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JPS6050695A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

Info

Publication number
JPS6050695A
JPS6050695A JP58158712A JP15871283A JPS6050695A JP S6050695 A JPS6050695 A JP S6050695A JP 58158712 A JP58158712 A JP 58158712A JP 15871283 A JP15871283 A JP 15871283A JP S6050695 A JPS6050695 A JP S6050695A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
turned
memory cell
power
output terminal
inverters
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58158712A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Tominaga
正志 富永
Taiga Hayashi
大雅 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP58158712A priority Critical patent/JPS6050695A/en
Publication of JPS6050695A publication Critical patent/JPS6050695A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To set a prescribed data pattern to an RAM when a power source is turned on, by setting a circuit constant of a memory cell containing a flip-flop to a prescribed value. CONSTITUTION:A memory cell of a matrix array for forming an RAM contains an FF27 formed by CMOS invertors 23, 24 of a crossing connection, and the impedance of a PMOSFET35 is set so as to be larger than the impedance of a PMOSFET36. Accordingly, when a power source is turned on, the potential of an output terminal 31 of an invertor 26 rises quickly from an output terminal 28 of the invertor 23, and an N type MOSFET22 of the invertor 23 is turned on. As a result, the potential of the output terminal 28 drops quickly by discharging, the output terminal 28 is set to logic ''0'', and the output terminal 31 is set to logic ''1'' by charging. Accordingly, when the power source is turned on, prescribed data is set to the RAM, it is unnecessary to store a necessary program in an ROM only when the power source is turned on, and the ROM can be utilized effectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明はデータの読み出しおよび省き込みが可能なス
タティック形の半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a static type semiconductor memory device capable of reading and writing data.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

マイクロコンピュータ等に使用される半導体・メモリに
は、固定したデータを記憶するFROM(プログラマブ
k ROM ) 、MROM (7、X I ROM 
)等のROMと、可変するデータを記憶するSRAM(
スタティックRAM ) 、 DRAM(fイナミ、り
RAM )等のRAMとの2種類がある。ここで上記R
OMには、ソフトウェアのオペレーティングシステムの
ようにシステムのスタートアップ時γでのみ一定の値を
必要とし、ユーザプログラム実行に際しては必らずしも
全体を必要としないデータや、IPL(イニシャルプロ
グラムローダ−)の様にスタートアップ時にのみ使用さ
れるプログラムが予め記憶されている場合が少なくない
Semiconductors/memories used in microcomputers, etc. include FROM (programmable k ROM), MROM (7, X I ROM), which store fixed data.
), etc., and SRAM (
There are two types of RAM: static RAM (static RAM) and DRAM (finami RAM). Here, the above R
OM includes data such as a software operating system that requires a constant value only for γ at system startup, and does not necessarily require the entirety when executing a user program, and IPL (Initial Program Loader). In many cases, programs such as those used only at startup are pre-stored.

このようにROM内にスタートアップ時にのみ使用され
、その後は使用されないようなデータもしくはプログラ
ムを記憶しておくということは、メモリエリアを有効利
用するという観点からみて極めて不都合である。そこで
このようなデータもしくはプログラムをROMの代りに
RAMに記憶させることが考えられる。ところが、フリ
ップフロップをデータ記憶手段として持つ従来のスタテ
ィック形のRAMでは電源投入時に内部の記憶状態が一
定とはならないので、 ROMのように電源投入後に所
定のデータを設定することはできない。
Storing data or programs in the ROM that are used only at startup and are not used thereafter is extremely inconvenient from the standpoint of effectively utilizing the memory area. Therefore, it is conceivable to store such data or programs in RAM instead of ROM. However, in conventional static RAMs that have flip-flops as data storage means, the internal storage state is not constant when the power is turned on, so predetermined data cannot be set after the power is turned on, unlike in a ROM.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あシ、その目的は、電源投入時に所定のデータパターン
が設定されるようなスタティック形RAM方式の半導体
記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a static RAM type semiconductor memory device in which a predetermined data pattern is set when power is turned on. .

