JPH119964A - アンモニア含有排ガスの除害方法 - Google Patents
アンモニア含有排ガスの除害方法Info
- Publication number
- JPH119964A JPH119964A JP9162433A JP16243397A JPH119964A JP H119964 A JPH119964 A JP H119964A JP 9162433 A JP9162433 A JP 9162433A JP 16243397 A JP16243397 A JP 16243397A JP H119964 A JPH119964 A JP H119964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonia
- exhaust gas
- nickel
- gas
- nickel catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸素を含まない排ガス中のアンモニアを、比
較的低温での反応によって安全で無害な物質に分解す
る。 【解決手段】 ニッケル触媒に酸素含有ガスを接触させ
てニッケル触媒を酸化した後、酸化したニッケル触媒に
アンモニア含有排ガスを接触させて排ガス中のアンモニ
アを窒素と水とに分解する。
較的低温での反応によって安全で無害な物質に分解す
る。 【解決手段】 ニッケル触媒に酸素含有ガスを接触させ
てニッケル触媒を酸化した後、酸化したニッケル触媒に
アンモニア含有排ガスを接触させて排ガス中のアンモニ
アを窒素と水とに分解する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アンモニア含有排
ガスの除害方法に関し、詳しくは、酸素ガスを含まない
アンモニア含有ガス、例えばＣＶＤ装置から排出される
アンモニア含有排ガスのアンモニアを分解して除害する
方法に関する。
ガスの除害方法に関し、詳しくは、酸素ガスを含まない
アンモニア含有ガス、例えばＣＶＤ装置から排出される
アンモニア含有排ガスのアンモニアを分解して除害する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ガリウム−窒素（ＧａＮ）のよ
うな窒素化合物半導体薄膜をＣＶＤ法（化学気相成長
法）によって製造する場合、ＣＶＤ装置には、窒素源と
してのアンモニアガスを、水素ガスや窒素ガスのキャリ
アガスに同伴させて供給する。したがって、ＣＶＤ装置
からは、未反応のアンモニアを含む排ガスが排出され
る。アンモニア（ＮＨ3 ）は、爆発の危険がある可燃性
ガスであるとともに、人体に有害な毒性ガスでもあるた
め、許容濃度が２５ｐｐｍと定められており、排ガスを
大気に放出する前に排ガス中のアンモニアを除害（除
去）する必要がある。
うな窒素化合物半導体薄膜をＣＶＤ法（化学気相成長
法）によって製造する場合、ＣＶＤ装置には、窒素源と
してのアンモニアガスを、水素ガスや窒素ガスのキャリ
アガスに同伴させて供給する。したがって、ＣＶＤ装置
からは、未反応のアンモニアを含む排ガスが排出され
る。アンモニア（ＮＨ3 ）は、爆発の危険がある可燃性
ガスであるとともに、人体に有害な毒性ガスでもあるた
め、許容濃度が２５ｐｐｍと定められており、排ガスを
大気に放出する前に排ガス中のアンモニアを除害（除
去）する必要がある。
【０００３】このような排ガス中に含まれるアンモニア
を除害する方法としては、従来から、スクラバーによっ
てアンモニアを溶液に溶解させる湿式法や、アンモニア
を吸着剤に吸着させる乾式吸着法等が知られており、さ
らに、近年は、これらに比べて有利な方法として、触媒
を用いてアンモニア分子を無害な分子に分解して除去す
る触媒分解法が種々提案されている。
を除害する方法としては、従来から、スクラバーによっ
てアンモニアを溶液に溶解させる湿式法や、アンモニア
を吸着剤に吸着させる乾式吸着法等が知られており、さ
らに、近年は、これらに比べて有利な方法として、触媒
を用いてアンモニア分子を無害な分子に分解して除去す
る触媒分解法が種々提案されている。
【０００４】例えば、特開平２−１９８６３８号公報に
