[go: up one dir, main page]

JPH1167991A - 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法 - Google Patents

半導体用ヒートシンクおよびその製造方法

Info

Publication number
JPH1167991A
JPH1167991A JP9222091A JP22209197A JPH1167991A JP H1167991 A JPH1167991 A JP H1167991A JP 9222091 A JP9222091 A JP 9222091A JP 22209197 A JP22209197 A JP 22209197A JP H1167991 A JPH1167991 A JP H1167991A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
diamond particles
alloy
heat sink
carbide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9222091A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3893681B2 (ja
Inventor
Yoshiki Nishibayashi
良樹 西林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP22209197A priority Critical patent/JP3893681B2/ja
Priority to US09/120,453 priority patent/US6031285A/en
Priority to DE69830769T priority patent/DE69830769T2/de
Priority to CA002244505A priority patent/CA2244505C/en
Priority to EP98114207A priority patent/EP0898310B1/en
Publication of JPH1167991A publication Critical patent/JPH1167991A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3893681B2 publication Critical patent/JP3893681B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W40/257
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C26/00Alloys containing diamond or cubic or wurtzitic boron nitride, fullerenes or carbon nanotubes
    • H10W40/254
    • H10W70/02
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12806Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/252Glass or ceramic [i.e., fired or glazed clay, cement, etc.] [porcelain, quartz, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ダイヤモンド粒子を含む高熱伝導であり、か
つ半導体との熱膨張による熱歪みを解消したヒートシン
ク及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 Ag、Cu、Au,Al、Mg、Znか
ら選ばれる1種以上の金属(A)と、4a,5a族元素
及びCrから選ばれる1種以上の金属(B)の合金
(C)をダイヤモンド粒子の周囲で溶融することによ
り、ダイヤモンド粒子の表面に形成する金属の炭化物
(B’)を介して、ダイヤモンド粒子と金属(A)が密
着し、金属(A)の熱伝導率を大きく上回る高熱伝導性
のヒートシンクとなる。その手法は溶浸法でも焼結法で
も可能である。特に金属炭化物(B’)をマトリックス
金属の形成と同時若しくは形成後にダイヤモンド粒子の
表面に形成させることが、本発明の特徴であり、効果的
な形成方法といえる。金属炭化物(B’)の存在は、ダ
イヤモンド粒子の表面積の1/4以上あれば、有効であ
り、かつダイヤモンド粒子同士が金属により隔てられて
いる構造を持つことが重要である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス等
に用いられる放熱用ヒートシンク及びその製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体等の発熱を冷却する手段として、
ヒートシンクが利用されている。そのヒートシンクの作
用は、半導体等の素子が急激に発熱する際、瞬時にその
発生熱を放散するものであり、物性としては、熱伝導性
と熱容量、による熱拡散の大きなものがより効果的に用
いられる。その材料として、Cuは熱伝導率が398W
/mKであり、比重も大きいところから、熱拡散の大き
な材料として注目された。しかし、熱膨張係数が17p
pm/℃と半導体や絶縁用のセラミック等に対比して大
きく(例えばSi:4.2ppm/℃、GaAs:6.
7ppm/℃)、接合時と室温の差、動作温度と非作動
時の温度差による熱膨張の違いから、半導体に大きな熱
応力がかかり、使用できない場合がでてきた。
【0003】次には、熱膨張の小さなW、Moなどの金
属をCuと合金化して利用する方法がある。Cu−Wや
Cu−Moのような合金もしくは分散体により、熱膨張
率を半導体の値に近づけた材料が利用されているが、W
やMoは熱伝導率が小さく、Cuと合金化すると、約2
00W/mKに低下する。
【0004】次に利用されたものは、高熱伝導性を有す
るダイヤモンドと金属の組み合わせである。これらの技
術は、既に 特開平2−170452号公報、特開平3
−9552号公報、特開平4−231436号公報、特
開平4−259305号公報などの開示がある。全てダ
イヤモンドの高熱伝導性を利用し、金属の中に埋め込
み、その比率を調整することで熱膨張率を半導体の熱膨
張率に近づけ、温度差による熱歪みを起こさぬように調
整したものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ダイヤモンド
粒子をCu,Ag,Au,Alに単に埋め込む場合、ダ
イヤモンドとこれらの金属との密着性が悪く、ヒートシ
ンクとした場合の強度が非常に弱くなることや、製造時
にうまく混合できないことなど、問題点がある。また、
ダイヤモンドの表面にあらかじめ金属を特殊コーティン
グしたのち、Cu,Ag,Au,Alなどの金属と焼結
法で形成することは、成形が容易で組成も制御できる利
点がある。ところが、その焼結法でも、従来の金属焼結
の手法で、粉末の混合、加圧成形、焼成の工程を経たも
のは、熱伝導が、使用した金属以上にならない結果とな
っている。さらにはダイヤモンド粒子にダイヤモンドと
炭化物を形成できる金属(本発明の金属(B)に相当)
をあらかじめコーティングしておき、これを溶融金属中
に埋め込む手段があり、本発明と類似するが、ダイヤモ
ンド粒子の周囲に存在する金属炭化物の層が厚くなり、
肝心の熱伝導性を十分に発揮できないので、解決手段と
はならない。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記問題の解
決に当り、ヒートシンクの構造を以下のようにした。即
ち、Ag,Cu,Au,Al,Mg,Znから選ばれる
1種以上の金属(A)と、4a、5a族元素及びCrか
ら選ばれる1種以上の金属(B)の炭化物(B’)と複
数のダイヤモンド粒子からなり、個々のダイヤモンド粒
子の表面積の1/4以上を炭化物(B’)が覆って粒子
状をなし、その炭化物(B’)に覆われたダイヤモンド
粒子同士が金属(A)によって隔てられている構造をも
った半導体用ヒートシンクである。
【0007】このような構造を持つことにより、ダイヤ
モンド粒子と金属の密着性が増し、かつ、ダイヤモンド
粒子とその周囲を取り囲む金属炭化物(B’)及び金属
炭化物(B’)とその周囲に存在する金属(A)との密
着性も問題無く、熱伝導性においても、金属(A)の熱
伝導率では到達できない高熱伝導率を得ることができ
る。特に金属炭化物(B’)がダイヤモンド粒子の表面
積の1/4以上を覆っている状態であることが、ダイヤ
モンド粒子と金属(A)との密着性を好適なものにす
る。ダイヤモンド粒子の表面積の1/4未満であると、
150℃以上の温度でヒートシンクは柔らかになり、3
0g/cm2以上の荷重で変形することが認められ、金
属(A)とダイヤモンド粒子の密着性が不十分であるこ
とを裏付ける。また、金属炭化物(B’)の層はできる
だけ薄くするのがよく、ダイヤモンド粒子の表層に付着
する程度で充分に効果を発揮する。この金属炭化物
(B’)の層は、熱伝導性が悪いので厚くしないことが
大切であり、且つ未反応の金属(B)がダイヤモンド粒
子の周囲に多く存在する事も、ヒートシンクの熱伝導率
を低下させる要因となる。
【0008】そして、この金属(A)の中にW,Mo及
びその合金の1種以上である金属(D)が分散されてい
てもよい。これらは、金属(A)とダイヤモンド粒子の
熱膨張の差を緩和する作用がある。ダイヤモンド粒子
は、平均粒径で60μm〜700μmの範囲にあること
が望ましく、60μm未満では、ダイヤモンドの高熱伝
導性を生かせず、また、700μmを越えると厚みの薄
いヒートシンクでは、ダイヤモンド粒子が層状に並ぶ余
地がなくなる。一方、前記金属(B)の原子数比がヒー
トシンク全体の0.01atm%以上、2.5atm%
以下であるとさらに好ましい。金属(B)は金属炭化物
(B’)となってダイヤモンド粒子の周囲に存在する
が、その層の厚さが薄ければ密着性の効果を発揮できず
(原子数比が全体の0.01atm%未満)、また層の
厚みが厚すぎると、金属炭化物(B’)の熱伝導性は大
きくないので、高熱伝導性を得るには障害となる(原子
数比が全体の2.5atm%を越える)。
【0009】より好ましくは、前記金属(B)がTi,
Zr,Hfから選ばれる1種以上からなり、かつその原
子数比がヒートシンク全体の0.01atm%以上、
2.5atm%以下である場合、金属炭化物(B’)と
ダイヤモンド粒子、マトリックスとなる金属(A)との
密着力も良く、かつ熱伝導性を十分に生かせる厚みを維
持できる。
【0010】そして、金属(A)がAgとCuの合金か
らなり、かつ両者の体積比率がAg≧0.7であるか、
Cu≧0.8である条件を満たすものであるとさらに好
ましい結果を得ることができる。AgとCuの合金であ
ることは、熱伝導性において効果的であり、且つ体積比
率が一方の金属が優位になる条件とすることが大切であ
る。その理由は、AgもしくはCuの比率が大きいこと
