JPH1140829A - 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 - Google Patents
太陽電池用絶縁基板及びその製造方法Info
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- JPH1140829A JPH1140829A JP9190865A JP19086597A JPH1140829A JP H1140829 A JPH1140829 A JP H1140829A JP 9190865 A JP9190865 A JP 9190865A JP 19086597 A JP19086597 A JP 19086597A JP H1140829 A JPH1140829 A JP H1140829A
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Classifications
-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 太陽電池用基板の絶縁層として有効な酸化物
層をゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成する。 【構成】 この太陽電池用基板は、基材としてのステン
レス鋼板１の表面に、ゾル−ゲル法による厚み１〜１０
μｍの絶縁層２が形成されている。絶縁層には、可視光
反射率７０％以上の無機化合物を分散させても良い。ス
テンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進
させる微細な凹凸やうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。アルコキ
シシラン等の金属アルコキシド，オルガノアルコキシシ
ラン，水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させた溶液にステ
ンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面に付着し
た溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面に絶縁層
を形成することにより製造される。
層をゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成する。 【構成】 この太陽電池用基板は、基材としてのステン
レス鋼板１の表面に、ゾル−ゲル法による厚み１〜１０
μｍの絶縁層２が形成されている。絶縁層には、可視光
反射率７０％以上の無機化合物を分散させても良い。ス
テンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進
させる微細な凹凸やうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。アルコキ
シシラン等の金属アルコキシド，オルガノアルコキシシ
ラン，水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させた溶液にステ
ンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面に付着し
た溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面に絶縁層
を形成することにより製造される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、可撓性，耐熱性，絶縁
性に優れた太陽電池用絶縁基板及びその製造方法に関す
る。
性に優れた太陽電池用絶縁基板及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】非晶質Ｓｉ等からなる太陽電池を形成す
る基板には、ガラス板やステンレス鋼板が使用されてい
る。なかでも、ステンレス鋼板は、ガラス板に比較して
優れた可撓性を活用した基板材料として着目されてい
る。ステンレス鋼板を太陽電池用基板として使用する場
合、基板表面を絶縁処理する必要があり、樹脂系絶縁皮
膜，無機系絶縁皮膜，金属酸化物皮膜，陽極酸化皮膜等
が提案されている。たとえば、特開昭５９−４７７７６
号公報では、スピナー，スプレー，浸漬法で液状樹脂を
ステンレス鋼基板の表面に塗布し、高温焼成することに
より厚み２μｍ程度の高分子樹脂皮膜を形成している。
また、特開昭５９−４７７７５号公報では、スパッタリ
