JPH1191275A - Method of manufacturing non-contact type IC card and non-contact type IC card - Google Patents
Method of manufacturing non-contact type IC card and non-contact type IC cardInfo
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- JPH1191275A JPH1191275A JP26009297A JP26009297A JPH1191275A JP H1191275 A JPH1191275 A JP H1191275A JP 26009297 A JP26009297 A JP 26009297A JP 26009297 A JP26009297 A JP 26009297A JP H1191275 A JPH1191275 A JP H1191275A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】カードの反りやカード表面の凹凸の発生を抑制
してカードの美観を向上し、効率的に生産が可能で製造
コストを削減することができる非接触型ICカードの製
造方法を提供する。
【解決手段】基板フィルム41の表面上にICチップ1
とコイル2を固定する工程と、コアフィルム42にIC
チップ用孔42aを形成する工程と、ICチップ用孔4
2aにICチップ1を収納するようにコアフィルム42
の一方の表面に接着剤を介して基板フィルム41を積層
させ、コアフィルム42の他方の表面に接着剤を介して
保護フィルム43を積層させ、基板フィルム41、コア
フィルム42および保護フィルム43の積層体を形成す
る工程と、積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする
工程とを有する。
[Problem] A non-contact type IC card capable of suppressing warpage of a card and unevenness of the surface of the card, improving the appearance of the card, efficiently producing the card, and reducing the production cost. And a method for producing the same. An IC chip is provided on a surface of a substrate film.
And a step of fixing the coil 2 and an IC
A step of forming a chip hole 42a;
Core film 42 so that IC chip 1 is stored in 2a.
The substrate film 41 is laminated on one surface of the core film 42 via an adhesive, the protective film 43 is laminated on the other surface of the core film 42 via an adhesive, and the substrate film 41, the core film 42 and the protective film 43 are laminated. Forming a body, and laminating the laminate under pressure and low temperature.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子(IC
チップ)を搭載したICカードおよびその製造方法に関
し、特に非接触型ICカードの製造方法および非接触型
ICカードに関する。The present invention relates to a semiconductor device (IC)
More particularly, the present invention relates to a method for manufacturing a non-contact type IC card and a non-contact type IC card.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、情報処理の効率化やセキュリティ
ーの観点から、データの記録、処理を行う半導体素子
(ICチップ)を搭載したICカードが普及しつつあ
る。このようなICカードには、カードの外部端子と外
部処理装置の端子とを接続してデータの送受信を行う接
触方式のものと、電磁波でデータの送受信を行うアンテ
ナコイルとデータ処理のための半導体素子を内蔵し、外
部処理装置との間の読み書きをいわゆる無線方式で実現
でき、IC回路の駆動電力が電磁誘導で供給され、バッ
テリを内蔵しない非接触方式のものとが開発されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, IC cards equipped with semiconductor elements (IC chips) for recording and processing data have become widespread from the viewpoint of efficiency of information processing and security. Such IC cards include a contact type that connects an external terminal of the card and a terminal of an external processing device to transmit and receive data, an antenna coil that transmits and receives data by electromagnetic waves, and a semiconductor for data processing. A non-contact type in which an element is incorporated and reading and writing with an external processing device can be realized by a so-called wireless method, driving power of an IC circuit is supplied by electromagnetic induction, and a battery is not incorporated has been developed.
【0003】従来のコイルおよびICチップを内蔵した
非接触型ICカードの製造方法としては、データ送受信
および駆動電力供給用のコイルや、ICチップなどの内
蔵電子部品を熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化
樹脂、あるいは電子線硬化樹脂などにより封止して非接
触型ICモジュールを成形した後、モジュール用凹部あ
るいはモジュール用孔を打ち抜き加工あるいはざぐり
(NC)加工により設けたPET(ポリエチレンテレフ
タレート)などのフィルムで挟み込み、熱プレスなどで
融着、あるいは接着剤などにより接着してラミネート加
工し、カードサイズに打ち抜いてカード化する方法が広
く用いられている。[0003] Conventional methods for manufacturing a non-contact type IC card having a built-in coil and IC chip include a coil for data transmission / reception and driving power supply, and a built-in electronic component such as an IC chip, which is made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin. After molding a non-contact type IC module by sealing with a UV curable resin or an electron beam curable resin or the like, a PET (polyethylene terephthalate) in which a concave portion for a module or a hole for a module is punched or counterbored (NC) is provided. Such a method is widely used in which the film is sandwiched by a film such as the above, fused by a hot press or the like, or laminated by bonding with an adhesive or the like, and punched into a card size.
【0004】また、熱可塑性樹脂内に、データ送受信お
よび駆動電力供給用のコイルや、ICチップなどの内蔵
電子部品を収納し、熱プレスで成形する方法も知られて
いる。There is also known a method in which a coil for data transmission / reception and supply of driving power and a built-in electronic component such as an IC chip are housed in a thermoplastic resin and molded by a hot press.
【0005】また、データ送受信および駆動電力供給用
のコイルや、ICチップなどの内蔵電子部品を固定した
基板フィルムの少なくとも凹凸面と、オーバーシートと
を、紫外線硬化型接着剤を介して、紫外線照射によりラ
ミネーション成形する方法が知られている。[0005] At least an uneven surface of a substrate film on which a built-in electronic component such as a coil for data transmission / reception and driving power supply or an IC chip is fixed, and the oversheet are irradiated with ultraviolet light via an ultraviolet curable adhesive. A method of lamination molding is known.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の非接触型ICカードの製造方法によれば、非接触
型ICモジュールを成形し、フィルムで挟み込んでラミ
ネート加工する方法では、非接触型ICモジュールの成
形が煩雑であり、生産効率が低く、安価に製造できない
という問題があった。However, according to the above-mentioned conventional method of manufacturing a non-contact type IC card, a method of forming a non-contact type IC module, sandwiching the module with a film, and laminating the same is not suitable. There is a problem that the molding of the module is complicated, the production efficiency is low, and the module cannot be manufactured at low cost.
【0007】また、熱可塑性樹脂内に内蔵電子部品を収
納し、熱プレスで成形する方法では、カードの反りが生
じたり、カード表面の凹凸が目立ちやすくなるという問
題があった。また、この反りや表面の凹凸を改良するた
めには加圧状態での加熱および冷却が必要となり、熱プ
レス工程に時間がかかるため、生産効率が低くなってし
まうという問題があった。[0007] Further, in a method in which a built-in electronic component is housed in a thermoplastic resin and molded by hot press, there are problems that the card is warped and irregularities on the card surface are easily noticeable. Further, in order to improve the warpage and the unevenness of the surface, heating and cooling in a pressurized state are required, and there is a problem that a long time is required for a hot pressing step, resulting in low production efficiency.
【0008】また、内蔵電子部品を固定した基板フィル
ムとオーバーシートを、紫外線硬化型接着剤で接着成形
する方法では、高速ラミネートができるため生産効率は
高いが、基板フィルムに固定した内蔵電子部品に起因す
る凹凸を緩衝しきれず、カードの仕上がり表面の凹凸が
残ってしまう、外観不良の問題があった。In the method of bonding and molding a substrate film and an oversheet to which an internal electronic component is fixed with an ultraviolet-curing adhesive, high-speed lamination can be performed, so that the production efficiency is high. The resulting irregularities cannot be completely buffered, leaving irregularities on the finished surface of the card.
【0009】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、従って本発明は、カードの反りやカード表面の凹凸
の発生を抑制してカードの美観を向上し、効率的に生産
が可能で製造コストを削減することができる非接触型I
Cカードの製造方法、および非接触型ICカードを提供
することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances. Accordingly, the present invention suppresses the warpage of the card and the unevenness of the card surface, improves the aesthetic appearance of the card, and enables efficient production. Non-contact type I that can reduce cost
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a C card and a non-contact type IC card.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の非接触型ICカードの製造方法は、基板フ
ィルムの表面上にICチップとコイルを固定する工程
と、コアフィルムにICチップ用孔を形成する工程と、
前記ICチップ用孔に前記ICチップを収納するように
前記コアフィルムの一方の表面に接着剤を介して前記基
板フィルムを積層させ、前記コアフィルムの他方の表面
に接着剤を介して保護フィルムを積層させ、前記基板フ
ィルム、前記コアフィルムおよび前記保護フィルムの積
層体を形成する工程と、前記積層体を加圧下かつ低温下
でラミネートする工程とを有する。In order to achieve the above object, a method for manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention comprises the steps of: fixing an IC chip and a coil on a surface of a substrate film; Forming a chip hole;
The substrate film is laminated with an adhesive on one surface of the core film so as to accommodate the IC chip in the IC chip hole, and a protective film is laminated on the other surface of the core film with an adhesive. Laminating to form a laminate of the substrate film, the core film, and the protective film; and laminating the laminate under pressure and at a low temperature.
【0011】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法によれば、まず、基板フィルムの表面上にICチッ
プとコイルを固定し、コアフィルムにICチップ用孔を
形成する。次に、ICチップ用孔にICチップを収納す
るようにコアフィルムの一方の表面に接着剤を介して基
板フィルムを積層させ、コアフィルムの他方の表面に接
着剤を介して保護フィルムを積層させ、基板フィルム、
コアフィルムおよび保護フィルムの積層体を形成した
後、積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする。加圧
下かつ低温下でラミネートすることにより、カードの反
りやカード表面の凹凸の発生を抑制してカードの美観を
向上することができ、また、非接触型ICモジュールを
成形する煩雑な工程や、時間がかかる熱プレス工程を必
要としないので、効率的に生産が可能であり、製造コス
トを削減して非接触型ICカードを製造することができ
る。According to the method of manufacturing a non-contact type IC card of the present invention, first, an IC chip and a coil are fixed on a surface of a substrate film, and an IC chip hole is formed in a core film. Next, a substrate film is laminated on one surface of the core film via an adhesive so as to accommodate the IC chip in the IC chip hole, and a protective film is laminated on the other surface of the core film via the adhesive. , Substrate film,
After forming the laminate of the core film and the protective film, the laminate is laminated under pressure and at a low temperature. By laminating under pressure and low temperature, it is possible to suppress the warpage of the card and the occurrence of irregularities on the surface of the card and improve the aesthetic appearance of the card, and a complicated process of forming a non-contact type IC module, Since a time-consuming heat press step is not required, efficient production is possible, and a non-contact type IC card can be manufactured with a reduced manufacturing cost.
