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JPH11312626A - Capacitor and manufacturing method thereof - Google Patents

Capacitor and manufacturing method thereof

Info

Publication number
JPH11312626A
JPH11312626A JP10118316A JP11831698A JPH11312626A JP H11312626 A JPH11312626 A JP H11312626A JP 10118316 A JP10118316 A JP 10118316A JP 11831698 A JP11831698 A JP 11831698A JP H11312626 A JPH11312626 A JP H11312626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sulfonic acid
preparing
transition metal
acid group
capacitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10118316A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Akami
研二 赤見
Yasuo Kudo
康夫 工藤
Yasue Matsuka
安恵 松家
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10118316A priority Critical patent/JPH11312626A/en
Publication of JPH11312626A publication Critical patent/JPH11312626A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリチオフェン誘導体で構成される導電層を
備えたコンデンサで、高温・高湿度下での安定性に優れ
たコンデンサ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 誘電体層に対向して一対の電極を備え、
前記電極の少なくとも一方に、少なくとも一つのスルホ
ン酸基を有するベンゼンスルホン酸イオン、少なくとも
一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキルベン
ゼンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのスル
ホン酸基を有するナフタレンスルホン酸イオンの中から
少なくとも一種と、少なくとも一つのアルキル基とスル
ホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸イオ
ン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有するア
ントラキノンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種
とがド−プされたポリチオフェン誘導体で構成される導
電層を備えたコンデンサ及びその製造方法である。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitor provided with a conductive layer composed of a polythiophene derivative, which is excellent in stability under high temperature and high humidity, and a method of manufacturing the same. SOLUTION: A pair of electrodes are provided facing the dielectric layer,
At least one of the electrodes has a benzenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group, an alkylbenzenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or a naphthalenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group. A polythiophene derivative doped with at least one of them and at least one of alkylnaphthalenesulfonate ions having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group And a method for manufacturing the same.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ特性、
とりわけ周波数特性及び耐湿特性の優れた小型大容量コ
ンデンサ及びその製造方法に関し、誘電体表面の少なく
ても一方に、嵩の小さな分子構造のベンゼンスルホン酸
イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、あるいは
ナフタレンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種
と、嵩の大きな分子構造のアルキルナフタレンスルホン
酸イオン、あるいはアントラキノンスルホン酸イオンの
中から少なくとも一種がド−プされたポリチオフェン誘
導体で構成される導電層を備えたコンデンサ及びその製
造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to capacitor characteristics,
In particular, the present invention relates to a small and large-capacity capacitor excellent in frequency characteristics and moisture resistance and a method of manufacturing the same, and at least one of the dielectric surfaces has a benzenesulfonate ion, an alkylbenzenesulfonate ion or a naphthalenesulfonate ion having a small bulk molecular structure. Provided with a conductive layer composed of a polythiophene derivative doped with at least one of alkylnaphthalenesulfonate ions having a bulky molecular structure or an anthraquinonesulfonate ion, and its production It is about the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気機器のデジタル化に伴って、
コンデンサについても小型大容量で高周波領域でのイン
ピーダンスの低いものが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the digitization of electric equipment,
As for the capacitor, a capacitor having a small size, a large capacity and a low impedance in a high frequency region is required.

【0003】従来、高周波領域で使用されるコンデンサ
には、プラスチックコンデンサ、マイカコンデンサ、積
層セラミックコンデンサがあるが、これらのコンデンサ
では形状が大きくなり大容量化が難しい。
Conventionally, capacitors used in a high-frequency region include plastic capacitors, mica capacitors, and multilayer ceramic capacitors. However, these capacitors have large shapes and are difficult to increase in capacitance.

【0004】一方、大容量のコンデンサとしては、アル
ミニウム乾式電解コンデンサ、またはアルミニウムもし
くはタンタル固体電解コンデンサ等の電解コンデンサが
存在する。
On the other hand, as capacitors having a large capacity, there are electrolytic capacitors such as an aluminum dry electrolytic capacitor and an aluminum or tantalum solid electrolytic capacitor.

【0005】これらのコンデンサでは、誘電体となる酸
化皮膜が極めて薄いために、大容量化が実現できるので
あるが、一方酸化皮膜の損傷が起こり易いために、それ
を修復するための真の陰極を兼ねた電解質を設ける必要
がある。
In these capacitors, a large capacity can be realized because the oxide film serving as a dielectric is extremely thin. On the other hand, since the oxide film is easily damaged, a true cathode for repairing the oxide film is used. It is necessary to provide an electrolyte that also serves as

【0006】例えば、アルミニウム乾式コンデンサで
は、エッチングを施した陽極、陰極アルミニウム箔をセ
パレータを介して巻取り、電解液をセパレータに含浸し
て用いている。
For example, in an aluminum dry capacitor, an etched anode and cathode aluminum foil are wound up through a separator, and the separator is impregnated with an electrolytic solution.

【0007】この電解液は、イオン伝導性で比抵抗が大
きいため、損失が大きくインピーダンスの周波数特性、
温度特性が著しく劣るという課題を有する。
This electrolytic solution has a large loss due to ionic conductivity and a large specific resistance.
There is a problem that the temperature characteristics are extremely poor.

【0008】さらに加えて、液漏れ、蒸発等が避けられ
ず、時間経過と共に容量の減少及び損失の増加が起こる
といった課題を抱えていた。
In addition, there is a problem that liquid leakage, evaporation, and the like are inevitable, and the capacity is reduced and the loss is increased with time.

【0009】また、タンタル固体電解コンデンサでは、
マンガン酸化物を電解質として用いているため、温度特
性および容量、損失等の経時変化についての課題は改善
されるが、マンガン酸化物の比抵抗が比較的高いため損
失、インピーダンスの周波数特性が、積層セラミックコ
ンデンサ、あるいはフィルムコンデンサと比較して劣っ
ていた。
In a tantalum solid electrolytic capacitor,
Since manganese oxide is used as the electrolyte, the problems of temperature characteristics and changes over time such as capacity and loss are improved, but the frequency characteristics of loss and impedance are reduced due to the relatively high specific resistance of manganese oxide. It was inferior to a ceramic capacitor or a film capacitor.

【0010】さらに加えて、タンタル固体電解コンデン
サでは、マンガン酸化物からなる電解質の形成に当り、
硝酸マンガン溶液に浸漬後、300℃程度の温度で熱分
解するという工程を数回から十数回繰り返して行う必要
があり、形成工程が煩雑であった。
In addition, in the case of a tantalum solid electrolytic capacitor, when forming an electrolyte composed of manganese oxide,
After immersion in a manganese nitrate solution, the step of thermally decomposing at a temperature of about 300 ° C. must be repeated several times to several tens of times, and the forming step is complicated.

【0011】そこで、近年、金属、導電性を有する金属
酸化物、ポリピロール等の導電性高分子を誘電体皮膜上
に形成後、それらの導電層を経由して、電解重合によ
り、ポリピロ−ル等の導電性高分子を形成してなる固体
電解コンデンサが提案されてきている(特開昭63−1
58829号公報、特開昭63−173313号公報及
び特開平1−253226号公報等)。
Therefore, in recent years, a conductive polymer such as a metal, a conductive metal oxide, or polypyrrole has been formed on a dielectric film, and then, via these conductive layers, electrolytic polymerization has been carried out. (Japanese Patent Laid-Open No. 63-1)
58829, JP-A-63-173313, JP-A-1-253226 and the like.

【0012】さらに、誘電体皮膜を設けたアルミニウム
に3、4ーエチレンジオキシチオフェンを繰り返し単位
としp−トルエンスルホン酸アニオンをド−パントとし
て含む導電性高分子を化学重合により形成したコンデン
サが提案されている(特開平2−15611号公報)。
Further, a capacitor has been proposed in which a conductive polymer containing 3,4-ethylenedioxythiophene as a repeating unit and p-toluenesulfonic acid anion as a dopant is formed by chemical polymerization on aluminum provided with a dielectric film. (JP-A-2-15611).

【0013】さらに、誘電体皮膜を設けたタンタル焼結
体表面に、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄を酸化剤
として用いて化学重合ポリピロールを形成したコンデン
サが開示されている(特開平7−94368号公報)。
Further, there is disclosed a capacitor in which a chemically polymerized polypyrrole is formed on a surface of a tantalum sintered body provided with a dielectric film using ferric dodecylbenzenesulfonate as an oxidizing agent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-94368). Gazette).

【0014】さらに、また、エッチドアルミ箔上に電着
ポリイミド薄膜からなる誘電体を形成した後、化学重合
及び電解重合により、順次導電性高分子層を形成して電
極とする大容量フィルムコンデンサが提案されている
(電気化学会第58回大会講演要旨集251〜252頁
(1991年))。
Further, after forming a dielectric comprising an electrodeposited polyimide thin film on an etched aluminum foil, a conductive polymer layer is sequentially formed by chemical polymerization and electrolytic polymerization to form a large-capacity film capacitor as an electrode. (Proceedings of the 58th Annual Meeting of the Institute of Electrical Chemistry, pp. 251-252 (1991)).

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マンガ
ン酸化物のような導電性の熱分解金属酸化物を経由して
電解重合高分子を形成する場合、熱による誘電体皮膜の
損傷が起こるため、高耐圧のコンデンサを得るためには
電解重合前に再度化成を行い、その修復を行うことが必
要で、工程が複雑になるという課題を有していた。
However, when an electropolymerized polymer is formed via a conductive pyrolytic metal oxide such as manganese oxide, the dielectric film is damaged by heat. In order to obtain a capacitor with a withstand voltage, it is necessary to carry out chemical formation again before electrolytic polymerization and to repair it, which has a problem that the process becomes complicated.

【0016】さらに、タンタル固体電解コンデンサで
は、マンガン酸化物からなる電解質を熱分解を繰り返し
て形成しており、生じた皮膜損傷を修復するためにその
都度化成が必要で、工程が複雑になるという課題を有し
ていた。
Furthermore, in a tantalum solid electrolytic capacitor, an electrolyte made of manganese oxide is formed by repeating thermal decomposition, and a chemical conversion is required each time to repair the generated film damage, which complicates the process. Had issues.

【0017】さらに、また、上記のように、予め適当な
導電層を形成後、それを経由して電解重合導電性高分子
層を形成する方法では、工程が複雑になるという課題を
も有していた。
Furthermore, as described above, the method of forming an appropriate conductive layer in advance and then forming an electropolymerized conductive polymer layer via the conductive layer also has a problem that the process becomes complicated. I was

【0018】加えて、化学重合で導電性高分子層を形成
するのに、例えば特開昭63−173313号公報及び
特開平2−15611号公報に開示されているように、
過硫酸塩、p-トルエンスルホン酸塩を酸化剤として用い
た場合、特にアルミニウムの誘電体皮膜が侵され、漏れ
電流が著しく増加する、ないしは高温・高湿度下にさら
したときに容量の減少や損失の増加が生じ、特性が劣化
するという課題を抱えていた。
In addition, for forming the conductive polymer layer by chemical polymerization, for example, as disclosed in JP-A-63-173313 and JP-A-2-15611,
When persulfate or p-toluenesulfonate is used as an oxidizing agent, the dielectric film of aluminum is particularly eroded, resulting in a significant increase in leakage current or a decrease in capacity when exposed to high temperature and high humidity. There is a problem that the loss increases and the characteristics deteriorate.

【0019】図2に定電流化成の際のp−トルエンスル
ホン酸イオンが陽極酸化皮膜に及ぼす影響を示す。微量
存在しても陽極酸化皮膜の成長が妨げられることが分か
る。これは、p−トルエンスルホン酸イオンにより陽極
酸化皮膜の溶解が起こっていることを示すものである。
FIG. 2 shows the effect of p-toluenesulfonic acid ions on the anodic oxide film during the formation of a constant current. It can be seen that the growth of the anodic oxide film is hindered even in a small amount. This indicates that the anodic oxide film was dissolved by the p-toluenesulfonic acid ion.