は、ニッケル系触媒上で、３００〜７００℃で、アンモ
ニア分子を水素分子と窒素分子とに分解する方法が記載
されている。ここで用いられているニッケル系触媒は、
ニッケルを反応主成分として、これに銅族，クロム族，
鉄族の金属あるいは金属化合物を添加したものである。
このような遷移金属を添加したニッケル系触媒は市販さ
れており、例えば、日揮化学（株）製耐硫黄性ニッケル
触媒Ｎ１１１やＮ１１２がこれに相当し、ベンゼンやフ
ェノール等の有機化合物の水素化に用いられるほか、水
素，アルゴンあるいは窒素中に含まれる酸素の除去、水
素中の一酸化炭素や炭酸ガスのメタン化による精製にも
用いられている。
は、ニッケル系触媒上で、３００〜７００℃で、アンモ
ニア分子を水素分子と窒素分子とに分解する方法が記載
されている。ここで用いられているニッケル系触媒は、
ニッケルを反応主成分として、これに銅族，クロム族，
鉄族の金属あるいは金属化合物を添加したものである。
このような遷移金属を添加したニッケル系触媒は市販さ
れており、例えば、日揮化学（株）製耐硫黄性ニッケル
触媒Ｎ１１１やＮ１１２がこれに相当し、ベンゼンやフ
ェノール等の有機化合物の水素化に用いられるほか、水
素，アルゴンあるいは窒素中に含まれる酸素の除去、水
素中の一酸化炭素や炭酸ガスのメタン化による精製にも
用いられている。
【０００５】また、特開平８−９６１号公報には、銅酸
化物を含有する金属酸化物からなる銅酸化物系触媒によ
りアンモニアを酸化して分解する方法が記載されてい
る。この方法は、アンモニアと酸素ガスとが共存する排
ガスを２０〜５００℃で前記銅酸化物系触媒に接触さ
せ、ガス中の酸素によってアンモニア分子を水分子と窒
素分子とに分解するものである。
化物を含有する金属酸化物からなる銅酸化物系触媒によ
りアンモニアを酸化して分解する方法が記載されてい
る。この方法は、アンモニアと酸素ガスとが共存する排
ガスを２０〜５００℃で前記銅酸化物系触媒に接触さ
せ、ガス中の酸素によってアンモニア分子を水分子と窒
素分子とに分解するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ニッケル
系触媒を使用した場合、操作温度が５００℃未満ではア
ンモニアの分解率が低いため、操作温度を５００℃以上
にしなければならなかった。さらに、この方法では、ア
ンモニアの分解によって発火性の強い水素が発生するの
で、水素の発火を防止するために処理装置の材質や構造
に特別の配慮が必要となる。
系触媒を使用した場合、操作温度が５００℃未満ではア
ンモニアの分解率が低いため、操作温度を５００℃以上
にしなければならなかった。さらに、この方法では、ア
ンモニアの分解によって発火性の強い水素が発生するの
で、水素の発火を防止するために処理装置の材質や構造
に特別の配慮が必要となる。
【０００７】また、ＣＶＤ装置のキャリアガスとして水
素ガスを使用すると、排ガス中に水素ガスが存在するこ
とになるため、アンモニアの除害処理は、できるだけ低
温で行うことが好ましく、低温で処理することにより、
装置に対する各種配慮が軽減できるとともに、加熱に要
するエネルギーも低減できるというメリットがある。
素ガスを使用すると、排ガス中に水素ガスが存在するこ
とになるため、アンモニアの除害処理は、できるだけ低
温で行うことが好ましく、低温で処理することにより、
装置に対する各種配慮が軽減できるとともに、加熱に要
するエネルギーも低減できるというメリットがある。
【０００８】一方、前記銅酸化物系触媒を用いた場合
は、３５０℃以下という低温域で除害処理を行えるの
で、上述のような水素に対する配慮は不要になるが、ア
ンモニアを酸化分解するための酸素が必要であり、前記
ＣＶＤ装置からの排ガスのように酸素を含まないガスを
処理する場合は、排ガス中に酸素ガスを添加する必要が
ある。また、この方法では、窒素酸化物（ＮＯＸ）が生
成し易く、特に、３００℃を超えるとＮＯＸの発生量が
増加するという問題がある。
は、３５０℃以下という低温域で除害処理を行えるの
で、上述のような水素に対する配慮は不要になるが、ア
ンモニアを酸化分解するための酸素が必要であり、前記
