JPH1143221A

JPH1143221A - 基板処理装置および方法

Info

Publication number: JPH1143221A
Application number: JP19993497A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Imanishi; 保夫今西; Masami Otani; 正美大谷; Masao Tsuji; 雅夫辻; Masaki Iwami; 優樹岩見; Joichi Nishimura; 讓一西村; Akihiko Morita; 彰彦森田; Takanori Kawamoto; 隆範川本
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-07-25
Filing date: 1997-07-25
Publication date: 1999-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】移動機構の剛性や駆動系のトルクを高くする
ことなく、基板搬送装置の移動時の揺れを低減すること
ができる基板処理装置および方法を提供する。【解決手段】まず、基板搬送ロボットＴＲを水平方向
に移動させることなく、Ｚ方向駆動機構３０を使用して
鉛直方向下方に所定の高さまで移動させる。次に、上記
所定の高さを維持したまま、Ｘ方向駆動機構２０を使用
してホットプレートＨＰ９との受け渡し位置からＸ方向
駆動機構２０によるベース部材５５の移動ラインへの垂
線上まで基板搬送ロボットＴＲを移動させる。そして、
Ｘ方向駆動機構２０による移動が停止する直前または停
止後に、Ｚ方向駆動機構３０を作動させて基板搬送ロボ
ットＴＲを鉛直方向上方のホットプレートＨＰ９との受
け渡し位置まで移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板や液晶
ガラス基板などの薄板状基板（以下、単に「基板」と称
する）を基板搬送装置を用いて所定の処理部間で搬送す
る基板処理装置および方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、上記基板に対しては、レジスト
塗布処理、露光処理、現像処理およびそれらに付随する
加熱処理、冷却処理などの諸処理が順次施されて、所望
の基板処理が行われている。そして、被処理基板は上記
処理を行う各処理部間を所定の処理手順に従って基板搬
送ロボットにより循環搬送される。

【０００３】基板処理装置において、上記各処理を行う
処理部のうちレジスト塗布処理や現像処理を行う処理部
は平面的に配置されている場合が多いが、加熱処理や冷
却処理を行う熱処理部は通常多段に積層されて配置され
ている。したがって、これらの処理部に基板を搬送する
基板搬送ロボットは水平方向の移動のみならず鉛直方向
の移動も可能なように構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図６は、従来の基板搬
送ロボットの動作を説明するための模式図である。この
基板搬送ロボットＴＲは搬送アーム９１、アーム支持台
９２によって構成されている。

【０００５】アーム支持台９２は、鉛直方向（Ｚ方向）
移動機構９３によって鉛直方向に移動自在とされてい
る。また、鉛直方向移動機構９３は基台９４に設置され
ている。そして、基台９４は水平方向（Ｘ方向）移動機
構９５によって水平方向に移動自在とされている。した
がって、基台９４の移動にともなって鉛直方向移動機構
９３および基板搬送ロボットＴＲも水平方向に移動する
こととなる。

【０００６】このような構成により、基板搬送ロボット
ＴＲは搬送アーム９１に基板を保持した状態で鉛直方向
の移動と水平方向の移動を行うことができる。

【０００７】従来の基板搬送ロボットＴＲが図中の実線
位置から一点鎖線の位置まで移動する場合、その移動時
間が最短となるように移動していた。すなわち、水平方
向の移動と鉛直方向の移動とを並行して行い、全体とし
ての移動時間が最短となるように移動を行っていた。

【０００８】ところで、近年においては基板の大口径化
が進められており、径が３００ｍｍ以上の基板も処理対
象とされつつある。それに伴って基板搬送ロボットＴＲ
も大型化し、その質量も大きくなっていた。したがっ
て、基台９４まわりの基板搬送ロボットＴＲの慣性モー
メントも大きくなり、基板搬送ロボットＴＲが鉛直方向
の高い位置にあるときに移動開始または移動停止すると
当該基板搬送ロボットＴＲに大きな揺れが生じるおそれ
があった。

