JPH11327132A

JPH11327132A - フォトレジストフィルム

Info

Publication number: JPH11327132A
Application number: JP10142316A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Murakami; 滋村上; Michio Oda; 通郎小田
Original assignee: Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1998-05-08
Filing date: 1998-05-08
Publication date: 1999-11-26
Anticipated expiration: 2018-05-08
Also published as: JP4002670B2

Abstract

(57)【要約】【課題】感度、解像性、密着性、パターンの形成性に
非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】支持体フィルム／感光性樹脂組成物層／
保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおい
て、保護フィルムとして、感光性樹脂組成物層と接する
面の最大粗さ（Ｒｙ）が２．０μｍ以下であるフィルム
を用いたフォトレジストフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線板及び
リードフレームの製造に用いられるフォトレジストフィ
ルムに関し、更に詳しくは形成される導体パターンのギ
ザツキのないパターンの形成性に優れたフォトレジスト
フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、プリント配線板等の製造には感光
性樹脂を用いたフォトレジスト法が用いられる。このフ
ォトレジスト法に用いられる支持体フィルム／感光性樹
脂組成物層／保護フィルムからなるフォトレジストフィ
ルムはほとんどがアルカリ現像型であり、露光した後は
未露光部分を炭酸ナトリウム等のアルカリ液で現像する
ことで、感光性樹脂組成物中のカルボン酸基がカルボン
酸塩となり水溶性になり、未露光部分が取り除かれ、レ
ジスト画像を形成する。このように形成されたレジスト
画像を保護マスクとし、公知のエッチング処理又はパタ
ーンめっき処理を行った後、レジスト剥離して印刷回路
基板を製造することができる。このようなプリント配線
板等の製造において、上記フォトレジストフィルムの保
護フィルムとして従来より通常ポリエチレンフィルムが
用いられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、該ポリ
エチレンフィルムを保護フィルムとして用いたフォトレ
ジストフィルムでは、保護フィルムを剥離した後感光性
樹脂組成物層面を基材にラミネートする時に基材と感光
性樹脂組成物層間に多数の空隙が生じることとなり、近
年のレジストパターンの微細化に伴う良好なパターン形
成を行うことが困難であることが判明した。これに対し
て、感光性樹脂組成物の柔軟化による対策もあるが、こ
れではコールドフローによる保存安定性の低下を招くこ
とになり、まだまだ改善の余地が残されるものである。

【０００４】そこで、本発明ではこのような背景下にお
いて、高ファイン化、高精細化に対応してパターンの形
成性に優れたフォトレジストフィルムを提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】しかるに本発明等者等は
かかる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、支持体
フィルム／感光性樹脂組成物層／保護フィルムからなる
フォトレジストフィルムにおいて、保護フィルムとし
て、感光性樹脂組成物層と接するの面の最大粗さ（Ｒ
ｙ）が２．０μｍ以下であるフィルムを用いたフォトレ
ジストフィルムが上記目的に合致することを見出し、本
発明を完成するに至った。

【０００６】又、本発明では、特に感光性樹脂組成物層
として、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで重量平
均分子量が３００００〜１２００００のベースポリマー
（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、Ｐ，Ｐ′−ビ
ス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン（Ｃ）、ヘキサ
アリールビイミダゾール（Ｄ）及びロイコ染料（Ｅ）を
含んでなり、（Ａ）と（Ｂ）の合計１００重量部に対し
て（Ｃ）を０．０１〜０．２５重量部、（Ｄ）を１．０
〜１０重量部、（Ｅ）を０．０５〜２重量部それぞれ含
有してなる感光性樹脂組成物（イ）を用いるとき、本発
明の効果を顕著に発揮する。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明に用いる支持体フィルムとしては、特に
限定されず、ポリエステルフィルム、ポリビニルアルコ
ールフィルム、ポリオレフィンフィルム、ナイロンフィ
ルム等が挙げられ、中でもポリエステルフィルム（ポリ
エチレンテレフタレートフィルム）、ポリビニルアルコ
ールフィルム等が好ましく採用される。更に、上記支持
体フィルムとして、フィルムのヘイズ値が０．０１〜
４．０％、好ましくは０．０１〜２．０％、更に好まし
くは０．０１〜０．５％の範囲であるフィルムが、特に
感度、解像度、密着性等の点で好ましい。該ヘイズ値が
０．０１％未満のフィルムではその入手が困難であり、
４．０％を越えると感度、解像度、密着性が劣り好まし
くない。具体的には、帝人社製高透明フィルムＧＳシリ
ーズ、ダイアホイルヘキスト社製Ｒシリーズ、デュポン
社製マイラーＤシリーズ、東レ社製Ｔシリーズ等のポリ
エチレンテレフタレートフィルム、日本合成化学工業社
製ビニロンフィルム等が挙げられる。

