JPH1187604A - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
Semiconductor device and manufacturing method thereofInfo
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- JPH1187604A JPH1187604A JP9244325A JP24432597A JPH1187604A JP H1187604 A JPH1187604 A JP H1187604A JP 9244325 A JP9244325 A JP 9244325A JP 24432597 A JP24432597 A JP 24432597A JP H1187604 A JPH1187604 A JP H1187604A
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- semiconductor chip
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- H10W72/536—
-
- H10W72/5363—
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- H10W72/865—
-
- H10W90/736—
-
- H10W90/756—
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリイミドテープの加工及び貼付工程を省く
ことで、リードフレームの製造コストの低減及び製造時
間の短縮化を図り、且つリードフレームの形状不良をな
くして装置の信頼性の向上を図ること。
【解決手段】 半導体チップ13の上面に塗布された単
一層の熱可塑性のシリコン変性ポリイミド14にリード
フレーム11を接着することにより、リードフレーム1
1に半導体チップ13の上面を固定する。これにより、
リードフレーム11にポリイミドテープを具備しなくて
済むため、ポリイミドテープを任意の形状に加工する加
工工程と、このカッティングされたポリイミドテープを
リードフレーム11の所定の位置に貼り付ける貼付工程
を省略することができる。
PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the manufacturing cost and the manufacturing time of a lead frame by omitting a processing and a sticking step of a polyimide tape, and to eliminate a defective shape of a lead frame to thereby reduce the reliability of the device. To improve SOLUTION: The lead frame 11 is bonded to a single-layer thermoplastic silicon-modified polyimide 14 applied on the upper surface of a semiconductor chip 13 to thereby form a lead frame 1.
1, the upper surface of the semiconductor chip 13 is fixed. This allows
Since it is not necessary to equip the lead frame 11 with a polyimide tape, a processing step of processing the polyimide tape into an arbitrary shape and an attaching step of attaching the cut polyimide tape to a predetermined position of the lead frame 11 are omitted. Can be.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂封止型の半導
体装置及びその製造方法に係り、特にLOC(Lead On
Chip)パッケージ構造におけるリードフレームに半導体
チップを固着する構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a LOC (Lead On On).
The present invention relates to a structure in which a semiconductor chip is fixed to a lead frame in a package structure.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体装置の高集積化に伴い半導
体チップが大型化し、それに従って外囲器(パッケー
ジ)の大型化へと繋がっている。この問題を解決する一
つの方法として、従来から、半導体チップの回路形成面
上にリードフレーム(外囲器端子)を固着したLOC構
造の樹脂封止型の半導体装置が用いられている。2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor chips have become larger in size with higher integration of semiconductor devices, which has led to larger packages. As one method for solving this problem, a resin-encapsulated semiconductor device having a LOC structure in which a lead frame (envelope terminal) is fixed on a circuit forming surface of a semiconductor chip has been used.
【0003】このLOC構造の樹脂封止型の半導体装置
は、図3に示すようなリードフレーム1の下面に、図4
に示すようなポリイミドテープ2が貼り付けられてお
り、そのポリイミドテープ2の下面に、図5、図6に示
したようなアルファ線によるエラーの発生を防止するた
めのポリイミドコーティング(図示せず)で覆われた半
導体チップ3が固着されている。半導体チップ3とリー
ドフレーム1は、図示しないボンデイングワイヤを用い
たワイヤボンディングにより、電気的に接続されてい
る。そして、半導体チップ、リードフレーム、ボンデイ
ングワイヤが図示しない絶縁性樹脂により封止、外装さ
れている。A resin-sealed semiconductor device having this LOC structure is provided on the lower surface of a lead frame 1 as shown in FIG.
