCO-C6H4-o-OCH2
OAc or the like may be introduced.
本発明化合物のいずれかの位置に存在するアミノに上述の置換アシルオキシカ
ルボニル(−COOCRgRhOCOCH2Ri)を導入してプロドラッグ化す
る場合、例えば本発明化合物のいずれかの位置に存在するアミノをα−ハロアル
コキシカルボニル化し、次いで適当なカルボン酸を適当な条件下で反応させるこ
とによってプロドラッグ化合物が得られる。 When the above-mentioned substituted acyloxycarbonyl (-COOCR g R h OCOCH 2 R i ) is introduced into an amino group present at any position of the compound of the present invention to form a prodrug, for example, an amino group present at any position of the compound of the present invention is α-haloalkoxycarbonylated, and then an appropriate carboxylic acid is reacted under appropriate conditions to obtain a prodrug compound.
このようなアシルオキシアルキルカルバメートの合成法はWO96/1860
5等に記載の公知の方法に従って行うことができる。 The synthesis of such acyloxyalkyl carbamates is described in WO96/1860.
5 and the like.
具体的には、まずアミノを有する本発明化合物とクロロぎ酸 α−ハロアルキ
ル エステルを不活性溶媒(ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサン、酢酸エチルまたはトルエン等)中で、塩基(ピリジン、トリエチル
アミンまたはN−メチルモルホリン等)存在下に0℃〜室温で反応させ、ハロア
ルコキシカルバメート化合物を得る。次いで、得られた化合物を溶媒(N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
、スルホラン等)中で、置換カルボン酸化合物の塩(例えばアルカリ金属塩、ア
ルカリ土類金属塩、銀塩、水銀塩等)と室温〜加熱下で数時間〜数日間反応させ
ることによってプロドラッグ化合物が得られる。 Specifically, first, the compound of the present invention having an amino group and an α-haloalkyl chloroformate are dissolved in an inert solvent (diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-
The resulting compound is reacted in a solvent (N,N-dioxane, ethyl acetate, toluene, etc.) at 0° C. to room temperature in the presence of a base (pyridine, triethylamine, N-methylmorpholine, etc.) to obtain a haloalkoxycarbamate compound.
A prodrug compound is obtained by reacting a substituted carboxylic acid compound with a salt (e.g., alkali metal salt, alkaline earth metal salt, silver salt, mercury salt, etc.) in an aqueous solvent (e.g., dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, etc.) at room temperature or under heat for several hours to several days.
プロドラッグ化を実施する際に支障となる置換基がある場合には、その基をあ
らかじめ適当な保護基で保護しておき、適当な段階で通常の方法により脱離させ
ればよい。 When there is a substituent that interferes with the formation of a prodrug, the group may be protected in advance with an appropriate protecting group, and then removed by a conventional method at an appropriate stage.
IgEは、B細胞により産生され、肥満細胞を感作して脱顆粒を起こし、アレ
ルギーを誘発する。従って、本発明化合物はIgE抗体産生を抑制し、免疫抑制
剤または抗アレルギー剤として使用できる。 IgE is produced by B cells and sensitizes mast cells to degranulation, inducing allergy. Therefore, the compounds of the present invention suppress IgE antibody production and can be used as immunosuppressants or antiallergic agents.
本発明免疫抑制剤または抗アレルギー剤は、臓器または組織移植に対する拒絶
反応、骨髄移植によって起こる移植片対宿主反応、アトピー性アレルギー疾患(
例えば気管支喘息、アレルギー性鼻炎、アレルギー性皮膚炎等)、高好酸球症候
群、アレルギー性結膜炎、全身性エリテマトーデス、多発性筋炎、皮膚筋炎、強
皮症、MCTD、慢性関節リウマチ、炎症性大腸炎、虚血再潅流における傷害、
花粉症、アレルギー性鼻炎、蕁麻疹および乾癬等のアレルギー性疾患の予防また
は治療に有用である。 The immunosuppressant or antiallergic agent of the present invention is effective in treating rejection reactions after organ or tissue transplantation, graft-versus-host reactions caused by bone marrow transplantation, atopic allergic diseases (
For example, bronchial asthma, allergic rhinitis, allergic dermatitis, etc.), hypereosinophilic syndrome, allergic conjunctivitis, systemic lupus erythematosus, polymyositis, dermatomyositis, scleroderma, MCTD, rheumatoid arthritis, inflammatory bowel disease, ischemia-reperfusion injury,
It is useful for the prevention or treatment of allergic diseases such as hay fever, allergic rhinitis, urticaria, and psoriasis.
本発明化合物を免疫抑制剤、抗アレルギー剤および/またはIgE抗体産生抑
制剤として投与する場合、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することが
できる。経口投与は常法に従って錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、丸剤、液剤
、シロップ剤、バッカル剤または舌下剤等の通常用いられる剤型に調製して投与
すればよい。非経口投与は、例えば筋肉内投与、静脈内投与等の注射剤、坐剤、
経皮吸収剤、吸入剤等、通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することが
できる。特に経口投与が好ましい。 When the compound of the present invention is administered as an immunosuppressant, antiallergic agent and/or IgE antibody production inhibitor, it can be administered either orally or parenterally. For oral administration, it may be prepared in a commonly used dosage form such as tablets, granules, powders, capsules, pills, liquids, syrups, buccal preparations or sublingual preparations according to a conventional method and administered. For parenteral administration, it may be administered in the form of injections such as intramuscular and intravenous injections, suppositories,
It can be suitably administered in any commonly used dosage form such as transdermal absorption agents, inhalants, etc. Oral administration is particularly preferred.
本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、湿潤剤、崩壊剤、
滑沢剤、希釈剤等の各種医薬用添加剤とを必要に応じて混合し医薬製剤とするこ
とができる。注射剤の場合には適当な担体と共に滅菌処理を行なって製剤とすれ
ばよい。 An effective amount of the compound of the present invention is mixed with an excipient, binder, wetting agent, disintegrant, etc., suitable for the dosage form.
Pharmaceutical preparations can be prepared by mixing with various pharmaceutical additives such as lubricants and diluents as necessary. In the case of injections, the preparations can be prepared by sterilizing the mixture together with a suitable carrier.