により、合金の中にAgもしくはCuリッチの金属部分
が存在することで、熱伝導率はその金属単味の熱伝導率
に近い値を示す。
【0011】逆に、0.2<Ag<0.7か、0.3<
Cu<0.8であると、合金の熱伝導率が全体を支配
し、金属単味のような大きな熱伝導性を示さず、ヒート
シンクとして熱伝導性において不利となってダイヤモン
ド粒子と金属の長所を発揮する効果が低下する。
【0012】その製造方法は、金属(A)と金属炭化物
(B’)とダイヤモンド粒子からなるヒートシンクを形
成する方法であって、その工程に、(1)複数のダイヤ
モンド粒子を容器または型に入れる工程、(2)金属
(B)と金属(A)からなる合金(C)をダイヤモンド
粒子と同時あるいは、後で容器または型に入れる工程、
(3)次に減圧もしくは1000気圧以下で加熱して前
記合金(C)を溶融し、金属(B)がダイヤモンド粒子
と反応してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物
(B’)を形成させるとともに、合金(C)をダイヤモ
ンド粒子間に浸透させる工程、を含むものであればよ
い。
【0013】他の手段として、その工程に、(1)複数
のダイヤモンド粒子を容器または型に入れる工程、
(2)金属(A)と金属(B)からなる合金(C)と、
ダイヤモンド粒子と同時あるいは後で容器または型に入
れる工程、(3)次に、減圧もしくは1000気圧以下
で加熱して合金(C)を溶融し、金属(B)がダイヤモ
ンド粒子と反応してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化
物(B’)を形成させる工程、(4)その後、減圧下で
合金(C)の一部を蒸発させる工程、(5)蒸発させた
後、減圧もしくは1000気圧以下で金属(A)を溶浸
させる工程、を含むものでも、達成できる。
【0014】さらに別の手段では、その工程に、(1)
複数のダイヤモンド粒子を容器または型に入れる工程、
(2)金属(A)と金属(B)からなる合金(C)と、
それより融点の高い金属(A)をダイヤモンド粒子と同
時あるいは後で容器または型に入れる工程、(3)次
に、減圧もしくは1000気圧以下で加熱して合金
(C)を溶融し、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応
してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形
成させる工程、(4)つづいて金属(A)を溶融する工
程、を含むものでも、達成できる。
【0015】前記と逆に、合金(C)より低い融点の金
属(A)を用いても、本発明の目的は達成できる。即ち
その工程に、(1)複数のダイヤモンド粒子を容器また
は型に入れる工程、(2)金属(A)と金属(B)から
なる合金(C)と、それより融点の低い金属(A)をダ
イヤモンド粒子と同時、あるいは後で容器または型に入
れる工程(3)次に、減圧もしくは1000気圧以下で
加熱して金属(A)を溶融する工程、(4)つづいて合
金(C)を溶融して金属(B)がダイヤモンド粒子と反
応してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を
形成させる工程、を含むものでも、達成できる。
【0016】以上が溶浸法と呼ばれる手法を用いた本発
明を製造する方法であり、次に本発明を焼結法と呼ばれ
る方法で行うには、(1)金属(A)と金属(B)から
なる合金(C)粉末と、複数のダイヤモンド粒子を混合
する工程、(2)混合物を加圧成形する工程、(3)成
形体を合金(C)の融点以上の温度で焼成することによ
り、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応して、ダイヤ
モンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成させる工
程、を含む工程であれば、可能である。
【0017】前記工程において、混合時に別に金属
(A)の粉末を加えた、(1)金属(A)と金属(B)
からなる合金(C)粉末と、それより融点の高い金属
(A)の粉末と複数のダイヤモンド粒子を混合する工
程、(2)混合物を加圧成形する工程、(3)成形体を
合金(C)の融点以上、金属(A)の温度以下で焼成す
ることにより、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応し
てダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成
させる工程、を含む工程であっても、可能である。
【0018】また、他の焼結法ではその工程に、(1)
金属(A)と金属(B)からなる合金(C)粉末と、そ
れより融点の高いW,Mo及びその合金から選ばれる1
種類以上の金属粉末(D)と、複数のダイヤモンド粒子
を混合する工程、(2)混合物を加圧成形する工程、
(3)成形体を合金(C)の融点以上、金属(D)の温
度以下で焼成することにより、金属(B)がダイヤモン
ド粒子と反応してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物
(B’)を形成させる工程、を含む工程であれば可能で
ある。これは、特にW,Mo及びその合金の少なくとも
1種を含ませることで、熱膨張率の調整ができる良い方
法である。
【0019】さらには、他の方法として、(1)金属
(A)と金属(B)からなる合金(C)粉末と、合金
(C)より高い融点をもつ金属(A)の粉末と複数のダ
イヤモンド粒子を混合する工程、(2)混合物を加圧成
形する工程、(3)金属(A)の融点以上の温度で焼成
することにより、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応
してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形
成させる工程、を含む工程でも作製できる。
【0020】すなわち、溶浸法での手段による特徴は、
金属(A)と金属(B)を合金化し、その合金(C)と
ダイヤモンド粒子が接触した状態で減圧もしくは100
0気圧以下で加熱することにより、ダイヤモンド粒子の
表面に金属(B)がダイヤモンド粒子表面に拡散し、そ
こでダイヤモンドと接触して金属炭化物(B’)を形成
する。金属(B)の方が、金属(A)よりもダイヤモン
ドとの接触炭化をしやすいために、選択的に金属炭化物
(B’)ができ、これがダイヤモンド粒子を取り巻いた
状態となる。前記した4つの製法は、全てそのような工
程を含み、従ってどの方法を経ても同等の製品が出来上
がる。
【0021】他の手段として、焼結法による特徴は、前
記手法と類似するが、ダイヤモンド粒子と粉末にした合
金(C)とが、成形された内部で焼成時に合金(C)中
の金属(B)がダイヤモンド粒子と反応して金属炭化物
(B’)をダイヤモンド粒子の表面に形成するものであ
る。成形物に金属(A)の存在、金属(D)の存在があ
っても、選択的に金属(B)がダイヤモンド粒子と反応
することが本発明の重要なポイントである。前記した4
つの製法に共通しているものである。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明の要素は、ダイヤモンド粒
子の表面に4a、5a族及びCrから選ばれる1種以上
の金属(B)からなる炭化物(B’)層を形成し、その
周囲を取り巻く金属(A)、即ちAg,Cu,Au,A
l,Mg,Znから選ばれる金属の1種以上が、マトリ
ックスとなったヒートシンクである。熱伝導性からみれ
ば、ダイヤモンド粒子のみから形成されれば最も有利な
ものとなるが、熱膨張では、半導体の熱膨張より小とな
り、熱歪みの原因となる。そこで、金属(A)による熱
膨張の調整が必要であるが、ダイヤモンド粒子と金属
(A)の界面の密着性が問題となり、本発明に至ったも
のである。ダイヤモンド粒子と金属(A)の間に双方と
強固な密着性をもつものとして4a、5a族及びCrか
ら選ばれる1種以上の金属(B)の炭化物(B’)を介
在させることにより、強固な密着性を維持でき、また熱
伝導性は金属(A)単味のものにダイヤモンドの良好な
熱伝導性を加えることができる。また、さらに金属
(D)即ちW,Mo及びその合金の1種以上を金属
(A)中に分散させることにより、ダイヤモンド粒子と
金属(A)の熱膨張率の違いを緩衝する効果をもたら
し、より安定なヒートシンクが得られる。
【0023】熱伝導性は、本発明のように異種の材料の
界面が強固に結びつくことで互いに熱のやり取りができ
るものであり、界面の密着性が悪い場合は、マトリック
ス材料に用いられた方の材料固有の熱伝導率に支配され
る。すなわち、金属(A)マトリックス中にいくら高熱
伝導のダイヤモンド粒子を埋め込んでも、その界面の密
着性が強固でないと、全体の熱伝導性は、金属(A)の
熱伝導率に支配されることになり、高価なダイヤモンド
粒子を用いた効果は微々たるものになる。
【0024】また、熱膨張率の異なる材料を組み合わせ
て用いる場合、熱膨張により材料のどちらかに内部歪み
がかかる。本発明の場合は、金属(A)がその役割を果
たす。ダイヤモンド粒子は室温から200℃の温度域
で、1.5ppm/℃と小さく、その周囲の金属(A)
はその値より大きいので、高温になった場合は金属
(A)はダイヤモンド粒子に引かれ、熱膨張を押さえら
れ、内部歪みをおこし、ヒートシンク全体として金属
(A)の固有熱膨張率より小となる。このような現象を
ヒートシンク全体で均一に発生させるにはダイヤモンド
粒子同士が接合せず、個々に金属(A)のマトリックス
中に存在するのが良い。そのような構成であれば、ヒー
トシンク全体で均一に内部歪みを分散でき、ヒートシン
クが変形するようなことにはならない。そこで本発明は
ダイヤモンド粒子の周囲に金属炭化物(B’)があり、
その外周を金属(A)が囲んでいる構成になっているの
が特徴である。
【0025】ダイヤモンド粒子を取り巻く金属炭化物
(B’)の存在は、ダイヤモンド粒子の表面全体を囲む
ことが最も良いが、マトリックスとなる金属(A)との
密着性から、ダイヤモンド粒子の表面積の1/4以上を
覆っていれば、十分にその効果は得られる。好ましくは
その覆った部分が1/2以上あると安定性が良い。残り
の部分は、金属(A)であっても残留気孔であっても良
いが、残留気孔は少ない方がよい。
【0026】ダイヤモンド粒子の大きさは、使用するヒ
ートシンクの大きさにも限定されるが、細かすぎると粒
子と金属の界面が多くなり、熱伝導性を低下させ、大き
すぎるとヒートシンクの厚みに制限されるので、60μ
m〜700μmが妥当である。200μm〜300μm
が最も好ましい。
【0027】ヒートシンクにおけるダイヤモンド粒子の
比率は、熱伝導性と熱膨張の関係から、全体に対する体
積比で、30〜70vol%が良く、30vol%未満
では、効果的な熱伝導性を得られず、70vol%を越
えると、熱伝導率は大きくとれるが、半導体との熱膨張
率の調整が難しい。ダイヤモンド粒子の体積比が45〜
65vol%の範囲にあると熱伝導性も熱膨張による歪
みの弊害もおこりにくく、好ましい。