【0012】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法は、好適には、前記積層体を加圧下かつ低温下でラ
ミネートする工程において、温度が少なくとも50℃以
下のプレス具で前記積層体を挟み、加圧する。50℃以
下のプレス具で前記積層体を挟み、加圧してラミネート
することで、カードの反りやカード表面の凹凸の発生を
抑制してラミネートすることを容易に行うことができ
る。In the method for manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention, preferably, in the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature, the laminate is pressed with a pressing tool having a temperature of at least 50 ° C. or less. , And pressurize. By laminating the laminate by pressing the laminate with a pressing tool of 50 ° C. or less, the warpage of the card and the occurrence of unevenness on the card surface can be suppressed and the laminate can be easily performed.
【0013】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法は、好適には、前記接着剤がホットメルト型接着剤
であり、前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートす
る工程が、前記ホットメルト型接着剤の冷却により固化
させる工程である。ホットメルト型接着剤は冷却により
固化するので、熱プレス工程のように加熱する必要がな
く、低温下でのラミネートが可能となる。In the method for manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention, preferably, the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature comprises: This is a step of solidifying the hot melt adhesive by cooling. Since the hot-melt adhesive is solidified by cooling, it does not need to be heated as in a hot pressing step, and can be laminated at a low temperature.
【0014】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法は、好適には、前記接着剤が紫外線硬化型接着剤で
あり、前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする
工程が、前記紫外線硬化型接着剤への紫外線照射により
固化させる工程である。紫外線硬化型接着剤は紫外線照
射により固化するので、熱プレス工程のように加熱する
必要がなく、低温下でのラミネートが可能となる。In the above method of manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention, preferably, the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature comprises: This is a step of solidifying the ultraviolet-curable adhesive by irradiating it with ultraviolet rays. Since the ultraviolet-curable adhesive is solidified by irradiation with ultraviolet light, it does not need to be heated as in a hot pressing step, and can be laminated at a low temperature.
【0015】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法は、好適には、前記積層体を形成する工程が、前記
コアフィルムの一方の表面と前記基板フィルムの接着面
の少なくともいずれか一方の面に前記接着剤を塗布する
工程と、前記コアフィルムの他方の表面と前記保護フィ
ルムの接着面の少なくともいずれか一方の面に前記接着
剤を塗布する工程と、前記基板フィルム、前記コアフィ
ルムおよび前記保護フィルムを積層させる工程とを含
む。これにより、容易にコアフィルムの一方の表面に接
着剤を介して基板フィルムを積層させ、コアフィルムの
他方の表面に接着剤を介して保護フィルムを積層させる
ことが可能となる。In the method of manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention, preferably, the step of forming the laminate includes at least one of one surface of the core film and an adhesive surface of the substrate film. Applying the adhesive to the surface of the core film, applying the adhesive to at least one of the other surface of the core film and the adhesive surface of the protective film, the substrate film, the core film And laminating the protective film. This makes it possible to easily laminate the substrate film on one surface of the core film via the adhesive and to laminate the protective film on the other surface of the core film via the adhesive.
【0016】上記の本発明の非接触型ICカードの製造
方法は、好適には、前記基板フィルム、前記コアフィル
ムおよび前記保護フィルムが、ぞれぞれロールシート状
のフィルムであり、前記積層体を形成する工程が、前記
基板フィルム、前記コアフィルムおよび前記保護フィル
ムのシート状積層体を形成する工程であり、前記積層体
を加圧下かつ低温下でラミネートする工程が、前記シー
ト状積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする工程で
あり、前記シート状積層体を加圧下かつ低温下でラミネ
ートする工程する工程の後、前記シート状積層体をシー
トカットする工程をさらに有し、前記基板フィルムの表
面上にICチップとコイルを固定する工程以降、前記シ
ート状積層体をシートカットする工程までを連続的に行
う。これにより、より効率的に生産することが可能とな
る。In the above method of manufacturing a non-contact type IC card according to the present invention, preferably, the substrate film, the core film and the protective film are each a roll sheet film, Is a step of forming a sheet-like laminate of the substrate film, the core film and the protective film, the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature, the step of laminating the sheet-like laminate The step of laminating under pressure and at low temperature, and after the step of laminating the sheet-like laminate under pressure and at low temperature, further comprising a step of sheet-cutting the sheet-like laminate, wherein the substrate film From the step of fixing the IC chip and the coil on the surface of the above, to the step of sheet-cutting the sheet-like laminate are continuously performed. This enables more efficient production.
【0017】さらに、上記の目的を達成するため、本発
明の非接触型ICカードは、ICチップ用孔を形成した
コアフィルムの一方の表面に、表面上にICチップとコ
イルを固定した基板フィルムを、前記ICチップ用孔に
前記ICチップを収納するように、接着剤を介して積層
させ、さらに前記コアフィルムの他方の表面に保護フィ
ルムを接着剤を介して積層させて形成した積層体を、加
圧下かつ低温下でラミネートして形成した非接触型IC
カードである。Furthermore, in order to achieve the above object, a non-contact type IC card according to the present invention comprises a substrate film having an IC chip and a coil fixed on one surface of a core film having an IC chip hole formed thereon. Is laminated via an adhesive so that the IC chip is housed in the IC chip hole, and a protective film is further laminated on the other surface of the core film via an adhesive to form a laminate. Non-contact IC formed by laminating under pressure and low temperature
Card.
【0018】上記の本発明の非接触型ICカードによれ
ば、加圧下かつ低温下でラミネートして形成するので、
カードの反りやカード表面の凹凸の発生を抑制してカー
ドの美観を向上したカードをすることができ、また、非
接触型ICモジュールを成形する煩雑な工程や、時間が
かかる熱プレス工程を必要としないので、効率的に生産
が可能な非接触型ICカードである。According to the non-contact type IC card of the present invention, since it is formed by laminating under pressure and low temperature,
It is possible to make a card with improved card appearance by suppressing the occurrence of card warpage and card surface irregularities, and requires a complicated process of molding a non-contact type IC module and a time-consuming hot press process. Therefore, it is a non-contact type IC card that can be efficiently produced.
【0019】上記の本発明の非接触型ICカードは、好
適には、前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートす
るときに、温度が少なくとも50℃以下のプレス具で前
記積層体を挟み、加圧してラミネートして形成した非接
触型ICカードである。50℃以下のプレス具で前記積
層体を挟み、加圧してラミネートして形成するので、カ
ードの反りやカード表面の凹凸の発生を抑制してラミネ
ートすることが容易な非接触型ICカードである。The non-contact type IC card according to the present invention is preferably arranged such that when the laminate is laminated under pressure and at a low temperature, the laminate is sandwiched by a press having a temperature of at least 50 ° C. It is a non-contact type IC card formed by pressing and laminating. A non-contact type IC card which can be easily laminated by suppressing the warpage of the card and the unevenness of the card surface since the laminate is formed by pressing and laminating the laminate with a press tool of 50 ° C. or less. .
【0020】上記の本発明の非接触型ICカードは、好
適には、前記接着剤がホットメルト型接着剤であり、前
記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートするときに、
前記ホットメルト型接着剤の冷却により固化させてラミ
ネートして形成した非接触型ICカードである。ホット
メルト型接着剤は冷却により固化するので、熱プレス工
程のように加熱する必要がなく、低温下でのラミネート
により製造可能な非接触型ICカードである。In the above-mentioned non-contact type IC card of the present invention, preferably, the adhesive is a hot melt type adhesive, and when the laminate is laminated under pressure and low temperature,
A non-contact type IC card formed by laminating and solidifying the hot melt adhesive by cooling. Since the hot-melt adhesive is solidified by cooling, it does not need to be heated as in a hot pressing step, and is a non-contact type IC card that can be manufactured by lamination at a low temperature.
【0021】上記の本発明の非接触型ICカードは、好
適には、前記接着剤が紫外線硬化型接着剤であり、前記
積層体を加圧下かつ低温下でラミネートするときに、前
記紫外線硬化型接着剤への紫外線照射により固化させて
ラミネートして形成した非接触型ICカードである。紫
外線硬化型接着剤は紫外線照射により固化するので、熱
プレス工程のように加熱する必要がなく、低温下でのラ
ミネートにより製造可能な非接触型ICカードである。In the above-mentioned non-contact type IC card of the present invention, preferably, the adhesive is an ultraviolet-curable adhesive, and when the laminate is laminated under pressure and at a low temperature, the ultraviolet-curable adhesive is used. It is a non-contact type IC card formed by solidifying and laminating an adhesive by ultraviolet irradiation. The ultraviolet-curable adhesive is a non-contact IC card which can be manufactured by laminating at a low temperature without the need of heating as in a hot pressing step since it is solidified by irradiation with ultraviolet rays.
【0022】上記の本発明の非接触型ICカードは、好
適には、前記積層体を形成するときに、前記コアフィル
ムの一方の表面と前記基板フィルムの接着面の少なくと
もいずれか一方の面に前記接着剤を塗布し、前記コアフ
ィルムの他方の表面と前記保護フィルムの接着面の少な
くともいずれか一方の面に前記接着剤を塗布し、前記基
板フィルム、前記コアフィルムおよび前記保護フィルム
を積層させて形成した非接触型ICカードである。これ
により、容易にコアフィルムの一方の表面に接着剤を介
して基板フィルムを積層させ、コアフィルムの他方の表
面に接着剤を介して保護フィルムを積層させる製造する
ことが可能な非接触型ICカードとすることができる。The non-contact type IC card of the present invention is preferably arranged such that, when forming the laminate, at least one of the one surface of the core film and the adhesive surface of the substrate film. The adhesive is applied, the adhesive is applied to at least one of the other surface of the core film and the adhesive surface of the protective film, and the substrate film, the core film and the protective film are laminated. This is a non-contact type IC card formed by the above method. Thereby, a non-contact type IC which can be manufactured by easily laminating a substrate film on one surface of a core film via an adhesive and laminating a protective film on the other surface of the core film via an adhesive. Can be a card.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0024】図1(a)は、本実施形態にかかる非接触
型ICカードの平面図である。カード基材4中に、IC
チップ1およびデータ送受信および駆動電力供給用のコ
イル2が埋設され、バンプ1aにより電気的に接続され
ており、ICチップ1およびバンプ1aは封止樹脂3に
より封止されている。FIG. 1A is a plan view of a non-contact type IC card according to the present embodiment. IC in card base material 4
A chip 1 and a coil 2 for data transmission / reception and driving power supply are buried and electrically connected by a bump 1a. The IC chip 1 and the bump 1a are sealed by a sealing resin 3.