And a polyimide coating (not shown) on the lower surface of the polyimide tape 2 to prevent the occurrence of errors due to alpha rays as shown in FIGS. The semiconductor chip 3 covered with is fixed. The semiconductor chip 3 and the lead frame 1 are electrically connected by wire bonding using a bonding wire (not shown). Then, the semiconductor chip, the lead frame, and the bonding wire are sealed and covered with an insulating resin (not shown).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記のようにLOC構
造の半導体装置を製造する場合、ポリイミドテープが載
置されたリードフレームが必要となり、前記リードフレ
ームを作成するためにポリイミドテープを任意の形状に
加工するカッティング工程(以下加工工程と称する)
と、このカッティングされたポリイミドテープをリード
フレームの所定の位置に貼り付けるテーピング工程(以
下貼付工程と称する)が必要となってくる。When a semiconductor device having a LOC structure is manufactured as described above, a lead frame on which a polyimide tape is mounted is required. In order to form the lead frame, the polyimide tape is formed into an arbitrary shape. Cutting process (hereinafter referred to as processing step)
Then, a taping step (hereinafter, referred to as an attaching step) of attaching the cut polyimide tape to a predetermined position of the lead frame is required.
【0005】これら加工工程及び貼付工程では、ポリイ
ミドテープの微細化によるリードフレームの形状不良が
生じ、これにより半導体装置の信頼性が低減するという
問題があった。又、加工工程及び貼付工程を経て、ポリ
イミドテープが載置されたリードフレームを製造するた
め、半導体装置の製造に時間が掛かると共に、リードフ
レームの製造コストが高くなり、それにより半導体装置
の製造コストも高くなるという問題があった。[0005] In these processing steps and the sticking step, there is a problem that the lead frame has a defective shape due to the miniaturization of the polyimide tape, thereby reducing the reliability of the semiconductor device. Further, since the lead frame on which the polyimide tape is mounted is manufactured through the processing step and the attaching step, the manufacturing time of the semiconductor device is increased, and the manufacturing cost of the lead frame is increased. There was a problem that also becomes high.
【0006】本発明は従来技術のもつ問題点を解決する
べくなされたものであり、ポリイミドテープの加工工程
及び貼付工程を省くことにより、リードフレームの製造
コストの低減及び製造時間の短縮化を図ることができ、
且つリードフレームの形状不良をなくして装置の信頼性
の向上を図ることができる半導体装置及びその製造方法
を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems in the prior art, and aims to reduce the manufacturing cost and the manufacturing time of a lead frame by omitting a processing step and a bonding step of a polyimide tape. It is possible,
Further, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of improving the reliability of the device by eliminating the shape defect of the lead frame, and a method of manufacturing the same.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明の特徴は、表面に回路が形成された半導
体チップと、この半導体チップと電気的に接続されるリ
ードフレームと、前記半導体チップの回路形成面に直接
塗布され、前記リードフレームと前記半導体チップの回
路形成面とを接着する熱可塑性の接着剤よりなる単一の
接着層と、前記リードフレームと前記半導体チップとを
電気的に接続するワイヤとを備えたことにある。In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is a semiconductor chip having a circuit formed on a surface thereof, a lead frame electrically connected to the semiconductor chip, A single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive that is directly applied to the circuit forming surface of the semiconductor chip and adheres the lead frame and the circuit forming surface of the semiconductor chip; and the lead frame and the semiconductor chip. And a wire for electrical connection.
【0008】この第1の発明によれば、前記リードフレ
ームの下面は、前記半導体チップの回路形成面に直接塗
布されたアルファ線対策兼用の単一のシリコン変性ポリ
イミドなどの接着層に接着されているため、リードフレ
ームにポリイミドテープを具備しなくて済み、従って前
記リードフレームの下面に貼着されるポリイミドテープ
の加工工程及び前記リードフレームへの貼着工程を省略
して、極めてシンプルな形で、前記リードフレームを前
記半導体チップに固着している。According to the first aspect of the present invention, the lower surface of the lead frame is bonded to an adhesive layer such as a single silicon-modified polyimide which is also used for countermeasures against alpha rays and is directly applied to the circuit forming surface of the semiconductor chip. Therefore, it is not necessary to equip the lead frame with a polyimide tape, so that the processing step of attaching the polyimide tape to be attached to the lower surface of the lead frame and the attaching step to the lead frame are omitted, and in a very simple form. The lead frame is fixed to the semiconductor chip.
