JPS5927961A - 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 - Google Patents
透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜Info
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- JPS5927961A JPS5927961A JP13789382A JP13789382A JPS5927961A JP S5927961 A JPS5927961 A JP S5927961A JP 13789382 A JP13789382 A JP 13789382A JP 13789382 A JP13789382 A JP 13789382A JP S5927961 A JPS5927961 A JP S5927961A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラスやセラミックなどの基板上に形成され
る透明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくはその透明被
膜が酸化鉛−酸化ケイ素からなる透明ネルli4!j
Ig関するものである。
る透明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくはその透明被
膜が酸化鉛−酸化ケイ素からなる透明ネルli4!j
Ig関するものである。
6;2化鉛−酸化ケイ素から1よる透明金属酸化物被1
;・:°(の形成方法には、真空蒸着法、化学スプレー
法ならびに浸漬法)、(どがある。ところで前記真空蒸
着法は形成される被膜の特性は優牙1ているが、量産性
に問題があり、またパターン化に対応するためにはエツ
チングなどの処理が必要であった。
;・:°(の形成方法には、真空蒸着法、化学スプレー
法ならびに浸漬法)、(どがある。ところで前記真空蒸
着法は形成される被膜の特性は優牙1ているが、量産性
に問題があり、またパターン化に対応するためにはエツ
チングなどの処理が必要であった。
一方、化学スプレー法ならびに浸漬法は比較的存産に適
しているが、パターン化対応については前者と同様の間
:1′αがある。このように従来の方法で&、t−長一
短があり、必ずしも優ねた方法とは言いケ(!:い。
しているが、パターン化対応については前者と同様の間
:1′αがある。このように従来の方法で&、t−長一
短があり、必ずしも優ねた方法とは言いケ(!:い。
本発明の目的は、このような従来接衝の欠点な解消【2
、M産性に優ねたスクリーン印刷が可能で、被膜l[l
I′性の良好1工透明被膜形成用ペーストならびにその
ペース) Pi用いて形成した誘明被膜′l;/提供−
むるにある。
、M産性に優ねたスクリーン印刷が可能で、被膜l[l
I′性の良好1工透明被膜形成用ペーストならびにその
ペース) Pi用いて形成した誘明被膜′l;/提供−
むるにある。
この目的な達成するため、本発明は、焼成によ−)で酔
化鉛−酸化ケイ素の被膜な形成する化合物で有機溶剤r
可溶な有機鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物と、こわ
ら有機鉛化合物、有枦ケイ素化合物ならびに増粘剤な溶
解する有機溶剤とな混線して透明被膜形成用ペーストと
することff特徴とするものである。
化鉛−酸化ケイ素の被膜な形成する化合物で有機溶剤r
可溶な有機鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物と、こわ
ら有機鉛化合物、有枦ケイ素化合物ならびに増粘剤な溶
解する有機溶剤とな混線して透明被膜形成用ペーストと
することff特徴とするものである。
前記目的な達成するため、さらに本発明は、焼成によっ
て酸化鉛−酸化ケイ素のネ1−シ形成す2)化合物で有
機溶剤に可溶な有機鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物
と、増粘剤と、こわら有機鉛化合物、有機ケイ素化合物
ならびに増粘剤な溶解する有機溶剤とな混練したペース
トを基板」二に塗布し、焼成して酸化鉛−酸化ケイ素の
選明枦膜としたことな特徴とするものであ2)。
て酸化鉛−酸化ケイ素のネ1−シ形成す2)化合物で有
機溶剤に可溶な有機鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物
と、増粘剤と、こわら有機鉛化合物、有機ケイ素化合物
ならびに増粘剤な溶解する有機溶剤とな混練したペース
トを基板」二に塗布し、焼成して酸化鉛−酸化ケイ素の
選明枦膜としたことな特徴とするものであ2)。
本発明に用いらねろ前記有機鉛化合物としては、オクチ
ル酸鉛が好適でネ、る。
ル酸鉛が好適でネ、る。
また本発明に用いられる前記有機ケイ素化合物としては
、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シランが好適
であ2)。
、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シランが好適
であ2)。
さらに本発明に用いら第1ろ増粘剤とI7て(」1、ニ
トロセルロースやエチルセルロースなどのセルロース化
合物が好適である。
トロセルロースやエチルセルロースなどのセルロース化
合物が好適である。
前記有梢鉛化合物、有機ケイ素化合物ならびに増粘剤紮
溶解する有機溶剤としては、ターピネオール、2−エチ
