JPH1159900A - 粒状物の搬送雰囲気変換装置 - Google Patents
粒状物の搬送雰囲気変換装置Info
- Publication number
- JPH1159900A JPH1159900A JP9226909A JP22690997A JPH1159900A JP H1159900 A JPH1159900 A JP H1159900A JP 9226909 A JP9226909 A JP 9226909A JP 22690997 A JP22690997 A JP 22690997A JP H1159900 A JPH1159900 A JP H1159900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atmosphere
- rotating body
- transfer
- diameter portion
- diameter part
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45587—Mechanical means for changing the gas flow
- C23C16/45589—Movable means, e.g. fans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/30—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members
- F04C18/34—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members
- F04C18/344—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members with vanes reciprocating with respect to the inner member
- F04C18/3446—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members with vanes reciprocating with respect to the inner member the inner and outer member being in contact along more than one line or surface
-
- H10P72/18—
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Filling Or Emptying Of Bunkers, Hoppers, And Tanks (AREA)
- Rotary Pumps (AREA)
- Air Transport Of Granular Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】球状シリコンの如き粒状物を高速で搬送しつ
つ、連続する前後の工程間における雰囲気の変換を確実
に行い、かつ、雰囲気の漏れを防止すること。及び、上
記雰囲気の変換を行うにあたり、装置構成を簡潔とする
ことで故障を低減し、メンテナンスを容易にすること。 【解決手段】外周面に開口する凹溝１１を中心から半径
方向に放射状に設けた円筒状回転体６と、前記円筒状回
転体６を収容する断面楕円形の内孔５を有するガイドリ
ング３とをハウジング１内に設け、前記凹溝１１内に滑
動自在にベーン１２を配設するとともに、前記ガイドリ
ング３の、前記内孔５の小径部から大径部への変換箇所
に第１の搬送雰囲気送入管１６を接続し、続く大径部か
ら小径部への変換箇所に第１の搬送雰囲気送出管１７を
接続し、続く小径部から大径部への変換箇所に第２の搬
送雰囲気送入管１８を接続し、続く大径部から小径部へ
の変換箇所に第２の搬送雰囲気送出管１９を接続したこ
とを特徴とする粒状物の搬送雰囲気変換装置を採用す
る。
つ、連続する前後の工程間における雰囲気の変換を確実
に行い、かつ、雰囲気の漏れを防止すること。及び、上
記雰囲気の変換を行うにあたり、装置構成を簡潔とする
ことで故障を低減し、メンテナンスを容易にすること。 【解決手段】外周面に開口する凹溝１１を中心から半径
方向に放射状に設けた円筒状回転体６と、前記円筒状回
転体６を収容する断面楕円形の内孔５を有するガイドリ
ング３とをハウジング１内に設け、前記凹溝１１内に滑
動自在にベーン１２を配設するとともに、前記ガイドリ
ング３の、前記内孔５の小径部から大径部への変換箇所
に第１の搬送雰囲気送入管１６を接続し、続く大径部か
ら小径部への変換箇所に第１の搬送雰囲気送出管１７を
接続し、続く小径部から大径部への変換箇所に第２の搬
送雰囲気送入管１８を接続し、続く大径部から小径部へ
の変換箇所に第２の搬送雰囲気送出管１９を接続したこ
