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JPH1153727A - Floating type magnetic head slider and its processing - Google Patents

Floating type magnetic head slider and its processing

Info

Publication number
JPH1153727A
JPH1153727A JP22424297A JP22424297A JPH1153727A JP H1153727 A JPH1153727 A JP H1153727A JP 22424297 A JP22424297 A JP 22424297A JP 22424297 A JP22424297 A JP 22424297A JP H1153727 A JPH1153727 A JP H1153727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slider
tic
magnetic head
floating
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22424297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Komatsu
昭彦 小松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Corp filed Critical Yamaha Corp
Priority to JP22424297A priority Critical patent/JPH1153727A/en
Publication of JPH1153727A publication Critical patent/JPH1153727A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slider generating no adsorption phenomenon between a head spider and a disk by adding a simple processing process in a magnetic disk device. SOLUTION: A spider base stock 1 is constituted by comprising Al2 O3 and TiC as an essential effective components, a rover is cut out from a magnetic head wafer on which plural magnetic conversion elements are formed by a thin film process, a prescribed relief pattern is made on the slider base stock by dry etching, a masking material for etching is removed, TiC component is selectively removed from the vicinity of a surface of a floating plane 11 by dry-etching a whole surface of the floating plane 11 by using a gaseous fluorinated carbon or gaseous oxygen to form minute ruggedness on almost whole surface of the floating plane. Area of recessed parts is adjusted by changing composition ratio of Al2 O3 and TiC contained in the slider base stock within the range of Al2 O3 :TiC=50:50 to 90:10 (atomic %).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、浮動型磁気ヘッ
ドに関するもので、特にそのスライダの浮上面の加工に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a floating magnetic head and, more particularly, to processing of a flying surface of a slider.

【0002】[0002]

【従来の技術】大容量記憶装置としてのハードディスク
ドライブに用いている磁気ヘッドは、装置の稼動中は、
磁気ディスクの回転に伴うディスク表面近傍の空気流に
よりスライダがディスク上方に浮上しているが、装置の
停止中は、スライダがディスクに接触した状態で静止し
ている。図1は、スライダの一例の概要を模式的に示す
もので、1はスライダで、11はディスクに対面するス
ライダの浮上面(浮上のための空気流を受ける面、Air
Bearing Surface 略称ABS)、12はディスクに対す
るスライダの進行方向(実際には、スライダの方が止ま
っていて、ディスクの方が回転して後方へ移動するので
あるが)の前側である前端面、13は進行方向の後側で
ある後端面で、通常はここに磁気変換素子(読取素子お
よび書込素子)が薄膜プロセスにより形成されている。
2. Description of the Related Art A magnetic head used in a hard disk drive as a large-capacity storage device is operated during operation of the device.
The slider flies above the disk due to the airflow near the disk surface accompanying the rotation of the magnetic disk. However, while the apparatus is stopped, the slider is stationary with the slider in contact with the disk. FIG. 1 schematically shows an outline of an example of a slider, in which 1 is a slider, and 11 is a floating surface of the slider facing the disk (a surface that receives airflow for floating, Air
Bearing Surface (abbreviation: ABS), 12 is a front end face which is a front side in the traveling direction of the slider relative to the disk (actually, the slider stops and the disk rotates and moves rearward), 13 Is a rear end face on the rear side in the advancing direction. Usually, a magnetic transducer (read element and write element) is formed here by a thin film process.

【0003】スライダの浮上面とディスクの表面は、浮
上量を一定に保つためにいずれも鏡面仕上げが要求され
るが、図7に図解するように、停止状態で鏡面同士が接
触すると、スライダ1の鏡面仕上げした浮上面10とデ
ィスク6の表面60の間に「吸着」現象が生じてディス
クの起動に支障を来すので、一般には、図8に図解する
ように、ディスク6の側に「テクスチャ」と呼ばれる表
面荒らし加工61を施して、鏡面同士の吸着を避ける。
[0003] Both the flying surface of the slider and the surface of the disk are required to be mirror-finished to keep the flying height constant. However, as shown in FIG. In general, an "attraction" phenomenon occurs between the mirror-finished floating surface 10 and the surface 60 of the disk 6 and hinders the start of the disk. Therefore, as shown in FIG. A surface roughening process 61 called “texture” is performed to avoid adsorption between mirror surfaces.