ルヘキサノール、ベンジルアルコール1.’c トの高
沸点アルコ−A/類、ベルジルアセテート、ジメチルツ
クレートなどの高沸点エステル類、カルピトール、ブチ
ルカルピトール、ブチルセロソルブなどの高沸点アルコ
ールエーテル類などが用いられる。
溶解する有機溶剤としては、ターピネオール、2−エチ
ルヘキサノール、ベンジルアルコール1.’c トの高
沸点アルコ−A/類、ベルジルアセテート、ジメチルツ
クレートなどの高沸点エステル類、カルピトール、ブチ
ルカルピトール、ブチルセロソルブなどの高沸点アルコ
ールエーテル類などが用いられる。
イ1m鉛化合物と有機ケイ素化合物と増粘剤と有(熱溶
剤と2所定の割合に混合してペーストなつくり、所望の
形状にパターン化さ第7たスクリーン版な用いて前記ペ
ーストケガラスやセラミックなどの九板上にスクリーン
印刷する。こhを予備乾燥後に約400℃以上の温度で
焼成することにより、酸化鉛−酸化ケイ素の透明被膜が
所望のパターンに形成さJlろ。この被II@は透明で
あることは勿論、116強度が犬で、比較的高い絶縁性
ケ有している。
剤と2所定の割合に混合してペーストなつくり、所望の
形状にパターン化さ第7たスクリーン版な用いて前記ペ
ーストケガラスやセラミックなどの九板上にスクリーン
印刷する。こhを予備乾燥後に約400℃以上の温度で
焼成することにより、酸化鉛−酸化ケイ素の透明被膜が
所望のパターンに形成さJlろ。この被II@は透明で
あることは勿論、116強度が犬で、比較的高い絶縁性
ケ有している。
士だ、ペースト中の有機鉛化合物と有機ケイ素化合物の
トータル都す適当にコントロールすること(τより、4
000’A以下の被膜を自由に形成することができる。
トータル都す適当にコントロールすること(τより、4
000’A以下の被膜を自由に形成することができる。
次に本発明の実施例について説明する。
有機鉛化合物としてオクチル酸鉛(鉛含有率20%)を
有機ケイ素化合物としてビニルトリス(2−メトキシエ
トキシ)シランな用い、こ」1ら有機化合物の混合比を
種々変えて次のような組成のペーストを作成した。
有機ケイ素化合物としてビニルトリス(2−メトキシエ
トキシ)シランな用い、こ」1ら有機化合物の混合比を
種々変えて次のような組成のペーストを作成した。
〔有機化合物〕 5重量%(X+Y=1
00) 〔増粘剤〕 14重量−ニトロセルロ
ース 144重量 %有機溶剤〕 81重里チプチルセロソ
ルブ 405重音係ブチルカルピトール 4
05重量%また、比較のため有機化合物と12でオクチ
ル酸鉛およびビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シ
ランをそわぞれ単独に用いて同様にペースト?作成した
。
00) 〔増粘剤〕 14重量−ニトロセルロ
ース 144重量 %有機溶剤〕 81重里チプチルセロソ
ルブ 405重音係ブチルカルピトール 4
05重量%また、比較のため有機化合物と12でオクチ
ル酸鉛およびビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シ
ランをそわぞれ単独に用いて同様にペースト?作成した
。
こ第1ら各ペーストな、250メツシユでレジスト厚l
Oμn1のステンレスネットからなるスクリーン版?用
いてソーダガラス基板上に印刷する。
Oμn1のステンレスネットからなるスクリーン版?用
いてソーダガラス基板上に印刷する。
そして] 50 ”Cで15分間予備乾燥し、引き続き
500℃で30分間焼成してそゎぞれ透明金属酸化物被
膜な形成する。
500℃で30分間焼成してそゎぞれ透明金属酸化物被
膜な形成する。
この各透明被膜の膜特性を調べた結果を次の表に示す。
なお表中の○印は良好、△印はやや悪い。
X印は悪いと判断したものな示す。また膜強度はペンシ
ル型ひつかき試験を用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率を示す。
ル型ひつかき試験を用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率を示す。
表
この表から明らかなように、本発明の、ように有機溶剤
に可溶な有機鉛化合物と有機ケイ素化合物とを含むペー
ストを用いて形成された透明金属酸化物被膜は、膜厚が
比較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高
い電気絶縁性を有している。また本発明のペーストを用
いたものは、1スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が
非常にiいである。
に可溶な有機鉛化合物と有機ケイ素化合物とを含むペー
ストを用いて形成された透明金属酸化物被膜は、膜厚が
比較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高
い電気絶縁性を有している。また本発明のペーストを用
いたものは、1スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が
非常にiいである。
ペースト中における有機鉛化合物と有機ケイ素化合物と
のトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の有
無について検討した結果、前記トータル含有率が10重
−1% ’k t’BY、えるとクラックの発生がある
。一方、トータル含有率が2重M%未満では少量過ぎて
被膜の形成がほとんど不可能である。従ってペースト中
におけろ有機鉛化合物と有機ケイ素化合物とのトータル