【0028】金属炭化物(B’)の存在は、あくまでダ
イヤモンドと金属(A)の密着性をよくするものであ
り、それ自体は熱伝導性は良いものではないので、多量
に存在すると熱伝導率の低下を招き逆効果となる。少な
すぎると密着作用を発揮できず限界がある。好ましく
は、金属(B)の存在量で原子数比がヒートシンク全体
の0.01atm%〜2.5atm%の範囲が良く、こ
れらの範囲では、十分にダイヤモンド粒子と金属(A)
が密着し、かつ金属炭化物(B’)の存在による熱伝導
率の低下もなく、全体の熱伝導率も金属(A)の値より
大きくできる。
【0029】特に好ましくは、金属炭化物(B’)を形
成する金属(B)にTi,Zr,Hfの1種以上を用
い、原子数比がヒートシンク全体の0.01atm%〜
2.5atm%のときに、その効果がより顕著となる。
原子数比が0.01atm%未満の場合には、ダイヤモ
ンド粒子の表面を十分に覆うだけの量にならず、出来た
ヒートシンクが高温で変形する等の密着力の低下を招
き、原子数比が2.5atm%を越えると、ヒートシン
ク全体に対する金属炭化物量が多すぎ、熱伝導率が低下
する。
【0030】さらに、金属(A)は、AgとCuを合金
にした場合が最もその効果を発揮でき、特にその合金に
おけるAgとCuの体積比率がより顕著な効果を発揮す
る。その比率は、Agが多量の場合では、Ag≧0.7
のとき、Cuが多量の場合では、Cu≧0.8なる条件
のときに熱伝導率が大きくなる。従って金属(A)を選
択する場合、一元素の体積比率を大きくとり、合金化す
る別の元素を少なくすると、熱伝導率は大部分を占める
元素の熱伝導率に近くなり、結果としてダイヤモンド粒
子の熱伝導性の効果を得やすい構造となる。従って、選
択する元素により、合金化時の体積比率は異なるが、特
にAgとCuの組み合わせが好ましく、その合金化時の
体積比率は上記の様になる。さらにこの比率において、
金属(B)には、Tiを用いるとその効果がより明確に
なる。この組み合わせによるデータを図6に示す。図6
では、出来上がったヒートシンク中のダイヤモンド粒子
とAgとCuの体積比率を3元系グラフで示し、金属
(A)であるAgとCuの体積比率によって出来上がっ
たヒートシンクの熱伝導率が異なり、AgとCuの体積
比によって支配されていることが明確である。
【0031】このような構成のヒートシンクを作製する
には、次のような方法がある。その1として、溶浸法が
ある。溶浸法において4通りの手段があり、第1の手段
は、複数のダイヤモンド粒子を石英容器やカーボン容器
のような、金属(A)より融点が高く、且つ金属(A)
とのなじみの良くない容器にいれ、これと同時あるいは
後で、金属(B)を含ませた金属(A)との合金(C)
を入れる。容器を加熱炉にいれ、減圧するか、もしくは
1000気圧以下に加圧する。当然ではあるが、雰囲気
は非酸化性の状態である。このような条件で、0.5〜
10分放置し、ダイヤモンド粒子の周囲に金属(B)が
拡散し、ダイヤモンドの表面で金属炭化物(B’)を形
成させる。この操作と同時に合金(C)をダイヤモンド
粒子の間に浸透させる。浸透すると体積が減少するの
で、冷却を待って取出せばよい。
【0032】第2の手段は、第1の手段と良く似た工程
であるが、合金(C)を溶融した後、減圧して合金
(C)を蒸発させる。全部を蒸発せずとも良く、ある程
度の蒸発が進んだ時点で、別に準備した金属(A)を加
え加熱して溶浸させる。この溶浸工程は、減圧状態でも
よく1000気圧以下の加圧状態でも進行する。この時
の金属(A)は、合金(C)中の金属(A)と一致しな
くとも良い。
【0033】第3の手段は、金属(A)の選択に条件を
つける。合金(C)にする金属(B)と金属(A)の他
に、金属(B)と合金化していない金属(A)を用意す
る。後者の金属(A)は、ダイヤモンド粒子と容器に入
れたのち、減圧もしくは1000気圧以下の条件で加熱
するとき、合金(C)が選択的に溶融するように、合金
(C)より融点の高いものを選ぶ。従って、合金(C)
が溶融し、ダイヤモンド粒子と金属炭化物(B’)が形
成された状態で、合金(C)中の金属(A)と、単味で
別に投入した金属(A)が存在する。合金(C)に用い
た金属(A)と、単味で用いた金属(A)は異種のもの
でもよいし、同種のものでも良い。同種のものの場合
は、金属(A)が金属(B)と合金化することにより、
融点降下をもたらすものであればよい。その後、単味で
加えた金属(A)の融点以上に温度を上げ、金属(A)
を溶融することで溶浸される。
【0034】第4の手段は、これも金属(A)の選択に
条件をつける。合金(C)にする金属(B)と金属
(A)の他に前記と同様の単味の金属(A)を用意す
る。後者の金属(A)は、ダイヤモンド粒子と容器に入
れた後、減圧もしくは1000気圧以下の条件で加熱す
るとき、単味で入れた金属(A)が選択的に溶融するよ
うに、合金(C)より融点の低いものを選ぶ。従ってま
ず金属(A)が溶融し、ダイヤモンド粒子の間に、若し
くはダイヤモンド粒子とは離れた位置に溶融金属の液滴
を形成させる。その後、温度を上昇させ、合金(C)を
溶融すると共に、ダイヤモンド粒子と金属(A)の液滴
との間に浸透させ、合金(C)中の金属(B)がダイヤ
モンド粒子と反応し、金属炭化物(B’)を形成する。
この反応後、すぐに合金(C)と金属(A)はダイヤモ
ンド粒子間に散在して配置される。すなわち、このよう
な状況では、ダイヤモンド粒子の周囲には、金属炭化物
(B’)が形成膜となり、その周囲に合金(C)があ
り、その隙間を金属(A)が埋める構造となる。以上が
溶浸法による本発明の製造方法である。
【0035】発明を作製する他の手法として焼結法があ
る。焼結法には以下の4種類の手段をあげる。焼結法で
は、ダイヤモンド粒子の他は、全て粉末にし、あらかじ
め混合してから成形する。成形されたものを焼成するこ
とにより、その過程において合金(C)中の金属(B)
がダイヤモンド粒子表面に拡散し、金属炭化物(B’)
を形成する。その第1の手段は、ダイヤモンド粒子と、
金属(A)と金属(B)からなる合金(C)の粉末を用
意し、混合する。この時の混合は、乾式混合でも湿式混
合でも良いが、粒子と粉末の混合であるから、有機溶剤
等で湿らせた方が、均一な混合となり好ましい。混合
後、必要であれば乾燥したのち、金型にいれ加圧成形す
る。成形された後、成形体を焼結炉にて焼成する。この
時、雰囲気は非酸化性雰囲気もしくは還元性雰囲気とし
ておき、設定温度は合金(C)の融点より高めにセット
する。合金(C)が溶融し、ダイヤモンド粒子の周囲を
囲み、合金(C)中の金属(B)がダイヤモンド粒子の
表面で反応し、金属炭化物(B’)を形成し、ダイヤモ
ンド粒子と金属の密着が進む。その後冷却し取出したの
ち研磨等の加工により所定のヒートシンクが出来上が
る。
【0036】第2の手段においては、ダイヤモンド粒子
と、金属(A)と金属(B)からなる合金(C)の粉末
と、合金(C)の融点より高温の融点を持つ金属(A)
の粉末を用意し、混合する。この時、乾式混合でもよい
が、有機溶剤等を用いて湿式混合を用いた方が、出来上
がりが均一化する。混合したものを金型にいれ加圧成形
する。湿式混合の場合は、その後乾燥する工程を必要と
する。成形体は焼成し、粉末同士の焼結を行うが、この
時、まず設定温度を合金(C)の融点より高温で、金属
(A)の融点より低温にセットし、合金(C)のみ溶融
させる。合金中の金属(B)が、ダイヤモンド粒子の表
面で金属炭化物(B’)を形成する。全て加熱及び冷却
中は、非酸化性雰囲気中での処理である。その後、その
まま冷却をすれば単味で加えた金属(A)は粉末状態で
残る。昇温すれば、単味の金属粉末も溶融し、合金
(C)と混ざり合って金属のマトリックスを形成する。
どちらの方法でも本発明は達成できる。
【0037】第3の手段は、前記第1の手段と同様に原
料準備をするが、成形後、焼成温度を一気に金属(A)
の融点より高温側にまで昇温する。この時は合金(C)
も単味で加えた金属(A)も共に溶け、双方が金属マト
リックスとなる。溶融中に金属(B)がダイヤモンド粒
子表面で金属炭化物(B’)を形成する。ダイヤモンド
粒子が多く配合されている場合は、溶融金属の表面張力
でダイヤモンド粒子を引きつけ、収縮力に打ち勝って形
状を保つ場合もあるが、この場合、金属粉が全て溶解す
ると形状が維持できないので、金属(A)粉末の表層が
シンタリング状態で他の金属粉と接続する部分で溶解し
固着する。従って、合金(C)中の金属(B)がダイヤ
モンド粒子の表面に接触し、金属炭化物(B’)になる
確率は、金属(A)の存在により低いが、各ダイヤモン
ド粒子の表面積の1/4以上に金属炭化物(B’)が形
成されれば、ダイヤモンド粒子と金属の密着性は十分で
ある。当然、出来上がった製品中には気孔も存在する
が、特に問題にはならない。
【0038】第4の手段は、第2の発明に属する手段で
あり、製品中にW,Mo及びその合金の1種以上を含む
ものである。ダイヤモンド粒子と、合金(C)粉末と、
前記W,Mo及びその合金の1種以上の金属(D)から
なる粉末を用意する。この時さらに単味の金属(A)の
粉末を加えてもよい。金属(D)は、W,Moの存在か
ら、合金化してもその融点は高温であり、当然、合金
(C)や金属(A)に比して高融点である。したがっ
て、ダイヤモンド粒子と合金(C)の粉末、金属(D)
の粉末、場合によっては金属(A)の粉末も加えて混合
し、成形した後、焼結工程において昇温しても、金属
(D)は溶融しない。ダイヤモンド粒子の表面に金属
(B)が接触し、金属炭化物(B’)を形成しても、金
属(D)は関与しない。但し、合金(C)により、金属
(D)は冷却後粉末を固定される。このようにしてダイ
ヤモンド粒子とその表面に存在する金属炭化物(B’)
と金属(A)の他に金属(D)を含むヒートシンクがで
きる。このヒートシンクは、金属(D)を含むことで、
容易にヒートシンクの熱膨張率の調整がきく。低熱膨張
率のダイヤモンド粒子と、高熱膨張率の金属(A)との
中間の熱膨張率を持つ金属(D)により、ヒートシンク
全体の熱膨張率として、熱歪みによる応力集中を緩和す
るものとなる。
【0039】以上のような製法を用いれば、本発明を達
成できるが、その他の手法を用いてもよい。製法におけ
る材料の選択は、溶浸法を用いる場合は、金属は粉末で
も固まりでも可能である。焼結法は、金属は粉末乃至造
粒体にするのがよい。特にダイヤモンド粒子の周囲に合
金(C)粉末を選択的に付着させるには、ダイヤモンド
粒子と微粉化した合金(C)をあらかじめ有機溶剤等で
湿式混合し、ダイヤモンド粒子を合金(C)でくるんだ
状態にしてから、その他の原料を混合すると金属炭化物
(B’)の形成がより着実に進み、有利である。
【0040】ダイヤモンド粒子の量、合金(C)の量等
は、求めるヒートシンクの熱伝導率、熱膨張率等により
設計できるが、金属炭化物(B’)の存在が大きな要素
を占めるので、ヒートシンク全体に占める金属(B)の
存在量を確実にすることが重要である。
【0041】以上のように、本発明の製品を作るには、
少なくとも8通りあり、どの方法でも本発明の製品が得
られ、用いた金属より熱伝導性の良い、かつ熱膨張が金
属(A)より小さく、ダイヤモンドより大きなヒートシ