【0004】ところが、近年、記録密度の上昇に伴って
スライダの浮上量が例えば30〜50nmのように小さ
く設定されてくると、従来のようなテクスチャ加工で
は、ディスク表面の荒れ(通常、山と谷の高さの差が1
0〜20nm程度、山の頂部間の隔たりが100〜20
0nm程度)が大きすぎて、磁気変換素子のポール端部
からディスクの凹凸の山の頂までの距離とディスクの凹
凸の谷の底までの距離の比が無視できない程度に大きく
なってきており、ディスク表面の方は、より平坦な鏡面
加工が必要になってきた。このため、別の方法での吸着
防止が考えられ、例えば、ゾーンテクスチャ加工や、フ
ットパッドDLC加工が提案されている。
However, in recent years, if the flying height of the slider is set to a small value such as 30 to 50 nm with an increase in the recording density, the texture of the disk in the conventional texture processing causes a rough surface of the disk (usually, a peak and a peak). The difference in valley height is 1
0 ~ 20nm, the gap between the peaks is 100 ~ 20
0 nm) is too large, and the ratio of the distance from the pole end of the magnetic transducer to the top of the concave and convex ridges of the disk to the bottom of the concave and convex valleys of the disk has become so large that it cannot be ignored. The disk surface has required a flatter mirror finish. For this reason, prevention of adsorption by another method is considered. For example, zone texture processing and foot pad DLC processing have been proposed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ゾーンテクスチャ加工
は、ディスク面内の必要箇所のみをテクスチャ加工する
ものであるが、この場合は、装置故障でちょうど鏡面の
部分でヘッドが止まると吸着してしまうという不都合が
ある。フットパッドDLC加工は、ヘッドスライダの浮
上面にDLC(Diamond-like Carbon 膜)を部分的に付
ける加工であるが、この場合は、その加工工程として、
パターンカット→デポジション→マスク除去といった面
倒な工程が加わるという不都合がある。
In the zone texturing, texturing is performed only on a necessary portion in the disk surface. In this case, if the head stops just at the mirror surface due to a device failure, it is attracted. There is an inconvenience. The foot pad DLC process is a process in which a DLC (Diamond-like Carbon film) is partially applied to the flying surface of the head slider. In this case, the process is as follows.
There is an inconvenience that a troublesome process such as pattern cutting → deposition → mask removal is added.

【0006】したがって、この発明は、ヘッドスライダ
の浮上面に適量の微小な凹凸を形成することにより、ス
ライダとディスクとの吸着現象を避けることを目的とす
る。また、この発明は、ヘッドスライダに微小な凹凸を
形成するのに、簡単な工程で所望の分量の微小な凹凸を
形成できる加工方法を提供することを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to form an appropriate amount of fine irregularities on the flying surface of a head slider, thereby avoiding the phenomenon of attraction between the slider and the disk. It is another object of the present invention to provide a processing method capable of forming a desired amount of minute unevenness by a simple process for forming minute unevenness on a head slider.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明による浮動型磁
気ヘッドスライダは、その浮上面のほぼ全面に微小な凹
凸が形成されてなるものである。また、この発明による
浮動型磁気ヘッドスライダは、スライダ素材をエッチン
グレートの異なる材料Al23およびTiCを主要有効
成分として含有させて構成し、その浮上面該当領域から
エッチングされやすい方のTiC成分を選択エッチング
により除去することにより凹部を形成し、残ったAl2
3成分を主とする部分により凸部を形成して、当該微
小な凹凸を形成したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A floating magnetic head slider according to the present invention has minute flyings formed on almost the entire floating surface thereof. Further, the floating type magnetic head slider according to the present invention comprises a slider material containing Al 2 O 3 and TiC having different etching rates as main effective components, and a TiC component which is easily etched from a region corresponding to the flying surface. Is removed by selective etching to form a concave portion, and the remaining Al 2
The projections are formed by portions mainly containing the O 3 component, and the minute unevenness is formed.

