JPS6112036A - Semiconductor wafer processing device - Google Patents
Semiconductor wafer processing deviceInfo
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- JPS6112036A JPS6112036A JP13231984A JP13231984A JPS6112036A JP S6112036 A JPS6112036 A JP S6112036A JP 13231984 A JP13231984 A JP 13231984A JP 13231984 A JP13231984 A JP 13231984A JP S6112036 A JPS6112036 A JP S6112036A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野〕
この発明はICやLSI等を製造する際に使用される半
導体ウエハの処理装置に係り・特に各種プロセス条件を
自動的に設定できるようにしたものである。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor wafer processing apparatus used in manufacturing ICs, LSIs, etc., and in particular to an apparatus capable of automatically setting various process conditions. It is.
[発明の技術的前It]
ICやLSI等の半導体装置は、ウェハ状態で拡散、酸
化、選択エツチング等の工程が順次施され、このウニハ
エ程が終了してから各チップの良否判定試験が行われ、
各チップに分割後、良品のみが外囲器に収納されて完成
される。[Technical background of the invention] Semiconductor devices such as ICs and LSIs are sequentially subjected to processes such as diffusion, oxidation, and selective etching in the wafer state, and after this process is completed, a test is performed to determine the quality of each chip. I,
After dividing into each chip, only the good ones are placed in the envelope and completed.
ところで、上記ウニハエ程には第4図に示すように、酸
化、フォトレジスト塗布、マスク合せ、フォトレジスト
現像、選択エツチング、不純物拡散、イオン注入、気相
成長、蒸着、ウェハ試験、ダイシング、チップ試験等の
各種処理がある。By the way, as shown in Figure 4, the sea urchin fly process includes oxidation, photoresist coating, mask alignment, photoresist development, selective etching, impurity diffusion, ion implantation, vapor phase growth, vapor deposition, wafer testing, dicing, and chip testing. There are various types of processing such as
従来このような各種プロセスは、トラベルシートと呼ば
れる第5図に示すような用紙に、製品の名称、ロット番
号、キャリア番号、各工程の名称、ウェハの枚数、日付
、オペレータ名、機械番号、プロセス条件9M格、試験
結果等の情報を記入しながら順次工程を進めるようにし
ている。各プロセス工程ではオペ、レータがこの用紙に
記入されている内容を読みながら対応する処理装置のプ
ロセス条件設定を行ない、またそれぞれの工程で発生し
た情報をこの用紙に記入して次の工程に送るようにして
いる。Conventionally, these various processes have been carried out on paper called a travel sheet, as shown in Figure 5, with information such as product name, lot number, carrier number, name of each process, number of wafers, date, operator name, machine number, and process information. The process is progressed step by step while filling in information such as condition 9M rating and test results. At each process step, operators and operators read the information written on this form and set the process conditions for the corresponding processing equipment, and also write the information generated in each process on this form and send it to the next process. That's what I do.
[背景技術の問題点]
ところが、オペレータが作業条件を上記トラベルシート
から読取り、その指示通りに条件設定を行なおうとして
も、読み誤りや設定誤りが生じる。[Problems with Background Art] However, even if the operator reads the working conditions from the travel sheet and attempts to set the conditions according to the instructions, misreading or setting errors may occur.
このため、正規の条件でウェハ処理が行われなくなり、
不良もしくは規格はずれが多発し、生産性が低下してし
まうという欠点がある。As a result, wafer processing is no longer performed under regular conditions.
The drawback is that defects or deviations from specifications occur frequently, resulting in a decrease in productivity.
また工程管理をするためには、装置もしくはオペレータ
により、管理するもの(最近では主にコンピュータが用
いられている)に各種情報を知らせる必要がある。とこ
ろが、従来ではオフラインでこれを行なわなければなら
ないので、時々忘れたり、入力ミス等が発生し、工程管
理が正しく行われなくなってしまう。また作業条件が守
られているか、情報収集が正常に行われているか、装置
が正常に動作しているか等の確認をオフラインで行なわ
なければならず、今後基々複雑化していく装置の管理を
含めこれらの管理がむずかしくなりつつある。In addition, in order to control the process, it is necessary to notify various information from the equipment or the operator to the control device (computers are mainly used these days). However, in the past, this had to be done offline, which sometimes led to forgetting or input errors, resulting in incorrect process management. In addition, it is necessary to check offline whether working conditions are being followed, whether information is being collected normally, whether the equipment is operating normally, etc., and the management of equipment that will become increasingly complex in the future is required. Managing these issues is becoming increasingly difficult.