ＣＶＤ装置からの排ガスのように酸素を含まないガスを
処理する場合は、排ガス中に酸素ガスを添加する必要が
ある。また、この方法では、窒素酸化物（ＮＯＸ）が生
成し易く、特に、３００℃を超えるとＮＯＸの発生量が
増加するという問題がある。
【０００９】上述のように、アンモニア分子を触媒反応
によって無害な分子に分解する方法として従来から提案
されている方法は、ＣＶＤ装置から排出される排ガスの
ように、酸素を含まない排ガス中のアンモニアを除害す
る方法としては不適当な面が多かった。
によって無害な分子に分解する方法として従来から提案
されている方法は、ＣＶＤ装置から排出される排ガスの
ように、酸素を含まない排ガス中のアンモニアを除害す
る方法としては不適当な面が多かった。
【００１０】そこで本発明は、酸素を含まない排ガス中
のアンモニアを、比較的低温での反応によって無害な分
子に分解することができ、有害あるいは発火性の物質が
発生することもないアンモニア含有排ガスの除害方法を
提供することを目的としている。
のアンモニアを、比較的低温での反応によって無害な分
子に分解することができ、有害あるいは発火性の物質が
発生することもないアンモニア含有排ガスの除害方法を
提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のアンモニア含有排ガスの除害方法は、酸素
を含まないアンモニア含有排ガス中のアンモニアをニッ
ケル触媒より分解して除去するアンモニア含有排ガスの
除害方法であって、前記ニッケル触媒に酸素含有ガスを
接触させてニッケル触媒を酸化させた後、酸化したニッ
ケル触媒に前記アンモニア含有排ガスを接触させて排ガ
ス中のアンモニアを窒素と水とに分解することを特徴と
している。
め、本発明のアンモニア含有排ガスの除害方法は、酸素
を含まないアンモニア含有排ガス中のアンモニアをニッ
ケル触媒より分解して除去するアンモニア含有排ガスの
除害方法であって、前記ニッケル触媒に酸素含有ガスを
接触させてニッケル触媒を酸化させた後、酸化したニッ
ケル触媒に前記アンモニア含有排ガスを接触させて排ガ
ス中のアンモニアを窒素と水とに分解することを特徴と
している。
【００１２】さらに、本発明は、前記ニッケル触媒を酸
化するニッケル酸化工程と、前記アンモニアを分解する
アンモニア分解工程とを、交互に繰り返して行うことを
特徴とし、また、前記ニッケル触媒が、反応主成分であ
るニッケルに、鉄，コバルト，マンガン，クロム，銅及
び亜鉛の中から選ばれた少なくとも１種の金属成分を含
むこと、さらに、前記アンモニア分解工程を、３３０〜
３７０℃の温度範囲で行うことを特徴としている。
化するニッケル酸化工程と、前記アンモニアを分解する
アンモニア分解工程とを、交互に繰り返して行うことを
特徴とし、また、前記ニッケル触媒が、反応主成分であ
るニッケルに、鉄，コバルト，マンガン，クロム，銅及
び亜鉛の中から選ばれた少なくとも１種の金属成分を含
むこと、さらに、前記アンモニア分解工程を、３３０〜
３７０℃の温度範囲で行うことを特徴としている。
【００１３】本発明で使用する前記ニッケル触媒は、周
知の製造方法、例えば、ニッケルの硝酸塩を焼成した
り、ニッケル塩の水溶液から沈殿させて得られた酸化物
を水素還元したりして得たものや、ニッケル触媒として
市販されている各種ニッケル触媒（ニッケル系触媒を含
む）を使用することができる。このニッケル触媒は、通
常の使用態様では、空気中の酸素で酸化して触媒活性が
低下することがあるため、保存中の酸化を防止するため
に注意が払われている。また、酸化が進まないように、
あらかじめ表面を酸化させた状態で保存し、使用前に水
素還元することも行われている。さらに、触媒毒作用に
耐性をもたせるため、反応主成分であるニッケルに遷移
金属を添加した多成分系のニッケル系触媒も種々知られ
ており、本発明では、これらのニッケル系触媒も使用可
能である。
知の製造方法、例えば、ニッケルの硝酸塩を焼成した
り、ニッケル塩の水溶液から沈殿させて得られた酸化物
を水素還元したりして得たものや、ニッケル触媒として
市販されている各種ニッケル触媒（ニッケル系触媒を含
む）を使用することができる。このニッケル触媒は、通