とを特徴とする粒状物の搬送雰囲気変換装置を採用す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、球状半導体チップ
等の粒状物を異なる雰囲気の中を通して搬送する際に使
用される球体物の搬送雰囲気変換装置に関する。
等の粒状物を異なる雰囲気の中を通して搬送する際に使
用される球体物の搬送雰囲気変換装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体チップは、板状の単結晶シ
リコンウェハー上に回路パターンを形成していたが、近
年、直径１ｍｍ以下の球状のシリコン上に回路パターン
を形成して半導体素子を製造する技術が開発されてい
る。そして、この球状の半導体素子を効率的に製造する
ためには、各工程を連結してライン化する必要がある。
リコンウェハー上に回路パターンを形成していたが、近
年、直径１ｍｍ以下の球状のシリコン上に回路パターン
を形成して半導体素子を製造する技術が開発されてい
る。そして、この球状の半導体素子を効率的に製造する
ためには、各工程を連結してライン化する必要がある。
【０００３】しかしながら、各工程を連結する場合、前
工程から被処理物を搬送する雰囲気を後工程に持ち込ま
ないようにしなければならないため、工程間において被
処理物から前工程の雰囲気を除去し、そして後工程に合
わせた雰囲気に変換して被処理物を搬送するといった作
業が必要である。
工程から被処理物を搬送する雰囲気を後工程に持ち込ま
ないようにしなければならないため、工程間において被
処理物から前工程の雰囲気を除去し、そして後工程に合
わせた雰囲気に変換して被処理物を搬送するといった作
業が必要である。
【０００４】しかも、この作業は生産性並びに品質の点
からも高速処理と、高い信頼性を要求される。
からも高速処理と、高い信頼性を要求される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、球状シリコ
ンの如き粒状物を高速で搬送しつつ、連続する前後の工
程間における雰囲気の変換を確実に行い、かつ、雰囲気
の漏れを防止することを課題とする。
ンの如き粒状物を高速で搬送しつつ、連続する前後の工
程間における雰囲気の変換を確実に行い、かつ、雰囲気
の漏れを防止することを課題とする。
【０００６】また、上記雰囲気の変換を行うにあたり、
装置構成を簡潔とすることで故障を低減し、メンテナン
スを容易にすることをもその課題とする。
装置構成を簡潔とすることで故障を低減し、メンテナン
スを容易にすることをもその課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、粒状物の搬送雰囲気変換装置として、
外周面に開口する凹溝を中心から半径方向に放射状に設
けた円筒状回転体と、前記円筒状回転体を収容する断面
楕円形の内孔を有するガイドリングとをハウジング内に
設け、前記凹溝内に滑動自在にベーンを配設するととも
に、前記ガイドリングの、前記内孔の小径部から大径部
への変換箇所に第１の搬送雰囲気送入管を接続し、続く
大径部から小径部への変換箇所に第１の搬送雰囲気送出
管を接続し、続く小径部から大径部への変換箇所に第２
の搬送雰囲気送入管を接続し、続く大径部から小径部へ
の変換箇所に第２の搬送雰囲気送出管を接続したことを
特徴とする粒状物の搬送雰囲気変換装置を採用すること
とした。
に、本発明では、粒状物の搬送雰囲気変換装置として、
外周面に開口する凹溝を中心から半径方向に放射状に設
けた円筒状回転体と、前記円筒状回転体を収容する断面
楕円形の内孔を有するガイドリングとをハウジング内に
設け、前記凹溝内に滑動自在にベーンを配設するととも
に、前記ガイドリングの、前記内孔の小径部から大径部
への変換箇所に第１の搬送雰囲気送入管を接続し、続く
大径部から小径部への変換箇所に第１の搬送雰囲気送出
管を接続し、続く小径部から大径部への変換箇所に第２
の搬送雰囲気送入管を接続し、続く大径部から小径部へ
の変換箇所に第２の搬送雰囲気送出管を接続したことを
特徴とする粒状物の搬送雰囲気変換装置を採用すること
とした。
【０００８】
【発明の実施の形態】この発明は、ガイドリング内に設
けられる内孔を楕円形とすると共に、該内孔に収容され
る回転体を円筒状とし、両者の間に存在する空隙をベー
ンで区画することにより、前記回転体が１回転する間に
前工程からの粒状物及び雰囲気の吸引並びに前記雰囲気
の吐出、そして、次工程で用いる雰囲気の吸引並びに粒
状物及び前記雰囲気の吐出を連続的に行うことをその特
徴とする。
けられる内孔を楕円形とすると共に、該内孔に収容され
る回転体を円筒状とし、両者の間に存在する空隙をベー
ンで区画することにより、前記回転体が１回転する間に
前工程からの粒状物及び雰囲気の吸引並びに前記雰囲気
の吐出、そして、次工程で用いる雰囲気の吸引並びに粒
状物及び前記雰囲気の吐出を連続的に行うことをその特