【０００８】尚、ヘイズ値とは濁度を表す値であり、ラ
ンプにより照射され、試料中を透過した光の全透過率Ｔ
と試料中で拡散され散乱した光の透過率Ｄより、ヘイズ
値（Ｈ）（％）はＨ（％）＝（Ｄ／Ｔ）×１００として
求められる。これらはＪＩＳＫ７１０５により規定さ
れており、市販の濁度計、例えば、日本電色工業社製Ｎ
ＤＨ−３００Ａにより容易に測定可能である。

【０００９】又、支持体フィルムの厚みは１０〜３０μ
ｍ、好ましくは１２〜２５μｍ、更に好ましくは１６〜
２３μｍであり、３０μｍを越えると解像度が低下した
り、コストアップとなり、１０μｍ未満ではフィルムが
柔軟過ぎて取り扱いに不便となり好ましくない。

【００１０】本発明の感光性樹脂組成物層に用いる感光
性樹脂組成物は、特に制限されることなく、公知のもの
を用いることができ、通常、ベースポリマー、エチレン
性不飽和化合物及び光重合開始剤よりなる感光性樹脂組
成物を用いることができ、アルカリ現像型とする場合は
（メタ）アクリル酸を共重合させたベースポリマーを用
いればよい。ベースポリマーとしては、（メタ）アクリ
ル酸エステルを主成分とし、これにエチレン性不飽和カ
ルボン酸を共重合したアクリル系共重合体が好適に用い
られるが、更には必要に応じ他の共重合可能なモノマー
を共重合したアクリル系共重合体とすることも可能であ
る。この場合の各成分の含有量は（メタ）アクリル酸エ
ステル成分が７０〜８５重量％、好ましくは７５〜８２
重量％、エチレン性不飽和カルボン酸成分が１５〜３０
重量％、好ましくは１８〜２５重量％、他の共重合可能
なモノマー成分が０〜１５重量％とすることが多い。

【００１１】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート等が例示される。

【００１２】エチレン性不飽和カルボン酸としては、例
えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノ
カルボン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、
フマール酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいは
それらの無水物やハーフエステルも用いることができ
る。これらの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に
好ましい。

【００１３】他の共重合可能なモノマーとしては、例え
ば（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステ
ル、（メタ）アクリルジメチルアミノエチルエステル、
（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、メ
タクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフル
オロエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルア
ミド、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メ
タ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリル
アミド、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエ
ン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテル、（メタ）ア
クリロニトリル等が挙げられる。かくして得られるベー
スポリマーには、上記以外に、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を併用
することもできる。

【００１４】エチレン性不飽和化合物としては、エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールルジ（メ
タ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ
（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビス
フェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエ
ーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール
ジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル
酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサメチルジグリシジルエー
テルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグリ
シジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキポリエトキシフ
ェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アク
リロイルオキシプロピルアクリレート、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレ
ート、等の多官能モノマーが挙げられる。

【００１５】これらの多官能モノマーと共に単官能モノ
マーを適当量併用することもでき、そのような単官能モ
ノマーの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２
−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ
（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリ
ルアミド等が挙げられる。

【００１６】光重合開始剤としては、Ｎ，Ｎ′−テトラ
アルキル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラ
ーケトン）、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフ
ェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベン
ジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケター
ル、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフト
キノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェ
ノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，
１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジクロロ−
４−フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレ
ート、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベゾスパ
ロン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４
−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−
プロパノン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモ
メチルフェニルスルホン、Ｎ−フェニルグリシン、２，
４，６−[トリス（トリクロロメチル）]−１，３，５，
−トリアジン、２，４−[ビス（トリクロロメチル）]−
６−（４’−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２，４−[ビス（トリクロロメチル）]−６−
（４’−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−[ビス（トリクロロメチル）]−６−（ピペ
ロニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−[ビス
（トリクロロメチル）]−６−（４’−メトキシスチリ
ル）−１，３，５−トリアジン、等のトリアジン誘導体
やアクリジン、９−フェニルアクリジン等のアクリジン
誘導体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（ｏ−フルオロフェニル）−
４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）
−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’
−ビイミダゾール、２，４，２’，４’−ビス［ビ（ｐ
−メトキシフェニル）］−５，５’−ジフェニル−１，
１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメ
トキシフェニル）−４，５，４’，５’−ジフェニル−
１，１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メチ
ルチオフェニル）−４，５，４’，５’−ジフェニル−
１，１’−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフ
ェニル）−１，１’−ビイミダゾール等のヘキサアリー
ルビイミダゾール等が挙げられ、これらは単独又は２種
以上を組み合わせて用いられる。