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明による半導体記憶装置は、データ記憶手段とし
てフリップフロップをそれぞれ有するメモリセルの回路
定数の設定によって、電源投入時に各メモリセルに所定
のデータを記憶させ、これによって所定のデータパター
ンが設定されるように構成したものである。
In the semiconductor memory device according to the present invention, predetermined data is stored in each memory cell when power is turned on by setting circuit constants of the memory cells each having a flip-flop as a data storage means, and thereby a predetermined data pattern is set. It is configured as follows.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。第
1図はこの発明に係る半導体記憶装置の全体の構成を示
すブロック図である。図において、1ノはデータ記憶手
段としてフリップ7oツff有するスタティック形のメ
モリセルがX方向(たとえば行方向片とY方向(たとえ
ば列方向)に々トリクス状に配列されて構成されている
メモリセルマトリクスである。このメモリセルマトリク
ス11はXデコーダ12によってそのX方向のメモリセ
ルが選択され、同様にYデコーダ13VcよってそのY
方向のメモリセルが選択される。データ読み出しの場合
・上記Xデコーダ12とYデコーダ13とKよって選択
されるメモリセルマトリクス11内のメモリセルからデ
ータ読み出しが行なわれ、読み出されたデータはセンス
アンプ14で検出される。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, No. 1 indicates a memory cell in which static memory cells each having a flip-flop as a data storage means are arranged in a matrix in the X direction (e.g. row direction) and in the Y direction (e.g. column direction). In this memory cell matrix 11, the memory cells in the X direction are selected by the X decoder 12, and similarly, the Y decoder 13Vc selects the memory cells in the
A memory cell in the direction is selected. In the case of data reading: Data is read from the memory cell in the memory cell matrix 11 selected by the X decoder 12, Y decoder 13, and K, and the read data is detected by the sense amplifier 14.

この検出データは入出力回路(Ilo ) J 5に供
給され、この入出力回路15から前記読み出しデータに
対応したデータが出力される。データ書き込みの場合に
は、上記入出力回路15から書き込み用データがデータ
書込回路16に供給され、このデータ書込回路16の出
力により、上記Xデコーダ12とYデコーダ13とによ
りて選択されるメモリセルフトリクス1ノ内のメモリセ
ルにデータ書込が行なわれる。
This detection data is supplied to the input/output circuit (Ilo) J5, and the input/output circuit 15 outputs data corresponding to the read data. In the case of data writing, write data is supplied from the input/output circuit 15 to the data writing circuit 16, and based on the output of the data writing circuit 16, the data is selected by the X decoder 12 and the Y decoder 13. Data is written to memory cells within the memory cell matrix 1.

第2図は第1図のメモリセルマトリクス11内の1つの
メモリセルの構成を示す回路図でろυ、他のメモリセル
もこれと同様に構成されている。このメモリセルはいわ
ゆるCMO3形のものでちり、PチャネルMO8FET
、! Jお裏びNチャネルMO8FET 22からなる
CMOSインパータスユと、同じくPチャネルMO8F
ET24およびNチャネルMOSFET x sからな
るCMO瑳インバーター互の入出力端を交互に接続した
フリップフロップ27が設けられている。そしてこのフ
リノプフロノプLノの一方のデータ記憶点である上記C
MOSインバータUの出力端28と一方のデータライン
29との間にけトランスファゲート用のNチャネルMO
SFET 、90が接続されている。同様に、上記フリ
ップフロツノ二の他方のデータ記憶点である上記CMO
Sインバータ11の出力端31と他方のデータライン3
2との開にもトランスファゲート用のNチャネルMOS
FET 33が接続されている。そして上記2個のトラ
ンスファゲート用のNチャネルMOSFET、90 、
33 (7)各タートハワードライン34に共通接続さ
れている。また、上記フリップ70ツブ27′f:構成
する一方ノCMOSインバータ2.9内のPチャネルM
O8FET 21と高電圧の電源電位vDゎ印加点との
間にはPチャネルMO8FET 35が接続され、コ1
7)MOSFET 、15のダートは上記VDI)印加
点に接続されている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of one memory cell in the memory cell matrix 11 of FIG. 1, and the other memory cells are similarly configured. This memory cell is of the so-called CMO3 type, and is a P-channel MO8FET.
,! A CMOS inverter switch consisting of 22 N-channel MO8FETs and a P-channel MO8F
A flip-flop 27 is provided in which the input and output terminals of CMO inverters each consisting of an ET 24 and an N-channel MOSFET x s are alternately connected. And the above C which is one data storage point of this flinopfronopl
N-channel MO for transfer gate between output terminal 28 of MOS inverter U and one data line 29
SFET, 90 is connected. Similarly, the CMO which is the other data storage point of the flip-flop
Output end 31 of S inverter 11 and other data line 3
2 and N-channel MOS for transfer gate
FET 33 is connected. and an N-channel MOSFET for the two transfer gates, 90;
33 (7) Commonly connected to each tart-Howard line 34. In addition, the flip 70 knob 27'f: P channel M in the CMOS inverter 2.9 that constitutes one side.
A P-channel MO8FET 35 is connected between the O8FET 21 and the point where the high voltage power supply potential vD2 is applied.
7) MOSFET, 15 darts are connected to the above VDI) application point.