【0025】図1(b)は、図1(a)中のA−A’に
おける断面図である。基板フィルム41の上層にコイル
2が形成されており、コイル端部の電極にICチップ1
に形成されたバンプ1aが接続されてICチップが装着
され、ICチップ周辺は封止樹脂3により封止されてい
る。基板フィルム41の上層には、コイル2を被覆して
全面に接着剤層5が形成されており、その上層に、打ち
抜きなどにより形成されたICチップを嵌入するための
ICチップ用孔が設けられたコアフィルム42が、IC
チップ用孔にICチップを収納するように積層されてい
る。さらにその上層に接着剤層5および保護フィルム4
3が積層されている。基板フィルム41、コアフィルム
42、および保護フィルム43からカード基材4が形成
されている。ICチップ用孔内壁面と封止樹脂3表面と
の間には空隙部が形成されている。FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1A. The coil 2 is formed on the upper layer of the substrate film 41, and the IC chip 1 is
The IC chip is mounted by connecting the bumps 1a formed on the IC chip, and the periphery of the IC chip is sealed with a sealing resin 3. An adhesive layer 5 is formed on the entire surface of the substrate film 41 so as to cover the coil 2, and an IC chip hole for inserting an IC chip formed by punching or the like is provided in the upper layer. Core film 42 is an IC
The IC chips are stacked so as to be accommodated in the chip holes. Furthermore, an adhesive layer 5 and a protective film 4
3 are stacked. The card substrate 4 is formed from the substrate film 41, the core film 42, and the protective film 43. A gap is formed between the inner wall surface of the hole for the IC chip and the surface of the sealing resin 3.
【0026】図1(c)は図1(b)と同様、図1
(a)中のA−A’における断面図であり、ICチップ
用孔内壁面と封止樹脂3表面との間の空隙部も接着剤層
5により充填されている形態を示している。FIG. 1C is similar to FIG.
FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 3A, showing a form in which a gap between an inner wall surface of an IC chip hole and the surface of a sealing resin 3 is also filled with an adhesive layer 5.
【0027】次に、上記の本実施形態の非接触型ICカ
ードの製造方法について、図2(a)を参照して説明す
る。基板フィルム41としては、ポリエチレンテレフタ
レート(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカ
ーボネート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−
スチレン共重合体(ABS)、ポリプロピレン(PP)
などの材料を用いることができる。後工程での接着剤と
の接着性を高めるために、基板フィルム41の表面にプ
ライマ処理あるいはコロナ処理などの任意の易接着処理
を施すことができる。その後、その上層にコイル2を形
成する。コイル2の形成方法としては、巻き線の貼付、
エッチング、蒸着、ペースト印刷などの方法を用いるこ
とができる。コイルの材料、抵抗値、ターン数などは、
ICチップ、リーダライタ、あるいは通信距離などの仕
様に合わせて設定することができる。Next, a method for manufacturing the non-contact type IC card according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As the substrate film 41, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), acrylonitrile-butadiene-
Styrene copolymer (ABS), polypropylene (PP)
Such a material can be used. The surface of the substrate film 41 may be subjected to any easy adhesion treatment such as a primer treatment or a corona treatment in order to enhance the adhesiveness with an adhesive in a later step. After that, the coil 2 is formed on the upper layer. The method of forming the coil 2 includes attaching a winding,
Methods such as etching, vapor deposition, and paste printing can be used. The coil material, resistance value, number of turns, etc.
It can be set according to specifications such as an IC chip, a reader / writer, or a communication distance.
【0028】次に、例えば上記のコイル端部の電極とI
Cチップ1に形成されたバンプ1aとを電気的に接続す
るように、ICチップ1を装着する。ICチップとして
は、例えば10〜500μmの厚さを有するものを用い
ることができる。また、コイル端部の電極とICチップ
1との接続方法は、ハンダ・メッキなどによるバンプ接
合の他、ワイヤボンディング、異方性導電フィルム(A
CF)、導電ペーストなどによる接続方法を用いること
ができる。特に、ICチップのモールド機能も有するA
CFによる接続はカードの薄型化に適しており、好まし
い。また、コイル2とICチップ1を意図せぬ位置で不
要に電気的に接続しないようにソルダレジスト印刷など
による絶縁層を設けてもよい。Next, for example, the above-mentioned electrode at the coil end and I
The IC chip 1 is mounted so as to be electrically connected to the bump 1a formed on the C chip 1. As the IC chip, for example, a chip having a thickness of 10 to 500 μm can be used. In addition, the method of connecting the electrode at the coil end to the IC chip 1 includes wire bonding, anisotropic conductive film (A) in addition to bump bonding by solder plating or the like.
CF), a connection method using a conductive paste, or the like. In particular, A which also has a mold function of an IC chip
Connection by CF is suitable for thinning the card and is preferable. Further, an insulating layer such as solder resist printing may be provided so that the coil 2 and the IC chip 1 are not unnecessarily electrically connected at unintended positions.
【0029】次に、ICチップ1を封止樹脂3により封
止する。封止樹脂3としては、例えば熱硬化性エポキシ
樹脂、UV硬化性エポキシ樹脂を用いることができる。
封止方法としては、例えばトランスファーモールド、印
刷、ポッティングなどの方法を用いることができる。印
刷、ポッティングなどによる場合には、封止樹脂形状を
保持するために、基板フィルム上に封止樹脂の流出を防
ぐダムあるいは枠を設けてもよい。また、ACFを用い
ることによりチップモールド機能を付与することもでき
る。このような場合などにおいては、封止樹脂による封
止は行わなくてもよい。Next, the IC chip 1 is sealed with a sealing resin 3. As the sealing resin 3, for example, a thermosetting epoxy resin or a UV-curable epoxy resin can be used.
As a sealing method, for example, a method such as transfer molding, printing, and potting can be used. In the case of printing, potting, or the like, a dam or a frame for preventing the sealing resin from flowing out may be provided on the substrate film in order to maintain the sealing resin shape. In addition, a chip mold function can be provided by using the ACF. In such a case, the sealing with the sealing resin may not be performed.
【0030】また、ICチップ1としては、COB(Ch
ip On Board )型に成形加工したものを用いることがで
きる。例えばガラスエポキシ系の基板にICチップを装
着した後、その端子をボンディングワイヤなどにより端
子に接続し、ICチップとボンディングワイヤは、例え
ばエポキシ樹脂などの封止樹脂により封止し、モジュー
ル化したものである。As the IC chip 1, COB (Ch
It can be formed into a mold on an ip On Board) mold. For example, after mounting an IC chip on a glass-epoxy board, the terminals are connected to the terminals with bonding wires, etc., and the IC chip and bonding wires are sealed with a sealing resin such as epoxy resin to form a module. It is.
【0031】コアフィルム42としては、ポリエチレン
テレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PV
C)、ポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリプロピ
レン(PP)などの材料を用いることができる。後工程
での接着剤との接着性を高めるために、コアフィルム4
2の表面にプライマ処理あるいはコロナ処理などの任意
の易接着処理を施すことができる。コアフィルム42の
厚みは、上記の樹脂封止されたICチップ1あるいはC
OB型モジュールの突起部分の厚みと同程度であること
が好ましい。As the core film 42, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PV)
C), polycarbonate (PC), acrylonitrile-
Materials such as butadiene-styrene copolymer (ABS) and polypropylene (PP) can be used. In order to enhance the adhesiveness with the adhesive in the post-process, the core film 4
The surface of No. 2 can be subjected to any easy adhesion treatment such as primer treatment or corona treatment. The thickness of the core film 42 depends on the resin-sealed IC chip 1 or C
It is preferable that the thickness is substantially the same as the thickness of the protrusion of the OB module.
【0032】コアフィルム42には、樹脂封止されたI
Cチップ1あるいはCOB型モジュールの突起部分に相
当する位置にICチップ用孔42aを形成する。ICチ
ップ用孔42aの形成方法としては、打ち抜き加工ある
いはざぐり(NC)加工などを用いることができる。The core film 42 has a resin-sealed I
An IC chip hole 42a is formed at a position corresponding to the protrusion of the C chip 1 or COB type module. As a method for forming the IC chip hole 42a, a punching process, a counterbore (NC) process, or the like can be used.
【0033】保護フィルム43としては、ポリエチレン
テレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PV
C)、ポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリプロピ
レン(PP)などの材料を用いることができる。後工程
での接着剤との接着性を高めるために、保護フィルム4
3の表面にプライマ処理あるいはコロナ処理などの任意
の易接着処理を施すことができる。As the protective film 43, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PV)
C), polycarbonate (PC), acrylonitrile-
Materials such as butadiene-styrene copolymer (ABS) and polypropylene (PP) can be used. In order to enhance the adhesiveness with the adhesive in a later step, a protective film 4
The surface of No. 3 can be subjected to any easy adhesion treatment such as primer treatment or corona treatment.
【0034】上記の基板フィルム41、コアフィルム4
2、保護フィルム43の各フィルムは、材料および厚み
は任意に選択することが可能であるが、外層となる基板
フィルム41および保護フィルム43は同一の材料、厚
みであるとカード成形した際の反りが生じにくくなるの
で好ましい。また、各フィルムともシート状あるいはロ
ールシート状のものを用いることができるが、ロールシ
ート状のフィルムを用いることにより生産効率を向上さ
せて製造することができるので、好ましい。また、位置
精度を確保するために、各フィルムの端部に穿孔(パー
フォレーション)などのホールを設けることも好まし
く、特にロールシート状のフィルムを用いる際に有効で
ある。The above substrate film 41 and core film 4
2. The material and thickness of each film of the protective film 43 can be arbitrarily selected. However, if the substrate film 41 and the protective film 43 as the outer layers have the same material and the same thickness, the warpage when a card is formed. Is preferred because it is less likely to occur. Each of the films may be in the form of a sheet or a roll sheet. However, the use of a roll sheet film is preferable because production efficiency can be improved and production can be performed. It is also preferable to provide a hole such as a perforation (perforation) at the end of each film in order to ensure positional accuracy, and this is particularly effective when a roll sheet film is used.