常の使用態様では、空気中の酸素で酸化して触媒活性が
低下することがあるため、保存中の酸化を防止するため
に注意が払われている。また、酸化が進まないように、
あらかじめ表面を酸化させた状態で保存し、使用前に水
素還元することも行われている。さらに、触媒毒作用に
耐性をもたせるため、反応主成分であるニッケルに遷移
金属を添加した多成分系のニッケル系触媒も種々知られ
ており、本発明では、これらのニッケル系触媒も使用可
能である。
【００１４】上記ニッケル触媒は、高温で下記反応式に
示すようにしてアンモニアを窒素と水素とに分解するこ
とが広く知られているが、この触媒反応では、前述のよ
うに、水素が生成するという不都合がある。 ２ＮＨ3 → Ｎ2 ＋ ３Ｈ2
示すようにしてアンモニアを窒素と水素とに分解するこ
とが広く知られているが、この触媒反応では、前述のよ
うに、水素が生成するという不都合がある。 ２ＮＨ3 → Ｎ2 ＋ ３Ｈ2
【００１５】一方、本発明のように、あらかじめニッケ
ル触媒に酸素含有ガスを接触させてニッケル触媒を酸化
した後、酸化したニッケル触媒にアンモニアを接触させ
ると、下記の反応式に示すように、酸化ニッケルとアン
モニアとが反応し、酸化ニッケルが還元されて金属ニッ
ケルが生成するとともに、アンモニアが窒素と水とに分
解する。 ３ＮｉＯ ＋ ２ＮＨ3 → Ｎ2 ＋ ３Ｈ2 Ｏ ＋
３Ｎｉ
ル触媒に酸素含有ガスを接触させてニッケル触媒を酸化
した後、酸化したニッケル触媒にアンモニアを接触させ
ると、下記の反応式に示すように、酸化ニッケルとアン
モニアとが反応し、酸化ニッケルが還元されて金属ニッ
ケルが生成するとともに、アンモニアが窒素と水とに分
解する。 ３ＮｉＯ ＋ ２ＮＨ3 → Ｎ2 ＋ ３Ｈ2 Ｏ ＋
３Ｎｉ
【００１６】上記アンモニアの分解反応は、１５０℃程
度の低温でも進行するが、３３０〜３７０℃の温度範囲
で行うことが好ましい。すなわち、３３０℃より低い温
度では反応性が低く、３３０℃以上で高い反応性が得ら
れる。一方、３７０℃を超えると、還元された金属ニッ
ケルがアンモニア分解触媒として作用し、前述のように
アンモニアが分解して水素が発生してしまう。
度の低温でも進行するが、３３０〜３７０℃の温度範囲
で行うことが好ましい。すなわち、３３０℃より低い温
度では反応性が低く、３３０℃以上で高い反応性が得ら
れる。一方、３７０℃を超えると、還元された金属ニッ
ケルがアンモニア分解触媒として作用し、前述のように
アンモニアが分解して水素が発生してしまう。
【００１７】また、前記反応式により還元されてアンモ
ニアの酸化分解能を失った金属ニッケルは、再度酸素含
有ガスに接触させることにより、下記反応式に示すよう
にして酸化ニッケルとなり、アンモニアの酸化分解能が
回復して繰り返し使用することが可能となる。このとき
の温度は特に限定されるものではなく、室温でも行うこ
とができる。 ２Ｎｉ ＋ Ｏ2 → ２ＮｉＯ
ニアの酸化分解能を失った金属ニッケルは、再度酸素含
有ガスに接触させることにより、下記反応式に示すよう
にして酸化ニッケルとなり、アンモニアの酸化分解能が
回復して繰り返し使用することが可能となる。このとき
の温度は特に限定されるものではなく、室温でも行うこ
とができる。 ２Ｎｉ ＋ Ｏ2 → ２ＮｉＯ
【００１８】上述のように、ニッケル触媒に酸素含有ガ
スを接触させてニッケル触媒を酸化するニッケル酸化工
程を行った後、このニッケル酸化工程で酸化したニッケ
ル触媒（酸化ニッケル）に、酸素を含まないアンモニア
含有排ガスを接触させるアンモニア分解工程を行うこと
により、排ガス中のアンモニアを安全な窒素と水とに分
解することができる。しかも、比較的低温で処理するこ
とができるので、加熱用の熱エネルギーも少なくて済
み、アンモニア含有排ガス中に水素が含まれている場合
の処理装置に対する配慮も僅かで済む。
スを接触させてニッケル触媒を酸化するニッケル酸化工
程を行った後、このニッケル酸化工程で酸化したニッケ
ル触媒（酸化ニッケル）に、酸素を含まないアンモニア
含有排ガスを接触させるアンモニア分解工程を行うこと
により、排ガス中のアンモニアを安全な窒素と水とに分