【０００９】このような大きな揺れを低減するために
は、鉛直方向移動機構９３の剛性を高めるとともに、水
平方向移動機構９５の駆動系のトルクを高くする必要が
ある。

【００１０】しかしながら、上記のような対策は当然に
コストアップの原因となり、さらに高トルクの駆動系を
設けた場合には大きな設置スペースも必要となる。基板
処理装置が通常設置されるクリーンルームは、その環境
を維持するために多くの費用が必要であるため、装置の
設置スペースが大きくなることは好ましくない。

【００１１】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、移動機構の剛性や駆動系のトルクを高くするこ
となく、基板搬送装置の移動時の揺れを低減することが
できる基板処理装置および方法を提供することを目的と
する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、所定の処理部間で基板の搬送を
行う基板搬送装置を備えた基板処理装置であって、(a)
所定の駆動部を含み、前記処理部と基板の受け渡しを行
う第１の受け渡し位置から第２の受け渡し位置まで前記
基板搬送装置を移動させる移動手段と、(b)前記駆動部
まわりの慣性モーメントに関して、前記第１の受け渡し
位置における前記基板搬送装置の慣性モーメントよりも
小さい値の慣性モーメントとなる位置まで前記基板搬送
装置を移動させた後、前記第２の受け渡し位置まで前記
基板搬送装置を移動させるように前記移動手段を制御す
る移動制御手段と、を備えている。

【００１３】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
に係る基板処理装置において、前記移動手段に、(a-1)
前記基板搬送装置を第１の線に沿って移動させる第１移
動手段と、(a-2)前記第１移動手段を前記第１の線と直
交する第２の線に沿って移動させる第２移動手段とを備
えさせ、前記移動制御手段に、前記第１移動手段を制御
させて前記基板搬送装置を前記第１の受け渡し位置より
も前記第２の線に近づけた後、前記第２移動手段を制御
させて前記基板搬送装置を前記第２の位置から前記第２
の線への垂線上まで移動させ、前記第２移動手段による
移動の停止直前または停止後に前記第１移動手段を制御
させて前記基板搬送装置を前記第２の受け渡し位置まで
移動させている。

【００１４】また、請求項３の発明は、請求項２の発明
に係る基板処理装置において、前記第１の線を鉛直方向
に沿った線とし、前記第２の線を水平方向に沿った線と
している。

【００１５】また、請求項４の発明は、所定の処理部と
基板の受け渡しを行う第１の受け渡し位置から第２の受
け渡し位置まで所定の駆動部からの駆動力を基板搬送装
置に伝達して当該基板搬送装置を移動させることにより
基板の搬送を行う基板処理方法であって、(a)前記駆動
部まわりの慣性モーメントに関して、前記第１の受け渡
し位置における前記基板搬送装置の慣性モーメントより
も小さい値の慣性モーメントとなる位置まで前記基板搬
送装置を移動させる第１移動工程と、(b)前記基板搬送
装置を前記第２の受け渡し位置まで移動させる第２移動
工程と、を備えている。

【００１６】また、請求項５の発明は、請求項４の発明
に係る基板処理方法において、前記第１移動工程に、前
記基板搬送装置を第１の線に沿って移動させて前記第１
の線と直交する第２の線に前記第１の受け渡し位置より
も近づける工程を含ませ、前記第２移動工程に、(b-1)
前記基板搬送装置を前記第２の位置から前記第２の線へ
の垂線上まで前記第２の線に沿って移動させる工程と、
(b-2)前記第２の線に沿った移動の停止直前または停止
後に、前記基板搬送装置を前記第２の受け渡し位置まで
移動させる工程と、を含ませている。

【００１７】また、請求項６の発明は、請求項５の発明
に係る基板処理方法において、前記第１の線を鉛直方向
に沿った線とし、前記第２の線を水平方向に沿った線と
している。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。

【００１９】＜Ａ．基板処理装置の全体構成＞図１は、
本発明に係る基板処理装置の概略平面配置図である。ま
た、図２は、図１の基板処理装置の模式的斜視図であ
る。なお、図１、図２および以下の各図には、その方向
関係を明確にするためＸＹＺ直角座標系を付している。
ここでは、床面に平行な水平面をＸＹ面とし、鉛直方向
をＺ方向としている。そして、（＋Ｘ）方向と（−Ｘ）
方向とを区別しない場合には単に「Ｘ方向」と呼ぶ
（「Ｙ」および「Ｚ」についても同様とする）。

