JPH11326229A

JPH11326229A - 異物検査装置

Info

Publication number: JPH11326229A
Application number: JP15670498A
Authority: JP
Inventors: Hisato Nakamura; 寿人中村
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1998-05-21
Filing date: 1998-05-21
Publication date: 1999-11-26

Abstract

(57)【要約】【課題】プリアライメントステージではなく、検査ステ
ージにおいて直接高精度位置決めができる異物検査装置
を提供することを目的とする。【解決手段】検査ステージに載置されたウエハのエッジ
を検出するために検査ステージのＸ軸あるいはＹ軸のい
ずれか沿って画素対応に検出素子が多数配列された光学
センサを設け、検査ステージを回転させてウエハの検査
ステージを中心に対する偏心量を求めて、この偏心量に
応じてウエハの検査ステージに対する中心位置合わせを
する中心位置合わせ手段と、光学センサの検出画素対応
の検出信号に基づいて検査ステージに対する中心に対す
るウエハの外周の３点の座標を求めてウエハの中心座標
を算出する中心座標算出手段とを備えていて、算出され
た中心座標を異物検出におけるウエハの中心とするもの
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、異物検査装置に
関し、詳しくは、ウエハ検査装置の検査ステージにおい
て、被検査ウエハを精度よく検査ステージに位置決めす
ることができる異物検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ＩＣの素材に用いられるウエハ
は、表面に異物が付着すると品質が劣化するので光学式
の異物検査装置により検査される。検査は自動化された
ラインにより流れ作業により行われている。

【０００３】まず、図５により検査ステージに載置する
前に行われる、出願人による特開昭４−２９０４５５号
の出願において示す従来のプリアライメントの技術につ
いて説明する。図５（ａ）において、５は、ウエハカセ
ットと検査ステージに対して、回転機構（図示省略）お
よびＣＣＤによるエッジ検出器６を有するプリアライメ
ント・ステージであり、ウエハカセットに収納されたウ
エハ１は、ハンドリングアーム３（図５（ｃ）参照）に
吸着され、プリアライメント・ステージ５に搬送されて
アームの吸着が解放され、そのステージに吸着される。
次に説明する方法でウエハ１はここでプリアライメント
され、ついでハンドリングアーム３（図５（ｃ）参照）
により検査ステージに搬送され、オリエンティション・
フラット（ＯＦ）の中点ｃまたはＶノッチ（図では単に
Ｖで示す）をｙ軸に平行な軸上として載置される。

【０００４】さて、図５の（ａ）において、プリアラ
イメント・ステージの回転機構に吸着されたウエハ１は
θ方向に回転し、エッジ検出器６により図（ｂ）に示す
ウエハの第１のエッジ曲線が求められる。ウエハの中心
Ｏ′と回転中心Ｏが一般にはズレているため、このエッ
ジ曲線は正弦波をなす。ただし、ＯＦ，ＯＦ′に対応す
る部分は図示のように凹んでいる。またＶノッチの場合
は狭い範囲が低下する。そこで、図５（ａ）におい
て、回転機構の回転中心Ｏで直交する２直線をとり、ウ
エハの円周との交点をｐ，ｑ，ｒ，ｓとする。ただし、
各点はＯＦ，ＯＦ′またはＶの位置を避けてとるものと
する。

【０００５】ここで、プリアライメント・ステージに対
しては、その回転中心Ｏを原点Ｏ（０，０）するＸＹ座
標系が設定されているものとし、また直線ｐｒをｕ軸、
直線ｑｓををｖ軸とするｕｖ座標系を考える。ｕｖ座標
系に対するウエハの中心Ｏ′の座標は、両直線の中心値
であることに注意すると、ｕｖ座標系におけるウエハの
中心Ｏ′の座標（ｕ₀,ｖ₀)は次式で表される。ｕ₀ ＝（ｐ−ｒ）／２ ………(1) ｖ₀ ＝（ｑ−ｓ）／２ ………(2) ただし、上式のｐ，ｑ，ｒ，ｓは第１のエッジ曲線にお
ける各点の値とする。