具体的には、賦形剤としては乳糖、白糖、ブドウ糖、デンプン、炭酸カルシウ
ムもしくは結晶セルロース等、結合剤としてはメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチンもしくはポリビニル
ピロリドン等、崩壊剤としてはカルボキシメチルセルロース、カルボキシメチル
セルロースナトリウム、デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末もしくは
ラウリル硫酸ナトリウム等、滑沢剤としてはタルク、ステアリン酸マグネシウム
もしくはマクロゴール等が挙げられる。坐剤の基剤としてはカカオ脂、マクロゴ
ールもしくはメチルセルロース等を用いることができる。また、液剤もしくは乳
濁性、懸濁性の注射剤として調製する場合には通常使用されている溶解補助剤、
懸濁化剤、乳化剤、安定化剤、保存剤、等張剤等を適宜添加しても良く、経口投
与の場合には嬌味剤、芳香剤等を加えても良い。 Specifically, examples of excipients include lactose, sucrose, glucose, starch, calcium carbonate, crystalline cellulose, etc.; binders include methylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, gelatin, polyvinylpyrrolidone, etc.; disintegrants include carboxymethylcellulose, sodium carboxymethylcellulose, starch, sodium alginate, agar powder, sodium lauryl sulfate, etc.; and lubricants include talc, magnesium stearate, macrogol, etc. As a suppository base, cocoa butter, macrogol, methylcellulose, etc. can be used. Furthermore, when preparing a liquid, emulsion, or suspension injection, commonly used solubilizers,
Suspending agents, emulsifying agents, stabilizers, preservatives, isotonic agents, etc. may be added as appropriate, and in the case of oral administration, flavoring agents, aromatics, etc. may also be added.
本発明化合物の免疫抑制剤、抗アレルギー剤および/またはIgE抗体産生抑
制剤としての投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考
慮した上で設定することが望ましいが、成人に経口投与する場合、通常0.05
〜100mg/kg/日であり、好ましくは0.1〜10mg/kg/日の範囲
内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常0.00
5〜10mg/kg/日であり、好ましくは0.01〜1mg/kg/日の範囲
内である。これを1日1回〜数回に分けて投与すれば良い。 The dosage of the compound of the present invention as an immunosuppressant, antiallergic agent and/or IgE antibody production inhibitor is preferably determined taking into consideration the age and weight of the patient, the type and severity of the disease, the route of administration, etc., but when orally administered to adults, it is usually 0.05
In the case of parenteral administration, the dose varies greatly depending on the administration route, but is usually 0.00 to 100 mg/kg/day.
The dose is 5 to 10 mg/kg/day, preferably 0.01 to 1 mg/kg/day, and may be administered once or several times a day.
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳しく説明するが、これらは本発明を限
定するものではない。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but these examples are not intended to limit the scope of the present invention.
実施例
実施例1 化合物(I−1)の合成
(第1工程)
化合物(1)(23.7g、0.1mol、ジャーナル オブ オーガニック
ケミストリー、1961(26)3351−3356記載)のジメトキシエタ
ン(300ml)−エタノール(150ml)溶液に、ボロン酸(2)(22.
88g、0.1mol)および炭酸ナトリウム(31.8g、0.3mol)の
水溶液(150ml)を加え、反応液を脱気した。テトラキス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(3.47g、3mmol)を加え、窒素雰囲気下で2時
間加熱還流した後、反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃縮後、得られる残渣をヘキサンから結晶化し、化合
物(3)(24.92g;収率84%)を得た。Examples Example 1 Synthesis of Compound (I-1) (Step 1) To a solution of compound (1) (23.7 g, 0.1 mol, described in Journal of Organic Chemistry, 1961 (26) 3351-3356) in dimethoxyethane (300 ml)-ethanol (150 ml) was added boronic acid (2) (22.
An aqueous solution (150 ml) of tetrakis(triphenylphosphine)palladium (3.47 g, 3 mmol) and sodium carbonate (31.8 g, 0.3 mol) was added, and the reaction mixture was degassed. Tetrakis(triphenylphosphine)palladium (3.47 g, 3 mmol) was added, and the mixture was heated under reflux under a nitrogen atmosphere for 2 hours. The reaction mixture was then diluted with water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried, and concentrated, and the resulting residue was crystallized from hexane to give compound (3) (24.92 g; yield 84%).
(第2工程)
第1工程と同様にして、化合物(3)(1.47g、5mmol)、ボロン酸
(VI’’−2)(1.01g、6mmol)より化合物(4)(1.56g;
収率92%)を得た。(Step 2) In the same manner as in Step 1, compound (4) (1.56 g;
A yield of 92% was obtained.
(第3工程)
化合物(4)(1.56g、4.62mmol)のジクロロメタン(5ml)
溶液に、氷冷下でピリジン(0.56ml、6.92mmol)、続いて無水ト
リフルオロ酢酸(0.78ml、5.54mmol)を加え、室温で1時間撹拌
した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮した。残渣のジクロロメタン(16ml)溶液
に氷冷下メタクロロ過安息香酸(2.0g、11.6mmol)を加え、室温で
3時間攪拌した。反応液にチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽
出し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で2回洗浄後、乾燥、濃縮した。残渣をジ
メチルホルムアミド(8ml)溶解し、炭酸カリウム(720mg、5.21m
mol)、続いて臭化プレニル(0.52ml、4.34mmol)を加え、室
温で14時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗
浄後、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸
エチル2:1)で精製し、化合物(5)(1.71g;収率69%)を得た。(Step 3) Compound (4) (1.56 g, 4.62 mmol) in dichloromethane (5 ml)
To the solution, pyridine (0.56 ml, 6.92 mmol) was added under ice-cooling, followed by trifluoroacetic anhydride (0.78 ml, 5.54 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate and washed successively with water, a 5% aqueous solution of sodium bicarbonate, and saturated saline, and then dried and concentrated. To a solution of the residue in dichloromethane (16 ml), metachloroperbenzoic acid (2.0 g, 11.6 mmol) was added under ice-cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Aqueous sodium thiosulfate was added to the reaction mixture, which was extracted with chloroform and washed twice with a 5% aqueous solution of sodium bicarbonate, then dried and concentrated. The residue was dissolved in dimethylformamide (8 ml) and diluted with potassium carbonate (720 mg, 5.21 mmol).
mol), followed by prenyl bromide (0.52 ml, 4.34 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 14 hours. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed successively with water and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 2:1) to obtain compound (5) (1.71 g; yield 69%).
(第4工程)
アセトキシム(137mg、1.87mmol)のジメチルホルムアミド(3
ml)溶液に水素化ナトリウム(60%ミネラルオイル、137mg、1.87
mmol)を加え、室温で1時間攪拌後、さらに化合物(5)(250mg、0
.468mmol)を加えた。室温で14時間攪拌し、反応液を酢酸エチルで希
釈し、5%クエン酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル7:3)で精製し、化合
物(I−1)(126mg;収率62%)を得た。(Step 4) Acetoxime (137 mg, 1.87 mmol) in dimethylformamide (3
ml) solution with sodium hydride (60% mineral oil, 137 mg, 1.87
After stirring at room temperature for 1 hour, compound (5) (250 mg, 0
468 mmol) was added. After stirring at room temperature for 14 hours, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed successively with 5% aqueous citric acid solution and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 7:3) to obtain compound (I-1) (126 mg; yield 62%).