さらに上記7リツプフロツプ、jLiヲ構成する他方の
CMOSインバータ■内のPチャネルMO8FET24
と上記vDD印加点との間1/CdPチャネルM)SF
ET 36が接続され、と(0MO8FET 36 ノ
グートも上記vDD印加点に接続されている。上記2個
のPチャネ#MO3FET35 、36は前記CMOS
インバー p 2.9 + 26 K対して所定のイン
ピーダンスを持つインピーダンス手段々して作用する。
In addition, the P-channel MO8FET 24 in the other CMOS inverter configuring the above-mentioned 7 lip-flops and jLi.
and the above vDD application point 1/CdP channel M) SF
ET 36 is connected, and MO8FET 36 is also connected to the vDD application point. The two P channel #MO3FETs 35 and 36 are connected to the CMOS
It acts as an impedance means having a predetermined impedance for the invar p2.9+26K.

しかも上記2個のPチャネルMO3FET 、95 、
36は、チャネル幅を異ならせる等の手段によって、そ
のインピーダンスの値が異なるように設定゛されている
。すなわち、このメモリセルでは、フリップフロップ1
)を構成する2個のCMOSインバータ23 、26の
電源経路の途中に値が異なるインピーダンス手段として
のPチャネルMDSFEIT 35 、35を挿入する
ようにしたものである。なお、このメモリセルで用いら
れているMOSFETはすべてエンハンスメント形のも
のであシ、37,31iけCMOSインバータ23.2
6の入力端である。
Moreover, the two P-channel MO3FETs, 95,
36 are set to have different impedance values by means such as different channel widths. That is, in this memory cell, flip-flop 1
) P-channel MDSFEITs 35, 35 as impedance means having different values are inserted in the middle of the power supply path of the two CMOS inverters 23, 26 constituting the circuit. Note that all the MOSFETs used in this memory cell are of the enhancement type.
6 input terminal.

このような構成において、い寸前記2個のPチャネルM
O8FET 35 、36 (Dうち一方)MOSFE
T35のインピーダンスが他方のMOSFET 36の
それよ勺も大きく設定されているどする。この状態で電
源が投入される。このときPチャネルyDSFET J
 5のインピーダンスがPヂャネルMO8FliT s
 eよりも大きく設定されているので、電源投入後はC
MOSインバーター26−の出力端3ノの電位はCMO
Sインパター二の出力端28の電位よシも早く上昇する
。CMOSインバータ26の(5゜ 出力端3)の電位4他方のCMOSインパータスユの入
力となっているので、この電位がCMOSMOSインバ
ータ11しきい値電圧に達すると、CMOSMOSFE
T3内ONチャネkMO8FET22がオンする。この
MOSFET 22がオンすること妬よってCMOSイ
ンバータJ」の出力端28の電位は急速に低電位の電源
電位vssに向って放電される。また、上記出力端28
がV、、に向って放電されることによって、CMOSイ
ンバータ26内のPチャネルMO8FFJT24がオン
し、これによってCMOSインバーター26の出力端3
ノの電位は急速に電位■DDに向って充電される。この
結果、このメモリセルでは電源投入時、CMOSインバ
ータ1」の出力端28がV81!すなわち論理″O″レ
ベルに、CMOSインバータ26の出力端3ノがvI)
f、すなわち論理″1″レベルとなるようにデータ設定
が行なわれる。これと同様に、他のメモリセルでも前記
2個のPチャネルMO8FET 35 。
In such a configuration, the two P channels M
O8FET 35, 36 (one of D) MOSFE
The impedance of T35 is set higher than that of the other MOSFET 36. The power is turned on in this state. At this time, P channel yDSFET J
The impedance of 5 is P channel MO8FliT s
Since it is set larger than e, after the power is turned on, C
The potential of the output terminal 3 of the MOS inverter 26- is CMO.
The potential at the output terminal 28 of the S-inputter 2 also rises quickly. The potential 4 of the (5° output terminal 3) of the CMOS inverter 26 is input to the other CMOS inverter, so when this potential reaches the threshold voltage of the CMOS inverter 11, the CMOS MOSFE
ON channel kMO8FET22 in T3 turns on. When this MOSFET 22 turns on, the potential at the output terminal 28 of the CMOS inverter J is rapidly discharged toward the low power supply potential vss. In addition, the output end 28
is discharged toward V, , the P-channel MO8FFJT 24 in the CMOS inverter 26 is turned on, and the output terminal 3 of the CMOS inverter 26 is thereby turned on.
The potential at is rapidly charged toward the potential at DD. As a result, in this memory cell, when the power is turned on, the output terminal 28 of CMOS inverter 1 is V81! In other words, the output terminal 3 of the CMOS inverter 26 is at the logic "O" level (vI)
Data setting is performed so that the signal becomes f, that is, the logic "1" level. Similarly, in other memory cells, the two P-channel MO8FETs 35 are connected.