【００１７】本発明では特に、上記の感光性樹脂組成物
の中でも、酸価が１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで、重
量平均分子量が３００００〜１２００００のベースポリ
マー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、Ｐ，Ｐ′
−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン（Ｃ）、ヘ
キサアリールビイミダゾール（Ｄ）及びロイコ染料
（Ｅ）を含んでなり、（Ａ）と（Ｂ）の合計１００重量
部に対して（Ｃ）を０．０１〜０．２５重量部、（Ｄ）
を１．０〜１０重量部、（Ｅ）を０．０５〜２重量部そ
れぞれ含有してなる感光性樹脂組成物（イ）を用いるこ
とが好ましく、本発明の効果を顕著に発揮する。

【００１８】以下、感光性樹脂組成物（イ）について具
体的に説明する。ベースポリマー（Ａ）としては、通常
カルボキシル基含有のアクリル系樹脂が用いられ、上記
と同様にして得られる。該ペースポリマー（Ａ）の酸価
は１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで、好ましくは１２０
〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは１３０〜１７
０ｍｇＫＯＨ／ｇで、酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満
では良好な現像性が得られず求める解像度が得られにく
く、逆に２００ｍｇＫＯＨ／ｇを越えると２５μｍ以下
の膜厚において現像速度が速くなり過ぎ制御が困難とな
り、更には形成されたパターンが現像液により侵される
恐れがある。該酸価を満足させる方法としては、例えば
該ベースポリマー（Ａ）中にエチレン性不飽和カルボン
酸を１５〜３０重量％程度共重合することにより可能で
ある。

【００１９】更に、該ベースポリマー（Ａ）の重量平均
分子量は３００００〜１２００００で、好ましくは５０
０００〜１０００００、特に好ましくは６００００〜９
００００で重量平均分子量が３００００未満では樹脂が
柔らかくなり過ぎてロール形態に加工したときに該樹脂
が染み出すエッジフュージョンが発生し、逆に１２００
００を越えると解像度が低下し好ましくない。

【００２０】エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、
上記のエチレン性不飽和化合物が用いられ、２官能モノ
マーを２種以上使用したり、単官能モノマー或いは３官
能以上のモノマーを２官能モノマーと適当量併用するこ
ともできる。感光性樹脂組成物（イ）としては、重合性
不飽和基を２個有する２官能モノマーとして、上記の多
官能モノマー中で、テトラエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレートやエチレンオキサイド変性ビスフェノ
ールＡ型ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

【００２１】ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対す
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の配合割合は、１０〜
２００重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶ
ことが望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少
は硬化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エ
チレン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コ
ールドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招くこと
になる。

【００２２】感光性樹脂組成物（イ）は、上記の
（Ａ）、（Ｂ）成分以外に光重合開始剤として、Ｐ，
Ｐ′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン
（Ｃ）、ヘキサアリールビイミダゾール（Ｄ）及び発色
剤として、ロイコ染料（Ｅ）を含有するものである。
Ｐ，Ｐ′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン
（Ｃ）としては、具体的にＰ，Ｐ′−ビス（ジメチルア
ミノ）ベンゾフェノン、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジブチルアミ
ノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノンが好適に用いられる。

【００２３】又、ヘキサアリールビイミダゾール（Ｄ）
としては、上記の２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−フルオロフェ
ニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，
１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシ
フェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−
１，１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル
−１，１’−ビイミダゾール、２，４，２’，４’−ビ
ス［ビ（ｐ−メトキシフェニル）］−５，５’−ジフェ
ニル−１，１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５，４’，５’
−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，２’−
ビス（ｐ−メチルチオフェニル）−４，５，４’，５’
−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾール、ビス（２，
４，５−トリフェニル）−１，１’−ビイミダゾール等
が挙げられ、更には特公昭４５−３７３７７号公報に開
示される１，２’−、１，４’−、２，４’−で共有結
合している互変異性体を用いることもできるが、中でも
２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ルが好適に用いられる。これら（Ｃ）及び（Ｄ）の光重
合開始剤と併用することができる他の光重合開始剤とし
ては、上記と同様のものが挙げられる。