参考例1 化合物(2)の合成
1、4−ジブロモ−2、5−ジメチルベンゼン(154g、583mmol)
のテトラヒドロフラン(1.31)懸濁液を−78℃に冷却し、1.53Mのブ
チルリチウム−ヘキサン溶液(400ml、612mmol)を30分間かけて
滴下した。反応液を同温度でさらに1時間攪拌後、ホウ酸トリイソプロピル(1
70ml、734mmol)を一気に加え、冷媒を取り外し徐々に昇温させなが
ら1時間攪拌した。水(300ml)、1N塩酸(650ml)を加えた後、酢
酸エチルで抽出、抽出液を水、飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃縮した。結晶性の残
渣をヘキサンで洗浄、濾過し、化合物(2)(115g;収率86%)を得た。
参考例2 化合物(VI’’−2)の合成
1.53Mのブチルリチウム−ヘキサン溶液(500ml、765mmol)の
テトラヒドロフラン(1.281)溶液を−78℃に冷却し、5−ブロモ−2−
メチルチオピリジン(142g、695mmol)のテトラヒドロフラン(40
0ml)溶液を40分間かけて滴下した。反応液を同温度でさらに30分間攪拌
後、ホウ酸トリイソプロピル(195ml、834mmol)を30分間かけて
滴下した。冷媒を取り外し徐々に昇温させながら30分間攪拌した。水(320
ml)を加えた後、減圧下濃縮し、残渣をさらに水(710ml)、イソプロピ
ルエーテル(210ml)で希釈した。反応液を室温で攪拌しながら3N塩酸(
675ml)を滴下し、析出する結晶を濾過、水、イソプロピルエーテルで洗浄
後、乾燥し化合物(VI’’−2)(111g;収率95%)を得た。Reference Example 1 Synthesis of Compound (2) 1,4-Dibromo-2,5-dimethylbenzene (154 g, 583 mmol)
A suspension of the above in tetrahydrofuran (1.31) was cooled to -78°C, and a 1.53M butyllithium-hexane solution (400 ml, 612 mmol) was added dropwise over 30 minutes. The reaction mixture was stirred at the same temperature for another hour, and then triisopropyl borate (1
A solution of 70 ml of HCl (734 mmol) was added in one go, and the refrigerant was removed. The mixture was stirred for 1 hour while the temperature was gradually raised. Water (300 ml) and 1N hydrochloric acid (650 ml) were added, followed by extraction with ethyl acetate. The extract was washed with water and saturated brine, dried, and concentrated. The crystalline residue was washed with hexane and filtered to obtain compound (2) (115 g; yield 86%).
Reference Example 2 Synthesis of Compound (VI''-2) A solution of 1.53 M butyllithium in hexane (500 ml, 765 mmol) in tetrahydrofuran (1.28 l) was cooled to -78°C, and 5-bromo-2-
Methylthiopyridine (142 g, 695 mmol) in tetrahydrofuran (40
A solution of water (320 ml) was added dropwise over 40 minutes. The reaction mixture was stirred at the same temperature for another 30 minutes, and then triisopropyl borate (195 ml, 834 mmol) was added dropwise over 30 minutes. The refrigerant was removed, and the mixture was stirred for 30 minutes while gradually increasing the temperature.
After adding 3N hydrochloric acid (ml), the mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was further diluted with water (710 ml) and isopropyl ether (210 ml).
The precipitated crystals were filtered, washed with water and isopropyl ether, and dried to obtain compound (VI''-2) (111 g; yield 95%).
融点: 151−154℃
元素分析 計算値(C6H8BNO2S):C,42.64;H,4.77;N
,8.29;S,18.97
実測値:C,42.56;H,4.88;N,8.14;S,18.
79.1
H−NMR(DMSO−d6)δ 2.51(s,3H),7.25(dd,
J=0.9,8.1,1H),7.93(dd,J=2.1,8.1,1H),
8.73(dd,J=0.9,2.1,1H)
実施例2 化合物(I−3)の合成
(第1工程)化合物(6)の合成
実施例1の第4工程と同様にして、化合物(5)(380mg、0.921m
mol)より化合物(6)(240mg;収率56%)を得た。Melting point: 151-154°C . Elemental analysis calculated ( C6H8BNO2S ): C, 42.64 ; H, 4.77; N
, 8.29; S, 18.97 Measured values: C, 42.56; H, 4.88; N, 8.14; S, 18.
79. 1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 2.51 (s, 3H), 7.25 (dd,
J = 0.9, 8.1, 1H), 7.93 (dd, J = 2.1, 8.1, 1H),
8.73 (dd, J = 0.9, 2.1, 1H) Example 2 Synthesis of Compound (I-3) (Step 1) Synthesis of Compound (6) Compound (5) (380 mg, 0.921 m) was synthesized in the same manner as in Step 4 of Example 1.
Compound (6) (240 mg; yield 56%) was obtained from the above-mentioned 2-amino-3-methyl-2-propanol (2-methyl-2-propanol).
(第2工程)化合物(I−3)の合成
化合物(6)(200mg、0.433mmol)のジオキサン(1ml)と
エタノール(1ml)の溶液に、3−ペンタノン(0.23ml、2.17mm
ol)、2N塩酸(0.476ml、0.953mmol)を加え、室温で3時
間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘ
キサン−酢酸エチル87:13)で精製後、さらにヘキサンから結晶化し、化合
物(I−3)(149mg;収率75%)を得た。(Step 2) Synthesis of Compound (I-3) A solution of compound (6) (200 mg, 0.433 mmol) in dioxane (1 ml) and ethanol (1 ml) was added with 3-pentanone (0.23 ml, 2.17 mmol).
To the reaction mixture, 2N hydrochloric acid (0.476 ml, 0.953 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed with saturated aqueous sodium bicarbonate and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 87:13) and then crystallized from hexane to obtain compound (I-3) (149 mg; yield 75%).
