JPS6231136A - 光半導体素子の評価装置 - Google Patents
光半導体素子の評価装置Info
- Publication number
- JPS6231136A JPS6231136A JP60171512A JP17151285A JPS6231136A JP S6231136 A JPS6231136 A JP S6231136A JP 60171512 A JP60171512 A JP 60171512A JP 17151285 A JP17151285 A JP 17151285A JP S6231136 A JPS6231136 A JP S6231136A
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- Japan
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- optical
- optical fiber
- probe
- optical semiconductor
- semiconductor element
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- Pending
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体素子のうちで、発光機能又は受光機能を
有する光半導体素子の評価装置に関する。
有する光半導体素子の評価装置に関する。
従来の技術
ウェハと呼ばれる半導体基板上に形成された半導体素子
をウェハ状態で効率的に測定評価する装置としてプロー
ブカードがある。通常プローブカードは第4図に示すよ
うに絶縁体で形成された基板41上に、半導体素子に接
触するように取付けられた複数本の探針42が取り付け
られている。
をウェハ状態で効率的に測定評価する装置としてプロー
ブカードがある。通常プローブカードは第4図に示すよ
うに絶縁体で形成された基板41上に、半導体素子に接
触するように取付けられた複数本の探針42が取り付け
られている。
各探針42の先は被測定半導体素子の所望のパッドに接
触するようにそれぞれの間隔が決められている。各探針
42の他端は、基板41上に形成された銅はく43と接
続されていて、銅はく43を通して基板41上に形成さ
れたコネクタ部44の各ピン46にそれぞれ電気的に接
続されている。
触するようにそれぞれの間隔が決められている。各探針
42の他端は、基板41上に形成された銅はく43と接
続されていて、銅はく43を通して基板41上に形成さ
れたコネクタ部44の各ピン46にそれぞれ電気的に接
続されている。
探針42を半導体素子に接触させることによりコネクタ
部44を通して外部の接続された測定装置により半導体
素子を評価することができる。一方たとえばGaAs
、InP等の半導体基板上て形成した発光素子もしくは
受光素子の光学的特性を評価するためには、個々の半導
体素子をチップ状に切り出し組立てた後、それぞれを別
々に測定評価を行っていた。
部44を通して外部の接続された測定装置により半導体
素子を評価することができる。一方たとえばGaAs
、InP等の半導体基板上て形成した発光素子もしくは
受光素子の光学的特性を評価するためには、個々の半導
体素子をチップ状に切り出し組立てた後、それぞれを別
々に測定評価を行っていた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら従来の技術を用いて半導体素子を評価する
場合、従来のプローブカードを用いてウェハ上に形成さ
れた光半導体素子の電気特性について調べ、良品を個々
のチップに切り出し組立てた後、光特性を評価する方法
を採っていた。このため評価に多くの手間と組立用マウ
ントが必要であった。またこのようにして得られたデー
タからウェハ面内における光半導体素子の光学的特性の
分布を得るためには模大な作業が必要であり、短期間の
うちに、製造工程に適切な指示を行うことが困難であっ
た。
場合、従来のプローブカードを用いてウェハ上に形成さ
れた光半導体素子の電気特性について調べ、良品を個々
のチップに切り出し組立てた後、光特性を評価する方法
を採っていた。このため評価に多くの手間と組立用マウ
ントが必要であった。またこのようにして得られたデー
タからウェハ面内における光半導体素子の光学的特性の
分布を得るためには模大な作業が必要であり、短期間の
うちに、製造工程に適切な指示を行うことが困難であっ
た。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決する本発明の技術的手段は、上記従来
のプローブカードに少々くとも1つ以上の光ファイバを
用いることにより光半導体素子の光学的特性の評価をウ
ェハ状態のままで行えるようにすることである。
のプローブカードに少々くとも1つ以上の光ファイバを
用いることにより光半導体素子の光学的特性の評価をウ
ェハ状態のままで行えるようにすることである。
作用
この技術的手段による作用は次のようなものである。す
なわち、プローブカードに取り付けられた複数本の探針
が光半導体素子の所望のパッドに接触するように、間隔
を決めて取り付けられているのと同様に、光半導体素子
の発光位置もしくは受光位置でファイバと光結合出来る
ように少なくとも1つ以上の光ファイバが上記プローブ
カードに取り付けられている。ウェハ上に形成された光
半導体素子のパッドに接続するようにプローブカードの
位置合わせを行うと、取りつけられたファイバの先端を
発光位置もしくは受光位置に位置合わせが出来、プロー
ブカードの探針により電気特性が、探針によシ所定の電
気信号を光半導体素子に印加することによりファイバを
通じて同時に光特性が、ウェハ形態のままで評価するこ
とが可能になる。
なわち、プローブカードに取り付けられた複数本の探針
が光半導体素子の所望のパッドに接触するように、間隔
を決めて取り付けられているのと同様に、光半導体素子
の発光位置もしくは受光位置でファイバと光結合出来る
ように少なくとも1つ以上の光ファイバが上記プローブ