【０００６】ここで、ｕｖ座標系とＸＹ座標系のなす角
をΘとすると、Θは既知であるから座標（ｕ₀,ｖ₀)は次
式によりＸＹ座標系の座標（Ｘ₀,Ｙ₀) に変換できる。Ｘ₀ ＝ｕ₀ ｃｏｓΘ−ｖ₀ ｓｉｎΘ ………(3) Ｙ₀ ＝ｕ₀ ｓｉｎΘ＋ｖ₀ ｃｏｓΘ ………(4) さらに、座標（Ｘ₀,Ｙ₀)より直線ＯＯ′とＹ軸のなす角
φが次式で計算できる。 φ＝ａｒｃｔａｎ（Ｘ₀/Ｙ₀) ………(5) いま、ウエハを角度（−φ）回転すると中心Ｏ′がＹ軸
上にきて図の（ｃ）の点線で示す状態となる。ついでハ
ンドリングアーム３により、ウエハを（−Ｙ₀)移動する
と図示の一点鎖線の状態となり、中心Ｏ′と回転中心Ｏ
とが位置合わせされる。このように２段階ではあるが、
ハンドリングアームの直線移動機能に着眼し、単純な動
作で正確な位置合わせができる。

【０００７】ついでウエハを回転して図の（ｄ）に示す
第２のエッジ曲線を求める。この曲線では正弦波は消失
して直線となるが、ＯＦ，ＯＦ′またはＶの部分は凹ん
でおり、ＯＦの凹みはＯＦ′より大きいので、ＯＦの中
点ｃのθ角度を求めることができる。Ｖのθ角度も同様
である。ここで、ウエハをさらに回転し、ＯＦの中点ｃ
またはＶとＹ軸とが角度εとなる位置に停止すると、プ
リアライメントが終了する。なお、この角度εは、検査
ステージとプリアライメントステージとのウエハをそれ
ぞれの中心位置に設定したときの回転角のずれ量であ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように従来は、プ
リアライメントステージで一旦高精度な位置決めをして
検査ステージにウエハを搬入する方式が採られている。
しかし、プリアライメントステージを設けることで装置
が大型化し、かつ、前記のような高精度の位置決め処理
になると、プリアライメントにおけるプロセッサのデー
タ処理のロードが大きくなる。また、より精度な位置決
めが要求されると、設定角εにおいて異物検査ステージ
にウエハを搬入したとしても、ウエハを検査ステージへ
搬入する際に多少のずれがあることと、ウエハが真円で
はないので前記のような位置決めをしたとしても異物検
査系の検査ステージ上のウエハの中心位置座標との一致
がとれない問題がある。

【０００９】検査ステージ上のウエハの中心位置の座標
ずれが大きい場合には、異物検出における異物の座標精
度が落ちる。その結果、再度異物検査をしたときに、異
物の位置に誤認を生じたり、顕微鏡，ＳＥＭ（走査型顕
微鏡）などで観測する場合などにおいて、対象となる異
物を探せなかったり、誤った異物を観測してしまうこと
になる。そのために、ウエハの中心を演算して求めるこ
とが必要になるが、異物検査等によりウエハの外周を求
めて、その検査結果から演算処理によってウエハの中心
を改めて求める処理を行うと、処理ロードが大きくな
り、検査効率が低下する。しかも、Ｖノッチのウエハな
どでは、ノッチによる位置決めの際に、ウエハが傷つい
たり、欠けたりするので、位置決め精度が低下する。こ
の発明は、以上に鑑みてなされたもので、プリアライメ
ントステージではなく、検査ステージにおいて直接高精
度位置決めができる異物検査装置を提供することを目的
とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明のウエハの位置決め方法の特徴は、検
査ステージに載置されたウエハのエッジを検出するため
に検査ステージのＸ軸あるいはＹ軸のいずれか沿って画
素対応に検出素子が多数配列された光学センサを設け、
検査ステージを回転させてウエハの検査ステージを中心
に対する偏心量を求めて、この偏心量に応じてウエハの
検査ステージに対する中心位置合わせをする中心位置合
わせ手段と、光学センサの検出画素対応の検出信号に基
づいて検査ステージに対する中心に対するウエハの外周
の３点の座標を求めてウエハの中心座標を算出する中心
座標算出手段とを備えていて、算出された中心座標を異
物検出におけるウエハの中心とするものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】このように、画素対応配列のエッ
ジ検出センサを設けて、その受光画素位置からウエハの
検査ステージに対する偏心量を求めて中心位置合わせ手
段により中心合わせをした後に、さらに光学センサの画
素対応の検出信号に基づいて中心座標算出手段により検
査ステージに対する中心に対するウエハの外周の３点の
座標を求めてウエハの中心座標の算出するようにしてい
るので、検査ステージ上でのウエハの中心位置をより正
確にかつ簡単な処理において求めることができる。その
結果、異物検査等によりウエハの外周を求めてウエハの
中心を演算する必要がなくなり、プロセッサの処理ロー
ドを低減することができる。

