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JPH11316928A - スライダの製造方法および装置 - Google Patents

スライダの製造方法および装置

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Publication number
JPH11316928A
JPH11316928A JP10123716A JP12371698A JPH11316928A JP H11316928 A JPH11316928 A JP H11316928A JP 10123716 A JP10123716 A JP 10123716A JP 12371698 A JP12371698 A JP 12371698A JP H11316928 A JPH11316928 A JP H11316928A
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JP
Japan
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slider
facing surface
medium facing
support plate
tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10123716A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuya Harada
達也 原田
Yoshitaka Sasaki
芳高 佐々木
Kunimasa Nakada
国正 中田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP10123716A priority Critical patent/JPH11316928A/ja
Priority to US09/391,199 priority patent/US6374479B1/en
Priority to CN99121301.7A priority patent/CN1196106C/zh
Publication of JPH11316928A publication Critical patent/JPH11316928A/ja
Priority to US10/011,720 priority patent/US6757964B2/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 特性のよいスライダを精度よく製造すること
を可能にすると共に、生産効率および洗浄性を向上させ
る。 【解決手段】 スライダ部分が1列に配列されたバーを
製造する製造方法では、まず、スライダ部分が複数列に
配列されたウェハより、ウェハブロック21を形成し、
サポート板22上に、ウェハブロック21とダミーブロ
ック23を接合する。次に、サポート板22に接合され
たウェハブロック21の媒体対向面側における一列分の
スライダ部分の媒体対向面に対して所定の加工を施す加
工工程と、媒体対向面に対して所定の加工が施された一
列分のスライダ部分がウェハブロック21より分離され
てバーとなるように、ウェハブロック21とサポート板
22とを切断する切断工程とを繰り返し実行する。切断
の際には、媒体対向面21aを保護するために、媒体対
向面21aにテープ24を貼り付けておく。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜磁気ヘッド等
に用いられるスライダの製造方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスク装置等に用いられる浮上型
薄膜磁気ヘッドは、一般的に、後端部に薄膜磁気ヘッド
素子が形成された薄膜磁気ヘッドスライダ(以下、単に
スライダとも言う。)によって構成されるようになって
いる。スライダは、一般的に、表面が媒体対向面(エア
ベアリング面)となるレール部を有すると共に、空気流
入側の端部近傍にテーパ部またはステップ部を有し、テ
ーパ部またはステップ部より流入する空気流によってレ
ール部が磁気ディスク等の記録媒体の表面からわずかに
浮上するようになっている。
【0003】また、薄膜磁気ヘッド素子としては、書き
込み用の誘導型磁気変換素子と読み出し用の磁気抵抗
(以下、MR(Magneto Resistive )と記す。)素子と
を積層した構造の複合型の薄膜磁気ヘッド素子が広く用
いられている。
【0004】薄膜磁気ヘッドスライダは、一般に、それ
ぞれ薄膜磁気ヘッド素子を含むスライダとなる部分(以
下、スライダ部分と言う。)が複数列に配列されたウェ
ハを一方向に切断して、スライダ部分が一列に配列され
たバーと呼ばれるブロックを形成し、このバーに対して
レール部を形成した後に、バーを切断して各スライダに
分離することによって製造される。
【0005】このようなスライダの製造工程には、バー
の媒体対向面に対して研削(グラインディング)や研磨
(ラッピング)等の加工を施す媒体対向面の加工工程
と、ウェハよりバーを切り出すバー切断工程とが含まれ
る。なお、バーの媒体対向面の加工工程とバー切断工程
の順序は、後で説明するように、バーの媒体対向面の加
工およびウェハからのバーの切り出しの方法によって異
なる。
【0006】媒体対向面の加工工程では、バーに含まれ
る薄膜磁気ヘッド素子におけるMRハイトやスロートハ
イトを全て許容範囲内に収める必要があると共に、被加
工面の加工精度を所定の許容範囲内に収める必要があ
る。なお、MRハイトとは、MR素子の媒体対向面側の
端部から反対側の端部までの長さ(高さ)を言う。ま
た、スロートハイトとは、誘導型磁気変換素子におい
て、媒体対向面から、誘導型磁気変換素子における磁極
部分の長さ(高さ)を言う。
【0007】ところで、従来、バーの媒体対向面の加工
およびウェハからのバーの切り出しは、次のような方法
で行われることが多かった。その方法とは、ウェハか
ら、一列分のスライダ部分を含むバーを切り出し、この
バーにおける媒体対向面とは反対側の面を所定の治具に
接着することによりバーを治具に固定し、この治具に固
定されたバーにおける媒体対向面の加工を行うというも
のである。以下、この方法を第1の方法と言う。
【0008】また、従来、バーの媒体対向面の加工およ
びウェハからのバーの切り出しの方法としては、上述の
第1の方法の他に、以下に示すような第2または第3の
方法が提案されていた。
【0009】第2の方法は、例えば米国特許第5,40
6,694号の第7図に示されるように、ウェハから、
数列分のスライダ部分を含む所定の長さのブロックを切
り出し、このブロックにおける媒体対向面とは反対側の
面を所定の治具に接着することによりブロックを治具に
固定し、この治具に固定されたブロックにおける媒体対
向面の加工を行った後、ブロックより、媒体対向面の加
工が済んだバーを切り出すというものである。
【0010】第3の方法は、例えば特開平4−2895
11号公報の図3に示されるように、ウェハを所定の治
具に固定し、この治具に取り付けられたウェハにおける
媒体対向面の加工を行った後、ウェハより、媒体対向面
の加工が済んだバーを切り出すというものである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上述の各種の方法のう
ち、第1の方法は、ウェハより1列分のスライダ部分を
含むバーを切り出し、このバーを治具に固定し、バー単
位で媒体対向面の加工を行うので、バーが、治具との間
の接着面の状態や接着による歪みの影響を受けて、湾曲
等の変形を生じやすい。そのため、バーの被加工面の加
工精度の劣化や、バー内における薄膜磁気ヘッド素子を
形成する各層(パターン)の湾曲等の変形が生じ易いと
共に、MR素子の抵抗値およびMRハイトや、スロート
ハイトを精度よく制御することが難しくなり、特性のよ
い薄膜磁気ヘッドスライダを精度よく製造することが難
しいという問題点がある。
【0012】これに対し、第2および第3の各方法で
は、ウェハより切り出された後のバーを、独立した状態
で、治具に固定する工程がないので、上述の問題は低減
される。しかしながら、これらの各方法では、媒体対向
面に対する加工を行った後に、媒体対向面が露出した状
態で、ウェハやブロックの切断を行うため、この切断時
に、水溶性研削液によって磁極部分が腐食したり、媒体
対向面にごみが付着したり、媒体対向面に機械的な傷
(スクラッチ)が発生したりする場合があるという問題
点がある。更に、切断後のバーの取り扱い時に、バーに
欠け(チッピング)が発生する場合があるという問題点
もある。従って、やはり、特性のよい薄膜磁気ヘッドス
ライダを精度よく製造することが難しいという問題点が
ある。
【0013】そこで、ウェハやブロックの切断時に、ウ
ェハやブロックの媒体対向面に専用治具を、熱硬化性樹
脂や熱可塑性接着剤等の結合剤によって接着する方法も
ある。しかしながら、この方法では、ウェハやブロック
の切断の度に、切断前にウェハやブロックの媒体対向面
と専用の治具とを接着したり、切断後に専用の治具から
バーを剥離する必要があり、これらの接着や剥離の作業
が煩雑であると共に、時間が余分に必要となり、生産効
率が悪いという問題点がある。更に、この方法では、媒
体対向面に結合剤の残り(糊残り)発生し、洗浄性(洗
浄の効率および洗浄後の状態)が悪いという問題点があ
る。また、この方法では、切断後に専用の治具からバー
を剥離する必要があるため、切断後のバーに対する処理
の自動化が困難になるという問題点がある。
【0014】また、第3の方法では、バーの切断毎に、
ウェハと治具との固定および分離の工程が必要となり、
作業が煩雑で、生産効率が悪いという問題点もある。
【0015】更に、従来のスライダの製造方法では、人
のハンドリング等によって、スライダ、特にスライダ内
の薄膜磁気ヘッド素子の静電破壊を引き起こす場合があ
るという問題点があった。
【0016】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、特性のよいスライダを精度よく製造