【0020】そして、化学重合でポリエチレンジオキシ
チオフェンからなる導電性高分子層を形成するのにナフ
タレンスルホン酸第二鉄を酸化剤に用いた場合、完成さ
せたコンデンサにおいて、ナフタレンスルホン酸イオン
が誘電体皮膜を侵し難いことから漏れ電流特性は良好で
あり、また耐熱性も良好であるが、高温・高湿度下にさ
らしたときに容量の減少や損失の増加が生じ、特性が劣
化するという課題を抱えていた。
When ferric naphthalenesulfonate is used as an oxidizing agent to form a conductive polymer layer made of polyethylenedioxythiophene by chemical polymerization, in the completed capacitor, the naphthalenesulfonate ion becomes dielectric. The leakage current characteristics are good because it is hard to corrode the body film, and the heat resistance is also good, but when exposed to high temperature and high humidity, the capacity decreases and the loss increases, resulting in deterioration of the characteristics. I was having.

【0021】本発明は、上記従来技術の課題を解決する
もので、高容量達成率で漏れ電流特性に優れ、かつ耐熱
・耐湿性の高い固体電解コンデンサを容易に得ること、
及び小型大容量で高容量達成率、かつ漏れ電流が小さ
く、環境安定性の高いフィルムコンデンサを簡便に得る
ことを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and it is easy to obtain a solid electrolytic capacitor having a high capacity achievement ratio, excellent leakage current characteristics, and high heat and moisture resistance.
It is another object of the present invention to easily obtain a small and large-capacity film capacitor having a high capacity achievement rate, a small leakage current and high environmental stability.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するもので、嵩の小さな分子構造の少なくとも一つの
スルホン酸基を有するベンゼンスルホン酸イオン、少な
くとも一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキ
ルベンゼンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つ
のスルホン酸基を有するナフタレンスルホン酸イオンの
中から少なくとも一種と、嵩の大きな分子構造の少なく
とも一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキル
ナフタレンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つ
のスルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸イオ
ンの中から少なくとも一種とをド−パントとして含むポ
リチオフェン誘導体からなる導電層を用いて、対向して
設けられるコンデンサの少なくても一方の電極を構成す
るようにしたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and comprises a benzenesulfonate ion having at least one sulfonic acid group having a small molecular structure, and at least one alkyl group and a sulfonic acid group. Alkyl benzene sulfonic acid ion having, or at least one of naphthalene sulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group, and alkyl naphthalene sulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group having a bulky molecular structure, or Using a conductive layer made of a polythiophene derivative containing at least one of anthraquinone sulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group as a dopant, at least one electrode of a capacitor provided to face each other is formed. What you did A.

【0023】嵩の小さな分子構造のベンゼンスルホン酸
イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、あるいは
ナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属
塩を酸化剤に用いて化学重合によりポリチオフェン誘導
体からなる導電層を形成した場合、遷移金属塩あるいは
ド−パントの嵩が小さいために高い容量達成率が得られ
る。ところが、ド−パントの嵩が小さいために脱ド−プ
しやすく、高温・高湿度下にさらしたときに容量の減少
や損失の増加が生じ、特性が劣化するという課題があっ
た。さらに、アニオンが誘電体皮膜を侵しやすい場合に
は、漏れ電流が著しく増加するという課題があった。
When a conductive layer composed of a polythiophene derivative is formed by chemical polymerization using a transition metal salt having a small bulk benzenesulfonate ion, alkylbenzenesulfonate ion or naphthalenesulfonate ion as an anion as an oxidizing agent. Since the bulk of the transition metal salt or dopant is small, a high capacity achievement rate can be obtained. However, since the bulk of the dopant is small, it is easy to remove the dopant, and when exposed to high temperature and high humidity, the capacity is reduced and the loss is increased. Furthermore, when anions easily attack the dielectric film, there is a problem that the leakage current is significantly increased.

【0024】アルキルナフタレンスルホン酸イオンやア
ントラキノンスルホン酸イオンのような嵩の大きな分子
構造のド−パントは脱ド−プしにくいため、この種のド
−パントがド−プされたポリチオフェン誘導体からなる
導電層を有したコンデンサは耐熱性や耐湿性に優れてい
る。また、それらのアニオンが誘電体層を侵し難いこと
から漏れ電流特性も良好である。ところが、それらの遷
移金属塩を酸化剤に用いて化学重合によりポリチオフェ
ン誘導体からなる導電層を形成した場合、遷移金属塩あ
るいはド−パントの嵩が大きいために高い容量達成率が
得られないという課題があった。
Since a dopant having a bulky molecular structure, such as an alkylnaphthalenesulfonate ion or anthraquinonesulfonate ion, is difficult to undo, it is composed of a polythiophene derivative doped with such a dopant. A capacitor having a conductive layer is excellent in heat resistance and moisture resistance. In addition, since the anions hardly invade the dielectric layer, the leakage current characteristics are also good. However, when a conductive layer made of a polythiophene derivative is formed by chemical polymerization using these transition metal salts as an oxidizing agent, a problem that a high capacity achievement rate cannot be obtained due to a large bulk of the transition metal salt or the dopant. was there.

【0025】そこで、嵩の小さな分子構造のアニオンと
嵩の大きな分子構造のアニオンをド−パントとしてポリ
チオフェン誘導体からなる導電性高分子にド−プするこ
とにより、容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、
漏れ電流特性と高温・高湿度下での安定性は嵩の大きな
ド−パントが稼いで、高信頼性のコンデンサが実現でき
る。
Therefore, by doping an anion having a small bulk molecular structure and an anion having a large bulk molecular structure as a dopant into a conductive polymer made of a polythiophene derivative, the capacity achievement rate is reduced. Punt earns,
Leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity can be obtained by a bulky dopant, and a highly reliable capacitor can be realized.

【0026】具体的には、誘電体層を用意する工程と、
チオフェン誘導体モノマ−を用意する工程と、少なくと
も一つのスルホン酸基を有するベンゼンスルホン酸遷移
金属塩、少なくとも一つのアルキル基とスルホン酸基を
有するアルキルベンゼンスルホン酸遷移金属塩、あるい
は少なくとも一つのスルホン酸基を有するナフタレンス
ルホン酸遷移金属塩の中から少なくとも一種と、少なく
とも一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキル
ナフタレンスルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも
一つのスルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸
遷移金属塩の中から少なくとも一種とからなる酸化剤を
用意する工程と、前記誘電体層の表面の少なくとも一方
に、前記重合性モノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合
された導電性高分子からなる導電層を形成する工程とを
有するコンデンサの製造方法である。
Specifically, a step of preparing a dielectric layer;
A step of preparing a thiophene derivative monomer, and a benzenesulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group, an alkylbenzenesulfonic acid transition metal salt having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one sulfonic acid group At least one of the naphthalene sulfonic acid transition metal salts having, and an alkyl naphthalene sulfonic acid transition metal salt having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or an anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group. A step of preparing at least one oxidizing agent from among the above, and a conductive layer made of a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent on at least one of the surfaces of the dielectric layer. Forming a capacitor It is a manufacturing method.

【0027】また、重合溶液にフェノ−ル誘導体または
ニトロベンゼン誘導体から選ばれる添加剤を用いること
により、重合反応を促進することが可能であり、導電性
高分子からなる導電層形成を容易にすることができる。
Further, by using an additive selected from a phenol derivative or a nitrobenzene derivative in the polymerization solution, it is possible to promote the polymerization reaction and to facilitate the formation of a conductive layer made of a conductive polymer. Can be.

【0028】そして、高容量達成率で漏れ電流特性に優
れ、かつ耐熱・耐湿性の高いコンデンサを容易に得るた
めの効率的な製造方法が提供された。
An efficient manufacturing method for easily obtaining a capacitor having a high capacity achievement ratio, excellent leakage current characteristics, and high heat and moisture resistance was provided.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1記載の発明は、
誘電体層に対向して一対の電極を備え、前記電極の少な
くとも一方に、少なくとも一つのスルホン酸基を有する
ベンゼンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つの
アルキル基とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンス
ルホン酸イオンの中から少なくとも一種と、少なくとも
一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフ
タレンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのス
ルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸イオンの
中から少なくとも一種とがド−プされたポリチオフェン
誘導体で構成される導電層を備えたコンデンサである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
A pair of electrodes are provided facing the dielectric layer, and at least one of the electrodes has a benzenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group, or an alkylbenzenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group. A polythiophene derivative doped with at least one of them and at least one of alkylnaphthalenesulfonate ions having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group This is a capacitor provided with a conductive layer composed of:

【0030】誘電体層が弁金属の酸化皮膜で構成される
コンデンサでは、導電層は陰極を兼ねた電解質として機
能し、一方それが高分子薄膜で構成されるフィルムコン
デンサでは、単純な電極として機能する。
In a capacitor in which the dielectric layer is composed of a valve metal oxide film, the conductive layer functions as an electrolyte also serving as a cathode, while in a film capacitor in which it is composed of a polymer thin film, it functions as a simple electrode. I do.

【0031】導電層は、嵩の小さな少なくとも一つのス
ルホン酸基を有するベンゼンスルホン酸イオン、あるい
は少なくとも一つのアルキル基とスルホン酸基を有する
アルキルベンゼンスルホン酸イオンの中から少なくとも
一種と、嵩の大きな少なくとも一つのアルキル基とスル
ホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸イオ
ン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有するア
ントラキノンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種
とがド−プされたポリチオフェン誘導体で構成してお
り、容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、漏れ電
流特性と高温・高湿度下での安定性は嵩の大きなド−パ
ントが稼いで、高信頼性のコンデンサが実現できる。
The conductive layer is formed of at least one of benzenesulfonate ions having at least one sulfonic acid group having a small bulk or at least one alkylbenzenesulfonate ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group. An alkylnaphthalenesulfonic acid ion having one alkyl group and a sulfonic acid group, or a polythiophene derivative in which at least one of anthraquinonesulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group is doped, The achievement rate is achieved by a small-volume dopant, and the leakage current characteristics and the stability under high temperature and high humidity are achieved by a large-volume dopant, and a highly reliable capacitor can be realized.

【0032】ここで、少なくとも一つのスルホン酸基を
有するベンゼンスルホン酸イオンには、ベンゼンスルホ
ン酸イオン、ベンゼンジスルホン酸イオン等があげられ
るが、好適にはベンゼンスルホン酸イオンが用いられ
る。
Here, the benzenesulfonate ion having at least one sulfonic acid group includes a benzenesulfonate ion and a benzenedisulfonate ion, and the benzenesulfonate ion is preferably used.

【0033】また、少なくとも一つのアルキル基とスル
ホン酸基を有するアルキルベンゼンスルホン酸イオンに
は、エチルベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等
があげられるが、好適にはp−トルエンスルホン酸イオ
ンが用いられる。
The alkylbenzenesulfonate having at least one alkyl group and a sulfonic acid group includes ethylbenzenesulfonate, dodecylbenzenesulfonate, p-toluenesulfonate and the like. -Toluenesulfonic acid ions are used.

【0034】また、少なくとも一つのアルキル基とスル
ホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸イオン
には、モノイソプロピルナフタレンスルホン酸イオン、
n−ブチルナフタレンスルホン酸イオン、ジブチルナフ
タレンスルホン酸イオン、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸イオン、トリイソプロピルナフタレンジスル
ホン酸イオン等があげられるが、好適にはトリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸イオンが用いられる。
The alkylnaphthalenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group includes monoisopropylnaphthalenesulfonic acid ion,
Examples thereof include n-butylnaphthalenesulfonic acid ion, dibutylnaphthalenesulfonic acid ion, triisopropylnaphthalenesulfonic acid ion, and triisopropylnaphthalenedisulfonic acid ion. Triisopropylnaphthalenesulfonic acid ion is preferably used.