【００１２】

【実施例】図１は、この発明の異物検査装置の一実施例
の検出光学系を中心とする構成図であり、図２は、リニ
アセンサとウエハと照射光の関係の説明図、図３は、ウ
エハ位置決めと中心座標の検出処理のフローチャート、
図４は、その処理の説明図である。図１に示す、１０
は、異物検査装置であって、異物検査光学系１１とその
下側に配置された検査テーブル１２、データ処理・制御
装置１３、テーブル駆動回路１４、Ａ／Ｄ変換回路（Ａ
／Ｄ）１７、Ｘ移動機構１８、制御回路１９、そしてイ
ンタフェース２０とからなり、検査テーブル１２にはウ
エハ１が載置されている。また、制御回路１９は、イン
タフェース２０を介してデータ処理・制御装置１３から
の信号に応じてＸ移動機構１８やＣＣＤ制御・信号読出
回路１５５に対して駆動のための各種制御信号を発生す
る。

【００１３】異物検査光学系１１は、その内部を図示す
るように、検出光学系１５と投光学系１６とからなり、
投光光学系１６が副走査方向に所定の幅を持つ、ウエハ
１上の検査領域３（異物検出領域）にレーザビームを照
射する。そして、その上方散乱光を検査テーブル１２の
鉛直方向で上部に設けられた検出光学系１５で受光して
検出する。異物検査光学系１１は、Ｘ方向移動機構１８
に固定されていて、Ｘ方向にシフトする。なお、検査領
域３のＸ方向の長さが主走査方向の１ラインの幅になっ
ている。したがって、副走査方向（Ｘ方向）の移動ピッ
チはこの幅に対応している。投光学系１６は、半導体レ
ーザ光源１６１と、集光レンズ系１６２，１６３，１６
４、そして反射ミラー１６５とからなり、レーザビーム
を検査領域３に対応する長円形の形に集束させてほぼウ
エハ１からみた仰角が３０°でウエハ１の検査領域３に
照射する。

【００１４】検出光学系１５は、ウエハ１の検査領域３
に対峙する対物レンズ１５１とその後ろに配置された空
間フィルタ１５２、その後方に配置された集光レンズ系
１５３、集光レンズ系１５３により結像された検査領域
３の映像全体を受けるＣＣＤセンサ１５４、そしてＣＣ
Ｄセンサ１５４からの検出信号を読み出す、ＣＣＤ制御
・信号読出回路１５５とからなる。ＣＣＤ制御・信号読
出回路１５５は、データ処理・制御装置１３からインタ
フェース２０，制御回路１９を介して制御され、受光強
度に応じて検出された検出信号をシリアルに読出してこ
れをＡ／Ｄ１７送出し、これによりデジタル値に変換し
てインタフェース２０を介してデータ処理・制御装置１
３に検出信号（デジタル値）として送出する。

【００１５】ここで、検出光学系１５は、主走査方向
（Ｙ方向）において、ウエハ１の移動開始位置における
先頭部分に対応するＹ方向の位置に検査領域３が対応す
るように配置されている。なお、検査領域３は、ウエハ
１が円形であり、検査領域３の一部がウエハ１の外形か
ら外れるので、これを図示して説明する都合上、図では
Ｘ方向において少し内側に入ったところで、かつ、先頭
位置より少し内側に入ったところに検査領域３を描いて
いる。データ処理・制御装置１３は、通常、ＭＰＵ１３
１とメモリ１３２等により構成され、前記のＡ／Ｄ１７
からの信号をインタフェース２０，バス１３３を介して
受けてメモり１３２に記憶する。そして、メモリ１３２
には、異物検出プログラム１３４，ウエハ走査プログラ
ム１３５，ウエハ位置決めプログラム１３６、中心座標
の検出プログラム１３７等をはじめとして各種のプログ
ラムが格納されている。