[発明の目的1
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は半導体ウェイ\に対する各種プロセス
条件情報を磁気カードに記録しておき、この情報を磁気
カードから読み出し、この情報に基づいて処理装置のプ
ロセス条件を自動的に設定することにより誤設定の発生
を防止し、これによって生産性の向上を計ることができ
、かつ各処理装ばに対する管理情報をこの磁気カードに
記録することによって工程管理の省力化を計ることがで
きる半導体ウェハの処理装置を提供することにある。[Objective of the Invention 1 This invention was made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to record various process condition information for a semiconductor way on a magnetic card, and to read this information from the magnetic card. By automatically setting the process conditions of the processing equipment based on this information, it is possible to prevent the occurrence of incorrect settings and improve productivity. An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer processing device that can save labor in process control by recording information on a card.
[発明の概要]
上記目的を達成するためこの発明では、半導体ウェハと
同一形状の磁気カードを用意し、この磁気カードには半
導体ウェハに対する各種プロセス条件情報を予め記録し
ておき、この磁気カードを半導体ウェハとともにウェハ
キャリア内に設置し、各種プロセス処理を行なう前にこ
のウェハキャリアから上記磁気カードを取出し、この磁
気カードに記録されている各種情報を読み出し、この情
報に基づいて処理装置のプロセス条件設定を行なった後
、ウェハキャリアから半導体ウェハを取出して処理を行
なうようにしている。また各処理装置に対する管理情報
を上記磁気カードに予め記録しておくことによって、工
程管理の自動化を行なうようにしている。[Summary of the Invention] In order to achieve the above object, in this invention, a magnetic card having the same shape as a semiconductor wafer is prepared, and various process condition information for the semiconductor wafer is recorded in advance on the magnetic card. The magnetic card is placed in a wafer carrier together with a semiconductor wafer, and before various processes are performed, the magnetic card is removed from the wafer carrier, various information recorded on the magnetic card is read out, and the process conditions of the processing equipment are determined based on this information. After the settings are made, the semiconductor wafer is taken out from the wafer carrier and processed. Furthermore, by recording management information for each processing device on the magnetic card in advance, process management can be automated.
[発明の実施例] 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。[Embodiments of the invention] Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図はこの発明に係る半導体ウェハの処理装置のシス
テム構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing the system configuration of a semiconductor wafer processing apparatus according to the present invention.
処理装置11は半導体ウェハに対し、前記第4図中のい
ずれか1つのプロセス工程を施すものである。The processing apparatus 11 performs any one of the process steps shown in FIG. 4 on a semiconductor wafer.
この処理装置11には磁気カード読取り/書込み装置1
2が接続され、この装置12で読取られた磁気カードの
情報に基づいてそのプロセス条件が設定されるようにな
っている。たとえばこの処理装置11が酸化装置である
場合に、上記磁気カード読取り/書込み装置12で酸化
温度、時間、ガス量、形成膜厚等の情報が読取られ、こ
れらの情報に基づいて各プロセス条件が設定される。This processing device 11 includes a magnetic card reading/writing device 1.
2 is connected, and the process conditions are set based on the information on the magnetic card read by this device 12. For example, when the processing device 11 is an oxidation device, the magnetic card reading/writing device 12 reads information such as oxidation temperature, time, gas amount, and film thickness, and each process condition is determined based on this information. Set.
処理装置13は半導体ウェハに対し、前記第4図中のい
ずれか1つのプロセスを施すものである。The processing apparatus 13 performs any one of the processes shown in FIG. 4 on the semiconductor wafer.
この処理装置13は磁気カード読取り装置14を内蔵し
、この装置14で読取られた磁気カードの情報に基づい
てそのプロセス条件が設定されるようになっている。た
とえばこの処理装置13が不純物拡散装置である場合に
、上記磁気カード読取り装置14で拡散温度、時間、ガ
ス量、不純物濃度等の情報が読取られ、これらの情報に
基づいて各プロセス条件が設定される。さらに上記処理
装置11.13の他に図示しないが、種々の処理装置が
設けられ、それぞれには磁気カード読取り/書込み装置
が接続されるか、もしくは磁気カード読取り装置を内蔵
している。This processing device 13 has a built-in magnetic card reading device 14, and the process conditions are set based on the information of the magnetic card read by this device 14. For example, when the processing device 13 is an impurity diffusion device, the magnetic card reader 14 reads information such as diffusion temperature, time, gas amount, impurity concentration, etc., and each process condition is set based on this information. Ru. Furthermore, in addition to the processing devices 11 and 13, various processing devices (not shown) are provided, each of which is connected to a magnetic card reading/writing device or has a built-in magnetic card reading device.