【００２０】図１に示すように、基板処理装置は、基板
の搬出入を行うインデクサＩＤと、基板の搬送が行われ
る搬送路Ｒと、第１処理部群Ａと、第２処理部群Ｂとを
備えている。

【００２１】インデクサＩＤは、図示を省略する基板収
納カセットを載置するとともに、当該カセットから基板
を払い出し又は格納する基板移載装置を備えている。そ
して、未処理基板を第１処理部群Ａおよび第２処理部群
Ｂに供給するとともに、処理済み基板を収容する役割を
果たしている。また、インデクサＩＤには制御部１０が
設けられており、当該制御部１０は後述する基板搬送ロ
ボットＴＲの動作、種々の熱処理および薬液処理など基
板処理装置の動作を管理・制御している。なお、図２に
は、図示の便宜上インデクサＩＤの記載は省略してい
る。

【００２２】搬送路Ｒには、図２に示すように、基板搬
送ロボットＴＲが設けられている。この基板搬送ロボッ
トＴＲは、インデクサＩＤおよび第１処理部群Ａ、第２
処理部群Ｂに含まれる各処理部間における基板の循環搬
送を担当する。ここで、基板搬送ロボットＴＲはＸ方向
に移動自在であり、さらに高さ方向（Ｚ方向）駆動およ
び回転駆動が可能に構成されている。なお、基板搬送ロ
ボットＴＲの動作機構および移動動作については後に説
明する。

【００２３】第１処理部群Ａおよび第２処理部群Ｂは搬
送路Ｒを挟むようにして相対向して設けられている。第
１処理部群Ａは、基板の加熱処理を行う複数のホットプ
レート、冷却処理を行う複数のクールプレート、温湿調
コントロールユニット、スピンコータ（回転式レジスト
塗布装置）ＳＣ１、ＳＣ２やスピンデベロッパ（回転式
現像装置）ＳＤ１からなる薬液処理部群を多段に重なる
ように配設した多段処理部群である。また、第２処理部
群Ｂも同様に、複数のホットプレート、複数のクールプ
レート、温湿調コントロールユニット、スピンコータ
（回転式レジスト塗布装置）ＳＣ１、ＳＣ２やスピンデ
ベロッパ（回転式現像装置）ＳＤ１からなる薬液処理部
群を多段に重なるように配設した多段処理部群である。
なお、ケミカルキャビネットＣＢは第１処理部群Ａ、第
２処理部群Ｂおよび搬送路Ｒの全体における基底部であ
り、レジストや現像液などの薬液を貯蔵する薬液タンク
や処理後の廃液を回収する廃液回収ユニットが配設され
るスペースである。

【００２４】図３は、図１のＶ−Ｖ位置から（＋Ｘ）方
向に見た基板処理装置の側面構成図である。図示のよう
に、この位置においては第１処理部群Ａに上から順にホ
ットプレートＨＰ１、ＨＰ２、ＨＰ３、クールプレート
ＣＰ１、温湿調コントロールユニットＦ、スピンコータ
ＳＣ１が配置されている。また、同様に、この位置にお
いて、第２処理部群Ｂには上から順にホットプレートＨ
Ｐ４、ＨＰ５、ＨＰ６、クールプレートＣＰ３、温湿調
コントロールユニットＦ、スピンコータＳＣ３が配置さ
れている。そして、両処理部群の間には基板搬送ロボッ
トＴＲが設けられている。ここで、温湿調コントロール
ユニットＦは、薬液処理部群の直上に配置されており、
温度および湿度が調節された清浄な空気をスピンコータ
ＳＣ１、ＳＣ３などの各薬液処理部に供給する機能を有
している。

【００２５】＜Ｂ．基板搬送ロボットの構成＞図４は、
基板搬送ロボットＴＲの動作機構を説明するための斜視
図である。図３および図４を使用しつつ、基板搬送ロボ
ットＴＲの動作機構について説明する。なお、本明細書
中において、基板搬送ロボットＴＲはアーム基台４２お
よび搬送アーム５１から構成されている。