ンクとなる。
【0042】本発明になるヒートシンクは、単独で使用
できるが、他のヒートシンクと張り合わせて使用するこ
ともできるし、表面にメッキして用いることもできる。
また、半導体を搭載する際に用いる半田は、Au−Sn
系、Au−Ge系の半田を利用すると良い。
【0043】
【実施例】
(実施例1) 粒径が200〜300μmのダイヤモン
ド粒子と表1に示す種類と体積比をもつ合金(C)を石
英容器にいれた。合金(C)は、試料1−1〜1−8に
ついては板状のものを、試料1−9〜1−12では粉末
状のものを用いた。この時のダイヤモンド粒子の量はヒ
ートシンクの体積の55〜65%になるように調整し
た。そして、合金(C)中に含ませる金属(B)の種類
と量は、表1に示すが、ここで量の表現は、ヒートシン
ク全体に対する原子数比で表している。原子数比は、ダ
イヤモンド、金属の夫々の重量を平均原子量で割った値
の比率である。これは金属(B)の役割が、重量や体積
によるものではなく、ダイヤモンドの周囲に並ぶ原子の
量に起因するからである。
【0044】この石英容器を試料1−1〜1−6、1−
9、1−10については、真空チャンバー中で10-5
orr以下に減圧し、加熱し、合金(C)を溶融した。
一方、試料1−7、1−11は圧力容器を使用してAr
雰囲気中1気圧で行い、試料1−8、1−12は同様に
Ar雰囲気中3気圧で行った。溶融後約3分保持した後
冷却して容器を取出し、所望のサイズに加工してヒート
シンクを作成した。
【0045】この工程の概要を図1に示す。使用した容
器は石英製であったが、カーボン容器でも同様に作製で
きる。また、金属の容器でも、投入する金属、合金と共
晶し難くかつ融点が1000℃以上のものでも使用可能
であるが、この場合は、ヒートシンクを取出すのに、金
属容器を研磨して取出すことができる。そして、中に投
入する金属(A)と金属(B)からなる合金(C)は、
図1では、板として投入しているが、粉末でも、顆粒状
でも同様の取扱いができる。粉末の場合は、ダイヤモン
ド粒子の上にかぶせるように入れるのも良いが、あらか
じめダイヤモンド粒子と混合しておき、同時に投入する
ことも可能である。さらにデータは省略するが、雰囲気
条件として不活性ガス雰囲気中であるなら、10気圧以
上でも加圧成形機を用いて同様に作製できることを確認
している。
【0046】出来上がったヒートシンクの熱伝導率を測
定し、使用した合金(C)の熱伝導率と併せて表1に示
す。この結果から、出来上がったヒートシンクは、使用
した合金(C)の熱伝導率をはるかに凌ぐ値となること
が理解できる。これは、合金(C)が溶融して、その中
に含まれる金属(B)がダイヤモンド粒子の表面で反応
し、金属炭化物(B’)を形成し、ダイヤモンドと金属
が十分に結びついたことを証明する。分析により、本実
施例になるヒートシンクを確認したところ、ダイヤモン
ド粒子表面にTiC,ZrC,HfCの存在が確認され
ている。
【0047】
【表1】
【0048】(実施例2) 実施例1で用いたものと同
じ石英容器を用意し、これに粒径が200〜300μm
のダイヤモンド粒子を体積比でヒートシンク全体の55
〜65%量に相当する割合で投入し、これに表2に示す
種類と量の合金(C)の板を加えた(試料2−1〜2−
9)。試料2−10、2−11は粉末にして加えた。実
施例1と同様に減圧条件で、加熱し、合金(C)を溶融
した後、2分放置してから、さらに昇温と減圧を行い、
合金(C)の蒸発を行った。合金(C)が容器中のダイ
ヤモンド粒子の間に隙間ができるまで蒸発させた。取出
し後観察すると、容器の底部には、合金(C)が残存し
ていたが、上部はダイヤモンド粒子間に隙間があき、一
部合金(C)が残った状態であった。この状態のものを
再び真空チャンバーに入れ、その上に表2に示す金属
(A)を最初に加えた合金(C)と同一形状で同重量投
入し、減圧と加熱を行い、金属(A)を溶融した。溶融
した金属(A)はダイヤモンド粒子の間にある隙間に浸
透した。浸透がほぼ完了してから、冷却し、容器から形
成されたヒートシンクを取出し、加工により所望のヒー
トシンクを作製した。これらの作製においても、実施例
1に述べたように、容器の種類、雰囲気条件、合金の形
状については、同様に他の手段でも可能であった。
【0049】出来たヒートシンクの熱伝導率を表2に示
す。この結果から得られたヒートシンクの熱伝導率は、
使用した金属(A)や合金(C)の値より全て大きな値
となる。この結果からも、金属炭化物(B’)の存在
が、熱伝導率に大きな効果をもたらすことがわかる。な
お実施例2の製法を概要図にしたのが、図2である。図
2では、合金(C)を板で示しているが、粉末の場合は
ダイヤモンド粒子と金属粉末を混ぜてから容器に投入し
てもよい。
【0050】
【表2】
【0051】(実施例3) 実施例1に用いたダイヤモ
ンド粒子を石英容器にいれ、これに表3に示す合金
(C)と金属(A)の板を夫々入れる(試料3−1〜3
−8)。試料3−9、3−10は粉末にしてダイヤモン
ド粒子と混合後投入。合金(C)と金属(A)は等重量
である。これを実施例1と同様に減圧条件で、加熱し、
合金(C)を選択的に溶融する。合金(C)は全て組み
合わせた金属(A)よりも融点が低いので、金属(A)
が溶融する前に合金(C)が溶融する。この状態で5分
維持し、金属炭化物(B’)の形成を行い、その後昇温
して金属(A)も溶融させた。ここで、金属(A)とダ
イヤモンド粒子は合金(C)の存在無しではダイヤモンド
粒子間に金属(A)が浸透していかないが、合金(C)
により、ダイヤモンド粒子の表面に金属炭化物(B’)
が形成され、金属(A)がダイヤモンド粒子間に浸透す
る。その後冷却し、容器から取出して加工し、ヒートシ
ンクを作製した。出来上がったヒートシンクの熱伝導率
を測定し、表3に示す。この結果から、このような製造
方法でも使用した金属の熱伝導率より大きな熱伝導率を
持ったヒートシンクができる。
【0052】
【表3】
【0053】(実施例4) ダイヤモンド粒子(粒径:
200〜300μm)と、表4に示す金属(A)及び合
金(C)の板を石英容器にいれ、試料4−1〜4−5に
ついては真空チャンバーで10-5Torrの減圧条件で
加熱した。試料4−6、4−7は1気圧に調整したAr
ガス雰囲気中で加熱、試料4−8については、圧力容器
に入れ、Arガス雰囲気中3気圧にて加熱した。加熱温
度は、単味でいれた金属(A)の融点付近で一旦保持
し、その後、昇温して合金(C)の融点まで上げた。金
属(A)はダイヤモンドとの馴染みが悪いので、溶融さ
れた後、ダイヤモンド粒子の間に、あるいは表面付近に
滴状に分布していたが、合金(C)が溶融すると、合金
中の金属(B)により、ダイヤモンド粒子表面に金属炭
化物(B’)が形成しはじめ、金属(A)の滴状物は合
金と馴染んで浸透した。
【0054】合金(C)の融点に昇温してから2分維持
した後、加熱を止め、徐冷し、室温に戻してから取出
し、容器を外し、所望のヒートシンクの形状に研磨加工
した。
【0055】この実施例で用いたダイヤモンド粒子の量
は、出来あがったヒートシンクの全体の体積比で55〜
65%であった。また、合金(C)と金属(A)は重量
比を1:1に合わせた板を使用している。合金(C)に
含ませた金属(B)の量は、表4に記載のように、ここ
ではすべて、ヒートシンク全体の原子数比で0.6at
m%に調整した。
【0056】出来上がったヒートシンクの熱伝導率を測
定し、結果を表4に示す。この結果から、用いた金属及
び合金の熱伝導率に対し、大きな熱伝導率をもつヒート
シンクになっていることがわかる。特に試料4−4、4
−5は実施例2及び3にて示すAg−Cu系の金属を用
いた例に比べ、遜色ない値が得られる。また、加熱雰囲
気が減圧条件であっても、常圧であっても、加圧条件で
あっても同じような結果が得られ、雰囲気条件に左右さ
れない。
【0057】
【表4】
【0058】(実施例5) ダイヤモンド粒子(粒径:
200〜300μm)と、表5に示す金属(A)の粉末
と、同じく表5に示す合金(C)の粉末を混合した。そ
の比率は、ダイヤモンド粒子が体積比で40〜50%の
間になるように調整した。合金(C)については、含ま
れる金属(A)のAgとCuは両者の体積比で表5のよ
うにし、これに加える金属(B)はダイヤモンド粒子の
体積比率を考慮し、出来上がったヒートシンク全体の原
子数比で表した。金属(A)単味の融点は、合金(C)の
融点より高いものを選んでいる。そして、合金(C)と
金属(A)は、重量比で1:1に調製した。なお、対比
データとして、合金(C)を含まない例(試料5−3、
5−6)を比較例として示す。金属(A)を単味で加え
ていない実施例(試料5−7)も示す。
【0059】ダイヤモンド粒子と金属粉を混合した後、
成形プレスにて所望の形状に加圧成形した。成形圧力は
約2000kg/cm2である。成形された後、焼結炉
にいれ、不活性ガス雰囲気中で昇温し、合金(C)の融
点を越える温度に保ち1分保持した。その後徐冷してか
ら、研磨加工により、寸法を調整した。
【0060】製品からサンプルを切り出し、ヒートシン
クとしての熱伝導率を測定した。結果を使用した金属の
みの熱伝導率と並べて表5に示す。この結果から合金
(C)中に含まれる金属(B)の存在が、出来上がった
ヒートシンク全体の熱伝導率に効果的に効いていること
が容易にわかる。本発明になるヒートシンクにおいて
も、分析の結果、TiCの存在が認められ、金属炭化物
(B’)の形成が確認された。本製法におけるヒートシ
ンクを数箇所切断し、断面に現れた各ダイヤモンド粒子
を観察した結果、ダイヤモンド粒子の周囲に付着してい
るTiCの膜は必ずしも全面を覆っておらず、但し周囲
の1/4以上は確実に覆っていた。
【0061】本実施例に用いた製造工程の概要を図4に
示す。ダイヤモンド粒子と、合金(C)粉末及び金属
(A)粉末をミキサーで混合し、所定の形状に加圧成形
し、減圧、常圧、加圧のいずれかの条件で不活性雰囲
気、もしくは還元性雰囲気で加熱し、合金(C)を焼結
条件にし、保持する。合金(C)の無い試料は、金属
(A)の焼結条件にして保持した。焼成後、取出し、徐
冷後所望のヒートシンク形状まで研磨する。試料5−
3、5−6については、ダイヤモンド粒子と金属(A)
が密着しておらず、強度の研磨をすると、形状がくず
れ、研磨時間を費やした。
【0062】
【表5】
【0063】(実施例6) 実施例5で用いたダイヤモ
ンド粒子と合金(C)、金属(A)の粉末を試料5−1
を使って、焼結温度依存性を調べた。焼結温度を600
〜900℃にし、実施例4と同様に1分保持して出来上
がったヒートシンクの熱伝導率を測定した。結果を表6
に示す。本データでは試料6ー1、6ー2においては金
属部の熱伝導率よりもヒートシンクの熱伝導率の方が低
い値であり、ダイヤモンド粒子を使った効果が出ていな
い。これらの試料を切断し、ダイヤモンド粒子の表面を
観察しても、TiCの形成は見られない。この結果か
ら、合金(C)の融点以下では、ダイヤモンド粒子と金
属の密着性が不十分であり、複合する効果は出ていな
い。
【0064】
【表6】
【0065】(実施例7) ダイヤモンド粒子(粒径:
約300μm、体積比:40〜50%)と表7に示す合