ング，蒸着，イオンプレーティング，プラズマＣＶＤ，
熱分解ＣＶＤ等でＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＮX ，非
晶質Ｓｉ等の絶縁皮膜を形成している。
る基板には、ガラス板やステンレス鋼板が使用されてい
る。なかでも、ステンレス鋼板は、ガラス板に比較して
優れた可撓性を活用した基板材料として着目されてい
る。ステンレス鋼板を太陽電池用基板として使用する場
合、基板表面を絶縁処理する必要があり、樹脂系絶縁皮
膜，無機系絶縁皮膜，金属酸化物皮膜，陽極酸化皮膜等
が提案されている。たとえば、特開昭５９−４７７７６
号公報では、スピナー，スプレー，浸漬法で液状樹脂を
ステンレス鋼基板の表面に塗布し、高温焼成することに
より厚み２μｍ程度の高分子樹脂皮膜を形成している。
また、特開昭５９−４７７７５号公報では、スパッタリ
ング，蒸着，イオンプレーティング，プラズマＣＶＤ，
熱分解ＣＶＤ等でＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＮX ，非
晶質Ｓｉ等の絶縁皮膜を形成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】樹脂系絶縁皮膜は、可
撓性があり、耐衝撃性にも優れている。しかし、太陽電
池として働く非晶質Ｓｉの堆積時に加熱されると、熱分
解してガスを発生し易く、非晶質Ｓｉ層に欠陥を導入す
る原因となる。また、耐湿性も十分でないことから、耐
久性の点で問題がある。他方、スパッタリング，蒸着，
イオンプレーティング，プラズマＣＶＤ，熱分解ＣＶＤ
等で無機系絶縁皮膜を設ける方法では、絶縁皮膜が必要
厚みに成長するまで時間がかかり、製造コストが高くな
る。本発明は、このような問題を解消すべく案出された
ものであり、厚膜化が可能なゾル−ゲル法を採用するこ
とにより、密着性が良好で厚い無機系絶縁層がステンレ
ス鋼板表面に形成された太陽電池用基板を提供すること
を目的とする。
撓性があり、耐衝撃性にも優れている。しかし、太陽電
池として働く非晶質Ｓｉの堆積時に加熱されると、熱分
解してガスを発生し易く、非晶質Ｓｉ層に欠陥を導入す
る原因となる。また、耐湿性も十分でないことから、耐
久性の点で問題がある。他方、スパッタリング，蒸着，
イオンプレーティング，プラズマＣＶＤ，熱分解ＣＶＤ
等で無機系絶縁皮膜を設ける方法では、絶縁皮膜が必要
厚みに成長するまで時間がかかり、製造コストが高くな
る。本発明は、このような問題を解消すべく案出された
ものであり、厚膜化が可能なゾル−ゲル法を採用するこ
とにより、密着性が良好で厚い無機系絶縁層がステンレ
ス鋼板表面に形成された太陽電池用基板を提供すること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の太陽電池用絶縁
基板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、ゾル−ゲル法による絶縁層が前記基板の表面に
形成されていることを特徴とする。１〜１０μｍの厚み
をもつ酸化物層をステンレス鋼板表面に形成すると、十
分な絶縁特性をもつ絶縁層が得られる。絶縁層に絶縁性
の無機粉末を分散させると、クラックの発生が防止され
絶縁層の厚膜化が容易になる。なかでも、可視光反射率
７０％以上の無機化合物を絶縁性粉末として使用する
と、光閉じ込め効果が得られ、太陽電池の光電変換効率
が向上する。本発明で使用されるステンレス鋼板は、鋼
種が特定されるものではないが、たとえばオーステナイ
ト系，フェライト系，マルテンサイト系等がある。ステ
ンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進さ
せる微細な凹凸又はうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。
基板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、ゾル−ゲル法による絶縁層が前記基板の表面に
形成されていることを特徴とする。１〜１０μｍの厚み
をもつ酸化物層をステンレス鋼板表面に形成すると、十
分な絶縁特性をもつ絶縁層が得られる。絶縁層に絶縁性
の無機粉末を分散させると、クラックの発生が防止され
絶縁層の厚膜化が容易になる。なかでも、可視光反射率
７０％以上の無機化合物を絶縁性粉末として使用する
と、光閉じ込め効果が得られ、太陽電池の光電変換効率
が向上する。本発明で使用されるステンレス鋼板は、鋼