【0035】また、少なくとも一つのスルホン酸基を有
するアントラキノンスルホン酸イオンには、アントラキ
ノン−2−スルホン酸イオン、アントラキノン−2,6
−ジスルホン酸イオン等があげられるが、好適にはアン
トラキノン−2−スルホン酸イオンが用いられる。
The anthraquinone sulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group includes anthraquinone-2-sulfonic acid ion and anthraquinone-2,6
-Disulfonate ion and the like, and preferably anthraquinone-2-sulfonate ion.

【0036】本発明の請求項2記載の発明は、誘電体層
に対向して一対の電極を備え、前記電極の少なくとも一
方に、少なくとも一つのスルホン酸基を有するナフタレ
ンスルホン酸イオンと、少なくとも一つのアルキル基と
スルホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸イ
オン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有する
アントラキノンスルホン酸イオンの中から少なくとも一
種とがド−プされたポリチオフェン誘導体で構成される
導電層を備えたコンデンサである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a pair of electrodes opposed to the dielectric layer, wherein at least one of the electrodes is provided with at least one naphthalenesulfonate ion having a sulfonic acid group. A conductive layer comprising a polythiophene derivative doped with at least one alkylnaphthalenesulfonate ion having two alkyl groups and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group; Capacitor.

【0037】導電層は、嵩の小さな少なくとも一つのス
ルホン酸基を有するナフタレンスルホン酸イオンと、嵩
の大きな少なくとも一つのアルキル基とスルホン酸基を
有するアルキルナフタレンスルホン酸イオン、あるいは
少なくとも一つのスルホン酸基を有するアントラキノン
スルホン酸イオンの中から少なくとも一種とがド−プさ
れたポリチオフェン誘導体で構成しており、容量達成率
は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での安
定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、高信頼性のコン
デンサが実現できる。
The conductive layer comprises a naphthalenesulfonic acid ion having at least one bulky sulfonic acid group, an alkylnaphthalenesulfonic acid ion having at least one bulky alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one sulfonic acid ion. It is composed of a polythiophene derivative in which at least one of the anthraquinone sulfonate ions having a group is doped, and the capacity attainment rate is that a bulky dopant is obtained, and the stability at high temperature and high humidity is high. A bulky dopant is obtained, and a highly reliable capacitor can be realized.

【0038】ここで、少なくとも一つのスルホン酸基を
有するナフタレンスルホン酸イオンには、ナフタレンス
ルホン酸イオン、ナフタレンジスルホン酸イオン、ナフ
タレントリスルホン酸イオン等があげられるが、好適に
はナフタレンスルホン酸イオンが用いられる。
The naphthalene sulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group includes naphthalene sulfonic acid ion, naphthalene disulfonic acid ion, naphthalene trisulfonic acid ion and the like. Preferably, naphthalene sulfonic acid ion is used. Used.

【0039】ここで、請求項3記載のように、誘電体層
が、弁金属の酸化物であってもよい。
Here, the dielectric layer may be an oxide of a valve metal.

【0040】また、請求項4記載のように、弁金属とし
てアルミニウムもしくはタンタルが用いうる。
Further, aluminum or tantalum can be used as the valve metal.

【0041】また、請求項5記載のように、誘電体層
を、高分子膜で構成することもできる。
Further, the dielectric layer may be formed of a polymer film.

【0042】また、請求項6記載のように、高分子膜を
ポリイミド膜で構成することができる。
Further, as described in claim 6, the polymer film can be constituted by a polyimide film.

【0043】また、請求項7記載のように、ポリチオフ
ェン誘導体としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ
フェン)が好適に用いうる。さらに、置換可能なアルキ
レン基としては、エテン、1−プロペン、1−ヘキセン
などのような、アルファオレフェンから得られるような
1,2−アルキレン基であることが好ましく、さらに
1,2−シクロヘキセン、2,3−ブチレン、2,3−
ジメチレン2,3−ブチレン、及び2,3−ペンチレン
基等であってもよい。最も好適な例としては、メチレ
ン、1,2−エチレン、1,2−プロピレン基等があげ
られる。
Further, as described in claim 7, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) can be suitably used as the polythiophene derivative. Further, the substitutable alkylene group is preferably a 1,2-alkylene group such as ethene, 1-propene, 1-hexene or the like, which is obtained from alpha olefin, and furthermore, 1,2-cyclohexene , 2,3-butylene, 2,3-
It may be a dimethylene 2,3-butylene or 2,3-pentylene group. Most preferred examples include a methylene, 1,2-ethylene, 1,2-propylene group and the like.

【0044】本発明の請求項8記載の発明は、誘電体層
を用意する工程と、チオフェン誘導体モノマ−を用意す
る工程と、少なくとも一つのスルホン酸基を有するベン
ゼンスルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つの
アルキル基とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンス
ルホン酸遷移金属塩の中から少なくとも一種と、少なく
とも一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキル
ナフタレンスルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも
一つのスルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸
遷移金属塩の中から少なくとも一種とからなる酸化剤を
用意する工程と、前記誘電体層の表面の少なくとも一方
に、前記重合性モノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合
された導電性高分子からなる導電層を形成する工程とを
有するコンデンサの製造方法としたものであり、嵩の小
さな少なくとも一つのスルホン酸基を有するベンゼンス
ルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのアルキル基
とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンスルホン酸イ
オンの中から少なくとも一種と、嵩の大きな少なくとも
一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフ
タレンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのス
ルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸イオンの
中から少なくとも一種とがド−プされたポリチオフェン
誘導体からなる導電層を有したコンデンサを製造でき
る。
The invention according to claim 8 of the present invention comprises a step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, and a step of preparing a benzenesulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group, or At least one alkyl benzene sulfonic acid transition metal salt having one alkyl group and a sulfonic acid group, and an alkyl naphthalene sulfonic acid transition metal salt having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one sulfonic acid group; Preparing an oxidizing agent comprising at least one of an anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having; and at least one of the surfaces of the dielectric layer, the polymerizable monomer was chemically polymerized using the oxidizing agent. Forming a conductive layer made of a conductive polymer. The method is a method for producing a benzenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group having a small bulk, or at least one alkylbenzenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, and having a large bulk. A conductive layer comprising a polythiophene derivative doped with at least one alkylnaphthalenesulfonate ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group; Capacitor can be manufactured.

【0045】容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼
ぎ、高温・高湿度下での漏れ電流特性と安定性は嵩の大
きなド−パントが稼いで、高信頼性のコンデンサを得る
ことができる。
The capacity achievement rate is obtained by a small bulk dopant, and the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity are achieved by a large bulk dopant, and a highly reliable capacitor can be obtained. .

【0046】本発明の請求項9記載の発明は、誘電体層
を用意する工程と、チオフェン誘導体モノマ−を用意す
る工程と、少なくとも一つのスルホン酸基を有するナフ
タレンスルホン酸遷移金属塩と、少なくとも一つのアル
キル基とスルホン酸基を有するアルキルナフタレンスル
ホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのスルホン
酸基を有するアントラキノンスルホン酸遷移金属塩の中
から少なくとも一種とからなる酸化剤を用意する工程
と、前記誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合
性モノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性
高分子からなる導電層を形成する工程とを有するコンデ
ンサの製造方法としたものであり、嵩の小さな少なくと
も一つのスルホン酸基を有するナフタレンスルホン酸イ
オンと、嵩の大きな少なくとも一つのアルキル基とスル
ホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸イオ
ン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有するア
ントラキノンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種
とがド−プされたポリチオフェン誘導体からなる導電層
を有したコンデンサを製造できる。容量達成率は嵩の小
さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での安定性は嵩
の大きなド−パントが稼いで、高信頼性のコンデンサを
得ることができる。
The invention according to claim 9 of the present invention comprises a step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, and a step of preparing at least one transition metal salt of naphthalenesulfonic acid having at least one sulfonic acid group. A step of preparing an oxidizing agent comprising at least one alkylnaphthalenesulfonic acid transition metal salt having one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group; Forming, on at least one of the surfaces of the dielectric layer, a conductive layer made of a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent. A naphthalenesulfonate ion having at least one sulfonic acid group having a small bulk; A conductive layer comprising a polythiophene derivative doped with at least one of alkylnaphthalenesulfonate ions having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group; Can be manufactured. The capacity achievement rate is achieved by a small-volume dopant, and the stability under high temperature and high humidity is achieved by a large-volume dopant, so that a highly reliable capacitor can be obtained.

【0047】ここで、請求項10記載のように、誘電体
層が、弁金属の酸化物であってもよい。
Here, the dielectric layer may be an oxide of a valve metal.

【0048】また、請求項11記載のように、弁金属と
してアルミニウムもしくはタンタルが用いうる。
Further, aluminum or tantalum can be used as the valve metal.

【0049】また、請求項12記載のように、誘電体層
を、高分子膜で構成することもできる。
Further, the dielectric layer may be composed of a polymer film.

【0050】また、請求項13記載のように、高分子膜
をポリイミド膜で構成することができる。
Also, the polymer film can be constituted by a polyimide film.

【0051】また、請求項14記載のように、ポリチオ
フェン誘導体としてポリ(3,4−エチレンジオキシチ
オフェン)が好適に用いうる。
Further, as described in claim 14, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) can be suitably used as the polythiophene derivative.

【0052】また、請求項15のように、遷移金属とし
て鉄(III)、銅(II)あるいはルテニウム(III)が用
いうる。
Further, iron (III), copper (II) or ruthenium (III) can be used as the transition metal.

【0053】本発明の請求項16記載の発明は、誘電体
層を用意する工程と、チオフェン誘導体モノマ−を用意
する工程と、少なくとも一つのスルホン酸基を有するベ
ンゼンスルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つ
のアルキル基とスルホン酸基を有するアルキルベンゼン
スルホン酸遷移金属塩の中から少なくとも一種と、少な
くとも一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキ
ルナフタレンスルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくと
も一つのスルホン酸基を有するアントラキノンスルホン
酸遷移金属塩の中から少なくとも一種とからなる酸化剤
を用意する工程と、フェノ−ル誘導体またはニトロベン
ゼン誘導体から選ばれる添加剤を用意する工程と、前記
誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合性モノマ
−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性高分子か
らなる導電層を形成する工程とを有するコンデンサの製
造方法としたものであり、フェノ−ル誘導体またはニト
ロベンゼン誘導体から選ばれる添加剤を用いることによ
り、重合反応を促進することが可能であり、導電性高分
子からなる導電層の形成を容易にすることができる。
The invention according to claim 16 of the present invention comprises the step of preparing a dielectric layer, the step of preparing a thiophene derivative monomer, and the step of preparing a transition metal salt of benzenesulfonic acid having at least one sulfonic acid group, At least one alkyl benzene sulfonic acid transition metal salt having one alkyl group and a sulfonic acid group, and an alkyl naphthalene sulfonic acid transition metal salt having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one sulfonic acid group; Providing an oxidizing agent comprising at least one of an anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having; an additive preparing agent selected from a phenol derivative or a nitrobenzene derivative; and at least one of the surfaces of the dielectric layer. In addition, the polymerizable monomer and the oxidizing agent Forming a conductive layer made of a conductive polymer that has been chemically polymerized, the method comprising: using an additive selected from a phenol derivative or a nitrobenzene derivative to perform a polymerization reaction. It is possible to facilitate the formation of a conductive layer made of a conductive polymer.