実施例3 化合物(I−61)の合成
WO98/04508に記載の方法で得られる化合物(7)(261mg、0
.65mmol)のメタノール(4ml)溶液を0℃に冷却し、カリウムt−ブ
トキシド(75mg、0.65mmol)を加え15分間攪拌した。溶媒を減圧
下留去、乾燥した後、N,N−ジメチルホルムアミド(2.5ml)に溶解した
。O−メシチレンスルホニルヒドロキシルアミン(ジャーナル オブ オーガニ
ック ケミストリー、1973(38)1239−1241記載)(251mg
、1.16mmol)を加え1時間攪拌後、反応液を水に注ぎ、エチルエーテル
:酢酸エチル(1:1)で抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃
縮後、残渣をメタノール(3ml)に溶解し、アセトン(0.48ml、6.5
mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を濃縮後、残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル10:1)で精製し、化合物(I−
61)(118mg;収率40%)を得た。Example 3 Synthesis of Compound (I-61) Compound (7) (261 mg, 0
A solution of 251 mg of O-mesitylenesulfonylhydroxylamine (described in Journal of Organic Chemistry, 1973 (38) 1239-1241) in methanol (4 ml) was cooled to 0°C, and potassium t-butoxide (75 mg, 0.65 mmol) was added and stirred for 15 minutes. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was dried and then dissolved in N,N-dimethylformamide (2.5 ml).
After adding 1.16 mmol) and stirring for 1 hour, the reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl ether:ethyl acetate (1:1). The extract was washed with water and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was dissolved in methanol (3 ml) and added with acetone (0.48 ml, 6.5
The reaction mixture was concentrated, and the residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 10:1) to obtain compound (I-
61) (118 mg; yield 40%) was obtained.
実施例4 化合物(V−2)および(I−169)の合成
(第1工程)化合物(9)の合成
化合物(8)(4.41g、15.0mmol)のジクロロメタン(45ml
)溶液に、3−メチル−2−ブテナール(1.74ml、18.0mmol)、
酢酸(1.8g、30.0mmol)、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム
(6.36g、30.0mmol)を順次加え、反応液を15時間攪拌した。反
応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出後、抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で洗浄、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキ
サン−酢酸エチル9:1)で精製し、化合物(9)(4.09g;収率75%)
を得た。Example 4 Synthesis of Compounds (V-2) and (I-169) (Step 1) Synthesis of Compound (9) Compound (8) (4.41 g, 15.0 mmol) was dissolved in dichloromethane (45 ml
) solution, 3-methyl-2-butenal (1.74 ml, 18.0 mmol),
Acetic acid (1.8 g, 30.0 mmol) and sodium triacetoxyborohydride (6.36 g, 30.0 mmol) were added sequentially, and the reaction mixture was stirred for 15 hours. The reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with aqueous sodium bicarbonate and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 9:1) to obtain compound (9) (4.09 g; yield 75%).
obtained.
(第2工程)化合物(V−2)の合成
化合物(9)(2.4g、6.62mmol)のテトラヒドロフラン(24m
l)溶液を−78℃に冷却し、1.53Mのブチルリチウム(10.4ml、1
5.9mmol)を30分かけて滴下した。反応液をさらに2時間攪拌後、ホウ
酸トリイソプロピル(5.5ml、23.8mmol)を加え、冷媒を取り外し
室温まで徐々に昇温させながら30分攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル
で抽出後、抽出液を塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃縮し
た。結晶性の残渣をヘキサンで洗浄、濾過し、化合物(V−2)(1.82g;
収率87%)を得た。1
H−NMR(DMSO−d6)δ 1.70(s,3H),1.72(s,3
H),2.12(s,3H),2.63(s,3H),3.63(br t,2
H),5.28(br t,1H),6.01(br t,1H),6.37(
dd,J=2.1,13.2,1H),6.46(dd,J=2.1,8.4,
1H),6.92(s,1H),6.97(t,J=8.4,1H),7.77
(s,1H)
(第3工程)化合物(I−169)の合成
実施例1の第1工程と同様にして、化合物(10)(175mg,0.75m
mol)とボロン酸(V−2)(245mg、0.75mmol)より、化合物
(I−169)(268mg;収率83%)を得た。(Second Step) Synthesis of Compound (V-2) Compound (9) (2.4 g, 6.62 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (24 m
l) The solution was cooled to -78°C and 1.53M butyllithium (10.4 ml, 1
To the reaction mixture was added dropwise 5.9 mmol) over 30 minutes. After stirring for another 2 hours, triisopropyl borate (5.5 ml, 23.8 mmol) was added, and the refrigerant was removed and the mixture was stirred for 30 minutes while gradually warming to room temperature. The reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with an aqueous ammonium chloride solution and saturated brine, dried, and concentrated. The crystalline residue was washed with hexane and filtered to obtain compound (V-2) (1.82 g;
The yield was 87%). 1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ 1.70 (s, 3H), 1.72 (s, 3H).
H), 2.12 (s, 3H), 2.63 (s, 3H), 3.63 (br t, 2
H), 5.28 (br t, 1H), 6.01 (br t, 1H), 6.37 (
dd, J=2.1, 13.2, 1H), 6.46(dd, J=2.1, 8.4,
1H), 6.92 (s, 1H), 6.97 (t, J=8.4, 1H), 7.77
(s, 1H) (Step 3) Synthesis of Compound (I-169) Compound (10) (175 mg, 0.75 m) was synthesized in the same manner as in Step 1 of Example 1.
Compound (I-169) (268 mg; yield 83%) was obtained from (I-168) (1.5 mol) and boronic acid (V-2) (245 mg, 0.75 mmol).
参考例3 化合物(10)の合成
5−ブロモ−2−ヒドラジノピリジン(ジャーナル オブ ヘテロサイクリッ
クケミストリー、1986(23)1071記載)(376mg,2.0mmo
l)をアセトン(1ml)とエタノール(4ml)中で15分加熱還流した。反
応液を濃縮し、結晶性残渣として化合物(10)(456mg、定量的)を得た
。Reference Example 3 Synthesis of Compound (10) 5-bromo-2-hydrazinopyridine (described in Journal of Heterocyclic Chemistry, 1986 (23) 1071) (376 mg, 2.0 mmol)
The compound (10) was heated under reflux in acetone (1 ml) and ethanol (4 ml) for 15 minutes, and the reaction mixture was concentrated to give compound (10) (456 mg, quantitative yield) as a crystalline residue.
実施例5 化合物(I−92)の合成
(第1工程)化合物(13)の合成
化合物(11)(500mg、1.42mmol)のジメトキシエタン(6m
l)−エタノール(1.5ml)溶液に、ボロン酸(12)(624mg、1.
57mmol)および2M炭酸ナトリウム水溶液(3ml)を加え、反応液を脱
気した。テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(49mg、0.0
4mmol)を加え、窒素雰囲気下で18時間加熱還流した後、冷却後反応混合
物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃
縮後、得られる残渣を残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エ
チル4:1)で精製し、化合物(13)(604mg;収率95%)を得た。Example 5 Synthesis of Compound (I-92) (Step 1) Synthesis of Compound (13) Compound (11) (500 mg, 1.42 mmol) was dissolved in dimethoxyethane (6 m
l)-To a solution of boronic acid (12) (624 mg, 1.5 ml) in ethanol (1.5 ml),
57 mmol) and 2M aqueous sodium carbonate solution (3 ml) were added, and the reaction mixture was degassed.