【００２４】更に、ロイコ染料（Ｅ）としては、例えば
ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−ｏ−トリル）メチ
レンジルチオフェニルメタン、ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノ−ｏ−トリル）ベンジルチオフェニルメタ
ン、ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイト
グリーン、ロイコアニリン、ロイコメチルバイオレット
等が挙げられ、中でもロイコクリスタルバイオレットが
好適に用いられる。

【００２５】上記（Ｃ）〜（Ｅ）成分の配合量は、ベー
スポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合
計１００重量部に対して、それぞれＰ，Ｐ′−ビス（ジ
アルキルアミノ）ベンゾフェノン（Ｃ）が０．０１〜
０．２５重量部、好ましくは０．０５〜０．２重量部、
ヘキサアリールビイミダゾール（Ｄ）が１〜１０重量
部、好ましくは２〜６重量部、ロイコ染料（Ｅ）が０．
０５〜２重量部、好ましくは０．１〜１重量部であり、
（Ｃ）成分が、上記含有量よりも少ないと良好な表面硬
度が得られず耐薬品性が低下し、逆に上記含有量よりも
多いと紫外線の透過率が低下し十分な内部硬化が得られ
ない。又、（Ｄ）及び（Ｅ）成分が、上記含有量よりも
少ないと十分な内部硬化が得られず、逆に上記含有量よ
りも多いとドープ配合時に溶解しにくく好ましくない。

【００２６】更に感光性樹脂組成物（感光性樹脂組成物
（イ）を含む）には上記の他、必要に応じて熱重合禁止
剤、可塑剤、染料（色素、変色剤）、密着付与剤、酸化
防止剤、溶剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、
消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添加することができ
る。

【００２７】例えば、熱重合禁止剤は感光性樹脂組成物
の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加す
るもので、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ
−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナ
フチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ニトロベンゼン、ピクリン酸、ｐ
−トルイジン等が挙げられる。

【００２８】可塑剤は膜物性をコントロールするために
添加するもので、例えばジブチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレ
ート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコール
ジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェー
ト、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；
ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソ
ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセ
バケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等
の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、ク
エン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、
ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン
−１，２−ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等
が挙げられる。

【００２９】色素としては、上記感光性樹脂組成物
（イ）で使用するロイコ染料以外に、例えば、ブリリア
ントグリーン、エオシン、メチルバイオレット、エチル
バイオレット、エチレンバイオレット、エリスロシン
Ｂ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシ
ックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェ
ニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレ
イン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ロ
ーズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタ
レイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレン
ジIV、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−ジクロロフ
ルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベ
ンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブル
ーＡ、フェナセタリン、マラカイトグリーン、マラカイ
トグリーンレイク、パテントブルー、パラフクシン、オ
イルブルー＃６０３、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、
スピロンブルーＧＮ、ローダミン６Ｇ、ローズアニリン
等である。中でもマラカイトグリーン、ブリリアントグ
リーンが好ましい。

【００３０】変色剤は、露光により可視像を与えること
ができるように感光性樹脂組成物中に添加され、具体例
として前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、
４、４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン、
等が挙げられる。

【００３１】密着促進剤としては、例えばベンズイミダ
ゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキソゾール、ベン
ズトリアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。

【００３２】又、本発明で用いられる保護フィルムは、
フォトレジストフィルムをロール状にして用いる場合
に、粘着性を有する感光性樹脂組成物層が支持体フィル
ムに転着したり、感光性樹脂組成物層にゴミなどが付着
するのを防止する目的で、感光性樹脂組成物層に積層し
て用いられる。本発明においては、かかる保護フィルム
として、感光性樹脂組成物層と接する面の最大粗さ（Ｒ
ｙ）が２．０μｍ以下であるフィルムを用いることが最
大の特徴であり、該フィルム以外、即ち該最大粗さ（Ｒ
ｙ）が２．０μｍを越えるフィルムでは、感光性樹脂組
成物層を基材にラミネートする時、保護フィルムより転
写された表面の凹凸が除去されず空隙を生じる結果とな
り本発明の効果を発揮しない。保護フィルムの他方の面
については、最大粗さ（Ｒｙ）は必ずしも２．０μｍ以
下である必要ではなく、特に限定されない。