【００２６】基板搬送ロボットＴＲは回動機構４０およ
びアームスライド機構５０を備えるとともに、Ｘ方向駆
動機構２０およびＺ方向（鉛直方向）駆動機構３０によ
って移動可能に構成されている。Ｘ方向駆動機構２０
は、Ｘ方向に沿って平行に配置された一対のガイドレー
ル２１と、Ｘ方向に沿って配置された螺軸２２と、基板
搬送ロボットＴＲのベース部材５５の下面に設けられる
とともに螺軸２２に螺合されたナット部材２３と、ベー
ス部材５５の下面に設置されたモータ２５と、ナット部
材２３とモータ２５とを連結するタイミングベルト２４
とから構成されている。なお、ガイドレール２１および
螺軸２２は、図示を省略する搬送路Ｒの両端において固
定支持されている。また、ベース部材５５は、ガイドレ
ール２１上においてＸ方向に摺動自在に支持されてい
る。したがって、モータ２５を正逆方向に回転させるこ
とによって、その回転がタイミングベルト２４を介して
ナット部材２３に伝達され、当該ナット部材２３が回転
することでベース部材５５がガイドレール２１上をＸ方
向に移動することとなる。

【００２７】Ｚ方向駆動機構３０は、パンタグラフ構造
を有する駆動機構である（図４参照）。すなわち、モー
タ３２の正逆回転によって螺軸３３が回転し、当該螺軸
３３に螺合された連結支持部材３４が前後移動（Ｘ方向
に移動）する。そして、連結支持部材３４の前後移動に
ともなって、その連結支持部材３４の両端に連結された
一対のパンタグラフリンク３１が屈伸駆動することとな
る。一対のパンタグラフリンク３１の上端には支持台４
１が連結支持されており、結果として、モータ３２の正
逆回転がパンタグラフリンク３１の屈伸駆動を介して支
持台４１の昇降駆動（Ｚ方向の駆動）に変換されること
になる。

【００２８】支持台４１の上にはアーム基台４２が設け
られており、それらによって回動機構４０が構成されて
いる。すなわち、アーム基台４２に内蔵されたモータの
回転駆動によって、アーム基台４２がＺ方向に平行な軸
を回転軸としてθ方向に回動する。

【００２９】また、アーム基台４２はアームスライド機
構５０を含んでおり、当該アーム基台４２に設けられた
上下一対の搬送アーム５１をそれぞれ独立に前後方向に
（アーム基台４２に対して前後方向に）水平駆動するこ
とが可能である。

【００３０】基板搬送ロボットＴＲは、上記のような各
駆動機構によって各処理部にアクセスし、それら各処理
部との間で基板の受け渡しを行うことが可能となる。具
体的には、対象となる基板処理部に対向する位置までＸ
方向駆動機構２０とＺ方向駆動機構３０とによって移動
し、回動機構４０とアームスライド機構５０とを使用し
て搬送アーム５１のうちの一方を基板処理部内に差し入
れる。その後、基板搬送ロボットＴＲは、Ｚ方向駆動機
構３０を利用して微量に昇降することにより、基板を処
理部から受け取り（又は処理部に渡し）、再びアームス
ライド機構５０によって搬送アーム５１を引き戻すこと
によって受け渡し動作を行う。

【００３１】＜Ｃ．基板搬送ロボットの移動動作＞以上
説明したように、基板搬送ロボットＴＲは水平方向（Ｘ
方向）の移動と鉛直方向（Ｚ方向）の移動とが可能に構
成されている。図５は、本発明に係る基板処理装置にお
ける基板搬送ロボットＴＲの移動動作について説明する
ための模式図である。ここでは基板搬送ロボットＴＲが
ホットプレートＨＰ１との受け渡し位置（図５（ａ）の
実線に示す位置）からホットプレートＨＰ９との受け渡
し位置（図５（ｃ）の一点鎖線に示す位置）まで移動す
る場合について説明する。

【００３２】まず、図５（ａ）に示すように、基板搬送
ロボットＴＲを水平方向に移動させることなく、Ｚ方向
駆動機構３０を使用して鉛直方向下方に所定の高さまで
移動させる（図５（ａ）の一点鎖線で示す位置まで移動
させる）。