金(C)の粉末を混合し、これを成形プレスで成形し
た。圧力は約2000kg/cmであった。成形され
た試料(試料7−1〜7−7)を加圧焼結炉にて、水素
雰囲気中1気圧で焼結した。試料7−8、7−9は、真
空チャンバーに入れ、10-5Torr以下に減圧して焼
結した。0.5分保持した後、冷却し取出し、研磨加工
によりヒートシンクを得た。そのヒートシンクの熱伝導
率を表7に示す。試料のうち、7ー1、7ー7について
は、金属(B)を含ませておらず、即ち本発明での金属
(A)に相当する。従って焼結が進まず、試料は分解し
て形成できなかった。
【0066】表7の結果より、合金(C)中に金属
(B)を含まないものでは、ダイヤモンド粒子と金属の
密着は焼結により行われず、ヒートシンクとしての効果
も期待できないが、金属(B)を含む合金(C)を用い
れば、使用金属の固有熱伝導率を大幅に越える熱伝導率
をもったヒートシンクを得ることができる。
【0067】
【表7】
【0068】(実施例8) 実施例5と同様の原料系
で、金属(B)の原子数比の効果についての実施例を示
す。使用したダイヤモンド粒子は200〜300μmの
径を用い、金属(A)はAgもしくはCuの高純度品を
用い、合金(C)はAg−Cu系の金属(A)とTiを
金属(B)として使用した。結果としてダイヤモンド−
Ag−Cu−Tiの4元系となっている。金属(B)の
効果をみるために、Tiのヒートシンク全体に対する原
子数比を0〜8atm%まで変化させ、また、ダイヤモ
ンド粒子の量を約50体積%に固定し、残りの金属のう
ちAgの体積比を2条件(90%、20%)取り、各サ
ンプルを作製した。
【0069】製法は、まずダイヤモンド粒子と金属
(A)及び合金(C)の粉末をボールミルにて混合した
後、1000〜7000kg/cm2の範囲の加圧で成
形した。主として2000kg/cm2の圧力を用い
た。成形された後、水素ガス雰囲気中常圧で焼成した。
焼成後、サンプルを所定の大きさに研磨加工して熱伝導
率を測定した。結果を図5に示す。図5では、金属
(B)の原子数比(ここではTi)の4atm%以上は
省略した。
【0070】この結果から、Tiのヒートシンク全体に
対する原子数比がが0.01atm%以上2.5atm
%以下の範囲のとき、ヒートシンクの熱伝導率はAgの
熱伝導率の値を越えることがわかる。金属(B)にTi
を用いたが、Zr、Hfを用いても同じ効果が得られて
いる。即ち、金属(B)の量は、0.01〜2.5at
m%が好ましい結果をもたらす。
【0071】(実施例9) 金属(A)を選択する際、
効果の大きいものと小さいものがある。特にAg−Cu
系を選択する際、どちらかの金属が単味で存在する比率
を選ぶのが好ましい。AgとCuの合金は、熱伝導率を
下げる方向になる為である。この実施例は、金属組成に
おける組成の効果を示す。実施例1で用いた溶浸法で、
金属(A)にAg−Cu系を、金属(B)にTiを用い
て以下のようにした。粒径200〜300μmのダイヤ
モンド粒子をヒートシンク全体の体積比40〜65%に
し、石英容器にいれ、合金(C)はAg−Cu−Ti合
金の板をその上に乗せ、加圧容器に収めた後、Arガス
雰囲気中で3気圧にして加熱し、合金(C)をダイヤモ
ンド粒子に溶浸させた。3分後冷却し、研磨加工し、所
定のヒートシンクを得た。ここで、合金(C)中の金属
組成を変化させ、AgとCuの比率を変え、且つ、Ti
のヒートシンク全体に対する原子数比を0.5〜1at
m%の範囲で変えている。
【0072】得られたヒートシンクの熱伝導率を計測
し、その結果を図6にグラフとして示す。図6では、三
角形の各頂点が頂点に書かれた材料の体積100%を示
す、三元系のグラフである。データは、ダイヤモンド粒
子が、40〜65%の部分でAgとCuの組成を変化さ
せている。図中、○印は、得られたヒートシンクの熱伝
導率が400W/mK以上を示し、その他は300W/
mK以下を示す。明らかにAgとCuの比率が熱伝導率
に影響していることがわかる。これらのデータより、A
g/(Ag+Cu)が0.7以上のとき、及びCu/
(Ag+Cu)が0.8以上の時に熱伝導率が大きくな
る。この理由は、AgとCuの合金の熱伝導率は、両者
の単味の熱伝導率に比べ、極端に低い値を示し、ヒート
シンク中の金属がAg−Cu合金であるよりも、一部合
金化しない単味金属を存在させることにより、熱伝導率
を維持向上させることができるものである。従って本発
明の効果は、Ag−Cu系の金属(A)を用いる場合
は、上記範囲を用いることが好ましい。
【0073】(実施例10) 図4に示す焼結法で、金
属(A)の粉末の代わりに金属(D)を用いた。ダイヤ
モンド粒子は、平均粒径が約300μmのものを用い、
ヒートシンクに対する体積比を40〜50%とした。合
金(C)は表8に示す体積比のもの及び原子数比の金属
(B)を用いている。図4に示す工程で、3種の金属及
び粒子の混合を行い、成形機で2000kg/cm2
圧し成形した。成形されたものを焼結炉にて常圧、水素
還元雰囲気中で合金(C)の融点以上で焼結し、冷却後
研磨加工でヒートシンクを作製した。
【0074】出来上がったヒートシンクの熱伝導率を金
属部分のみの熱伝導率と合わせて表8に示す。なお、実
施例5で行った結果の一部を参考に併記する。この結果
より、金属部の熱伝導率に比べ、作製したヒートシンク
の熱伝導率は格段に大きい値を示すことがわかる。特に
ヒートシンク中に存在するWやMoの粉末は、ダイヤモ
ンド粒子の間に粉末の形状のまま残っており、これらが
独立して存在し、熱の伝導経路を遮断することなく分布
するので、熱伝導経路は合金(C)中のAgもしくはC
uを中心に行われ、WやMoの作用は、熱膨張におい
て、ダイヤモンドと金属(A)の中間の値をとることに
より、熱膨張時のストレス緩和作用を主とする。
【0075】
【表8】
【0076】(実施例11) 平均粒径約300μmの
ダイヤモンド粒子を出来上がりのヒートシンクの体積比
率で40〜50%になるように計量し、これと表9に示
す金属(A)と合金(C)の粉末を混合し、加圧成形し
た。成形されたプリフォームを焼結炉に入れ、水素雰囲
気中で表9に示す温度まで加熱し、焼成した。このう
ち、合金(C)を加えなかった9−3,9−6の試料は
焼成時に形状が崩れ、焼成できなかった。焼成温度は、
合金(C)の融点より高温で溶融する金属(A)の溶融
温度を選定している。ここで得られたヒートシンクは、
その熱伝導率が用いた金属より格段に大きな熱伝導率と
なっていることが表9により示される。本実施例の一部
は、実施例5にも同じ組成の試料があるが、焼成温度の
違いで熱伝導率の大きさに違いがでてくることも実施例
5と違うものになっている。特に本実施例になるヒート
シンクの断面を観察すると、実施例5に見られる金属部
分の2つの異なる相(合金相と金属(A)の相)が無
く、均一な金属相になっている。これが実施例5との熱
伝導率のデータに違いがあることの理由と思われる。
【0077】
【表9】
【0078】(実施例12) ダイヤモンド粒子の径に
よるヒートシンクの熱伝導率への影響を調べた。ダイヤ
モンド粒子の平均径を変化させ、他は実施例5で行った
試料5−1の条件を用いた。ダイヤモンド粒子のヒート
シンクに対する体積比は50%に合うように調整した。
結果を図7にグラフで示す。図7では、用いたダイヤモ
ンド粒子の平均径を横軸に、得られたヒートシンクの熱
伝導率を縦軸にとり、粒子の大きさにより、熱伝導率が
異なる結果を得た。特にダイヤモンド粒子の平均径が6
0μm以下であると用いた金属(A)、すなわちここで
はAgであるが、その固有の熱伝導率より小さい値にな
る。その理由は、ダイヤモンド粒子の表面に形成された
金属炭化物(B’)の固有熱伝導率が小さく、ダイヤモ
ンド粒子の熱伝導率が大きくても、金属との境界にでき
たこの炭化物(B’)により全体の熱伝導率を低下させ
てしまうからである。ダイヤモンド粒子の径はこの意味
から判断すれば、径が大きいほど良いと言う結果にな
る。ところが、径が大きすぎるとヒートシンクの厚みに
制限が加えられ、さらにはダイヤモンド粒子の熱膨張と
金属の熱膨張の差を金属が持つ塑性変形によるストレス
吸収の域を越えてしまう。700μm以下であれば問題
は起こらず、それを越える粒径を用いると、半導体基板
等の接続時に亀裂を生ずることがある。以上から、本発
明に用いるダイヤモンド粒子径は、60μm以上700
μm以下を用いると良い。
【0079】
【発明の効果】本発明によれば、ダイヤモンド粒子の高
熱伝導性を生かし、用いる金属の熱伝導率より大幅に高
熱伝導率を高めたヒートシンクを提供できる。かつ金属
ベースのヒートシンクの熱膨張率とダイヤモンドの熱膨
張率の中間の熱膨張率を持つので、搭載する半導体との
熱歪みをも解消する効果がある。従って、特に熱発生の
大きな半導体用のヒートシンクや、瞬時的に急激に熱を
発生するような半導体を用いる場合のヒートシンクに有
効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の溶浸法を用いた製法の解説図の一例で
ある。(a),(b)の段階で容器にダイヤモンド粒子
を合金(C)と同時もしくは先に入れ、(c)で合金
(C)を溶融する。(d)でダイヤモンド粒子の周囲に
金属炭化物(B’)が形成する。これを冷却して取り出
す。
【図2】本発明の溶浸法を用いた製法の解説図の他の例
である。(a),(b)でダイヤモンド粒子と合金
(C)を容器に入れ、(c)で合金(C)を溶融、
(d)で金属炭化物(B’)が形成された後、(e)で
合金(C)の一部を蒸発させる。(f)で金属(A)を
追加し、溶浸させる。その後冷却して取り出す。
【図3】本発明の溶浸法を用いた製法の解説図のさらに
他の例である。(a),(b)でダイヤモンド粒子と合
金(C)及び金属(A)を容器に入れる。(c)で合金
(C)を溶融この時点では金属(A)は未溶融、(d)
で金属炭化物(B’)が形成され、(e)でさらに金属
(A)を溶融させる。その後冷却して取り出す。
【図4】本発明の焼結法を用いた製法の解説図の一例で
ある。(a)で原料のダイヤモンド粒子、金属(A)の
粉末、合金(C)の粉末を用意し、(b)でこれらを混
合する。混合したものを(c)で型に入れ加圧成形す
る。その後取り出し、焼結炉で焼成する。この時点でダ
イヤモンド粒子のまわりに金属炭化物(B’)が形成さ
れている。冷却後取り出す。
【図5】本発明における金属(B)の量に関するグラフ
である。
【図6】本発明における金属(A)としてAgとCuの
合金を用いた場合の組成比率とそれによって作成された
ヒートシンクの熱伝導率への影響を示すグラフである。
【図7】本発明に使用するダイヤモンド粒子の径と、そ
れを用いて作製したヒートシンクの熱伝導率への影響を
示すグラフである。
【符号の説明】
1:容器 2:ダイヤモンド粒子 3:合金(C)の板 4:溶融した合金(C) 5:金属炭化物(B’) 6:金属(A) 7:合金(C)と金属(A) 8:溶融した合金(C)と未溶融金属(A) 9:溶融した合金(C)と金属(A)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 7/20 H01L 23/36 M