解することができる。しかも、比較的低温で処理するこ
とができるので、加熱用の熱エネルギーも少なくて済
み、アンモニア含有排ガス中に水素が含まれている場合
の処理装置に対する配慮も僅かで済む。
【００１９】さらに、上記ニッケル酸化工程とアンモニ
ア分解工程とを交互に繰り返して行うことにより、ニッ
ケル触媒を充填筒に充填したままの状態で半永久的に使
用することができる。また、ニッケル酸化工程とアンモ
ニア分解工程とは、別個の場所でそれぞれ単独に行って
もよいが、通常は、ニッケル触媒を充填した充填筒に酸
素含有ガスとアンモニア含有排ガスとを交互に流すよう
にすればよい。特に、ニッケル触媒を充填した充填筒を
複数設置し、各充填筒について、ニッケル酸化工程とア
ンモニア分解工程とを順次切換えて行うことにより、ア
ンモニア含有排ガスの除害処理を連続的に行うことがで
きる。
ア分解工程とを交互に繰り返して行うことにより、ニッ
ケル触媒を充填筒に充填したままの状態で半永久的に使
用することができる。また、ニッケル酸化工程とアンモ
ニア分解工程とは、別個の場所でそれぞれ単独に行って
もよいが、通常は、ニッケル触媒を充填した充填筒に酸
素含有ガスとアンモニア含有排ガスとを交互に流すよう
にすればよい。特に、ニッケル触媒を充填した充填筒を
複数設置し、各充填筒について、ニッケル酸化工程とア
ンモニア分解工程とを順次切換えて行うことにより、ア
ンモニア含有排ガスの除害処理を連続的に行うことがで
きる。
【００２０】
実施例１ 硝酸ニッケル（Ｎｉ（ＮＯ3 ）2 ・６Ｈ2 Ｏ）６００ｇ
を溶融し、ここに軽石粉末１５０ｇを加えて混合し、蒸
発乾固させた。これを直径３ｍｍ、長さ３ｍｍのペレッ
トに成形し、４００℃で４時間仮焼した後、６５０℃で
４時間焼成した。
を溶融し、ここに軽石粉末１５０ｇを加えて混合し、蒸
発乾固させた。これを直径３ｍｍ、長さ３ｍｍのペレッ
トに成形し、４００℃で４時間仮焼した後、６５０℃で
４時間焼成した。
【００２１】得られた焼成物を、内径４３ｍｍのステン
レス製のカラムに１６６ｇ充填した（充填高さ１００ｍ
ｍ）。このカラムに水素ガスを流しながら、１８０℃で
１０時間活性化処理を行ってニッケル触媒とした後、窒
素ガスで８時間パージを行って室温とした。引き続き、
酸素含有ガスとして５％の酸素ガスを含む窒素ガスを、
空筒速度毎秒１ｃｍで１６時間流してニッケルを酸化し
た後、窒素ガスによるパージを８時間行って反応剤とし
た。
レス製のカラムに１６６ｇ充填した（充填高さ１００ｍ
ｍ）。このカラムに水素ガスを流しながら、１８０℃で
１０時間活性化処理を行ってニッケル触媒とした後、窒
素ガスで８時間パージを行って室温とした。引き続き、
酸素含有ガスとして５％の酸素ガスを含む窒素ガスを、
空筒速度毎秒１ｃｍで１６時間流してニッケルを酸化し
た後、窒素ガスによるパージを８時間行って反応剤とし
た。
【００２２】アンモニア含有ガスとしては窒素ガス中に
１モル％のアンモニアを含む窒素ガスを使用し、これを
空筒速度毎秒１ｃｍでカラムに流し、カラム出口のアン
モニア，水分及び水素の濃度を測定した。測定器とし
て、アンモニアにはバイオニクス機器（株）製アンモニ
アモニターＴＧ２４００を、水分には（株）ガステック
製水蒸気検知器を、水素には（株）ガステック製ガスク
ロマトグラフＧＧＣ−０１を、それぞれ使用した。
１モル％のアンモニアを含む窒素ガスを使用し、これを
空筒速度毎秒１ｃｍでカラムに流し、カラム出口のアン
モニア，水分及び水素の濃度を測定した。測定器とし
て、アンモニアにはバイオニクス機器（株）製アンモニ
アモニターＴＧ２４００を、水分には（株）ガステック
製水蒸気検知器を、水素には（株）ガステック製ガスク
ロマトグラフＧＧＣ−０１を、それぞれ使用した。
【００２３】カラムの加熱温度を種々設定して上記アン
モニアの除害実験を行い、カラム出口のアンモニア濃度
が２５ｐｐｍに達するまでの時間から、各温度における
反応剤１ｋｇ当たりのアンモニア処理量（リットル）を
算出した。その結果を図１に示す。
モニアの除害実験を行い、カラム出口のアンモニア濃度
が２５ｐｐｍに達するまでの時間から、各温度における
反応剤１ｋｇ当たりのアンモニア処理量（リットル）を