【0054】本発明の請求項17記載の発明は、誘電体
層を用意する工程と、チオフェン誘導体モノマ−を用意
する工程と、少なくとも一つのスルホン酸基を有するナ
フタレンスルホン酸遷移金属塩と、少なくとも一つのア
ルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフタレンス
ルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのスルホ
ン酸基を有するアントラキノンスルホン酸遷移金属塩の
中から少なくとも一種とからなる酸化剤を用意する工程
と、フェノ−ル誘導体またはニトロベンゼン誘導体から
選ばれる添加剤を用意する工程と、前記誘電体層の表面
の少なくとも一方に、前記重合性モノマ−を前記酸化剤
を用いて化学重合された導電性高分子からなる導電層を
形成する工程とを有するコンデンサの製造方法としたも
のであり、フェノ−ル誘導体またはニトロベンゼン誘導
体から選ばれる添加剤を用いることにより、重合反応を
促進することが可能であり、導電性高分子からなる導電
層の形成を容易にすることができる。
The invention according to claim 17 of the present invention comprises a step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, and a step of preparing at least one transition metal salt of naphthalenesulfonic acid having at least one sulfonic acid group. Preparing an oxidizing agent comprising at least one transition metal salt of an alkyl naphthalene sulfonic acid having one alkyl group and a sulfonic acid group, or an anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group; A step of preparing an additive selected from a phenol derivative or a nitrobenzene derivative, and at least one of the surfaces of the dielectric layer, comprising a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent. Forming a conductive layer. The use of additives selected from le derivative or nitrobenzene derivative, it is possible to promote the polymerization reaction, the formation of the conductive layer made of a conductive polymer can be facilitated.

【0055】ここで、請求項18記載のように、フェノ
ール誘導体として、ニトロフェノール、シアノフェノー
ル、ヒドロキシ安息香酸、あるいはヒドロキシフェノー
ルが用いうる。
Here, nitrophenol, cyanophenol, hydroxybenzoic acid or hydroxyphenol may be used as the phenol derivative.

【0056】また、請求項19記載のように、ニトロベ
ンゼン誘導体として、ニトロベンゼン、ニトロ安息香
酸、あるいはニトロベンジルアルコールが用いうる。
As described in claim 19, nitrobenzene, nitrobenzoic acid, or nitrobenzyl alcohol can be used as the nitrobenzene derivative.

【0057】以下、本発明の各実施の形態について詳細
に説明をする。 (実施の形態1)以下、本発明の第1の実施の形態につ
いて図1をもとに説明する。
Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described in detail. (Embodiment 1) Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0058】縦8mm×横3.3mmのアルミニウムエ
ッチド箔1を、4mmと3mmの部分に仕切るように、
両面に渡って、幅1mmのポリイミドテープ2を貼付け
た。
The aluminum-etched foil 1 having a length of 8 mm and a width of 3.3 mm is partitioned into 4 mm and 3 mm portions.
A polyimide tape 2 having a width of 1 mm was stuck on both sides.

【0059】次に、アルミニウムエッチド箔の3mm×
3.3mmの部分に陽極リード5を取り付け、アルミニ
ウムエッチド箔1の4mm×3.3mmの部分を、70
℃の3%アジピン酸アンモニウム水溶液を用い、まず1
0mV/secの速度で0から10Vまで上げ、続けて
10Vの定電圧を40分間印加し、陽極酸化により酸化
皮膜誘電体層3を形成した。
Next, an aluminum etched foil of 3 mm ×
The anode lead 5 was attached to the 3.3 mm portion, and the 4 mm × 3.3 mm portion of the aluminum-etched foil 1 was
Using a 3% aqueous solution of ammonium adipate at
The voltage was increased from 0 to 10 V at a rate of 0 mV / sec, and a constant voltage of 10 V was continuously applied for 40 minutes to form an oxide film dielectric layer 3 by anodic oxidation.

【0060】そして、脱イオン水の流水により10分洗
浄してから、105℃で5分乾燥を行った。この構成を
コンデンサと見立て、化成液中の容量を測定したとこ
ろ、18μFであった。
After washing with running deionized water for 10 minutes, drying was performed at 105 ° C. for 5 minutes. This configuration was regarded as a capacitor, and the capacity in the chemical conversion solution was measured to be 18 μF.

【0061】嵩の小さなベンゼンスルホン酸イオンをア
ニオンとする遷移金属塩のベンゼンスルホン酸第二鉄
と、嵩の大きなトリイソプロピルナフタレンスルホン酸
イオンをアニオンとする遷移金属塩のトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸第二鉄とを酸化剤に用いた。それ
ぞれをエタノ−ルで溶解させ、固形分量40重量%のベ
ンゼンスルホン酸第二鉄溶液と、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸第二鉄溶液とを用意した。
Ferric benzenesulfonate, a transition metal salt having a small bulk benzenesulfonate ion as anion, and triisopropylnaphthalenesulfonic acid, a transition metal salt having a large bulk triisopropylnaphthalenesulfonate ion as anion. Iron was used as the oxidizing agent. Each was dissolved in ethanol to prepare a ferric benzenesulfonate solution and a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution having a solid content of 40% by weight.

【0062】次に、エタノ−ル1.44gの中に、前記
ベンゼンスルホン酸第二鉄溶液1.32gと前記トリイ
ソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液0.44g
を入れて混合した。さらに、チオフェン誘導体モノマ−
である3,4−エチレンジオキシチオフェンモノマ−
0.8gを混ぜ合わせてから撹拌して重合溶液を用意し
た。
Next, 1.34 g of the ferric benzenesulfonate solution and 0.44 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution in 1.44 g of ethanol were used.
And mixed. Further, a thiophene derivative monomer
3,4-ethylenedioxythiophene monomer
0.8 g was mixed and stirred to prepare a polymerization solution.

【0063】重合溶液の中に誘電体層が設けられた電極
を1分浸漬してから引き上げ、105℃のオ−ブン中で
数秒間加熱し、次に70℃のオ−ブン中で10分加熱し
た。溶剤が蒸発しつつ化学重合が進み、誘電体層の上に
導電性高分子からなる導電層4を形成した。
The electrode provided with the dielectric layer is immersed in the polymerization solution for 1 minute, pulled up, heated in an oven at 105 ° C. for several seconds, and then in an oven at 70 ° C. for 10 minutes. Heated. Chemical polymerization proceeded while the solvent was evaporated, and a conductive layer 4 made of a conductive polymer was formed on the dielectric layer.

【0064】次に、脱イオン水による流水洗浄を15分
間行った後、105℃で5分乾燥した。導電層4が所定
の厚さになるまで、浸漬塗布から乾燥までの重合回数を
12回繰り返した。
Next, the substrate was washed with running deionized water for 15 minutes, and then dried at 105 ° C. for 5 minutes. The number of polymerizations from dip coating to drying was repeated 12 times until the conductive layer 4 had a predetermined thickness.

【0065】なお、重合溶液の寿命を長くするには温度
を低くして重合速度を遅らせることが有効である。ま
た、重合溶液の余す量を減らすためには、浸漬塗布では
なく、刷毛塗りやスクリ−ン印刷、スプレ−塗布等を用
いてもよい。
In order to prolong the life of the polymerization solution, it is effective to lower the temperature to lower the polymerization rate. In order to reduce the excess amount of the polymerization solution, brush coating, screen printing, spray coating, or the like may be used instead of dip coating.

【0066】導電層形成の後、その上に、カ−ボン層と
銀ペイント層で陰極7を形成すると共に、その上に陰極
リ−ド6を取り付けた。
After the formation of the conductive layer, a cathode 7 was formed thereon with a carbon layer and a silver paint layer, and a cathode lead 6 was mounted thereon.

【0067】さらに、その素子をエポキシ樹脂を用いて
外装してから、エ−ジング処理を行い、合計で10個の
コンデンサ素子を完成させた。
Further, the element was packaged with an epoxy resin, and then subjected to an aging treatment to complete a total of ten capacitor elements.

【0068】これら10個の素子について、1kHzに
おける容量、損失係数、400kHzにおけるインピ−
ダンス及び定格電圧6.3V印加2分後の漏れ電流を各
々測定した。さらに85℃85%雰囲気中にさらし、
6.3Vを印加しての、負荷耐熱・耐湿性試験を行い、
容量、損失係数、インピ−ダンス、及び漏れ電流を測定
した。それらの平均値を以下の(表1)に示した。
For these ten elements, the capacitance and the loss factor at 1 kHz, and the impedance at 400 kHz
The dance and the leakage current two minutes after the application of the rated voltage of 6.3 V were measured. Exposure to 85% 85% atmosphere
A load heat / moisture resistance test with 6.3 V applied is performed.
The capacity, loss factor, impedance, and leakage current were measured. The average values are shown in the following (Table 1).

【0069】[0069]

【表1】 [Table 1]

【0070】(比較例1)比較例1として、嵩の小さな
ベンゼンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩
のベンゼンスルホン酸第二鉄のみを酸化剤に用いた。エ
タノ−ルで溶解させ、固形分量40重量%のベンゼンス
ルホン酸第二鉄溶液を用意した。次に、エタノ−ル1.
27gの中に、前記ベンゼンスルホン酸第二鉄溶液1.
55gを入れて混合した。
Comparative Example 1 As Comparative Example 1, only ferric benzenesulfonate, a transition metal salt having a small bulky benzenesulfonate ion as an anion, was used as an oxidizing agent. It was dissolved in ethanol to prepare a ferric benzenesulfonate solution having a solid content of 40% by weight. Next, ethanol 1.
In 27 g, the ferric benzenesulfonate solution 1.
55 g was added and mixed.

【0071】さらに、3,4−エチレンジオキシチオフ
ェンモノマ−0.8gを混ぜ合わせてから撹拌して重合
溶液を用意した。この組成を用いた以外、実施の形態1
と同様の操作でコンデンサ素子を作製した。このときの
重合回数は10回であった。特性を測定した結果を前述
の(表1)に示す。
Further, 0.8 g of 3,4-ethylenedioxythiophene monomer was mixed and stirred to prepare a polymerization solution. Embodiment 1 except that this composition was used.
A capacitor element was produced in the same manner as in the above. The number of polymerizations at this time was 10 times. The results of measuring the characteristics are shown in the above (Table 1).

【0072】比較例1では、嵩の小さなベンゼンスルホ
ン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のベンゼンスル
ホン酸第二鉄のみを酸化剤に用いた場合、容量達成率が
高く、良好な初期特性が得られた。ところが、85℃/
85%の雰囲気中での負荷耐熱・耐湿性試験の結果、
(表1)に示すように、高温・高湿度下での脱ド−プ、
及び脱ド−プしたアニオンによる酸化皮膜誘電体層の腐
食により、容量の減少、損失係数の増加、インピ−ダン
スの増加、及び漏れ電流の増加が生じ、高温・高湿度下
での安定性が悪かった。
In Comparative Example 1, when only ferric benzenesulfonate which is a transition metal salt having a small benzenesulfonate ion as an anion was used as the oxidizing agent, the capacity achievement ratio was high and good initial characteristics were obtained. Was done. However, 85 ° C /
As a result of a load heat / moisture resistance test in an 85% atmosphere,
As shown in (Table 1), de-doping under high temperature and high humidity,
In addition, the corrosion of the oxide film dielectric layer by the undoped anions causes a decrease in capacity, an increase in the loss factor, an increase in impedance, and an increase in leakage current, resulting in an increase in stability under high temperature and high humidity. It was bad.

【0073】(比較例2)比較例2として、嵩の大きな
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸イオンをアニオ
ンとする遷移金属塩のトリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸第二鉄のみを酸化剤に用いた。エタノ−ルで溶解
させ、固形分量40重量%のトリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸第二鉄溶液を用意した。
(Comparative Example 2) As Comparative Example 2, only ferric triisopropylnaphthalenesulfonate, a transition metal salt having a bulky triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion, was used as an oxidizing agent. It was dissolved in ethanol to prepare a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution having a solid content of 40% by weight.