【００３３】かかる最大粗さ（Ｒｙ）が２．０μｍ以下
のフィルムとしては、例えば無延伸ポリプロピレンフィ
ルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、等が挙げられ、中でも二軸延
伸ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムが好ましく用いられる。尚、フィルム面の最
大粗さ（Ｒｙ）は、ＪＩＳＢ０６０１により測定さ
れる。又、該保護フィルムの厚さについては特に限定は
ないが、通常は１０〜５０μｍ、なかんずく１０〜３０
μｍであればよい。更に、上記保護フィルムは必要に応
じて、適宜離型処理されていてもよい。

【００３４】かくして本発明では上記支持体フィルム、
感光性樹脂組成物層（感光性樹脂組成物（イ）を用いる
ことが好ましい。）、保護フィルムを順次積層したフォ
トレジストフィルムとなる。次に、本発明のフォトレジ
ストフィルムの製造及びそれを用いる印刷配線基板の製
法について説明する。

【００３５】（成層方法）上記の感光性樹脂組成物（特
に感光性樹脂組成物（イ））を上記のポリエステル系樹
脂組成物からなる支持フィルム面に塗工した後、その塗
工面の上から保護フィルムを被覆してフォトレジストフ
ィルムとする。

【００３６】（露光）フォトレジストフィルムによって
画像を形成させるには、保護フィルムを剥離してから感
光性樹脂組成物層の側を銅張基板や４２アロイ、ＳＵＳ
等の金属面にラミネートした後、他方の支持体フィルム
上にパターンマスクを密着させて露光する。本発明で
は、かかる基板へのラミネート時において、空隙の生じ
ないラミネートが可能になるのである。露光は通常紫外
線照射により行い、その際の光源としては、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メ
タルハライドランプ、ケミカルランプ等が用いられる。
紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬化の完全
を図ることもできる。

【００３７】（現像）露光後は、レジスト上の支持体フ
ィルムを剥離除去してから現像を行う。感光性樹脂組成
物が稀アルカリ現像型である場合、露光後の現像は、炭
酸ソーダ、炭酸カリウム等のアルカリ０．３〜２重量％
程度の稀薄水溶液を用いて行う。該アルカリ水溶液中に
は、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量
の有機溶剤等を混入させてもよい。

【００３８】（エッチング、めっき）エッチングは、通
常塩化第二銅−塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸水溶液な
どの酸性エッチング液を用いて常法に従ってエッチング
を行う。希にアンモニア系のアルカリエッチング液も用
いられる。めっき法は、脱脂剤、ソフトエッチング剤な
どのめっき前処理剤を用いて前処理を行った後、めっき
液を用いてめっきを行う。

【００３９】（硬化レジストの剥離除去）エッチング又
はメッキ工程後、残っている硬化レジストの剥離を行
う。硬化レジストの剥離除去は、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどの０．５〜５重量％程度の濃度のアル
カリ水溶液からなるアルカリ剥離液を用いて行う。

【００４０】本発明のフォトレジストフィルムは、印刷
配線板の製造、金属の精密加工、リードフレーム製造等
に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジストと
して非常に有用であり、該フォトレジストフィルムが、
支持体フィルム／感光性樹脂組成物層［好ましくは感光
性樹脂組成物（イ）層］／保護フィルムからなり、保護
フィルムとして感光性樹脂組成物層と接する面の最大粗
さ（Ｒｙ）が２．０μｍ以下であるフィルムを用いてい
るため、パターン形成性に優れた効果を示すものであ
る。

【００４１】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述す
る。尚、ことわりのない限り「％」及び「部」は重量基
準である。実施例１（ドープ（感光性樹脂組成物）の調整）下記のベースポ
リマー（Ａ１）６２部にエチレン性不飽和化合物（Ｂ）
としてテトラエチレングリコールジメタクリレート３８
部、光重合開始剤としてＰ，Ｐ′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン（Ｃ）０．１部、２，２’−ビス
（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラ
フェニル−１，２’−ビイミダゾール（Ｄ）３．０部及
びロイコ染料としてロイコクリスタルバイオレット
（Ｅ）０．３部、マラカイトグリーン０．０４部を配合
してよく混合し、ドープ（溶剤：メチルエチルケトン／
イソプロピルアルコール＝８５部／１５部）を調製し
た。