The mixture was heated under reflux for 18 hours under a nitrogen atmosphere, cooled, diluted with water, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried, and concentrated. The resulting residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 4:1) to give compound (13) (604 mg; yield 95%).
(第2工程)化合物(14)の合成
化合物(13)(604mg、1.36mmol)のテトラヒドロフラン(6
ml)溶液に、氷冷下でトリエチルアミン(0.28ml、2.03mmol)
、続いて無水トリフルオロ酢酸(0.23ml、1.63mmol)を加え、1
5分間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄後、
乾燥、濃縮した。(Step 2) Synthesis of Compound (14) Compound (13) (604 mg, 1.36 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (6
ml) solution was added triethylamine (0.28 ml, 2.03 mmol) under ice cooling.
Then, trifluoroacetic anhydride (0.23 ml, 1.63 mmol) was added, and 1
The reaction mixture was stirred for 5 minutes, diluted with ethyl acetate, washed with water and saturated brine, and then
It was dried and concentrated.
粗生成物のN,N−ジメチルホルムアミド(4ml)溶液に、炭酸カリウム(
375mg、2.71mmol)、続いて臭化プレニル(0.31ml、2.7
1mmol)を加え、室温で3時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル−
エチルエーテル(1:1)で抽出し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル1
9:1)で精製した後、テトラヒドロフラン(8ml)に溶解した。氷冷下1M
フッ化テトラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(1.04ml、1
.04mmol)を加え、1時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(ヘキサン−酢酸エチル3:1)で精製し化合物(14)(543m
g;収率81%)を得た。 To a solution of the crude product in N,N-dimethylformamide (4 ml), potassium carbonate (
375 mg, 2.71 mmol), followed by prenyl bromide (0.31 ml, 2.7
The reaction mixture was poured into water and mixed with ethyl acetate-
The extract was extracted with ethyl ether (1:1), and the extract was washed with water and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 1:1).
After purification with tetrahydrofuran (9:1), the product was dissolved in tetrahydrofuran (8 ml).
Tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran (1.04 ml, 1
The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 3:1) to give compound (14) (543 mmol).
g (yield 81%).
(第3工程)化合物(I−92)の合成
化合物(14)(236mg、0.48mmol)のジクロロメタン(4ml
)溶液に、氷冷下でトリフェニルホスフィン(162mg、0.62mmol)
、続いて四臭化炭素(205mg、0.62mmol)を加え、30分間撹拌し
た。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル9:1)で精
製した後、N,N−ジメチルホルムアミド(3ml)に溶解した。(Step 3) Synthesis of Compound (I-92) Compound (14) (236 mg, 0.48 mmol) in dichloromethane (4 ml
) solution was added triphenylphosphine (162 mg, 0.62 mmol) under ice cooling.
Subsequently, carbon tetrabromide (205 mg, 0.62 mmol) was added and stirred for 30 minutes. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate, washed successively with water and saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane-ethyl acetate 9:1) and then dissolved in N,N-dimethylformamide (3 ml).
アセトキシム(139mg、1.9mmol)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド(2ml)溶液に、カリウム t−ブトキシド(187mg、1.67mmo
l)を加え、室温で30分攪拌後、0℃に冷却した。この反応液に臭素化物のN
,N−ジメチルホルムアミド溶液を加え、室温で3時間攪拌した。反応液を水に
注ぎ、エチルエーテル:酢酸エチル(1:1)で抽出し、抽出液を飽和食塩水で
洗浄、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸
エチル10:1)で精製し後、さらにエチルエーテル−ヘキサンから結晶化する
ことにより化合物(I−92)(117mg;収率54%)を得た。 To a solution of acetoxime (139 mg, 1.9 mmol) in N,N-dimethylformamide (2 ml), potassium t-butoxide (187 mg, 1.67 mmol) was added
After stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was cooled to 0° C. The reaction mixture was cooled to 0° C.
A 1,2-dimethylformamide solution was added and stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl ether:ethyl acetate (1:1). The extract was washed with saturated brine, dried, and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (hexane:ethyl acetate 10:1) and then crystallized from ethyl ether-hexane to give compound (I-92) (117 mg; yield 54%).
以下同様にして化合物(I)を合成した。以下に構造式を示す。Compound (I) was synthesized in the same manner as above. The structural formula is shown below.
表14以降で用いるA1、A2、・・・、B1、B2、・・・、C1、C2、・
・・の各記号は前記と同義である。A1, A2, ..., B1, B2, ..., C1, C2, ... used in Table 14 and later
The symbols have the same meanings as above.
試験例1 抗卵白アルブミン(OVA)に対するIgE抗体産生抑制効果
1)動物
日本エスエルシー(静岡)より購入したBALB/cマウス(雌、8〜10週
令)およびWistar系ラット(雌、8〜10週令)を使用した。 Test Example 1 Inhibitory effect on IgE antibody production against anti-ovalbumin (OVA) 1) Animals BALB/c mice (female, 8-10 weeks old) and Wistar rats (female, 8-10 weeks old) purchased from Japan SLC (Shizuoka) were used.
2)免疫方法
BALB/cマウスに卵白アルブミン(OVA)2μgと水酸化アルミニウム
ゲル(2mg)を生理食塩水に懸濁させた溶液0.2mlを腹腔内に注射して免
疫した。その10日後心臓より採血し、血清を分離し、IgE抗体価を測定する
まで−40℃で保存した。BALB/c mice were immunized by intraperitoneal injection of 0.2 ml of a solution prepared by suspending 2 μg of ovalbumin (OVA) and 2 mg of aluminum hydroxide gel in physiological saline. Ten days later, blood was collected from the heart, and serum was separated and stored at −40° C. until measurement of IgE antibody titer.
3)化合物
本発明化合物はN,N−ジメチルアセトアミドに溶解または懸濁したのち、ミ
グリオール812中性油で20倍希釈した溶液をマウス一匹当たり0.1ml経
口投与した(用量40mg/kg)。投与は免疫した日から採血の前日まで連続
10日間行った。The compound of the present invention was dissolved or suspended in N,N-dimethylacetamide, and then diluted 20-fold with Miglyol 812 neutral oil. 0.1 ml of the solution was orally administered to each mouse (dose: 40 mg/kg). The administration was continued for 10 consecutive days from the day of immunization to the day before blood collection.