カードに取り付けられている。ウェハ上に形成された光
半導体素子のパッドに接続するようにプローブカードの
位置合わせを行うと、取りつけられたファイバの先端を
発光位置もしくは受光位置に位置合わせが出来、プロー
ブカードの探針により電気特性が、探針によシ所定の電
気信号を光半導体素子に印加することによりファイバを
通じて同時に光特性が、ウェハ形態のままで評価するこ
とが可能になる。
実施例
以下本発明の実施例を添付図面にもとづいて説明する。
第1図は本発明の一実施例の斜視図であり、第2図はそ
の探針部分の拡大断面図であり、第3図は本発明の他の
実施例を示す断面図である。
の探針部分の拡大断面図であり、第3図は本発明の他の
実施例を示す断面図である。
第1図においてガラスエポキシ等の絶縁体で形成された
基板1の中央部に開孔された穴2に従来のプローブカー
ドと同様に、複数本の探針3は取り付けられている。探
針3は基板上に形成された銅箔4により基板1のコネク
タ部5の所定のピンeにそれぞれ電気的に接続されてい
る。
基板1の中央部に開孔された穴2に従来のプローブカー
ドと同様に、複数本の探針3は取り付けられている。探
針3は基板上に形成された銅箔4により基板1のコネク
タ部5の所定のピンeにそれぞれ電気的に接続されてい
る。
その他に本実施例によるプローブカードにおいては、光
ファイバ7が取り付けられている。光ファイバ7の片端
は光ファイバの支持具8により保持されている。他端は
、例えば光電素子9に接続されているかもしくは基板1
のコネクタ部6に取り付けられた光コネクタ10に接続
されている。
ファイバ7が取り付けられている。光ファイバ7の片端
は光ファイバの支持具8により保持されている。他端は
、例えば光電素子9に接続されているかもしくは基板1
のコネクタ部6に取り付けられた光コネクタ10に接続
されている。
光コネクタを通して外部の評価装置に接続することがで
きる。また光電素子9は、被測定物である光半導体素子
の受光機能の測定を行う場合、半導体レーザのような発
光素子であり、光半導体素子の発光機能の測定を行う場
合、フォトダイオードのような受光素子であればよい。
きる。また光電素子9は、被測定物である光半導体素子
の受光機能の測定を行う場合、半導体レーザのような発
光素子であり、光半導体素子の発光機能の測定を行う場
合、フォトダイオードのような受光素子であればよい。
光ファイバ7に接続された光電素子9により電気信号と
なりコネクタ部6を通して外部の評価装置へ接続できる
。
なりコネクタ部6を通して外部の評価装置へ接続できる
。
これ以後、光半導体素子の発光機能を評価する場合も、
受光機能を評価する場合も本発明の構成は同じであるの
で、光半導体素子が受光機能を有する場合について説明
を行う。
受光機能を評価する場合も本発明の構成は同じであるの
で、光半導体素子が受光機能を有する場合について説明
を行う。
第2図においてステージ21上にウェハ22が置かれて
いる。ウェハ22内には光半導体素子23が同一ビッテ
で形成されている。探針3により電気特性が評価できる
のは従来のプローブカードと同じである。光半導体素子
23内の受光部24の光特性を評価するには、半導体レ
ーザにより構成された発光素子25から出た光が光ファ
イバ7を通って半導体素子23の受光部24に入射され
、その光により探針3に表われる電気信号を観察するこ
とにより行える。光ファイバ7の光半導体素子23に接
近させる端は支持具8により、探針3が光半導体素子2
3のパ・フドに位置合わせを行うと、光半導体素子23
の受光部24に位置が合うように探針3との間で相対位
置があらかじめ決めて固定されている。ステージ21を
光半導体素子23のウェハ22上でのピッチごとに移動
させることにより容易に、電気特性だけでなく光特性を
も評価することが出来る。
いる。ウェハ22内には光半導体素子23が同一ビッテ
で形成されている。探針3により電気特性が評価できる
のは従来のプローブカードと同じである。光半導体素子
23内の受光部24の光特性を評価するには、半導体レ
ーザにより構成された発光素子25から出た光が光ファ
イバ7を通って半導体素子23の受光部24に入射され
、その光により探針3に表われる電気信号を観察するこ
とにより行える。光ファイバ7の光半導体素子23に接
近させる端は支持具8により、探針3が光半導体素子2
3のパ・フドに位置合わせを行うと、光半導体素子23
の受光部24に位置が合うように探針3との間で相対位
置があらかじめ決めて固定されている。ステージ21を
光半導体素子23のウェハ22上でのピッチごとに移動
させることにより容易に、電気特性だけでなく光特性を
も評価することが出来る。
第3図は本発明の他の実施例であるが、発光素子26か
ら出射された光は光ファイバ7を通じて導びかれた後、
レンズ31と支持の筒32により結像系が構成され、光
半導体素子23内の受光部24に効率よく光が入射する
ように焦点位置が他の探針3との相対位置で決められて
いる。さらに光半導体素子は、高速の光通信、信号処理
に用いられることが多くそのためには、ウェハ状態で高
速動作をさせ光半導体素子の評価を行う必要がある。そ
のため第3図に示すように電気信号の接続線としτ高周
波信号を通すことができるセミリジットケーブル等のコ
アキシャルケーブル33を用いて、その先端に可能なか
ぎり短かい探針3を取り付けて光半導体素子23のパッ
ドと接続を行う。
ら出射された光は光ファイバ7を通じて導びかれた後、
レンズ31と支持の筒32により結像系が構成され、光
半導体素子23内の受光部24に効率よく光が入射する
ように焦点位置が他の探針3との相対位置で決められて
いる。さらに光半導体素子は、高速の光通信、信号処理
に用いられることが多くそのためには、ウェハ状態で高
速動作をさせ光半導体素子の評価を行う必要がある。そ
のため第3図に示すように電気信号の接続線としτ高周
波信号を通すことができるセミリジットケーブル等のコ
アキシャルケーブル33を用いて、その先端に可能なか
ぎり短かい探針3を取り付けて光半導体素子23のパッ
ドと接続を行う。
このような構成にすることにより、電気特性及び光特性