【0009】第2の発明の特徴は、表面に回路が形成さ
れた半導体チップと、この半導体チップと電気的に接続
されるリードフレームと、前記半導体チップの回路形成
面に直接塗布され、前記リードフレームと前記半導体チ
ップの回路形成面とを接着する熱可塑性の接着剤よりな
る単一の接着層と、前記リードフレームと前記半導体チ
ップとを電気的に接続するワイヤと、前記半導体チップ
と前記リードフレームと前記ワイヤの周囲に樹脂を封止
して形成したパッケージとを備えたことにある。A second aspect of the present invention is characterized in that a semiconductor chip having a circuit formed on a surface thereof, a lead frame electrically connected to the semiconductor chip, and the lead is applied directly to a circuit forming surface of the semiconductor chip. A single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive for adhering a frame and a circuit forming surface of the semiconductor chip, wires for electrically connecting the lead frame and the semiconductor chip, the semiconductor chip and the leads There is provided a frame and a package formed by sealing a resin around the wires.
【0010】第3の発明の特徴は、上記第1又は第2の
発明において、前記半導体チップの回路形成面に熱可塑
性の接着剤よりなる単一の接着層を塗布する工程と、前
記リードフレームの下面に前記接着層により前記半導体
チップの回路形成面を固着する工程とを含む。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, a step of applying a single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive to a circuit forming surface of the semiconductor chip; Fixing the circuit forming surface of the semiconductor chip to the lower surface of the semiconductor chip with the adhesive layer.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施の形態に
係る半導体装置の平面図、図2は図1のB−B断面図で
ある。図を参照して、半導体チップ13の回路形成面上
にシリコン変性ポリイミド14が塗布され、このシリコ
ン変性ポリイミド14によりリードフレーム11の下面
に半導体チップの回路形成面を固着している。更に、リ
ードフレーム11と半導体チップ13はワイヤ15を用
いたワイヤボンディングによって電気的に接続されてい
る。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line BB of FIG. Referring to the figure, a silicon-modified polyimide 14 is applied on the circuit-forming surface of semiconductor chip 13, and the circuit-forming surface of the semiconductor chip is fixed to the lower surface of lead frame 11 by this silicon-modified polyimide 14. Further, the lead frame 11 and the semiconductor chip 13 are electrically connected by wire bonding using the wires 15.
【0012】本実施の形態の場合、金属材料を型抜きな
どしてリードフレーム11を作成する。このリードフレ
ーム11の作成とは別に、半導体チップ13の回路形成
面上に熱可塑性で単一組成のシリコン変性ポリイミド1
4をスピンコートにて塗布しておく。In the case of the present embodiment, the lead frame 11 is formed by cutting a metal material or the like. Separately from the production of the lead frame 11, a thermoplastic, single-composition silicon-modified polyimide 1 is formed on the circuit forming surface of the semiconductor chip 13.
4 is applied by spin coating.
【0013】次に、予め作成しておいたリードフレーム
11の下面にシリコン変性ポリイミド14により半導体
チップ13の回路形成面を固着する。その後、半導体チ
ップ13とリードフレーム11をワイヤ15を用いたワ
イヤボンディングで電気的に結線した後、絶縁性樹脂で
封止、外装する。Next, the circuit forming surface of the semiconductor chip 13 is fixed to the lower surface of the lead frame 11 which has been prepared in advance, using silicon-modified polyimide 14. After that, the semiconductor chip 13 and the lead frame 11 are electrically connected by wire bonding using the wires 15 and then sealed with an insulating resin and packaged.
【0014】ここで、上記したポリイミド14を半導体
チップ上に塗布する方法としては、半導体製造工程で用
いているチップ表面保護膜として、従来のポリイミド樹
脂に代えてポリイミドテープで使用されている熱可塑性
のシリコン変性ポリイミド樹脂を使用し、その後は従来
どおりにパターンニングを行うようにすればよい。Here, as a method of applying the above-mentioned polyimide 14 on a semiconductor chip, as a chip surface protective film used in a semiconductor manufacturing process, a thermoplastic resin used in a polyimide tape instead of a conventional polyimide resin is used. The silicon-modified polyimide resin described above may be used, and thereafter, the patterning may be performed in the conventional manner.