種が特定されるものではないが、たとえばオーステナイ
ト系，フェライト系，マルテンサイト系等がある。ステ
ンレス鋼板基板として、入射光の散乱多重反射を促進さ
せる微細な凹凸又はうねりのある表面をもつステンレス
鋼板を使用すると、光電変換効率が向上する。
【０００５】この太陽電池用絶縁基板は、アルコキシシ
ラン，（１）の構造式をもつオルガノアルコキシシラ
ン，水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させたゾル−ゲル溶
液にステンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面
に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面
に絶縁層を形成することにより製造される。使用する溶
液には、アルミニウムアルコキシド，アルカリ金属のア
ルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシドの１種
又は２種以上を添加しても良い。ゾル−ゲル溶液は、浸
漬法，塗布，スプレー等によってステンレス鋼板表面に
塗布される。 Ｘ：ビニル基，エポキシ基，アミノ基，メタクリロキシ
基又はメルカプト基 Ｒ：アルキル基
ラン，（１）の構造式をもつオルガノアルコキシシラ
ン，水及び増粘剤を有機溶媒に溶解させたゾル−ゲル溶
液にステンレス鋼板を接触させ、ステンレス鋼板の表面
に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステンレス鋼板の表面
に絶縁層を形成することにより製造される。使用する溶
液には、アルミニウムアルコキシド，アルカリ金属のア
ルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシドの１種
又は２種以上を添加しても良い。ゾル−ゲル溶液は、浸
漬法，塗布，スプレー等によってステンレス鋼板表面に
塗布される。 Ｘ：ビニル基，エポキシ基，アミノ基，メタクリロキシ
基又はメルカプト基 Ｒ：アルキル基
【０００６】
【作用】ゾル−ゲル法は、金属板表面に酸化物層を形成
させる方法として従来から使用されており、比較的低温
で酸化物層を形成できる長所をもっている。しかし、従
来のゾル−ゲル法では、膜厚が１μｍ以下の薄膜が得ら
れるに過ぎない。このような薄膜は、多数のピンホール
を含み絶縁性が十分でないことから、太陽電池用基板の
絶縁層として使用できない。ところで、本発明者等は、
オルガノアルコキシシランを膜強化剤として、ヒドロキ
シアルキルセルロースを増粘剤としてアルコキシドに添
加したコーティング溶液を使用すると、比較的厚膜の酸
化物層が形成されることを見い出し、特願平８−４０５
５８号等で提案した。
させる方法として従来から使用されており、比較的低温
で酸化物層を形成できる長所をもっている。しかし、従
来のゾル−ゲル法では、膜厚が１μｍ以下の薄膜が得ら
れるに過ぎない。このような薄膜は、多数のピンホール
を含み絶縁性が十分でないことから、太陽電池用基板の
絶縁層として使用できない。ところで、本発明者等は、
オルガノアルコキシシランを膜強化剤として、ヒドロキ
シアルキルセルロースを増粘剤としてアルコキシドに添
加したコーティング溶液を使用すると、比較的厚膜の酸
化物層が形成されることを見い出し、特願平８−４０５
５８号等で提案した。
【０００７】基本となるゾル−ゲル浴は、アルミニウム
アルコキシド，アルコキシシラン，オルガノアルコキシ
シラン，アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属のア
ルコキシド，アルコールアミン，水を含み、各アルコキ
シドを溶解させるためアルコール系の溶剤を使用する。
アルコール系溶剤に溶解したアルコキシドは、水添加に
よって加水分解し、水酸化物となる。しかし、急激な加
水分解では沈澱物が生成するので、アルコールアミンの
添加によって加水分解の反応速度を調整する。このゾル
−ゲル浴をステンレス鋼板に浸漬，塗布，スプレー等で
コーティングすると、アルミニウムアルコキシド，アル
コキシシラン，アルカリ金属，アルカリ土類金属のアル
コキシド等の加水分解された水酸化物が付着する。
アルコキシド，アルコキシシラン，オルガノアルコキシ
シラン，アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属のア
ルコキシド，アルコールアミン，水を含み、各アルコキ
シドを溶解させるためアルコール系の溶剤を使用する。