【0008】さらに、この発明は、浮動型磁気ヘッドス
ライダの加工方法として、主要有効成分としてAl23
およびTiCを含有させてスライダ素材を用意し、スラ
イダ素材に所定のレリーフパターンをドライエッチング
により作成し、エッチング用マスク材を除去し、浮上面
全面をフッ化炭素系ガスまたは酸素ガスを使用してドラ
イエッチングすることによりその浮上面の表面近傍から
TiC成分を選択的に除去し、それにより、表面に微小
な凹凸を形成するものである。
Further, the present invention relates to a method of processing a floating magnetic head slider, wherein Al 2 O 3 is used as a main active ingredient.
And a slider material containing TiC is prepared, a predetermined relief pattern is formed on the slider material by dry etching, the etching mask material is removed, and the entire floating surface is treated with a fluorocarbon-based gas or an oxygen gas. Dry etching selectively removes the TiC component from the vicinity of the surface of the air bearing surface, thereby forming minute irregularities on the surface.

【0009】また、その凹凸の形成の際、TiC成分が
除去されて凹となる部分と前記Al23成分が残って凸
となる部分の段差を2〜50nmとなるように、当該T
iC成分を選択エッチングする。この場合、凸となる部
分の頂部同士の間隔は2〜3μmのオーダである。
In forming the irregularities, the TC is removed so that the step between the concave portion where the TiC component is removed and the convex portion where the Al 2 O 3 component remains is 2 to 50 nm.
The iC component is selectively etched. In this case, the interval between the tops of the convex portions is on the order of 2 to 3 μm.

【0010】また、そのスライダ素材に含有されるAl
23とTiCの組成の比率をAl23:TiC=50:
50〜90:10(原子%)の範囲で変化させることに
より、凹部の面積を調節することができるように工夫し
たものである。
[0010] Further, Al contained in the slider material is
The composition ratio of 2 O 3 and TiC is set to Al 2 O 3 : TiC = 50:
It is devised that the area of the concave portion can be adjusted by changing it in the range of 50 to 90:10 (atomic%).

【0011】[0011]

【作用】浮動型磁気ヘッドスライダの浮上面に適量の微
小な凹凸が形成されるので、スライダとディスクとの吸
着現象を防止することができる。また、エッチングレー
トの異なる材料Al23およびTiCを主要成分として
含有させてスライダ素材を構成し、加工工程にフッ化炭
素系のガスまたは酸素ガスを使用してエッチングされや
すい方のTiC成分をドライエッチングするので、簡単
に所望の分量の微小な凹凸を形成できるとともに、パー
マロイのポール部分の保護膜が凹まないですむ。
Since an appropriate amount of minute unevenness is formed on the floating surface of the floating type magnetic head slider, it is possible to prevent the slider from sticking to the disk. Further, a slider material is formed by containing Al 2 O 3 and TiC having different etching rates as main components, and a TiC component which is easily etched using a fluorocarbon gas or an oxygen gas in a processing step is used. Since dry etching is performed, a desired amount of minute irregularities can be easily formed, and the protective film on the permalloy pole portion does not need to be dented.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面に従って、この発明に
よる浮動型磁気ヘッドスライダの加工手順を説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a floating type magnetic head slider according to the present invention.

【0013】図1は、この発明を実施するスライダの形
状の一例の概要を図解するもので、スライダ1の浮上面
11を上に向けて示している。この発明は、当該浮上面
11に微小な凹凸を実質的に全面に亘って設けるもので
ある。
FIG. 1 schematically illustrates an example of the shape of a slider embodying the present invention, in which a flying surface 11 of the slider 1 is shown facing upward. In the present invention, minute unevenness is provided on the air bearing surface 11 over substantially the entire surface.

【0014】最初に、スライダ素材として、エッチング
レートの大きく異なる2種の材料Al23およびTiC
を主要成分として(必要に応じて他の成分も)含有させ
てスライダサブストレートを構成し、これに所定の薄膜
プロセスにより多数の磁気変換素子を(図示してない
が、図では上に向いている面に)付けて磁気ヘッドウエ
ハを用意し、図2の(A)部分に示すように、磁気ヘッ
ドウエハ2aを図示中の切断線に沿って切断し、図2の
(B)部分に示すようなロウバー(row bar)2bに分
離する。図示してないが、磁気変換素子は、図では向こ
う側を向いている面に位置する。次に、切断されたロウ
バー2bを所望の厚さに研磨する。追って、図2の
(C)部分に示すように、この切断され研磨されたロウ
バーに対して浮上面部作成のためのパターンカットを行
い、そのレジストパターンに従ってドライエッチングし
て複数の溝部分23を除去して、複数の浮上面部分20
を残す。
First, two kinds of materials, Al 2 O 3 and TiC, having greatly different etching rates are used as slider materials.
Is contained as a main component (and other components as necessary) to constitute a slider substrate, on which a number of magnetic transducers are formed by a predetermined thin film process (not shown, but facing upward in the figure). A magnetic head wafer is prepared by attaching the magnetic head wafer 2a along a cutting line shown in FIG. 2 (A), as shown in FIG. 2 (A). Such a row bar 2b is separated. Although not shown, the magnetic transducer is located on the surface facing away from the drawing. Next, the cut row bar 2b is polished to a desired thickness. Subsequently, as shown in FIG. 2C, the cut and polished row bar is subjected to pattern cutting for creating a floating surface portion, and dry etching is performed in accordance with the resist pattern to remove the plurality of groove portions 23. And a plurality of floating surface portions 20
Leave.