4)抗OVA IgE抗体価(PCA力価)の測定
得られたマウス血清を生理食塩水にて2倍希釈系列を作成し、これをあらかじ
め毛刈りしたWistar系ラットの背部皮内に50μlずつ注射した。24時
間後にOVA1mgとエバンスブルー色素5mgを含む生理食塩水溶液0.5m
lを静脈内に注射して受動皮膚アナフィラキシー反応(PCA)を惹起した。そ
の30分後に、色素斑が直径5mm以上のPCA反応陽性を示す血清の最大希釈
倍率を判定し、その希釈倍率のLog2をPCA力価とした。例えばある血清が
27倍希釈までPCA反応陽性となればそのマウスの抗OVA IgE抗体価は
7とした。結果を表32に示す。4) Measurement of anti-OVA IgE antibody titer (PCA titer) The obtained mouse serum was serially diluted 2-fold with physiological saline, and 50 μl of each was injected intradermally into the dorsal skin of a pre-shaved Wistar rat. After 24 hours, the rats were injected with 0.5 ml of physiological saline solution containing 1 mg of OVA and 5 mg of Evans blue dye.
A passive cutaneous anaphylaxis (PCA) reaction was induced by intravenous injection of 1 ml of OVA. Thirty minutes later, the maximum dilution of serum that showed a positive PCA reaction with a pigmented spot of 5 mm or more in diameter was determined, and the PCA titer was calculated as Log2 of that dilution. For example, if a serum showed a positive PCA reaction up to a 27- fold dilution, the anti-OVA IgE antibody titer of that mouse was determined to be 7. The results are shown in Table 32.
化合物非投与群のPCA Titerは約9〜12であった。これらの結果よ
り、本発明化合物はIgE抗体産生抑制効果を有することが判る。 The PCA titer of the compound-unadministered group was about 9 to 12. These results demonstrate that the compound of the present invention has an inhibitory effect on IgE antibody production.
製剤例1 錠剤
本発明化合物(I−1) 15mg
デンプン 15mg
乳糖 15mg
結晶性セルロース 19mg
ポリビニルアルコール 3mg
蒸留水 30ml
ステアリン酸カルシウム 3mg
ステアリン酸カルシウム以外の成分を均一に混合し、破砕造粒して乾燥し、適
当な大きさの顆粒剤とした。次にステアリン酸カルシウムを添加して圧縮成形し
て錠剤とした。Formulation Example 1 Tablet Compound of the present invention (I-1) 15 mg Starch 15 mg Lactose 15 mg Crystalline cellulose 19 mg Polyvinyl alcohol 3 mg Distilled water 30 ml Calcium stearate 3 mg The ingredients other than calcium stearate were uniformly mixed, crushed, granulated, and dried to prepare granules of suitable size. Next, calcium stearate was added and compressed to form tablets.
産業上の利用可能性
以上の試験例から明らかなように、本発明化合物は強い免疫抑制作用および/
または抗アレルギー作用を示す。従って、本発明化合物は免疫抑制剤、抗アレル
ギー剤および/またはIgE抗体産生抑制剤として非常に有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY As is clear from the above test examples, the compounds of the present invention have strong immunosuppressive and/or anti-inflammatory effects.
Therefore, the compounds of the present invention are very useful as immunosuppressants, antiallergic agents and/or agents for suppressing IgE antibody production.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI A61K 31/50 A61K 31/50 31/505 31/505 A61P 37/06 A61P 37/06 37/08 37/08 C07C 251/58 C07C 251/58 251/84 251/84 251/86 251/86 C07D 213/64 C07D 213/64 213/77 213/77 237/10 237/10 239/34 239/34 241/14 241/14 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM ,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH, GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K E,KG,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT ,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW, MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S D,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR ,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN,YU, ZA,ZW (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作 成したものである。 なおこの公表に係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の 効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法第48条の13第2項)に より生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。─────────────────────────────────────────────────────────Continued from the front page (51) Int.Cl. 7 Identification Symbol FI A61K 31/50 A61K 31/50 31/505 31/505 A61P 37/06 A61P 37/06 37/08 37/08 C07C 251/58 C07C 251/58 251/84 251/84 251/86 251/86 C07D 213/64 C07D 213/64 213/77 213/77 237/10 237/10 239/34 239/34 241/14 241/14 (81) Designated countries EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, K E, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW), UA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, C A, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW (Note) This publication is based on the gazette published internationally by the International Bureau (WIPO). The effect of the international publication of the Japanese patent application (Japanese utility model registration application) related to this publication arises pursuant to Article 184-10, Paragraph 1 of the Patent Act (Article 48-13, Paragraph 2 of the Utility Model Act), and is unrelated to this publication.
Claims (29)
炭素環または置換基を有していてもよく、ベンゼン環と縮合していてもよい5員
または6員のヘテロ環であり、A環、B環および/またはC環が置換基を有して
いてもよい5員のヘテロ環である場合はW1、W2および/またはW3が結合を
示す。 Xは−O−、−CH2−、−NR1−(ここでR1は水素、置換基を有していて
もよい低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルキルカルボニル)または−
S(O)p−(ここでpは0〜2の整数)であり、 X’は−O−または−NH−であり、 Yは水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい
低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有してい
てもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいシクロアルケニル、置換基
を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいスル
ファモイル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいアリ
ールまたは置換基を有していてもよい5員または6員のヘテロ環式基であり、 Xが−CH2または−NR1−であるとき、Yはハロゲンであってもよく、Xが
−O−または−NR1−であるときYは置換基を有していてもよい低級アルキル
スルホニルまたは置換基を有していてもよいアリールスルホニルであってもよい
。 V1およびV2は一方が単結合であり、他方が単結合、−O−、−NH−、−O
CH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH(OR2)−(
R2は水素または低級アルキル)、−CO−、−NHCHR3−または−CHR
3NH−(R3は水素またはヒドロキシ)である。 RaおよびRbは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、
置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアリール
、置換基を有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいアシル
、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニルまたは置換基を有してい
てもよい低級アルキルスルホニルであるか、一緒になってRcRdC=または−
(CReRf)r−を形成し、 RcおよびRdは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、
置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アル
キニル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよい
低級アルキルチオ、置換基を有していてもよい低級アルケニルオキシ、置換基を
有していてもよい低級アルキニルオキシ、置換基を有していてもよいシクロアル
キル、置換基を有していてもよいアリールまたは置換基を有していてもよい5員
または6員のヘテロ環式基であるか、一緒になって結合している炭素原子と共に
置換基を有していてもよいシクロアルキリデンを形成し、 Reは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、
Rfは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、
nは0〜2の整数であり、rは2〜6の整数である。] で示される化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの
溶媒和物。[Claim 1] Formula (I): [wherein ring A, ring B and ring C each independently represent an aromatic carbocycle which may have a substituent or a 5- or 6-membered heterocycle which may have a substituent and which may be fused with a benzene ring, and when ring A, ring B and/or ring C is a 5-membered heterocycle which may have a substituent, W 1 , W 2 and/or W 3 represent a bond. X represents -O-, -CH 2 -, -NR 1 - (wherein R 1 is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, lower alkenyl or lower alkylcarbonyl), or -
S(O)p- (wherein p is an integer of 0 to 2), X' is -O- or -NH-, Y is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted acyl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted cycloalkenyl, optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted sulfamoyl, optionally substituted amino, optionally substituted aryl, or an optionally substituted 5- or 6-membered heterocyclic group, when X is -CH2 or -NR1- , Y may be halogen, and when X is -O- or -NR1- , Y may be optionally substituted lower alkylsulfonyl or optionally substituted arylsulfonyl. One of V1 and V2 is a single bond, and the other is a single bond, -O-, -NH-, -O