【0035】次に、図2(b)を参照する。上記の基板
フィルム41、コアフィルム42、保護フィルム43
を、各フィルム間に接着剤5を介して積層させる。接着
剤5としては、後工程において低温下でラミネート加工
するために、低温下で固化するものを用いる。例えばホ
ットメルト型接着剤や、紫外線硬化型接着剤を用いるこ
とができる。接着剤5により各フィルム間を接着し、フ
ィルム間の空隙部を充填する。また、場合によってはI
Cチップを保護する機能を有する。Next, reference will be made to FIG. The above substrate film 41, core film 42, protective film 43
Are laminated between the films via an adhesive 5. As the adhesive 5, an adhesive that solidifies at a low temperature is used in order to perform lamination at a low temperature in a later step. For example, a hot melt adhesive or an ultraviolet curable adhesive can be used. The films are adhered to each other with an adhesive 5 to fill the gaps between the films. In some cases, I
It has the function of protecting the C chip.
【0036】上記のホットメルト型接着剤は、冷却固化
による層形成および接着性付与による高速ラミネートが
可能で、無溶剤であるので環境安全性に優れるという長
所を有する。例えば、樹脂系接着剤(ポリウレタン系、
酢酸ビニル系、ポリビニルアルコール系、アクリル系な
ど)、ゴム系接着剤(クロロプレンゴム系、ニトリルゴ
ム系、スチレンブタジエンゴム系、ブチルゴム系、天然
ゴム系など)、セルロース系、にかわ、デンプン系など
の接着剤を用いることができる。また、反応系ホットメ
ルト型接着剤も使用することができ、例えば、アルコキ
シシリル基あるいはイソシアネート基を利用した湿気硬
化系、あるいは紫外線あるいは電子線による重縮合反応
基を有するSIS、SBSなどのブロックコポリマや、
アクリル酸変成ポリエステルの紫外線あるいは電子線に
よる架橋反応などを利用したホットメルト型接着剤を使
用できる。The hot-melt adhesives described above have the advantages of being capable of forming a layer by cooling and solidifying and being capable of high-speed lamination by imparting adhesiveness, and being excellent in environmental safety because they are solvent-free. For example, a resin adhesive (polyurethane,
Adhesion of vinyl acetate type, polyvinyl alcohol type, acrylic type, etc., rubber adhesive (chloroprene rubber type, nitrile rubber type, styrene butadiene rubber type, butyl rubber type, natural rubber type, etc.), cellulose type, glue, starch type etc. Agents can be used. In addition, a reactive hot-melt adhesive can also be used. For example, block copolymers such as SIS and SBS having a moisture-curing system using an alkoxysilyl group or an isocyanate group, or a polycondensation reactive group using an ultraviolet ray or an electron beam. And
A hot-melt type adhesive utilizing a crosslinking reaction of an acrylic acid-modified polyester by ultraviolet rays or electron beams can be used.
【0037】上記のホットメルト型接着剤の成分として
は、例えば、上記のEVA系、EEA(エチレン・エチ
ルアクリレートコポリマ)系、ポリエステル系、SBS
(ゴム系スチレン・ブタジエン・スチレンコポリマ)な
どのベースポリマと、テルペン樹脂、エステル化ロジン
などの粘着付与剤と、石油系ワックス、塩素化パラフィ
ンなどの粘度調整剤と、フェノール類、アミン類、硫
黄、リン化合物などの酸化防止剤と、炭酸カルシウム、
チタン、タルク、ポリエチレンワックスなどの充填剤な
どとを含有する。The components of the hot melt adhesive include, for example, the above-mentioned EVA, EEA (ethylene / ethyl acrylate copolymer), polyester, and SBS.
(Rubber-based styrene / butadiene / styrene copolymer), tackifiers such as terpene resin and esterified rosin, viscosity modifiers such as petroleum wax and chlorinated paraffin, phenols, amines, and sulfur , Phosphorus compounds and other antioxidants, calcium carbonate,
It contains fillers such as titanium, talc, and polyethylene wax.
【0038】上記の紫外線硬化型接着剤は、紫外線照射
による固化により接着性付与を行うので、加熱冷却処理
が不要となり、高速ラミネートが可能である。例えば、
ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エ
ポキシアクリレートなどのラジカル重合、カチオン重
合、アニオン重合系のいずれも使用可能である。基板フ
ィルム面への接着剤は、特にカチオン重合系のように酸
発生による電子部品への悪影響があるものは好ましくは
ないが、この場合、悪影響を与えないように保護層を形
成して、利用することができる。Since the above-mentioned ultraviolet-curable adhesive imparts adhesiveness by solidification by irradiation with ultraviolet light, heating and cooling are not required, and high-speed lamination is possible. For example,
Any of radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization of polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate and the like can be used. Adhesives to the substrate film surface, especially those having an adverse effect on electronic components due to the generation of acid, such as a cationic polymerization system, are not preferred, but in this case, a protective layer is formed so as not to have an adverse effect and used. can do.
【0039】上記の接着剤5を各フィルム面に塗布など
によりコーティングし、各フィルムを積層させる。コー
ティング面は、接着面のいずれの面に行ってもよいが、
ICチップをマウントした後の基板フィルム面はICチ
ップなどの電子部品による凹凸のために接触コーティン
グが困難であり、保護フィルムとICチップ部との接着
確保および充填効果を考慮して、基板フィルム/コアフ
ィルム間はコアフィルム面側に、コアフィルム/保護フ
ィルム間は保護フィルム面側に、それぞれ接着剤をコー
ティングすることが好ましい。The adhesive 5 is coated on each film surface by coating or the like, and each film is laminated. The coating surface may be performed on any surface of the adhesive surface,
Since the surface of the substrate film after mounting the IC chip is difficult to contact coat due to unevenness due to electronic components such as the IC chip, the substrate film / It is preferable to coat an adhesive between the core films on the side of the core film and between the core film and the protective film on the side of the protective film.
【0040】上記の接着剤5のコーティングにおいて
は、被コーティング面に面状にコーティングすることが
好ましい。アプリケータとしては、ダイコーティング方
式、リボンコーティング方式、グラビア印刷方式、ロー
タリスクリーン方式などのどれでも用いることができ
る。In the coating of the adhesive 5, the surface to be coated is preferably coated in a planar manner. As the applicator, any of a die coating method, a ribbon coating method, a gravure printing method, a rotary screen method, and the like can be used.
【0041】ホットメルト型接着剤を用いる場合には、
常温でブロック、フレーク、あるいはペレット状などの
固体のホットメルト型接着剤を軟化点以上に熱溶融し、
アプリケータでフィルムにコーティングする。紫外線硬
化型接着剤を用いる場合には、常温でも固化していない
ので、そのままコーティングすることができる。When using a hot melt type adhesive,
At room temperature, block, flake, or solid hot-melt adhesive such as pellets is hot-melted above the softening point,
Coat the film with an applicator. When an ultraviolet-curable adhesive is used, it can be coated as it is because it does not solidify even at room temperature.
【0042】次に、図2(b)に示すように、上記の接
着剤がコートされた基板フィルム41、コアフィルム4
2、保護フィルム43の積層工程(仮ラミネート工程)
においては、例えば2本のゴムロール(場合によっては
ヒートロール、微加熱ロールなど)で挟み込み、ロール
の間隔およびゴム強度を適宜調節、設定して積層させ、
接着面中に空気が残存しないように、空気を押し出すよ
うにして積層させる。接着剤のコーティング量を調節し
て、ICチップ用孔内壁面とICチップを封止する封止
樹脂表面との間の空隙部を埋め込むようにしてもよい。
このとき、位置精度確保のためのホールを利用して位置
合わせをすることもできる。積層は、3枚のフィルムを
一回で積層させてもよく、2回に分けて積層させてもよ
い。例えば、ICチップ周辺の空隙部を十分に接着剤で
埋め込むために、最初にコアフィルムと基板フィルムの
積層を行い、次に、積層したコアフィルム面側からIC
チップ周辺の空隙部に接着剤などを充填し、その上層に
保護フィルムを積層させるようにしてもよい。また、保
護フィルムをコアフィルムを最初に積層させ、ICチッ
プ周辺の空隙部に接着剤などを充填し、基板フィルムを
積層させてもよい。2層の接着剤層の厚みは、基板フィ
ルムのコイルの凹凸を埋め込む程度の厚みが好ましく、
また、2層の接着剤層厚は同程度であるほうが、反りに
対する影響が小さくなって好ましい。Next, as shown in FIG. 2B, the substrate film 41 and the core film 4 coated with the above-mentioned adhesive are formed.
2. Lamination process of protective film 43 (temporary lamination process)
In, for example, sandwiched between two rubber rolls (in some cases, a heat roll, a slightly heated roll, and the like), the gap between the rolls and the rubber strength are appropriately adjusted, set, and laminated.
Lamination is performed by extruding air so that no air remains in the bonding surface. The gap between the inner wall surface of the hole for the IC chip and the surface of the sealing resin for sealing the IC chip may be buried by adjusting the coating amount of the adhesive.
At this time, alignment can be performed using a hole for ensuring positional accuracy. The lamination may be performed by laminating three films at one time or by laminating two films. For example, in order to sufficiently fill the gap around the IC chip with an adhesive, first, a core film and a substrate film are laminated, and then the IC film is laminated from the laminated core film side.
The adhesive around the chip may be filled with an adhesive or the like, and a protective film may be laminated thereon. Alternatively, the core film may be first laminated with the protective film, the adhesive around the IC chip may be filled with an adhesive or the like, and the substrate film may be laminated. The thickness of the two adhesive layers is preferably such that the irregularities of the coil of the substrate film are embedded.