の高速動作時の評価が可能となる。
の高速動作時の評価が可能となる。
発明の効果
以上述べてきたように本発明によれば、ウェハ状態のま
まで光半導体素子の電気特性及び光特性、両方の評価を
効率的に行うことが出来、さらに得られた特性のウェハ
上での分布状態を短期間に把握して製造工程へ適切な指
示を行うことが出来る。
まで光半導体素子の電気特性及び光特性、両方の評価を
効率的に行うことが出来、さらに得られた特性のウェハ
上での分布状態を短期間に把握して製造工程へ適切な指
示を行うことが出来る。
第1図は本発明の一実施例におけるプローブカードの斜
視図、第2図は同プローブカードの探針部の拡大断面図
、第3図は本発明の他の実施例におけるプローブカード
の探針部の拡大断面図、第4図は従来のプローブカード
の斜視図である。 1・・・・・・基板、3・・・・・・探針、7・・・・
・・光ファイバ、9・・・・・・光電素子、22・・・
・・・ウェハ、23・・・・・・光半導体素子、26・
・・・・・発光素子、31・・・・・・レンズ、33・
・・・・・コアキシャルケーブル。
視図、第2図は同プローブカードの探針部の拡大断面図
、第3図は本発明の他の実施例におけるプローブカード
の探針部の拡大断面図、第4図は従来のプローブカード
の斜視図である。 1・・・・・・基板、3・・・・・・探針、7・・・・
・・光ファイバ、9・・・・・・光電素子、22・・・
・・・ウェハ、23・・・・・・光半導体素子、26・
・・・・・発光素子、31・・・・・・レンズ、33・
・・・・・コアキシャルケーブル。
Claims (4)
- (1)絶縁物により構成された基板上に取り付けられた
探針を半導体素子と接触させて前記半導体素子の評価を
行うとともに、前記基板に、少なくとも1つの光ファイ
バを、前記半導体素子近傍位置に固定してなる光半導体
素子の評価装置。 - (2)光ファイバの一方の端部が光電素子に接続されて
いる特許請求の範囲第1項記載の光半導体素子の評価装
置。 - (3)半導体素子近傍に固定された光ファイバの端部に
少なくとも1つのレンズが取り付けられており、このレ
ンズにより半導体素子表面と光ファイバ端で焦点を結ぶ
ように前記レンズが配置されてなる特許請求の範囲第1
項記載の光半導体素子の評価装置。 - (4)探針が半導体素子表面近傍までコアキシャルケー
ブルを有する特許請求の範囲第1項記載の光半導体素子
の評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60171512A JPS6231136A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 光半導体素子の評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60171512A JPS6231136A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 光半導体素子の評価装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231136A true JPS6231136A (ja) | 1987-02-10 |
Family
ID=15924491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60171512A Pending JPS6231136A (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 光半導体素子の評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6231136A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01158489A (ja) * | 1987-09-02 | 1989-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 液晶表示装置の点灯検査方法 |
| JPH02302082A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Nec Corp | 発光ダイオードの製造方法 |
| JP2003273178A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-09-26 | Hewlett Packard Co <Hp> | 相互接続構造 |
| US6657446B1 (en) * | 1999-09-30 | 2003-12-02 | Advanced Micro Devices, Inc. | Picosecond imaging circuit analysis probe and system |
| US6731122B2 (en) | 2001-08-14 | 2004-05-04 | International Business Machines Corporation | Wafer test apparatus including optical elements and method of using the test apparatus |
| FR2894339A1 (fr) * | 2005-12-05 | 2007-06-08 | St Microelectronics Sa | Carte sonde pour tests de puces photosensibles et dispositif d'illumination correspondant. |
| JP2008283089A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Denso Corp | 検査装置 |
| JP2022018889A (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-27 | 株式会社日本マイクロニクス | 接続装置 |
