[go: up one dir, main page]

JPH1143614A - Antifogging film and its production - Google Patents

Antifogging film and its production

Info

Publication number
JPH1143614A
JPH1143614A JP20280397A JP20280397A JPH1143614A JP H1143614 A JPH1143614 A JP H1143614A JP 20280397 A JP20280397 A JP 20280397A JP 20280397 A JP20280397 A JP 20280397A JP H1143614 A JPH1143614 A JP H1143614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
monomer
alkyl
hydrophilic
organic peroxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20280397A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Omura
博 大村
Yoshiki Higuchi
慶樹 樋口
Masami Okuo
雅巳 奥尾
Eiji Harada
英治 原田
Shuji Suyama
修治 須山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
NOF Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NOF Corp filed Critical NOF Corp
Priority to JP20280397A priority Critical patent/JPH1143614A/en
Publication of JPH1143614A publication Critical patent/JPH1143614A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a film which has persistent antifogging performance, transparency and practical film strength, wherein on a hydrophobic polymer segment comprising a hydrophobic monomer and being situated on the side of the substrate, a hydrophilic polymer segment comprising at least one hydrophobic monomer having a specified composition is bonded to the hydrophobic polymer segment through an organic peroxide fragment. SOLUTION: The hydrophilic monomer is selected among those containing a carboxy group, a hydroxyl group, a sulfo group, a phospho group, an alkali metal or ammonium salt thereof, an alkylene oxide group, an amino group, a cyano group, an acid anhydride group or a quat. ammonium salt. It is desirable that the hydrophobic polymer comprises a monomer having an organic peroxide bond of any one of formulas I to V or a hydrophilic monomer in which the hydrophilic polymer segment has an amide group. In the formulae, R<1> , R<2> , R<6> , R<7> , R<11> , R<15> and R<19> are each H methyl; R<3> , R<4> , R<8> R<9> , R<12> , R<13> , R<16> , R<17> , R<20> and R<21> are each 1-4C alkyl; R<5> , R<10> , R<14> , R<18> and R<22> are each a 1-12C alkyl, phenyl or the like; and n is 0-5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ガラスやプラス
チック成形材料、フィルムの様な透明な材料よりなるレ
ンズ、鏡などの基材表面の結露による曇りや水滴の付着
を防止する防曇膜及びその製造方法に関するものであ
る。更に詳細には、基材に対して効果的に防曇性能を付
与でき、かつその性能を長期間にわたって持続できる防
曇膜及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antifogging film for preventing fogging and adhesion of water droplets due to dew condensation on the surface of a substrate such as a lens or a mirror made of a transparent material such as glass or plastic molding material or film, and the like. It relates to a manufacturing method. More specifically, the present invention relates to an antifogging film capable of effectively imparting antifogging performance to a substrate and maintaining the performance for a long period of time, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、透明な基材は、露点以下の温度
になると表面に結露を生じて透明度が低下する。このよ
うな透明基材の曇りを防止する方法として、従来から幾
つかの提案がなされている。
2. Description of the Related Art In general, when a temperature of a transparent base material becomes lower than the dew point, dew condensation occurs on the surface and the transparency is reduced. Several proposals have conventionally been made as a method for preventing such fogging of the transparent substrate.

【0003】例えば、界面活性剤、親水性ポリマーなど
の親水性物質を基材表面に塗布する方法、界面活性剤を
含有する塗膜を基材表面に形成する方法、親水性フィル
ムを基材にラミネートする方法(特開昭62−1825
3号公報)、親水性の硬化性樹脂を基材に塗布して硬化
させる方法(特開昭63−251401号公報)などが
ある。
For example, a method of applying a hydrophilic substance such as a surfactant or a hydrophilic polymer to the surface of a substrate, a method of forming a coating film containing a surfactant on the surface of a substrate, and a method of applying a hydrophilic film to a substrate. Laminating method (JP-A-62-1825)
No. 3) and a method in which a hydrophilic curable resin is applied to a substrate and cured (JP-A-63-251401).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、防曇性が付
与された各種基材は、防曇膜に水が接触するような条件
下で使用される場合が多いことから、界面活性剤や親水
性ポリマーを基材表面に塗布する方法では防曇膜が水に
溶解して基材表面から流れ落ち、防曇持続性に欠けると
いう問題があった。
However, since various substrates provided with anti-fogging properties are often used under conditions where water comes into contact with the anti-fogging film, surfactants and hydrophilic In the method of applying the hydrophilic polymer to the surface of the base material, there is a problem that the anti-fogging film dissolves in water and flows down from the surface of the base material, and the anti-fogging durability is lacking.

【0005】また、親水性樹脂の硬化物や親水性フィル
ムを防曇膜として使用する方法では、吸湿により塗膜の
硬度が低下して傷が付いたり、塗膜が剥離したりして耐
久性に劣るという問題があった。しかも、防曇膜が吸湿
により白化するという問題があった。
In the method using a cured product of a hydrophilic resin or a hydrophilic film as an antifogging film, the hardness of the coating film is reduced due to moisture absorption, and the coating film is damaged, and the coating film is peeled off, resulting in durability. There was a problem that it was inferior. In addition, there is a problem that the antifogging film is whitened due to moisture absorption.

【0006】この発明は、上記のような従来技術に存在
する問題に着目してなされたものである。その目的とす
るところは、長期間にわたって防曇性能を維持でき、透
明性が良く、しかも実用的な塗膜強度を有し、かつ防曇
性を付与しようとする基材との密着性が良好である防曇
膜及びその製造方法を提供することにある。その他の目
的とするところは、使用可能な基材に制限を受けるおそ
れを防止できるとともに、容易に製造できる防曇膜及び
その製造方法を提供することにある。
The present invention has been made by focusing on the problems existing in the prior art as described above. The purpose is to maintain the anti-fogging performance for a long period of time, have good transparency, have a practical coating film strength, and have good adhesion to the substrate to which anti-fogging property is to be imparted. And a method for producing the same. Another object of the present invention is to provide an antifogging film that can be easily manufactured while preventing the possibility of being restricted by usable substrates, and a method for manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するために、本発明者らは鋭意研究した結果、この発明
を完成した。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present inventors have made intensive studies and as a result, completed the present invention.

【0008】すなわち、第1の発明の防曇膜は、基材上
に形成される防曇膜であって、疎水性単量体から形成さ
れる疎水性重合体セグメント(I)が基材側に位置し、
下記親水性単量体からなる群より選ばれる少なくとも1
種の単量体より形成される親水性重合体セグメント(I
I)が前記疎水性重合体セグメント(I)上で有機過酸化
結合基断片を介して疎水性重合体セグメント(I)に結
合している重合体より構成されている。
[0008] That is, the antifogging film of the first invention is an antifogging film formed on a substrate, wherein the hydrophobic polymer segment (I) formed from a hydrophobic monomer is provided on the substrate side. Located in
At least one selected from the group consisting of the following hydrophilic monomers:
Polymer segment formed from two kinds of monomers (I
I) is composed of a polymer bonded to the hydrophobic polymer segment (I) via the organic peroxide bonding group fragment on the hydrophobic polymer segment (I).

【0009】親水性単量体:カルボキシル基、水酸基、
スルホン酸基、リン酸基、これらのアルカリ金属塩又は
アンモニウム塩、アルキレンオキシド基、アミノ基、ア
ミド基、シアノ基、酸無水物基及び4級アンモニウム塩
基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有
する単量体。
Hydrophilic monomers: carboxyl group, hydroxyl group,
At least one functional group selected from the group consisting of sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, alkali metal salts or ammonium salts thereof, alkylene oxide groups, amino groups, amide groups, cyano groups, acid anhydride groups and quaternary ammonium bases Monomer having a group.

【0010】第2の発明の防曇膜は、第1の発明におい
て、前記疎水性重合体セグメント(I)が有機過酸化結
合基を有する単量体より形成され、親水性重合体セグメ
ント(II)がアミド基を有する親水性単量体より形成さ
れるものである。
The antifogging film of the second invention is the antifogging film according to the first invention, wherein the hydrophobic polymer segment (I) is formed of a monomer having an organic peroxide bonding group, and the hydrophilic polymer segment (II) ) Is formed from a hydrophilic monomer having an amide group.

【0011】第3の発明の防曇膜の製造方法は、基材上
に形成された有機過酸化結合基を有する疎水性重合体の
層上に、前記親水性単量体からなる群より選ばれる少な
くとも1種を接触させて60〜150℃に加熱する方法
である。
In a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing an anti-fogging film, wherein a hydrophobic polymer having an organic peroxide bonding group formed on a substrate is selected from the group consisting of the above hydrophilic monomers. At least one type is contacted and heated to 60 to 150 ° C.

【0012】第4の発明の防曇膜の製造方法は、第3の
発明において、有機過酸化結合基を有する疎水性重合体
が下記に示される一般式(1)〜(5)の有機過酸化結
合基を有する単量体の群から選ばれる少なくとも1種を
有する単量体より形成される重合体セグメントであり、
親水性単量体がアミド基を有する単量体を用いる方法で
ある。 一般式(1)
In a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for producing an antifogging film according to the third aspect, wherein the hydrophobic polymer having an organic peroxide bonding group is an organic polymer having the following general formula (1) to (5). A polymer segment formed from a monomer having at least one selected from the group of monomers having an oxidative bonding group,
This is a method in which a hydrophilic monomer uses a monomer having an amide group. General formula (1)

【0013】[0013]

【化6】 (式中、R1 は水素原子又はメチル基、R2 は水素原子
又はメチル基、R3 、R 4 は炭素数1〜4のアルキル
基、R5 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜1
2のシクロアルキル基、フェニル基、アルキル基置換フ
ェニル基を表し、nは1〜5を表す。) 一般式(2)
Embedded image(Where R1 Is a hydrogen atom or a methyl group, RTwo Is a hydrogen atom
Or a methyl group, RThree , R Four Is alkyl having 1 to 4 carbon atoms
Group, RFive Is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 3 to 1 carbon atoms
2 cycloalkyl group, phenyl group, alkyl group substituted
And n represents 1 to 5. ) General formula (2)

【0014】[0014]

【化7】 (式中、R6 は水素原子又はメチル基、R7 は水素原子
又はメチル基、R8 、R 9 は炭素数1〜4のアルキル
基、R10は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜1
2のシクロアルキル基、フェニル基、アルキル基置換フ
ェニル基を表し、nは0〜4を表す。) 一般式(3)
Embedded image(Where R6 Is a hydrogen atom or a methyl group, R7 Is a hydrogen atom
Or a methyl group, R8 , R 9 Is alkyl having 1 to 4 carbon atoms
Group, RTenIs an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 3 to 1 carbon atoms
2 cycloalkyl group, phenyl group, alkyl group substituted
And n represents 0 to 4. ) General formula (3)

【0015】[0015]

【化8】 (式中、R11は水素原子又はメチル基、R12、R13は炭
素数1〜4のアルキル基、R14は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。) 一般式(4)
Embedded image (Wherein, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group, R 12 and R 13 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 14 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, A phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group.) General formula (4)

【0016】[0016]

【化9】 (式中、R15は水素原子又はメチル基、R16、R17は炭
素数1〜4のアルキル基、R18は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。) 一般式(5)
Embedded image (Wherein, R 15 is a hydrogen atom or a methyl group, R 16 and R 17 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 18 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, A phenyl group or an alkyl group-substituted phenyl group.) General formula (5)

【0017】[0017]

【化10】 (式中、R19は水素原子又はメチル基、R20、R21は炭
素数1〜4のアルキル基、R22は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。)
Embedded image (Wherein, R 19 is a hydrogen atom or a methyl group, R 20 and R 21 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 22 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, Represents a phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group.)