ディスプレイ装置15は上記磁気カード読取り装置14
で読取られた拡散濃度、時間、ガス量、不純物濃度等の
情報を表示するものである。The display device 15 is the magnetic card reader 14
It displays information such as the diffusion concentration, time, gas amount, and impurity concentration read by the sensor.
上記処理装置11.13を初めとする種々の処理装置お
よびディスプレイ装置15はホストコンピュータ16と
接続されており、さらにこの弗ストコンピュータ16に
は磁気テープ装置17、磁気ディスク装置18および制
御用コンソール19等が接続されている。Various processing devices including the processing devices 11 and 13 mentioned above and a display device 15 are connected to a host computer 16, which further includes a magnetic tape device 17, a magnetic disk device 18, and a control console 19. etc. are connected.
上記各磁気カード読取り/書込み装置12および各磁気
カード読取り装置14で読取られた情報は上記各処理装
置ならびにホストコンピュータ16に供給されるように
なっている。Information read by each of the magnetic card reading/writing devices 12 and each magnetic card reading device 14 is supplied to each of the processing devices and the host computer 16.
第2図は上記処理装置11.13を初めとする種々の処
理装置それぞれで処理される半導体ウェハ21の形状お
よびこのウェハ21を複数枚収納するウェハ供給キャリ
ア22の構造を示す斜視図である。図示するように、上
記ウェハ21には、オリエンティリング フラットと呼
ばれている位置修正用の切り欠き部23が設けられてい
る。またこのキャリア22内には、第3図に示すように
、その平面形状が上記ウェハ21と同一でかつ表面に磁
気記録部24が形成されている磁気カード25が収納さ
れるようになっている。FIG. 2 is a perspective view showing the shape of semiconductor wafers 21 processed in various processing apparatuses including the processing apparatuses 11 and 13 described above, and the structure of a wafer supply carrier 22 that accommodates a plurality of these wafers 21. As shown in the figure, the wafer 21 is provided with a notch 23 for position correction called an orienting flat. Furthermore, as shown in FIG. 3, a magnetic card 25 having the same planar shape as the wafer 21 and having a magnetic recording section 24 formed on its surface is housed in the carrier 22. .
この磁気カード25の磁気記録部24には、対応するロ
ットの番号、そのロットのウェハ21に施すべきプロセ
スにおける、前記第4図に示すような種々のプロセス条
件情報と各処理装置の管理情報等が予め記録されている
。The magnetic recording section 24 of this magnetic card 25 contains the number of the corresponding lot, various process condition information as shown in FIG. is recorded in advance.
このような構成において、同一ロットのウェハ21は上
記磁気カード25とともに上記ウェハ供給キャリア22
内に収納され、各処理装置にセットさ−れる。たとえば
ウェハ供給キャリア22が酸化を行なう1つの処理装置
11にセットされたとする。処理装置11ではまず、ウ
ェハの処理を行なう前にウェハ供給キャリア22から磁
気カード25が取り出され、ここに予め記録されている
酸化工程の各種プロセス条件情報すなわち酸化温度、時
間、ガス量、形成膜厚等の情報が磁気カード読取り/書
込み装置12で読取られる。ここで読取られた情報に基
づき処理装置11の条件設定が行なわれ、次にウェハ供
給キャリア22から1枚ずつウェハ21が取出されて、
各ウェハ21に対する酸化処理が上記設定された各条件
に基づいて行、なわれる。In such a configuration, wafers 21 of the same lot are stored in the wafer supply carrier 22 together with the magnetic card 25.
and set in each processing device. For example, assume that the wafer supply carrier 22 is set in one processing apparatus 11 that performs oxidation. In the processing apparatus 11, first, before processing a wafer, the magnetic card 25 is taken out from the wafer supply carrier 22, and various process condition information of the oxidation step recorded in advance, such as oxidation temperature, time, gas amount, and formed film, is loaded onto the magnetic card 25. Information such as thickness is read by the magnetic card reading/writing device 12. Based on the information read here, the conditions of the processing device 11 are set, and then the wafers 21 are taken out one by one from the wafer supply carrier 22.
The oxidation treatment for each wafer 21 is performed based on the conditions set above.