することを可能にすると共に、生産効率および洗浄性を
向上できるスライダの製造方法および装置を提供するこ
とにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のスライダの製造
方法は、媒体対向面を有するスライダとなる部分が複数
列に配列された素材より、スライダとなる部分が一列に
配列され、媒体対向面に対して所定の加工が施されたス
ライダ集合体を製造するスライダの製造方法であって、
素材の一端側における一列分のスライダとなる部分の媒
体対向面に対して所定の加工を施す加工工程と、媒体対
向面に対して所定の加工が施された一列分のスライダと
なる部分が素材より分離されてスライダ集合体となるよ
うに、媒体対向面を帯状の保護部材によって覆った状態
で、素材を切断する切断工程とを備えたものである。
【0018】このスライダの製造方法では、加工工程に
よって、素材の一端側における一列分のスライダとなる
部分の媒体対向面に対して所定の加工が施され、切断工
程によって、媒体対向面に対して所定の加工が施された
一列分のスライダとなる部分が素材より分離されてスラ
イダ集合体となるように、媒体対向面を帯状の保護部材
によって覆った状態で、素材が切断されて、スライダ集
合体が製造される。
【0019】本発明のスライダの製造方法では、保護部
材を、粘着力を有するテープとし、切断工程が、素材の
切断に先立って、素材の媒体対向面に保護部材を接着す
る工程を含むようにしてもよい。この場合には、スライ
ダの製造方法が、更に、切断工程実行後のスライダ集合
体より保護部材を剥離する工程を備えていてもよい。ま
た、保護部材を剥離する工程では、保護部材の粘着力を
低下させた後に、スライダ集合体より保護部材を剥離す
るようにしてもよい。
【0020】本発明のスライダの製造方法では、保護部
材を、導電性物質を含むテープとしてもよい。この場合
には、導電性物質を含むテープからなる保護部材によっ
て、スライダの静電破壊が防止される。
【0021】本発明のスライダの製造方法では、保護部
材を、粘着力を有しないテープとし、切断工程が、素材
の切断に先立って、保護部材が介挿された状態で、素材
の媒体対向面を保持する工程を含むようにしてもよい。
【0022】本発明のスライダの製造方法では、保護部
材を、フォトレジスト材料よりなるレジスト層を含むよ
うにしてもよい。この場合には、スライダの製造方法
が、更に、切断工程実行後のスライダ集合体の媒体対向
面に対して、保護部材のレジスト層を用いたエッチング
用マスクを形成し、このエッチング用マスクを用いて、
媒体対向面に対するエッチングを行う工程を備えていて
もよい。
【0023】本発明のスライダの製造方法では、加工工
程は、例えば、媒体対向面の研磨を含んでいる。
【0024】本発明のスライダの製造方法では、スライ
ダとなる部分は、例えば、薄膜磁気ヘッド素子を含んで
いる。
【0025】本発明のスライダの製造装置は、媒体対向
面を有するスライダとなる部分が複数列に配列された素
材より、スライダとなる部分が一列に配列され、媒体対
向面に対して所定の加工が施されたスライダ集合体を製
造するスライダの製造装置であって、一端側における一
列分のスライダとなる部分の媒体対向面に対して所定の
加工が施された後の素材を、媒体対向面を帯状の保護部
材によって覆った状態で保持する保持手段と、媒体対向
面に対して所定の加工が施された一列分のスライダとな
る部分が素材より分離されてスライダ集合体となるよう
に、媒体対向面を帯状の保護部材によって覆った状態
で、保持手段によって保持された素材を切断する切断手
段とを備えたものである。
【0026】このスライダの製造装置では、保持手段に
よって、一端側における一列分のスライダとなる部分の
媒体対向面に対して所定の加工が施された後の素材が、
媒体対向面を帯状の保護部材によって覆った状態で保持
され、切断手段によって、媒体対向面に対して所定の加
工が施された一列分のスライダとなる部分が素材より分
離されてスライダ集合体となるように、媒体対向面を帯
状の保護部材によって覆った状態で、保持手段によって
保持された素材が切断される。
【0027】本発明のスライダの製造装置では、保持手
段は、例えば、素材を保持する素材保持部と、保護部材
を保持する保護部材保持部とを有している。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。始めに、図1を参照
して、本発明の一実施の形態に係るスライダの製造方法
および装置について簡単に説明する。図1は、本実施の
形態に係るスライダの製造装置としてのスライダの加工
装置を示す斜視図である。
【0029】本実施例に係るスライダの製造方法は、そ
れぞれ薄膜磁気ヘッド素子を含むと共に媒体対向面を有
するスライダとなる部分(以下、スライダ部分と言
う。)が複数列に配列された素材としてのウェハブロッ
ク21より、スライダ部分が一列に配列され、媒体対向
面に対して所定の加工が施されたスライダ集合体として
のバー51を製造する方法である。本実施例に係るスラ
イダの製造方法は、第1の工程と第2の工程とを備えて
いる。
【0030】第1の工程では、まず、スライダ部分が複
数列に配列されたウェハより、ウェハブロック21を形
成する。次に、ウェハブロック21における全てのスラ
イダ部分の一面を含む面のうち、薄膜磁気ヘッド素子が
形成されている面とは反対側の面に対して、ウェハブロ
ック21における全てのスライダ部分を支持するための
支持部材としてのサポート板22を接合する。また、第
1の工程では、ウェハブロック21における媒体対向面
とは反対側に、ウェハブロック21を補助的に支持する
ための補助支持部材としてのダミーブロック23を配置
し、ウェハブロック21における媒体対向面とは反対側
の面とダミーブロック23とを接合すると共に、サポー
ト板22とダミーブロック23とを接合する。
【0031】第2の工程は、サポート板22に接合され
たウェハブロック21の媒体対向面側における一列分の
スライダ部分の媒体対向面に対して所定の加工を施す加
工工程と、媒体対向面に対して所定の加工が施された一
列分のスライダ部分がウェハブロック21より分離され
てバー51となるように、ウェハブロック21とサポー
ト板22とを一緒に切断する切断工程とを含み、加工工
程および切断工程を繰り返し実行する。
【0032】図1に示したスライダの加工装置は、上記
第2の工程中の切断工程の実施に使用される装置であ
る。この加工装置は、ウェハブロック21の切断作業を
行う切断機構部1と、ウェハブロック21より分離され
たバー51の収納作業を行う収納部2とを備えている。
【0033】切断機構部1は、装置本体3と、この装置
本体3の上部に設けられ、左右方向に延びるガイドレー
ル4と、図示しない駆動装置によって駆動され、ガイド
レール4に沿って移動可能な可動部5と、この可動部5
上に設けられ、ウェハブロック21が接合されたサポー
ト板22を吸着して保持するためのサポート板保持部6
と、このサポート板保持部6上の一側部側に設け、ウェ
ハブロック21とサポート板22とを一緒に切断する際
にウェハブロック21における媒体対向面に貼り付けら
れる保護部材としてのテープ24を吸着して保持するた
めのテープ保持部7と、ウェハブロック21とサポート
板22とを一緒に切断するための切断手段としての切断
ブレード8と、この切断ブレード8の回転軸8aを支持
するブレード支持部9とを備えている。ブレード支持部
9内には、切断ブレード8の回転軸8aを回転させるた
めの図示しないモータが設けられている。また、サポー
ト板保持部6には、サポート板22を吸引するために用
いられる吸引用管10が接続されている。
【0034】サポート板保持部6およびテープ保持部7
は、本発明における保持手段に対応し、サポート板保持
部6は、本発明における素材保持部に対応し、テープ保
持部7は、本発明における保護部材保持部に対応する。
【0035】収納部2は、ベース部11と、このベース
部11上に設けられ、トレイ13が載置されると共に、
図示しない駆動装置によって駆動されて前後方向に移動
可能なトレイ台12と、ウェハブロック21より分離さ
れたバー51をトレイ13に収納するバキュームピンセ
ット14と、ベース部11上に設けられ、バキュームピ
ンセット14を上下左右方向に移動させる駆動装置15
とを備えている。バキュームピンセット14には、吸引
用管16が接続されている。
【0036】次に、図2の流れ図を参照して、本実施例
に係るスライダの製造方法について説明する。本実施例
に係るスライダの製造方法では、まず、それぞれ薄膜磁
気ヘッド素子を含むスライダ部分が複数列に配列された
ウェハより、ウェハブロック21を形成し(ステップS
101)、次に、このウェハブロック21をサポート板
22に接合する(ステップS102)。次に、サポート
板22に接合されたウェハブロック21の媒体対向面側
における一列分のスライダ部分の媒体対向面に対して所
定の加工を施し(ステップS103)、媒体対向面に対
して所定の加工が施された一列分のスライダ部分がウェ
ハブロック21より分離されてバー51となるように、
ウェハブロック21とサポート板22とを一緒に切断す
る(ステップS104)。次に、ウェハブロック21の
残りがあるか否かを判断し(ステップS105)、残り
がある場合(Y)には、ステップS103に戻り、残り
がない場合(N)には、バー51の製造に関する処理を
終了する。図2において、ステップS101およびステ
ップS102は、第1の工程に対応し、ステップS10
3ないしステップS105は、第2の工程に対応する。
【0037】以下、図2における各工程について、順
に、詳しく説明する。
【0038】まず、図3を参照して、ウェハブロック2
1を形成する工程(図2のステップS101)について
説明する。図3は、それぞれ薄膜磁気ヘッド素子18を
含むスライダ部分が複数列に配列されたウェハ20を示
している。このウェハ20の主要な部分は、例えばアル
ティック(Al2 3 ・TiC)によって形成され、薄
膜磁気ヘッド素子18を囲う一部分が、例えばアルミナ