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て詳細に説明する。防曇膜は、その構造に特徴を有し、
基材上に形成された疎水性重合体セグメント(I)と、
その上に形成された親水性重合体セグメント(II)が有
機過酸化結合基断片を介して化学的に結合されて構成さ
れている。さらに具体的には、防曇膜は疎水性重合体セ
グメント(I)と親水性重合体セグメント(II)からな
るグラフト共重合体により構成され、親水性重合体セグ
メント(II)は基材上の疎水性重合体セグメント(I)
(主鎖)に有機過酸化結合基断片を介して結合している
グラフト共重合体のグラフト重合鎖(側鎖)である。な
お、疎水性重合体と親水性重合体は、それぞれ疎水性重
合体セグメント(I)又は親水性重合体セグメント(I
I)として互いに結合しない単独重合体などを含有して
いてもよい。すなわち、グラフト率が低い場合であって
も所期の目的を達成できればよい。ちなみに、疎水性重
合体はその膜厚が薄いほどグラフト率が高く、親水性重
合体は単独重合体や未反応単量体を除去することにより
グラフト率が高くなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The antifogging film is characterized by its structure,
A hydrophobic polymer segment (I) formed on a substrate,
The hydrophilic polymer segment (II) formed thereon is chemically bonded via an organic peroxide bonding group fragment. More specifically, the anti-fogging film is composed of a graft copolymer composed of a hydrophobic polymer segment (I) and a hydrophilic polymer segment (II), and the hydrophilic polymer segment (II) is Hydrophobic polymer segment (I)
It is a graft polymer chain (side chain) of the graft copolymer bonded to the (main chain) via an organic peroxide bonding group fragment. Note that the hydrophobic polymer and the hydrophilic polymer are respectively a hydrophobic polymer segment (I) or a hydrophilic polymer segment (I
As I), homopolymers that do not bond to each other may be contained. That is, it is sufficient that the intended purpose can be achieved even when the graft ratio is low. Incidentally, the graft ratio of the hydrophobic polymer increases as the film thickness decreases, and the graft ratio of the hydrophilic polymer increases by removing the homopolymer and unreacted monomers.

【0019】疎水性重合体セグメント(I)とは、有機
過酸化結合基を有する単量体を重合して得られる重合体
において、この有機過酸化結合基が開裂した構造を有す
る重合体である。ここで、有機過酸化結合基を有する単
量体とは、加熱によりラジカルを発生させる基、すなわ
ち有機過酸化結合基と、重合性不飽和二重結合を1分子
中にそれぞれ1個以上有するものをいう。
The hydrophobic polymer segment (I) is a polymer obtained by polymerizing a monomer having an organic peroxide bonding group and having a structure in which the organic peroxide bonding group is cleaved. . Here, the monomer having an organic peroxide bonding group is a group that generates a radical by heating, that is, a monomer having at least one organic peroxide bonding group and at least one polymerizable unsaturated double bond in one molecule. Say.

【0020】有機過酸化結合基を有する単量体について
以下具体的に列挙する。前記一般式(1)で示される過
酸化物結合を含有する単量体としては、具体的には、t
−ブチルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチル
カーボネート、t−ブチルペルオキシ(メタ)アクリロ
イルオキシエトキシエチルカーボネート、t−ブチルペ
ルオキシ(メタ)アクリロイルオキシイソプロピルカー
ボネート、t−アミルペルオキシ(メタ)アクリロイル
オキシエチルカーボネート、t−アミルペルオキシ(メ
タ)アクリロイルオキシイソプロピルカーボネート、t
−ヘキシルペルオキシ(メタ)アクリオイルオキシエチ
ルカーボネート、t−ヘキシルペルオキシ(メタ)アク
リロイルオキシイソプロピルカーボネート、t−オクチ
ルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチルカーボ
ネート、クミルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシ
エチルカーボネート、p−イソプロピルクミルペルオキ
シ(メタ)アクリロイルオキシエチルカーボネート、p
−メンチルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルカーボネート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチ
ルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチルカーボ
ネート等が挙げられる。
The monomers having an organic peroxide bonding group are specifically listed below. Specific examples of the monomer having a peroxide bond represented by the general formula (1) include t
-Butylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, t-butylperoxy (meth) acryloyloxyethoxyethyl carbonate, t-butylperoxy (meth) acryloyloxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, t- Amyl peroxy (meth) acryloyloxy isopropyl carbonate, t
-Hexylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, t-hexylperoxy (meth) acryloyloxyisopropyl carbonate, t-octylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, cumylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, p-isopropyl Cumyl peroxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, p
-Menthylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbonate and the like.

【0021】前記一般式(2)で示される過酸化物結合
を含有する単量体としては、具体的には、t−ブチルペ
ルオキシ(メタ)アリルカーボネート、t−ブチルペル
オキシ(メタ)アリルオキシエチルカーボネート、t−
ブチルペルオキシ(メタ)アリルオキシエトキシエチル
カーボネート、t−アミルペルオキシ(メタ)アリルカ
ーボネート、t−ヘキシルペルオキシ(メタ)アリルカ
ーボネート、t−オクチルペルオキシ(メタ)アリルカ
ーボネート、クミル(メタ)アリルカーボネート等が挙
げられる。
Specific examples of the monomer having a peroxide bond represented by the general formula (2) include t-butylperoxy (meth) allylcarbonate and t-butylperoxy (meth) allyloxyethyl. Carbonate, t-
Butylperoxy (meth) allyloxyethoxyethyl carbonate, t-amylperoxy (meth) allyl carbonate, t-hexylperoxy (meth) allylcarbonate, t-octylperoxy (meth) allylcarbonate, cumyl (meth) allylcarbonate, etc. Can be

【0022】前記一般式(3)で示される過酸化物結合
を含有する単量体としては、具体的には、t−ブチルペ
ルオキシメチルフマレート、t−ブチルペルオキシエチ
ルフマレート、t−ブチルペルオキシ−n−プロピルフ
マレート、t−ブチルペルオキシイソプロピルフマレー
ト、t−ブチルペルオキシ−n−ブチルフマレート、t
−ブチルペルオキシ−t−ブチルフマレート、t−ブチ
ルペルオキシ−n−オクチルフマレート、t−ブチルペ
ルオキシ−2−エチルヘキシルフマレート、t−ブチル
ペルオキシフェニルフマレート、t−ブチルペルオキシ
−m−トルイルフマレート、t−ブチルペルオキシシク
ロヘキシルフマレート、t−アミルペルオキシ−n−プ
ロピルフマレート、t−アミルペルオキシイソプロピル
フマレート、t−アミルペルオキシ−n−ブチルフマレ
ート、t−アミルペルオキシフェニルフマレート、t−
ヘキシルペルオキシエチルフマレート、t−ヘキシルペ
ルオキシイソプロピルフマレート、t−ヘキシルペルオ
キシ−t−ブチルフマレート、t−ヘキシルペルオキシ
−2−エチルヘキシルフマレート、t−オクチルペルオ
キシメチルフマレート、t−オクチルペルオキシイソプ
ロピルフマレート、t−オクチルペルオキシ−n−オク
チルフマレート、t−オクチルペルオキシシクロヘキシ
ルフマレート、クミルペルオキシイソプロピルフマレー
ト、p−メンチルペルオキシイソプロピルフマレート等
が挙げられる。
Specific examples of the monomer having a peroxide bond represented by the general formula (3) include t-butyl peroxymethyl fumarate, t-butyl peroxyethyl fumarate, and t-butyl peroxy. -N-propyl fumarate, t-butyl peroxyisopropyl fumarate, t-butyl peroxy-n-butyl fumarate, t
-Butyl peroxy-t-butyl fumarate, t-butyl peroxy-n-octyl fumarate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl fumarate, t-butyl peroxyphenyl fumarate, t-butyl peroxy-m-toluyl fumarate T-butyl peroxycyclohexyl fumarate, t-amyl peroxy-n-propyl fumarate, t-amyl peroxyisopropyl fumarate, t-amyl peroxy-n-butyl fumarate, t-amyl peroxyphenyl fumarate, t-amyl peroxyphenyl fumarate
Hexyl peroxyethyl fumarate, t-hexyl peroxyisopropyl fumarate, t-hexyl peroxy-t-butyl fumarate, t-hexyl peroxy-2-ethylhexyl fumarate, t-octyl peroxymethyl fumarate, t-octyl peroxyisopropyl fumarate Rate, t-octyl peroxy-n-octyl fumarate, t-octyl peroxycyclohexyl fumarate, cumyl peroxyisopropyl fumarate, p-menthyl peroxyisopropyl fumarate and the like.

【0023】前記一般式(4)で示される過酸化物結合
を含有する単量体としては、具体的には、t−ブチルペ
ルオキシ(メタ)アクリレート、t−アミルペルオキシ
(メタ)アクリレート、t−ヘキシルペルオキシ(メ
タ)アクリレート、t−オクチルペルオキシ(メタ)ア
クリレート、クミルペルオキシ(メタ)アクリレート、
p−メンチルペルオキシ(メタ)アクリレート、1−シ
クロヘキシル−1−メチルエチルペルオキシ(メタ)ア
クリレート等が挙げられる。
Specific examples of the peroxide-containing monomer represented by the general formula (4) include t-butylperoxy (meth) acrylate, t-amylperoxy (meth) acrylate, and t-amylperoxy (meth) acrylate. Hexylperoxy (meth) acrylate, t-octylperoxy (meth) acrylate, cumylperoxy (meth) acrylate,
Examples include p-menthyl peroxy (meth) acrylate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy (meth) acrylate, and the like.

【0024】前記一般式(5)で示される過酸化物結合
を含有する単量体としては、具体的には、t−ブチルペ
ルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチルカーバメー
ト、t−アミルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシ
エチルカーバメート、t−ヘキシルペルオキシ(メタ)
アクリロイルオキシエチルカーバメート、t−オクチル
ペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエチルカーバメ
ート、クミルペルオキシ(メタ)アクリロイルオキシエ
チルカーバメート、p−メンチルペルオキシ(メタ)ア
クリロイルオキシエチルカーバメート、1−シクロヘキ
シル−1−メチルエチルペルオキシ(メタ)アクリレー
ト等が挙げられる。
Specific examples of the monomer having a peroxide bond represented by the general formula (5) include t-butylperoxy (meth) acryloyloxyethylcarbamate and t-amylperoxy (meth) acryloyl Oxyethyl carbamate, t-hexyl peroxy (meth)
Acryloyloxyethyl carbamate, t-octylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbamate, cumylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbamate, p-menthylperoxy (meth) acryloyloxyethyl carbamate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy ( (Meth) acrylate and the like.

【0025】これらの過酸化物結合を含有する単量体の
中で好ましい単量体は、t−ブチルペルオキシアクリロ
イルオキシエチルカーボネート、t−ブチルペルオキシ
メタクリロイルオキシエチルカーボネート、t−ヘキシ
ルペルオキシメタクリロイルオキシエチルカーボネー
ト、t−ブチルペルオキシアリルカーボネート、t−ブ
チルペルオキシイソプロピルフマレート及びt−ブチル
ペルオキシメタクリロイルオキシエチルカーバメートで
ある。これらの過酸化物結合を含有する単量体は、その
熱分解温度が60℃以上で、また入手が容易で、経済的
だからである。
Among these monomers containing a peroxide bond, preferred monomers are t-butylperoxyacryloyloxyethyl carbonate, t-butylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate, and t-hexylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate. , T-butyl peroxyallyl carbonate, t-butyl peroxyisopropyl fumarate and t-butyl peroxymethacryloyloxyethyl carbamate. This is because these peroxide-containing monomers have a thermal decomposition temperature of 60 ° C. or higher, are easily available, and are economical.