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Ag,Cu,Au,Al,Mg,Znか
    ら選ばれる1種以上の金属(A)と、4a、5a族元素
    及びCrから選ばれる1種以上の金属(B)からなる炭
    化物(B’)と複数のダイヤモンド粒子からなり、個々
    のダイヤモンド粒子の表面積の1/4以上を炭化物
    (B’)が覆っており、その炭化物(B’)に覆われた
    ダイヤモンド粒子同士が金属(A)によって隔てられて
    いる構造を持っていることを特徴とする半導体用ヒート
    シンク。
  2. 【請求項2】 前記ダイヤモンド粒子を覆う金属炭化物
    (B’)の周囲に金属(B)の層が形成されていないこ
    とを特徴とする請求項1に記載の半導体用ヒートシン
    ク。
  3. 【請求項3】 前記金属(A)がさらにW,Mo及びそ
    の合金の1種以上の金属(D)を含む請求項1または2
    に記載の半導体用ヒートシンク。
  4. 【請求項4】 前記ダイヤモンド粒子が平均粒径で60
    μm〜700μmの範囲にあることを特徴とする請求項
    1乃至3のいずれかに記載の半導体用ヒートシンク。
  5. 【請求項5】 前記金属(B)の原子数比がヒートシン
    ク全体の0.01atm%以上、2.5atm%以下で
    ある請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体用ヒート
    シンク。
  6. 【請求項6】 前記金属(B)がTi,Zr,Hfから
    選ばれる1種以上からなる請求項1乃至5のいずれかに
    記載の半導体用ヒートシンク。
  7. 【請求項7】 前記金属(A)がAgとCuの合金から
    なり、かつ両者の体積比率がAg≧0.7であるか、C
    u≧0.8である条件を満たすものであることを特徴と
    する請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体用ヒート
    シンク。
  8. 【請求項8】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダイ
    ヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法であ
    って、その工程に、(1)複数のダイヤモンド粒子を容
    器または型に入れる工程、(2)金属(B)と、金属
    (A)からなる合金(C)をダイヤモンド粒子と同時あ
    るいは、後で容器または型に入れる工程、(3)次に、
    減圧もしくは1000気圧以下で加熱して、前記合金
    (C)を溶融し、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応
    してダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形
    成させるとともに、合金(C)をダイヤモンド粒子間に
    浸透させる工程、を含む、半導体用ヒートシンクの製造
    方法。
  9. 【請求項9】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダイ
    ヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法であ
    って、その工程に、(1)複数のダイヤモンド粒子を容
    器または型に入れる工程、(2)金属(A)と金属
    (B)からなる合金(C)をダイヤモンド粒子と同時あ
    るいは、後で容器または型に入れる工程、(3)次に、
    減圧もしくは1000気圧以下で加熱して合金(C)を
    溶融し、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応してダイ
    ヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成させる
    工程、(4)その後、減圧下で合金(C)の一部を蒸発
    させる工程、(5)蒸発させた後、減圧もしくは100
    0気圧以下で金属(A)を溶浸させる工程、を含む、半
    導体用ヒートシンクの製造方法。
  10. 【請求項10】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)複数のダイヤモンド粒子を
    容器または型に入れる工程、(2)金属(A)と金属
    (B)からなる合金(C)と、それより融点の高い金属
    (A)をダイヤモンド粒子と同時あるいは、後で容器ま
    たは型に入れる工程、(3)次に、減圧もしくは100
    0気圧以下で加熱して合金(C)を溶融し、金属(B)
    がダイヤモンド粒子と反応して、ダイヤモンド粒子の周
    りに金属炭化物(B’)を形成させる工程、(4)つづ
    いて金属(A)を溶融する工程、を含む、半導体用ヒー
    トシンクの製造方法。
  11. 【請求項11】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)複数のダイヤモンド粒子を
    容器または型に入れる工程、(2)金属(A)と金属
    (B)からなる合金(C)と、それより融点の低い金属
    (A)をダイヤモンド粒子と同時あるいは、後で容器ま
    たは型に入れる工程、(3)次に、減圧もしくは100
    0気圧以下で加熱して金属(A)を溶融する工程、
    (4)つづいて合金(C)を溶融し、金属(B)がダイ
    ヤモンド粒子と反応してダイヤモンド粒子の周りに金属
    炭化物(B’)を形成させる工程、を含む、半導体用ヒ
    ートシンクの製造方法。
  12. 【請求項12】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)金属(A)と金属(B)か
    らなる合金(C)粉末と、複数のダイヤモンド粒子を混
    合する工程、(2)混合物を加圧成形する工程、(3)
    成形体を合金(C)の融点以上の温度で焼成することに
    より金属(B)がダイヤモンド粒子と反応してダイヤモ
    ンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成させる工
    程、を含む、半導体用ヒートシンクの製造方法。
  13. 【請求項13】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)金属(A)と金属(B)か
    らなる合金(C)粉末と、それより融点の高い金属
    (A)の粉末と複数のダイヤモンド粒子を混合する工
    程、(2)混合物を加圧成形する工程、(3)成形体を
    合金(C)の融点以上、金属(A)の温度以下で焼成す
    ることにより、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応し
    てダイヤモンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成
    させる工程、を含む、半導体用ヒートシンクの製造方
    法。
  14. 【請求項14】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)金属(A)と金属(B)か
    らなる合金(C)粉末と、それより融点の高いW,Mo
    及びその合金から選ばれる1種類以上の金属粉末(D)
    と、複数のダイヤモンド粒子を混合する工程、(2)混
    合物を加圧成形する工程、(3)成形体を合金(C)の
    融点以上、金属(D)の温度以下で焼成することによ
    り、金属(B)がダイヤモンド粒子と反応してダイヤモ
    ンド粒子の周りに金属炭化物(B’)を形成させる工
    程、を含む、半導体用ヒートシンクの製造方法。
  15. 【請求項15】 金属(A)と金属炭化物(B’)とダ
    イヤモンド粒子からなるヒートシンクを形成する方法で
    あって、その工程に、(1)金属(A)と金属(B)か
    らなる合金(C)粉末と合金(C)より高い融点をもつ
    金属(A)の粉末と、複数のダイヤモンド粒子を混合す
    る工程、(2)混合物を加圧成形する工程、(3)金属
    (A)の融点以上の温度で焼成することにより、金属
    (B)がダイヤモンド粒子と反応してダイヤモンド粒子
    の周りに金属炭化物(B’)を形成させる工程、を含
    む、半導体用ヒートシンクの製造方法。
JP22209197A 1997-08-19 1997-08-19 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法 Expired - Fee Related JP3893681B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22209197A JP3893681B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法
US09/120,453 US6031285A (en) 1997-08-19 1998-07-23 Heat sink for semiconductors and manufacturing process thereof
DE69830769T DE69830769T2 (de) 1997-08-19 1998-07-29 Herstellungsverfahren eines Halbleiter-Kühlkörpers
CA002244505A CA2244505C (en) 1997-08-19 1998-07-29 Heat sink for semiconductors and manufacturing process thereof
EP98114207A EP0898310B1 (en) 1997-08-19 1998-07-29 Manufacturing process of a heat sink for semiconductors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22209197A JP3893681B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1167991A true JPH1167991A (ja) 1999-03-09
JP3893681B2 JP3893681B2 (ja) 2007-03-14