(Al2 3 )によって形成されている。本実施例で
は、ウェハ20を切断して、スライダ部分が複数列に配
列された複数のウェハブロック21を形成する。各ウェ
ハブロック21は、全てのスライダ部分の一面を含む面
(図3に現れている面)が矩形の板状をなしている。な
お、本実施の形態において、ウェハブロック21に含ま
れるスライダ部分の列数は、2以上であればよいが、4
以上が好ましく、10〜20の範囲内がより好ましい。
【0039】次に、図4ないし図9を参照して、ウェハ
ブロック21をサポート板22に接合する工程(図2の
ステップS102)について説明する。この工程では、
図4(a)に示したように、ウェハブロック21と、ウ
ェハブロック21における全てのスライダ部分を支持す
るためのサポート板22と、ウェハブロック21を補助
的に支持するためのダミーブロック23とを用意し、図
4(b)に示したように、これらを互いに接合する。具
体的には、サポート板22上に、ウェハブロック21に
おける全てのスライダ部分の一面を含む面がサポート板
22の上面と対向するようにウェハブロック21を配置
すると共に、サポート板22上において、ウェハブロッ
ク21における媒体対向面21aとは反対側にダミーブ
ロック23を配置し、ウェハブロック21とサポート板
22の互いに対向する面同士、ウェハブロック21とダ
ミーブロック23の互いに対向する面同士、およびダミ
ーブロック23とサポート板22の互いに対向する面同
士を、それぞれ接着剤によって接合する。なお、ウェハ
ブロック21は、サポート板22に接合する際、薄膜磁
気ヘッド素子18が形成された面とは反対側の面がサポ
ート板22に対向するように配置する。
【0040】ここで、サポート板22は、ウェハブロッ
ク21における全てのスライダ部分を支持する必要があ
るため、ウェハブロック21における各列のスライダ部
分の配列方向についての幅が、ウェハブロック21の幅
以上である必要がある。特に、サポート板22の幅は、
ウェハブロック21の幅よりも大きいことが好ましい。
これは、サポート板22の幅が、ウェハブロック21の
幅よりも大きいと、サポート板22に接合された状態の
ウェハブロック21に所定の加工を施す際に、ウェハブ
ロック21に直接触れることなく、サポート板22を介
して、治具にウェハブロック21を固定することが可能
になる等、ウェハブロック21の取り扱いが容易になる
からである。サポート板22の幅は、ウェハブロック2
1の幅に対して、片側について少なくとも2〜3mm程
度、全体で少なくとも4〜6mm程度大きいのが好まし
い。サポート板22の厚みは、強度や取り扱いの容易さ
等を考慮して適宜に設定される。
【0041】また、サポート板22の材質は、サポート
板22がウェハブロック21と一緒に切断されることを
考慮すると、精度よく切断可能なセラミックスが好まし
い。また、ウェハブロック21とサポート板22とは、
広い面積で接して接合され、接着剤として熱可塑性の接
着剤を用いる場合にはウェハブロック21とサポート板
22が加熱されることから、サポート板22の材質は、
ウェハブロック21と熱膨張率が近いものが好ましく、
特に、ウェハブロック21の主要な部分と同じ材質すな
わち例えばアルティックであることが好ましい。また、
被加工物によって切断時の条件が異なるので、サポート
板22の材質がウェハブロック21の主要な部分と同じ
材質であると、切断時の条件の設定が容易になり、この
点からも、サポート板22の材質がウェハブロック21
の主要な部分と同じ材質であることが好ましい。
【0042】一方、ダミーブロック23は、ウェハブロ
ック21における各列のスライダ部分の配列方向につい
ての幅が、ウェハブロック21の幅に近ければよいが、
取り扱いの容易さから、特に、ウェハブロック21の幅
と等しいことが好ましい。また、ダミーブロック23の
厚みは、ウェハブロック21の同程度が好ましい。
【0043】ウェハブロック21は、図3に示したよう
に、円形のウェハ20より切り出されるため、図5
(a)に示したように幅の大きいものや、図5(b)に
示したように幅の小さいものが存在する。そこで、ウェ
ハブロック21の幅に合わせて、幅の異なる複数のダミ
ーブロック23を用意しておき、図5(a),(b)に
示したように、ウェハブロック21の幅と等しい幅のダ
ミーブロック23を、ウェハブロック21に対して接合
するのが好ましい。
【0044】また、ダミーブロック23の材質は、ある
程度の強度を持った変形しにくい材質であればよいが、
精度よく形成可能なセラミックス、例えばアルティッ
ク、アルミナ、ジルコニア(ZrO2 )等が好ましい。
接着剤として熱可塑性の接着剤を用いる場合にはウェハ
ブロック21とダミーブロック23が加熱されることか
ら、ダミーブロック23の材質は、ウェハブロック21
と熱膨張率が近いものが好ましく、特に、ウェハブロッ
ク21の主要な部分と同じ材質すなわち例えばアルティ
ックであることが好ましい。
【0045】次に、図6および図7を参照して、ウェハ
ブロック21、サポート板22およびダミーブロック2
3の接合作業時における位置決めの方法の一例について
説明する。図6は、ウェハブロック21、サポート板2
2およびダミーブロック23の接合作業時の状態を示す
平面図、図7は図6のA−A′線断面図である。この例
では、ウェハブロック21、サポート板22およびダミ
ーブロック23の位置決め用の台32を用いている。こ
の台32の上には、ウェハブロック21における各列の
スライダ部分の配列方向に直交する方向についてのウェ
ハブロック21とサポート板22の位置を規定する規定
部33と、スライダ部分の配列方向についてのウェハブ
ロック21とダミーブロック23の位置を規定する規定
部34,34とが設けられている。
【0046】ウェハブロック21、サポート板22およ
びダミーブロック23を固定する際には、これらにおけ
る互いに接合する面の少なくとも一方に、接着剤を塗布
した後、図6および図7に示したように、台32の上
に、サポート板22を載置し、このサポート板22の上
に、ウェハブロック21およびダミーブロック23を載
置する。そして、スライダ部分の配列方向に直交する方
向についてのウェハブロック21とサポート板22の端
部を、規定部33に突き当てると共に、スライダ部分の
配列方向についてのウェハブロック21とダミーブロッ
ク23の各端部を、それぞれ、規定部34,34に突き
当てる。これにより、スライダ部分の配列方向に直交す
る方向についてのウェハブロック21とサポート板22
の端部の位置が揃えられると共に、スライダ部分の配列
方向についてのウェハブロック21とダミーブロック2
3の端部の位置が揃えられ、この状態で、ウェハブロッ
ク21、サポート板22およびダミーブロック23が互
いに接合される。なお、図7に示したように、規定部3
3は、ウェハブロック21の端部およびサポート板22
の端部に当接する位置に配置されていると共に、ウェハ
ブロック21とサポート板22に当接する端部におい
て、ウェハブロック21とサポート板22の境界部分に
対応する部分に、接着剤を逃がすための溝部33aが形
成されている。一方、規定部34,34は、サポート板
22には接触せずに、それぞれウェハブロック21の端
部とダミーブロック23の端部にのみ接触する位置に配
置されている。
【0047】ここで、ウェハブロック21、サポート板
22およびダミーブロック23の接合のための接着剤と
しては、ウェハブロック21、サポート板22およびダ
ミーブロック23の材質等に応じて、熱可塑性の接着剤
やシアノアクリル系の接着剤等が適宜選択されて使用さ
れる。
【0048】次に、図8および図9を参照して、サポー
ト板22およびダミーブロック23の表面の形状の一例
について説明する。図8において、(a)はサポート板
22の平面図、(b)はサポート板22の側面図であ
る。また、図9において、(a)はダミーブロック23
の平面図、(b)はダミーブロック23の側面図であ
る。これらの図に示したように、本例では、サポート板
22におけるウェハブロック21と接合される面には、
ウェハブロック21との接合用の接着剤を逃がすための
溝36が複数本形成されている。また、ダミーブロック
23におけるウェハブロック21と接合される面には、
ウェハブロック21との接合用の接着剤を逃がすための
溝37が複数本形成されている。
【0049】これらの溝36,37を設けることによ
り、ウェハブロック21とサポート板22との間、およ
びウェハブロック21とダミーブロック23との間の接
着剤の層を薄くすることができ、接合された状態のウェ
ハブロック21、サポート板22およびダミーブロック
23の強度を向上させることができる。
【0050】ここで、サポート板22上の溝36は、ウ
ェハブロック21における各列のスライダ部分の配列方
向に直交する方向に延びるように形成するのが好まし
い。それは、このように溝36を形成することにより、
ウェハブロック21よりバー51を切り出した後に、各
バー51について、バー51とサポート板22の断片と
の間の接合面積が均一になるからである。
【0051】また、サポート板22上の複数本の溝36
は、ウェハブロック21における各列のスライダ部分の
配置のピッチと等しいピッチで形成するのが好ましい。
更に、このように形成された溝36が、ウェハブロック
21中の各列における隣接するスライダ部分間の分離位
置に配置されるように、ウェハブロック21とサポート
板22とを位置決めするのが好ましい。これは、このよ
うにすることにより、各スライダ部分について、スライ
ダ部分とサポート板22との間の接合面積が均一になる
からである。なお、各列のスライダ部分の配置のピッチ
は、例えば1mm程度である。
【0052】ダミーブロック23上の複数本の溝37
は、サポート板22上の複数本の溝36と同様に、ウェ
ハブロック21における各列のスライダ部分の配置のピ
ッチと等しいピッチで形成するのが好ましく、更に、こ
のように形成された溝37が、ウェハブロック21中の
各列における隣接するスライダ部分間の分離位置に配置
されるように、ウェハブロック21とダミーブロック2
3とを位置決めするのが好ましい。
【0053】各溝36,37の深さおよび幅は、共に、