【0026】疎水性重合体セグメント(I)には、有機
過酸化結合基を有する単量体の他に、有機過酸化結合基
を有しない単量体の1種又は2種以上を併用して形成さ
れたものであっても良い。そのような有機過酸化結合基
を有しない単量体は特に限定されず、具体的には、メチ
ル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート
などのアルキル(メタ)アクリレート類、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレートなどの水酸基含有(メタ)アク
リレート類、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド
などの(メタ)アクリルアミド類、N,N−ジアルキル
アミノアルキル(メタ)アクリレート、フマル酸エステ
ル類、グリシジル(メタ)アクリレート、マレイン酸エ
ステル類、イタコン酸エステル類、(メタ)アクリル
酸、無水マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルピルジン、フッ素含有単量
体、ケイ素含有単量体、リン含有単量体などが挙げられ
る。
In the hydrophobic polymer segment (I), in addition to a monomer having an organic peroxide bonding group, one or more monomers having no organic peroxide bonding group may be used in combination. It may be formed. Such a monomer having no organic peroxide bonding group is not particularly limited, and specifically, alkyl (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( Hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylamides such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide, and N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylate , Fumaric acid esters, glycidyl (meth) acrylate, maleic acid esters, itaconic acid esters, (meth) acrylic acid, maleic anhydride, styrene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylpyrudine, fluorine-containing monomer Body, silicon-containing monomer, phosphorus-containing monomer, etc. It is.

【0027】この有機過酸化結合基を有しない単量体の
配合量は、加熱による親水性単量体の重合効率を維持す
るため、95重量%以下であることが好ましい。前記有
機過酸化結合基断片とは、前述した疎水性重合体セグメ
ント(I)に結合している基がラジカル開裂して生じ、
疎水性重合体セグメント(I)に結合している基をい
う。
The amount of the monomer having no organic peroxide bonding group is preferably 95% by weight or less in order to maintain the polymerization efficiency of the hydrophilic monomer by heating. The organic peroxide bonding group fragment is formed by radical cleavage of the group bonded to the hydrophobic polymer segment (I) described above,
It refers to a group bonded to the hydrophobic polymer segment (I).

【0028】次に、前記親水性重合体セグメント(II)
とは、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基、リン酸
基、これらのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、アル
キレンオキシド基、アミノ基、アミド基、シアノ基、酸
無水物基及び4級アンモニウム塩基からなる群より選ば
れる少なくとも1種の官能基を有する親水性単量体より
選ばれる少なくとも1種の単量体から形成される重合体
セグメントである。
Next, the hydrophilic polymer segment (II)
Is a group consisting of a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, an alkali metal salt or an ammonium salt thereof, an alkylene oxide group, an amino group, an amide group, a cyano group, an acid anhydride group and a quaternary ammonium base. It is a polymer segment formed from at least one kind of monomer selected from hydrophilic monomers having at least one kind of functional group.

【0029】この親水性単量体を具体的に示すと、下記
の (1)〜(15)の単量体が挙げられ、これらの単量体の中
から適宜その1種を単独で又は2種以上を混合して使用
することができる。 (1) (メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、メサコン酸、シトラコン酸、β−(メタ)アク
リロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネートなど
の不飽和カルボン酸類。 (2) マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン
酸無水物、4−メタクリロキシエチルトリメリット酸無
水物などの不飽和カルボン酸無水物類。 (3) ヒドロキシフェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、エチレンオキサイドの付加モル数が2〜90のヒド
ロキシフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アク
リレート、プロピレンオキサイドの付加モル数が2〜9
0のヒドロキフェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、ビニルフェノール、ヒドロキシフェ
ニルマレイミドなどのフェノール基含有単量体類。
Specific examples of the hydrophilic monomer include the following monomers (1) to (15), and one of these monomers may be used alone or as appropriate. A mixture of more than one species can be used. (1) Unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, mesaconic acid, citraconic acid and β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen succinate. (2) Unsaturated carboxylic anhydrides such as maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and 4-methacryloxyethyl trimellitic anhydride. (3) Hydroxyphenoxyethyl (meth) acrylate, the addition mole number of ethylene oxide is 2 to 90, and the addition mole number of hydroxyphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate and propylene oxide is 2 to 9
And phenol group-containing monomers such as hydroxyphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, vinylphenol, and hydroxyphenylmaleimide.

【0030】(4) スルホキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸、アクリルアミド−t−ブチル
スルホン酸、(メタ)アリルスルホン酸などのスルホン
酸基含有単量体類。 (5) モノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッ
ドホスフェートなどのリン酸基含有単量体類。 (6) N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N
−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル
(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、
N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ド、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)
アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類。
(4) Sulfonic acid group-containing monomers such as sulfoxyethyl (meth) acrylate, styrene sulfonic acid, acrylamide-t-butyl sulfonic acid and (meth) allyl sulfonic acid. (5) Phosphoric acid group-containing monomers such as mono 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate. (6) N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N
-Diethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, acryloylmorpholine,
N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, (meth) acrylamide, N-methylol (meth)
(Meth) acrylamides such as acrylamide.

【0031】(7) N,N−ジエチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレートなどのアミノアルキル(メタ)アクリ
レート類。 (8) 2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3−ジ
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレート類。 (9) エチレンオキサイドの付加モル数が2〜98のポリ
エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エチレ
ンオキサイドの付加モル数が2〜98のメトキシポリエ
チレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド付加モル数が2〜98のフェノキシポリエチ
レングリコールモノ(メタ)アクリレート、エチレンオ
キサイド付加モル数が1〜4のノニルフェノールモノエ
トキシレート(メタ)アクリレート、メトキシエチルア
クリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)ア
クリレートなどのポリオキシエチレンのモノ(メタ)ア
クリレート類。
(7) Aminoalkyl (meth) acrylates such as N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate and N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate. (8) 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-
Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate and 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate; (9) Polyethylene glycol mono (meth) acrylate having an addition mole number of ethylene oxide of 2 to 98, methoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate having an addition mole number of ethylene oxide of 2 to 98, and an addition mole number of ethylene oxide of 2 to 98 Polyoxyethylene mono (meth) such as phenoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate of 98, nonylphenol monoethoxylate (meth) acrylate, methoxyethyl acrylate and ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate having an ethylene oxide addition mole number of 1 to 4 Acrylates.

【0032】(10)(メタ)アクリル酸のナトリウム塩、
スチレンスルホン酸ナトリウム、スルホン酸ナトリウム
エトキシ(メタ)アクリレート、アクリルアミド−t−
ブチルスルホン酸のナトリウム塩などの酸基含有単量体
のアルカリ金属塩類。 (11)(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルトリメチルア
ンモニウムクロライド、(メタ)アクリル酸ヒドロキシ
プロピルトリメチルアンモニウムクロライドなどの四級
アンモニウム塩基含有(メタ)アクリレート類。 (12)アリルグリコール、エチレンオキサイド付加モル数
が3〜32のポリエチレングリコールモノ(メタ)アリ
ルエーテル、メトキシポリエチレングリコールモノアリ
ルエーテルなどの(メタ)アリル化合物類。
(10) sodium salt of (meth) acrylic acid,
Sodium styrenesulfonate, sodium sulfonate ethoxy (meth) acrylate, acrylamide-t-
Alkali metal salts of acid group-containing monomers such as the sodium salt of butylsulfonic acid. (11) Quaternary ammonium base-containing (meth) acrylates such as hydroxyethyltrimethylammonium (meth) acrylate chloride and hydroxypropyltrimethylammonium (meth) acrylate chloride. (12) Allyl glycol, (meth) allyl compounds such as polyethylene glycol mono (meth) allyl ether and methoxypolyethylene glycol monoallyl ether having 3 to 32 ethylene oxide addition moles.

【0033】(13)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカ
プロラクタムなどの環状複素環含有化合物類。 (14)アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シアン化
ビニリデンなどのシアン化ビニル類。 (15)下記に示す化学式(6)〜(12)で例示される反
応性乳化剤。
(13) Cyclic heterocycle-containing compounds such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam. (14) Vinyl cyanides such as acrylonitrile, methacrylonitrile and vinylidene cyanide. (15) Reactive emulsifiers exemplified by the following chemical formulas (6) to (12).

【0034】[0034]

【化11】 (但し、Фは芳香環、(OA)、(AO)はオキシアル
キレン基 、m,nはそれぞれ1〜20の数、R23,R
24は炭素数1〜20のアルキル基である。)
Embedded image (However, Ф is an aromatic ring, (OA) and (AO) are oxyalkylene groups, m and n are each a number of 1 to 20, R 23 and R
24 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. )

【0035】[0035]

【化12】 (但し、R25は炭素数1〜20のアルキル基である。)Embedded image (However, R 25 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)

【0036】[0036]

【化13】 Embedded image

【0037】[0037]

【化14】 Embedded image

【0038】[0038]

【化15】 (但し、Φは芳香環である。)Embedded image (However, Φ is an aromatic ring.)

【0039】[0039]

【化16】 (但し、Φは芳香環である。)Embedded image (However, Φ is an aromatic ring.)

【0040】[0040]

【化17】 (但し、Φは芳香環である。)Embedded image (However, Φ is an aromatic ring.)

【0041】この親水性単量体としては、具体的には、
日本油脂(株)製の商品名ラピゾールAIS−112お
よびAIS−212、花王(株)製の商品名ラテムルS
−180、180−A、日本乳化剤(株)製の商品名A
ntox−MS−2N、Antox−MS−60、RA
−4211、三洋化成(株)製の商品名エレミノールJ
S−2、RS−30、第一工業製薬(株)製の商品名ア
クアロンHS−20、HS−10、HS−5、ニューフ
ロンテアA−229E、旭電化工業(株)製の商品名S
E−10Nなどが挙げられる。
As the hydrophilic monomer, specifically,
Lapisol AIS-112 and AIS-212 manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd., and Latemul S manufactured by Kao Corporation
-180, 180-A, trade name A manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.
ntox-MS-2N, Antox-MS-60, RA
-4211, trade name Eleminor J manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.
S-2, RS-30, trade names manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Aqualon HS-20, HS-10, HS-5, New Frontair A-229E, trade name S manufactured by Asahi Denka Kogyo KK
E-10N and the like.

【0042】これらの中では、防曇膜の性能及びその持
続性が特に良好である点でアミド基を有する単量体が好
ましく、具体的には、(メタ)アクリルアミド、N,N
−ジメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル
モルホリン、(メタ)アクリルアミド−t−ブチルスル
ホン酸およびその塩などが挙げられる。
Among these, monomers having an amide group are preferable in that the performance of the antifogging film and the durability thereof are particularly good. Specifically, (meth) acrylamide, N, N
-Dimethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylmorpholine, (meth) acrylamide-t-butylsulfonic acid and salts thereof.

【0043】親水性重合体セグメント(II)を形成する
単量体として、親水性単量体の他に、親水性を有しない
単量体を配合することができる。そのような単量体とし
ては、ラジカル重合可能なものであれば特に限定されな
いが、具体的には(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸のアルキル
又はグリシジルエステル類、スチレン、飽和カルボン酸
のビニルエステル類、フッ素含有単量体、ケイ素含有単
量体などが挙げられる。その配合量は親水性重合体とし
ての性質を失わない範囲であることが必要であり、50
重量%以下が好ましい。
As the monomer forming the hydrophilic polymer segment (II), a monomer having no hydrophilic property can be blended in addition to the hydrophilic monomer. Such a monomer is not particularly limited as long as it is capable of radical polymerization. Specifically, alkyl or glycidyl of an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid is used. Examples include esters, styrene, vinyl esters of saturated carboxylic acids, fluorine-containing monomers, and silicon-containing monomers. It is necessary that the compounding amount is within a range that does not lose the properties as a hydrophilic polymer.
% By weight or less is preferred.