36のインピーダンスを互いに異ならせることKより、
電源投入時にそれぞれ所定のデータ設定が行々われる。
By making the impedances of 36 different from each other,
Each predetermined data setting is performed when the power is turned on.

したがって、第2図に示すような構成のメモリセルを第
1図のメモリセルマトリクス11で用いることにより、
このメモリエリア) IJクス11では電源投入時に各
メモリセルに所定のデータを記憶させることができ、こ
れ妃よって所定のデータパターンが設定される。
Therefore, by using memory cells having the configuration as shown in FIG. 2 in the memory cell matrix 11 of FIG.
In this memory area) in the IJ box 11, predetermined data can be stored in each memory cell when the power is turned on, and a predetermined data pattern is thereby set.

このため、従来ではROMに記憶させていたソフトウェ
アのオペレーティングシステムやIPL等がRAMに記
憶できるようになり、ユーザ側でメモリエリアを有効に
利用することができる・すなわち、この記憶装置はスタ
ティック形RAMとしての特性を持ちつつマスクROM
としての機能も持ち、マスクROMと共存するスタティ
ック形RAMヲ1つの装置で実現できる。
Therefore, the software operating system, IPL, etc. that were conventionally stored in ROM can now be stored in RAM, allowing the user to use the memory area effectively.In other words, this storage device is a static type RAM. Mask ROM while having the characteristics as
A static RAM that also functions as a mask ROM and coexists with a mask ROM can be realized with one device.

第3図はこの発明の他の実施例によるメモリセルの構成
を示す回路図である。このメモリセルは上記第2図のも
のに代って前記第1図内のメモリセルマトリクスに使用
が可能である。このメモリセルが第2図のものと異なる
点は、インピーダンス手段として用いられる前記Pチャ
ネルP/DsFET 35 、.96の代シに、互いに
インピーダンスが異なるNチャネルMO,S、FET 
4 J 、 42を2個のCMOSインバータ23.2
6の電源経路の途中に挿入するようにしたものである。
FIG. 3 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell according to another embodiment of the invention. This memory cell can be used in the memory cell matrix in FIG. 1 instead of the one in FIG. 2 above. This memory cell differs from that of FIG. 2 in that the P-channel P/DsFETs 35, . Instead of 96, N-channel MO, S, FET with different impedances
4 J, 42 to two CMOS inverters 23.2
It is designed to be inserted in the middle of the power supply path of No. 6.

すなわち・一方のCMOSインバータ23内のNチャネ
ルMO8FET z 2と低電位の電源電位V□印加点
との間に上記NチャネルMO8FET 4 Jが接続さ
れ・このMOSFET 41のダートはこのMOSFE
T 41と前記MO8FET 22との直列接続点に接
続されている。
That is, the N-channel MO8FET 4J is connected between the N-channel MO8FET z 2 in one CMOS inverter 23 and the low power supply potential V□ application point.The dirt of this MOSFET 41 is connected to this MOSFE
It is connected to the series connection point between T 41 and the MO8FET 22.

捷だ、他方のCMOSインバータ26−内のNチャネル
MO8FET 25と上記電位v、8印加点との間に上
記NチャネルMO8FET 42が接続され、このWE
)SFF、T 42のダートはこのMOSFET 42
と前記MO8FET 25との直列接続点に接続されて
いる。
However, the N-channel MO8FET 42 is connected between the N-channel MO8FET 25 in the other CMOS inverter 26- and the potential v, 8 application point, and this WE
) SFF, T 42 dirt is this MOSFET 42
and the MO8FET 25 are connected in series.