アルコール系溶剤に溶解したアルコキシドは、水添加に
よって加水分解し、水酸化物となる。しかし、急激な加
水分解では沈澱物が生成するので、アルコールアミンの
添加によって加水分解の反応速度を調整する。このゾル
−ゲル浴をステンレス鋼板に浸漬，塗布，スプレー等で
コーティングすると、アルミニウムアルコキシド，アル
コキシシラン，アルカリ金属，アルカリ土類金属のアル
コキシド等の加水分解された水酸化物が付着する。
【０００８】この状態でステンレス鋼板を加熱すると合
成反応が進行し、ステンレス鋼板の表面に酸化物層が形
成される。このときの加熱は、１００〜６００℃程度
で、従来の無機系酸化物を焼き付ける温度に比較して大
幅に低い。そのため、ステンレス鋼板に熱的な悪影響を
及ぼすことなく、しかも酸化物本来の優れた絶縁性を呈
する絶縁層となる。形成された絶縁層は、従来のゾル−
ゲル法による酸化物層と異なり、オルガノアルコキシシ
ラン添加によりシリカの網目構造の結合が強化され、ヒ
ドロキシアルキルセルロースの添加により急激な溶剤の
蒸発に伴うクラックの発生が抑制されることから厚く成
長し、ステンレス鋼板に対する密着性も良好である。ま
た、塗布−乾燥−焼成を繰り返すことにより、酸化物層
を厚膜化できる。たとえば、図１（ａ）に示すように、
ステンレス鋼板１の表面に膜厚１μｍ以上の酸化物層２
を形成すると、薄膜に生じがちなピンホール等の欠陥が
なくなり、太陽電池用の絶縁層として十分な絶縁特性が
発現される。しかし、厚すぎる酸化物層２ではステンレ
ス鋼板１に対する密着性が低下するので、酸化物層２の
厚みは１０μｍ以下に調整することが好ましい。
成反応が進行し、ステンレス鋼板の表面に酸化物層が形
成される。このときの加熱は、１００〜６００℃程度
で、従来の無機系酸化物を焼き付ける温度に比較して大
幅に低い。そのため、ステンレス鋼板に熱的な悪影響を
及ぼすことなく、しかも酸化物本来の優れた絶縁性を呈
する絶縁層となる。形成された絶縁層は、従来のゾル−
ゲル法による酸化物層と異なり、オルガノアルコキシシ
ラン添加によりシリカの網目構造の結合が強化され、ヒ
ドロキシアルキルセルロースの添加により急激な溶剤の
蒸発に伴うクラックの発生が抑制されることから厚く成
長し、ステンレス鋼板に対する密着性も良好である。ま
た、塗布−乾燥−焼成を繰り返すことにより、酸化物層
を厚膜化できる。たとえば、図１（ａ）に示すように、
ステンレス鋼板１の表面に膜厚１μｍ以上の酸化物層２
を形成すると、薄膜に生じがちなピンホール等の欠陥が
なくなり、太陽電池用の絶縁層として十分な絶縁特性が
発現される。しかし、厚すぎる酸化物層２ではステンレ
ス鋼板１に対する密着性が低下するので、酸化物層２の
厚みは１０μｍ以下に調整することが好ましい。
【０００９】酸化物，窒化物，炭化物等の絶縁性粉末を
分散させたゾル−ゲル浴を使用すると、絶縁性粉末３が
分散した厚膜の酸化物層２（図１ｂ）が得られる。絶縁
性粉末３は、酸化物層２のクラック発生を抑制し、酸化
物層２を比較的容易に厚膜化できる。なかでも、可視光
反射特性が高い粉末を絶縁性粉末３として使用すると、
太陽電池を構成したときの入射光の多重反射が促進さ
れ、光電変換効率が向上する。可視光反射特性が高い粉
末としては、反射特性を図２に示すようにＡｌ2Ｏ3 ，
ＺｎＯ，ＭｇＯの外、ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＣａＣＯ
3 ，ＭｇＣＯ3 等が使用される。酸化物層は、ゾル−ゲ
ル浴とステンレス鋼基板との接触界面で形成・成長する
ため、ステンレス鋼基板の表面形態を正確に倣った均一
膜厚となる。そこで、ステンレス鋼板１を凹凸のある表
面（図１ｃ）にすると、その表面凹凸を倣った酸化物層
２が形成される。凹凸のある酸化物層２は、入射光の乱
反射や多重反射を促進させ、光閉じ込め効果によって光
電変換効率を向上させる。
分散させたゾル−ゲル浴を使用すると、絶縁性粉末３が
分散した厚膜の酸化物層２（図１ｂ）が得られる。絶縁
性粉末３は、酸化物層２のクラック発生を抑制し、酸化
物層２を比較的容易に厚膜化できる。なかでも、可視光
反射特性が高い粉末を絶縁性粉末３として使用すると、
太陽電池を構成したときの入射光の多重反射が促進さ
れ、光電変換効率が向上する。可視光反射特性が高い粉
末としては、反射特性を図２に示すようにＡｌ2Ｏ3 ，
ＺｎＯ，ＭｇＯの外、ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，ＣａＣＯ
3 ，ＭｇＣＯ3 等が使用される。酸化物層は、ゾル−ゲ
ル浴とステンレス鋼基板との接触界面で形成・成長する