【0044】次に、防曇膜の製造方法について説明す
る。防曇膜の製造方法は、基材上に形成された有機過酸
化結合基を有する疎水性重合体からなる層上に、親水性
単量体を接触させて60〜150℃に加熱することによ
り、基材表面に熱グラフト重合を起こさせて防曇膜を得
る方法である。
Next, a method for producing the antifogging film will be described. The method for producing the antifogging film is such that a hydrophilic monomer is brought into contact with a layer made of a hydrophobic polymer having an organic peroxide bonding group formed on a substrate and heated to 60 to 150 ° C. In this method, thermal graft polymerization is caused on the substrate surface to obtain an antifogging film.

【0045】疎水性重合体に結合した有機過酸化結合基
は加熱によりラジカルを発生し、ここで生じた有機過酸
化結合基断片のラジカルから親水性単量体がグラフト重
合することにより親水性重合体セグメント(II)の層が
形成される。この際加熱温度が60℃未満ではラジカル
の発生が少なくなりグラフト重合がうまく進まず、また
150℃を超えると親水性単量体が揮発してグラフト重
合反応が不安定となり好ましくない。このようにして得
られる防曇膜は、疎水性重合体セグメント(I)の層上
に有機過酸化結合基断片を介して結合した親水性単量体
のグラフト重合鎖からなる親水性重合体セグメント(I
I)の層が形成された2層構造をもつことになる。
The organic peroxide-bonded group bonded to the hydrophobic polymer generates a radical by heating, and the hydrophilic monomer is graft-polymerized from the radical of the organic peroxide-bonded group fragment generated here. A layer of coalesced segments (II) is formed. At this time, if the heating temperature is lower than 60 ° C., the generation of radicals is reduced and the graft polymerization does not proceed well. On the other hand, if the heating temperature is higher than 150 ° C., the hydrophilic monomer is volatilized and the graft polymerization reaction becomes unstable, which is not preferable. The antifogging film thus obtained is a hydrophilic polymer segment comprising a graft polymer chain of a hydrophilic monomer bonded via an organic peroxide bonding group fragment on the layer of the hydrophobic polymer segment (I). (I
It has a two-layer structure in which the layer I) is formed.

【0046】図1は、このような防曇膜の製造方法を概
念的に示したものである。図1において、実線Aは有機
過酸化結合基を有する重合体の主鎖、−OO−は過酸化
結合基、−O・は有機過酸化結合基が開裂した有機過酸
化結合基断片ラジカル、−O−は有機過酸化結合基断
片、点線Bは親水性単量体が重合した親水性重合体のグ
ラフト重合鎖を表す。
FIG. 1 conceptually shows a method for producing such an antifogging film. In FIG. 1, a solid line A is a main chain of a polymer having an organic peroxide bonding group, -OO- is a peroxide bonding group, -O. Is an organic peroxide bonding group fragment radical in which the organic peroxide bonding group is cleaved,- O- represents an organic peroxide bonding group fragment, and dotted line B represents a graft polymer chain of a hydrophilic polymer obtained by polymerizing a hydrophilic monomer.

【0047】次に、防曇膜の具体的な製造方法及びそれ
に使用される各成分について説明する。まず、有機過酸
化結合基を有する疎水性重合体からなる層について説明
する。この重合体からなる層は、下記の各方法で得るこ
とができる。 (i) 有機過酸化結合基を有する単量体の単独重合体若し
くは共重合体の単独又は双方を含有する組成物を基材に
塗布して層を形成する方法。 (ii)有機過酸化結合基を有する単量体を含有する組成物
を基材上に塗布後、熱により重合することによって形成
する方法。 (iii) 有機過酸化結合基を有さず、かつ官能基を有する
重合体の表面に、化学反応によって有機過酸化結合基を
導入して形成する方法。
Next, a specific method for producing the antifogging film and each component used therein will be described. First, a layer made of a hydrophobic polymer having an organic peroxide bonding group will be described. The layer made of this polymer can be obtained by the following methods. (i) A method of forming a layer by applying a composition containing a homopolymer or a copolymer of a monomer having an organic peroxide bonding group alone or both to a substrate. (ii) A method of applying a composition containing a monomer having an organic peroxide bonding group onto a substrate and then polymerizing the composition with heat. (iii) A method in which an organic peroxide bonding group is introduced into the surface of a polymer having no organic peroxide bonding group and having a functional group by a chemical reaction.

【0048】このなかでは、(i) の方法が簡便であるた
め好ましい。塗布する際には、必要に応じて組成物を溶
剤で希釈して用いてもよい。有機過酸化結合基を有する
単量体は、前述したものである。
Among them, the method (i) is preferred because it is simple. When applying, the composition may be diluted with a solvent as necessary. The monomer having an organic peroxide bonding group is as described above.

【0049】この有機過酸化結合基を有する重合体は、
通常のラジカル重合開始剤を用いて重合することによっ
て得られる。この場合の重合体は、有機過酸化結合基を
有する単量体の1種又は2種以上を単独で重合して、又
は前述した有機過酸化結合基を持たない他の単量体の1
種又は2種以上と共重合して得られる。
The polymer having an organic peroxide bonding group is as follows:
It is obtained by polymerization using a usual radical polymerization initiator. In this case, the polymer may be obtained by polymerizing one or more of monomers having an organic peroxide bonding group alone, or one of the above-mentioned monomers having no organic peroxide bonding group.
It is obtained by copolymerizing with one or more species.

【0050】有機過酸化結合基を有する重合体中の有機
過酸化結合基を有する単量体成分の量は5〜100重量
%が好ましく、5重量%未満では加熱による親水性単量
体の重合の効率が悪くなる。
The amount of the monomer component having an organic peroxide bonding group in the polymer having an organic peroxide bonding group is preferably from 5 to 100% by weight, and if it is less than 5% by weight, the polymerization of the hydrophilic monomer by heating is carried out. Becomes inefficient.

【0051】有機過酸化結合基を有する重合体からなる
層中には、有機過酸化結合基を有する重合体の他に、未
反応の有機過酸化結合基を有する単量体、及び通常の塗
膜を形成する際に用いられる添加剤を含有していてもよ
い。そのような添加剤としては、例えば、他の単官能又
は多官能単量体及びそれらの重合体、加熱重合開始剤、
硬化剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤や、
コロイダルシリカなどの無機フィラー等が挙げられる。
また、基材との密着性を向上させるために、通常用いら
れるシランカップリング剤、チタネートカップリング剤
等を添加してもよい。
In the layer comprising the polymer having an organic peroxide bonding group, in addition to the polymer having an organic peroxide bonding group, a monomer having an unreacted organic peroxide bonding group, It may contain an additive used for forming a film. Such additives include, for example, other monofunctional or polyfunctional monomers and their polymers, heat polymerization initiators,
Curing agents, ultraviolet absorbers, leveling agents, surfactants,
Examples include inorganic fillers such as colloidal silica.
In addition, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like, which is generally used, may be added to improve the adhesion to the substrate.

【0052】次に、親水性単量体より形成される親水性
重合体セグメント(II)の層について説明する。この重
合体セグメント(II)の層を形成するための親水性単量
体は、親水性単量体単独又は他の溶剤や添加剤を含有す
るものである。この親水性単量体を含有する組成物中の
親水性単量体の濃度は、100%でも使用できるが、親
水性単量体が溶解し、かつ有機過酸化結合基を有する重
合体の層が溶解しないような溶媒で希釈して用いてもよ
い。溶媒としては特に限定されないが、水、メタノー
ル、アセトン、メチルエチルケトン等の極性溶媒が好ま
しい。また、親水性単量体中には、他の単官能及び多官
能単量体や、界面活性剤、増粘剤等の添加剤を含有して
いても良い。
Next, the layer of the hydrophilic polymer segment (II) formed from the hydrophilic monomer will be described. The hydrophilic monomer for forming the layer of the polymer segment (II) contains the hydrophilic monomer alone or another solvent or additive. Although the concentration of the hydrophilic monomer in the composition containing the hydrophilic monomer may be 100%, a layer of a polymer in which the hydrophilic monomer is dissolved and which has an organic peroxide bonding group can be used. May be diluted with a solvent that does not dissolve the compound. The solvent is not particularly limited, but polar solvents such as water, methanol, acetone, and methyl ethyl ketone are preferred. The hydrophilic monomer may contain other monofunctional and polyfunctional monomers and additives such as a surfactant and a thickener.

【0053】親水性単量体を有機過酸化結合基を有する
重合体セグメント(I)に接触させる際に、有機過酸化
結合基を有する重合体セグメント(I)の層が、親水性
単量体に溶解してしまうと、弊害が生じるおそれがあ
る。すなわち、得られる防曇膜の外観が白化等により悪
くなったり、表面層が親水性重合体の均一な層にならな
いため、防曇性能が悪くなったりするおそれがある。こ
のため、親水性単量体としては、有機過酸化結合基を有
する重合体を溶解しないものが好ましい。
When the hydrophilic monomer is brought into contact with the polymer segment (I) having an organic peroxide bonding group, the layer of the polymer segment (I) having an organic peroxide bonding group is If it is dissolved in, it may cause adverse effects. That is, the appearance of the obtained anti-fogging film may be deteriorated by whitening or the like, or the anti-fogging performance may be deteriorated because the surface layer does not become a uniform layer of the hydrophilic polymer. For this reason, it is preferable that the hydrophilic monomer does not dissolve the polymer having an organic peroxide bonding group.

【0054】親水性単量体を有機過酸化結合基を有する
重合体セグメント(I)に接触させる方法としては、有
機過酸化結合基を有する重合体セグメント(I)からな
る層の上に親水性単量体を塗布してもよく、また有機過
酸化結合基を有する重合体セグメント(I)の層を表面
に有する基材を親水性単量体中に浸漬してもよい。さら
に、酸素による障害を防ぐために、親水性単量体の上
を、熱を透過する材質、例えばガラス、石英、透明プラ
スチック製の板、フィルム等で覆ってもよい。
As a method for bringing the hydrophilic monomer into contact with the polymer segment (I) having an organic peroxide-bonding group, the hydrophilic monomer may be provided on a layer comprising the polymer segment (I) having an organic peroxide-bonding group. A monomer may be applied, or a substrate having a layer of the polymer segment (I) having an organic peroxide bonding group on the surface may be immersed in the hydrophilic monomer. Further, in order to prevent oxygen-induced damage, the hydrophilic monomer may be covered with a heat-permeable material, for example, a plate or film made of glass, quartz, transparent plastic, or the like.

【0055】この親水性単量体は、前述のように、カル
ボキシル基、水酸基、スルホン酸基、リン酸基、これら
のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、アルキレンオキ
シド基、アミノ基、アミド基、シアノ基、酸無水物基及
び4級アンモニウム塩基のいずれかの官能基を少なくと
も1種有する単量体である。
As described above, the hydrophilic monomer includes a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, an alkali metal salt or an ammonium salt thereof, an alkylene oxide group, an amino group, an amide group, and a cyano group. And a monomer having at least one functional group selected from an acid anhydride group and a quaternary ammonium base.

【0056】具体的には、前述した親水性単量体が挙げ
られ、これらの単量体の中から適宜その1種を単独で又
は2種以上を混合して使用される。これらの中では、防
曇膜の性能及びその持続性が特に良好である点でアミド
基を有する単量体が好ましく、具体的には、(メタ)ア
クリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミ
ド、(メタ)アクリルモルホリン、(メタ)アクリルア
ミド−t−ブチルスルホン酸及びその塩などが挙げられ
る。
Specific examples include the above-mentioned hydrophilic monomers, and one of these monomers may be used singly or as a mixture of two or more. Among these, monomers having an amide group are preferable in that the performance of the anti-fogging film and the durability thereof are particularly good, and specifically, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide , (Meth) acrylmorpholine, (meth) acrylamide-t-butylsulfonic acid and salts thereof.