算出した。その結果を図１に示す。
【００２４】図１から、カラム温度が３００℃までは処
理量が少なく、３３０℃以上になると処理量が急激に増
加することがわかる。しかし、カラム温度を３８０℃に
すると、カラム出口で水素が検出された。これは、アン
モニアと反応して還元された金属ニッケルが本来のアン
モニア分解触媒として作用し、前述のようにアンモニア
を分解して窒素と水素とが生成するためと思われる。
理量が少なく、３３０℃以上になると処理量が急激に増
加することがわかる。しかし、カラム温度を３８０℃に
すると、カラム出口で水素が検出された。これは、アン
モニアと反応して還元された金属ニッケルが本来のアン
モニア分解触媒として作用し、前述のようにアンモニア
を分解して窒素と水素とが生成するためと思われる。
【００２５】実施例２ ニッケル系触媒として、日揮化学（株）製耐硫黄性ニッ
ケル触媒Ｎ１１２を使用した。この触媒の組成は、ニッ
ケル４５〜４７％，クロム２〜３％，銅２〜３％，ケイ
ソウ土２７〜２９％，黒鉛４〜５％である。この触媒
を、内径４３ｍｍのステンレス製のカラムに１６６ｇ充
填した（充填高さ１００ｍｍ）。また、カラム出口に
は、実施例１と同じ測定器を設けた。
ケル触媒Ｎ１１２を使用した。この触媒の組成は、ニッ
ケル４５〜４７％，クロム２〜３％，銅２〜３％，ケイ
ソウ土２７〜２９％，黒鉛４〜５％である。この触媒
を、内径４３ｍｍのステンレス製のカラムに１６６ｇ充
填した（充填高さ１００ｍｍ）。また、カラム出口に
は、実施例１と同じ測定器を設けた。
【００２６】上記カラムについて、下記の〜の操作
を繰り返して行った。 室温の窒素ガスによるパージを１５時間行う。 室温で５％の酸素ガスを含む窒素ガスを１５時間流す
（ニッケル酸化工程）。 窒素ガスによるパージを１５時間行うとともにカラム
を予熱する。 カラムを３５０℃に加熱し、１モル％のアンモニアを
含む窒素ガスを空筒速度毎秒１ｃｍで流す（アンモニア
分解工程）。 カラム出口のアンモニア濃度が２５ｐｐｍに達した時
点を破過点としてアンモニアの除害操作を終了し、の
操作に戻る。
を繰り返して行った。 室温の窒素ガスによるパージを１５時間行う。 室温で５％の酸素ガスを含む窒素ガスを１５時間流す
（ニッケル酸化工程）。 窒素ガスによるパージを１５時間行うとともにカラム
を予熱する。 カラムを３５０℃に加熱し、１モル％のアンモニアを
含む窒素ガスを空筒速度毎秒１ｃｍで流す（アンモニア
分解工程）。 カラム出口のアンモニア濃度が２５ｐｐｍに達した時
点を破過点としてアンモニアの除害操作を終了し、の
操作に戻る。
【００２７】上記〜の操作を６回繰り返し、各回の
の操作時間と、この操作時間から算出した反応剤１ｋ
ｇ当たりのアンモニア処理量を以下に示す。 時間［分］ アンモニア処理量［リットル］ １回目 ５８７ ３０．６ ２回目 ５６２ ２９．３ ３回目 ５５９ ２９．１ ４回目 ５７１ ２９．８ ５回目 ５６５ ２９．５ ６回目 ５５８ ２９．１
の操作時間と、この操作時間から算出した反応剤１ｋ
ｇ当たりのアンモニア処理量を以下に示す。 時間［分］ アンモニア処理量［リットル］ １回目 ５８７ ３０．６ ２回目 ５６２ ２９．３ ３回目 ５５９ ２９．１ ４回目 ５７１ ２９．８ ５回目 ５６５ ２９．５ ６回目 ５５８ ２９．１
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のアンモニ
ア含有排ガスの除害方法によれば、酸素を含まないアン
モニア含有排ガス中のアンモニアを、比較的低温の条件
下で安全な水と窒素とに分解することができる。また、
アンモニア分解能を失った場合でも、酸素含有ガスに接
触させるだけでアンモニア分解能を回復させることがで
きる。
ア含有排ガスの除害方法によれば、酸素を含まないアン
モニア含有排ガス中のアンモニアを、比較的低温の条件
下で安全な水と窒素とに分解することができる。また、
アンモニア分解能を失った場合でも、酸素含有ガスに接
触させるだけでアンモニア分解能を回復させることがで
きる。
【図１】 カラム温度とアンモニア処理量との関係を示
す図である。
す図である。