Further, it is preferable that the two adhesive layers have the same thickness because the influence on the warpage is reduced.
【0043】ホットメルト型接着剤を用いる場合には、
塗布後、急速に固化するため、塗布後に速やかにコール
ドラミネートするのが好ましいが、固化を遅らせるため
に外気循環温度を調整してもよいし、コールドラミネー
ト工程の前の積層工程(仮ラミネート工程)において熱
調節機構を設けるなどにより温度調節を行ってもよい。When using a hot melt type adhesive,
It is preferable to perform cold lamination immediately after the application to rapidly solidify after the application. However, the outside air circulation temperature may be adjusted to delay the solidification, or a laminating step (temporary laminating step) before the cold laminating step. In, the temperature may be adjusted by providing a heat adjusting mechanism.
【0044】次に、図2(b)に示すように、上記の基
板フィルム41、コアフィルム42、保護フィルム43
の積層体をプレス板10などのプレス具により加圧し、
低温下でラミネート(コールドラミネート)加工する。
コールドラミネート加工前の接着剤には流動性があり、
加圧下、かつ低温下で接着剤を固化させ、圧着開放を行
う。コールドラミネートを行うことによりラミネートの
生産効率は高くなり、表面性に優れ、かつラミネート時
に熱負荷を必要としないカード製造が可能となる。ま
た、従来のヒートラミネート工程のような冷却工程は不
要となるので、生産効率が高い。Next, as shown in FIG. 2B, the substrate film 41, the core film 42, and the protective film 43 are formed.
Is pressed by a press tool such as a press plate 10,
Laminating (cold laminating) processing at low temperature.
The adhesive before cold laminating has fluidity,
The adhesive is solidified under pressure and at a low temperature, and the pressure is released. By performing cold lamination, the production efficiency of the laminate is increased, and the production of a card that is excellent in surface properties and does not require a heat load during lamination can be performed. Further, since a cooling step such as a conventional heat laminating step is not required, production efficiency is high.
【0045】上記の加圧下、かつ低温下でのラミネート
(コールドラミネート)工程においては、加える圧力
は、電子部品に悪影響がなく、また、外観・表面性・カ
ードの厚みなどから適宜設定することができる。低温下
でのラミネートは、ラミネート後に圧着開放して、基材
の熱伸縮などによる反り、表面性の低下のない温度と
し、圧力を加えるためのローラーあるいはプレス板など
のプレス具の温度としては50℃以下が好ましく、さら
に好ましくは常温以下であり、例えば水冷金属板などを
用いることができる。カード表面の平滑性を付与するた
め、ラミネートはプレス板による挟持、あるいは大径の
ローラーによる挟持がよいが、設備スペースの都合上、
プレス板による挟持が好ましい。ロールシート状のフィ
ルムを用い、プレス板挟持によってコールドラミネート
を行う場合には、上記の仮ラミネート(積層)工程とコ
ールドラミネート工程の間にタイミングを調節するため
のスペーサ機構を設けることができる。In the laminating (cold laminating) step under the above-mentioned pressure and low temperature, the applied pressure has no adverse effect on the electronic parts, and can be appropriately set in accordance with the appearance, surface properties, card thickness and the like. it can. Lamination at a low temperature is performed by pressing and releasing after laminating to a temperature at which the substrate does not warp due to thermal expansion or contraction or the like and does not have a reduced surface property. The temperature of a pressing tool such as a roller or a press plate for applying pressure is 50. C. or lower, more preferably room temperature or lower. For example, a water-cooled metal plate can be used. In order to impart smoothness to the card surface, the laminate is preferably sandwiched by a press plate or sandwiched by a large-diameter roller.
Pinching by a press plate is preferred. When cold lamination is performed by sandwiching a press plate using a roll sheet film, a spacer mechanism for adjusting timing between the temporary lamination (lamination) step and the cold lamination step can be provided.
【0046】紫外線硬化型接着剤を用いる場合には、コ
ールドラミネート工程においては表面平滑性を付与する
ために紫外線を透過するフィルムあるいは板(ガラス
板)などで基板フィルム、コアフィルム、保護フィルム
の積層体を加圧し、紫外線を照射して紫外線硬化型接着
剤を固化させる。このとき、硬化により反りが生じない
ように、積層体の両面から加圧狭持し、両面から均等に
紫外線を照射することが好ましい。また、紫外線が照射
されない(到達しない)部分においても硬化可能とする
ために、二次硬化型(紫外線照射および加熱硬化、湿気
硬化など)の材料を利用するか、またはカチオン重合系
などのように、非紫外線照射部分をも硬化する硬化メカ
ニズムを利用してもよい。When an ultraviolet-curable adhesive is used, in the cold laminating step, a substrate film, a core film, and a protective film are laminated with a film or a plate (glass plate) that transmits ultraviolet light in order to impart surface smoothness. The body is pressurized and irradiated with ultraviolet light to solidify the ultraviolet curable adhesive. At this time, it is preferable to press and hold the laminate from both sides and uniformly irradiate ultraviolet rays from both sides so that warpage does not occur due to curing. In addition, in order to make it possible to cure even in a part where ultraviolet rays are not irradiated (not reached), a material of a secondary curing type (ultraviolet irradiation and heat curing, moisture curing, etc.) is used, or a material such as a cationic polymerization system is used. Alternatively, a curing mechanism that cures the non-ultraviolet irradiated portion may be used.
【0047】上記の紫外線硬化型接着剤を用いる場合に
は、紫外線照射による硬化が可能となるように、フィル
ム材質や、紫外線反応開始剤を適宜選択することができ
る。例えば、紫外線照射による紫外線硬化反応を阻害し
ないように、基板フィルム、コアフィルム、保護フィル
ムの各フィルムの一部あるいは全部に紫外線透過性を有
する材料を用いる。例えば、保護フィルムに紫外線透過
性の材料を用いることで、コアフィルムと積層させた保
護フィルムの上面から紫外線を照射し、硬化させること
ができる。また、3枚のフィルムに紫外線透過性の材料
を用いることで、一方向からの紫外線照射による硬化が
可能となり、3枚のフィルムを一体に積層させた後に紫
外線照射によりコールドラミネートすることが可能とな
る。紫外線硬化型接着剤を用いない場合には、これらの
フィルムとして白、透明など、任意のフィルムを用いる
ことができる。また、長波長光で硬化する接着剤を用い
た場合には、非透明材料を用いることができる。When the above-mentioned ultraviolet-curable adhesive is used, the material of the film and the ultraviolet-ray reaction initiator can be appropriately selected so as to enable curing by irradiation with ultraviolet light. For example, a material having ultraviolet transmittance is used for part or all of each of the substrate film, the core film, and the protective film so as not to hinder the ultraviolet curing reaction caused by the ultraviolet irradiation. For example, by using an ultraviolet-permeable material for the protective film, the protective film laminated with the core film can be irradiated with ultraviolet light from the upper surface and cured. In addition, by using an ultraviolet-permeable material for the three films, curing by ultraviolet irradiation from one direction becomes possible, and it is possible to cold-laminate by ultraviolet irradiation after integrally laminating the three films. Become. When an ultraviolet-curable adhesive is not used, any of these films such as white and transparent films can be used. When an adhesive that cures with long-wavelength light is used, a non-transparent material can be used.
【0048】ラミネート工程の後工程としては、ロール
シート状のフィルムを用いる場合には、パルスセンサ、
あるいはマーキングセンサなどを用いてシートカットす
る工程を有する。この場合、パルスは基材両端のホール
を利用することができる。マークとしてはフィルム上の
印刷や、紫外線硬化型接着剤を用いる場合に透明基材を
用いる場合にはコイル形成死に位置合わせ用に形成した
パターンを利用することができる。シートカットした後
は、打ち抜きなどによりカードサイズに成形する。In the subsequent step of the laminating step, when a roll sheet-like film is used, a pulse sensor,
Alternatively, there is a step of cutting the sheet using a marking sensor or the like. In this case, the pulse can use holes at both ends of the substrate. As the mark, a pattern formed for printing on a film or a position formed when a transparent base material is used when an ultraviolet curable adhesive is used and a coil is formed can be used. After the sheet is cut, it is formed into a card size by punching or the like.
【0049】カードの印刷は、ラミネート前後のどちら
でもよいが、紫外線硬化型接着剤を用いる場合には、紫
外線を透過するような透明基材を用い、内蔵電子部品を
隠蔽するようにラミネート後に印刷するようにしてもよ
い。また、基板フィルムと保護フィルムに予め印刷を施
した後にラミネートする方が、ラミネート後に印刷する
よりも印刷不良による高価なICチップを無駄にするこ
とが少なくなり、製造コストが削減可能となるので好ま
しい。The card may be printed before or after lamination, but when using an ultraviolet-curable adhesive, a transparent base material that transmits ultraviolet light is used and printed after lamination to cover the built-in electronic components. You may make it. In addition, laminating the substrate film and the protective film after printing them in advance is more preferable than printing after laminating, because less expensive IC chips due to poor printing are wasted and manufacturing costs can be reduced. .
【0050】紫外線硬化型接着剤を用いる場合には、紫
外線透過性を阻害しないように印刷は通常ラミネート後
に行う。各フィルム全てが透明材料とする場合には、両
表面に全面に白あるいはアルミペースト印刷および白積
層の印刷後、プロセス印刷を行う。When an ultraviolet-curable adhesive is used, printing is usually performed after lamination so as not to impair the ultraviolet transmittance. When all the films are made of a transparent material, process printing is performed after printing white or aluminum paste printing and white lamination on the entire surface on both surfaces.
【0051】ICカードとしては、非接触型のほか、接
触型ICモジュールも搭載したハイブリッドタイプとす
ることもできる。また、磁気ストライプなどを設けて情
報を記録する、昇華転写印刷などにより顔写真を印刷す
る、ホログラム、エンボスなどの各機能を付与すること
ができる。The IC card may be a non-contact type or a hybrid type in which a contact type IC module is mounted. In addition, functions such as recording information by providing a magnetic stripe or the like, printing a face photograph by sublimation transfer printing or the like, hologram, embossing, and the like can be provided.