0.1〜0.2mm程度が好ましい。
【0054】次に、図10および図11を参照して、サ
ポート板22に接合されたウェハブロック21の媒体対
向面側における一列分のスライダ部分の媒体対向面に対
して所定の加工を施す工程(図2のステップS103)
について説明する。この工程では、研削装置を用いた研
削(グラインディング)や、研磨装置を用いた研磨(ラ
ッピング)等を行い、最終的にはMR素子の抵抗値およ
びMRハイトや、スロートハイトを正確に規定する。
【0055】本実施の形態では、上記工程を行う際に
は、図10に示したように、一体化されたウェハブロッ
ク21、サポート板22およびダミーブロック23を、
加工用の治具としてのホルダ38に対して固定する。こ
の固定の際には、例えばクランプ(締め付け具)39,
39を用いて、サポート板22を保持するようにする。
これにより、ウェハブロック21に直接振れることな
く、ウェハブロック21をホルダ38に固定することが
できる。
【0056】図11は、ウェハブロック21の媒体対向
面側における一列分のスライダ部分の媒体対向面を研磨
する工程を簡単に示したものである。この工程では、図
10に示したようにウェハブロック21、サポート板2
2およびダミーブロック23が固定されたホルダ38
は、研磨装置における被研磨物の保持部40に取り付け
られ、研磨定盤41上に配置され、回転する研磨定盤4
1によって、ウェハブロック21の媒体対向面側におけ
る一列分のスライダ部分の媒体対向面が研磨される。こ
の研磨の際には、MR素子の抵抗値およびMRハイト
や、スロートハイトを正確に規定するために、電気的ラ
ッピングガイドや光学的ラッピングガイドを用いて研磨
量が制御される。
【0057】次に、図12ないし図22を参照して、ウ
ェハブロック21とサポート板22を切断する工程(図
2のステップS104)について説明する。
【0058】この工程では、図12に示したように、媒
体対向面21aに対して所定の加工が施された一列分の
スライダ部分31が、ウェハブロック21より分離され
てバー51となるように、ウェハブロック21とサポー
ト板22とを一緒に切断する。本実施の形態では、この
切断の際に媒体対向面21aを保護するために、切断を
行う際に、ウェハブロック21の媒体対向面21aとこ
の媒体対向面21aと一緒に加工が施されたサポート板
22の端面とを覆うように、テープ24を配置する。こ
の場合、テープ24として粘着力を有するものを用い、
切断を行う前に、ウェハブロック21の媒体対向面21
aとサポート板22の端面にテープ24を貼り付けてお
くのが好ましい。また、テープ24は、ウェハブロック
21の媒体対向面21aに対する衝撃を和らげるよう
に、弾性を有するものが好ましい。
【0059】テープ24が貼り付けられた状態のウェハ
ブロック21、サポート板22およびダミーブロック2
3は、図1に示した加工装置におけるサポート板保持部
6上に載置される。
【0060】図13は、図1に示した加工装置における
サポート板保持部6およびテープ保持部7を示す斜視
図、図14は、図1に示した加工装置におけるサポート
板保持部6およびテープ保持部7を示す断面図である。
これらの図に示したように、サポート板保持部6の上面
には、サポート板22が載置される位置に、長円形状の
凹部からなる吸着部55が形成されている。この吸着部
55には、吸引用管10が連通している。また、テープ
保持部7におけるテープ24が当接される位置には、長
円形状の凹部からなる吸着部56が形成されている。こ
の吸着部56には、吸引用管57が連通している。な
お、図13に示した例では、吸引用管57の端部側が3
本に分岐され、各分岐部分の端部が吸着部56に接続さ
れている。吸引用管10,57は、それぞれ図示しない
吸引装置に接続されるようになっている。
【0061】テープ24が貼り付けられ、サポート板保
持部6上に載置されたウェハブロック21、サポート板
22およびダミーブロック23は、サポート板22が吸
着部55によって吸着され、テープ24が吸着部56に
よって吸着されて、サポート板保持部6およびテープ保
持部7に対して固定される。この状態で、図14に示し
たように、媒体対向面21aに対して所定の加工が施さ
れた一列分のスライダ部分31が、ウェハブロック21
より分離されてバー51となるように、ブレード8によ
って、ウェハブロック21とサポート板22とを一緒に
切断する。切断時には、切断部分に研削液が吹きつけら
れる。この切断後、バー51およびサポート板22の断
片52は、テープ24と共にテープ保持部7によって保
持される。なお、サポート板保持部6とテープ保持部7
との間には、ブレード8に対向する位置に、ブレード8
の先端部を収納するための凹部58が形成されている。
【0062】図15ないし図20は、テープ24のいく
つかの種類を示したものである。なお、図15、図1
6、図17および図19は、テープにおける長手方向に
直交する断面を示したものである。これに対し、図20
は、テープの平面図を表している。
【0063】図15に示したテープ24Aは、一方の面
側より、基材241、粘着剤層242、セパレータ(カ
バーフィルム)243が、この順に積層されたものであ
る。テープ24Aの全体の厚みは、0.1mm程度であ
る。基材241を構成する材質としては、ポリ塩化ビニ
ル(PVC)、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリオレフィン系等の有機系材質の他、紙や布等
も用いることができる。粘着剤層242を構成する粘着
剤には、例えば、一般的なアクリル系粘着剤等の有機系
粘着剤を用いることができる。
【0064】図15に示したテープ24Aは、使用の際
には、セパレータ243が剥がされ、その結果露出した
粘着剤層242に、ウェハブロック21およびサポート
板22の端面が接着される。
【0065】また、テープ24Aとしては、粘着剤層2
42が紫外線(UV)硬化型の材質からなる紫外線硬化
型テープを用いてもよい。このような紫外線硬化型テー
プとしては、例えば、リンテック株式会社製のUV硬化
型ダイシングテープ“Dシリーズ”(商品名)がある。
このような紫外線硬化型テープでは、紫外線が照射され
ると、粘着剤層242の粘着力が低下する。従って、テ
ープ24Aとして、このような紫外線硬化型テープを用
いることにより、バー51からテープ24Aを剥離する
際に、テープ24Aに紫外線を照射することで、粘着剤
の残り(以下、糊残りと言う。)がなく、容易にバー5
1からテープ24Aを剥離することが可能となる。
【0066】また、テープ24Aとしては、粘着剤層2
42が加熱剥離型の材質からなる加熱剥離型テープを用
いてもよい。このような加熱剥離型テープとしては、例
えば、日化精工株式会社製の“スカイシート”(商品
名)や、日東電工株式会社製の“リバアルファ”(商品
名)がある。このような加熱剥離型テープでは、加熱さ
れると、粘着剤層242の粘着力が低下する。従って、
テープ24Aとして、このような加熱剥離型テープを用
いることにより、バー51からテープ24Aを剥離する
際に、テープ24Aを加熱することで、糊残りがなく、
容易にバー51からテープ24Aを剥離することが可能
となる。
【0067】また、テープ24Aとしては、基材241
が導電性物質を含み帯電防止機能を有する帯電防止テー
プを用いてもよい。このような帯電防止テープとして
は、東洋化学株式会社製のエレグリップ“Eシリーズ”
(商品名)がある。テープ24Aとして、このような帯
電防止テープを用い、このテープによって、スライダ部
分の媒体対向面を保護することにより、バー51内にお
けるスライダの静電破壊、特に、人のハンドリング等に
よるバー51内における薄膜磁気ヘッド素子の静電破壊
を防止することが可能となる。
【0068】図16に示したテープ24Bは、基材24
1中に、強度補強用のワイヤ244,244を入れたも
のであり、その他の構成および作用は、図15に示した
テープ24Aと同様である。ワイヤ244の材質として
は、ナイロン(商品名)や金属等を用いることができ
る。
【0069】図17に示したテープ24Cは、基材24
1の粘着剤層242とは反対側の面に、強度補強用の補
強層245を貼り付けたものであり、その他の構成およ
び作用は、図15に示したテープ24Aと同様である。
補強層245の材質としては、ナイロン(商品名)や紙
等を用いることができる。
【0070】図16や図17に示したような強度が補強
されたテープ24B,24Cを用いる場合には、図18
に示したように、一方のリール246に巻回されたテー
プ24B,24Cを、他方のリール247に巻き取るよ
うに、テープ24B,24Cを搬送するように構成し、
テープ24B,24Cにバー51およびサポート板22
の断片52を接合したまま、テープ24B,24Cを搬
送することにより、切断後のバー51およびサポート板
22の断片52を自動搬送することが可能となる。
【0071】図19に示したテープ24Dは、フォトリ
ソグラフィに用いられるドライフィルムレジストを利用
したものである。このテープ24Dは、フォトレジスト
材料よりなるレジスト層248と、カバーフィルム24
9とを積層した構造になっている。このようなドライフ
ィルムレジストとしては、例えば、フジフィルムオーリ
ン株式会社製の“バンクスドライフィルムフォトレジス
トU−120”(商品名)がある。テープ24Dとし
て、このようなドライフィルムレジストを用いる場合に
は、レジスト層248に、ウェハブロック21およびサ
ポート板22の端面が、例えば熱圧着により接着され
る。
【0072】図20に示したテープ24Eは、粘着剤層
を有しないテープ、すなわち、粘着力を有しないテープ
である。このテープ24Eの材質としては、例えばテー
プ24Aにおける基材241と同様のものを用いること
ができる。このテープ24Eには、長手方向に沿って、
複数の孔250が形成されている。このテープ24E
は、ウェハブロック21およびサポート板22の切断時
に、ウェハブロック21およびサポート板22の端面
と、テープ保持部56の吸着部56と間に介挿される。
この状態で、吸引用管57を介して吸着部56より空気