フロントページの続き (72)発明者 小関 修一 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 酸素を含まないアンモニア含有排ガス中
のアンモニアをニッケル触媒により分解して除去するア
ンモニア含有排ガスの除害方法であって、前記ニッケル
触媒に酸素含有ガスを接触させてニッケル触媒を酸化さ
せた後、酸化したニッケル触媒に前記アンモニア含有排
ガスを接触させて排ガス中のアンモニアを窒素と水とに
分解することを特徴とするアンモニア含有排ガスの除害
方法。 - 【請求項２】 前記ニッケル触媒を酸化するニッケル酸
化工程と、前記アンモニアを分解するアンモニア分解工
程とを、交互に繰り返して行うことを特徴とする請求項
１記載のアンモニア含有排ガスの除害方法。 - 【請求項３】 前記ニッケル触媒は、反応主成分である
ニッケルに、鉄，コバルト，マンガン，クロム，銅及び
亜鉛の中から選ばれた少なくとも１種の金属成分を含む
ことを特徴とする請求項１記載のアンモニア含有排ガス
の除害方法。 - 【請求項４】 前記アンモニア分解工程は、３３０〜３
７０℃の温度範囲で行うことを特徴とする請求項１記載
のアンモニア含有排ガスの除害方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9162433A JPH119964A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | アンモニア含有排ガスの除害方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9162433A JPH119964A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | アンモニア含有排ガスの除害方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH119964A true JPH119964A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15754527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9162433A Pending JPH119964A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | アンモニア含有排ガスの除害方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH119964A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4785794A (en) * | 1986-01-17 | 1988-11-22 | Institut National Polytechnique De Toulouse | Method for processing aqueous sugar juice for separating ketose |
| JP2008132475A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-06-12 | Japan Pionics Co Ltd | ガスの処理方法 |
| JP2012196620A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガス分解素子及びその製造方法並びにアンモニア分解方法 |
-
1997
- 1997-06-19 JP JP9162433A patent/JPH119964A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4785794A (en) * | 1986-01-17 | 1988-11-22 | Institut National Polytechnique De Toulouse | Method for processing aqueous sugar juice for separating ketose |