ため、ステンレス鋼基板の表面形態を正確に倣った均一
膜厚となる。そこで、ステンレス鋼板１を凹凸のある表
面（図１ｃ）にすると、その表面凹凸を倣った酸化物層
２が形成される。凹凸のある酸化物層２は、入射光の乱
反射や多重反射を促進させ、光閉じ込め効果によって光
電変換効率を向上させる。
【００１０】
実施例１：アルミニウムイソプロポキシド：１．０モ
ル，オルトケイ酸テトラエチル：２．５モル，ナトリウ
ムメトキシド：１．０モル，トリイソプロパノールアミ
ン：４．０モル及び水：７．０モルをブチルセルソル
ブ：１５モルに溶解し、２４時間撹拌してゾル−ゲル浴
を調製した。得られたゾル−ゲル浴は、透明で、１００
時間撹拌放置しても安定であった。ゾル−ゲル浴を用い
て、板厚０．１５ｍｍのステンレス鋼板ＳＵＳ４３０を
引上げ法でコーティングした後、２分間常温で乾燥さ
せ、３８０℃で２分間焼成した。得られた酸化物皮膜
は、厚み２．０μｍで均一且つ緻密な構造をもった透明
膜であった。
ル，オルトケイ酸テトラエチル：２．５モル，ナトリウ
ムメトキシド：１．０モル，トリイソプロパノールアミ
ン：４．０モル及び水：７．０モルをブチルセルソル
ブ：１５モルに溶解し、２４時間撹拌してゾル−ゲル浴
を調製した。得られたゾル−ゲル浴は、透明で、１００
時間撹拌放置しても安定であった。ゾル−ゲル浴を用い
て、板厚０．１５ｍｍのステンレス鋼板ＳＵＳ４３０を
引上げ法でコーティングした後、２分間常温で乾燥さ
せ、３８０℃で２分間焼成した。得られた酸化物皮膜
は、厚み２．０μｍで均一且つ緻密な構造をもった透明
膜であった。
【００１１】実施例２：ゾル−ゲル浴に更にＡｌ2 Ｏ
3 ：２０重量部を添加する以外は、実施例１と同じ条件
下でステンレス鋼板ＳＵＳ４３０をコーティングした。
得られた酸化物皮膜は、厚み８．０μｍで均一且つ緻密
な構造をもった透明膜であった。 実施例３：ゾル−ゲル浴に更にＭｇＯ：３０重量部を添
加する以外は、実施例１と同じ条件下でステンレス鋼板
ＳＵＳ４３０をコーティングした。得られた酸化物皮膜
は、厚み１０μｍで均一且つ緻密な構造をもった透明膜
であった。 実施例４：表面粗さをＲz １．２６μｍ，Ｒmax １．６
６μｍに調整し、且つ表面粗さに一方向のうねりをつけ
たステンレス鋼板ＳＵＳ４３０を使用する以外は、実施
例１と同じゾル−ゲル浴を用いてステンレス鋼板をコー
ティングした。得られた酸化物皮膜は、厚み２．０μｍ
で均一且つ緻密な構造をもった透明膜で、ステンレス鋼
板の表面形態を正確に倣って一方向のうねりが付けられ
ていた。
3 ：２０重量部を添加する以外は、実施例１と同じ条件
下でステンレス鋼板ＳＵＳ４３０をコーティングした。
得られた酸化物皮膜は、厚み８．０μｍで均一且つ緻密
な構造をもった透明膜であった。 実施例３：ゾル−ゲル浴に更にＭｇＯ：３０重量部を添
加する以外は、実施例１と同じ条件下でステンレス鋼板
ＳＵＳ４３０をコーティングした。得られた酸化物皮膜
は、厚み１０μｍで均一且つ緻密な構造をもった透明膜
であった。 実施例４：表面粗さをＲz １．２６μｍ，Ｒmax １．６
６μｍに調整し、且つ表面粗さに一方向のうねりをつけ
たステンレス鋼板ＳＵＳ４３０を使用する以外は、実施
例１と同じゾル−ゲル浴を用いてステンレス鋼板をコー
ティングした。得られた酸化物皮膜は、厚み２．０μｍ
で均一且つ緻密な構造をもった透明膜で、ステンレス鋼
板の表面形態を正確に倣って一方向のうねりが付けられ
ていた。
【００１２】実施例１〜４で酸化物層が形成されたステ
ンレス鋼板を太陽電池用基板として使用し、常法に従っ
て次のようにして太陽電池を形成した。先ず、加熱した
基板表面に酸化インジウム及び酸化錫の混合物を蒸着さ
せ、下部電極を所定間隔で形成した。そして、下部電極
上に非晶質Ｓｉ膜をプラズマＣＶＤ法で形成し、下部電
極に対応する透光性上部電極として酸化インジウム膜を
非晶質Ｓｉ膜上にスパッタリング法で形成した。更に、
透光性上部電極の上に高分子樹脂を一様に塗布し、焼成
することにより、透光性パシベーション膜を形成した。
ンレス鋼板を太陽電池用基板として使用し、常法に従っ
て次のようにして太陽電池を形成した。先ず、加熱した
基板表面に酸化インジウム及び酸化錫の混合物を蒸着さ
せ、下部電極を所定間隔で形成した。そして、下部電極
上に非晶質Ｓｉ膜をプラズマＣＶＤ法で形成し、下部電
極に対応する透光性上部電極として酸化インジウム膜を
非晶質Ｓｉ膜上にスパッタリング法で形成した。更に、
透光性上部電極の上に高分子樹脂を一様に塗布し、焼成
することにより、透光性パシベーション膜を形成した。