【００４２】ベースポリマー（Ａ１）メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−ヒドロキシエチルメタクリレート／２−エチルヘキシ
ルアクリレート／メタクリル酸の共重合割合が重量基準
で２１／３０／１０／１５／２４である共重合体（酸価
１５６．３、ガラス転移点４４．７℃、重量平均分子量
８万）

【００４３】（フォトレジストフィルムの作製）上記ド
ープ（感光性樹脂組成物）をギャップ７ミルのアプリケ
ーターを用いて、上記支持体フィルム（ポリエチレンテ
レフタレートフィルム（帝人社製、商品名ＧＳ−１６、
ヘイズ値１．３％、最大粗さ（Ｒｙ）０．６μｍ、厚み
１６μｍ）上に塗工し、室温で１分３０秒放置した後、
６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそれぞれ３分間
乾燥して、レジスト厚１５μｍのドライフィルムとし、
更に保護フィルムとして二軸延伸ポリプロピレンフィル
ム（グンゼ社製、商品名ＮＦ）（最大粗さ（Ｒｙ）：
０．９μｍ、厚さ：２０μｍ）をラミネートして、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム［支持体フィルム］／
感光性樹脂組成物層／二軸延伸ポリプロピレンフィルム
［保護フィルム］の本発明のフォトレジストフィルムを
得た。得られたフォトレジストフィルムについて、以下
の通り銅張積層板にラミネートした後、各性能を評価し
た。

【００４４】（銅張基板へのラミネート）このフォトレ
ジストフィルムを７日間静置した後保護フィルムを剥離
し、オーブンで６０℃に予熱した銅張基板上に、ラミネ
ートロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ²、
ラミネート速度１．０ｍ／ｍｉｎにてラミネートした。
尚、ここで用いた銅張基板は厚さ１．６ｍｍであり、ガ
ラス繊維エポキシ基材の両面に３５μｍの銅箔を張り合
わせた巾２００ｍｍ、長さ２５０ｍｍの基板である。

【００４５】各性能の評価は以下の通り行った。（基板と感光性樹脂組成物層の間の空隙量）ラミネート
後の基板の中央部１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲を拡大
顕微鏡で観察し、直径１０μｍ以上の気泡の数を測定し
た。

【００４６】（感度）銅張基板へのラミネート後、スト
ーファー２１段ステップタブレット（光透過量が段階的
に少なくなるように作られたネガフィルム）を用い、オ
ーク製作所製の露光機（ＥＸＭ−１１７２−Ａ００）に
て２ｋｗ超高圧水銀ショートアーク灯（平行光）で２０
ｍｊ毎に露光した。露光後１５分間のホールドタイムを
取った後、１％炭酸ナトリウム水溶液、３０℃で、最少
現像時間の１．５倍の時間で現像した。各露光量と現像
後に残った段数よりストウファー２１段ステップタブレ
ットにて７段を与えるに足る露光量（ｍｊ／ｃｍ²）を
調べた。

【００４７】（解像性）銅張基板へのラミネート後、ラ
イン／スペース＝１／１（１０、１５、２０、２５、３
０、３５、４０、４５、５０μｍ）のパターンマスク
（ガラスクロム乾板）を真空密着させてストーファー２
１段ステップタブレットの７段相当量の露光量で露光
し、現像後にレジスト画像が解像されている最小ライン
幅（μｍ）を調べた。現像条件は、上記の感度評価と同
様に行った。

【００４８】（密着性）銅張基材へのラミネート後、ラ
イン幅１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４
５、５０μｍの各々のパターンマスク（ラインは１本の
み−スペース幅∞）を用いて上記の解像性評価と同様に
現像して密着性良好な最小ライン幅（μｍ）を調べた。

【００４９】（パターンの形成性）銅張基板へのラミネ
ート後、ライン／スペース＝３０／３０μｍのパターン
マスクを真空密着させて、ストーファー２１段ステップ
タブレットの７段相当量の露光量で露光し、現像後に、
塩化銅−塩酸エッチング液にてエッチングを行い、３％
水酸化ナトリウム水溶液に浸し、レジスト剥離を行った
後、導体パターンを拡大顕微鏡で観察した（ライン長さ
１００ｍｍ×１０本）。この時の欠損及び断線の箇所の
数を測定した。