【0057】防曇膜の製造方法において、加熱後に未反
応の親水性単量体や親水性単量体の単独重合体がある場
合は、必要に応じて水などによって洗浄することが好ま
しい。
In the method for producing the antifogging film, when there is a hydrophilic monomer or a homopolymer of the hydrophilic monomer which has not reacted after heating, it is preferable to wash the film with water or the like as necessary.

【0058】基材としては、ガラスやプラスチック成形
材料、フィルムの様な透明な材料が用いられる。そし
て、表面に防曇膜が形成された基材は、レンズ、鏡、プ
リズムなどの光学部品あるいは車輌、船舶、家屋などの
窓ガラス、スキーゴーグル、水中メガネ、ヘルメットシ
ールド、計器カバー、農園芸用フィルムなどの用途に好
適に用いられる。
As the base material, a transparent material such as glass, plastic molding material or film is used. Substrates with an antifogging film formed on the surface are used for optical components such as lenses, mirrors and prisms, or window glasses for vehicles, ships, houses, etc., ski goggles, underwater glasses, helmet shields, instrument covers, agricultural and horticultural products. It is suitably used for applications such as films.

【0059】以上のように、この実施形態によれば、次
のような効果が発揮される。 (1) 防曇膜の表面には親水性重合体セグメント(I
I)が配向されていることから、基材表面の防曇膜は優
れた防曇性を発揮できる。 (2) 親水性重合体セグメント(II)は有機過酸化結
合基断片を介して疎水性重合体セグメント(I)に結合
されているとともに、その疎水性重合体セグメント
(I)は基材に密着していることから、防曇性能を長期
間にわたって維持できる。 (3) 親水性重合体セグメント(II)により形成され
る膜は均一性が良いため、薄い膜で性能を発現でき、透
明性に優れている。 (4) しかも、防曇膜は膨潤しにくく、傷付いたり、
剥離したりするおそれがなく、実用的な塗膜強度を有す
る。 (5) 基材側には疎水性重合体セグメント(I)が配
向しており、疎水性重合体セグメント(I)と基材との
結合力がよいため、防曇性を付与しようとする基材との
密着性が良好である。 (6) 重合を開始させる機構は、有機過酸化結合型開
始剤が基材から水素を引き抜いて重合を開始させるとい
う機構ではないことから、使用可能な基材に制限を受け
るおそれを抑制できる。 (7) 基材表面に疎水性重合体セグメント(I)の層
を形成し、その上に親水性単量体を塗布した後、加熱す
ることにより、基材表面に形成される防曇膜を容易に製
造できる。
As described above, according to this embodiment, the following effects are exhibited. (1) A hydrophilic polymer segment (I
Since I) is oriented, the antifogging film on the substrate surface can exhibit excellent antifogging properties. (2) The hydrophilic polymer segment (II) is bonded to the hydrophobic polymer segment (I) via an organic peroxide bonding group fragment, and the hydrophobic polymer segment (I) adheres to the substrate. Therefore, the anti-fog performance can be maintained for a long period of time. (3) Since the film formed by the hydrophilic polymer segment (II) has good uniformity, the performance can be expressed by a thin film and the transparency is excellent. (4) Moreover, the anti-fogging film hardly swells,
There is no possibility of peeling, and it has practical coating strength. (5) The hydrophobic polymer segment (I) is oriented on the base material side, and the bonding force between the hydrophobic polymer segment (I) and the base material is good, so that a group to impart antifogging property is provided. Good adhesion to the material. (6) Since the mechanism for initiating the polymerization is not a mechanism in which the organic peroxide bond-type initiator withdraws hydrogen from the substrate to initiate the polymerization, it is possible to suppress the possibility that the usable substrate is limited. (7) A layer of the hydrophobic polymer segment (I) is formed on the surface of the base material, and a hydrophilic monomer is applied thereon, followed by heating to form an antifogging film formed on the surface of the base material. Can be easily manufactured.

【0060】[0060]

【実施例】次に、実施例、比較例及び参考例により、こ
の発明をさらに具体的に説明するが、この発明はこれら
により限定されるものではない。なお、本文及び表中の
%は重量%を表す。また、分子量はゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフ(GPC)によりテトラヒドロフラン
を展開溶剤として使用して測定した値である。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, Comparative Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited thereto. In addition,% in a text and a table represents weight%. The molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.

【0061】本文及び表中の略号は以下の通りである。 PO1:t−ブチルペルオキシメタクリロイルオキシエ
チルカーボネート PO2:t−ヘキシルペルオキシメタクリロイルオキシ
エチルカーボネート PO3:t−ブチルペルオキシアリルカーボネート PO4:t−ブチルペルオキシイソプロピルフマレート PO5:t−ブチルペルオキシメタクリレート PO6:t−ブチルペルオキシメタクリロイルオキシエ
チルカーバメート MMA:メチルメタクリレート BMA:ブチルメタクリレート LMA:ラウリルメタクリレート
The abbreviations in the text and tables are as follows. PO1: t-butylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate PO2: t-hexylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate PO3: t-butylperoxyallylcarbonate PO4: t-butylperoxyisopropyl fumarate PO5: t-butylperoxymethacrylate PO6: t-butylperoxy Methacryloyloxyethyl carbamate MMA: Methyl methacrylate BMA: Butyl methacrylate LMA: Lauryl methacrylate

【0062】ST:スチレン DBF:ジブチルフマレート GMA:グリシジルメタクリレート NMAAm:N−メチロールアクリルアミド MAA:メタクリル酸 HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート KBM503:3−トリメトキシシリルプロピルメタク
リレート(信越化学工業社製「KBM−503」) PPZ:ホスファゼン系6官能メタクリレート(出光石
油化学社製「出光PPZ」) 3002A:2官能エポキシアクリレート(共栄社化学
社製「エポライト3002A」)
ST: styrene DBF: dibutyl fumarate GMA: glycidyl methacrylate NMAAm: N-methylol acrylamide MAA: methacrylic acid HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate KBM503: 3-trimethoxysilylpropyl methacrylate (“KBM- manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 503 ") PPZ: phosphazene-based 6-functional methacrylate (" Idemitsu PPZ "manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) 3002A: Bifunctional epoxy acrylate (" Epolite 3002A "manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

【0063】DMAEMA:N,N−ジメチルアミノエ
チルメタクリレート DMAAm:N,N−ジメチルアクリルアミド AAm:アクリルアミド ACMO:アクリロイルモルホリン PE350:ポリエチレングリコールモノメタクリレー
ト(日本油脂社製「ブレンマーPE−350」) ATBS:アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸(東
亜合成社製「ATBS」) QA:メタクリル酸ヒドロキシプロピルトリメチルアン
モニウムクロリド(日本油脂社製「ブレンマーQA」)
DMAEMA: N, N-dimethylaminoethyl methacrylate DMAAm: N, N-dimethylacrylamide AAm: Acrylamide ACMO: Acryloylmorpholine PE350: Polyethylene glycol monomethacrylate (“Blenmer PE-350” manufactured by NOF Corporation) ATBS: Acrylamide t-Butylsulfonic acid ("ATBS" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) QA: hydroxypropyltrimethylammonium methacrylate chloride ("Blemmer QA" manufactured by NOF Corporation)

【0064】MS2N:スルホエチルメタクリレートN
a塩(日本乳化剤社社製「AntoxMS−2N」) DQ100:メタクリロイルオキシエチルトリメチルア
ンモニウムクロライド(共栄社化学製「ライトエステル
DQ−100」) PME400:ポリエチレングリコールモノメタクリレ
ート(日本油脂社製「ブレンマーPME400」) MEK:メチルエチルケトン PGM:プロピレングリコールモノメチルエーテル THF:テトラヒドロフラン PVA:ケン化ポリ酢酸ビニル(日本合成化学工業社製
「ゴーセノールKH−17」) OP80:ノニオン系界面活性剤(日本油脂社製「ノニ
オンOP−80」)
MS2N: Sulfoethyl methacrylate N
a salt ("AntoxMS-2N" manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) DQ100: methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride ("Light Ester DQ-100" manufactured by Kyoeisha Chemical) PME400: Polyethylene glycol monomethacrylate ("Blemmer PME400" manufactured by NOF Corporation) MEK: methyl ethyl ketone PGM: propylene glycol monomethyl ether THF: tetrahydrofuran PVA: saponified polyvinyl acetate (“Gohsenol KH-17” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) OP80: nonionic surfactant (“Nonion OP-80 manufactured by NOF Corporation”) ")

【0065】TTA:トリエチレンテトラミン(味の素
社製「アミキュア」) ACS:コロイダルシリカ(日産化学社製「スノーテッ
クスO」)をトリメトキシシリルプロピルメタクリレー
ト(信越化学工業社製「KBM−503」)で処理した
アクリル変性コロイダルシリカの20%MEK溶液 LPO:ラウロイルペルオキシド(日本油脂製「パーロ
イルL」)
TTA: Triethylenetetramine (“Amicure” manufactured by Ajinomoto Co.) ACS: Colloidal silica (“Snowtex O” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) with trimethoxysilylpropyl methacrylate (“KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 20% MEK solution of treated acrylic-modified colloidal silica LPO: Lauroyl peroxide ("Perloyl L" manufactured by NOF Corporation)

【0066】参考例1(有機過酸化結合基含有重合体の
製造) 攪拌機、温度計、パージガス導入口、水冷コンデンサー
を備えた1リットルの反応容器に、MEK 50gを仕
込み、窒素ガス通気下、80℃に加熱した。その後、攪
拌しながら、メチルメタクリレート 90g、PO1 1
0g、MEK50g、及びLPO 5gの混合物を2時
間かけて滴下した。滴下終了後、そのまま4時間攪拌を
続け、重合を完結した。得られた溶液を石油エーテル中
に注入してポリマーを析出させた後、乾燥して有機過酸
化結合基含有重合体a(表中、重合体aと記載)を得
た。その重量平均分子量(表中、Mwと記載)は210
00であった。また、ヨードメトリーから、仕込み量と
同量の過酸化結合基が重合体中に導入されていることを
確認した。
Reference Example 1 (Production of Polymer Containing Organic Peroxide Bonding Group) 50 g of MEK was charged into a 1-liter reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a purge gas inlet, and a water-cooled condenser. Heated to ° C. Then, while stirring, 90 g of methyl methacrylate, PO11
A mixture of 0 g, 50 g of MEK, and 5 g of LPO was added dropwise over 2 hours. After the completion of the dropwise addition, stirring was continued for 4 hours to complete the polymerization. The resulting solution was poured into petroleum ether to precipitate a polymer, which was then dried to obtain an organic peroxide-bonding group-containing polymer a (described as polymer a in the table). Its weight average molecular weight (described as Mw in the table) is 210
00. From iodometry, it was confirmed that the same amount of peroxide bonding group as that charged was introduced into the polymer.

【0067】参考例2〜12 単量体を表1及び2の種類及び量に変える以外は参考例
1と同様に重合を行い、有機過酸化結合基含有重合体b
〜l(表中、重合体b〜lと記載)を得た。
Reference Examples 2 to 12 Polymerization was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that the monomers were changed to the types and amounts shown in Tables 1 and 2, and an organic peroxide-containing polymer b
To l (described as polymers b to l in the table).