【００１３】得られた各太陽電池について、山下電装株
式会社製のソーラシミュレータを用いて光電変換効率を
測定した。実施例１の基板を使用した太陽電池では、８
％の光電変換効率を示した。可視光反射効率が高い粉末
を加えた絶縁層を形成した実施例２，３では、光電変換
効率がそれぞれ９％，１０％と増大した。また、うねり
のあるステンレス鋼板を使用した実施例４では、１０％
と高い光電変換効率が得られた。この結果から明らかな
ように、実施例１〜４で絶縁層が形成されたステンレス
鋼板は、何れの高性能の太陽電池用基板と使用できるこ
とが確認された。
式会社製のソーラシミュレータを用いて光電変換効率を
測定した。実施例１の基板を使用した太陽電池では、８
％の光電変換効率を示した。可視光反射効率が高い粉末
を加えた絶縁層を形成した実施例２，３では、光電変換
効率がそれぞれ９％，１０％と増大した。また、うねり
のあるステンレス鋼板を使用した実施例４では、１０％
と高い光電変換効率が得られた。この結果から明らかな
ように、実施例１〜４で絶縁層が形成されたステンレス
鋼板は、何れの高性能の太陽電池用基板と使用できるこ
とが確認された。
【００１４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の太陽電
池用基板は、絶縁層として有効な膜厚の酸化物層をゾル
−ゲル法でステンレス鋼基板の表面に形成しているた
め、従来の有機系絶縁層に比較して耐熱性，耐湿性に優
れ、非晶質Ｓｉ堆積時等にガスを発生することがない。
ゾル−ゲル法で形成される酸化物層は、従来の無機系絶
縁層に比較すると非常に簡便な方法で形成され、優れた
絶縁特性を呈する絶縁層となる。しかも、可視光反射特
性に優れた粉末の分散や表面調整されたステンレス鋼板
を基板とするとき、基板の表面形態に倣った酸化物層が
形成されるため、光閉じ込め効果が大きくなり、光電変
換効率の高い太陽電池用の基板として使用される。
池用基板は、絶縁層として有効な膜厚の酸化物層をゾル
−ゲル法でステンレス鋼基板の表面に形成しているた
め、従来の有機系絶縁層に比較して耐熱性，耐湿性に優
れ、非晶質Ｓｉ堆積時等にガスを発生することがない。
ゾル−ゲル法で形成される酸化物層は、従来の無機系絶
縁層に比較すると非常に簡便な方法で形成され、優れた
絶縁特性を呈する絶縁層となる。しかも、可視光反射特
性に優れた粉末の分散や表面調整されたステンレス鋼板
を基板とするとき、基板の表面形態に倣った酸化物層が
形成されるため、光閉じ込め効果が大きくなり、光電変
換効率の高い太陽電池用の基板として使用される。
【図１】 ゾル−ゲル法でステンレス鋼板表面に形成さ
れた酸化物層（ａ），絶縁粉末を分散させた酸化物層
（ｂ）及び表面にうねりを付けたステンレス鋼板表面に
形成された酸化物層（ｃ）の各断面図
れた酸化物層（ａ），絶縁粉末を分散させた酸化物層
（ｂ）及び表面にうねりを付けたステンレス鋼板表面に
形成された酸化物層（ｃ）の各断面図
【図２】 酸化物層に分散される可視光反射特性の高い
粉末の反射率を示すグラフ
粉末の反射率を示すグラフ
Claims (7)
- 【請求項１】 ステンレス鋼板を基材とし、ゾル−ゲル
法による絶縁層が前記基板の表面に形成されている太陽
電池用絶縁基板。 - 【請求項２】 微細な凹凸又はうねりのある表面をもつ
ステンレス鋼板を基材とする請求項１記載の太陽電池用
絶縁基板。 - 【請求項３】 絶縁層が１〜１０μｍの厚みをもつ酸化
物層である請求項１記載の太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項４】 請求項１又は３記載の絶縁層に絶縁性の
無機粉末が分散している太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項５】 請求項４記載の無機粉末が可視光反射率
７０％以上の無機化合物である太陽電池用絶縁基板。 - 【請求項６】 アルコキシシラン，（１）の構造式をも
つオルガノアルコキシシラン，水及び増粘剤を有機溶媒
に溶解させた溶液にステンレス鋼板を接触させ、該ステ
ンレス鋼板の表面に付着した溶液を乾燥・焼成し、ステ
ンレス鋼板の表面に絶縁層を形成することを特徴とする
太陽電池用絶縁基板の製造方法。 Ｘ：ビニル基，エポキシ基，アミノ基，メタクリロキシ
基又はメルカプト基 Ｒ：アルキル基 - 【請求項７】 アルミニウムアルコキシド，アルカリ金
属のアルコキシド及びアルカリ土類金属のアルコキシド
の１種又は２種以上を含む溶液を使用する請求項６記載