を吸引すると、テープ24Eの孔250を介して、ウェ
ハブロック21およびサポート板22の端面が吸着部5
6側に吸引される。その結果、テープ24Eは、吸着部
56とウェハブロック21およびサポート板22の端面
との間に保持される。
【0073】ウェハブロック21とサポート板22の切
断が行われて、バー51およびサポート板22の断片5
2が得られたら、ウェハブロック21の残りがある限
り、残りのウェハブロック21について、再度、媒体対
向面の加工(図2のステップS103)と、ウェハブロ
ック21とサポート板22の切断(図2のステップS1
04)が、繰り返し実行される。なお、ウェハブロック
21の薄膜磁気ヘッド素子が形成されている面には切断
位置の基準となる加工マーカが形成されており、ウェハ
ブロック21とサポート板22の切断の際には、この加
工マーカを基準にして、切断位置を合わせる。
【0074】図21は、上記のステップS103とステ
ップS104の繰り返しを表したものである。この図に
おいて、(a)は、サポート板22に接合された状態で
のウェハブロック21の媒体対向面の加工を表してお
り、この加工が終了したら、(b)に示したように、媒
体対向面に対して加工が施された一列分のスライダ部分
がウェハブロック21より分離されてバー51となるよ
うに、ウェハブロック21とサポート板22とを一緒に
切断する。そして、(c)に示したように、得られたバ
ー51およびサポート板22の断片52は、後工程に回
される。また、ウェハブロック21の残りがある場合に
は、残りのウェハブロック21について、再度、(a)
に示したように媒体対向面の加工が行われる。
【0075】図22は、ウェハブロック21とサポート
板22とを一緒に切断して得られるバー51およびサポ
ート板22の断片52を表したものである。図1に示し
た加工装置において、ウェハブロック21とサポート板
22の切断後、バー51およびサポート板22の断片5
2は、テープ24と共にテープ保持部7によって保持さ
れている。図1に示した加工装置では、その後、可動部
5が収納部2側に移動し、バキュームピンセット14が
切断機構部1側に移動し、バキュームピンセット14が
バー51およびサポート板22の断片52を保持し、ト
レイ13に収納する。ここで、バキュームピンセット1
4は、バー51およびサポート板22の断片52を保持
する際に、サポート板22の断片52を吸着して保持す
るようになっている。
【0076】次に、図23ないし図29を参照して、バ
ー51に対する後工程について説明する。
【0077】本実施の形態では、まず、切断後のバー5
1に対して、切断部分、すなわち、媒体対向面とは反対
側の面の歪みを除去するために、媒体対向面とは反対側
の面の研磨が行われる。図23および図24は、この研
磨用の治具にバー51を装着した状態を示す断面図であ
る。この図に示したように、研磨用の治具は、キャリア
61と、荷重付加部材62とを備えている。キャリア6
1は、肉厚の円筒形状の円筒部63と、この円筒部63
の下端部を閉塞するように形成された円板状の円板部6
4とを有している。円板部64には、被加工物を収容す
るための複数の孔65が形成されている。荷重付加部材
62は、キャリア61の円筒部63内に挿入される凸部
66を有している。この凸部66の下端部には、パッド
67が取り付けられている。
【0078】バー51の媒体対向面とは反対側の面の研
磨を行う場合には、キャリア61を研磨定盤68上に載
置し、キャリア61の円板部64の孔65内に、バー5
1およびサポート板22の断片52が、媒体対向面とは
反対側の面が下側となるように収容する。そして、キャ
リア61の円筒部63内に、荷重付加部材62の凸部6
6を挿入する。円板部64の厚みは、例えば0.2mm
程度であり、バー51の厚みは、例えば0.3mm程度
である。従って、荷重付加部材62の凸部66の下端部
は、円板部64まで達しない。これにより、バー51
に、荷重付加部材62による荷重が付加されることにな
る。そして、この状態で、回転する研磨定盤68上で、
キャリア61を回転させることにより、バー51の媒体
対向面とは反対側の面の研磨が行われる。
【0079】上述の研磨により、バー51の媒体対向面
とは反対側の面の歪みを除去したら、図25に示したよ
うに、バー51およびサポート板22の断片52より、
テープ24を剥がす。その際、テープ24として紫外線
硬化型テープを用いている場合には、テープ24に紫外
線を照射し、テープ24として加熱剥離型テープを用い
ている場合には、テープ24を加熱して、テープ24の
粘着力を低下させてから、テープ24を剥がす。なお、
図20に示したテープ24Eを用いた場合には、バー5
1およびサポート板22の断片52よりテープ24を剥
がす工程は不要である。
【0080】次に、図26に示したように、ウェハブロ
ック21、サポート板22およびダミーブロック23を
接合した接着剤の種類に応じた方法で、バー51とサポ
ート板22の断片52とを分離して、単独のバー51を
得る。次に、このバー51を、アセトン内での超音波洗
浄や、スクラブ洗浄等により、簡易的に洗浄する。その
後、バー51の媒体対向面にレール部が形成される。レ
ール部の形成には、例えば、反応性イオンエッチング、
イオンミリング等のドライエッチングが用いられる。
【0081】また、図19に示したテープ(ドライフィ
ルムレジスト)24Dを用いた場合には、テープ24D
をレール部の形成工程におけるフォトレジストとして利
用できるため、レール部の形成工程まで、テープ24D
を残しておいてもよい。ここで、図27ないし図29を
参照して、テープ24Dを利用したレール部の形成工程
について簡単に説明する。このレール部の形成工程で
は、まず、図27に示したように、バー51に接合され
ているテープ24Dより、カバーフィルム249を剥が
し、バー51の媒体対向面上に、レジスト層248のみ
を残す。次に、図28に示したように、露光用マスクを
介してレジスト層248を露光して、レール部に対応し
たパターンのフォトレジストマスク251を形成する。
次に、図29に示したように、フォトレジストマスク2
51をエッチングマスクとして、例えば、反応性イオン
エッチング、イオンミリング等のドライエッチングを行
って、レール部71,71を形成する。次に、フォトレ
ジストマスク251を除去する。
【0082】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、ウェハブロック21における全てのスライダ部分の
一面を含む面に対してサポート板22を接合し、サポー
ト板22に接合されたウェハブロック21の媒体対向面
側における一列分のスライダ部分の媒体対向面に対して
所定の加工を施し、媒体対向面に対して所定の加工が施
された一列分のスライダ部分がウェハブロック21より
分離されてバー51となるように、ウェハブロック21
とサポート板22とを一緒に切断するようにしている。
従って、バー51を、独立した状態で、媒体対向面の加
工用の治具に固定して媒体対向面の加工を行うことがな
いので、バー51の変形を防止でき、特性のよいスライ
ダを精度よく製造することが可能になる。具体的には、
バー51の被加工面の加工精度の劣化や、バー51内に
おける薄膜磁気ヘッド素子を形成する各層(パターン)
の湾曲等の変形を防止できると共に、MR素子の抵抗値
およびMRハイトや、スロートハイトを精度よく制御す
ることが可能となる。更には、後工程であるレール部の
形成も精度よく行うことが可能となる。
【0083】しかも、本実施の形態によれば、ウェハブ
ロック21の切断の度にウェハブロック21とサポート
板22の接合や分離を繰り返す必要がないので、生産効
率がよい。また、ウェハブロック21はサポート板22
に接合され、また、切断工程後のバー51もサポート板
22の断片52に接合された状態となっているので、ス
ライダの製造工程中における中間製造物としてのウェハ
ブロック21やバー51の取り扱いが容易になる。すな
わち、サポート板22の幅をウェハブロック21の幅よ
りも大きくすることで、ウェハブロック21の幅が変化
しても、接合された状態のウェハブロック21とサポー
ト板22や、接合された状態のバー51およびサポート
板22の断片52は、幅が一定になり、これらを幅が一
定の物として扱うことができる。
【0084】また、本実施の形態によれば、ウェハブロ
ック21の媒体対向面とは反対側に、ウェハブロック2
1を補助的に支持するためのダミーブロック23を配置
し、ウェハブロック21とダミーブロック23とを接合
すると共に、サポート板22とダミーブロック23とを
接合するようにしたので、更に、ウェハブロック21に
残るスライダ部分の列数が少なくなったときでも、ウェ
ハブロック21に関して、ウェハブロック21に残るス
ライダ部分の列数が多いときと同様の剛性や精度を維持
することができる。そのため、ウェハブロック21に残
るスライダ部分の列数が少なくなったときでも、特性の
よいスライダを、より精度よく製造することが可能にな
る。
【0085】また、本実施の形態では、サポート板22
を、ウェハブロック21の主要な部分と同じ材質で形成
されたものとすることにより、サポート板22とウェハ
ブロック21の材質の違いによるウェハブロック21の
変形を防止でき、特性のよいスライダを、より精度よく
製造することが可能になる。
【0086】また、本実施の形態によれば、ウェハブロ
ック21はサポート板22に接合され、また、切断工程
後のバー51もサポート板22の断片52に接合された
状態となっているので、ウェハブロック21やバー51
に直接触れることなく、ウェハブロック21やバー51
を扱うことが可能となるので、取り扱いによるスライダ
の不良を低減でき、スライダの歩留りを大きくすること
が可能となる。
【0087】また、本実施の形態によれば、ウェハブロ
ック21を切断する際に、ウェハブロック21の媒体対
向面21aを保護するために、媒体対向面21aを覆う
ようにテープ24を配置したので、ウェハブロック21
の切断時における水溶性研削液による磁極部分の腐食
や、媒体対向面21aに機械的に発生する傷(スクラッ