【0074】次に、エタノ−ル2.42gの中に、前記
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液2.
95gを入れて混合した。さらに、3,4−エチレンジ
オキシチオフェンモノマ−0.8gを混ぜ合わせてから
撹拌して重合溶液を用意した。この組成を用いた以外、
実施の形態1と同様の操作でコンデンサ素子を作製し
た。このときの重合回数は17回であった。特性を測定
した結果を前述の(表1)に示す。
Next, the ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution was added to 2.42 g of ethanol.
95 g was added and mixed. Further, 3,4-ethylenedioxythiophene monomer-0.8 g was mixed and stirred to prepare a polymerization solution. Except using this composition,
A capacitor element was manufactured in the same operation as in the first embodiment. The number of polymerizations at this time was 17 times. The results of measuring the characteristics are shown in the above (Table 1).

【0075】比較例2では、嵩の大きなトリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金
属塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄の
みを酸化剤に用いた場合、(表1)に示すように高温・
高湿度下での特性劣化がほとんど生ぜず、安定性が良か
った。
In Comparative Example 2, when only ferric triisopropylnaphthalenesulfonate, a transition metal salt having a bulky triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion, was used as an oxidizing agent, as shown in Table 1 high temperature·
The characteristics were hardly deteriorated under high humidity, and the stability was good.

【0076】ところが、容量達成率が低かった。トリイ
ソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄以外でも、例え
ばジブチルナフタレンスルホン酸第二鉄、モノイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸第二鉄でも同様の結果であっ
た。
However, the capacity achievement ratio was low. Similar results were obtained with ferric diisopropylnaphthalenesulfonate other than ferric triisopropylnaphthalenesulfonate, for example, ferric dibutylnaphthalenesulfonate and ferric monoisopropylnaphthalenesulfonate.

【0077】この(表1)における比較例1と2及び実
施の形態1との比較から明らかなように、実施の形態1
では、容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温
・高湿度下での漏れ電流特性と安定性は嵩の大きなド−
パントが稼いで、高信頼性のコンデンサを得られたこと
が判明した。
As is apparent from the comparison between Comparative Examples 1 and 2 and Embodiment 1 in Table 1 above, Embodiment 1
In this case, the capacity achievement rate can be achieved with a small bulk dopant, and the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity are large
It turned out that the punt earned and a highly reliable capacitor was obtained.

【0078】(実施の形態2)嵩の小さなp−トルエン
スルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のp−ト
ルエンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなアントラキノン
−2−スルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩の
アントラキノン−2−スルホン酸第二鉄とを酸化剤に用
いた。それぞれをエタノ−ルで溶解させ、固形分量40
重量%のp−トルエンスルホン酸第二鉄溶液と、アント
ラキノン−2−スルホン酸第二鉄溶液とを用意した。
(Embodiment 2) Ferric p-toluenesulfonate, a transition metal salt having a small bulk p-toluenesulfonic acid ion as an anion, and a large bulk anthraquinone-2-sulfonic acid ion as an anion The transition metal salt and ferric anthraquinone-2-sulfonate were used as the oxidizing agent. Each was dissolved in ethanol to obtain a solid content of 40%.
A weight% ferric p-toluenesulfonic acid solution and a ferric anthraquinone-2-sulfonic acid solution were prepared.

【0079】次に、エタノ−ル1.5gの中に、前記p
−トルエンスルホン酸第二鉄溶液1.43gと前記アン
トラキノン−2−スルホン酸第二鉄溶液0.4gを入れ
て混合した。さらに、3,4−エチレンジオキシチオフ
ェンモノマ−0.8gを混ぜ合わせてから撹拌して重合
溶液を用意した。
Next, 1.5 g of ethanol contained the above p
-1.43 g of the ferric toluenesulfonic acid solution and 0.4 g of the ferric anthraquinone-2-sulfonic acid solution were added and mixed. Further, 3,4-ethylenedioxythiophene monomer-0.8 g was mixed and stirred to prepare a polymerization solution.

【0080】この組成を用いた以外、実施の形態1と同
様にして10個のコンデンサ素子を作製した。このとき
の重合回数は13回であった。実施の形態1と同様の特
性評価を行い、それらの平均値を(表1)に示した。
Except that this composition was used, ten capacitor elements were produced in the same manner as in the first embodiment. The number of polymerizations at this time was 13 times. The same characteristic evaluation as in the first embodiment was performed, and the average values thereof are shown in (Table 1).

【0081】以上のように、本実施の形態によれば、嵩
の小さなp−トルエンスルホン酸イオンをアニオンとす
る遷移金属塩のp−トルエンスルホン酸第二鉄と、嵩の
大きなアントラキノン−2−スルホン酸イオンをアニオ
ンとする遷移金属塩のアントラキノン−2−スルホン酸
第二鉄とを酸化剤として用いてポリ(3,4−エチレン
ジオキシチオフェン)を化学重合することにより、容量
達成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下
での安定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、(表1)
に示すように高信頼性のコンデンサを得ることができ
る。
As described above, according to the present embodiment, ferric p-toluenesulfonate, which is a transition metal salt having p-toluenesulfonic acid ion of small bulk as an anion, and anthraquinone-2-large of bulky The capacity achievement rate is increased by chemically polymerizing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) using a transition metal salt anthraquinone-2-ferrous sulfonate having a sulfonate ion as an anion as an oxidizing agent. The small donut earns, and the stability under high temperature and high humidity is gained by the bulky dough (Table 1).
As shown in (1), a highly reliable capacitor can be obtained.

【0082】(実施の形態3)嵩の小さなナフタレンス
ルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のナフタレ
ンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩
のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄とを酸
化剤に用いた。それぞれをエタノ−ルで溶解させ、固形
分量40重量%のナフタレンスルホン酸第二鉄溶液と、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液とを
用意した。
(Embodiment 3) A transition metal salt of ferric naphthalenesulfonate having a small bulky naphthalenesulfonate ion as an anion and a transition metal salt of a transition metal salt having a large bulky triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion. Ferric isopropyl naphthalene sulfonate was used as the oxidizing agent. Each was dissolved in ethanol, a ferric naphthalene sulfonate solution having a solid content of 40% by weight,
And a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution.

【0083】次に、エタノ−ル1.65gの中に、前記
ナフタレンスルホン酸第二鉄溶液1.57gと前記トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液0.44
gを入れて混合した。さらに、3,4−エチレンジオキ
シチオフェンモノマ−0.8gを混ぜ合わせてから撹拌
して重合溶液を用意した。この組成を用いた以外、実施
の形態1と同様の操作でコンデンサ素子を作製した。こ
のときの重合回数は14回であった。特性を測定した結
果を前述の(表1)に示す。
Next, 1.57 g of the ferric naphthalenesulfonate solution and 0.44 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution in 1.65 g of ethanol were used.
g was mixed. Further, 3,4-ethylenedioxythiophene monomer-0.8 g was mixed and stirred to prepare a polymerization solution. A capacitor element was manufactured in the same manner as in Embodiment 1 except that this composition was used. The number of polymerizations at this time was 14 times. The results of measuring the characteristics are shown in the above (Table 1).

【0084】(比較例3)比較例3として、嵩の小さな
ナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属
塩のナフタレンスルホン酸第二鉄のみを酸化剤に用い
た。エタノ−ルで溶解させ、固形分量40重量%のナフ
タレンスルホン酸第二鉄溶液を用意した。次に、エタノ
−ル1.63gの中に、前記ナフタレンスルホン酸第二
鉄溶液1.99gを入れて混合した。さらに、3,4−
エチレンジオキシチオフェンモノマ−0.8gを混ぜ合
わせてから撹拌して重合溶液を用意した。この組成を用
いた以外、実施の形態1と同様の操作でコンデンサ素子
を作製した。このときの重合回数は10回であった。特
性を測定した結果を前述の(表1)に示す。
Comparative Example 3 As Comparative Example 3, only a transition metal salt of ferric naphthalene sulfonate having a small bulk naphthalene sulfonate ion as an anion was used as an oxidizing agent. It was dissolved in ethanol to prepare a ferric naphthalene sulfonate solution having a solid content of 40% by weight. Next, 1.99 g of the ferric naphthalenesulfonate solution was added to 1.63 g of ethanol and mixed. Furthermore, 3,4-
A polymerization solution was prepared by mixing and stirring with 0.8 g of ethylenedioxythiophene monomer. A capacitor element was manufactured in the same manner as in Embodiment 1 except that this composition was used. The number of polymerizations at this time was 10 times. The results of measuring the characteristics are shown in the above (Table 1).

【0085】比較例3では、嵩の小さなナフタレンスル
ホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のナフタレン
スルホン酸第二鉄のみを酸化剤に用いた場合、容量達成
率が高く、良好な初期特性が得られた。ところが、85
℃/85%の雰囲気中での負荷耐熱・耐湿性試験の結
果、(表1)に示すように、高温・高湿度下での脱ド−
プにより、容量の減少、損失係数の増加、及びインピ−
ダンスの増加が生じ、高温・高湿度下での安定性が悪か
った。
In Comparative Example 3, when only ferric naphthalenesulfonate, a transition metal salt having a small bulk naphthalenesulfonate ion as the anion, was used as the oxidizing agent, the capacity achievement ratio was high and good initial characteristics were obtained. Was done. However, 85
As shown in (Table 1), as a result of the load heat resistance / moisture resistance test in an atmosphere of
The capacity, loss factor, and impedance
Dance increased and stability under high temperature and high humidity was poor.

【0086】この(表1)における比較例3と実施の形
態3との比較から明らかなように、実施の形態3では、
容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿
度下での安定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、高信
頼性のコンデンサを得られたことが判明した。
As is clear from the comparison between Comparative Example 3 and Embodiment 3 in (Table 1), in Embodiment 3,
It has been found that a capacitor with a small bulk gains in achieving the capacity, and a large bulk gains in stability under high temperature and high humidity, and a highly reliable capacitor can be obtained.

【0087】(実施の形態4)嵩の小さなナフタレンス
ルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のナフタレ
ンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなアントラキノン−2
−スルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のアン
トラキノン−2−スルホン酸第二鉄とを酸化剤に用い
た。それぞれをエタノ−ルで溶解させ、固形分量40重
量%のナフタレンスルホン酸第二鉄溶液と、アントラキ
ノン−2−スルホン酸第二鉄溶液とを用意した。
(Embodiment 4) Ferric naphthalenesulfonate, a transition metal salt having a small bulk naphthalenesulfonic acid ion as an anion, and a large bulk anthraquinone-2
A transition metal salt of anthraquinone-2-iron sulfonate having a sulfonate ion as an anion; Each was dissolved in ethanol to prepare a ferric naphthalenesulfonic acid solution and a ferric anthraquinone-2-sulfonic acid solution each having a solid content of 40% by weight.

【0088】次に、エタノ−ル1.62gの中に、前記
ナフタレンスルホン酸第二鉄溶液1.57gと前記アン
トラキノン−2−スルホン酸第二鉄溶液0.4gを入れ
て混合した。さらに、3,4−エチレンジオキシチオフ
ェンモノマ−0.8gを混ぜ合わせてから撹拌して重合
溶液を用意した。この組成を用いた以外、実施の形態1
と同様の操作でコンデンサ素子を作製した。このときの
重合回数は11回であった。特性を測定した結果を前述
の(表1)に示す。
Next, 1.57 g of the ferric naphthalenesulfonate solution and 0.4 g of the ferric anthraquinone-2-sulfonate solution were mixed in 1.62 g of ethanol. Further, 3,4-ethylenedioxythiophene monomer-0.8 g was mixed and stirred to prepare a polymerization solution. Embodiment 1 except that this composition was used.
A capacitor element was produced in the same manner as in the above. The number of polymerizations at this time was 11 times. The results of measuring the characteristics are shown in the above (Table 1).