【0015】次いで、レジストパターンを除去して、図
3に一部を拡大して図解するように、複数のスライダ素
子がつながったスライダロウ2cを作る。破線30は、
後でスライダ一個一個に切り離す箇所を示している。こ
の例の場合、2本ずつの浮上面部20を左右に有するス
ライダに出来上がる。
Next, the resist pattern is removed, and a slider row 2c in which a plurality of slider elements are connected is formed as shown in FIG. Dashed line 30 is
The position where the slider is cut into individual sliders later is shown. In the case of this example, a slider having two air bearing surfaces 20 on each side is completed.

【0016】図4は、この発明の特徴とする浮上面の加
工を図解するもので、前記図3のスライダロウ2cに対
して、全面にフッ化炭素(CF)系ガスまたは酸素ガス
によるドライエッチングを行って、TiC成分を選択的
に除去する。その結果、Al23成分を主とする部分が
残り、多数の微小な凹凸が形成された浮上面部分41が
できあがる。また、このドライエッチングは、浮上面部
分41とともに、溝部分23にも及ぶが、そこはこの発
明の課題にとっては、用のないところであり、また特に
害にもならないので、あえて避ける必要もなく、特に問
題にならない。この図では、設けてないが、スライダ前
端部の付近で浮上面レールの前端付近にテーパ状の切欠
きを必要により形成してもよい。
FIG. 4 illustrates the processing of the air bearing surface which is a feature of the present invention. The slider row 2c of FIG. 3 is dry-etched with a fluorocarbon (CF) -based gas or oxygen gas over the entire surface. Then, the TiC component is selectively removed. As a result, a portion mainly composed of the Al 2 O 3 component remains, and a floating surface portion 41 on which a large number of minute irregularities are formed is completed. Although this dry etching extends to the groove portion 23 as well as the air bearing surface portion 41, it is useless for the subject of the present invention and does not cause any particular harm. There is no particular problem. Although not shown in this figure, a tapered notch may be formed near the front end of the flying surface rail near the front end of the slider, if necessary.

【0017】この工程の後、必要に応じて、DLCデポ
ジション工程を介在させる。次いで、スライダロウを前
記の切断線30のところでチップ切断し、個別のヘッド
スライダに分割する。その後、ヘッドとしての組立工程
に回る。
After this step, a DLC deposition step is interposed if necessary. Next, the slider row is chip-cut at the cutting line 30 and divided into individual head sliders. Thereafter, the process proceeds to an assembly process as a head.

【0018】[0018]