CH2- , -CH2O- , -CH=CH-, -C≡C-, -CH( OR2 )-(
R2 is hydrogen or lower alkyl), -CO-, -NHCHR3- or -CHR
3 NH— (R 3 is hydrogen or hydroxy); R a and R b each independently represent hydrogen, optionally substituted lower alkyl,
optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted aryl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted acyl, optionally substituted lower alkoxycarbonyl or optionally substituted lower alkylsulfonyl, or together represent R c R d C= or -
(CR e R f )r-, wherein R c and R d each independently represent hydrogen or optionally substituted lower alkyl;
optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted lower alkylthio, optionally substituted lower alkenyloxy, optionally substituted lower alkynyloxy, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted aryl or optionally substituted 5- or 6-membered heterocyclic group, or together with the carbon atoms to which they are bonded form an optionally substituted cycloalkylidene, each R e independently represents hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy or amino,
Each Rf is independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino;
n is an integer of 0 to 2, and r is an integer of 2 to 6.], a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
ンゼン環または置換基を有していてもよい6員のヘテロ環であり、V1およびV
2が共に単結合であり、nが0である、請求項1記載の化合物、そのプロドラッ
グ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。[Claim 2] Ring A, ring B and ring C are each independently a benzene ring which may have a substituent or a 6-membered heterocycle which may have a substituent, V1 and V2 are each independently a benzene ring which may have a substituent or a 6- membered heterocycle which may have a substituent,
2 is a single bond, and n is 0, or a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof according to claim 1.
は2記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの
溶媒和物。3. The compound according to claim 1 or 2, wherein ring A is a benzene ring which may have a substituent, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
もよいピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有してい
てもよいピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、請求
項1または2記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩または
それらの溶媒和物。[Claim 4] The compound according to claim 1 or 2, wherein ring B is a benzene ring which may have a substituent, a pyridine ring which may have a substituent, a pyrimidine ring which may have a substituent, a pyridazine ring which may have a substituent, or a pyrazine ring which may have a substituent, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
ンゼン環であり、1つが置換基を有していてもよい6員ヘテロ環である、請求項
1または2記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそ
れらの溶媒和物。[Claim 5] The compound according to claim 1 or 2, wherein two of ring A, ring B and ring C are benzene rings which may have a substituent, and one is a 6-membered heterocycle which may have a substituent, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
いピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していても
よいピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、請求項1
、請求項2または請求項5記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容さ
れる塩またはそれらの溶媒和物。6. The method of claim 1, wherein the 6-membered heterocycle optionally having a substituent is a pyridine ring optionally having a substituent, a pyrimidine ring optionally having a substituent, a pyridazine ring optionally having a substituent, or a pyrazine ring optionally having a substituent.
10. The compound according to claim 2 or 5, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
もよく、1または2のヘテロ原子を含む6員ヘテロ環であり、 Yは水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい
低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいシクロアルケニルまたは置
換基を有していてもよいアミノであり、 R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10およびR11は各々独立して水素
、ハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級
アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよ
いシクロアルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、置換基を有
していてもよい低級アルキルスルホニルオキシ、カルボキシまたは置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシカルボニルであり、 X、X’、Ra、Rbおよびnは請求項1と同義である。) で示される化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの
溶媒和物。[Claim 7] Formula (I'): (wherein Ring C is an optionally substituted benzene ring or an optionally substituted 6-membered heterocycle containing 1 or 2 heteroatoms; Y is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower alkynyl, optionally substituted cycloalkyl, optionally substituted cycloalkenyl or optionally substituted amino; R4 , R5 , R6 , R7, R8 , R9 , R10 and R11 each independently is hydrogen, halogen , optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, optionally substituted cycloalkoxy, optionally substituted lower alkylthio, optionally substituted lower alkylsulfonyloxy, carboxy or optionally substituted lower alkoxycarbonyl; and X, X', Ra , Rb and n are as defined in claim 1), a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
低級アルコキシである、請求項7記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上
許容される塩またはそれらの溶媒和物。8. The compound according to claim 7, wherein R 4 and R 5 each independently represent hydrogen, halogen, hydroxy or lower alkoxy, or a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
ロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。9. The compound according to claim 7, wherein R 6 and R 7 are both hydrogen, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
、請求項7記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそ
れらの溶媒和物。10. The compound according to claim 7, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof, wherein R 8 is hydrogen or optionally substituted lower alkyl.
よい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシである、請求
項7記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの
溶媒和物。11. The compound according to claim 7, wherein R 9 is optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted lower alkoxy, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
もよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシまたは置換基を
有していてもよい低級アルコキシカルボニルである、請求項7記載の化合物、そ
のプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。12. The compound according to claim 7, wherein R 10 is optionally protected hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkoxy, or optionally substituted lower alkoxycarbonyl, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
有していてもよい低級アルキルである、請求項7記載の化合物、そのプロドラッ
グ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。13. The compound according to claim 7, wherein R 11 is hydrogen, optionally protected hydroxy, or optionally substituted lower alkyl, or a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
てもよいピリジン環、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有して
いてもよいピリダジン環または置換基を有していてもよいピラジン環である、請
求項1、2または7のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上
許容される塩またはそれらの溶媒和物。14. The compound according to any one of claims 1, 2 and 7, wherein Ring C is a benzene ring which may have a substituent, a pyridine ring which may have a substituent, a pyrimidine ring which may have a substituent, a pyridazine ring which may have a substituent or a pyrazine ring which may have a substituent, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
たは7のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩
またはそれらの溶媒和物。15. The compound according to any one of claims 1, 2 and 7, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof, wherein X is -O-, -CH 2 - or -NH-.