チ)や、媒体対向面21aに対するごみの付着等を防止
することができる。また、テープ24を、ウェハブロッ
ク21の媒体対向面21aに接着することにより、更
に、切断後のバー51の取り扱い時におけるバー51の
欠け(チッピング)等の不良を防止することができる。
【0088】また、本実施の形態では、ウェハブロック
21の切断の度に、ウェハブロック21の切断前にウェ
ハブロック21の媒体対向面21aと専用の治具とを接
着したり、ウェハブロック21の切断後に専用の治具か
らバー51を剥離する必要がないので、これらの接着や
剥離の時間を省略でき、生産効率が向上する。
【0089】また、ウェハブロック21の媒体対向面2
1aにテープ24を接着し、剥離した場合でも、媒体対
向面21aと専用の治具とを熱硬化性樹脂や熱可塑性接
着剤等の結合剤によって接着し、剥離する場合に比べる
と、媒体対向面21aにおける糊残りが少なく、洗浄性
(洗浄の効率および洗浄後の状態)が向上する。特に、
テープ24として、紫外線硬化型テープや加熱剥離型テ
ープを用いることにより、媒体対向面21aにおける糊
残りをほとんどなくすことができる。
【0090】また、テープ24を、ウェハブロック21
の媒体対向面21aに接着することにより、専用治具を
必要とすることなく、テープ24を介してバー51を保
持することが可能となるため、バー51のハンドリング
が容易になり、切断後のバー51に対する処理の自動化
が容易になる。
【0091】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、例えば、本発明は、薄膜磁気ヘッド用のスライダに
限らず、他の用途のスライダ、例えば光記録方式や光磁
気記録方式による情報の記録または再生を行うためのヘ
ッド(ピックアップ)用のスライダにも適用することが
可能である。
【0092】
【発明の効果】以上説明したように請求項1ないし10
のいずれかに記載のスライダの製造方法によれば、素材
の一端側における一列分のスライダとなる部分の媒体対
向面に対して所定の加工を施し、媒体対向面に対して所
定の加工が施された一列分のスライダとなる部分が素材
より分離されてスライダ集合体となるように、媒体対向
面を帯状の保護部材によって覆った状態で、素材を切断
して、スライダ集合体を製造するようにしたので、素材
の切断時に、所定の加工が施された媒体対向面を保護で
き、特性のよいスライダを精度よく製造することが可能
になるという効果を奏する。しかも、素材の切断の度
に、素材の媒体対向面と専用の治具とを接着したり、素
材の切断後に専用の治具からスライダ集合体を剥離する
必要がないので、生産効率および洗浄性を向上させるこ
とができるという効果を奏する。
【0093】また、請求項2記載のスライダの製造方法
によれば、保護部材を、粘着力を有するテープとし、切
断工程が、素材の切断に先立って、素材の媒体対向面に
保護部材を接着する工程を含むようにしたので、更に、
素材の切断後におけるスライダ集合体は、保護部材に接
合された状態となっているので、切断後のスライダ集合
体の取り扱い時におけるスライダ集合体の不良を防止で
きると共に、スライダ集合体の取り扱いが容易になると
いう効果を奏する。
【0094】また、請求項4記載のスライダの製造方法
によれば、保護部材の粘着力を低下させた後に、スライ
ダ集合体より保護部材を剥離するようにしたので、更
に、スライダ集合体の媒体対向面における粘着剤の残り
をほとんどなくすことができ、より洗浄性を向上させる
ことができるという効果を奏する。
【0095】また、請求項5記載のスライダの製造方法
によれば、保護部材を、導電性物質を含むテープとした
ので、更に、スライダの静電破壊を防止することができ
るという効果を奏する。
【0096】また、請求項6記載のスライダの製造方法
によれば、保護部材を、粘着力を有しないテープとし、
切断工程が、素材の切断に先立って、保護部材が介挿さ
れた状態で、素材の媒体対向面を保持する工程を含むよ
うにしたので、更に、スライダ集合体より保護部材を剥
離する必要がなくなるという効果を奏する。
【0097】また、請求項8記載のスライダの製造方法
によれば、保護部材を、フォトレジスト材料よりなるレ
ジスト層を含むものとし、更に、切断工程実行後のスラ
イダ集合体の媒体対向面に対して、保護部材のレジスト
層を用いたエッチング用マスクを形成し、このエッチン
グ用マスクを用いて、媒体対向面に対するエッチングを
行う工程を備えたので、更に、保護部材を、媒体対向面
に対するエッチングを行う工程で利用でき、生産効率を
より向上させることができるという効果を奏する。
【0098】また、請求項11または12記載のスライ
ダの製造装置によれば、一端側における一列分のスライ
ダとなる部分の媒体対向面に対して所定の加工が施され
た後の素材を、媒体対向面を帯状の保護部材によって覆
った状態で保持し、媒体対向面に対して所定の加工が施
された一列分のスライダとなる部分が素材より分離され
てスライダ集合体となるように、媒体対向面を帯状の保
護部材によって覆った状態で、保持された素材を切断す
るようにしたので、素材の切断時に、所定の加工が施さ
れた媒体対向面を保護でき、特性のよいスライダを精度
よく製造することが可能になるという効果を奏する。し
かも、素材の切断の度に、素材の媒体対向面と専用の治
具とを接着したり、素材の切断後に専用の治具からスラ
イダ集合体を剥離する必要がないので、生産効率および
洗浄性を向上させることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係るスライダの製造装
置を示す斜視図である。
【図2】本発明の一実施例に係るスライダの製造方法を
示す流れ図である。
【図3】本発明の一実施例におけるウェハブロックを形
成する工程を説明するための説明図である。
【図4】本発明の一実施例におけるウェハブロックをサ
ポート板に接合する工程を説明するための斜視図であ
る。
【図5】本発明の一実施例における幅の異なるウェハブ
ロックの取り扱いを説明するたの説明図である。
【図6】本発明の一実施例におけるウェハブロック、サ
ポート板およびダミーブロックの接合作業時の状態を示
す平面図である。
【図7】図6のA−A′線断面図である。
【図8】本発明の一実施例におけるサポート板の表面の
形状の一例を示す説明図である。
【図9】本発明の一実施例におけるダミーブロックの表
面の形状の一例を示す説明図である。
【図10】本発明の一実施例におけるウェハブロック、
サポート板およびダミーブロックをホルダに対して固定
した状態を示す斜視図である。
【図11】本発明の一実施例におけるウェハブロックの
媒体対向面に対して所定の加工を施す工程を説明するた
めの斜視図である。
【図12】本発明の一実施例においてウェハブロックの
媒体対向面にテープを接着する様子を示す斜視図であ
る。
【図13】図1に示した加工装置におけるサポート板保
持部およびテープ保持部を示す斜視図である。
【図14】図1に示した加工装置におけるサポート板保
持部およびテープ保持部を示す断面図である。
【図15】本発明の一実施例におけるテープの一例を示
す断面図である。
【図16】本発明の一実施例におけるテープの他の例を
示す断面図である。
【図17】本発明の一実施例におけるテープの更に他の
例を示す断面図である。
【図18】本発明の一実施例においてテープを用いてバ
ーを自動搬送する例を示す説明図である。
【図19】本発明の一実施例におけるテープの更に他の
例を示す断面図である。
【図20】本発明の一実施例におけるテープの更に他の
例を示す平面図である。
【図21】本発明の一実施例におけるウェハブロックの
媒体対向面の加工と切断の工程を示す説明図である。
【図22】本発明の一実施例におけるバーおよびサポー
ト板の断片を示す斜視図である。
【図23】本発明の一実施例において切断後のバーの歪
みを除去するための研磨用の治具にバーを装着した状態
を示す断面図である。
【図24】本発明の一実施例において切断後のバーの歪
みを除去する工程を説明するための斜視図である。
【図25】本発明の一実施例においてバーおよびサポー
ト板の断片よりテープを剥がす工程を示す斜視図であ
る。
【図26】本発明の一実施例においてバーとサポート板
の断片とを分離する工程を示す斜視図である。
【図27】本発明の一実施例においてテープを利用した
レール部の形成工程について説明するための断面図であ
る。
【図28】本発明の一実施例においてテープを利用した
レール部の形成工程について説明するための断面図であ
る。
【図29】本発明の一実施例においてテープを利用した
レール部の形成工程について説明するための断面図であ
る。
【符号の説明】
1…切断機構部、2…収納部、6…サポート板保持部、
7…テープ保持部、8…ブレード、21…ウェハブロッ
ク、22…サポート板、23…ダミーブロック、24…
テープ、51…バー。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 媒体対向面を有するスライダとなる部分
    が複数列に配列された素材より、スライダとなる部分が
    一列に配列され、媒体対向面に対して所定の加工が施さ
    れたスライダ集合体を製造するスライダの製造方法であ
    って、 前記素材の一端側における一列分のスライダとなる部分
    の媒体対向面に対して所定の加工を施す加工工程と、 媒体対向面に対して所定の加工が施された一列分のスラ
    イダとなる部分が前記素材より分離されて前記スライダ
    集合体となるように、媒体対向面を帯状の保護部材によ
    って覆った状態で、前記素材を切断する切断工程とを備
    えたことを特徴とするスライダの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記保護部材は、粘着力を有するテープ
    であり、前記切断工程は、前記素材の切断に先立って、
    前記素材の媒体対向面に前記保護部材を接着する工程を
    含むことを特徴とする請求項1記載のスライダの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 更に、前記切断工程実行後のスライダ集