含有率な約2〜10重量%の範囲に規制すJlば、膜厚
500″′A〜4000’Aの美しい透明金属酸化物被
膜が形成される。
のトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の有
無について検討した結果、前記トータル含有率が10重
−1% ’k t’BY、えるとクラックの発生がある
。一方、トータル含有率が2重M%未満では少量過ぎて
被膜の形成がほとんど不可能である。従ってペースト中
におけろ有機鉛化合物と有機ケイ素化合物とのトータル
含有率な約2〜10重量%の範囲に規制すJlば、膜厚
500″′A〜4000’Aの美しい透明金属酸化物被
膜が形成される。
本発明は前述のような構成になっており、48産に適し
たスクリーン印刷が可能で、パターン化が容易な透明被
膜形成用ペーストならびに膜厚が比較的jνくても光透
過率ならびに絶縁性の高い透明被膜な形成することがで
きる。
たスクリーン印刷が可能で、パターン化が容易な透明被
膜形成用ペーストならびに膜厚が比較的jνくても光透
過率ならびに絶縁性の高い透明被膜な形成することがで
きる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)、焼成によって酸化鉛−酸化ケイ素の被膜を形成
する化合物で有機溶剤に可溶な有機鉛化合物ならびに有
機ケイ素化合物と、増粘剤と、前記有機鉛化合物、有機
ケイ素化合物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤とから
なることを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 (2、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記有
機鉛化合物がオクチル酸鉛であること?特徴とする透明
被膜形成用ペースト。 (3)、牛テ許請求の範囲第(lj項記載において、前
記有機ケイ素化合物が、ビニルトリス(2−メトキシエ
トキシ)シランであることに%徴とする透明被膜形成用
ペースト。 (4)、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記
増粘剤がセルロース化合物であることな特徴とする透明
被膜形成用ペースト。 (5)、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記
有機鉛化合物および有機ケイ素化合物のペースト中にお
けるトータル含有率が約2〜10重りチの範囲に規制さ
ねていることを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 (6)、焼成によって酸化鉛−酸化ケイ素の被膜を形成
する化合物で有機溶剤に可溶な有機鉛化合物ならびに有
機ケイ素化合物と、増粘剤と、前記有機鉛化合物、有機
ケイ素化合物yzらびに増粘剤を溶解する有機溶剤と?
混練したペーストを基板上に塗布し、焼成して酸化鉛−
酸化ケイ素の神np +形成したことな特徴とする、1
明被膜。 (7)、特許請求の範囲第(6)項記載において、前記
有機鉛化合物および有様ケイ素化合物のペースト中にお
けるトータル含有率が約2〜10重預悌の範囲に規制さ
れていることな特徴とする透明被膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789382A JPS5927961A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789382A JPS5927961A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5927961A true JPS5927961A (ja) | 1984-02-14 |
Family
ID=15209135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13789382A Pending JPS5927961A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5927961A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
| JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638472A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | Formation of silica coating |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13789382A patent/JPS5927961A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638472A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | Formation of silica coating |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
| JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
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