またウェハ供給キャリア22が不純物拡散を行なう処理
装置13にセットされたとする。処理装置13では上記
と同様にまず、ウェハの処理を行なう前にウェハ供給キ
ャリア22から磁気カード25が取り出され、ここに予
め記録されている不純物拡散工程の各種プロセス条件情
報すなわち拡散温度、時間、ガス量、不純物濃度等の情
報が磁気カード読取り装置14で読取られる。ここで読
取られた情報に基づき処理装置13の条件設定が行なわ
れ、次にウニへ供給キャリア22から1枚ずつウェハ2
1が取出されて、各ウェハ21に対する不純物拡散処理
が上記設定された各条件に基づいて行なわれる。It is also assumed that the wafer supply carrier 22 is set in the processing device 13 that performs impurity diffusion. In the processing apparatus 13, in the same manner as described above, first, before processing the wafer, the magnetic card 25 is taken out from the wafer supply carrier 22, and various process condition information of the impurity diffusion step recorded in advance, such as diffusion temperature, time, Information such as gas amount and impurity concentration is read by the magnetic card reader 14. Based on the information read here, the conditions of the processing device 13 are set, and then the wafers are transferred one by one from the carrier 22 to the sea urchin.
1 is taken out, and impurity diffusion processing is performed on each wafer 21 based on the conditions set above.
このように各処理装置におけるプロセス条件の設定は磁
気カード25から対応する情報を読み出すことにより行
なうようにしているので、それぞれ自動的に設定するこ
とができる。このため、従来のような読み誤りや設定誤
りがほとんどなくなり、正規の条件でウェハ処理を行な
うことができる。In this way, since the process conditions in each processing device are set by reading the corresponding information from the magnetic card 25, each can be set automatically. Therefore, there are almost no reading errors or setting errors as in the prior art, and wafer processing can be performed under regular conditions.
従って、不良若しくは規格はずれの発生を抑制すること
ができ、生産性の大幅な向上を計ることができる。Therefore, the occurrence of defects or deviations from specifications can be suppressed, and productivity can be significantly improved.
またロット番号および各処理装置の管理情報が磁気カー
ドから読み出されてホストコンピュータ16に送られ、
各処理装置でウェハ処理がなされているときに、それぞ
れの装置の稼働状況等がホストコンピュータ16に送ら
れる。このため、オンラインで各処理装置の管理を行な
うことができ、オフラインでこれを行なうときの様に、
入力を時々忘れたり、入力ミスを犯す等が発生せず、工
程管理を正しく行なうことができる。Also, the lot number and management information of each processing device are read from the magnetic card and sent to the host computer 16.
When each processing device is processing a wafer, the operating status of each device is sent to the host computer 16. Therefore, you can manage each processing device online, just like when you manage it offline.
Process management can be performed correctly without occasionally forgetting input or making input errors.
このようにウニハエ程を行なう際に、ウェハ21と同一
形状に形成された磁気カード25に、そのときのウェハ
21が属するロットのプロセス条件情報を記録し、ウェ
ハ21の処理に先だってこの情報を読みだし、この情報
に基づいて各処理装置のプロセス条件設定をそれぞれ行
なうように、したので、磁気カード25をウェハ供給キ
ャリア22内に収納するだけでオペレータは各処理に必
要な各種プロセス条件を意識することなく、ウニハエ程
を自動的に行なわせることができる。When performing the unifly process in this way, process condition information of the lot to which the wafer 21 belongs at that time is recorded on a magnetic card 25 formed in the same shape as the wafer 21, and this information is read before processing the wafer 21. However, since the process conditions for each processing device are set based on this information, the operator can be aware of the various process conditions necessary for each process simply by storing the magnetic card 25 in the wafer supply carrier 22. You can have the process automatically run without any hassle.
なお、磁気カードを介さずに各処理装置に対してホスト
コンピュータ16から直接に情報を送ることが考えられ
る。ところが、このような方法では各処理装置の情報処
理能力の増大や各処理装置の構成の複雑化が発生するが
、この発明ではほとんどの情報を磁気カードに記録して
いるのでかなりの融通性がある。また磁気カードは常に
ロフト単位で1枚あれば十分であり、仮にホストコンピ
ュータを用いた大規模なシステムを構築できないような
場合でも、容易にウェハ処理の自動化ラインを構築する
ことができる。Note that it is possible to send information directly from the host computer 16 to each processing device without using a magnetic card. However, with this method, the information processing capacity of each processing device increases and the configuration of each processing device becomes complicated, but with this invention, most of the information is recorded on magnetic cards, so it is quite flexible. be. Furthermore, one magnetic card per loft is always sufficient, and even if it is not possible to construct a large-scale system using a host computer, an automated wafer processing line can be easily constructed.