【００１６】テーブル駆動回路１４は、ＭＰＵ１３１に
よるウエハ走査プログラム１３５の実行に応じて、検査
テーブル１２をＹ方向に往復移動させる駆動回路であ
る。さらに、Ｙ方向にウエハ１の直径Ｄ＋α分（αは、
走査余裕分）の移動が終了した時点で、ＸＹＺθテーブ
ル１２２を１８０°回転させて、Ｙ方向に直径Ｄ＋α分
の帰りの移動をさせる駆動を行う。これは、ウエハ１の
走査においては、Ｙ方向の往復走査と回転とを行い、１
８０゜回転させる駆動回路である。また、ウエハ１の中
心位置決めにおいては、ＸＹ方向についてウエハ１を位
置決めするための微少移動を行いう駆動回路でもある。
なお、ＸＹＺθテーブル１２２は、ＸＹ方向に微少移動
可能であって、かつ、回転するテーブルである。ウエハ
１の中心位置決めのときにはこれによりウエハ１を回転
させる。

【００１７】検査テーブル１２は、Ｙテーブル１２１と
ＸＹＺθテーブル１２２と、このＸＹＺθテーブル１２
２に設けられた中心位置決め機構１２３とからなる。中
心位置決め機構１２３は、ウエハ１の周囲外側に円形に
配置された複数のローラ１２４，１２４，…からなる絞
り機構である。いわゆるシャッタの絞りと同様にローラ
１２４，１２４，…が外側から内側に連動して回動する
ことで、検査テーブル１２の中心にこれに載置されたウ
エハ１の中心を位置決めする。ここでは、これがプリア
ライメントに相当する動作になる。この検査テーブル１
２のウエハ１の下側には検査テーブル１２のＸ軸に平行
にリニアセンサ（一次元ＣＣＤセンサ）１２０がテーブ
ル１２７に支持されて（図２参照）設けられている。リ
ニアセンサ１２０は、図５におけるエッジ検出器６に対
応するものであり、検査領域３がこれの上部に配置され
たときには、検査領域３に対応してレーザ光を受光す
る。

【００１８】リニアセンサ１２０は、Ａ／Ｄ変換回路
（Ａ／Ｄ）１７ａによりデジタル値に変換されてインタ
フェース２０を介してデータ処理装置１３に取り込まれ
る。図２は、リニアセンサ１２０とウエハ１とレーザ光
との関係を示している。なお、検出光学系１５により形
成される検査領域３に換えて、特別に、平行光を発生す
るレーザ光源をリニアセンサ１２０が検出する画素に対
応させて平行に設けてもよい。Ｙテーブル１２１は、ウ
エハ１を走査するときの移動テーブルであって、ベース
板１２５と、これに設けられたレール１２６，１２６上
をＹ方向にスライドするテーブル１２７とから構成され
ている。ＸＹＺθテーブル１２２は、テーブル１２７に
載置されたテーブルであって、そのＸ，Ｙ方向の移動
は、ウエハ１を中心位置決めするのためのものである。
そのＺ方向の移動は、内部に設けられテーブル１２７上
に固定された昇降機構に行われる。この昇降機構は、主
として焦点合わせのためにウエハ１を上下方向に移動さ
せて、ウエハの上下方向の位置設定を行うためのもので
ある。

【００１９】さて、先のウエハ位置決めプログラム１３
６は、ＭＰＵ１３１がこれを実行することにより、検査
領域３をリニアセンサ１２０の上部に位置決めしてＸＹ
Ｚθテーブル１２２を回転させて、エッジ検出特性曲線
Ｅから、まず、図４（ａ）に示すような偏心量を採取し
て、この偏心量に応じてＸＹＺθテーブル１２２の回転
中心とウエハ１の中心との位置合わせを行う。なお、図
４（ａ）において横軸は、ウエハの回転角θであり、縦
軸は、リニアセンサ１２０の受光画素位置である。Ｎｃ
は、ウエハを回転したときの受光特性上からみた受光画
素におけるセンター画素位置である。さらに、図４
（ａ）のエッジ検出特性曲線ＥからＯＦ位置を求め、Ｏ
Ｆの位置がリニアセンサ１２０に直角になるように設定
してＹ方向にウエハ１を所定量移動させて、リニアセン
サ１２０の検出信号から図４（ｂ）に示すような受光画
素位置データを採取して、Ｙ軸とのなす角度を算出して
角度補正を行う。なお、図４（ｂ）において横軸は、Ｙ
軸方向の移動量であり、縦軸は、リニアセンサ１２０の
受光画素位置である。ここでのずれ角は、受光素子の増
加画素量／Ｙ軸方向の移動量の２倍となる。受光素子の
増加画素量／Ｙ軸方向の移動量のずれ角は、円周角に対
応しているので、ウエハ１の中心角はそれの２倍になる
からである。ところで、前記の偏心量の採取とこれによ
るウエハの中心位置決めについては、プリアライメント
の技術として公知であり、例えば、出願人による特開平
２−２０５０４９号や、他の出願人による特開昭６４−
５７６３６号などに記載されているので、その詳細は割
愛する。さらに、Ｖノッチのウエハの場合には、前記の
角度補正は行わない。