【００５０】実施例２実施例１において、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの
代わりに静電気防止処理ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東レ社製、商品名２２ＡＱ４５）（ヘイズ値１
３％、厚さ２２μｍ）を用い、静電気防止処理ポリエチ
レンテレフタレートフィルム［支持体フィルム］／感光
性樹脂組成物層／ポリエチレンテレフタレートフィルム
（帝人社製、ＧＳ−１６、最大粗さ（Ｒｙ）０．６μ
ｍ、厚さ１６μｍ）［保護フィルム］のフォトレジスト
フィルムを作製した。尚、感光性樹脂組成物は、実施例
１において、ベースポリマー（Ａ１）を５５部とし、エ
チレン性不飽和化合物（Ｂ）としてエチレンオキサイド
変性ビスフェノールＡ型ジメタクリレートを４５部とし
た以外は実施例１に準じて調製したものを用いた。得ら
れたフォトレジストフィルムについて、実施例１と同様
に行い、各性能の評価を行った。

【００５１】実施例３実施例１において、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの
代わりにビニロンフィルム（日本合成化学工業社製、商
品名ＢＦＵ）（ヘイズ値０．８％％、厚さ２５μｍ）を
用い、ビニロンフィルム［支持体フィルム］／感光性樹
脂組成物層／ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝
人社製、ＧＳ−１６、最大粗さ（Ｒｙ）０．６μｍ、厚
さ１６μｍ）［保護フィルム］のフォトレジストフィル
ムを作製した。尚、感光性樹脂組成物は、実施例１にお
いて、ベースポリマー（Ａ１）を５５部とし、エチレン
性不飽和化合物（Ｂ）としてエチレンオキサイド変性ビ
スフェノールＡ型ジメタクリレートを４５部とした以外
は実施例１に準じて調製したものを用いた。得られたフ
ォトレジストフィルムについて、実施例１と同様に行
い、各性能の評価を行った。

【００５２】実施例４実施例１において、下記ベースポリマー（Ａ２）を５５
部とし、エチレン性不飽和（Ｂ）としてテトラエチレン
グリコールジメタクリレート４５部、光重合開始剤とし
てＰ，Ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（Ｃ）０．０５部、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール（Ｄ）６．０部及びロイコ染料として
ロイコクリスタルバイオレット（Ｅ）０．９部、更にマ
ラカイトグリーン０．０４部を用いて実施例１に準じて
調製した感光性樹脂組成物を用い、実施例１と同様に行
い、各性能の評価を行った。ベースポリマー（Ａ２）メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／２−
エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合割
合が重量基準で４８／１０／２０／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点４０．１℃、重量平均
分子量７．５万）

【００５３】実施例５実施例１において、下記ベースポリマー（Ａ３）を６０
部とし、エチレン性不飽和（Ｂ）としてテトラエチレン
グリコールジメタクリレート４０部、光重合開始剤とし
てＰ，Ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（Ｃ）０．２部、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール（Ｄ）５．０部及びロイコ染料として
ロイコクリスタルバイオレット（Ｅ）０．２５部、更に
マラカイトグリーン０．０４部を用いて実施例１に準じ
て調製した感光性樹脂組成物を用い、実施例１と同様に
行い、各性能の評価を行った。ベースポリマー（Ａ３）メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／スチ
レン／メタクリル酸の共重合割合が重量基準で５０／１
５／１０／２５である共重合体（酸価１６２．８、ガラ
ス転移点８０．２℃、重量平均分子量６万）

【００５４】比較例１実施例１において、ポリエチレンフィルム（タマポリ社
製、商品名ＧＦ１２）（最大粗さ（Ｒｙ）：２．５μ
ｍ、厚さ：２８μｍ）を保護フィルムとして用いた以外
は同様に行い、各性能の評価を行った。実施例及び比較
例の結果を表１に示す。

【００５５】

【表１】空隙量感度解像性密着性パターン露光量ライン幅ライン幅の形成性（個） (mj/cm²) (μｍ) (μｍ) （個）実施例１１３３００２０１５０実施例２２９１２０３０１５０実施例３１８１００２５２００実施例４２５３５０２５１５０実施例５３２２５０２０３００比較例１２０８３００２０１５３