【0052】上記の本実施形態の非接触型ICカードの
製造方法によれば、カードの反りやカード表面の凹凸の
発生を抑制してカードの美観を向上することができ、ま
た、非接触型ICモジュールを成形する煩雑な工程や、
時間がかかる熱プレス工程を必要としないので、効率的
に生産が可能であり、製造コストを削減して非接触型I
Cカードを製造することができる。According to the method of manufacturing a non-contact type IC card of the present embodiment, the appearance of the card can be improved by suppressing the warpage of the card and the occurrence of unevenness on the surface of the card. Complicated processes for molding IC modules,
Since a time-consuming hot press step is not required, efficient production is possible, and the production cost is reduced and the non-contact type I
C cards can be manufactured.
【0053】第1実施例 図3は、基板フィルムの表面上にICチップとコイルを
固定する工程以降、シート状積層体をシートカットする
工程までを連続的に行う装置を示す。基板フィルム4
1、コアフィルム42、保護フィルム43は、それぞれ
ロールシート状のフィルムである。まず、工程Aにおい
て、基板フィルム41上にエッチングなどによりコイル
を形成する。コイルの端部にはバンプを形成する。次
に、工程BにおいてICチップを基板フィルム41上の
コイルと接合するように、例えば熱プレスにより圧着し
て固定する。次に、工程Cにおいて、封止樹脂をICチ
ップを被覆するように塗布し、ICチップを封止する。 First Embodiment FIG. 3 shows an apparatus for continuously performing the steps from the step of fixing an IC chip and a coil on the surface of a substrate film to the step of sheet cutting a sheet-like laminate. Substrate film 4
1, the core film 42 and the protective film 43 are each a roll sheet film. First, in step A, a coil is formed on the substrate film 41 by etching or the like. A bump is formed at the end of the coil. Next, in step B, the IC chip is pressed and fixed by, for example, a hot press so as to be bonded to the coil on the substrate film 41. Next, in step C, a sealing resin is applied so as to cover the IC chip, and the IC chip is sealed.
【0054】次に、工程Dにおいて、コアフィルム42
にICチップ部を収納するようにパンチ孔を形成する。
次に、工程Eにおいて、コアフィルム42の基板フィル
ム41との接着面と、保護フィルム43のコアフィルム
42との接着面に、ホットメルト型接着剤、あるいは紫
外線硬化型接着剤などにより接着剤5をコーティングす
る。次に、工程Fにおいて、基板フォルム41、コアフ
ィルム42、保護フィルム43の3フィルムをゴムロー
ルなどで空気が入らないように積層(仮ラミネート)す
る。Next, in step D, the core film 42
A punch hole is formed to accommodate the IC chip portion.
Next, in step E, the adhesive 5 is bonded to the adhesive surface of the core film 42 with the substrate film 41 and the adhesive surface of the protective film 43 with the core film 42 using a hot-melt adhesive or an ultraviolet-curing adhesive. Coating. Next, in step F, the three films of the substrate form 41, the core film 42, and the protective film 43 are laminated (temporarily laminated) using a rubber roll or the like so that air does not enter.
【0055】次に、スペーサ機構を経由して、工程Gに
おいて、プレス板10を用い、加圧化、かつ低温化にて
ラミネート(コールドラミネート)を行う。次に、圧着
開放後、工程Hにおいて、シートカットを行い、絵柄印
刷などの工程の後、カードサイズ打ち抜き、カードを作
成する。Next, lamination (cold lamination) is performed by using the press plate 10 in the process G via the spacer mechanism by applying pressure and reducing the temperature. Next, after the press-bonding is released, in a step H, the sheet is cut, and after a process such as a pattern printing, a card size punching is performed to create a card.
【0056】上記の本実施例の装置によれば、基板フィ
ルムの表面上にICチップとコイルを固定する工程以
降、シート状積層体をシートカットする工程までを連続
的に行うことにより、より効率的に非接触型ICカード
を生産することができる。According to the above-described apparatus of the present embodiment, the steps from the step of fixing the IC chip and the coil on the surface of the substrate film to the step of cutting the sheet-like laminate are continuously performed, thereby increasing the efficiency. A non-contact type IC card can be produced effectively.
【0057】第2実施例 試料1(本発明)の作成 厚み75μm、600mm幅の白色PETである基板フ
ィルム上に、エッチングによりアルミニウムコイルを形
成し、端部にニッケルスタッドバンプ(30μm厚)を
形成し、ICチップ(2mm角、180μm厚、30μ
m厚のニッケルメッキバンプ付き)を基板フィルム上の
コイルと接合するように熱プレスにより圧着した。 Second Example Preparation of Sample 1 (Invention) An aluminum coil was formed by etching on a substrate film of white PET having a thickness of 75 μm and a width of 600 mm, and nickel stud bumps (30 μm thick) were formed at the ends. And an IC chip (2 mm square, 180 μm thickness, 30 μm
(with a nickel-plated bump having a thickness of m) was pressed by a hot press so as to be joined to the coil on the substrate film.
【0058】次に、紫外線硬化型封止樹脂(ワールドロ
ックA−310、協立化学産業製)をポッティングにて
ICチップを被覆するように塗布し、紫外線照射により
250μm厚(基板フィルム上からの厚み)で形成し
た。Next, an ultraviolet-curing sealing resin (World Lock A-310, manufactured by Kyoritsu Chemical Sangyo) is applied by potting so as to cover the IC chip, and is irradiated with ultraviolet light to a thickness of 250 μm (from the top of the substrate film). Thickness).
【0059】次に、コアフィルム(白色PET、東レE
−22、250μm厚、600mm幅)にICチップ部
を収納するようにパンチ孔を形成した後、基板フィルム
との接着面にホットメルト型接着剤(アロンメルトPP
ET2110、東亞合成)を溶融温度160℃にて溶融
した後、ダイコーティング方式にて80μm厚にコーテ
ィングした。Next, a core film (white PET, Toray E
-22, 250 μm thick, 600 mm width) After forming a punch hole to accommodate the IC chip portion, a hot-melt type adhesive (Aronmelt PP) is applied to the bonding surface with the substrate film.
(ET2110, Toagosei) was melted at a melting temperature of 160 ° C., and then coated to a thickness of 80 μm by a die coating method.
【0060】次に、保護フィルム(白色PET、東レE
−22、75μm厚、600mm幅)のコアフィルムと
の接着面に上記と同様に、接着剤をコーティングした。Next, a protective film (white PET, Toray E
An adhesive was coated on the bonding surface with the core film (−22, 75 μm thick, 600 mm width) in the same manner as described above.
【0061】次に、基板フォルム、コアフィルム、保護
フィルムの3フィルムを80℃のゴムロールで空気が入
らないように積層(仮ラミネート)した。Next, three films of a substrate form, a core film, and a protective film were laminated (temporary lamination) using a rubber roll at 80 ° C. so that air did not enter.
【0062】次に、スペーサ機構を経由して、水冷した
金属板(600×1000×300mm3 )にて、積層
体を5kgf/cm2 圧で5秒間狭持しながら、接着剤
を固化(コールドラミネート)し、圧着開放後、シート
カット、絵柄印刷、カードサイズ打ち抜きにより500
μm厚のカードを作成した。Next, the adhesive was solidified (cold) by a water-cooled metal plate (600 × 1000 × 300 mm 3 ) while holding the laminate at a pressure of 5 kgf / cm 2 for 5 seconds via a spacer mechanism. Laminate), press-bond open, then sheet cut, pattern print, card size punching 500
A μm thick card was made.
【0063】試料2(本発明)の作成 厚み75μm、600mm幅の透明PETである基板フ
ィルム上に、エッチングによりアルミニウムコイルを形
成し、端部にニッケルスタッドバンプ(30μm厚)を
形成し、ICチップ(2mm角、180μm厚、30μ
m厚のニッケルメッキバンプ付き)を基板フィルム上の
コイルと接合するように熱プレスにより圧着した。Preparation of Sample 2 (Invention) An aluminum coil was formed by etching on a substrate film made of transparent PET having a thickness of 75 μm and a width of 600 mm, and nickel stud bumps (30 μm thickness) were formed at the end portions. (2mm square, 180μm thickness, 30μ
(with a nickel-plated bump having a thickness of m) was pressed by a hot press so as to be joined to the coil on the substrate film.
【0064】次に、紫外線硬化型封止樹脂(ワールドロ
ックA−310、協立化学産業製)をポッティングにて
ICチップを被覆するように塗布し、紫外線照射により
250μm厚(基板フィルム上からの厚み)で形成し
た。Next, an ultraviolet-curing sealing resin (World Lock A-310, manufactured by Kyoritsu Chemical Sangyo) is applied by potting so as to cover the IC chip, and is irradiated with ultraviolet light to a thickness of 250 μm (from the top of the substrate film). Thickness).
【0065】次に、コアフィルム(白色PET、東レE
−22、250μm厚、600mm幅)にICチップ部
を収納するようにパンチ孔を形成した後、基板フィルム
との接着面に紫外線硬化型接着剤(TB3080、スリ
ーボンド)をグラビア印刷方式にて80μm厚にコーテ
ィングした。Next, a core film (white PET, Toray E
After forming a punch hole to accommodate the IC chip portion at −22, 250 μm thickness, 600 mm width), a UV curable adhesive (TB3080, Three Bond) is 80 μm thick by a gravure printing method on the bonding surface with the substrate film. Coated.
【0066】次に、保護フィルム(透明PET、75μ
m厚、600mm幅)のコアフィルムとの接着面に上記
と同様に、接着剤をコーティングした。Next, a protective film (transparent PET, 75 μm)
An adhesive was coated on the bonding surface with the core film having a thickness of m and a width of 600 mm) in the same manner as described above.
【0067】次に、基板フォルム、コアフィルム、保護
フィルムの3フィルムを常温ゴムロールで空気が入らな
いように積層(仮ラミネート)した。Next, three films of a substrate form, a core film, and a protective film were laminated (temporary lamination) using a room-temperature rubber roll so that air did not enter.