【００３３】次に、図５（ｂ）に示すように、上記所定
の高さを維持したまま、すなわちＺ方向駆動機構３０を
作動させることなく、Ｘ方向駆動機構２０を使用して目
的とするホットプレートＨＰ９との受け渡し位置からＸ
方向駆動機構２０によるベース部材５５の移動ライン
（以下、単に「Ｘ方向駆動機構２０による移動ライン」
とする）への垂線上まで移動させる（図５（ｂ）の一点
鎖線で示す位置まで移動させる）。

【００３４】そして、図５（ｃ）に示す如く、Ｘ方向駆
動機構２０による移動が停止する直前または停止後に、
Ｚ方向駆動機構３０を作動させて基板搬送ロボットＴＲ
を鉛直方向上方のホットプレートＨＰ９との受け渡し位
置まで移動させる（図５（ｃ）の一点鎖線で示す位置ま
で移動させる）。このようにして、ホットプレートＨＰ
１との受け渡し位置からホットプレートＨＰ９との受け
渡し位置までの一連の移動動作が行われる。

【００３５】以上のようにすれば、基板搬送ロボットＴ
ＲをＸ方向駆動機構２０による移動ラインに近づけた
後、基板搬送ロボットＴＲの駆動部即ち慣性モーメント
を考える上での基準となるベース部材５５まわりの慣性
モーメントに関し、ホットプレートＨＰ１との受け渡し
位置における基板搬送ロボットＴＲの慣性モーメントよ
りも小さい値の慣性モーメントとなる位置まで基板搬送
ロボットＴＲを移動させた後、ホットプレートＨＰ９と
の受け渡し位置まで移動させているため、基板搬送ロボ
ットＴＲの移動時における揺れを低減することができ
る。そして、この場合、Ｘ方向駆動機構２０やＺ方向駆
動機構３０の剛性および各移動機構の駆動系のトルクは
従来のままであってよい。

【００３６】ところで、図５（ａ）における基板搬送ロ
ボットＴＲの下降位置については、Ｚ方向駆動機構３０
による下方への移動の限界まで降下させ、なるべくＸ方
向駆動機構２０による移動ラインに近づけた方が上記の
効果は得られやすい。もっとも、基板搬送ロボットＴＲ
を下方限界まで移動させると、その移動時間については
長くなるため、上記効果と移動時間の双方を考慮して基
板搬送ロボットＴＲの下降位置を決定すればよい。

【００３７】＜Ｄ．変形例＞以上、この発明の実施形態
について説明したが、本発明は上記の例に限定されるも
のではない。すなわち、本発明に係る基板処理装置は、
ベース部材５５まわりの慣性モーメントに関し、初期位
置における基板搬送ロボットＴＲの慣性モーメントより
も小さい値の慣性モーメントとなる位置まで基板搬送ロ
ボットＴＲを移動させた後、目的とする位置まで基板搬
送ロボットを移動させる形態であればよい。例えば、上
記実施形態において、基板搬送ロボットＴＲは水平方向
の移動と鉛直方向の移動とを組み合わせて移動していた
が、これに限らず、２軸の移動機構を組み合わせて移動
する形態の基板搬送ロボットであればよい。

【００３８】また、基板搬送ロボットＴＲの各駆動機構
も、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、
Ｘ方向駆動機構については、ナット部材２３（又はナッ
ト部材６３）を回転できないように固定しておき、螺軸
２２（又は螺軸６２）を回転させることによって各基板
搬送ロボットをＸ方向に駆動させるようにしてもよい
し、また、螺軸とナット部材とを用いるのではなく、プ
ーリとベルトを用いたベルト送り機構を使用してもよ
く、その他の公知の手段を適用することが可能である。
さらに、Ｚ方向駆動機構についても、パンタグラフ構造
に限定されず、ボールねじなどを利用したネジ送り機構
やその他の伸縮昇降機構、例えばプーリとワイヤを用い
た巻き掛け連動機構を用いてもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
所定の駆動部まわりの慣性モーメントに関して、第１の
受け渡し位置における基板搬送装置の慣性モーメントよ
りも小さい値の慣性モーメントとなる位置まで基板搬送
装置を移動させた後、第２の受け渡し位置まで基板搬送
装置を移動させているため移動機構の剛性や駆動系のト
ルクを高くすることなく、基板搬送装置の移動時の揺れ
を低減することができる。そして、その結果、移動機構
の強化や新たな駆動系の設置にともなうコストアップや
設置スペースの増大を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の概略平面配置図で
ある。