の太陽電池用絶縁基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9190865A JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9190865A JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1140829A true JPH1140829A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16265058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9190865A Withdrawn JPH1140829A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | 太陽電池用絶縁基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1140829A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002529937A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | パシフィック ソーラー ピー ティ ワイ リミテッド | ＳｉＯ２膜によるガラスのテクスチュアリング |
| JP2005079405A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nippon Steel Corp | シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法 |
| US8586190B2 (en) | 2003-03-27 | 2013-11-19 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Inorganic—organic hybrid-film-coated stainless-steel foil |
| KR20160122204A (ko) | 2014-11-12 | 2016-10-21 | 신닛테츠스미킹 마테리알즈 가부시키가이샤 | 평탄화막 형성 도포액 및 평탄화막을 구비한 금속박 코일 |
-
1997
- 1997-07-16 JP JP9190865A patent/JPH1140829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002529937A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | パシフィック ソーラー ピー ティ ワイ リミテッド | ＳｉＯ２膜によるガラスのテクスチュアリング |
| US8586190B2 (en) | 2003-03-27 | 2013-11-19 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Inorganic—organic hybrid-film-coated stainless-steel foil |
| JP2005079405A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nippon Steel Corp | シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法 |
| KR20160122204A (ko) | 2014-11-12 | 2016-10-21 | 신닛테츠스미킹 마테리알즈 가부시키가이샤 | 평탄화막 형성 도포액 및 평탄화막을 구비한 금속박 코일 |
| CN106232749A (zh) * | 2014-11-12 | 2016-12-14 | 新日铁住金高新材料株式会社 | 用于形成平坦化膜的涂敷液和带有平坦化膜的金属箔卷材 |
| US10472543B2 (en) | 2014-11-12 | 2019-11-12 | Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. | Coating liquid for forming planarization film and metal foil coil with planarization film |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041005 |