    合体より前記保護部材を剥離する工程を備えたことを特
    徴とする請求項2記載のスライダの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記保護部材を剥離する工程では、保護
    部材の粘着力を低下させた後に、スライダ集合体より保
    護部材を剥離することを特徴とする請求項3記載のスラ
    イダの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記保護部材は、導電性物質を含むテー
    プであることを特徴とする請求項1記載のスライダの製
    造方法。
  6. 【請求項6】 前記保護部材は、粘着力を有しないテー
    プであり、前記切断工程は、前記素材の切断に先立っ
    て、前記保護部材が介挿された状態で、前記素材の媒体
    対向面を保持する工程を含むことを特徴とする請求項1
    記載のスライダの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記保護部材は、フォトレジスト材料よ
    りなるレジスト層を含むことを特徴とする請求項1記載
    のスライダの製造方法。
  8. 【請求項8】 更に、前記切断工程実行後のスライダ集
    合体の媒体対向面に対して、前記保護部材のレジスト層
    を用いたエッチング用マスクを形成し、このエッチング
    用マスクを用いて、媒体対向面に対するエッチングを行
    う工程を備えたことを特徴とする請求項7記載のスライ
    ダの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記加工工程は、媒体対向面の研磨を含
    むことを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載
    のスライダの製造方法。
  10. 【請求項10】 前記スライダとなる部分は、薄膜磁気
    ヘッド素子を含んでいることを特徴とする請求項1ない
    し9のいずれかに記載のスライダの製造方法。
  11. 【請求項11】 媒体対向面を有するスライダとなる部
    分が複数列に配列された素材より、スライダとなる部分
    が一列に配列され、媒体対向面に対して所定の加工が施
    されたスライダ集合体を製造するスライダの製造装置で
    あって、 一端側における一列分のスライダとなる部分の媒体対向
    面に対して所定の加工が施された後の前記素材を、媒体
    対向面を帯状の保護部材によって覆った状態で保持する
    保持手段と、 媒体対向面に対して所定の加工が施された一列分のスラ
    イダとなる部分が前記素材より分離されて前記スライダ
    集合体となるように、媒体対向面を帯状の保護部材によ
    って覆った状態で、前記保持手段によって保持された素
    材を切断する切断手段とを備えたことを特徴とするスラ
    イダの製造装置。
  12. 【請求項12】 前記保持手段は、前記素材を保持する
    素材保持部と、前記保護部材を保持する保護部材保持部
    とを有することを特徴とする請求項11記載のスライダ
    の製造装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7527917B2 (en) 2004-08-23 2009-05-05 Tdk Corporation Exposure method and exposure apparatus
US7607215B2 (en) 2005-05-31 2009-10-27 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method of manufacturing magnetic head slider
US7739786B2 (en) 2005-06-24 2010-06-22 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Apparatus for manufacturing magnetic head slider
JP2011036939A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Disco Abrasive Syst Ltd 切断研磨加工装置
JP2023043253A (ja) * 2021-09-16 2023-03-29 株式会社ディスコ 棒状基板洗浄装置

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11316928A (ja) * 1998-05-06 1999-11-16 Tdk Corp スライダの製造方法および装置
JP3506419B2 (ja) * 1999-10-04 2004-03-15 Tdk株式会社 磁気ヘッドスライダの製造方法およびバーの固定方法
JP3332222B2 (ja) 1999-10-21 2002-10-07 ティーディーケイ株式会社 スライダ用素材の製造方法、スライダの製造方法およびスライダ用素材
JP3837036B2 (ja) * 2000-06-16 2006-10-25 Tdk株式会社 磁気ヘッド製造工程における研磨量測定装置および方法
US6892445B2 (en) * 2001-08-23 2005-05-17 International Business Machines Corporation Tape head module assembly system
DE10229888B4 (de) * 2002-07-03 2010-09-30 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Anbringen eines Maßstabs oder Maßstabträgers oder einer Maßstabführung sowie Maßstab, Maßstabträger oder Maßstabführung oder Schutzband dafür
US6922884B2 (en) * 2003-03-21 2005-08-02 Headway Technologies, Inc. Method for preventing magnetic damage to a GMR head during back-end processing
US6918815B2 (en) * 2003-09-16 2005-07-19 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. System and apparatus for predicting plate lapping properties to improve slider fabrication yield
US6939200B2 (en) * 2003-09-16 2005-09-06 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of predicting plate lapping properties to improve slider fabrication yield
US7028394B2 (en) * 2003-09-30 2006-04-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. System for automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows
US6843298B1 (en) 2003-09-30 2005-01-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Apparatus for automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows
US6843878B1 (en) 2003-09-30 2005-01-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Method of automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows
US7741003B2 (en) * 2004-03-30 2010-06-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Photoresist transfer pads
US6994608B1 (en) 2004-11-12 2006-02-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Methods of manufacturing sliders
CN1912996B (zh) * 2005-08-08 2010-07-14 新科实业有限公司 磁头制造装置及其制造方法
NL1030004C2 (nl) * 2005-09-21 2007-03-22 Fico Singulation B V Inrichting en werkwijze voor het separeren van elektronische componenten.
US7603762B2 (en) * 2006-12-15 2009-10-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Optical lapping guide for use in the manufacture of perpendicular magnetic write heads
US9352442B2 (en) * 2013-07-02 2016-05-31 Seagate Technology Llc Lapping carrier
TWI671141B (zh) 2013-08-30 2019-09-11 半導體能源研究所股份有限公司 支撐體供應裝置及供應支撐體的方法