この実施例によるメモリセルでも、2個のNチャネルM
O8FET41 、42のインピーダンスの値を異なら
せることKよって、電源投入時における2つのCMOS
インノクータ33,260出ブバW2 B 、 、91
における電位の上昇速度を異ならせ、これによって所定
のデータ設定がなされるようにしている。
The memory cell according to this embodiment also has two N-channel M
By making the impedance values of O8FET41 and 42 different, two CMOS
Inno Kuta 33,260 Outer Bubba W2 B, , 91
The rising speed of the potential at is made different, and thereby a predetermined data setting is made.

第4図はこの発明のさらに他の実施例によるメモリセル
の構成を示す回路図である。この実施例によるメモリセ
ルが前記第2図のものと異方る点は、インピーダンス手
段として用いられる前記PチャネルMO8FET 、9
5 、36を設ける代りに、2個のCMOSイン・々−
タ23 、 !−6の入出力端間に互いに値が異なるイ
ンピーダンス手段としてのPチャネルMO3FET 4
3 、44 f、挿入するようにしたものである。すな
わち、一方のCFl[)Sインバータス」の出力端28
と他方のCMOSインバータl五の入力端38との間に
上記PチャネルMO8FET 43が接続され、このM
OSFET 4.41のr−トはCMOSインノ々−夕
主1の(HブJ房括28に接続されている。また他方の
CMOSイン・々−タ26の出力端一31と一方のCM
OSインノ々−タBの入力端37との間に上記Pチャネ
ルMO8FET44が接続され、このMOSFET 4
4のデートはCM)Sインバータ26の出力端、71に
接続されている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell according to still another embodiment of the invention. The difference between the memory cell according to this embodiment and the one shown in FIG. 2 is that the P-channel MO8FET, 9
Instead of providing 5 and 36, two CMOS inputs are provided.
Ta23,! P-channel MO3FET 4 as impedance means with different values between the input and output terminals of -6
3, 44 f, was inserted. That is, the output terminal 28 of one CFL[)S inverter
The P-channel MO8FET 43 is connected between the input terminal 38 of the other CMOS inverter l5, and the M
The output terminal of OSFET 4.41 is connected to the output terminal 31 of the CMOS input terminal 26 and the output terminal 31 of the other CMOS input terminal 26.
The P-channel MO8FET 44 is connected between the input terminal 37 of the OS inverter B, and the MOSFET 4
The date 4 is connected to the output terminal 71 of the CM)S inverter 26.

この実施例によるメモリセルでは、2個のPチャネルM
O8FET4 J 、 44のインピーダンスの値を異
ならせることによって、2個のCMOSインバータ23
.26間における入力伝達時の時定数を異ならせ、これ
によって電源投入時にいずれか一方のCMOSイン/(
−夕が常に先に反転動f[するようにしたもつである。
In the memory cell according to this embodiment, two P-channel M
By changing the impedance values of O8FET4J and 44, two CMOS inverters 23
.. By changing the time constants during input transmission between 26 and 26, when the power is turned on, one of the CMOS input/(
-The evening is always the first to do the reversal motion f[.

たとえばPチャネルMO8FET 4 Jのインピーダ
ンスをPチャネルMO3FET 44のそれよりも大き
く設定することによシ、CMOSインパータス!の入力
端38の電位はCMOSインバータnの入力端37の電
位よりも遅く上昇する。したがって、この場合にはCM
OSインバータ23が先に反転動作し、この結果、CM
OSインバータ茸の出力端28が論理”o”レベルに%
CMOSイン/−″−タリの出力端31が論理″IHレ
ベルとがるようにデータ設定が行なわれる。
For example, by setting the impedance of P-channel MO8FET 4J to be larger than that of P-channel MO3FET 44, CMOS impertus! The potential at the input terminal 38 of CMOS inverter n rises more slowly than the potential at the input terminal 37 of CMOS inverter n. Therefore, in this case, CM
The OS inverter 23 operates inverted first, and as a result, the CM
The output terminal 28 of the OS inverter is at the logic "o" level.
Data setting is performed so that the output terminal 31 of the CMOS input terminal 31 reaches the logic IH level.