Family

ID=16776995

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22209197A Expired - Fee Related JP3893681B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6031285A (ja)
EP (1) EP0898310B1 (ja)
JP (1) JP3893681B2 (ja)
CA (1) CA2244505C (ja)
DE (1) DE69830769T2 (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001048816A1 (fr) * 1999-12-24 2001-07-05 Ngk Insulators, Ltd. Materiau de puits thermique et procede de fabrication de ce materiau
US6569524B2 (en) 2000-06-23 2003-05-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. High thermal conductivity composite material, and method for producing the same
KR100487635B1 (ko) * 1997-12-31 2005-07-28 주식회사 하이닉스반도체 반도체의패키지몸체제조방법
JP2007535151A (ja) * 2004-04-29 2007-11-29 プランゼー エスエー ホウ素を含むダイヤモンドと銅複合材料から成るヒートシンク
JP2009091605A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Sps Syntex Inc ダイヤモンド粒子分散型金属基複合材料及びその製造方法
US7528413B2 (en) 2001-11-09 2009-05-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sintered diamond having high thermal conductivity and method for producing the same and heat sink employing it
US7791188B2 (en) 2007-06-18 2010-09-07 Chien-Min Sung Heat spreader having single layer of diamond particles and associated methods
TWI394928B (zh) * 2009-12-18 2013-05-01 Ritedia Corp A hot plate with single layer diamond particles and its related methods
JP2013143526A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法、電子装置
US9006086B2 (en) 2010-09-21 2015-04-14 Chien-Min Sung Stress regulated semiconductor devices and associated methods
JP2015099913A (ja) * 2013-10-16 2015-05-28 株式会社アライドマテリアル 半導体素子実装用基板とそれを用いた半導体素子装置
JP5940244B2 (ja) * 2008-07-17 2016-06-29 デンカ株式会社 アルミニウム−ダイヤモンド系複合体及びその製造方法
JP6028987B2 (ja) * 2014-10-09 2016-11-24 株式会社半導体熱研究所 放熱基板及び該放熱基板の製造方法
US10553519B2 (en) 2014-09-02 2020-02-04 A.L.M.T. Corp Heat radiating member and method for producing the same
JPWO2021192916A1 (ja) * 2020-03-24 2021-09-30
JP2022187981A (ja) * 2021-06-08 2022-12-20 ザ グッドシステム コーポレーション 複合材料および放熱部品

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10011892A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-20 Jenoptik Jena Gmbh Montagesubstrat und Wärmesenke für Hochleistungsdiodenlaserbarren
FR2810191A1 (fr) * 2000-06-08 2001-12-14 Centre Nat Rech Scient Drain thermique pour circuit imprime et procedes de realisation de ce drain
RU2206502C2 (ru) 2000-11-21 2003-06-20 Акционерное общество закрытого типа "Карбид" Композиционный материал
JP2003201528A (ja) * 2001-10-26 2003-07-18 Ngk Insulators Ltd ヒートシンク材
GB2395360B (en) * 2001-10-26 2005-03-16 Ngk Insulators Ltd Heat sink material
AT5972U1 (de) * 2002-03-22 2003-02-25 Plansee Ag Package mit substrat hoher wärmeleitfähigkeit
US7173334B2 (en) 2002-10-11 2007-02-06 Chien-Min Sung Diamond composite heat spreader and associated methods
AU2003284065A1 (en) 2002-10-11 2005-05-05 Chien-Min Sung Carbonaceous heat spreader and associated methods
US20050189647A1 (en) * 2002-10-11 2005-09-01 Chien-Min Sung Carbonaceous composite heat spreader and associated methods
US20060113546A1 (en) * 2002-10-11 2006-06-01 Chien-Min Sung Diamond composite heat spreaders having low thermal mismatch stress and associated methods
JP2004146413A (ja) * 2002-10-22 2004-05-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置
US6727117B1 (en) * 2002-11-07 2004-04-27 Kyocera America, Inc. Semiconductor substrate having copper/diamond composite material and method of making same
JP2004200346A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体素子収納用パッケージ、その製造方法及び半導体装置
AT7382U1 (de) 2003-03-11 2005-02-25 Plansee Ag Wärmesenke mit hoher wärmeleitfähigkeit
US7279023B2 (en) * 2003-10-02 2007-10-09 Materials And Electrochemical Research (Mer) Corporation High thermal conductivity metal matrix composites
US7360581B2 (en) * 2005-11-07 2008-04-22 3M Innovative Properties Company Structured thermal transfer article
AT505491B1 (de) * 2007-07-10 2010-06-15 Electrovac Ag Verbundwerkstoff
US20110044003A1 (en) * 2007-07-17 2011-02-24 Huang-Han Chen Heatsink structure
AT10598U1 (de) * 2007-09-28 2009-06-15 Plansee Metall Gmbh Ríntgenanode mit verbesserter warmeableitung
SE532992C2 (sv) * 2007-11-08 2010-06-08 Alfa Laval Corp Ab Förfarande för framställning av en diamantkomposit, grönkropp, diamantkomposit samt användning av diamantkompositen
US7660335B2 (en) * 2008-04-17 2010-02-09 Lasertel, Inc. Liquid cooled laser bar arrays incorporating diamond/copper expansion matched materials
US20100139885A1 (en) * 2008-12-09 2010-06-10 Renewable Thermodynamics, Llc Sintered diamond heat exchanger apparatus
US8541058B2 (en) * 2009-03-06 2013-09-24 Timothy S. Fisher Palladium thiolate bonding of carbon nanotubes
DE102009034082A1 (de) * 2009-07-21 2011-01-27 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronische Baueinheit und Verfahren zur Herstellung einer solchen Baueinheit
WO2011049479A1 (en) * 2009-10-21 2011-04-28 Andrey Mikhailovich Abyzov Composite material having high thermal conductivity and process of fabricating same
US8778784B2 (en) 2010-09-21 2014-07-15 Ritedia Corporation Stress regulated semiconductor devices and associated methods
US8777699B2 (en) 2010-09-21 2014-07-15 Ritedia Corporation Superabrasive tools having substantially leveled particle tips and associated methods
JP5848874B2 (ja) * 2011-01-07 2016-01-27 日本発條株式会社 温度調節装置およびこの温度調節装置の製造方法
TW201240034A (en) * 2011-03-17 2012-10-01 Enlight Corp Thermal conductive composite substrate with heat sink function and method of manufacturing the same
EP2810310A4 (en) * 2012-02-01 2016-01-20 Baker Hughes Inc THERMOELECTRIC DEVICES USING SINTERED CONNECTION
CN104475731A (zh) * 2014-12-16 2015-04-01 深圳市东维丰电子科技股份有限公司 一种增强铜/金刚石复合散热材料及其制备方法
US11025031B2 (en) 2016-11-29 2021-06-01 Leonardo Electronics Us Inc. Dual junction fiber-coupled laser diode and related methods
CN107507776A (zh) * 2017-08-30 2017-12-22 广东工业大学 一种散热板的制备方法
CN107470588B (zh) * 2017-09-18 2019-05-10 上海开朋科技有限公司 在铝金刚石复合材料表面覆盖铜箔的方法
US12351753B2 (en) * 2018-02-21 2025-07-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Composite material and composite material manufacturing method
EP3837743A4 (en) 2018-08-13 2022-05-18 Leonardo Electronics US Inc. Use of metal-core printed circuit board (pcb) for generation of ultra-narrow, high-current pulse driver
US11056854B2 (en) 2018-08-14 2021-07-06 Leonardo Electronics Us Inc. Laser assembly and related methods
DE102018216649A1 (de) * 2018-09-27 2020-04-02 Robert Bosch Gmbh Elektronische Baugruppe
US11296481B2 (en) 2019-01-09 2022-04-05 Leonardo Electronics Us Inc. Divergence reshaping array
US12264384B2 (en) 2019-03-29 2025-04-01 A.L.M.T. Corp. Composite material
US11752571B1 (en) 2019-06-07 2023-09-12 Leonardo Electronics Us Inc. Coherent beam coupler
US11476178B2 (en) 2019-07-22 2022-10-18 Raytheon Company Selectively-pliable chemical vapor deposition (CVD) diamond or other heat spreader
EP3792683A1 (en) 2019-09-16 2021-03-17 Leonardo Electronics US Inc. Asymmetric input intensity hexagonal homogenizer
CN112877563B (zh) * 2021-02-23 2022-05-10 郑州华晶金刚石股份有限公司 一种金刚石/铜复合材料及其制备方法
CN115011917B (zh) * 2022-05-18 2023-06-06 湖南工业职业技术学院 一种基于真空热蒸镀的金刚石颗粒表面改性方法
CN115323211B (zh) * 2022-08-15 2023-04-28 广东奔朗新材料股份有限公司 一种金刚石-铜复合材料及其制备方法
CN116727661A (zh) * 2023-07-31 2023-09-12 北京航空航天大学 一种兼具高导热和高耐热的铝基复合材料及其制备方法
CN118371716A (zh) * 2024-04-29 2024-07-23 深圳市海明润超硬材料股份有限公司 一种聚晶金刚石复合片及其制备方法
CN120280416B (zh) * 2025-06-03 2025-09-16 广州众山精密科技有限公司 一种电子封装散热基板及其加工工艺和应用