【0089】以上のように、本実施の形態によれば、嵩
の小さなナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする
遷移金属塩のナフタレンスルホン酸第二鉄と、嵩の大き
なアントラキノン−2−スルホン酸イオンをアニオンと
する遷移金属塩のアントラキノン−2−スルホン酸第二
鉄とを酸化剤として用いてポリ(3,4−エチレンジオ
キシチオフェン)を化学重合することにより、容量達成
率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での
安定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、(表1)に示
すように高信頼性のコンデンサを得ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the transition metal salt of ferric naphthalenesulfonate having a small bulk naphthalenesulfonic acid ion as an anion and the large bulk anthraquinone-2-sulfonic acid ion are used. By chemically polymerizing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) using a transition metal salt of ferric anthraquinone-2-sulfonate as an anion as an oxidizing agent, the capacity attainment rate is reduced by a small volume of The punt gains, and the stability under high temperature and high humidity increases the bulk of the punt, and a highly reliable capacitor can be obtained as shown in Table 1.

【0090】(実施の形態5)嵩の小さなp−トルエン
スルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のp−ト
ルエンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金
属塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄と
を酸化剤に用いた。それぞれをエタノ−ルで溶解させ、
固形分量40重量%のp−トルエンスルホン酸第二鉄溶
液と、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶
液とを用意した。次に、エタノ−ル1.5g、前記p−
トルエンスルホン酸第二鉄溶液1.44g、前記トリイ
ソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液0.48
g、及び3,4−エチレンジオキシチオフェンモノマ−
0.8gの組成とした重合溶液(A)、エタノ−ル1.
5g、前記p−トルエンスルホン酸第二鉄溶液0.96
g、前記トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄
溶液0.96g、及び3,4−エチレンジオキシチオフ
ェンモノマ−0.8gの組成とした重合溶液(B)、エ
タノ−ル1.5g、前記p−トルエンスルホン酸第二鉄
溶液0.48g、前記トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸第二鉄溶液1.44g、及び3,4−エチレンジ
オキシチオフェンモノマ−0.8gの組成とした重合溶
液(C)を用意した。
(Embodiment 5) Ferrous transition metal salt p-toluenesulfonate having a small bulk p-toluenesulfonate ion as an anion and transition having a large bulk triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion A metal salt of ferric triisopropylnaphthalenesulfonate was used as the oxidizing agent. Dissolve each with ethanol,
A ferric p-toluenesulfonate solution having a solid content of 40% by weight and a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution were prepared. Then, 1.5 g of ethanol, p-
1.44 g of the ferric toluenesulfonic acid solution, 0.48 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonic acid solution
g, and 3,4-ethylenedioxythiophene monomer
0.8 g of the polymerization solution (A), ethanol 1.
5 g of the ferric p-toluenesulfonate solution 0.96
g, a polymerization solution (B) having a composition of 0.96 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution and 0.8 g of 3,4-ethylenedioxythiophene monomer, 1.5 g of ethanol, and 1.5 g of the p- A polymerization solution (C) having a composition of 0.48 g of a ferric toluenesulfonic acid solution, 1.44 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonic acid solution, and 0.8 g of 3,4-ethylenedioxythiophene monomer was prepared. did.

【0091】この組成を用いた以外、実施の形態1と同
様にしてそれぞれ10個づつコンデンサ素子を作製し
た。このときの重合回数は、(A)が11回、(B)が
12回、及び(C)が15回であった。実施の形態1と
同様の特性評価を行い、それらの平均値を(表1)に示
した。
Except that this composition was used, ten capacitor elements were manufactured in the same manner as in the first embodiment. The number of polymerizations at this time was (A) 11 times, (B) 12 times, and (C) 15 times. The same characteristic evaluation as in the first embodiment was performed, and the average values thereof are shown in (Table 1).

【0092】(表1)に示すように、嵩の小さな酸化剤
と嵩の大きな酸化剤との組成比において、嵩の大きな酸
化剤の比率が大きい場合には、高温・高湿度下での安定
性が良く、容量達成率が低い傾向がある。また、嵩の小
さな酸化剤の比率が大きい場合でも、高温・高湿度下で
の安定性が十分得られることが判明した。
As shown in Table 1, when the ratio of the bulky oxidizing agent is large in the composition ratio of the small bulky oxidizing agent to the large bulking oxidizing agent, the composition is stable at high temperature and high humidity. And the capacity achievement ratio tends to be low. Further, it has been found that even when the ratio of the oxidizing agent having a small bulk is large, sufficient stability under high temperature and high humidity can be obtained.

【0093】(実施の形態6)実施の形態1の構成にお
いて、嵩の小さなベンゼンスルホン酸第二鉄と嵩の大き
なトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄に替え
て、ベンゼンスルホン酸第二銅とトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸第二銅(A)、及びベンゼンスルホン
酸第二ルテニウムとトリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸第二ルテニウム(B)をそれぞれ用いた以外は実施
の形態1と同様にして10個のコンデンサ素子を作製し
た。このときの重合回数は、(A)が13回、(B)が
13回であった。特性を測定した結果を前述の(表1)
に示す。
(Embodiment 6) In the structure of Embodiment 1, copper (II) benzenesulfonate and triiron (II) benzenesulfonate are replaced by ferric benzenesulfonate having a small bulk and ferric triisopropylnaphthalenesulfonate. Ten capacitor elements were formed in the same manner as in Embodiment 1 except that cupric isopropylnaphthalenesulfonate (A) and ruthenium benzenesulfonate and ruthenium triisopropylnaphthalenesulfonate (B) were used, respectively. Produced. The number of polymerizations at this time was 13 for (A) and 13 for (B). The results of measuring the characteristics are shown in Table 1 above.
Shown in

【0094】本実施の形態によれば、酸化剤として上記
のものを用いた場合にも、容量達成率は嵩の小さなド−
パントが稼ぎ、高温・高湿度下での漏れ電流特性と安定
性は嵩の大きなド−パントが稼いで、(表1)に示すよ
うに高信頼性のコンデンサを得ることができる。
According to the present embodiment, even when the above-mentioned oxidizing agent is used, the capacity achievement ratio is small.
The punt is earned, and the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity are increased by the bulky punt, and a highly reliable capacitor can be obtained as shown in Table 1.

【0095】(実施の形態7)ついで、本発明の第7の
実施の形態について説明する。
(Embodiment 7) Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.

【0096】タンタルの焼結体を電極に用いたコンデン
サの製造方法を説明する。大きさが、3.6X2.9X
1.4mmで、タンタルのリ−ド線が配された重量約9
0mgのタンタル焼結体に、まず第一化成を施す。
A method for manufacturing a capacitor using a tantalum sintered body as an electrode will be described. The size is 3.6X2.9X
1.4mm, weight of about 9 with tantalum lead wire
First, first chemical conversion is performed on 0 mg of a tantalum sintered body.

【0097】リン酸5mlを1000mlの脱イオン水
に溶解した約90℃の溶液を用い、まず5mV/sec
の速度で0から42Vまで上げ、続けて42Vの定電圧
を180分間印加し、陽極酸化により酸化皮膜誘電体層
を形成した。脱イオン水の流水により洗浄後、第二化成
として、脱イオン水を用い、約25℃で31Vを20分
間印加し、次に第三化成として、酢酸0.05mlを1
000mlの脱イオン水に溶解した溶液を用い、約25
℃で30Vを30分間印加し、第二化成と第三化成の二
段階での陽極酸化により酸化皮膜誘電体層の欠陥部分を
修復した。
Using a solution of 5 ml of phosphoric acid dissolved in 1000 ml of deionized water at about 90 ° C.,
The voltage was increased from 0 to 42 V at a speed of, and a constant voltage of 42 V was continuously applied for 180 minutes, and an oxide film dielectric layer was formed by anodic oxidation. After washing with running deionized water, 31 V is applied at about 25 ° C. for 20 minutes using deionized water as a second formation, and then 0.05 ml of acetic acid is added as a third formation in 1 ml.
Using a solution dissolved in 000 ml of deionized water, about 25
At 30 ° C., a voltage of 30 V was applied for 30 minutes to repair the defective portion of the oxide film dielectric layer by anodic oxidation in two stages of second formation and third formation.

【0098】そして、脱イオン水の流水により洗浄し
て、乾燥を行った。この構成をコンデンサと見立て、化
成液中の容量を測定したところ、68μFであった。
Then, the substrate was washed with running deionized water and dried. This configuration was regarded as a capacitor, and the capacity in the chemical conversion solution was 68 μF.

【0099】エチルアルコ−ル50gの中にチオフェン
誘導体モノマ−である3,4ーエチレンジオキシチオフ
ェン50gを混ぜ合わせ、モノマ−溶液を用意した。
A monomer solution was prepared by mixing 50 g of thiophene derivative monomer and 50 g of 3,4-ethylenedioxythiophene in 50 g of ethyl alcohol.

【0100】嵩の小さなp−トルエンスルホン酸イオン
をアニオンとする遷移金属塩のp−トルエンスルホン酸
第二鉄と、嵩の大きなトリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のトリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸第二鉄とを酸化剤に用い
た。
Ferric transition metal salt p-toluenesulfonate having a small bulk p-toluenesulfonate ion as an anion and triisopropylnaphthalene transition metal salt having a large bulky triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion Ferric sulfonate was used as the oxidizing agent.

【0101】それぞれをエタノ−ルで溶解させ、固形分
量40重量%のp−トルエンスルホン酸第二鉄溶液と、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液とを
用意した。次に、エタノ−ル50gの中に、前記p−ト
ルエンスルホン酸第二鉄溶液48gと前記トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸第二鉄溶液15gを混ぜ合わ
せてから撹拌して酸化剤溶液を用意した。
Each was dissolved in ethanol, and a solution of ferric p-toluenesulfonate having a solid content of 40% by weight was prepared.
And a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution. Next, 48 g of the ferric p-toluenesulfonate solution and 15 g of the ferric triisopropylnaphthalenesulfonate solution were mixed in 50 g of ethanol, and the mixture was stirred to prepare an oxidizing agent solution.

【0102】誘電体層が設けられたタンタル焼結体の電
極をモノマ−溶液に10分間浸漬してから、次に45℃
の温度に保たれた酸化剤溶液に20分間浸漬した。化学
重合により、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェ
ン)からなる導電層を誘電体層上に形成した。そして、
脱イオン水による流水洗浄を10分間行った後、105
℃で5分間乾燥した。導電層が所定の厚さになるまで、
モノマ−溶液への浸漬から乾燥までの重合回数を40回
繰り返した。
The electrodes of the tantalum sintered body provided with the dielectric layer were immersed in the monomer solution for 10 minutes,
For 20 minutes. A conductive layer made of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was formed on the dielectric layer by chemical polymerization. And
After washing with running water with deionized water for 10 minutes, 105
Dry at 5 ° C. for 5 minutes. Until the conductive layer reaches the specified thickness
The number of polymerizations from dipping in the monomer solution to drying was repeated 40 times.

【0103】導電層形成の後、その上に、カ−ボン層と
銀ペイント層で陰極を形成すると共に、その上に陰極リ
−ドを取り付けた。
After forming the conductive layer, a cathode was formed thereon with a carbon layer and a silver paint layer, and a cathode lead was mounted thereon.