徴とする。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照しつつ、本発明を実施例に
基づき説明する。ただし、本発明を実施例に限定するも
のでは決してない。
基づき説明する。ただし、本発明を実施例に限定するも
のでは決してない。
【００１０】図１は、本発明に係る粒状物の搬送雰囲気
変換装置の実施の形態の一例について、カバーを取り外
して示す断面図であり、図２は図１のＡ−Ａ線における
断面図である。
変換装置の実施の形態の一例について、カバーを取り外
して示す断面図であり、図２は図１のＡ−Ａ線における
断面図である。
【００１１】ここで、１はハウジングであって、前面側
（図２の左側）に凹部が形成されると共に、該凹部の周
辺部にはカバー２を固定するためのネジ止め部が形成さ
れている。ハウジング１の前記凹部内には、図２に示す
ように、ガイドリング３がバックプレート４を介して密
に取り付けられている。ガイドリング３は楕円形の内周
面５ａを有しており、これにより断面楕円形の内孔５が
ガイドリング３に貫設された状態とされている。
（図２の左側）に凹部が形成されると共に、該凹部の周
辺部にはカバー２を固定するためのネジ止め部が形成さ
れている。ハウジング１の前記凹部内には、図２に示す
ように、ガイドリング３がバックプレート４を介して密
に取り付けられている。ガイドリング３は楕円形の内周
面５ａを有しており、これにより断面楕円形の内孔５が
ガイドリング３に貫設された状態とされている。
【００１２】前記内孔５には円筒形の回転体６が、該回
転体６の中心と内孔５の中心を一致させた状態で嵌め込
まれ、バックプレート４を貫通して延びる回転軸７の一
端側に連結される。回転軸７はその一端が前記したよう
に回転体６に連結される一方、その他端はカップリング
８を介してモーター９の出力軸に連結されており、軸受
１０を介してハウジング１に回転自在に支持されてい
る。したがって、モーター９の回転は回転軸７を通じて
回転体６に伝達される。
転体６の中心と内孔５の中心を一致させた状態で嵌め込
まれ、バックプレート４を貫通して延びる回転軸７の一
端側に連結される。回転軸７はその一端が前記したよう
に回転体６に連結される一方、その他端はカップリング
８を介してモーター９の出力軸に連結されており、軸受
１０を介してハウジング１に回転自在に支持されてい
る。したがって、モーター９の回転は回転軸７を通じて
回転体６に伝達される。
【００１３】一方、図１に示すように、ハウジング１の
四隅には取付具１４を介してアダプター１５が取り付け
られており、各アダプター１５には、それぞれ、第１の
搬送雰囲気送入管１６、第１の搬送雰囲気送出管１７、
第２の搬送雰囲気送入管１８、第２の搬送雰囲気送出管
１９が接続されている。これらの管はハウジング１及び
ガイドリング３を貫通して、ハウジング３の内周面５ａ
まで延設されている。そして、第１の搬送雰囲気送入管
１６、第１の搬送雰囲気送出管１７、第２の搬送雰囲気
送入管１８、第２の搬送雰囲気送出管１９の他端は、そ
れぞれ、図示しない前処理装置、第１の搬送雰囲気回収
装置、第２の搬送雰囲気貯蔵装置、次処理装置に連結さ
れている。
四隅には取付具１４を介してアダプター１５が取り付け
られており、各アダプター１５には、それぞれ、第１の
搬送雰囲気送入管１６、第１の搬送雰囲気送出管１７、
第２の搬送雰囲気送入管１８、第２の搬送雰囲気送出管
１９が接続されている。これらの管はハウジング１及び
ガイドリング３を貫通して、ハウジング３の内周面５ａ
まで延設されている。そして、第１の搬送雰囲気送入管
１６、第１の搬送雰囲気送出管１７、第２の搬送雰囲気
送入管１８、第２の搬送雰囲気送出管１９の他端は、そ
れぞれ、図示しない前処理装置、第１の搬送雰囲気回収
装置、第２の搬送雰囲気貯蔵装置、次処理装置に連結さ
れている。
【００１４】この実施例においては、１２枚のベーン１
２によって、ハウジング３の内周面５ａと回転体６との
間の隙間が複数個の搬送室２０に分割される。本発明に
おいて、各ベーン１２の配置個数は特に限定されるもの
ではないが、３〜１６枚の範囲が好ましい。２枚以下の
場合は粒状物及び各雰囲気の導入並びに排出が不可能で
あり、１６枚より多いとベーン１２の取り付け箇所が多
数必要となるために回転体６が過大となり、装置が大型
化する。また、ベーン１２の配置間隔は任意であり、特
に限定されるものではないが、各雰囲気の円滑な変換の
ためにはその間隔は均等とすることが好ましい。
２によって、ハウジング３の内周面５ａと回転体６との
間の隙間が複数個の搬送室２０に分割される。本発明に
おいて、各ベーン１２の配置個数は特に限定されるもの
ではないが、３〜１６枚の範囲が好ましい。２枚以下の
場合は粒状物及び各雰囲気の導入並びに排出が不可能で
あり、１６枚より多いとベーン１２の取り付け箇所が多
数必要となるために回転体６が過大となり、装置が大型