第5図はこの発明の異なる他の実施例によるメモリセル
の構成を示す回路図である。上言己第2図ないし第4図
に示す各実施例回路において、2個のCMOSインバー
タ23.26の入力端37゜38とv68印加点との間
には寄生的な容量力;存在しており、通常この容量の値
はは11等しくなっている。そこでこの実施例回路では
、2個のα部インバータ主)、ン互の入力端、g 7 
、3 Bとvss印加点との間に寄生的に存在している
容量(キャA’シタンス手段)45.46のイ直力;互
いに異なるようにしたものであるOなお・−ヒi己容量
45.46の値は2個のCMOSイン・マークこの実施
例回路において、上記容量45.46はCMOSインバ
ータ26.23の出力端31.2 Bに接続されている
状態と等価な状態である。このため、値が大きな方の容
量が接続されているCMOSインバータの出力端におけ
る電位の上昇速度は他方よシも遅くなり、これによって
電源投入時に所定のデータ設定が行なわれる。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell according to another embodiment of the present invention. In each of the embodiment circuits shown in FIGS. 2 to 4, there is no parasitic capacitive force between the input terminals 37.38 of the two CMOS inverters 23 and 26 and the v68 application point. The value of this capacitance is usually equal to 11. Therefore, in this embodiment circuit, two α section inverter main), an input terminal of g7
, 3 A capacitance (capacitance means) that exists parasitically between B and the vss application point; The value 45.46 is two CMOS in marks. In this embodiment circuit, the capacitor 45.46 is in a state equivalent to being connected to the output terminal 31.2B of the CMOS inverter 26.23. Therefore, the rate of rise in potential at the output end of the CMOS inverter to which the capacitor with the larger value is connected is slower than the other capacitor, and as a result, predetermined data is set when the power is turned on.

第6図はこの発明の他の実施例によるメモリセルの構成
を示す回路図であり、第2図ないし第5図の場合と同様
KCMO3形のものが示されている。この実施例回路で
は、CMOSインバータ2 、? 、 26−の回路し
きい値ヤ〈圧を互いに異ならせることによって、電源投
入時に所定のデータ設定が行なわれるようにしたもので
ある。たとえば一方のCMOSインバータ23の回路し
きい値電圧が他方のCMOSインバータとのものよシも
小さく設定されている場合、電源投入時には一方のCM
OSインバータ23が常に先に反転動作しこの結果、 
CMOSインパータエ23−の出力端28が論理″0#
レベルに、CMOSインバータ26の出力端3ノが論理
″1#レベルとなるようにデータ設定が行なわれる。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell according to another embodiment of the present invention, in which a KCMO3 type cell is shown as in the case of FIGS. 2 to 5. In this example circuit, CMOS inverters 2, ? , 26- are made to have different circuit threshold voltages, thereby allowing predetermined data settings to be made when the power is turned on. For example, if the circuit threshold voltage of one CMOS inverter 23 is set to be smaller than that of the other CMOS inverter, when the power is turned on, one CMOS inverter 23
The OS inverter 23 always performs inversion operation first, and as a result,
The output terminal 28 of the CMOS inverter 23- is logic "0#"
Data is set so that the output terminal 3 of the CMOS inverter 26 is at the logic "1#" level.

第7図ないし第11図はそれぞれこの発明の他の実施例
に係るメモリセルの構成を示す回路図である。上記第2
図ないし第6図の実施例に係る各メモリセルはいずれも
0MO8形の場合のものであるが、これはNチャネルM
O3FF、Tのみを用いたNMO8形についても実施が
可能である。
FIGS. 7 to 11 are circuit diagrams showing the configurations of memory cells according to other embodiments of the present invention. 2nd above
Each of the memory cells according to the embodiments shown in FIGS. 6 to 6 is of the 0MO8 type, but this
It is also possible to implement the NMO8 type using only O3FF and T.

すなわち、第7図のメモリセルにはMOSFET51を
負荷MO8FET 、 MOSFET 52を駆動MO
8FETとするインバータ且と、MO8FFJT 54
を9荷MO8FET 、 MOSFET 55 ’i駆
動MO8FETとするイン/り一タ66の入出力端を交
互に接続したフリップフロップだが設けられている。な
お、第7図におりて前記第2図と対応する箇所には同じ
符号を付してその説明は省略する。
That is, in the memory cell of FIG. 7, MOSFET 51 is a load MO8FET, and MOSFET 52 is a drive MO.
Inverter with 8FET and MO8FFJT 54
Flip-flops are provided in which the input and output terminals of an input/multiplier 66 are connected alternately to each other. In addition, in FIG. 7, the same reference numerals are given to the parts corresponding to those in FIG. 2, and the explanation thereof will be omitted.