【００２０】中心座標の検出プログラム１３７は、ウエ
ハ１の外周からウエハの中心を求めて、現実のウエハの
中心と検査テーブル１２の中心ずれ量をさらに高精度な
ものとして算出するものである。ＭＰＵ１３１がこれを
実行することにより、図４（ｃ）に示すに、ウエハ１の
円周上の相互に離れた任意の３点Ａ，Ｂ，Ｃ（ただしＯ
Ｆ上は除く）の座標を検出し、幾何学の計算においてそ
れぞれの弦の中点を求め、さらにウエハ１の円周からみ
た中心座標をそれぞれの弦の中点を通る中心線の交点と
して求める。この交点の座標がウエハ１の中心であっ
て、ＸＹＺθテーブル１２２の中心からずれ量を表す。
これをオフセット量として算出する。このオフセット量
は、検出した異物について座標変換値として使用され、
ウエハ１上の座標に換算される。なお、任意の３点Ａ，
Ｂ，Ｃの座標については、ＸＹＺθテーブル１２２を任
意の角度αだけ回転させたときの角αと角α回転したと
きのリニアセンサ１２０の検出信号における最後の受光
画素位置とによりＸＹＺθテーブル１２２の中心をＸＹ
座標とした検出点の座標を求め、前記回転角αとの関係
で回転角αを元に戻したときの座標を求めることができ
る。なお、リニアセンサ１２０がＸ軸沿って取付けられ
ているので、その取り付け位置と最後の受光画素位置と
の関係でＸＹＺθテーブル１２２の現在の中心からの
Ｘ，Ｙ座標が検出できる。このようにして、任意の角度
回転させて、それぞれの３点の座標を求めるものであ
る。

【００２１】図３は、ウエハ位置決めプログラム１３
６、中心座標の検出プログラム１３７をＭＰＵ１３１が
実行することにより行われるウエハの位置決めとその中
心座標算出処理のフローチャートである。まず、ＭＰＵ
１３１がウエハ位置決めプログラム１３６を実行して、
検査領域をリニアセンサ１２０の上部に位置決めして
（ステップ１０１）、ＸＹＺθテーブル１２２を回転さ
せてエッジ検出特性曲線Ｅを得てウエハ１の偏心量を算
出し（ステップ１０２）、ウエハの中心位置決めをする
（ステップ１０３）。次に、エッジ検出特性曲線Ｅから
ウエハにおけるＯＦ角度（位置）を求め（ステップ１０
４）、そのＯＦ位置がリニアセンサ１２０に直角になる
ように設定し（ステップ１０５）、ウエハをＹ軸に沿っ
て移動させて補正角を算出して（ステップ１０６）。Ｘ
ＹＺθテーブル１２２を回転させてウエハをＹ軸を基準
とした角度補正をする（ステップ１０７）。

【００２２】次に、ＭＰＵ１３１が中心座標の検出プロ
グラム１３７を実行して、３点Ａ，Ｂ，Ｃの座標を求め
て（ステップ１０８）、ウエハ１の中心座標をオフセッ
ト量として算出し（ステップ１０９）、算出したオフセ
ット量をメモリ１３２に記憶する（ステップ１１０）。
このオフセット量は、異物検出プログラム１３４が実行
されたときに、採取された異物の座標がこのオフセット
量によりウエハ１上の座標に換算されて、ディスプレイ
上に表示され、また、異物検出データとされる。なお、
Ｖノッチウエハの場合には、ステップ１０４からステッ
プ１０７の行程はない。