化する。また、ベーン１２の配置間隔は任意であり、特
に限定されるものではないが、各雰囲気の円滑な変換の
ためにはその間隔は均等とすることが好ましい。
【００１５】図３は回転体６の構造を示すための斜視図
である。
である。
【００１６】図３に詳細に示すように、回転体６には、
その外周面に開口する複数の凹溝１１が形成されてい
る。凹溝１１は円筒形の回転体６の断面中心から放射状
に形成されており、その開口部の第１の辺１１ａと第２
の辺１１ｂは互いに平行とされている。図３に示す例に
おいては第１の辺１１ａと第２の辺１１ｂは円筒状の回
転体６の母線に平行な直線で形成されているが、第１の
辺１１ａと第２の辺１１ｂは直線でなくともよく、後述
するベーン１２の形状に合わせて、曲線としてもよい。
また、互いに平行とされる必要もない。
その外周面に開口する複数の凹溝１１が形成されてい
る。凹溝１１は円筒形の回転体６の断面中心から放射状
に形成されており、その開口部の第１の辺１１ａと第２
の辺１１ｂは互いに平行とされている。図３に示す例に
おいては第１の辺１１ａと第２の辺１１ｂは円筒状の回
転体６の母線に平行な直線で形成されているが、第１の
辺１１ａと第２の辺１１ｂは直線でなくともよく、後述
するベーン１２の形状に合わせて、曲線としてもよい。
また、互いに平行とされる必要もない。
【００１７】図４は、回転体６に形成された凹溝１１と
ベーン１２との関係を示す拡大図である。
ベーン１２との関係を示す拡大図である。
【００１８】凹溝１１内にはベーン１２が滑動自在に嵌
挿されている。図４の場合では、ベーン１２の形状は略
直方体とされているが、必要に応じてその他の様々な形
状としてもよい。
挿されている。図４の場合では、ベーン１２の形状は略
直方体とされているが、必要に応じてその他の様々な形
状としてもよい。
【００１９】ベーン１２は回転体６の回転により生じる
遠心力により凹溝１１からその一部を突出させることの
可能な重量を有している。そして、ベーン１２の長さ
は、ベーン１２自体が凹溝１１から抜け落ちてしまうこ
となくその先端１２ａがガイドリング３の内周面５ａ
（図１参照）の全周を摺接して移動することが可能な範
囲で設定される。ベーン１２の先端１２ａは摺動性の良
い樹脂或いは金属材料で構成することが好ましい。
遠心力により凹溝１１からその一部を突出させることの
可能な重量を有している。そして、ベーン１２の長さ
は、ベーン１２自体が凹溝１１から抜け落ちてしまうこ
となくその先端１２ａがガイドリング３の内周面５ａ
（図１参照）の全周を摺接して移動することが可能な範
囲で設定される。ベーン１２の先端１２ａは摺動性の良
い樹脂或いは金属材料で構成することが好ましい。
【００２０】図４（ｂ）は、ベーン１２の底部に弾発部
１３を設けた例である。弾発部１３としては図示するよ
うな機械的バネのみならず、ゴム等の弾性体であっても
よい。このようにすることで、ベーン１２の先端１２ａ
をガイドリング３の内周面５ａに確実に押圧することが
できる。
１３を設けた例である。弾発部１３としては図示するよ
うな機械的バネのみならず、ゴム等の弾性体であっても
よい。このようにすることで、ベーン１２の先端１２ａ
をガイドリング３の内周面５ａに確実に押圧することが
できる。
【００２１】そして、この場合は、前記凹溝１１の回転
体６の表面側に、ベーン１２の抜け落ちを防止するため
の係合段部１１ｃを設けると共に、ベーン１２の底部に
も前記係合段部１１ｃと係合する係止突部１２ｂを設け
ることが好ましい。このようにすることで、回転体６の
回転による遠心力の作用によりベーン１２が凹溝１１か
ら抜け落ちることを確実に防止できる。
体６の表面側に、ベーン１２の抜け落ちを防止するため
の係合段部１１ｃを設けると共に、ベーン１２の底部に
も前記係合段部１１ｃと係合する係止突部１２ｂを設け
ることが好ましい。このようにすることで、回転体６の
回転による遠心力の作用によりベーン１２が凹溝１１か
ら抜け落ちることを確実に防止できる。
【００２２】図５は、本実施例に係る粒状物の搬送雰囲
気変換装置の中心部の拡大断面図である。
気変換装置の中心部の拡大断面図である。
【００２３】上述したように、ハウジング３の内周面５
ａには、第１の搬送雰囲気送入管１６、第１の搬送雰囲
気送出管１７、第２の搬送雰囲気送入管１８、第２の搬
送雰囲気送出管１９が開口している。
ａには、第１の搬送雰囲気送入管１６、第１の搬送雰囲
気送出管１７、第２の搬送雰囲気送入管１８、第２の搬
送雰囲気送出管１９が開口している。
【００２４】そして、第１の搬送雰囲気送入管１６は内
孔５が小径部から大径部へ変換する内周面５ａ（以下、
「第１の拡大領域Ａ」という）に、第１の搬送雰囲気送
出管１７は内孔５が続いて大径部から小径部へ変換する
内周面５ａ（以下、「第１の縮小領域Ｂ」という）に、
第２の搬送雰囲気送入管１８は内孔５が続いて小径部か
ら大径部へ変換する内周面５ａ（以下、「第２の拡大領