【実施例】この発明の特徴とする浮上面の加工の具体例
について、詳細を説明する。エッチング装置としては、
RIE(Reactive Ion Etching)装置を使用するのが好
ましい。好ましい加工条件の例としては、 到達真空度:5×10-5[Torr] ガス種類: CF4 ガス圧: 30[mTorr] パワー: 120[W] 時間: 1[分] である。この場合に得られた浮上面の微小な凹凸の様子
を図5の電子顕微鏡写真に示す。TiC成分が除去され
て凹となった部分とAl23成分が残って凸となった部
分の段差は、2〜50nmであった。凸となった部分の
頂部同士の間隔は、写真からもうかがえるように、広い
ところで2〜3μm程度であった。この場合、この選択
エッチングのエッチングレートは、10:1以上に取る
ものとし、好ましくは20:1以上にする。また、スラ
イダ素材に含有されるAl23とTiCの組成の比率
は、Al23:TiC=50:50〜90:10(原子
%)の範囲にとり、この範囲で変化させることにより凹
部の面積割合を調節する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A specific example of processing of a floating surface which is a feature of the present invention will be described in detail. As an etching device,
It is preferable to use an RIE (Reactive Ion Etching) apparatus. An example of preferable processing conditions is: ultimate vacuum: 5 × 10 −5 [Torr] Gas type: CF 4 Gas pressure: 30 [mTorr] Power: 120 [W] Time: 1 [minute] FIG. 5 shows an electron micrograph showing the appearance of minute irregularities on the air bearing surface obtained in this case. The step between the concave portion where the TiC component was removed and the convex portion where the Al 2 O 3 component remained was 2 to 50 nm. The distance between the tops of the convex portions was about 2 to 3 μm in a wide area as can be seen from the photograph. In this case, the etching rate of the selective etching is set to 10: 1 or more, preferably 20: 1 or more. The ratio of the composition of Al 2 O 3 and TiC contained in the slider material is set in the range of Al 2 O 3 : TiC = 50: 50 to 90:10 (atomic%), and by changing the ratio in this range, the concave portion is formed. Adjust the area ratio of.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したようにして百ナノメートル
未満のオーダの深さの微小な凹凸を形成して作成したス
ライダは、図6に模式的に示すように、ディスク面に対
して多数の微小な凹凸面で接するので、停止時における
スライダとディスクとの吸着を防ぐことができる。ま
た、この発明による加工方法は、スライダ素材の成分に
よるエッチングレートの違いを利用してCF系ガスや酸
素ガスによる選択エッチングを行っているので、微小な
凹凸のための特別なマスクを必要とせず、簡単な加工工
程で微小な凹凸を形成することができるし、スライダ素
材の組成の割合を変えることにより、凹部の面積割合を
調節することができる。併せて、パーマロイに対してエ
ッチング作用をしないため、磁気変換素子の方に影響せ
ず実効浮上量の精度を損なわない。
As described above, a slider formed by forming minute irregularities having a depth of less than 100 nanometers as described above has a large number of sliders with respect to the disk surface as schematically shown in FIG. Since the slider is in contact with the minute uneven surface, it is possible to prevent the slider and the disk from being attracted to each other when stopped. Further, in the processing method according to the present invention, since selective etching is performed using a CF-based gas or an oxygen gas utilizing a difference in an etching rate depending on a component of a slider material, a special mask for minute unevenness is not required. In addition, minute irregularities can be formed by a simple processing step, and the area ratio of the concave portion can be adjusted by changing the composition ratio of the slider material. At the same time, since there is no etching effect on the permalloy, it does not affect the magnetic transducer and does not impair the accuracy of the effective flying height.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明を実施するスライダの浮上面を上に
向けた状態の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a slider embodying the present invention, with a flying surface facing upward.

【図2】 この発明のスライダの製造過程におけるスラ
イダ素材の加工順序を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a processing sequence of a slider material in a manufacturing process of the slider of the present invention.

【図3】 図2の加工工程後のスライダ素材を拡大して
示す斜視図である。
FIG. 3 is an enlarged perspective view showing a slider material after the processing step of FIG. 2;

【図4】 図3の一部をさらに拡大してこの発明の特徴
とする加工を施した浮上面の様子を示すスライダ素材の
斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a slider material showing a state of a flying surface on which a part of FIG. 3 is further enlarged and processed to be a feature of the present invention;

【図5】 図4の浮上面の顕微鏡写真である。FIG. 5 is a micrograph of the air bearing surface of FIG. 4;

【図6】 この発明によるスライダを利用した磁気ディ
スク装置におけヘッドスライダと磁気ディスクとの関係
を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing the relationship between a head slider and a magnetic disk in a magnetic disk drive using a slider according to the present invention.

【図7】 従来の磁気ディスク装置におけるヘッドスラ
イダと磁気ディスクとの関係を示す側面図である。
FIG. 7 is a side view showing a relationship between a head slider and a magnetic disk in a conventional magnetic disk device.