【0104】さらに、その素子をエポキシ樹脂を用いて
外装してから、エ−ジング処理を行い、合計で10個の
コンデンサ素子を完成させた。これら10個の素子につ
いて、1kHzにおける容量、損失係数、400kHz
におけるインピ−ダンス及び定格電圧10V印加2分後
の漏れ電流を各々測定した。さらに85℃/85%雰囲
気中にさらし、10Vを印加しての、負荷耐熱・耐湿性
試験を行い、容量、損失係数、インピ−ダンス、及び漏
れ電流を測定した。それらの平均値を(表1)に示し
た。
Further, the element was packaged with an epoxy resin and then subjected to an aging treatment to complete a total of ten capacitor elements. For these 10 elements, the capacity at 1 kHz, the loss factor, 400 kHz
And the leakage current 2 minutes after application of a rated voltage of 10 V were measured. Further, the film was exposed to an atmosphere of 85 ° C./85% and subjected to a load heat / moisture resistance test at a voltage of 10 V, and the capacity, the loss coefficient, the impedance, and the leakage current were measured. The average values are shown in (Table 1).

【0105】実施の形態7では、モノマ−溶液と酸化剤
溶液の二液に分けることにより、それらの溶液の寿命を
長くできた。
In the seventh embodiment, the service life of these solutions can be extended by dividing into two solutions, namely, a monomer solution and an oxidizing agent solution.

【0106】本実施の形態によれば、嵩の小さなp−ト
ルエンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩の
p−トルエンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする
遷移金属塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第
二鉄とを酸化剤として用いてポリ(3,4−エチレンジ
オキシチオフェン)を化学重合することにより、容量達
成率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下で
の漏れ電流特性と安定性は嵩の大きなド−パントが稼い
で、(表1)に示すように高信頼性のコンデンサを得る
ことができる。
According to this embodiment, ferric p-toluenesulfonate, which is a transition metal salt having p-toluenesulfonate having a small bulk as an anion, and triisopropylnaphthalenesulfonate having a large bulk as anion. The chemical polymerization of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) using the transition metal salt triisopropylnaphthalenesulfonate and ferric oxide as an oxidizing agent leads to the achievement of a small volume bulky dopant. As for the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity, a bulky dopant can be obtained, and a highly reliable capacitor can be obtained as shown in Table 1.

【0107】(実施の形態8)20mmx20mmのア
ルミニウム平滑箔に、実施の形態1のように、酸化皮膜
誘電体を形成するのではなく、スピンコートにより、厚
さ0.5μmのポリイミド薄膜からなるポリイミド誘電
体層を形成した電極を用いた以外、実施の形態1と実質
的に同様の条件で、計10個のコンデンサ素子を作製し
た。このときの重合回数は12回であった。実施の形態
1と同様の特性評価を行い、それらの平均値を(表1)
に示した。
(Embodiment 8) Instead of forming an oxide film dielectric on a 20 mm × 20 mm aluminum smooth foil as in Embodiment 1, a polyimide made of a 0.5 μm thick polyimide thin film is formed by spin coating. A total of ten capacitor elements were manufactured under substantially the same conditions as in Embodiment 1 except that the electrode on which the dielectric layer was formed was used. The number of polymerizations at this time was 12 times. The same characteristic evaluation as in Embodiment 1 was performed, and the average value thereof was calculated (Table 1)
It was shown to.

【0108】なお、ここで得られた容量は、容量達成率
が87%であった。本実施の形態によれば、嵩の小さな
ベンゼンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩
のベンゼンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷
移金属塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二
鉄とを酸化剤として用いてポリ(3,4−エチレンジオ
キシチオフェン)を化学重合することにより、容量達成
率は嵩の小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での
漏れ電流特性と安定性は嵩の大きなド−パントが稼い
で、(表1)に示すように高信頼性のコンデンサを得る
ことができる。
The capacity obtained here was 87% in capacity achievement rate. According to the present embodiment, ferric benzenesulfonate of a transition metal salt having a small bulky benzenesulfonate ion as anion and triisopropyl of a transition metal salt having a large bulky triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion. By chemically polymerizing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) using ferric naphthalenesulfonate as an oxidizing agent, the capacity attainment rate can be improved by producing a bulky dopant under high temperature and high humidity. As for the leakage current characteristics and stability, a bulky dopant can be obtained, and a highly reliable capacitor can be obtained as shown in Table 1.

【0109】(実施の形態9)実施の形態1において、
重合溶液にさらに3,4−エチレンジオキシチオフェン
モノマ−の10重量%のp−ニトロフェノ−ルを添加し
た以外は、実施の形態1と同様にして10個のコンデン
サ素子を作製した。このときの重合回数は8回であっ
た。実施の形態1と同様の特性評価を行い、それらの平
均値を(表1)に示した。
(Embodiment 9) In the first embodiment,
Ten capacitor elements were produced in the same manner as in Embodiment 1, except that 10% by weight of p-nitrophenol of 3,4-ethylenedioxythiophene monomer was further added to the polymerization solution. At this time, the number of polymerizations was eight. The same characteristic evaluation as in the first embodiment was performed, and the average values thereof are shown in (Table 1).

【0110】p−ニトロフェノ−ルの添加により重合速
度が促進されたため、導電層形成のために必要な重合回
数の低減が見られた。
Since the polymerization rate was accelerated by the addition of p-nitrophenol, the number of polymerizations required for forming the conductive layer was reduced.

【0111】本実施の形態によれば、嵩の小さなベンゼ
ンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のベン
ゼンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属
塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄とを
酸化剤として用いて、さらに添加剤としてp−ニトロフ
ェノ−ルを用いてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ
フェン)を化学重合することにより、容量達成率は嵩の
小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での漏れ電流
特性と安定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、(表
1)に示すように高信頼性のコンデンサを容易に得るこ
とができる。
According to the present embodiment, ferric benzenesulfonate which is a transition metal salt having a small bulk benzenesulfonate ion as an anion, and a transition metal salt having a large bulk triisopropylnaphthalenesulfonate ion as an anion Of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) using ferric triisopropylnaphthalenesulfonate as an oxidizing agent and further using p-nitrophenol as an additive to achieve a capacity achievement rate. As shown in (Table 1), a large-volume dopant gains a small bulk, and a leakage current characteristic and stability under high temperature and high humidity have a large bulk. Obtainable.

【0112】(実施の形態10)実施の形態9のp−ニ
トロフェノ−ルに替えて、mーニトロフェノール
(A)、p−シアノフェノ−ル(B)、m−ヒドロキシ
安息香酸(C)、m−ヒドロキシフェノ−ル(D)、ニ
トロベンゼン(E)、pーニトロ安息香酸(F)、pー
ニトロベンジルアルコール(G)を添加した以外は、実
施の形態9と同様にして10個づつコンデンサ素子を作
製した。このときの重合回数は、(A)が8回、(B)
が9回、(C)が8回、(D)が8回、(E)が8回、
(F)が7回、及び(G)が8回であった。実施の形態
1と同様の特性評価を行い、それらの平均値を(表1)
に示した。
(Embodiment 10) Instead of p-nitrophenol of Embodiment 9, m-nitrophenol (A), p-cyanophenol (B), m-hydroxybenzoic acid (C), m-hydroxybenzoic acid (C) In the same manner as in the ninth embodiment except that hydroxyphenol (D), nitrobenzene (E), p-nitrobenzoic acid (F), and p-nitrobenzyl alcohol (G) were added, the capacitor elements were set in units of ten. Produced. The number of polymerizations at this time was (A) 8 times, (B)
9 times, (C) 8 times, (D) 8 times, (E) 8 times,
(F) was 7 times and (G) was 8 times. The same characteristic evaluation as in Embodiment 1 was performed, and the average value thereof was calculated (Table 1)
It was shown to.

【0113】いづれの添加剤の場合も、実施の形態1と
の比較から明らかなように、導電層形成のための重合回
数の低減が実現できた。
In any of the additives, as is clear from the comparison with the first embodiment, the number of times of polymerization for forming the conductive layer was reduced.

【0114】本実施の形態によれば、嵩の小さなベンゼ
ンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属塩のベン
ゼンスルホン酸第二鉄と、嵩の大きなトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸イオンをアニオンとする遷移金属
塩のトリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄とを
酸化剤として用いて、さらに添加剤として電子吸引性置
換基を有するフェノ−ル誘導体、あるいはニトロベンゼ
ン誘導体を用いてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ
フェン)を化学重合することにより、容量達成率は嵩の
小さなド−パントが稼ぎ、高温・高湿度下での漏れ電流
特性と安定性は嵩の大きなド−パントが稼いで、(表
1)に示すように高信頼性のコンデンサを容易に得るこ
とができる。
According to this embodiment, ferric benzenesulfonate, a transition metal salt having a small bulk benzenesulfonate ion as an anion, and a transition metal salt having a large bulk triisopropylnaphthalenesulfonate ion, as an anion Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) by using a ferric triisopropylnaphthalenesulfonate as an oxidizing agent and using a phenol derivative having an electron-withdrawing substituent or a nitrobenzene derivative as an additive. By chemically polymerizing the compound, the capacity achievement rate can be obtained with a small bulk dopant, and the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity can be obtained with a large bulk dopant, as shown in Table 1. Thus, a highly reliable capacitor can be easily obtained.

【0115】なお、実施の形態8では、誘電体となる高
分子として、ポリイミドを用いる場合について述べた
が、薄膜を形成できる高分子材料であればポリイミド以
外のものを用いることもでき、本発明はその種類に限定
されない。また、アルミニウム平滑箔にスピンコートで
誘電体となるポリイミド膜を形成する場合について述べ
たが、エッチドアルミニウム箔表面に例えば電着で設け
たポリイミドフィルムを誘電体としたフィルムコンデン
サの一方の電極としても適用することができ、本発明は
その形成方法に限定されない。
In the eighth embodiment, the case where polyimide is used as the polymer to be a dielectric has been described. However, any polymer material other than polyimide can be used as long as it can form a thin film. Is not limited to that type. Also, the case of forming a polyimide film to be a dielectric by spin coating on an aluminum smooth foil has been described, but as one electrode of a film capacitor using a polyimide film as a dielectric provided on an etched aluminum foil surface, for example, by electrodeposition. The present invention is not limited to the forming method.

【0116】なお実施の形態では、重合可能なモノマ−
として、3,4−エチレンジオキシチオフェンを用いた
場合についてのみ述べたが、その他の置換基を有する誘
導体を用いることもできる。
In the embodiment, a polymerizable monomer is used.
Has been described only for the case where 3,4-ethylenedioxythiophene is used, but derivatives having other substituents can also be used.

【0117】なお、上記実施の形態では、弁金属がアル
ミニウムとタンタルの場合についてのみ述べたが、その
他ジルコニウム、ニオブ、ハフニウム及びチタンさらに
はそれらの金属間化合物等も使用可能である。
In the above embodiment, only the case where the valve metal is aluminum and tantalum has been described, but zirconium, niobium, hafnium and titanium, and intermetallic compounds thereof can also be used.

【0118】なお、上記実施の形態では、コンデンサの
一方の電極にのみ導電性高分子層が形成されたコンデン
サに関してのみ述べたが、両方の電極を導電性高分子で
構成することもできる。
In the above embodiment, only the capacitor in which the conductive polymer layer is formed on only one electrode of the capacitor has been described. However, both electrodes may be formed of a conductive polymer.

【0119】[0119]

【発明の効果】以上のように本発明は、誘電体層に対向
して一対の電極を備え、前記電極の少なくても一方に、
嵩の小さな少なくとも一つのスルホン酸基を有するベン
ゼンスルホン酸イオン、少なくとも一つのアルキル基と
スルホン酸基を有するアルキルベンゼンスルホン酸イオ
ン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有するナ
フタレンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種と、
嵩の大きな少なくとも一つのアルキル基とスルホン酸基
を有するアルキルナフタレンスルホン酸イオン、あるい
は少なくとも一つのスルホン酸基を有するアントラキノ
ンスルホン酸イオンの中から少なくとも一種とがド−プ
されたポリチオフェン誘導体で構成される導電層を備え
たコンデンサ及びその製造方法を提供するものである。
As described above, the present invention comprises a pair of electrodes facing the dielectric layer, and at least one of the electrodes has
At least one of benzenesulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group having a small bulk, alkylbenzenesulfonic acid ions having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or naphthalenesulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group When,
It is composed of a polythiophene derivative in which at least one bulky alkylnaphthalenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group is doped. And a method for manufacturing the same.