域Ｃ」という）に、第２の搬送雰囲気送出管１９は内孔
５が続いて大径部から小径部へ変換する内周面５ａ（以
下、「第２の縮小領域Ｄ」という）に、それぞれ、開口
している。
孔５が小径部から大径部へ変換する内周面５ａ（以下、
「第１の拡大領域Ａ」という）に、第１の搬送雰囲気送
出管１７は内孔５が続いて大径部から小径部へ変換する
内周面５ａ（以下、「第１の縮小領域Ｂ」という）に、
第２の搬送雰囲気送入管１８は内孔５が続いて小径部か
ら大径部へ変換する内周面５ａ（以下、「第２の拡大領
域Ｃ」という）に、第２の搬送雰囲気送出管１９は内孔
５が続いて大径部から小径部へ変換する内周面５ａ（以
下、「第２の縮小領域Ｄ」という）に、それぞれ、開口
している。
【００２５】次に本実施例に係る粒状物の搬送雰囲気変
換装置の動作について説明する。
換装置の動作について説明する。
【００２６】図示しないスイッチ等によりモーター９を
作動させて回転軸７により回転体６を回転させると、そ
の遠心力の作用により凹溝１１内のベーン１２が一部突
出し、その先端１２ａが内周面５ａに当接する。したが
って、回転体６と内周面５ａとの間の隙間が複数の搬送
室２０に分割される。
作動させて回転軸７により回転体６を回転させると、そ
の遠心力の作用により凹溝１１内のベーン１２が一部突
出し、その先端１２ａが内周面５ａに当接する。したが
って、回転体６と内周面５ａとの間の隙間が複数の搬送
室２０に分割される。
【００２７】そして、回転体６が十分に高速で回転する
定常状態に到達すると、強力な遠心力により、先端１２
ａが内周面５ａに強く押圧された状態でベーン１２が摺
動回転する。したがって、各搬送室２０は完全に気密と
される。このような定常状態に到達したことを確認した
後に図示しないバルブを開いて第１の搬送雰囲気送入管
１６を開く。
定常状態に到達すると、強力な遠心力により、先端１２
ａが内周面５ａに強く押圧された状態でベーン１２が摺
動回転する。したがって、各搬送室２０は完全に気密と
される。このような定常状態に到達したことを確認した
後に図示しないバルブを開いて第１の搬送雰囲気送入管
１６を開く。
【００２８】さて、回転体６の回転に伴い、ある搬送室
２０が第１の拡大領域Ａに到達したとする。第１の拡大
領域Ａは、上記したとおり、内孔５が小径部から大径部
へ変換する部分であるので、そこにおいては搬送室２０
の体積は徐々に増大する。
２０が第１の拡大領域Ａに到達したとする。第１の拡大
領域Ａは、上記したとおり、内孔５が小径部から大径部
へ変換する部分であるので、そこにおいては搬送室２０
の体積は徐々に増大する。
【００２９】したがって、搬送室２０内には吸引力が発
生し、第１の拡大領域Ａに開口する第１の搬送雰囲気送
入管路１６を介して、図示しない前処理装置から前処理
工程で使用された第１の雰囲気と共に球状シリコン等の
粒状物が搬送室２０内に吸引される。
生し、第１の拡大領域Ａに開口する第１の搬送雰囲気送
入管路１６を介して、図示しない前処理装置から前処理
工程で使用された第１の雰囲気と共に球状シリコン等の
粒状物が搬送室２０内に吸引される。
【００３０】続いて回転体６が回転すると、搬送室２０
は第１の拡大領域Ａから第１の縮小領域Ｂへと移動す
る。第１の縮小領域Ｂは、上記したとおり、内孔５が大
径部から小径部へ変換する部分であるので、そこにおい
ては搬送室２０の体積は徐々に減少する。
は第１の拡大領域Ａから第１の縮小領域Ｂへと移動す
る。第１の縮小領域Ｂは、上記したとおり、内孔５が大
径部から小径部へ変換する部分であるので、そこにおい
ては搬送室２０の体積は徐々に減少する。
【００３１】したがって、搬送室２０内の第１の雰囲気
に対する排出力が発生し、第１の縮小領域Ｂに開口する
第１の搬送雰囲気送出管１７を介して図示しない第１の
搬送雰囲気回収装置へと送出される。こうして粒状物の
周囲から第１の搬送雰囲気が除去される。
に対する排出力が発生し、第１の縮小領域Ｂに開口する
第１の搬送雰囲気送出管１７を介して図示しない第１の
搬送雰囲気回収装置へと送出される。こうして粒状物の
周囲から第１の搬送雰囲気が除去される。
【００３２】このとき、前記第１の搬送雰囲気と共に粒
状物も一緒に第１の搬送雰囲気送出管路１７内へ排出さ
れることのないように、第１の搬送雰囲気送出管路１７
の開口部を網及びポーラスなセラミック等のフィルター
で覆うことが好ましい。
状物も一緒に第１の搬送雰囲気送出管路１７内へ排出さ
れることのないように、第１の搬送雰囲気送出管路１７
の開口部を網及びポーラスなセラミック等のフィルター
で覆うことが好ましい。
【００３３】さらに回転体６が回転すると、搬送室は第
１の縮小領域Ｂから第２の拡大領域Ｃへと移動する。第
２の拡大領域Ｃは、上記したとおり、内孔５が小径部か
ら大径部へ変換する部分であるので、そこにおいては搬
送室２０の体積は徐々に増大する。
１の縮小領域Ｂから第２の拡大領域Ｃへと移動する。第