このような構成のメモリセルにおいて、電源投入時に所
定のデータ設定を行なわせるために、上記2個のインバ
ータ53.56内のMOSFET51.52(Dインピ
ーダンスの値が互いに異なるように設定される。
In a memory cell having such a configuration, in order to perform predetermined data setting when power is turned on, the MOSFETs 51 and 52 (D impedance values) in the two inverters 53 and 56 are set to be different from each other.

すなわち、このメモリセルでは、フリップフロップ57
を構成する2個のインlマー夕5 J 。
That is, in this memory cell, the flip-flop 57
There are two intensifiers that make up 5J.

56の電源経路の途中に値が異なるインピーダンス手段
としてのMOSFET 51 、54を挿入するように
したものであり、この場合上記MO8FET51.54
は負荷MO8FETとしての役割も果たしている。
MOSFETs 51 and 54 as impedance means having different values are inserted in the middle of the power supply path of MO8FET51 and MOSFET54.
also plays a role as a load MO8FET.

第8図のメモリセルでは、第7図中のMOSFET51
.54のインピーダンスの値は等しく設定し、この代シ
に互いにインピーダンスが異なるMOSFET 58 
、59を駆動用のMOSFET52 、55と低電位の
電源電圧vB8印加点との間に挿入するようにしたもの
である。
In the memory cell of FIG. 8, MOSFET 51 in FIG.
.. The impedance values of 54 are set equal, and MOSFETs 58 with different impedances are used instead.
, 59 are inserted between the driving MOSFETs 52 and 55 and the application point of the low potential power supply voltage vB8.

第9図のメモリセルでは、前記第4図に示すαび形のメ
モリセルと同様に、NMO8形のメモリセルの場合にも
フリップフロップyを構成する2個のインバーターL)
、」の入出力端間に互いに値が異なるインピーダンス手
段としてのMOSFET 60 、61を挿入するよう
圧したものである。
In the memory cell shown in FIG. 9, as in the case of the α-shaped memory cell shown in FIG.
, '' are inserted between the input and output terminals of the MOSFETs 60 and 61 as impedance means having different values.

第10図のメモリセルでは、前記第5図に示す0MO8
形のメモリセルと同様に、NMO8形のメモリセルの場
合にもフリップフロップ−Ll−を構成する2個のイン
バータ」、二の入力端すなわちMOSFET 52 、
55のゲートとvsB印加点との間に寄生的に存在して
いる容量71.72の値を互いに興なるように設定した
ものである。
In the memory cell shown in FIG. 10, the 0MO8 shown in FIG.
Similar to the NMO8 type memory cell, the NMO8 type memory cell also has two inverters forming a flip-flop -Ll-, two input terminals or MOSFETs 52,
The values of the capacitances 71 and 72 that exist parasitically between the gate of 55 and the vsB application point are set to be mutually exclusive.

第11図のメモリセルでは、前記第6図に示す0MO8
形のメモリセルと同様に、NMOS形のメモリセルの場
合にもフリップフロップとを構成する2個のインバータ
53.56の回路しきい値電圧を互いに異ならせること
によって、電源投入時に所定のデータ設定が行なわれる
ようにしたものである。なお、2個のインバーターLl
In the memory cell shown in FIG. 11, the 0MO8 shown in FIG.
Similarly to the NMOS type memory cell, by making the circuit threshold voltages of the two inverters 53 and 56 that constitute the flip-flop different from each other, a predetermined data setting can be performed when the power is turned on. It was designed so that the following was carried out. In addition, two inverters Ll
.

56の回路しきい値電圧は駆動用のMOSFET、52
゜55のしきい値電圧の調整により設定される。
The circuit threshold voltage of 56 is the driving MOSFET, 52
It is set by adjusting the threshold voltage of .degree.55.