[発明の効果]
以上説明したようにこの発明によれば、半導体ウェハの
プロセス工程を行なう際の各プロセス条件の設定を自動
的に行なうようにしたので、誤操作の発生が防止できこ
れによって生産性の向上を計ることができ:さらに各処
理装置の管理情報をこの磁気カードに記録するようにし
たので、工程管理の省力化を計ることができる半導体ウ
ェハの処理装置が提供できる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, each process condition when performing a semiconductor wafer process step is automatically set, thereby preventing the occurrence of erroneous operations and thereby increasing productivity. Furthermore, since the management information of each processing device is recorded on this magnetic card, it is possible to provide a semiconductor wafer processing device that can save labor in process control.
第1図はこの発明に係る半導体ウェハの処理装置の構成
を示すブロック図、第2図はこの発明の装置で用いられ
る半導体ウェハおよびウェハ供給キャリアを示す斜視図
、第3図はこの発明の装置で用いられる磁気カードの平
面図、第4図はウニハエ程の各プロセスおよびそれぞれ
の条件項目をまとめて示す図、第5図は従来用いられて
いるトラベルシートを示す図である。
11、13・・・処理装置、12・・・磁気カード読取
り/I込み装置、14・・・磁気カード読取り装置、1
5・・・ディスプレイ装置、16・・・ホストコンピュ
ータ、17・・・磁気テープ装置1.18・・・磁気デ
ィスク装置、19・・・制御用コンソール、21・・・
ウェハ、22・・・ウェハ供給キャリア、23・・・位
置修正用の切り欠き部(オリエンティリング フラット
)24・・・磁気記録部、25・・・磁気カード。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
第1図
第2図
第3y1
第5図FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor wafer processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a semiconductor wafer and a wafer supply carrier used in the apparatus of the present invention, and FIG. 3 is a block diagram showing the structure of a semiconductor wafer processing apparatus according to the present invention. FIG. 4 is a plan view of a magnetic card used in the invention, FIG. 4 is a diagram summarizing each process and each condition item, and FIG. 5 is a diagram showing a conventionally used travel sheet. 11, 13... Processing device, 12... Magnetic card reading/I loading device, 14... Magnetic card reading device, 1
5...Display device, 16...Host computer, 17...Magnetic tape device 1.18...Magnetic disk device, 19...Control console, 21...
Wafer, 22... Wafer supply carrier, 23... Notch for position correction (orienting flat) 24... Magnetic recording section, 25... Magnetic card. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2 Figure 3y1 Figure 5
Claims (1)
収納手段内に収納され、上記半導体ウエハと等価な形状
でかつ表面に磁気記録部が設けられ、この磁気記録部に
は少なくとも上記半導体ウエハに対する各種プロセス条
件情報が記録される磁気記録部材と、この磁気記録部材
の磁気記録部から上記情報を読取る情報読取手段と、こ
の情報に基づいてプロセス条件が設定され、上記半導体
ウエハに対して所定のプロセスを施す半導体ウエハ処理
手段とを具備したことを特徴とする半導体ウエハの処理
装置。A wafer storage means for storing a semiconductor wafer, and a magnetic recording section which is stored in the wafer storage means and has a shape equivalent to the semiconductor wafer and is provided on the surface thereof, and the magnetic recording section includes at least various processes for the semiconductor wafer. A magnetic recording member on which condition information is recorded, an information reading means for reading the information from the magnetic recording section of the magnetic recording member, and process conditions are set based on this information, and a predetermined process is performed on the semiconductor wafer. 1. A semiconductor wafer processing apparatus, comprising a semiconductor wafer processing means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13231984A JPS6112036A (en) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Semiconductor wafer processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13231984A JPS6112036A (en) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Semiconductor wafer processing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6112036A true JPS6112036A (en) | 1986-01-20 |
Family
ID=15078531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13231984A Pending JPS6112036A (en) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Semiconductor wafer processing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6112036A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5651798A (en) * | 1994-05-23 | 1997-07-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Workpiece monitoring process using a workpiece carrier having an identification code |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP13231984A patent/JPS6112036A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5651798A (en) * | 1994-05-23 | 1997-07-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Workpiece monitoring process using a workpiece carrier having an identification code |
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