２の拡大領域Ｃは、上記したとおり、内孔５が小径部か
ら大径部へ変換する部分であるので、そこにおいては搬
送室２０の体積は徐々に増大する。
【００３４】したがって、搬送室２０内には再び吸引力
が発生し、第２の拡大領域Ｃに開口する第２の搬送雰囲
気送入管路１８を介して、図示しない第２の雰囲気の貯
蔵装置から次工程で使用される第２の雰囲気が搬送室２
０内に吸引される。
が発生し、第２の拡大領域Ｃに開口する第２の搬送雰囲
気送入管路１８を介して、図示しない第２の雰囲気の貯
蔵装置から次工程で使用される第２の雰囲気が搬送室２
０内に吸引される。
【００３５】そして、さらに回転体６が回転すると、搬
送室２０は第２の拡大領域Ｃから第２の縮小領域Ｄへと
移動する。第２の縮小領域Ｄは、上記したとおり、内孔
５が大径部から小径部へ変換する部分であるので、そこ
においては搬送室２０の体積は徐々に減少する。
送室２０は第２の拡大領域Ｃから第２の縮小領域Ｄへと
移動する。第２の縮小領域Ｄは、上記したとおり、内孔
５が大径部から小径部へ変換する部分であるので、そこ
においては搬送室２０の体積は徐々に減少する。
【００３６】したがって、搬送室２０内の粒状物及び第
２の雰囲気に対する排出力が発生し、第２の縮小領域Ｄ
に開口する第２の搬送雰囲気送出管１９を介して図示し
ない次処理装置へと送出される。
２の雰囲気に対する排出力が発生し、第２の縮小領域Ｄ
に開口する第２の搬送雰囲気送出管１９を介して図示し
ない次処理装置へと送出される。
【００３７】回転体６が１回転する毎に、上記したよう
な、粒状物と第１の雰囲気の吸引、第１の雰囲気の送
出、第２の雰囲気の吸引、粒状物と第２の雰囲気の送出
の操作が繰り返される。このようにして第１の雰囲気と
第２の雰囲気の変換が連続して行われる。なお、ベーン
１２によって区切られる搬送室２０のそれぞれに保持さ
れる粒状物の個数は任意であるが、雰囲気の変換を確実
に行うために１個ずつとするのが好ましい。
な、粒状物と第１の雰囲気の吸引、第１の雰囲気の送
出、第２の雰囲気の吸引、粒状物と第２の雰囲気の送出
の操作が繰り返される。このようにして第１の雰囲気と
第２の雰囲気の変換が連続して行われる。なお、ベーン
１２によって区切られる搬送室２０のそれぞれに保持さ
れる粒状物の個数は任意であるが、雰囲気の変換を確実
に行うために１個ずつとするのが好ましい。
【００３８】
【発明の効果】請求項１の装置によれば、以下の効果を
奏する、 （１）粒状物と共に搬送される雰囲気の変換処理が連続
的に行えるために、雰囲気変換作業の高速化が可能であ
り、極めて生産性が高い。
奏する、 （１）粒状物と共に搬送される雰囲気の変換処理が連続
的に行えるために、雰囲気変換作業の高速化が可能であ
り、極めて生産性が高い。
【００３９】（２）装置自体に吸引及び吐出作用がある
ために吸引装置及び吐出装置が不要である。したがっ
て、構成部品を少なくすることができ、故障率も少な
く、メンテナンスも容易である。
ために吸引装置及び吐出装置が不要である。したがっ
て、構成部品を少なくすることができ、故障率も少な
く、メンテナンスも容易である。
【００４０】（３）雰囲気の吸引及び送出箇所が異なる
ために、各雰囲気が混じり合うことなくそれぞれを確実
に変換することが可能である。
ために、各雰囲気が混じり合うことなくそれぞれを確実
に変換することが可能である。
【図１】 本発明の粒状物の搬送雰囲気変換装置の実施
の形態の一例を示すための正面図。
の形態の一例を示すための正面図。
【図２】 本発明に係る搬送雰囲気変換装置の図１のＡ
−Ａ線における断面図。
−Ａ線における断面図。
【図３】 回転体６の構造を示すための斜視図。
【図４】 凹溝１１とベーン１２との関係を示す拡大
図。
図。
【図５】 粒状物の搬送雰囲気変換装置の中心部の拡大
断面図。
断面図。
１ ハウジング ２ カバー ３ ガイドリング ４ バックプレート ５ 内孔 ５ａ 内周面 ６ 回転体 ７ 回転軸 ８ カップリング ９ モーター １０ 軸受 １１ 凹溝 １１ａ第１の辺 １１ｂ第２の辺 １１ｃ係合段部 １２ ベーン １２ａ先端部 １２ｂ係止突部 １３ 弾発部 １４ 取付具 １５ アダプター １６ 第１の搬送雰囲気送入管 １７ 第１の搬送雰囲気送出管 １８ 第２の搬送雰囲気送入管 １９ 第２の搬送雰囲気送出管 ２０ 搬送室 Ａ 第１の拡大領域 Ｂ 第１の縮小領域 Ｃ 第２の拡大領域 Ｄ 第２の縮小領域
Claims (1)
- 【請求項１】外周面に開口する凹溝を中心から半径方向
に放射状に設けた円筒状回転体と、 前記円筒状回転体を収容する断面楕円形の内孔を有する
ガイドリングとをハウジング内に設け、 前記凹溝内に滑動自在にベーンを配設するとともに、 前記ガイドリングの、前記内孔の小径部から大径部への
変換箇所に第１の搬送雰囲気送入管を接続し、続く大径
部から小径部への変換箇所に第１の搬送雰囲気送出管を