【図２】図１の基板処理装置の模式的斜視図である。

【図３】図１のＶ−Ｖ位置から（＋Ｘ）方向に見た基板
処理装置の側面構成図である。

【図４】基板搬送ロボットの動作機構を説明するための
斜視図である。

【図５】本発明に係る基板処理装置における基板搬送ロ
ボットＴＲの移動動作について説明するための模式図で
ある。

【図６】従来の基板搬送ロボットの動作を説明するため
の模式図である。

【符号の説明】

１０制御部２０Ｘ方向駆動機構３０Ｚ方向駆動機構ＴＲ基板搬送ロボット

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者辻雅夫京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者岩見優樹京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者西村讓一京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者森田彰彦京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者川本隆範京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の処理部間で基板の搬送を行う基板
搬送装置を備えた基板処理装置であって、 (a) 所定の駆動部を含み、前記処理部と基板の受け渡し
を行う第１の受け渡し位置から第２の受け渡し位置まで
前記基板搬送装置を移動させる移動手段と、 (b) 前記駆動部まわりの慣性モーメントに関して、前記
第１の受け渡し位置における前記基板搬送装置の慣性モ
ーメントよりも小さい値の慣性モーメントとなる位置ま
で前記基板搬送装置を移動させた後、前記第２の受け渡
し位置まで前記基板搬送装置を移動させるように前記移
動手段を制御する移動制御手段と、を備えることを特徴
とする基板処理装置。
【請求項２】請求項１記載の基板処理装置において、前記移動手段は、 (a-1) 前記基板搬送装置を第１の線に沿って移動させる
第１移動手段と、 (a-2) 前記第１移動手段を前記第１の線と直交する第２
の線に沿って移動させる第２移動手段と、を備え、前記移動制御手段は、前記第１移動手段を制御して前記
基板搬送装置を前記第１の受け渡し位置よりも前記第２
の線に近づけた後、前記第２移動手段を制御して前記基
板搬送装置を前記第２の位置から前記第２の線への垂線
上まで移動させ、前記第２移動手段による移動の停止直
前または停止後に前記第１移動手段を制御して前記基板
搬送装置を前記第２の受け渡し位置まで移動させること
を特徴とする基板処理装置。
【請求項３】請求項２記載の基板処理装置において、前記第１の線は鉛直方向に沿った線であり、前記第２の線は水平方向に沿った線であることを特徴と
する基板処理装置。
【請求項４】所定の処理部と基板の受け渡しを行う第
１の受け渡し位置から第２の受け渡し位置まで所定の駆
動部からの駆動力を基板搬送装置に伝達して当該基板搬
送装置を移動させることにより基板の搬送を行う基板処
理方法であって、 (a) 前記駆動部まわりの慣性モーメントに関して、前記
第１の受け渡し位置における前記基板搬送装置の慣性モ
ーメントよりも小さい値の慣性モーメントとなる位置ま
で前記基板搬送装置を移動させる第１移動工程と、 (b) 前記基板搬送装置を前記第２の受け渡し位置まで移
動させる第２移動工程と、を備えることを特徴とする基
板処理方法。
【請求項５】請求項４記載の基板処理方法において、前記第１移動工程は、前記基板搬送装置を第１の線に沿って移動させ、前記第
１の線と直交する第２の線に前記第１の受け渡し位置よ
りも近づける工程を含み、前記第２移動工程は、 (b-1) 前記基板搬送装置を前記第２の位置から前記第２
の線への垂線上まで前記第２の線に沿って移動させる工
程と、 (b-2) 前記第２の線に沿った移動の停止直前または停止
後に、前記基板搬送装置を前記第２の受け渡し位置まで
移動させる工程と、を含むことを特徴とする基板処理方
法。
【請求項６】請求項５記載の基板処理方法において、前記第１の線は鉛直方向に沿った線であり、前記第２の線は水平方向に沿った線であることを特徴と
する基板処理方法。