【0068】次に、スペーサ機構を経由して、ガラス板
(600×330×300mm3 )にて、積層体を5k
gf/cm2 圧で5秒間狭持しながら、上下方向より2
40mW/CMメタルハライド紫外線照射で接着剤を固
化(コールドラミネート)し、圧着開放後、さらに10
秒間紫外線照射により硬化させ、シートカット、絵柄印
刷、カードサイズ打ち抜きにより500μm厚のカード
を作成した。Next, through a spacer mechanism, the laminated body is laid on a glass plate (600 × 330 × 300 mm 3 ) for 5 k.
While holding the gf / cm 2 pressure for 5 seconds,
40mW / CM metal halide The adhesive is solidified (cold lamination) by UV irradiation, and after pressure release, an additional 10
The resin was cured by irradiating ultraviolet rays for 2 seconds, and a card having a thickness of 500 μm was prepared by sheet cutting, pattern printing, and card size punching.
【0069】試料3(比較例)の作成 試料2の作成において、基板フォルム、コアフィルム、
保護フィルムの3フィルムを常温ゴムロールで空気が入
らないように積層(仮ラミネート)の後、プレス狭持し
ないで紫外線照射を行い、接着剤を固化した。他の工程
は試料2と同様である。Preparation of Sample 3 (Comparative Example) In the preparation of Sample 2, the substrate form, core film,
After laminating the three protective films with a room-temperature rubber roll so that air did not enter (temporary lamination), the adhesive was solidified by irradiating ultraviolet rays without holding the press. Other steps are the same as those of the sample 2.
【0070】評価結果 試料1(本発明)および試料2(本発明)は、ともに、
非接触型ICカードとしての機能は良好に働いた。カー
ドの表面性は基板フィルム側、保護フィルム側、ともに
同様に平滑であり、外観良好であった。接着強度は、試
料1は6kgf/25mm、試料2は3kgf/25m
mであり、実用上基材の剥がれはなく、良好であった。 Evaluation Results Sample 1 (the present invention) and Sample 2 (the present invention)
The function as a non-contact type IC card worked well. The surface properties of the card were smooth on both the substrate film side and the protective film side, and the appearance was good. The adhesive strength was 6 kgf / 25 mm for sample 1 and 3 kgf / 25 m for sample 2.
m, which was good without practically peeling of the substrate.
【0071】試料3(比較例)は、接着剤の固化時に加
圧されていないため、ICチップ周辺の表面に凹凸があ
り、表面性が悪く、外観不良であった。Since Sample 3 (Comparative Example) was not pressed during the solidification of the adhesive, it had irregularities on the surface around the IC chip, poor surface properties, and poor appearance.
【0072】上記のように、本実施例の非接触型ICカ
ードの製造方法により、カードの表面性は基板フィルム
側、保護フィルム側、ともに同様に平滑であり、外観良
好であり、接着強度は、十分に強くて実用上基材の剥が
れはなく、良好である非接触型ICカードを製造するこ
とができた。As described above, according to the method for manufacturing a non-contact type IC card of this embodiment, the surface properties of the card are the same on both the substrate film side and the protective film side, the appearance is good, and the adhesive strength is good. A good non-contact type IC card could be manufactured which was sufficiently strong and practically did not peel off the base material.
【0073】本発明は上記の実施形態に限定されない。
例えば、実施形態においては非接触方式のICカードに
ついて説明しているが、接触方式のICモジュールをさ
らに有するハイブリッド方式のICカードとすることも
できる。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
の変更を行うことができる。The present invention is not limited to the above embodiment.
For example, although a non-contact IC card is described in the embodiment, a hybrid IC card further including a contact IC module may be used. In addition, various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
【0074】[0074]
【発明の効果】本発明の非接触型ICカードの製造方法
によれば、カードの反りやカード表面の凹凸の発生を抑
制してカードの美観を向上し、効率的に生産が可能で製
造コストを削減して非接触型ICカードを製造すること
ができる。According to the method for manufacturing a non-contact type IC card of the present invention, the appearance of the card can be improved by suppressing the warpage of the card and the occurrence of irregularities on the surface of the card, and the card can be efficiently produced and the production cost can be reduced. And a non-contact type IC card can be manufactured.
【0075】また、本発明の非接触型ICカードによれ
ば、カードの反りやカード表面の凹凸の発生を抑制して
カードの美観を向上し、効率的に生産が可能で製造コス
トを削減した非接触型ICカードを提供することができ
る。Further, according to the non-contact type IC card of the present invention, the appearance of the card can be improved by suppressing the warpage of the card and the unevenness of the card surface, the production can be performed efficiently, and the production cost can be reduced. A non-contact type IC card can be provided.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】図1はそれぞれ本発明の実施形態にかかる非接
触型ICカードの(a)は平面図であり、(b)および
(c)は断面図である。FIGS. 1A and 1B are plan views and FIGS. 1B and 1C are cross-sectional views of a non-contact type IC card according to an embodiment of the present invention.
【図2】図2はそれぞれ本発明の実施形態にかかる非接
触型ICカードの製造方法を示す斜視図であり、(a)
は各フィルムの形成工程まで、(b)はコールドラミネ
ート工程まで、(c)ラミネート後をそれぞれ示す。FIGS. 2A and 2B are perspective views showing a method of manufacturing a non-contact type IC card according to an embodiment of the present invention, and FIG.
Shows up to the step of forming each film, (b) shows up to the cold laminating step, and (c) shows the state after lamination.
【図3】図3は基板フィルムの表面上にICチップとコ
イルを固定する工程以降、シート状積層体をシートカッ
トする工程までを連続的に行う装置を説明する斜視図で
ある。FIG. 3 is a perspective view for explaining an apparatus for continuously performing a process from a step of fixing an IC chip and a coil on a surface of a substrate film to a step of sheet-cutting a sheet-like laminate.
1…ICチップ、1a…バンプ、2…コイル、3…封止
樹脂、4…カード基板、41…基板フィルム、42…コ
アフィルム、42a…ICチップ用孔、43…保護フィ
ルム、5…接着剤層、10…プレス板。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... IC chip, 1a ... Bump, 2 ... Coil, 3 ... Sealing resin, 4 ... Card board, 41 ... Board film, 42 ... Core film, 42a ... IC chip hole, 43 ... Protective film, 5 ... Adhesive Layer, 10 ... Press plate.
Claims (11)
ルを固定する工程と、 コアフィルムにICチップ用孔を形成する工程と、 前記ICチップ用孔に前記ICチップを収納するように
前記コアフィルムの一方の表面に接着剤を介して前記基
板フィルムを積層させ、前記コアフィルムの他方の表面
に接着剤を介して保護フィルムを積層させ、前記基板フ
ィルム、前記コアフィルムおよび前記保護フィルムの積
層体を形成する工程と、 前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする工程と を有する非接触型ICカードの製造方法。A step of fixing an IC chip and a coil on a surface of a substrate film; a step of forming an IC chip hole in a core film; and a step of accommodating the IC chip in the IC chip hole. Laminating the substrate film via an adhesive on one surface of the film, laminating a protective film via an adhesive on the other surface of the core film, laminating the substrate film, the core film and the protective film A method of manufacturing a non-contact type IC card, comprising: forming a body; and laminating the laminate under pressure and at a low temperature.
トする工程において、温度が少なくとも50℃以下のプ
レス具で前記積層体を挟み、加圧する請求項1記載の非
接触型ICカードの製造方法。2. The method of manufacturing a non-contact type IC card according to claim 1, wherein in the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature, the laminate is sandwiched and pressed by a press having a temperature of at least 50 ° C. or less. Method.
り、 前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする工程
が、前記ホットメルト型接着剤の冷却により固化させる
工程である請求項1または2のいずれかに記載の非接触
型ICカードの製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the adhesive is a hot melt adhesive, and the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature is a step of solidifying the hot melt adhesive by cooling. 3. The method for manufacturing a non-contact type IC card according to any one of 2.
が、前記紫外線硬化型接着剤への紫外線照射により固化
させる工程である請求項1または2のいずれかに記載の
非接触型ICカードの製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the adhesive is an ultraviolet-curable adhesive, and the step of laminating the laminate under pressure and at a low temperature is a step of solidifying the laminated body by irradiating the ultraviolet-curable adhesive with ultraviolet light. 3. The method for manufacturing a non-contact type IC card according to any one of 1 and 2.
ィルムの一方の表面と前記基板フィルムの接着面の少な
くともいずれか一方の面に前記接着剤を塗布する工程
と、前記コアフィルムの他方の表面と前記保護フィルム
の接着面の少なくともいずれか一方の面に前記接着剤を
塗布する工程と、前記基板フィルム、前記コアフィルム
および前記保護フィルムを積層させる工程とを含む請求
項1〜4のいずれかに記載の非接触型ICカードの製造
方法。5. The step of forming the laminate includes the step of applying the adhesive to at least one of the one surface of the core film and the adhesive surface of the substrate film, and the other of the core film. The step of applying the adhesive to at least one of the surface of the protective film and the adhesive surface of the protective film, and the step of laminating the substrate film, the core film and the protective film. A method for manufacturing the non-contact type IC card according to any one of the above.
び前記保護フィルムが、ぞれぞれロールシート状のフィ
ルムであり、 前記積層体を形成する工程が、前記基板フィルム、前記
コアフィルムおよび前記保護フィルムのシート状積層体
を形成する工程であり、 前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートする工程
が、前記シート状積層体を加圧下かつ低温下でラミネー
トする工程であり、 前記シート状積層体を加圧下かつ低温下でラミネートす
る工程する工程の後、前記シート状積層体をシートカッ
トする工程をさらに有し、 前記基板フィルムの表面上にICチップとコイルを固定
する工程以降、前記シート状積層体をシートカットする
工程までを連続的に行う請求項5記載の非接触型ICカ
ードの製造方法。6. The substrate film, the core film, and the protective film, wherein the substrate film, the core film, and the protective film are each a roll sheet film, and the step of forming the laminate includes the substrate film, the core film, and the protective film. A step of forming the sheet-like laminate of the above, wherein the step of laminating the laminate under pressure and at low temperature is a step of laminating the sheet-like laminate under pressure and low temperature, After the step of laminating under pressure and at a low temperature, further comprising a step of sheet-cutting the sheet-like laminate, and after the step of fixing an IC chip and a coil on the surface of the substrate film, The method for producing a non-contact type IC card according to claim 5, wherein the steps up to the step of sheet-cutting the laminate are continuously performed.