【0015】本実施の形態によれば、半導体チップ13
上に塗布されたシリコン変性ポリイミド14が、リード
フレーム11と半導体チップ13を固定する役割を果た
しているため、従来のようにカッティングされたポリイ
ミドテープをリードフレーム11の所定の位置に貼り付
ける必要がなくなって、ポリイミドテープの加工及び貼
付工程を省略することができる。According to the present embodiment, the semiconductor chip 13
Since the silicon-modified polyimide 14 applied thereon plays a role of fixing the lead frame 11 and the semiconductor chip 13, there is no need to attach a conventionally cut polyimide tape to a predetermined position of the lead frame 11. Thus, the steps of processing and attaching the polyimide tape can be omitted.
【0016】しかも、従来必要であったポリイミドテー
プの加工及び貼付け費は製造費の約4割り以上を占める
ものであるが、本例では、これら工程を省略したため、
半導体装置の製造コストを大幅に削減することができる
と共に、半導体装置の製造時間を短縮化することができ
る。Moreover, the processing and sticking costs of the polyimide tape, which were conventionally required, account for about 40% or more of the manufacturing cost. In this example, since these steps are omitted,
The manufacturing cost of the semiconductor device can be significantly reduced, and the manufacturing time of the semiconductor device can be reduced.
【0017】又、上記した2工程の省略により、ポリイ
ミドテープの微細化によるリードフレーム11の形状不
良をなくすことができるだけでなく、半導体チップ13
とリードフレーム11を単一層のシリコン変性ポリイミ
ド14により固着する単純な構造を採ることができるた
め、製造された半導体装置の信頼性を向上させることが
できる。By omitting the two steps described above, not only can the shape defect of the lead frame 11 due to miniaturization of the polyimide tape be eliminated, but also the semiconductor chip 13
And the lead frame 11 can be fixed with a single layer of the silicon-modified polyimide 14, so that the reliability of the manufactured semiconductor device can be improved.
【0018】尚、半導体チップ13とリードフレーム1
1を固着する熱可塑性の合成樹脂は上記したシリコン変
性ポリイミド14だけでなく、アルファ線を通さず且つ
接着性の樹脂であれば、他の適切な樹脂を用いても、同
様の効果があり、特に感光性ポリイミドを用いてパター
ンニングするようにすることもできる。又、上記したシ
リコン変性ポリイミド14はアルファ線対策機能も果た
していることは勿論である。The semiconductor chip 13 and the lead frame 1
The thermoplastic synthetic resin for fixing 1 is not limited to the silicon-modified polyimide 14 described above, and the same effect can be obtained by using any other suitable resin as long as it is an adhesive resin that does not transmit alpha rays and has an adhesive property. In particular, patterning can be performed using photosensitive polyimide. In addition, it goes without saying that the above-mentioned silicon-modified polyimide 14 also fulfills the function of preventing alpha rays.
【0019】更に、上記したスピンコートにて熱可塑性
シリコン変性ポリイミド14を半導体チップ13の上面
に塗布する際には、容易に任意の膜厚に変更可能であ
る。従って、前記膜厚を制御することにより半導体チッ
プ13の上面などに存在する切り屑などの異物をこのポ
リイミド14層内に取り込んで、前記異物が半導体チッ
プ13の上面に形成された回路(素子)などにダメージ
を与えないような膜厚とすることは容易である。Further, when the thermoplastic silicon-modified polyimide 14 is applied to the upper surface of the semiconductor chip 13 by the spin coating described above, the thickness can be easily changed to an arbitrary thickness. Therefore, by controlling the film thickness, foreign matters such as chips on the upper surface of the semiconductor chip 13 are taken into the polyimide 14 layer, and the foreign matter is formed on the upper surface of the semiconductor chip 13. It is easy to make the film thickness so as not to damage the film.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の半
導体装置及びその製造方法によれば、ポリイミドテープ
の加工及び貼付工程を省くことにより、リードフレーム
の製造コストの低減及び製造時間の短縮化を図ることが
でき、且つリードフレームの形状不良をなくして装置の
信頼性の向上を図ることができる。As described above in detail, according to the semiconductor device and the method of manufacturing the same of the present invention, the manufacturing cost and the manufacturing time of the lead frame can be reduced by omitting the processing and attaching steps of the polyimide tape. It is possible to improve the reliability of the device by eliminating the shape defect of the lead frame.