の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物
。16. The compound according to any one of claims 1, 2 and 7, wherein X is -NH-, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
たはシクロアルキルである、請求項1、2または7のいずれかに記載の化合物、
そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。17. The compound of any one of claims 1, 2, or 7, wherein Y is hydrogen, lower alkyl, arylalkyl, lower alkenyl, or cycloalkyl.
A prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
炭素数2〜6のアルケニルまたは炭素数1〜6のアルコキシカルボニルであるか
、一緒になってRcRdC=または−(CReRf)r−を形成し、Rcおよび
Rdは各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル
、炭素数1〜6のアルコキシ、フェニルまたは5員もしくは6員の芳香族ヘテロ
環式基であるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6の
シクロアルキリデンを形成し、Reは各々独立して水素、炭素数1〜6のアルキ
ル、炭素数1〜6のアルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、
炭素数1〜6のアルキル、炭素数1〜6のアルコキシまたはアミノであり、rは
4または5である、請求項1、2または7のいずれかに記載の化合物、そのプロ
ドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。18. R a and R b are each independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms,
each Rc and Rd are independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms, alkoxycarbonyl having 1 to 6 carbon atoms, phenyl, or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, or together with the carbon atom to which they are attached form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms, each Re is independently hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, or amino, each Rf is independently hydrogen ,
8. The compound according to claim 1, 2 or 7, wherein r is alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms or amino, and r is 4 or 5, or a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
一緒になってRcRdC=を形成し、RcおよびRdは各々独立して水素、炭素
数1〜6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数1〜6のアルコキシま
たはフェニルであるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5また
は6のシクロアルキリデンを形成する、請求項1、2または7のいずれかに記載
の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物
。19. The compound according to any one of claims 1, 2 and 7, its prodrug, its pharmaceutically acceptable salt or a solvate thereof, wherein n is 0 or 1, X' is -O-, R a and R b together form R c R d C=, and R c and R d each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms, alkoxy having 1 to 6 carbon atoms or phenyl, or together form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms together with the carbon atom to which they are attached.
なってRcRdC=を形成し、RcおよびRdは各々独立して水素、炭素数1〜
6のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数1〜6のアルコキシまたはフ
ェニルであるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素数5または6の
シクロアルキリデンを形成する、請求項1、2または7のいずれかに記載の化合
物、そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。20. The compound according to claim 20, wherein n is 0, X' is -NH-, R a and R b together form R c R d C=, and R c and R d each independently represent hydrogen, a group having 1 to 10 carbon atoms,
6 alkyl, C2 to C6 alkenyl, C1 to C6 alkoxy, or phenyl, or together with the carbon atom to which it is attached form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof according to any one of claims 1, 2, and 7.
立して水素、低級アルキル、低級アルケニルまたは低級アルコキシカルボニルで
あるか、一緒になって−(CReRf)r−を形成し、Reは各々独立して水素
、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素
、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、rは4または5である、
請求項1、2または7のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬
上許容される塩またはそれらの溶媒和物。21. The compound according to claim 21, wherein n is 0, X' is -NH-, R a and R b are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl, or lower alkoxycarbonyl, or are joined together to form -(CR e R f )r-, wherein R e is each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino, R f is each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino, and r is 4 or 5.
10. The compound according to claim 1, 2 or 7, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
れていてもよいベンゼン環またはハロゲン、低級アルキルもしくは低級アルコキ
シで置換されていてもよいピリジン環であり、 XおよびX’は各々独立して−O−または−NH−であり、 Yは水素、低級アルキル、アリールアルキル、低級アルケニルまたはシクロアル
キルであり、 R4およびR5は各々独立して水素またはハロゲンであり、 R6およびR7は共に水素であり、 R8が水素または低級アルキルであり、 R9がヒドロキシ、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、 R10がヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシまたは低級アルコキシカル
ボニルであり、 R11が水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、 RaおよびRbは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルケニルまたは低級
アルコキシカルボニルであるか、一緒になってRcRdC=または−(CReR
f)r−を形成し、 RcおよびRdは各々独立して水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アル
コキシまたはフェニルであるか、一緒になって結合している炭素原子と共に炭素
数5または6のシクロアルキリデンを形成し、Reは各々独立して水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、Rfは各々独立して水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、nは0または1であり、rは4ま
たは5である、請求項7記載の化合物、そのプロドラッグ、その製薬上許容され
る塩またはそれらの溶媒和物。[Claim 22] Ring C is a benzene ring optionally substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy, or a pyridine ring optionally substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy, X and X' are each independently -O- or -NH-, Y is hydrogen, lower alkyl, arylalkyl, lower alkenyl or cycloalkyl, R4 and R5 are each independently hydrogen or halogen, R6 and R7 are both hydrogen, R8 is hydrogen or lower alkyl, R9 is hydroxy, lower alkyl or lower alkoxy, R10 is hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy or lower alkoxycarbonyl, R11 is hydrogen, hydroxy or lower alkyl, Ra and Rb are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl or lower alkoxycarbonyl, or are taken together to form RcRdC = or -( CReR
Rc and Rd are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl, lower alkoxy, or phenyl, or are joined together with the carbon atom to form a cycloalkylidene having 5 or 6 carbon atoms; Re are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; Rf are each independently hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, or amino; n is 0 or 1; and r is 4 or 5. The compound according to claim 7, its prodrug, its pharmaceutically acceptable salt, or a solvate thereof.
その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。23. A compound according to any one of claims 1 to 23, or a prodrug thereof.
A pharmaceutical composition comprising a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
ッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する免疫抑制剤。24. An immunosuppressant comprising the compound according to any one of claims 1 to 22, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
ッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する抗アレルギー
剤。25. An antiallergic agent comprising the compound according to any one of claims 1 to 22, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
ッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有するIgE抗体産
生抑制剤。26. An IgE antibody production inhibitor comprising the compound according to any one of claims 1 to 22, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
めの医薬を製造するための、請求項1〜請求項22のいずれかに記載の化合物、
そのプロドラッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用。27. A compound according to any one of claims 1 to 22 for producing a medicament for suppressing immune responses and treating and/or preventing allergic diseases.
Use of a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof.
ッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴と
する、免疫反応抑制の方法。28. A method for suppressing an immune response, comprising administering the compound according to any one of claims 1 to 22, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
ッグ、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴と
する、アレルギー性疾患治療の方法および/または予防の方法。29. A method for treating and/or preventing an allergic disease, which comprises administering a compound according to any one of claims 1 to 22, a prodrug thereof, a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-209298 | 1999-07-23 | ||
| JP11-211702 | 1999-07-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2001007401A1 true JPWO2001007401A1 (en) | 2003-02-12 |
Family
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