【0068】[0068]

【表1】 [Table 1]

【0069】[0069]

【表2】 [Table 2]

【0070】実施例1(塗膜の製造) 塗布液(イ)として参考例1で得た重合体aの20%M
EK溶液を用い、10cm×10cm、厚さ2mmのポ
リカーボネート板に、乾燥膜厚が5μmになるようにバ
ーコーターを用いて塗布し、50℃で10分間乾燥し
た。得られた塗膜上に単量体溶液(ロ)として20%A
TBS水溶液を塗布した後、熱風循環式恒温槽に入れ、
130℃に加熱し60分間保った。加温終了後、水洗、
乾燥することにより、無色透明な防曇膜を得た。
Example 1 (Production of Coating Film) As a coating solution (a), 20% M of the polymer a obtained in Reference Example 1 was used.
Using an EK solution, a 10 cm × 10 cm, 2 mm thick polycarbonate plate was coated with a bar coater so that the dry film thickness was 5 μm, and dried at 50 ° C. for 10 minutes. 20% A as a monomer solution (b) on the obtained coating film
After applying the TBS aqueous solution, put it in a hot air circulating thermostat,
Heat to 130 ° C. and hold for 60 minutes. After heating, wash with water,
By drying, a colorless and transparent antifogging film was obtained.

【0071】次に、得られた防曇膜について下記に示す
評価方法により物性を評価した。 (1) グラフト膜厚 グラフト重合前後の厚さをデジタル膜厚計(Sheen
Instruments社製)で測定し、増加量をグ
ラフト膜厚(μm)として表した。 (2) 塗膜硬度 JIS K−5400に準じた鉛筆引っかき試験を行
い、塗膜硬度を鉛筆の硬さで表した。
Next, the physical properties of the obtained antifogging film were evaluated by the following evaluation methods. (1) Graft thickness The thickness before and after the graft polymerization is measured using a digital thickness gauge (Sheen
Instrument Inc.) and the increase was expressed as a graft thickness (μm). (2) Coating film hardness A pencil scratch test was performed in accordance with JIS K-5400, and the coating film hardness was represented by pencil hardness.

【0072】(3) 密着性 JIS K−5400の碁盤目テープ法に準じて、塗膜
をカッターナイフで縦横方向に切断して基材に達するよ
うな100個のクロスカット(切断片)を作り、セロハ
ン粘着テープ[ニチバン(株)製]を貼り付け、接着面
と垂直方向に剥離し、剥がれずに残ったクロスカットの
数を次のような記号で表した。
(3) Adhesion According to the grid tape method of JIS K-5400, the coating film is cut in the vertical and horizontal directions with a cutter knife to make 100 cross cuts (cut pieces) reaching the base material. Then, a cellophane adhesive tape [manufactured by Nichiban Co., Ltd.] was affixed and peeled in a direction perpendicular to the adhesive surface, and the number of crosscuts remaining without peeling was represented by the following symbol.

【0073】○:100/100、△:80/100以
上、×:80/100未満 (4) 防曇性 (a)呼気試験 20℃、相対湿度50%の恒温室内で塗膜に息を吹きか
け、曇りの状態を目視によって次の基準にて判定した。
:: 100/100, Δ: 80/100 or more, ×: less than 80/100 (4) Anti-fogging property (a) Breath test Blowing the coating film in a constant temperature room at 20 ° C. and 50% relative humidity The cloudiness was visually determined according to the following criteria.

【0074】○:全く曇らない、△:やや曇りが見られ
る、×:全面が曇る (b)蒸気試験 60℃の恒温水槽上の水面から1cmの位置に試験板を
固定し、10分後の曇りの状態を目視によって次の基準
にて判定した。
:: no fogging, Δ: slight fogging, x: fogging of the entire surface (b) Steam test A test plate was fixed at a position 1 cm from the water surface on a 60 ° C. water bath, and after 10 minutes The cloudiness was visually determined according to the following criteria.

【0075】◎:水滴が全くない、○:直径5mm以下
の水滴がない、△:直径5mm以下の水滴が部分的にあ
る、×:全面に5mm以下の水滴がある (5) 持続性 試験板を水中に1カ月間浸漬した後、乾燥し、上記の呼
気試験、蒸気試験及び下記の塗膜外観試験を行った。
◎: no water droplets, ○: no water droplets with a diameter of 5 mm or less, Δ: partial water droplets with a diameter of 5 mm or less, ×: water droplets of 5 mm or less on the entire surface (5) Persistence test plate Was immersed in water for one month, dried, and subjected to the above breath test, steam test, and the following coating film appearance test.

【0076】塗膜外観試験(ヘイズ値) 直読式ヘイズメータ(東洋精機製作所製)にてヘイズ値
を測定した。なお、この値は一般的には1.0以下が良
く、1.0を越えると外観不良と判定される。その結果
を表4に示した。
Coating Film Appearance Test (Haze Value) The haze value was measured by a direct-reading haze meter (manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.). In general, the value is preferably 1.0 or less, and if it exceeds 1.0, it is determined that the appearance is poor. Table 4 shows the results.

【0077】実施例2〜10 表3に記載のように、塗布液(イ)として参考例1〜1
0で得た重合体a〜j及び各種単量体、添加剤、溶剤か
らなる溶液を用い、被塗基材として実施例3、6、8、
10ではガラス板に、実施例7ではアクリル板に、実施
例2、4、5、9ではポリカーボネート板上に各々塗布
し、乾燥膜厚が5μmになるようにバーコーターを用い
て塗布し、50℃で10分間乾燥した。得られた塗膜上
に単量体溶液(ロ)として20%ATBS水溶液を塗布
した後、熱風循環式恒温槽に入れ、実施例2〜6及び8
〜10では130℃に、また実施例7では80℃に加温
し、それぞれ60分間保った。加温終了後、水洗、乾燥
することにより、無色透明な防曇膜を得、実施例1と同
様に物性を評価した。その評価結果を表5に示した。
Examples 2 to 10 As shown in Table 3, reference examples 1 to 1 were used as coating solutions (a).
Using a solution consisting of the polymers a to j obtained in Step 0, various monomers, additives and a solvent, Examples 3, 6, 8,
10 was applied to a glass plate, Example 7 was applied to an acrylic plate, and Examples 2, 4, 5, and 9 were applied to a polycarbonate plate, and was applied using a bar coater so that the dry film thickness became 5 μm. Dry at 10 ° C. for 10 minutes. After a 20% ATBS aqueous solution was applied as a monomer solution (b) on the obtained coating film, the solution was placed in a hot-air circulating thermostat, and Examples 2 to 6 and 8 were performed.
In Examples 10 to 10, the temperature was raised to 130 ° C, and in Example 7, the temperature was raised to 80 ° C, and each was kept for 60 minutes. After completion of the heating, washing with water and drying were performed to obtain a colorless and transparent anti-fogging film, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 5 shows the evaluation results.

【0078】実施例11〜20 単量体溶液(ロ)として表4に記載したものを用いる以
外は、実施例1に記載した方法で防曇膜を作り、実施例
1と同様に物性を評価した。その評価結果を表6に示し
た。
Examples 11 to 20 An antifogging film was formed by the method described in Example 1 except that the monomer solution (b) described in Table 4 was used, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. did. Table 6 shows the evaluation results.

【0079】[0079]

【表3】 [Table 3]

【0080】[0080]

【表4】 [Table 4]

【0081】[0081]

【表5】 [Table 5]

【0082】[0082]

【表6】 [Table 6]

【0083】実施例21 重合体k 20g、TTA 5g、PGM 30gの混合
物を、ポリカーボネート板に乾燥膜厚が5μmになるよ
うに塗布し、120℃で1時間加熱した。次いで、20
%ATBS水溶液を塗布後、実施例1と同様に加温、水
洗、乾燥し、実施例1と同様に物性を評価した。その評
価結果を表7に示した。
Example 21 A mixture of 20 g of the polymer k, 5 g of TTA, and 30 g of PGM was applied to a polycarbonate plate so as to have a dry film thickness of 5 μm, and heated at 120 ° C. for 1 hour. Then, 20
After applying the% ATBS aqueous solution, heating, washing with water and drying were performed in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 7 shows the evaluation results.

【0084】実施例22 重合体l 20g、MEK 20gの混合物を、ガラス板
に乾燥膜厚が2μmになるように塗布し、80℃で30
分加熱した。次いで、20%AAm水溶液を塗布後、実
施例1と同様に加温、水洗、乾燥し、実施例1と同様に
物性を評価した。評価結果を表7に示した。
Example 22 A mixture of 20 g of Polymer 1 and 20 g of MEK was applied to a glass plate so that the dry film thickness became 2 μm, and the mixture was dried at 80 ° C. for 30 minutes.
Heated for a minute. Next, after applying a 20% AAm aqueous solution, heating, washing with water and drying were performed in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 7 shows the evaluation results.

【0085】実施例23 重合体a 20g、MEK 20gの混合物を、PETフ
ィルム(帝人社製「テトロンHP7」、膜厚100μ
m)に乾燥膜厚が2μmになるように塗布し、80℃で
30分加熱した。次いで、20%ACMO水溶液を塗布
後、実施例1と同様に加温、水洗、乾燥し、実施例1と
同様に物性を評価した。その評価結果を表7に示した。
Example 23 A mixture of 20 g of the polymer a and 20 g of MEK was mixed with a PET film (“Tetron HP7” manufactured by Teijin Limited, 100 μm thick).
m) was applied so that the dry film thickness became 2 μm, and heated at 80 ° C. for 30 minutes. Then, after applying a 20% ACMO aqueous solution, heating, washing with water and drying were performed in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 7 shows the evaluation results.

【0086】実施例24 PO6 10g、PPZ 10g、3002A 5g、M
EK 25gの混合物を、アクリル板に乾燥膜厚が5μ
mになるように塗布し、60℃で10分乾燥した。次い
で、20%ATBS水溶液を塗布後、熱風循環式恒温槽
に入れ、80℃に加熱し60分間保ったあと、水洗、乾
燥し、実施例1と同様に物性を評価した。その評価結果
を表7に示した。
Example 24 10 g of PO6, 10 g of PPZ, 5 g of 3002A, M
EK 25 g of the mixture was applied to an acrylic plate with a dry film thickness of 5 μm.
m and dried at 60 ° C. for 10 minutes. Then, after applying a 20% ATBS aqueous solution, the solution was placed in a hot-air circulation type thermostat, heated to 80 ° C. and maintained for 60 minutes, washed with water and dried, and the physical properties were evaluated as in Example 1. Table 7 shows the evaluation results.

【0087】実施例25 重合体b 20g、MEK 20gの混合物を、アクリル
板に乾燥膜厚が5μmになるように塗布し、60℃で1
0分乾燥した。これを20%ATBS水溶液中に入れ、
80℃に加温し、60分間保った。その後、水洗、乾燥
し、実施例1と同様に物性を評価した。その評価結果を
表7に示した。
Example 25 A mixture of 20 g of polymer b and 20 g of MEK was applied to an acrylic plate so that the dry film thickness became 5 μm, and the mixture was heated at 60 ° C. for 1 hour.
Dried for 0 minutes. Put this in a 20% ATBS aqueous solution,
Heated to 80 ° C. and kept for 60 minutes. Then, it was washed with water and dried, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 7 shows the evaluation results.

【0088】実施例26 重合体a 20g、MEK 20gの混合物を、アクリル
板に乾燥膜厚が5μmになるように塗布し、60℃で1
0分乾燥した。次いで、20%AAm水溶液を塗布し、
その上にガラス板を直接置いた後、実施例1と同様に加
温、水洗、乾燥し、実施例1と同様に物性を評価した。
評価結果を表7に示した。
Example 26 A mixture of 20 g of the polymer a and 20 g of MEK was applied to an acrylic plate so that the dry film thickness became 5 μm, and 1 hour at 60 ° C.
Dried for 0 minutes. Next, a 20% AAm aqueous solution is applied,
After placing the glass plate directly thereon, heating, washing and drying were performed in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1.
Table 7 shows the evaluation results.

【0089】[0089]

【表7】 [Table 7]

【0090】比較例1 アクリル板に界面活性剤OP80を塗布し、実施例1と
同様に物性を評価した。その評価結果を表8に示した。
Comparative Example 1 The surfactant OP80 was applied to an acrylic plate, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1. Table 8 shows the evaluation results.