ガお、この発明は上記した実施例に限定されるものでは
なく種々の変形が可能である。たとえばメモリセルとし
ては第2図のものと第4図のものとを組合わせる等の変
形f、 !こすことが可能である。
However, this invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications are possible. For example, the memory cell may be modified by combining the memory cell shown in FIG. 2 with that shown in FIG. 4. It is possible to rub.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したようKこの発明によれば2デ一タ記憶手段
としてフリップフロップをそれぞれ有するメモリセルの
回路定数の設定によって。
As explained above, according to the present invention, the circuit constants of the memory cells each having a flip-flop as the two-data storage means are set.

電源投入時に所定のデータ/やターンが設定されるよう
なスタティック形RAM方式の半導体記憶装置を提供す
ることができる。
It is possible to provide a static RAM type semiconductor memory device in which predetermined data/turns are set when power is turned on.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置の全体の構成を
示すブロック図、第2図ないし第11図はそれぞれ第1
図のメモリセルマトリクス内の1つのメモリセルの構成
を示す回路図である。 11・・・メモリセルマトリクス、12・・・Xデコー
ダ% 13・・・Yデコーダ、14・・・センスアンプ
、15・・・入出力回路、16・・・データ書込回路、
2.9 、26・・・CMOSインバータ、27.57
・・・フリップフロップ、53.56− インバータ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIGS.
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of one memory cell in the memory cell matrix shown in the figure. 11...Memory cell matrix, 12...X decoder% 13...Y decoder, 14...Sense amplifier, 15...I/O circuit, 16...Data write circuit,
2.9, 26...CMOS inverter, 27.57
...Flip-flop, 53.56- Inverter. Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 6 Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 10

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) データ記憶手段としてフリップ70ツノをそれ
ぞれ有し、回路定数の設定によって電源投入時に所定の
データを記憶するように構成されている復数のメモリセ
ルを備え、電源投入時妬所定のデータパターンが設定さ
れるように構成したことを特徴とする半導体記憶装置。
(1) A plurality of memory cells each having 70 flip horns as a data storage means and configured to store predetermined data when the power is turned on by setting circuit constants, and storing the predetermined data when the power is turned on. A semiconductor memory device characterized in that it is configured such that a pattern is set.
(2) 前記フリップ70ツノは人出刃端が交互に接続
されている2個のインバータを(Hえている特許請求の
範囲第1項に記載の半導体記憶装置。
(2) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the flip 70 horn has two inverters whose protruding edges are alternately connected.
(3)前記インバータが相補MO3形インバータである
特許請求の範囲第2項忙記載の半導体記憶装置。
(3) The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the inverter is a complementary MO3 type inverter.
(4) 前記インバータが駆動MO8)ランジスタと負
荷素子とから構成されている特許請求の範囲第2項に記
載の半導体記憶装置。
(4) The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the inverter is composed of a drive transistor (MO8) and a load element.
(5) 前記2 個のインバータの電源紅路の途中に値
が異々るインピーダンス手段を挿入することによって電
源投入時に所定のデータを前記メモリセルに記憶させる
ようにした特許請求の範囲第2項に記載の半導体記憶装
置。
(5) Predetermined data is stored in the memory cells when the power is turned on by inserting impedance means having different values in the middle of the power supply paths of the two inverters. The semiconductor storage device described in .
(6)前記2個のインバータの入出力婦間に互いに値が
外力るインピーダンス手段を挿入することに工って電源
投入時に所定のデータを前記メモリセルに記憶させるよ
うにした特許請求の範囲第2項に記載の半導体記憶装置
(6) Predetermined data is stored in the memory cell when the power is turned on by inserting an impedance means between the input and output terminals of the two inverters, the values of which are applied externally to each other. The semiconductor memory device according to item 2.
(7)前記2個のインバータの回路しきい値電圧を互い
に異ならせることによって電源投入時に所定のデータを
前記メモリセルに記憶させるようにした特許請求の範囲
第2項に記載の半I、ハ体記憶装置。
(7) Predetermined data is stored in the memory cell when power is turned on by making the circuit threshold voltages of the two inverters different from each other. Body memory device.
(8) 前記2個のインバータの各入力端と所定電位と
の間に互すに値が異なるキヤ・ぐシタンス手段を挿入す
ることによって電源投入時にノJr定のデータを前記メ
モリセルに記憶させるようにした特許請求の範囲第2項
に記載の半導体装置。
(8) By inserting capacitance means having different values between each input terminal of the two inverters and a predetermined potential, constant data is stored in the memory cell when the power is turned on. A semiconductor device according to claim 2, wherein the semiconductor device is configured as follows.
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