【図8】 従来の改良を採用した磁気ディスク装置にお
けるヘッドスライダと磁気ディスクとの関係を示す側面
図である。
FIG. 8 is a side view showing a relationship between a head slider and a magnetic disk in a magnetic disk device employing a conventional improvement.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…スライダ、10…浮上面、11…浮上面、12…前
端面、13…後端面、2a…磁気ヘッドウエハ、2b…
ロウバー、2c…スライダロウ、20…浮上面部分、2
3…溝部分、30切り離し線、41…微小な凹凸が形成
された浮上面部分、6…ディスク、60ディスク表面、
61…テクスチャ加工したディスク表面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Slider, 10 ... Floating surface, 11 ... Floating surface, 12 ... Front end surface, 13 ... Rear end surface, 2a ... Magnetic head wafer, 2b ...
Row bar, 2c: slider row, 20: floating surface portion, 2
3 ... groove portion, 30 separation line, 41 ... floating surface portion with minute unevenness formed, 6 ... disk, 60 disk surface,
61: Textured disk surface

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 浮上面のほぼ全面に微小な凹凸が形成さ
れてなる浮動型磁気ヘッドスライダ。
1. A floating magnetic head slider in which minute irregularities are formed on almost the entire flying surface.
【請求項2】 請求項1に記載の浮動型磁気ヘッドスラ
イダであって、 スライダ素材がエッチングレートの異なる2種の材料を
主要有効成分として含有して構成されており、エッチン
グ処理によりその浮上面該当領域からエッチングされや
すい方の成分を選択エッチングにより除去することによ
り前記微小凹凸が形成されていることを特徴とするも
の。
2. The floating magnetic head slider according to claim 1, wherein the slider material includes two kinds of materials having different etching rates as main effective components, and the flying surface thereof is formed by etching. The fine unevenness is formed by removing a component which is more easily etched from a corresponding region by selective etching.
【請求項3】 請求項2に記載の浮動型磁気ヘッドスラ
イダであって、 前記スライダ素材がAl23およびTiCを主要有効成
分として含有して構成されており、その浮上面該当領域
からTiC成分を選択エッチングにより除去することに
より前記微小凹凸が形成されていることを特徴とするも
の。
3. A floating type magnetic head slider according to claim 2, wherein the slider material is constituted by containing Al 2 O 3 and TiC as a major active ingredient, TiC from the air bearing surface corresponding area The fine irregularities are formed by removing components by selective etching.
【請求項4】 請求項2に記載の浮動型磁気ヘッドスラ
イダであって、 前記微小凹凸の内の凸の部分の主成分がAl23である
ことを特徴とするもの。
4. The floating magnetic head slider according to claim 2, wherein a main component of a convex portion of the fine irregularities is Al 2 O 3 .
【請求項5】 浮動型磁気ヘッドスライダの加工工程に
おいて、 主要有効成分としてAl23およびTiCを含有させて
スライダ素材を用意する工程と、 スライダ素材に所定のレリーフパターンをドライエッチ
ングにより作成する工程と、 エッチング用マスク材を除去する工程と、 浮上面全面をフッ化炭素系ガスまたは酸素ガスを使用し
てドライエッチングすることによりその浮上面該当領域
からTiC成分を選択的に除去し、表面に微小な凹凸を
形成する工程を含んでなる浮動型磁気ヘッドスライダの
加工方法。
5. A processing step of a floating type magnetic head slider, a step of preparing a slider material containing Al 2 O 3 and TiC as main effective components, and forming a predetermined relief pattern on the slider material by dry etching. A step of removing a mask material for etching; and a step of dry-etching the entire floating surface using a fluorocarbon-based gas or an oxygen gas to selectively remove a TiC component from a region corresponding to the floating surface. A method of processing a floating magnetic head slider, comprising the step of forming minute irregularities on the slider.
【請求項6】 請求項5に記載の浮動型磁気ヘッドスラ
イダの加工方法であって、 前記TiC成分が除去されて凹となる部分と前記Al2
3成分が残って凸となる部分の段差が2〜50nmと
なるように前記TiC成分を選択エッチングすることを
特徴とする方法。
6. A method for processing a floating type magnetic head slider according to claim 5, wherein a portion of the TiC component is concave is removed Al 2
A method characterized in that the TiC component is selectively etched so that a step at a convex portion where the O 3 component remains remains 2 to 50 nm.
【請求項7】 請求項5に記載の浮動型磁気ヘッドスラ
イダの加工方法であって、 前記スライダ素材に含有されるAl23とTiCの組成
の比率をAl23:TiC=50:50〜90:10
(原子%)の範囲で変化させることにより凹部の面積を
調節することを特徴とする方法。
7. A method for processing a floating type magnetic head slider according to claim 5, the ratio of composition of Al 2 O 3 and TiC contained in the slider material Al 2 O 3: TiC = 50 : 50-90: 10
(Atom%), wherein the area of the concave portion is adjusted by changing the range.
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