一方の表面に、表面上にICチップとコイルを固定した
基板フィルムを、前記ICチップ用孔に前記ICチップ
を収納するように、接着剤を介して積層させ、さらに前
記コアフィルムの他方の表面に保護フィルムを接着剤を
介して積層させて形成した積層体を、加圧下かつ低温下
でラミネートして形成した非接触型ICカード。7. A substrate film on which an IC chip and a coil are fixed on one surface of a core film having an IC chip hole formed thereon is bonded so that the IC chip is housed in the IC chip hole. A non-contact type IC card formed by laminating a laminate formed by laminating a protective film on the other surface of the core film via an adhesive, and laminating the laminate under pressure and low temperature.
トするときに、温度が少なくとも50℃以下のプレス具
で前記積層体を挟み、加圧してラミネートして形成した
請求項7記載の非接触型ICカード。8. The non-woven fabric according to claim 7, wherein when the laminate is laminated under pressure and at a low temperature, the laminate is sandwiched by a press tool having a temperature of at least 50 ° C. and laminated by pressurization. Contact type IC card.
り、 前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートするとき
に、前記ホットメルト型接着剤の冷却により固化させて
ラミネートして形成した請求項7または8のいずれかに
記載の非接触型ICカード。9. The method according to claim 1, wherein the adhesive is a hot-melt adhesive, and when the laminate is laminated under pressure and low temperature, the laminate is formed by solidifying by cooling the hot-melt adhesive. Item 9. A non-contact type IC card according to any one of Items 7 and 8.
り、 前記積層体を加圧下かつ低温下でラミネートするとき
に、前記紫外線硬化型接着剤への紫外線照射により固化
させてラミネートして形成した請求項7または8のいず
れかに記載の非接触型ICカード。10. The adhesive is an ultraviolet-curable adhesive, and when the laminate is laminated under pressure and at a low temperature, the laminated body is solidified by irradiation with ultraviolet light to the ultraviolet-curable adhesive to form a laminate. The non-contact type IC card according to claim 7.
フィルムの一方の表面と前記基板フィルムの接着面の少
なくともいずれか一方の面に前記接着剤を塗布し、前記
コアフィルムの他方の表面と前記保護フィルムの接着面
の少なくともいずれか一方の面に前記接着剤を塗布し、
前記基板フィルム、前記コアフィルムおよび前記保護フ
ィルムを積層させて形成した請求項7〜10のいずれか
に記載の非接触型ICカード。11. When forming the laminate, the adhesive is applied to at least one of one surface of the core film and the bonding surface of the substrate film, and the other surface of the core film is formed. Apply the adhesive to at least one of the adhesive surfaces of the protective film and
The non-contact type IC card according to any one of claims 7 to 10, wherein the non-contact type IC card is formed by laminating the substrate film, the core film, and the protection film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26009297A JPH1191275A (en) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | Method of manufacturing non-contact type IC card and non-contact type IC card |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP26009297A JPH1191275A (en) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | Method of manufacturing non-contact type IC card and non-contact type IC card |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1191275A true JPH1191275A (en) | 1999-04-06 |
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ID=17343195
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| JP26009297A Pending JPH1191275A (en) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | Method of manufacturing non-contact type IC card and non-contact type IC card |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1191275A (en) |
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990045583A (en) * | 1997-11-26 | 1999-06-25 | 가나이 쓰도무 | Thin electronic circuit components, methods for manufacturing the same, and apparatuses for manufacturing the same |
| WO2001061710A1 (en) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Active energy beam curing type conductive paste, production method and device for conductor circuit substrate and non-contact id and production method thereof |
| JP2001256453A (en) * | 2000-03-09 | 2001-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Non-contact data carrier |
| JP2001262080A (en) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing composite substrate |
| JP2001307054A (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-02 | Toppan Forms Co Ltd | Sealing method of IC chip for non-contact type data transceiver |
| JP2002140671A (en) * | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip mounting method to IC chip bridge type antenna |
| JP2002189999A (en) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Toppan Forms Co Ltd | Manufacturing method of IC media using electron beam |
| JP2002197434A (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip mounting method |
| JP2002203220A (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip sealing agent, IC chip sealing method using the same, and non-contact type IC media manufacturing method |
| JP2002230502A (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-16 | Toppan Forms Co Ltd | IC media using electron beam curable adhesive |
| KR100363657B1 (en) * | 1999-09-10 | 2002-12-12 | 주식회사 쓰리비 시스템 | Ic card and manufacturing method for ic card |
| JP2002544669A (en) * | 1999-05-07 | 2002-12-24 | ギーゼッケ ウント デフリエント ゲーエムベーハー | How to handle thin chips for incorporation into smart cards |
| JP2003520666A (en) * | 2000-01-17 | 2003-07-08 | ラフセック オサケ ユキチュア | Method of manufacturing smart label material web and smart label material web |
| JP2003536149A (en) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ラフセック オサケ ユキチュア | Manufacturing method and manufacturing apparatus for smart label insertion web |
| JP2003536151A (en) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ラフセック オサケ ユキチュア | Smart card web and its manufacturing method |
| JP2006127472A (en) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Toppan Forms Co Ltd | Communication circuit holder |
| WO2006038438A3 (en) * | 2004-09-14 | 2006-06-29 | Oji Paper Co | Reversible thermal recording material, and communication medium having display layer and recording material |
| JP2006330967A (en) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Non-contact IC tag having IC chip destruction prevention structure and non-contact IC tag manufacturing method |
| KR100702940B1 (en) * | 2000-07-28 | 2007-04-03 | 삼성테크윈 주식회사 | Integrated circuit card and its manufacturing method |
| JP2007207266A (en) * | 2007-03-26 | 2007-08-16 | Ricoh Co Ltd | Electronic circuit chip fixing device and image forming apparatus |
| JP2009116670A (en) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Fujitsu Ltd | RFID tag manufacturing method and RFID tag |
| KR20090093606A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-02 | 주식회사 엘지화학 | Radio frequency identification tag and card having the same |
| JP2011134290A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Anica Corp | Flexible card having display function |
| JP2011210243A (en) * | 2010-03-09 | 2011-10-20 | Ricoh Co Ltd | Method and apparatus for producing reversible thermosensitive recording medium, and reversible thermosensitive recording medium |
| JP2019051616A (en) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 凸版印刷株式会社 | Inlet sheet and contactless ic card |
-
1997
- 1997-09-25 JP JP26009297A patent/JPH1191275A/en active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990045583A (en) * | 1997-11-26 | 1999-06-25 | 가나이 쓰도무 | Thin electronic circuit components, methods for manufacturing the same, and apparatuses for manufacturing the same |
| JP2002544669A (en) * | 1999-05-07 | 2002-12-24 | ギーゼッケ ウント デフリエント ゲーエムベーハー | How to handle thin chips for incorporation into smart cards |
| KR100363657B1 (en) * | 1999-09-10 | 2002-12-12 | 주식회사 쓰리비 시스템 | Ic card and manufacturing method for ic card |
| JP2003520666A (en) * | 2000-01-17 | 2003-07-08 | ラフセック オサケ ユキチュア | Method of manufacturing smart label material web and smart label material web |
| WO2001061710A1 (en) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Active energy beam curing type conductive paste, production method and device for conductor circuit substrate and non-contact id and production method thereof |
| US7267926B2 (en) | 2000-02-21 | 2007-09-11 | Toray Engineering Co., Ltd. | Active energy beam curing type conductive paste, production method and device for conductor circuit substrate and non-contact ID and production method thereof |
| JP2001256453A (en) * | 2000-03-09 | 2001-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Non-contact data carrier |
| JP2001262080A (en) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for manufacturing composite substrate |
| JP2001307054A (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-02 | Toppan Forms Co Ltd | Sealing method of IC chip for non-contact type data transceiver |
| JP2003536151A (en) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ラフセック オサケ ユキチュア | Smart card web and its manufacturing method |
| JP2003536149A (en) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ラフセック オサケ ユキチュア | Manufacturing method and manufacturing apparatus for smart label insertion web |
| KR100702940B1 (en) * | 2000-07-28 | 2007-04-03 | 삼성테크윈 주식회사 | Integrated circuit card and its manufacturing method |
| JP2002140671A (en) * | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip mounting method to IC chip bridge type antenna |
| JP2002189999A (en) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Toppan Forms Co Ltd | Manufacturing method of IC media using electron beam |
| JP2002197434A (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip mounting method |
| JP2002203220A (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Toppan Forms Co Ltd | IC chip sealing agent, IC chip sealing method using the same, and non-contact type IC media manufacturing method |
| JP2002230502A (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-16 | Toppan Forms Co Ltd | IC media using electron beam curable adhesive |
| WO2006038438A3 (en) * | 2004-09-14 | 2006-06-29 | Oji Paper Co | Reversible thermal recording material, and communication medium having display layer and recording material |
| JP2006127472A (en) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Toppan Forms Co Ltd | Communication circuit holder |
| JP2006330967A (en) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Non-contact IC tag having IC chip destruction prevention structure and non-contact IC tag manufacturing method |
| JP2007207266A (en) * | 2007-03-26 | 2007-08-16 | Ricoh Co Ltd | Electronic circuit chip fixing device and image forming apparatus |
| JP2009116670A (en) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Fujitsu Ltd | RFID tag manufacturing method and RFID tag |
| KR20090093606A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-02 | 주식회사 엘지화학 | Radio frequency identification tag and card having the same |
| JP2011134290A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Anica Corp | Flexible card having display function |
| US8276823B2 (en) | 2009-12-22 | 2012-10-02 | AniCa Corporation | Flexible card with display function |
| JP2011210243A (en) * | 2010-03-09 | 2011-10-20 | Ricoh Co Ltd | Method and apparatus for producing reversible thermosensitive recording medium, and reversible thermosensitive recording medium |
| JP2019051616A (en) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 凸版印刷株式会社 | Inlet sheet and contactless ic card |
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