| KR20220089618A (ko) | 2020-12-21 | 2022-06-28 | 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 | 측정 시스템 |
| DE112020006529T5 (de) | 2020-01-14 | 2022-11-03 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optische sonde, prüfkarte, messsystem und messverfahren |
| US11624679B2 (en) | 2019-10-04 | 2023-04-11 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optical probe, optical probe array, test system and test method |
| US11971431B2 (en) | 2020-05-20 | 2024-04-30 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optical probe, optical probe array, optical probe card, and method of manufacturing optical probe |
| US12031921B2 (en) | 2019-11-18 | 2024-07-09 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Measurement system |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP60171512A patent/JPS6231136A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7250778B2 (en) | 2001-08-14 | 2007-07-31 | International Business Machines Corporation | Wafer test apparatus including optical elements and method of using the test apparatus |
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| US7642792B2 (en) | 2005-12-05 | 2010-01-05 | Stmicroelectronics S.A. | Probe card for tests on photosensitive chips and corresponding illumination device |
| FR2894339A1 (fr) * | 2005-12-05 | 2007-06-08 | St Microelectronics Sa | Carte sonde pour tests de puces photosensibles et dispositif d'illumination correspondant. |
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| US11624679B2 (en) | 2019-10-04 | 2023-04-11 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optical probe, optical probe array, test system and test method |
| US12031921B2 (en) | 2019-11-18 | 2024-07-09 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Measurement system |
| DE112020006529T5 (de) | 2020-01-14 | 2022-11-03 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optische sonde, prüfkarte, messsystem und messverfahren |
| US12360155B2 (en) | 2020-01-14 | 2025-07-15 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optical probe, probe card, measuring system, and measuring method |
| US11971431B2 (en) | 2020-05-20 | 2024-04-30 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Optical probe, optical probe array, optical probe card, and method of manufacturing optical probe |
| JP2022018889A (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-27 | 株式会社日本マイクロニクス | 接続装置 |
| KR20220089618A (ko) | 2020-12-21 | 2022-06-28 | 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 | 측정 시스템 |
| US12379398B2 (en) | 2020-12-21 | 2025-08-05 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Measurement system |
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