【0091】比較例2 MMA/DMAAm(重量比80/20)共重合体 2
0g、PME400 5g、NMAAm 5g、ベンゾイ
ルペルオキシド 1g、MEK 30gの混合物をアクリ
ル板に乾燥膜厚が5μmになるように塗布、熱風循環式
恒温槽に入れ80℃に加温し、60分間保った。これ
を、実施例1と同様に物性を評価した。その結果を表8
に示した。
Comparative Example 2 MMA / DMAAm (weight ratio 80/20) copolymer 2
A mixture of 0 g, 5 g of PME400, 5 g of NMAAm, 1 g of benzoyl peroxide, and 30 g of MEK was applied to an acrylic plate so as to have a dry film thickness of 5 μm, placed in a hot-air circulating thermostat, heated to 80 ° C., and kept for 60 minutes. This was evaluated for physical properties in the same manner as in Example 1. Table 8 shows the results.
It was shown to.

【0092】比較例3 MMA/HEMA(重量比65/35)共重合体 30
0g、HEMA 100g、ジエチレングリコールジメ
タクリレート 10g、界面活性剤(花王社製「エマル
ゲン106」) 5g、メチルセルソルブ 300gの混
合物をアクリル板に塗布し、乾燥後、電子線を照射し
た。これを、実施例1と同様に物性を評価した。その結
果を表8に示した。
Comparative Example 3 MMA / HEMA (weight ratio 65/35) copolymer 30
A mixture of 0 g, 100 g of HEMA, 10 g of diethylene glycol dimethacrylate, 5 g of a surfactant ("Emulgen 106" manufactured by Kao Corporation), and 300 g of methylcellosolve was applied to an acrylic plate, dried, and irradiated with an electron beam. This was evaluated for physical properties in the same manner as in Example 1. Table 8 shows the results.

【0093】比較例4 アセチルセルロースフィルムを水酸化ナトリウムでケン
化した後、アクリル板に貼った。これについて、実施例
1と同様に物性を評価した。その結果を表8に示した。
Comparative Example 4 An acetylcellulose film was saponified with sodium hydroxide and then attached to an acrylic plate. About this, physical property was evaluated similarly to Example 1. Table 8 shows the results.

【0094】[0094]

【表8】 [Table 8]

【0095】表5〜8に示したように、各実施例及び比
較例の結果から次のことがわかる。すなわち、比較例1
の界面活性剤を塗布したもの及び比較例3の界面活性剤
を含有する硬化物は、初期の性能は良いが、耐水性がな
く、容易に性能が低下してしまう。比較例2の親水性成
分を含有する共重合体を塗布、硬化したものは初期性能
が不十分であり、さらに長期間にわたって水に接触する
と白化してしまう。比較例4のセルロースフィルムは耐
水性はあるが、防曇性能が不十分である。
As shown in Tables 5 to 8, the following can be understood from the results of the examples and the comparative examples. That is, Comparative Example 1
The surfactant coated with the surfactant and the cured product containing the surfactant of Comparative Example 3 have good initial performance, but have no water resistance and easily deteriorate in performance. When the copolymer containing the hydrophilic component of Comparative Example 2 was applied and cured, its initial performance was insufficient, and it became white when exposed to water for a long period of time. The cellulose film of Comparative Example 4 has water resistance, but has insufficient antifogging performance.

【0096】これに対して、実施例1〜26の防曇膜
は、初期の防曇性能に優れ、かつその性能は水中に浸漬
した後も持続しており、公知の防曇膜に比べて防曇性
能、持続性共に優れていることは明らかである。
On the other hand, the anti-fogging films of Examples 1 to 26 were excellent in the initial anti-fogging performance, and the performance was maintained even after immersion in water. It is clear that both antifog performance and durability are excellent.

【0097】実施例27 塗布液(イ)として重合体aの20%MEK溶液、単量
体溶液(ロ)として20%AAm水溶液を用いる以外
は、実施例1に記載した方法で防曇膜を得た。得られた
防曇膜の表面から約10μmを削り取った重合物0.1
gをTHFに溶解後、水とTHFを用いて、「高分子溶
液」(高分子学会高分子実験学編集委員会編、共立出
版)に記載された分別沈澱法により分離したところ、水
/THF=2〜5(重量比)で沈澱した成分0.06g
が得られた。
Example 27 An antifogging film was formed by the method described in Example 1 except that a 20% MEK solution of the polymer a was used as the coating liquid (a) and a 20% AAm aqueous solution was used as the monomer solution (b). Obtained. A polymer obtained by shaving about 10 μm from the surface of the obtained anti-fog film 0.1
g was dissolved in THF, and separated with water and THF by the fractional precipitation method described in “Polymer Solution” (edited by the Editing Committee for Polymer Experiments of Polymer Society, Kyoritsu Shuppan) using water and THF. = 0.06 g of component precipitated at 2 to 5 (weight ratio)
was gotten.

【0098】核磁気共鳴スペクトル分析(NMR)及び
赤外線吸収スペクトル分析(IR)により、重合体aの
MMA成分とATBS成分とが確認され、グラフト重合
体であることを確認した。このグラフト重合体は、ヨー
ドメトリーの測定より重合体a単独の場合に存在する過
酸化結合が消失していた。これらのことから、得られた
グラフト共重合体は過酸化結合基が開裂したラジカルを
介して結合したグラフト共重合体であることがわかっ
た。
The nuclear magnetic resonance spectrum analysis (NMR) and the infrared absorption spectrum analysis (IR) confirmed that the MMA component and the ATBS component of the polymer a were a graft polymer. In this graft polymer, the peroxide bond existing in the case of the polymer a alone was disappeared by the measurement of iodometry. From these results, it was found that the obtained graft copolymer was a graft copolymer in which a peroxide bonding group was bonded via a cleaved radical.

【0099】実施例28 実施例1で得た防曇膜をXPS[X線光電子分光分析装
置ESCA−850型(島津製作所製)]で分析した。
Nの吸収が7.5%(理論値7.7%)、Sの吸収が
7.3%(理論値7.7%)であった。このことから、
防曇膜の表面はATBSのグラフト鎖であることがわか
った。
Example 28 The anti-fogging film obtained in Example 1 was analyzed by XPS [X-ray photoelectron spectrometer ESCA-850 (manufactured by Shimadzu Corporation)].
The N absorption was 7.5% (theoretical 7.7%), and the S absorption was 7.3% (theoretical 7.7%). From this,
It was found that the surface of the anti-fog film was a graft chain of ATBS.

【0100】前記実施例27及び実施例28の結果よ
り、各実施例の防曇膜は光開始基断片を介して結合した
親水性グラフト鎖が表面を覆っていることがわかる。こ
のため、防曇膜は防曇性能が優れ、かつ水に長期間接触
しても親水性が低下することなく、性能を持続すること
ができた。
From the results of Examples 27 and 28, it can be seen that the antifogging films of the Examples each have a hydrophilic graft chain bonded through a photoinitiating group fragment on the surface. For this reason, the antifogging film was excellent in antifogging performance, and could maintain its performance without being reduced in hydrophilicity even when it was in contact with water for a long time.

【0101】なお、前記実施例の形態より把握される技
術的思想について以下に記載する。 (1) 前記重合体は、疎水性重合体セグメント(I)
を主鎖とし、親水性重合体セグメント(II)を側鎖とす
るグラフト共重合体である請求項1又は2に記載の防曇
膜。
The technical ideas grasped from the embodiment will be described below. (1) The polymer is a hydrophobic polymer segment (I)
The anti-fogging film according to claim 1 or 2, which is a graft copolymer having a main chain as a main chain and a hydrophilic polymer segment (II) as a side chain.

【0102】このように構成した場合、基材に対する防
曇膜の密着性、防曇膜の防曇性能、その持続性、透明
性、被膜強度などの性能を確実に発揮させることができ
る。 (2) 前記疎水性重合体セグメント(I)は、有機過
酸化結合基を有する単量体と有機過酸化結合基を有しな
い単量体とから形成されたものである請求項2に記載の
防曇膜。
In the case of such a configuration, it is possible to surely exhibit performance such as adhesion of the anti-fogging film to the substrate, anti-fogging performance of the anti-fogging film, its persistence, transparency, and film strength. (2) The hydrophobic polymer segment (I) according to claim 2, wherein the hydrophobic polymer segment (I) is formed from a monomer having an organic peroxide bonding group and a monomer having no organic peroxide bonding group. Anti-fog film.

【0103】このように構成した場合、基材に対する防
曇膜の密着性や防曇膜のその他の性能を調整して、各性
能をバランス良く発揮させることができる。 (3) 有機過酸化結合基を有する重合体を基材表面に
塗布し、次いでその表面に親水性単量体を塗布するか、
又は親水性単量体中に基材を浸漬した後、加熱する請求
項3又は4に記載の防曇膜の製造方法。このように構成
すれば、簡易な操作により防曇膜を容易に製造すること
ができる。
In the case of such a constitution, the adhesion of the anti-fogging film to the base material and the other properties of the anti-fogging film can be adjusted so that each performance can be exhibited in a well-balanced manner. (3) A polymer having an organic peroxide bonding group is applied to the surface of a substrate, and then a hydrophilic monomer is applied to the surface,
The method for producing an anti-fogging film according to claim 3, wherein the substrate is heated after being immersed in a hydrophilic monomer. According to this structure, the antifogging film can be easily manufactured by a simple operation.

【0104】[0104]

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、次のような優れた効果を奏する。第1の発明の防曇
膜は、基材側の疎水性重合体セグメント(I)上に、そ
の疎水性重合体に化学的に結合した親水性重合体セグメ
ント(II)の層が形成された構造よりなる膜である。こ
の膜の表面側は親水性重合体セグメント(II)で構成さ
れており、かつこれが基材側の疎水性重合体セグメント
(I)に化学的に結合している。従って、表面の親水性
膜により、水滴の付着による基材表面の曇りを防止する
ことができ、かつ多量の水滴が基材表面に付着しても親
水性膜が脱落するおそれがなく、長期間にわたって防曇
性能を維持することができる。
As described above in detail, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained. In the antifogging film of the first invention, a layer of the hydrophilic polymer segment (II) chemically bonded to the hydrophobic polymer is formed on the hydrophobic polymer segment (I) on the substrate side. It is a film having a structure. The surface side of this film is composed of a hydrophilic polymer segment (II), which is chemically bonded to the hydrophobic polymer segment (I) on the substrate side. Therefore, the hydrophilic film on the surface can prevent clouding of the substrate surface due to the attachment of water droplets, and even if a large amount of water droplets adhere to the substrate surface, there is no possibility that the hydrophilic film will fall off, The anti-fog performance can be maintained over a long period of time.

【0105】更に、防曇膜の表面は親水性重合体セグメ
ント(II)の均一性の良い膜であるため、薄い膜で充分
に性能を発現させることができ、防曇膜の吸水量を少な
くすることができる。従って、吸水による性能の低下が
抑制され、防曇膜の膨潤によってその硬度が低下して防
曇膜が傷ついたり、剥離したりするおそれがない。しか
も、透明性が良く、実用的な塗膜強度を有しているとと
もに、基材との密着性も良好である。
Further, since the surface of the anti-fogging film is a film having good uniformity of the hydrophilic polymer segment (II), a thin film can sufficiently exhibit performance, and the water absorption of the anti-fogging film can be reduced. can do. Accordingly, a decrease in performance due to water absorption is suppressed, and there is no danger that the hardness of the antifogging film is reduced due to swelling of the antifogging film, and the antifogging film is not damaged or peeled off. In addition, it has good transparency, practical coating strength, and good adhesion to a substrate.