US9849567B2 (en) * 2013-11-05 2017-12-26 Seagate Technology Llc Lapping assembly or process utilizing a bar stack extender
US10804407B2 (en) 2016-05-12 2020-10-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser processing apparatus and stack processing apparatus
US10465099B1 (en) 2016-11-04 2019-11-05 Seagate Technology Llc Adhesive for processing a microelectronic substrate, and related methods
US12157847B1 (en) 2018-12-18 2024-12-03 Seagate Technology Llc Methods of forming an adhesive layer, and related adhesive films and methods and systems of using adhesive films
CN118682694A (zh) * 2021-02-01 2024-09-24 福建利尼尔智能科技有限公司 一种可自动旋转滑块的滑块组装灌珠机
TWI842196B (zh) * 2022-11-14 2024-05-11 允坦科技股份有限公司 滑塊加工之工作檯結構改良及其應用該工作檯結構改良對滑塊加工之製法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54114223A (en) * 1978-02-27 1979-09-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of floating type thin film magnetic head
DE2829539C2 (de) * 1978-07-05 1980-01-17 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung von Ultraschallköpfen
US4705016A (en) * 1985-05-17 1987-11-10 Disco Abrasive Systems, Ltd. Precision device for reducing errors attributed to temperature change reduced
JPS63160341A (ja) 1986-12-24 1988-07-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の裏面研磨装置
JPS6446216A (en) * 1987-08-14 1989-02-20 Tdk Corp Magnetic head
US5095613A (en) * 1990-06-29 1992-03-17 Digital Equipment Corporation Thin film head slider fabrication process
US5271802A (en) * 1990-12-27 1993-12-21 International Business Machines Corporation Method for making a thin film magnetic head having a protective coating
JPH04367227A (ja) 1991-06-14 1992-12-18 Kawasaki Steel Corp ウェハの裏面研削処理方法及びこの方法に用いるウェハチャック
JPH0562950A (ja) 1991-08-29 1993-03-12 Nitto Denko Corp 半導体ウエハへの保護テープ貼り付けおよび剥離方法
JPH05144938A (ja) 1991-09-26 1993-06-11 Toshiba Corp 固体撮像装置の製造方法
JPH0667310A (ja) * 1992-08-20 1994-03-11 Fujitsu Ltd ブロック加工用ホルダ
US5321882A (en) * 1992-09-22 1994-06-21 Dastek Corporation Slider fabrication
JP3271375B2 (ja) 1993-06-01 2002-04-02 ティーディーケイ株式会社 磁気ヘッド装置の製造方法
JP3301655B2 (ja) * 1993-06-25 2002-07-15 松下電器産業株式会社 薄膜磁気ヘッドのスライダ加工方法
JPH0778796A (ja) 1993-07-12 1995-03-20 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法およびその製造装置
US5406694A (en) * 1993-11-24 1995-04-18 Rocky Mountain Magnetics, Inc. Scalable method of fabricating thin-film sliders
US5634259A (en) * 1994-03-17 1997-06-03 Fujitsu Limited Method of manufacturing a magnetic head
JPH08138223A (ja) 1994-11-10 1996-05-31 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘッドスライダの製造方法
US5603156A (en) * 1994-12-16 1997-02-18 International Business Machines Corporation Lapping process for minimizing shorts and element recession at magnetic head air bearing surface
US5722156A (en) * 1995-05-22 1998-03-03 Balfrey; Brian D. Method for processing ceramic wafers comprising plural magnetic head forming units
JP3277765B2 (ja) 1995-09-06 2002-04-22 ソニー株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH09297906A (ja) 1996-04-30 1997-11-18 Sony Corp 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US5832585A (en) * 1996-08-13 1998-11-10 National Semiconductor Corporation Method of separating micro-devices formed on a substrate
JPH10255424A (ja) * 1997-03-17 1998-09-25 Fujitsu Ltd 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク装置
JP3604559B2 (ja) * 1998-05-06 2004-12-22 Tdk株式会社 スライダの製造方法および製造用補助具
JPH11316928A (ja) * 1998-05-06 1999-11-16 Tdk Corp スライダの製造方法および装置
TW420845B (en) * 1999-08-11 2001-02-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Die sawing and grinding process
JP2001230223A (ja) * 2000-02-16 2001-08-24 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7527917B2 (en) 2004-08-23 2009-05-05 Tdk Corporation Exposure method and exposure apparatus
US7607215B2 (en) 2005-05-31 2009-10-27 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method of manufacturing magnetic head slider
US7739786B2 (en) 2005-06-24 2010-06-22 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Apparatus for manufacturing magnetic head slider
JP2011036939A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Disco Abrasive Syst Ltd 切断研磨加工装置
JP2023043253A (ja) * 2021-09-16 2023-03-29 株式会社ディスコ 棒状基板洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20020053137A1 (en) 2002-05-09
CN1291768A (zh) 2001-04-18
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US6757964B2 (en) 2004-07-06
CN1196106C (zh) 2005-04-06

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