接続し、続く小径部から大径部への変換箇所に第２の搬
送雰囲気送入管を接続し、続く大径部から小径部への変
換箇所に第２の搬送雰囲気送出管を接続したことを特徴
とする粒状物の搬送雰囲気変換装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226909A JPH1159900A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 粒状物の搬送雰囲気変換装置 |
| US09/112,382 US6039511A (en) | 1997-08-22 | 1998-07-09 | Carrying apparatus for spherical objects |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226909A JPH1159900A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 粒状物の搬送雰囲気変換装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1159900A true JPH1159900A (ja) | 1999-03-02 |
Family
ID=16852508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9226909A Pending JPH1159900A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 粒状物の搬送雰囲気変換装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6039511A (ja) |
| JP (1) | JPH1159900A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100398824C (zh) * | 2004-06-25 | 2008-07-02 | 丁桂秋 | 一种容积式叶片泵 |
| WO2016181428A1 (ja) * | 2015-05-14 | 2016-11-17 | 日産ライトトラック株式会社 | 圧縮性流体用ベーンポンプ |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6203249B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-03-20 | Mitsui High-Tec Inc. | Particulate objects conveying apparatus for conveying particles of a predetermined size |
| EP2075405B1 (en) * | 2007-12-25 | 2015-10-14 | Calsonic Kansei Corporation | Vane-type compressor |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1122822A (en) * | 1965-03-05 | 1968-08-07 | Girling Ltd | Improvements in and relating to fluid flow control valves |
| CA984862A (en) * | 1973-11-22 | 1976-03-02 | Erik J. Jensen | Article passing, rotary seal |
| US4226208A (en) * | 1977-08-04 | 1980-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Vapor deposition apparatus |
| US4481019A (en) * | 1981-05-26 | 1984-11-06 | Moreno Frederick E | Method and apparatus for extracting solids from a gas stream flowing in a pneumatic transport line |
| US4430150A (en) * | 1981-08-07 | 1984-02-07 | Texas Instruments Incorporated | Production of single crystal semiconductors |
| US4703868A (en) * | 1985-12-23 | 1987-11-03 | University Of Florida | Apparatus for metering and dispensing seeds |