【００５６】

【発明の効果】本発明で得られたフォトレジストフィル
ムは、感度、解像性、密着性に優れるだけでなく、更に
パターン形成性に優れているため、印刷配線板の製造、
リードフレームの製造、金属の精密加工等、高ファイン
化、高精細化に対応したエッチングレジスト又はめっき
レジストとして非常に有用である。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１１年４月５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチル
エーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、ベンジルジフェニルジスルフィド、
ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノ
ン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノ
ン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，
１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジクロロ−
４−フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレ
ート、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベゾスパ
ロン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４
−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−
プロパノン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモ
メチルフェニルスルホン、Ｎ−フェニルグリシン、２，
４，６−[トリス（トリクロロメチル）−１，３，５，
−トリアジン、２，４−[ビス（トリクロロメチル）]−
６−（４’−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２，４−[ビス（トリクロメチル）]−６−（４’
−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，
−[ビス（トリクロロメチル）]−６−（ピペロニル）−
１，３，５−トリアジン２，４−[ビス（トリクロロメ
チル）]−６−（４’−メトキシスチリル）−１，３，
５−トリアジン、等のトリアジン誘導体やアクリジン、
９−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、２，
２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−フルオロフェニル）−４，
５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メトキシフェニル）
−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，１’−ビ
イミダゾール、２，４，２’，４’−ビス［ビ（ｐ−メ
トキシフェニル）］−５，５’−ジフェニル−１，１’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメトキ
シフェニル）−４，５，４’，５’−ジフェニル−１，
１’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メチルチ
オフェニル）−４，５，４’，５’−ジフェニル−１，
１’−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニ
ル）−１，１’−ビイミダゾール等のヘキサアリールビ
イミダゾール等が挙げられ、これらは単独又は２種以上
を組み合わせて用いられる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４６】（感度）銅張基板へのラミネート後、スト
ーファー２１段ステップタブレット（光透過量が段階的
に少なくなるように作られたネガフィルム）を用い、オ
ーク製作所製の露光機（ＥＸＭ−１１７２−Ａ００）に
て２ｋｗ超高圧水銀ショートアーク灯（平行光）で２０
ｍｊ毎に露光した。露光後１５分間のホールドタイムを
取った後、１％炭酸ナトリウム水溶液、３０℃で、最小
現像時間の１．５倍の時間で現像した。各露光量と現像
後に残った段数よりストウファー２１段ステップタブレ
ットにて７段を与えるに足る露光量（ｍｊ／ｃｍ²）を
調べた。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５１】実施例３実施例１において、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの
代わりにビニロンフィルム（日本合成化学工業社製、商
品名ＢＦＵ）（ヘイズ値０．８％、厚さ２５μｍ）を用
い、ビニロンフィルム［支持体フィルム］／感光性樹脂
組成物層／ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人
社製、ＧＳ−１６、最大粗さ（Ｒｙ）０．６μｍ、厚さ
１６μｍ）［保護フィルム］のフォトレジストフィルム
を作製した。尚、感光性樹脂組成物は、実施例１におい
て、ベースポリマー（Ａ１）を５５部とし、エチレン性
不飽和化合物（Ｂ）としてエチレンオキサイド変性ビス
フェノールＡ型ジメタクリレートを４５部とした以外は
実施例１に準じて調製したものを用いた。得られたフォ
トレジストフィルムについて、実施例１と同様に行い、
各性能の評価を行った。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体フィルム／感光性樹脂組成物層／
保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおい
て、保護フィルムとして、感光性樹脂組成物層と接する
面の最大粗さ（Ｒｙ）が２．０μｍ以下であるフィルム
を用いたことを特徴とするフォトレジストフィルム。
【請求項２】保護フィルムがポリプロピレンフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを
特徴とする請求項１記載のフォトレジストフィルム。
【請求項３】感光性樹脂組成物として、酸価が１００
〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで重量平均分子量が３００００
〜１２００００のベースポリマー（Ａ）、エチレン性不
飽和化合物（Ｂ）、Ｐ，Ｐ′−ビス（ジアルキルアミ
ノ）ベンゾフェノン（Ｃ）、ヘキサアリールビイミダゾ
ール（Ｄ）及びロイコ染料（Ｅ）を含んでなり、（Ａ）
と（Ｂ）の合計１００重量部に対して（Ｃ）を０．０１
〜０．２５重量部、（Ｄ）を１．０〜１０重量部、
（Ｅ）を０．０５〜２重量％含有してなる感光性樹脂組
成物を用いることを特徴とする請求項１又は２記載のフ
ォトレジストフィルム。
【請求項４】エチレン性不飽和化合物（Ｂ）として、
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレートから選ばれるものを含むことを特徴とする請求
項３記載のフォトレジストフィルム。
【請求項５】支持体フィルムとして、ヘイズ値が０．
０１〜４．０％であるフィルムを用いることを特徴とす
る請求項１〜４いずれか記載のフォトレジストフィル
ム。