【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体装置の平面
図である。FIG. 1 is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1のB−B断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line BB of FIG.
【図3】従来のリードフレームの一例を示した平面図で
ある。FIG. 3 is a plan view showing an example of a conventional lead frame.
【図4】図3に示したリードフレームに載置されるポリ
イミドテープの形状例を示した平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of a shape of a polyimide tape mounted on the lead frame shown in FIG. 3;
【図5】従来の半導体装置の一例を示した平面図てあ
る。FIG. 5 is a plan view showing an example of a conventional semiconductor device.
【図6】図5のA−A断面図である。6 is a sectional view taken along line AA of FIG.
11 リードフレーム 13 半導体チップ 14 シリコン変性ポリイミド 15 ワイヤ DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Lead frame 13 Semiconductor chip 14 Silicon-modified polyimide 15 Wire
Claims (3)
と、 この半導体チップと電気的に接続されるリードフレーム
と、 前記半導体チップの回路形成面に直接塗布され、前記リ
ードフレームと前記半導体チップの回路形成面とを接着
する熱可塑性の接着剤よりなる単一の接着層と、 前記リードフレームと前記半導体チップとを電気的に接
続するワイヤとを備えたことを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor chip having a circuit formed on a surface thereof, a lead frame electrically connected to the semiconductor chip, and a lead frame which is directly applied to a circuit forming surface of the semiconductor chip to form a connection between the lead frame and the semiconductor chip. A semiconductor device comprising: a single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive for bonding a circuit forming surface; and a wire for electrically connecting the lead frame and the semiconductor chip.
と、 この半導体チップと電気的に接続されるリードフレーム
と、 前記半導体チップの回路形成面に直接塗布され、前記リ
ードフレームと前記半導体チップの回路形成面とを接着
する熱可塑性の接着剤よりなる単一の接着層と、 前記リードフレームと前記半導体チップとを電気的に接
続するワイヤと、 前記半導体チップと前記リードフレームと前記ワイヤの
周囲に樹脂を封止して形成したパッケージとを備えたこ
とを特徴とする半導体装置。2. A semiconductor chip having a circuit formed on a surface thereof, a lead frame electrically connected to the semiconductor chip, and a semiconductor chip having a circuit formed directly on the circuit forming surface of the semiconductor chip. A single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive for bonding the circuit forming surface, a wire for electrically connecting the lead frame and the semiconductor chip, and a periphery of the semiconductor chip, the lead frame and the wire And a package formed by sealing a resin.
性の接着剤よりなる単一の接着層を塗布する工程と、 前記リードフレームの下面に前記接着層により前記半導
体チップの回路形成面を固着する工程とを含むことを特
徴とする請求項1又は2記載の半導体装置の製造方法。3. A step of applying a single adhesive layer made of a thermoplastic adhesive to a circuit forming surface of the semiconductor chip, and fixing the circuit forming surface of the semiconductor chip to the lower surface of the lead frame by the adhesive layer. 3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, further comprising the step of:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9244325A JPH1187604A (en) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9244325A JPH1187604A (en) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1187604A true JPH1187604A (en) | 1999-03-30 |
Family
ID=17117042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9244325A Pending JPH1187604A (en) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1187604A (en) |
-
1997
- 1997-09-09 JP JP9244325A patent/JPH1187604A/en active Pending
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