| JP2859632B2 (ja) * | 1988-04-14 | 1999-02-17 | キヤノン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
| US5278097A (en) * | 1989-07-31 | 1994-01-11 | Texas Instruments Incorporated | Method of making doped silicon spheres |
| US5044837A (en) * | 1989-09-14 | 1991-09-03 | Phillips Petroleum Company | Method and apparatus for continuously feeding particulate solid material into a pressurized system without pressure loss |
| JPH07326783A (ja) * | 1994-05-30 | 1995-12-12 | Canon Inc | 光起電力素子の形成方法及びそれに用いる薄膜製造装置 |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP9226909A patent/JPH1159900A/ja active Pending
-
1998
- 1998-07-09 US US09/112,382 patent/US6039511A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100398824C (zh) * | 2004-06-25 | 2008-07-02 | 丁桂秋 | 一种容积式叶片泵 |
| WO2016181428A1 (ja) * | 2015-05-14 | 2016-11-17 | 日産ライトトラック株式会社 | 圧縮性流体用ベーンポンプ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6039511A (en) | 2000-03-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2051285B1 (en) | Substrate cleaning apparatus | |
| CN103733323B (zh) | 非接触式搬送设备 | |
| US6503050B2 (en) | Turbo-molecular pump having enhanced pumping capacity | |
| US8663490B2 (en) | Semiconductor wafer handler | |
| KR20000062665A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
| JPH1159900A (ja) | 粒状物の搬送雰囲気変換装置 | |
| TWI898053B (zh) | 基板洗淨裝置、基板洗淨方法及電腦可讀取的記錄媒體 | |
| JPH0611959U (ja) | 回転割出式ウエーハ面取部研磨装置 | |
| US20030037456A1 (en) | Processing platform with integrated particle removal system | |
| JP3445138B2 (ja) | 無接触搬送装置 | |
| JPH11171340A (ja) | 球状物の非接触型搬送装置 | |
| CN114800289A (zh) | 一种用于射流强化研磨加工的废料分离装置 | |
| JPH11300608A (ja) | 化学機械研磨装置 | |
| JPH09107022A (ja) | 回転保持装置及び方法 | |
| CN115932163B (zh) | 一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备 | |
| CN215613758U (zh) | 一种吸尘治具以及除尘设备 | |
| JP6842804B1 (ja) | ロードロック装置 | |
| TW202247326A (zh) | 用於處理基板之設備 | |
| JP7474219B2 (ja) | 基板を搬送する方法 | |
| RU2209172C1 (ru) | Шлюзовой питатель | |
| CN216935093U (zh) | 离心分离器 | |
| JPH0143862Y2 (ja) | ||
| CN117497446A (zh) | 基板处理装置 | |
| WO2025209098A1 (zh) | 基板保持装置及湿法设备 | |
| JP2024099471A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 |