【0120】容量達成率は嵩の小さなド−パントが稼
ぎ、漏れ電流特性と高温・高湿度下での安定性は嵩の大
きなド−パントが稼いで、高信頼性のコンデンサを実現
できるという有利な効果が得られる。
[0120] The capacity achievement ratio is advantageous in that a small-volume dopant gains, and the leakage current characteristics and stability under high temperature and high humidity can achieve a large-volume dopant, and a highly reliable capacitor can be realized. Effects can be obtained.

【0121】さらに、フェノール誘導体ならびにニトロ
ベンゼン誘導体を添加することにより、重合反応が促進
されるために、ポリチオフェン誘導体からなる導電層の
形成を容易にすることができるという特有の効果を奏す
るものである。
Furthermore, the addition of the phenol derivative and the nitrobenzene derivative promotes the polymerization reaction, so that the formation of the conductive layer made of the polythiophene derivative can be facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のコンデンサの一実施形態を示す図FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a capacitor of the present invention.

【図2】従来技術におけるp−トルエンスルホン酸ナト
リウムの濃度とアルミニウム陽極酸化皮膜形成能の関係
の図
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the concentration of sodium p-toluenesulfonate and the ability to form an aluminum anodic oxide film in the prior art

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミニウムエッチド箔 2 ポリイミドテープ 3 酸化皮膜誘電体層 4 導電層 5 陽極リード 6 陰極リード 7 陰極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum etched foil 2 Polyimide tape 3 Oxide film dielectric layer 4 Conductive layer 5 Anode lead 6 Cathode lead 7 Cathode

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体層に対向して一対の電極を備え、
前記電極の少なくとも一方に導電層を備えたコンデンサ
であって、 前記導電層は、少なくとも一つのスルホン酸基を有する
ベンゼンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つの
アルキル基とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンス
ルホン酸イオンの中から少なくとも一種と、少なくとも
一つのアルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフ
タレンスルホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのス
ルホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸イオンの
中から少なくとも一種とがド−プされたポリチオフェン
誘導体で構成されることを特徴とするコンデンサ。
A pair of electrodes facing the dielectric layer,
A capacitor having a conductive layer on at least one of the electrodes, wherein the conductive layer is a benzenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group, or an alkylbenzenesulfonic acid ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group. Polythiophene doped with at least one of the above, and at least one alkylnaphthalenesulfonate ion having at least one alkyl group and a sulfonic acid group, or at least one anthraquinonesulfonate ion having at least one sulfonic acid group A capacitor comprising a derivative.
【請求項2】 誘電体層に対向して一対の電極を備え、
前記電極の少なくとも一方に導電層を備えたコンデンサ
であって、 前記導電層は、少なくとも一つのスルホン酸基を有する
ナフタレンスルホン酸イオンと、少なくとも一つのアル
キル基とスルホン酸基を有するアルキルナフタレンスル
ホン酸イオン、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基
を有するアントラキノンスルホン酸イオンの中から少な
くとも一種とがド−プされたポリチオフェン誘導体で構
成されることを特徴とするコンデンサ。
A pair of electrodes opposed to the dielectric layer,
A capacitor having a conductive layer on at least one of the electrodes, wherein the conductive layer is a naphthalenesulfonic acid ion having at least one sulfonic acid group, and an alkylnaphthalenesulfonic acid having at least one alkyl group and a sulfonic acid group. A capacitor comprising a polythiophene derivative doped with ions or at least one of anthraquinone sulfonic acid ions having at least one sulfonic acid group.
【請求項3】 誘電体層が、弁金属の酸化物である請求
項1、2記載のコンデンサ。
3. The capacitor according to claim 1, wherein the dielectric layer is an oxide of a valve metal.
【請求項4】 弁金属が、アルミニウムもしくはタンタ
ルである請求項1から3記載のコンデンサ。
4. The capacitor according to claim 1, wherein the valve metal is aluminum or tantalum.
【請求項5】 誘電体層が、高分子膜である請求項1、
2記載のコンデンサ。
5. The method according to claim 1, wherein the dielectric layer is a polymer film.
2. The capacitor according to 2.
【請求項6】 高分子膜がポリイミド膜である請求項5
記載のコンデンサ。
6. The polymer film according to claim 5, wherein the polymer film is a polyimide film.
The capacitor as described.
【請求項7】 ポリチオフェン誘導体がポリ(3,4−
エチレンジオキシチオフェン)である請求項1から6記
載のコンデンサ。
7. The polythiophene derivative is poly (3,4-
7. The capacitor according to claim 1, wherein said capacitor is ethylenedioxythiophene.
【請求項8】 誘電体層を用意する工程と、 チオフェン誘導体モノマ−を用意する工程と、 少なくとも一つのスルホン酸基を有するベンゼンスルホ
ン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのアルキル基
とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンスルホン酸遷
移金属塩の中から少なくとも一種と、少なくとも一つの
アルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフタレン
スルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのスル
ホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸遷移金属塩
の中から少なくとも一種とからなる酸化剤を用意する工
程と、 前記誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合性モ
ノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性高分
子からなる導電層を形成する工程とを有するコンデンサ
の製造方法。
8. A step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, and a step of preparing a transition metal salt of benzenesulfonic acid having at least one sulfonic acid group, or at least one alkyl group and a sulfonic acid group. At least one of alkyl benzene sulfonic acid transition metal salts having at least one alkyl group and an alkyl naphthalene sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group or at least one anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group A step of preparing an oxidizing agent comprising at least one from: a conductive layer made of a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent on at least one of the surfaces of the dielectric layer. Forming a capacitor.
【請求項9】 誘電体層を用意する工程と、 チオフェン誘導体モノマ−を用意する工程と、 少なくとも一つのスルホン酸基を有するナフタレンスル
ホン酸遷移金属塩と、少なくとも一つのアルキル基とス
ルホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸遷移
金属塩、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有す
るアントラキノンスルホン酸遷移金属塩の中から少なく
とも一種とからなる酸化剤を用意する工程と、 前記誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合性モ
ノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性高分
子からなる導電層を形成する工程とを有するコンデンサ
の製造方法。
9. A step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, a step of preparing a transition metal salt of naphthalene sulfonic acid having at least one sulfonic acid group, at least one alkyl group and a sulfonic acid group. Preparing an oxidizing agent comprising at least one of an alkylnaphthalene sulfonic acid transition metal salt having, or an anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group, and at least one of the surfaces of the dielectric layer Forming a conductive layer made of a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent.
【請求項10】 誘電体層が、弁金属の酸化物である請
求項8、9記載のコンデンサの製造方法。
10. The method according to claim 8, wherein the dielectric layer is an oxide of a valve metal.
【請求項11】 弁金属が、アルミニウムもしくはタン
タルである請求項8から10記載のコンデンサの製造方
法。
11. The method according to claim 8, wherein the valve metal is aluminum or tantalum.
【請求項12】 誘電体層が、高分子膜である請求項
8、9記載のコンデンサの製造方法。
12. The method according to claim 8, wherein the dielectric layer is a polymer film.
【請求項13】 高分子膜がポリイミド膜である請求項
12記載のコンデンサの製造方法。
13. The method according to claim 12, wherein the polymer film is a polyimide film.
【請求項14】 ポリチオフェン誘導体がポリ(3,4
−エチレンジオキシチオフェン)である請求項8から1
3記載のコンデンサの製造方法。
14. The polythiophene derivative is poly (3,4).
-Ethylenedioxythiophene).
3. The method for manufacturing a capacitor according to 3.
【請求項15】 遷移金属が鉄(III)、銅(II)また
はルテニウム(III)である請求項8から14記載のコ
ンデンサの製造方法。
15. The method according to claim 8, wherein the transition metal is iron (III), copper (II) or ruthenium (III).
【請求項16】 誘電体層を用意する工程と、 チオフェン誘導体モノマ−を用意する工程と、 少なくとも一つのスルホン酸基を有するベンゼンスルホ
ン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのアルキル基
とスルホン酸基を有するアルキルベンゼンスルホン酸遷
移金属塩の中から少なくとも一種と、少なくとも一つの
アルキル基とスルホン酸基を有するアルキルナフタレン
スルホン酸遷移金属塩、あるいは少なくとも一つのスル
ホン酸基を有するアントラキノンスルホン酸遷移金属塩
の中から少なくとも一種とからなる酸化剤を用意する工
程と、 フェノ−ル誘導体またはニトロベンゼン誘導体から選ば
れる添加剤を用意する工程と、 前記誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合性モ
ノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性高分
子からなる導電層を形成する工程とを有するコンデンサ
の製造方法。
16. A step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, and a step of preparing a transition metal salt of benzene sulfonic acid having at least one sulfonic acid group or at least one alkyl group and a sulfonic acid group. At least one of alkyl benzene sulfonic acid transition metal salts having at least one alkyl group and an alkyl naphthalene sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group or at least one anthraquinone sulfonic acid transition metal salt having at least one sulfonic acid group A step of preparing an oxidizing agent comprising at least one of the following: a step of preparing an additive selected from a phenol derivative or a nitrobenzene derivative; and the step of preparing the polymerizable monomer on at least one of the surfaces of the dielectric layer. Conductivity chemically polymerized using oxidants Method of manufacturing the capacitor and a step of forming a conductive layer made of molecules.
【請求項17】 誘電体層を用意する工程と、 チオフェン誘導体モノマ−を用意する工程と、 少なくとも一つのスルホン酸基を有するナフタレンスル
ホン酸遷移金属塩と、少なくとも一つのアルキル基とス
ルホン酸基を有するアルキルナフタレンスルホン酸遷移
金属塩、あるいは少なくとも一つのスルホン酸基を有す
るアントラキノンスルホン酸遷移金属塩の中から少なく
とも一種とからなる酸化剤を用意する工程と、 フェノ−ル誘導体またはニトロベンゼン誘導体から選ば
れる添加剤を用意する工程と、 前記誘電体層の表面の少なくとも一方に、前記重合性モ
ノマ−を前記酸化剤を用いて化学重合された導電性高分
子からなる導電層を形成する工程とを有するコンデンサ
の製造方法。
17. A step of preparing a dielectric layer, a step of preparing a thiophene derivative monomer, a step of preparing a transition metal salt of naphthalenesulfonic acid having at least one sulfonic acid group, and a step of preparing at least one alkyl group and a sulfonic acid group. Preparing an oxidizing agent comprising at least one of a transition metal salt of an alkylnaphthalenesulfonic acid having at least one or a transition metal salt of anthraquinonesulfonic acid having at least one sulfonic acid group; and a phenol derivative or a nitrobenzene derivative. A step of preparing an additive; and a step of forming a conductive layer of a conductive polymer obtained by chemically polymerizing the polymerizable monomer using the oxidizing agent on at least one of the surfaces of the dielectric layer. Manufacturing method of capacitor.
【請求項18】 フェノール誘導体が、ニトロフェノー
ル、シアノフェノール、ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキ
シフェノールである請求項16、17記載のコンデンサ
の製造方法。
18. The method according to claim 16, wherein the phenol derivative is nitrophenol, cyanophenol, hydroxybenzoic acid, or hydroxyphenol.
【請求項19】 ニトロベンゼン誘導体がニトロベンゼ
ン、ニトロ安息香酸、ニトロベンジルアルコールである
請求項16、17記載のコンデンサの製造方法。
19. The method according to claim 16, wherein the nitrobenzene derivative is nitrobenzene, nitrobenzoic acid, or nitrobenzyl alcohol.
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