| JP2008132475A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-06-12 | Japan Pionics Co Ltd | ガスの処理方法 |
| JP2012196620A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガス分解素子及びその製造方法並びにアンモニア分解方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4010238A (en) | Proces for selective removal of nitrogen oxides from waste gases | |
| JP4110427B2 (ja) | 吸収体の再生 | |
| US5384301A (en) | Catalyst for elemental sulfur recovery process | |
| JP3924322B2 (ja) | 有害ガス除去剤 | |
| CN100425531C (zh) | 纯化一氧化二氮的方法 | |
| HU228480B1 (en) | Catalyst for decomposing nitrous oxide and method for performing processes comprising formation of nitrous oxide | |
| Li et al. | Catalytic decomposition of HCN on copper manganese oxide at low temperatures: Performance and mechanism | |
| KR0184271B1 (ko) | 순수하거나 기체 혼합물 중에 존재하는 산화 이질소의 촉매식 분해 | |
| US4016241A (en) | Process for reducing nitrogen oxides from flue gas | |
| JP3852969B2 (ja) | オフガス中のアンモニアの分解方法 | |
| US3981971A (en) | Process for reducing nitrogen oxides | |
| JPH119964A (ja) | アンモニア含有排ガスの除害方法 | |
| JPH07506761A (ja) | 工業ガスから硫黄化合物を除去するための触媒，その製造方法およびその使用 | |
| EP0643988B1 (en) | Process for decomposing nitrogen oxides | |
| JPS6120342B2 (ja) | ||
| JPH06123406A (ja) | 燃焼ガスの亜酸化窒素除去方法 | |
| Karásková et al. | N2O catalytic decomposition and temperature programmed desorption tests on alkali metals promoted Co–Mn–Al mixed oxide | |
| JP3302402B2 (ja) | アンモニア分解触媒 | |
| JPH09313940A (ja) | アンモニア酸化分解触媒 | |
| JP6898625B2 (ja) | 酸性排ガス処理剤、酸性排ガス処理方法、及び酸性排ガス処理設備 | |
| US6077493A (en) | Method for removing nitrogen oxides | |
| JPS63171623A (ja) | 窒素酸化物除去方法 | |
| JPH06262079A (ja) | 窒素酸化物浄化用触媒および窒素酸化物浄化方法 | |
| Lee et al. | Removal of NO by absorption and the subsequent reduction method using YBa2Cu3Oy and Ce-ZSM-5 | |
| JP3029311B2 (ja) | 混合ガス中の窒素酸化物除去方法およびその装置 |