【００２３】ところで、以上の場合、リニアセンサ１２
０は、ＸＹＺθテーブル１２２のＹ軸方向に沿って設け
られていてもよく、もう１個のリニアセンサを別にＹ軸
方向に沿って設け、ウエハ１のＯＦ位置をこのリニアセ
ンサに直角に配置してＸ軸方向に沿った角度補正を行う
ようにしてもよい。以上説明してきたが、実施例におけ
るリニアセンサ１２０が二次元ＣＣＤセンサであっても
よいことはもちろんであり、リニアセンサは、画素対応
に検出素子が所定方向に多数配列された光学センサであ
ればよい。なお、二次元の場合には、一次元に設けた場
合に対してこれと直角方向の検出値の平均値をそれぞれ
採取することが可能である。また、リニアセンサ１２０
は、検査テーブル１２のＸ軸ではなく、Ｙ軸方向に一致
させてもよいことはもちろんである。

【００２４】

【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明にあって
は、画素対応配列のエッジ検出センサを設けて、その受
光画素位置からウエハの検査ステージに対する偏心量を
求めて中心位置合わせ手段により中心合わせをした後
に、さらに光学センサの画素対応の検出信号に基づいて
中心座標算出手段により検査ステージに対する中心に対
するウエハの外周の３点の座標を求めてウエハの中心座
標の算出するようにしているので、検査ステージ上での
ウエハの中心位置をより正確にかつ簡単な処理において
求めることができる。したがって、異物検査等によりウ
エハの外周を求めてウエハの中心を演算する必要がなく
なり、プロセッサの処理ロードを低減することができ
る。その結果、再度異物検査をしたときなどに、異物の
位置に誤認を生じたり、顕微鏡などで観測する場合など
において、対象となる異物を探せなかったりするような
危険性が低下し、効率のよい異物検査が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、この発明の異物検査装置の一実施例の
検出光学系を中心とする構成図である。

【図２】図２は、リニアセンサとウエハと照射光の関係
の説明図である。

【図３】図３は、ウエハ位置決めと中心座標の検出処理
のフローチャートである。

【図４】図４は、その処理の説明図であって、（ａ）
は、エッジ検出特性曲線の説明図、（ｂ）は、受光画素
位置の説明図、（ｃ）は、ウエハ上の採られる３点の関
係の説明図である。

【図５】図５（ａ）〜（ｄ）は、検査ステージに載置す
る前に行われる従来のプリアライメントについて説明図
である。

【符号の説明】

１…ウエハ、２，１１…異物検査光学系、３…検査領
域、１０…異物検査装置、１２…検査テーブル、１３…
データ処理・制御装置、１４…テーブル駆動回路、１５
…検出光学系、１６…投光学系、１７…Ａ／Ｄ変換回路
（Ａ／Ｄ）、１８…Ｘ方向移動機構、１２０…リニアセ
ンサ（一次元ＣＣＤセンサ）、１２１…Ｙテーブル、１
２２…ＸＹＺθテーブル、１３１…ＭＰＵ、１３２…メ
モリ、１３３…バス、１３４…異物検出プログラム、１
３５…ウエハ走査プログラム、１３６…焦点合わせプロ
グラム、１５１…対物レンズ、１５２…空間フィルタ、
１５３…集光レンズ系、１５４…ＣＣＤセンサ、１５５
…ＣＣＤ制御・信号読出回路、１６１…半導体レーザ光
源、１６２，１６３…集光レンズ系、１６４…反射ミラ
ー。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ＸＹθの検査ステージを有する異物検査装
置において、前記検査ステージに載置されたウエハのエ
ッジを検出するために前記検査ステージのＸ軸あるいは
Ｙ軸のいずれか沿って画素対応に検出素子が多数配列さ
れた光学センサを設け、前記検査ステージを回転させて
前記ウエハの前記検査ステージを中心に対する偏心量を
求めて、この偏心量に応じて前記ウエハの前記検査ステ
ージに対する中心位置合わせをする中心位置合わせ手段
と、前記光学センサの前記検出画素対応の検出信号に基
づいて前記検査ステージに対する中心に対する前記ウエ
ハの外周の３点の座標を求めて前記ウエハの中心座標を
算出する中心座標算出手段とを備え、算出された前記中
心座標を異物検出におけるウエハの中心とする異物検査
装置。
【請求項２】前記ウエハは、オリエンティション・フラ
ットを有していて、前記光学センサはリニアセンサであ
り、前記中心位置合わせ手段は、前記偏心量に応じた中
心位置合わせの後に前記オリエンティション・フラット
を前記光学センサの画素配列方向に対して直角になる方
向に位置決めした後に、この直角方向に沿って前記ウエ
ハを移動させて、前記直角方向に対する前記ウエハの傾
き角を求めて前記ウエハの角度ずれを補正するものであ
る請求項１記載の異物検査装置。