【0106】加えて、重合開始機構は開始剤が基材から
水素を引き抜いて重合を開始させるという機構ではない
ため、適用できる基材に制限を受けるおそれを抑制する
ことができる。このように、防曇膜は、ガラスやプラス
チックのような透明材料よりなる光学部品や成形品の表
面に好適に適用でき、産業上有用である。第2の発明の
防曇膜によれば、防曇性、その持続性、透明性、被膜強
度などの防曇膜の性能に優れるとともに、第1の発明の
効果をより高めることができる。第3の発明の防曇膜の
製造方法によれば、第1の発明の優れた性能を有する防
曇膜を容易に製造することができる。第4の発明の防曇
膜の製造方法によれば、より性能の優れた防曇膜を容易
に製造することができる。
In addition, since the polymerization initiation mechanism is not a mechanism in which the initiator starts hydrogenation by extracting hydrogen from the base material, it is possible to suppress the possibility that the applicable base material is restricted. As described above, the anti-fog film can be suitably applied to the surface of an optical component or a molded product made of a transparent material such as glass or plastic, and is industrially useful. According to the antifogging film of the second invention, the performance of the antifogging film such as antifogging property, its persistence, transparency and film strength is excellent, and the effect of the first invention can be further enhanced. According to the method for manufacturing an anti-fogging film of the third invention, the anti-fogging film having excellent performance of the first invention can be easily manufactured. According to the method for manufacturing an anti-fogging film of the fourth invention, an anti-fogging film having better performance can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 基材上に形成される防曇膜の製造法を概念的
に示した説明図。
FIG. 1 is an explanatory view conceptually showing a method for producing an antifogging film formed on a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 疎水性重合体セグメント(I) B 親水性重合体セグメント(II) A hydrophobic polymer segment (I) B hydrophilic polymer segment (II)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08F 216:14) (C08F 291/00 220:26) (72)発明者 須山 修治 愛知県知多郡武豊町字楠4丁目132番地────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C08F 216: 14) (C08F 291/00 220: 26) (72) Inventor Shuji Suyama 4-132, Kusu, Taketoyo-cho, Chita-gun, Aichi Prefecture address

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に形成される防曇膜であって、疎
水性単量体から形成される疎水性重合体セグメント
(I)が基材側に位置し、下記親水性単量体からなる群
より選ばれる少なくとも1種の単量体より形成される親
水性重合体セグメント(II)が前記疎水性重合体セグメ
ント(I)上で有機過酸化結合基断片を介して疎水性重
合体セグメント(I)に結合している重合体より構成さ
れている防曇膜。 親水性単量体:カルボキシル基、水酸基、スルホン酸
基、リン酸基、これらのアルカリ金属塩又はアンモニウ
ム塩、アルキレンオキシド基、アミノ基、アミド基、シ
アノ基、酸無水物基及び4級アンモニウム塩基からなる
群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する単量
体。
1. An anti-fogging film formed on a substrate, wherein a hydrophobic polymer segment (I) formed from a hydrophobic monomer is located on the substrate side, and a hydrophilic monomer A hydrophilic polymer segment (II) formed from at least one monomer selected from the group consisting of: a hydrophobic polymer on the hydrophobic polymer segment (I) via an organic peroxide bonding group fragment; An antifogging film composed of a polymer bonded to the segment (I). Hydrophilic monomer: carboxyl group, hydroxyl group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, alkali metal salt or ammonium salt thereof, alkylene oxide group, amino group, amide group, cyano group, acid anhydride group and quaternary ammonium base A monomer having at least one functional group selected from the group consisting of:
【請求項2】 前記疎水性重合体セグメント(I)が有
機過酸化結合基を有する単量体より形成され、親水性重
合体セグメント(II)がアミド基を有する親水性単量体
より形成される請求項1に記載の防曇膜。
2. The hydrophobic polymer segment (I) is formed from a monomer having an organic peroxide bonding group, and the hydrophilic polymer segment (II) is formed from a hydrophilic monomer having an amide group. The antifogging film according to claim 1.
【請求項3】 基材上に形成された有機過酸化結合基を
有する疎水性重合体の層上に、前記親水性単量体からな
る群より選ばれる少なくとも1種を接触させて60〜1
50℃に加熱する請求項1に記載の防曇膜の製造方法。
3. At least one member selected from the group consisting of the hydrophilic monomers is brought into contact with a layer of a hydrophobic polymer having an organic peroxide-bonding group formed on a substrate, and
The method for producing an antifogging film according to claim 1, wherein the method is heated to 50 ° C.
【請求項4】 有機過酸化結合を有する疎水性重合体が
下記に示される一般式(1)〜(5)の有機過酸化結合
基を有する単量体の群から選ばれる少なくとも1種を有
する単量体より形成される重合体セグメントであり、親
水性単量体がアミド基を有する単量体である請求項3に
記載の防曇膜の製造方法。 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子又はメチル基、R2 は水素原子
又はメチル基、R3 、R 4 は炭素数1〜4のアルキル
基、R5 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜1
2のシクロアルキル基、フェニル基、アルキル基置換フ
ェニル基を表し、nは1〜5を表す。) 一般式(2) 【化2】 (式中、R6 は水素原子又はメチル基、R7 は水素原子
又はメチル基、R8 、R 9 は炭素数1〜4のアルキル
基、R10は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜1
2のシクロアルキル基、フェニル基、アルキル基置換フ
ェニル基を表し、nは0〜4を表す。) 一般式(3) 【化3】 (式中、R11は水素原子又はメチル基、R12、R13は炭
素数1〜4のアルキル基、R14は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。) 一般式(4) 【化4】 (式中、R15は水素原子又はメチル基、R16、R17は炭
素数1〜4のアルキル基、R18は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。) 一般式(5) 【化5】 (式中、R19は水素原子又はメチル基、R20、R21は炭
素数1〜4のアルキル基、R22は炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル
基、アルキル基置換フェニル基を表す。)
4. A hydrophobic polymer having an organic peroxide bond,
Organic peroxide bonds represented by the following general formulas (1) to (5)
At least one selected from the group of monomers having a group
Is a polymer segment formed from
4. The method according to claim 3, wherein the aqueous monomer is a monomer having an amide group.
A method for producing the anti-fogging film according to the above. General formula (1)(Where R1 Is a hydrogen atom or a methyl group, RTwo Is a hydrogen atom
Or a methyl group, RThree , R Four Is alkyl having 1 to 4 carbon atoms
Group, RFive Is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 3 to 1 carbon atoms
2 cycloalkyl group, phenyl group, alkyl group substituted
And n represents 1 to 5. ) General formula (2)(Where R6 Is a hydrogen atom or a methyl group, R7 Is a hydrogen atom
Or a methyl group, R8 , R 9 Is alkyl having 1 to 4 carbon atoms
Group, RTenIs an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and 3 to 1 carbon atoms
2 cycloalkyl group, phenyl group, alkyl group substituted
And n represents 0 to 4. ) General formula (3)(Where R11Is a hydrogen atom or a methyl group, R12, R13Is charcoal
An alkyl group having a prime number of 1 to 4, R14Is an alkyl having 1 to 12 carbons
Kill group, cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, phenyl
Represents a phenyl group substituted with an alkyl group. ) General formula (4)(Where RFifteenIs a hydrogen atom or a methyl group, R16, R17Is charcoal
An alkyl group having a prime number of 1 to 4, R18Is an alkyl having 1 to 12 carbons
Kill group, cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, phenyl
Represents a phenyl group substituted with an alkyl group. ) General formula (5)(Where R19Is a hydrogen atom or a methyl group, R20, Rtwenty oneIs charcoal
An alkyl group having a prime number of 1 to 4, Rtwenty twoIs an alkyl having 1 to 12 carbons
Kill group, cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, phenyl
Represents a phenyl group substituted with an alkyl group. )
JP20280397A 1997-07-29 1997-07-29 Antifogging film and its production Pending JPH1143614A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20280397A JPH1143614A (en) 1997-07-29 1997-07-29 Antifogging film and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20280397A JPH1143614A (en) 1997-07-29 1997-07-29 Antifogging film and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1143614A true JPH1143614A (en) 1999-02-16

Family

ID=16463464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20280397A Pending JPH1143614A (en) 1997-07-29 1997-07-29 Antifogging film and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1143614A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001004170A1 (en) * 1999-07-08 2001-01-18 Mitsui Chemicals, Inc. Thermoplastic polymer having polar group, use thereof, and unsaturated compounds having polar group
US6176906B1 (en) * 1997-11-26 2001-01-23 Ventree Co., Ltd. Quaternary ammonium salt for photo-curable antifogging composition, method for preparing the same, and photo-curable antifogging composition
US7045276B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor
US7056642B2 (en) 2002-09-18 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of graft polymerization and variety of materials utilizing the same as well as producing method thereof
US7306895B2 (en) 2003-04-21 2007-12-11 Fujifilm Corporation Pattern forming method, image forming method, fine particle adsorption pattern forming method, conductive pattern forming method, pattern forming material and planographic printing plate
CN100425436C (en) * 2005-12-07 2008-10-15 浙江大学 Method for preparing antifogging plastic film by blend reshaping process
CN115079317A (en) * 2021-03-12 2022-09-20 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 Goggles with hydrophilic antifogging film layer and film coating method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6176906B1 (en) * 1997-11-26 2001-01-23 Ventree Co., Ltd. Quaternary ammonium salt for photo-curable antifogging composition, method for preparing the same, and photo-curable antifogging composition
WO2001004170A1 (en) * 1999-07-08 2001-01-18 Mitsui Chemicals, Inc. Thermoplastic polymer having polar group, use thereof, and unsaturated compounds having polar group
US7045276B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor
US7056642B2 (en) 2002-09-18 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of graft polymerization and variety of materials utilizing the same as well as producing method thereof
US7306895B2 (en) 2003-04-21 2007-12-11 Fujifilm Corporation Pattern forming method, image forming method, fine particle adsorption pattern forming method, conductive pattern forming method, pattern forming material and planographic printing plate
CN100425436C (en) * 2005-12-07 2008-10-15 浙江大学 Method for preparing antifogging plastic film by blend reshaping process
CN115079317A (en) * 2021-03-12 2022-09-20 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 Goggles with hydrophilic antifogging film layer and film coating method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9034464B2 (en) Single layer film and hydrophilic material comprising the same
US5180760A (en) Anti-fogging resin film-forming composition
JP6281061B2 (en) Coating composition, cured film thereof and coated article provided with the cured film
JPH1143614A (en) Antifogging film and its production
JP3700273B2 (en)   Article formed with anti-fogging film and method for producing the same
JP4032159B2 (en) Method for producing article having antifogging film formed
KR950014730B1 (en) UV curable anticorrosive composition and antifog coating method
JPH06172676A (en) Uv-curable antifogging agent composition
JP4999137B2 (en) Hydrophilic hard coat composition, hard coat material, and method of forming hard coat film
JPH03247672A (en) Ultraviolet ray curing type coating composition and preparation of ultraviolet ray cured film
JP4640566B2 (en) Polarizer
JPH0686581B2 (en) Paint composition
JP4151086B2 (en) Glass products with polymer coating
JPS63273668A (en) Hydrophilic film-forming composition, hydrophilic film thereof, and manufacturing method thereof
JP6354037B2 (en) Coating composition, cured film thereof and coated article provided with the cured film
JPH08269387A (en) Thermosetting coating composition
JPH11228940A (en) Thermally curable antifogging composition
JPH11217451A (en) Fluoro polymer coating film and its production
JPH10279834A (en) Fluoropolymer coating film and its production
JP7227565B2 (en) Hydrophilic coating agent composition and hydrophilic article
JPH11156982A (en) Anti-fogging film
JPH0632997A (en) Ultraviolet-curable coating composition
JP2000072904A (en) Surface treatment method using active energy rays
JPH10208542A (en) Ion conductor and its manufacture
JP4379935B2 (en) Functional coating, functional article, and production method thereof