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0215977A (ja) * 1988-06-30 1990-01-19 Nisshin Daiyamondo Kk ダイヤモンド砥石とその製造方法
US5130771A (en) * 1988-10-11 1992-07-14 Amoco Corporation Diamond composite heat sink for use with semiconductor devices
JPH039552A (ja) * 1989-06-07 1991-01-17 Idemitsu Petrochem Co Ltd 高熱伝導性部材
JPH04231436A (ja) * 1990-06-01 1992-08-20 United Technol Corp <Utc> ダイヤモンド含有材料及びダイヤモンド含有材料製品の製造方法
US5045972A (en) * 1990-08-27 1991-09-03 The Standard Oil Company High thermal conductivity metal matrix composite
US5120495A (en) * 1990-08-27 1992-06-09 The Standard Oil Company High thermal conductivity metal matrix composite
JPH06326432A (ja) * 1993-05-13 1994-11-25 Denki Kagaku Kogyo Kk 混成集積回路用基板及びその製造方法
US5455738A (en) * 1993-07-28 1995-10-03 E-Systems, Inc. High thermal conductivity, matched CTE. low density mounting plate for a semiconductor circuit
US6264882B1 (en) * 1994-05-20 2001-07-24 The Regents Of The University Of California Process for fabricating composite material having high thermal conductivity
EP0717125A1 (en) * 1994-12-15 1996-06-19 General Electric Company Bonding of diamond to a substrate
JPH08241942A (ja) * 1994-12-28 1996-09-17 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 薄膜積層体
JPH08222669A (ja) * 1995-02-10 1996-08-30 Fuji Dies Kk ヒートシンク及びその製法
JPH09184036A (ja) * 1995-12-28 1997-07-15 Honda Motor Co Ltd 高熱伝導性ダイヤモンド複合Al合金部材およびその製造方法
JP3617232B2 (ja) * 1997-02-06 2005-02-02 住友電気工業株式会社 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法ならびにそれを用いた半導体パッケージ

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100487635B1 (ko) * 1997-12-31 2005-07-28 주식회사 하이닉스반도체 반도체의패키지몸체제조방법
KR100460585B1 (ko) * 1999-12-24 2004-12-09 니뽄 가이시 가부시키가이샤 히트 싱크재 및 그 제조 방법
US6933531B1 (en) 1999-12-24 2005-08-23 Ngk Insulators, Ltd. Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material
WO2001048816A1 (fr) * 1999-12-24 2001-07-05 Ngk Insulators, Ltd. Materiau de puits thermique et procede de fabrication de ce materiau
US6569524B2 (en) 2000-06-23 2003-05-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. High thermal conductivity composite material, and method for producing the same
US7528413B2 (en) 2001-11-09 2009-05-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sintered diamond having high thermal conductivity and method for producing the same and heat sink employing it
EP2428590A2 (en) 2001-11-09 2012-03-14 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sintered diamond having high thermal conductivity and method for producing the same and heat sink employing it
JP2007535151A (ja) * 2004-04-29 2007-11-29 プランゼー エスエー ホウ素を含むダイヤモンドと銅複合材料から成るヒートシンク
US7791188B2 (en) 2007-06-18 2010-09-07 Chien-Min Sung Heat spreader having single layer of diamond particles and associated methods
JP2009091605A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Sps Syntex Inc ダイヤモンド粒子分散型金属基複合材料及びその製造方法
JP5940244B2 (ja) * 2008-07-17 2016-06-29 デンカ株式会社 アルミニウム−ダイヤモンド系複合体及びその製造方法
TWI394928B (zh) * 2009-12-18 2013-05-01 Ritedia Corp A hot plate with single layer diamond particles and its related methods
US9006086B2 (en) 2010-09-21 2015-04-14 Chien-Min Sung Stress regulated semiconductor devices and associated methods
JP2013143526A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法、電子装置
JP2015099913A (ja) * 2013-10-16 2015-05-28 株式会社アライドマテリアル 半導体素子実装用基板とそれを用いた半導体素子装置
US10553519B2 (en) 2014-09-02 2020-02-04 A.L.M.T. Corp Heat radiating member and method for producing the same
JP6028987B2 (ja) * 2014-10-09 2016-11-24 株式会社半導体熱研究所 放熱基板及び該放熱基板の製造方法
US10115655B2 (en) 2014-10-09 2018-10-30 Superufo291 Tec Heat dissipation substrate and method for producing heat dissipation substrate
JPWO2021192916A1 (ja) * 2020-03-24 2021-09-30
WO2021192916A1 (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 住友電気工業株式会社 複合材料、及び放熱部材
CN115427599A (zh) * 2020-03-24 2022-12-02 住友电气工业株式会社 复合材料以及散热构件
JP2022187981A (ja) * 2021-06-08 2022-12-20 ザ グッドシステム コーポレーション 複合材料および放熱部品

Also Published As

Publication number Publication date
EP0898310A3 (en) 1999-10-06
EP0898310B1 (en) 2005-07-06
CA2244505C (en) 2007-12-18
EP0898310A2 (en) 1999-02-24
US6031285A (en) 2000-02-29
DE69830769D1 (de) 2005-08-11
JP3893681B2 (ja) 2007-03-14
CA2244505A1 (en) 1999-02-19
DE69830769T2 (de) 2006-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1167991A (ja) 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法
US5509555A (en) Method for producing an article by pressureless reactive infiltration
US20060157884A1 (en) Method for producing a composite material
JP5275625B2 (ja) ホウ素を含むダイヤモンドと銅複合材料から成るヒートシンク
JP4360061B2 (ja) 半導体装置用部材およびそれを用いた半導体装置
CN102214620B (zh) 具有铜/金刚石复合材料的半导体衬底及其制造方法
JPH10223812A (ja) 半導体用ヒートシンクおよびその製造方法ならびにそれを用いた半導体パッケージ
US6123895A (en) Aluminum base member for semiconductor device containing a nitrogen rich surface and method for producing the same
JP2004197153A (ja) ダイヤモンド−金属複合材料およびその製造方法
EP1432840A2 (en) Discontinuous carbon fiber reinforced metal matrix composite
US6077327A (en) Aluminum composite material of low-thermal expansion and high-thermal conductivity and method of producing same
JPH08186204A (ja) ヒートシンク及びその製造方法
JPH09143591A (ja) W−Cu合金焼結体の製造方法
JP2000297301A (ja) 炭化珪素系複合材料とその粉末およびそれらの製造方法
CN113084717A (zh) 一种芯片划切用多孔质Cu-Sn基超薄砂轮及其制备方法
JP4314675B2 (ja) 炭化珪素粉末とそれを用いた複合材料およびそれらの製造方法
JP4228444B2 (ja) 炭化珪素系複合材料およびその製造方法
JP4461513B2 (ja) アルミニウム−炭化珪素系複合材料およびその製造方法
JPH04333265A (ja) 半導体放熱基板材料の製造方法
JPH108164A (ja) 低熱膨張・高熱伝導性アルミニウム複合材料の製造方法及びその複合材料
JPH08253833A (ja) 銅モリブデン合金およびその製造方法
JPH1088272A (ja) 放熱板,その製造方法,および半導体装置
JP2002097533A (ja) 金属基複合材料の製造方法
JPH108110A (ja) W−Cu合金焼結体の製造方法
JP2979728B2 (ja) 半導体放熱基板材料の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20060808

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060915

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061017

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061025

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees