JPH1140657A5 - 試料保持装置、レチクル保持装置および走査型露光装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体回路パターンや液晶素子パターンなどが形成されたレチクルやマスク、あるいはそのようなパターンが投影露光される感光基板をステージ上で保持することができる試料保持装置やレチクル保持装置に関する。また本発明は、レチクルやマスクと感応基板とを投影光学系を挟んで同期して移動する走査型露光装置に関する。

本発明は、ステージの加速減時の慣性力で試料ずれが起きにくくするとともに、試料の表面が歪まないよう試料を固定保持する試料保持装置、レチクル保持装置およびその試料保持装置やレチクル保持装置を備えた走査型露光装置を提供することを目的としている。

【０００５】
【課題を解決するための手段】
一実施の形態の図１〜４に対応づけて本発明を説明する。
（１）請求項１の発明は、少なくとも一方向に移動可能なステージ４に載置された平面状の試料３を保持する試料保持装置６０に適用される。そして試料３の複数の箇所を、ばね力によるその押圧力を独立して調節可能に、かつステージ４に対してそれぞれ個別に挟持する複数の押圧装置７０ａ〜７０ｃを備えることにより、上記目的を達成する。
（２）請求項２の発明のように、試料３を真空吸着する真空吸着装置を併せて備えるのが好ましい。
（３）請求項３の発明による試料保持装置６０は、回動可能に軸支されたクランパ６３に押圧装置７０ａ〜７０ｃを設け、クランパ６３を介してステージ４と押圧装置７０ａ〜７０ｃとの間で試料３を挟持するようにしたものであり、この場合、クランパ６３の回動軸心６２を試料３の表面高さにほぼ一致させるものである。
（４）請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の試料保持装置６０において、押圧力は、ステージ４の移動速度又は加速度に応じて調整されることを特徴とする。
（５）請求項５の発明は、パターンが形成されたレチクル３を請求項１〜４のいずれかの試料保持装置６０により固定保持するレチクルステージ４と、パターンを露光する感応基板１０を保持する基板ステージ１３と、レチクル３を透過した照明光を感応基板１０に投影する投影光学系９とを備え、レチクルステージ４と基板ステージ１３を同期して移動しつつパターンを感応基板１０に投影する走査型露光装置である。
（６）請求項６の発明は、少なくとも一方向に移動可能なレチクルステージ４上に載置された平面状のレチクル３を保持するレチクル保持装置６０に適用され、レチクル３の複数の箇所の各々を、ばね力によるレチクル押圧力を用いてレチクルステージ４に対してそれぞれ個別に挟持する複数の押圧装置７０ａ〜７０ｃと、レチクルステージ４上に設けられ、レチクル３をレチクルステージ４上に真空吸着する真空吸着装置と、を有し、複数の押圧装置７０ａ〜７０ｃによるレチクル押圧力と、真空吸着装置による真空吸着力とによるレチクル保持力を用いて、レチクルを保持することを特徴とする。

Claims (6)

1. 少なくとも一方向に移動可能なステージに載置された平面状の試料を保持する試料保持装置において、
   前記試料の複数の箇所を、ばね力によるその押圧力を独立して調節可能に、かつ前記ステージに対してそれぞれ個別に挟持する複数の押圧装置を備えることを特徴とする試料保持装置。
2. 請求項１の試料保持装置において、
   前記ステージは前記試料を真空吸着する真空吸着装置を併せて備えることを特徴とする試料保持装置。
3. 請求項１の試料保持装置において、
   前記押圧装置のそれぞれは、前記ステージとの間で前記試料を挟持するために回動可能に軸支されたクランパに設けられ、前記クランパの回動軸心を前記試料の表面高さにほぼ一致させたことを特徴とする試料保持装置。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の試料保持装置において、前記押圧力は、前記ステージの移動速度又は加速度に応じて調整されることを特徴とする試料保持装置。
5. 請求項１〜４のいずれかの試料保持装置により、パターンが形成されたレチクルを固定保持するレチクルステージと、
   前記パターンを露光する感応基板を保持する基板ステージと、
   前記レチクルを透過した照明光を前記感応基板に投影する投影光学系とを備え、
   前記レチクルステージと基板ステージとを同期して移動しつつ前記パターンを前記感応基板に投影することを特徴とする走査型露光装置。
6. 少なくとも一方向に移動可能なレチクルステージ上に載置された平面状のレチクルを保持するレチクル保持装置において、
   前記レチクルの複数の箇所の各々を、ばね力によるレチクル押圧力を用いて前記レチクルステージに対してそれぞれ個別に挟持する複数の押圧装置と、
   前記レチクルステージ上に設けられ、前記レチクルを該ステージ上に真空吸着する真空吸着装置と、を有し、
   前記複数の押圧装置による前記レチクル押圧力と、前記真空吸着装置による真空吸着力とによるレチクル保持力を用いて、前記レチクルを保持することを特徴とするレチクル保持装置。