JPH11316178A - Device and method for evaluating gas - Google Patents
Device and method for evaluating gasInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム等
を構成する材料から発生するガスを分析するためのガス
評価装置及びガス評価方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas evaluation apparatus and a gas evaluation method for analyzing a gas generated from a material constituting a clean room or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体製造工場その他のクリー
ンルームでは、壁、床、及び天井等の建築材料をはじ
め、多種多様な材料が使用されている。従来から、これ
らの材料から発生するガス(有機系ガス及び無機系ガ
ス)が、クリーンルームにおける化学汚染の発生源の1
つとして問題視されてきている。そのため、そのような
ガスの発生が少ない材料を選択するように、各材料から
発生するガスを分析及び評価する方法が研究されてい
る。2. Description of the Related Art Generally, in semiconductor manufacturing plants and other clean rooms, various materials are used, including building materials such as walls, floors, and ceilings. Conventionally, gases (organic gas and inorganic gas) generated from these materials have been one of the sources of chemical contamination in clean rooms.
It has been regarded as a problem. Therefore, a method of analyzing and evaluating the gas generated from each material has been studied so as to select a material that generates less such gas.
【0003】そういったガスの評価方法としては、その
材料が使用される環境よりも減圧・加熱された環境を設
定することによって、材料から加速的にガスを発生さ
せ、そのガスを捕集して分析・評価する方法が多く用い
られている。その中で特に採用されているのが、スタテ
ィックヘッドスペース法(Static Headspace)とダイナミ
ックヘッドスペース法(Dynamic Headspace) である。[0003] As a method of evaluating such a gas, a gas is generated from the material at an accelerated rate by setting an environment in which the material is decompressed and heated more than the environment in which the material is used, and the gas is collected and analyzed.・ Evaluation methods are often used. Among them, the static headspace method (Static Headspace) and the dynamic headspace method (Dynamic Headspace) are particularly adopted.
【0004】スタティックヘッドスペース法とは、試料
を密閉容器内に収納し、その容器と共に試料を加熱し
て、試料から揮発したガスを密閉容器中の気相部と共に
捕集する方法である。この方法によれば、低沸点化合物
の高感度分析を容易に行うことができる。The static headspace method is a method in which a sample is stored in a closed container, the sample is heated together with the container, and gas volatilized from the sample is collected together with a gas phase in the closed container. According to this method, high-sensitivity analysis of low-boiling compounds can be easily performed.
【0005】また、ダイナミックヘッドスペース法と
は、一般的には窒素やヘリウム等の不活性ガスからなる
キャリアガスによって通気し、それによって試料から発
生したガスを各種の捕集方法で捕集する方法である。こ
の方法でも、デシケータやチャンバ等の容器内に試料を
収納して、加熱による加速試験を行うことがある。この
ダイナミックヘッドスペース法によれば、有機系ガスの
みならず無機系ガスをも捕集することができ、高沸点化
合物の高感度分析が可能であると共に、捕集した時にガ
スを濃縮することが可能であるため、高感度分析が可能
である。[0005] The dynamic headspace method is a method in which gas generated from a sample is collected by various methods in general, in which a carrier gas consisting of an inert gas such as nitrogen or helium is used. It is. Also in this method, a sample may be stored in a container such as a desiccator or a chamber, and an acceleration test by heating may be performed. According to this dynamic headspace method, not only organic gas but also inorganic gas can be collected, and high-sensitivity analysis of high-boiling compounds can be performed, and gas can be concentrated when collected. Because it is possible, highly sensitive analysis is possible.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のガス評価方法では、以下のような問題があっ
た。すなわち、施工後に材料を評価する場合、容器内に
収納可能な程度に材料を切断して試験体としなければな
らないという問題があった。そのため、この切断面から
発生するガスは実際に材料の表面から発生するガスとは
状況が一致せず、正確な評価を行うことができないとい
う問題があった。However, the conventional gas evaluation method described above has the following problems. That is, when the material is evaluated after the construction, there is a problem that the material must be cut into a test body so that the material can be stored in the container. Therefore, there is a problem that the gas generated from the cut surface does not match the gas actually generated from the surface of the material, and accurate evaluation cannot be performed.
【0007】また、上記各方法では、通常、材料が実際
に使用されている空間で測定することができないため、
実際のガスの発生状況を正確に評価することができなか
った。更に、シール・パッキン材等で装置内部を気密構
造とする必要があり、それらシール・パッキン材等から
発生するガスの影響をも考慮しなければならないという
問題があった。[0007] In each of the above methods, it is not usually possible to measure in the space where the material is actually used.
The actual gas generation situation could not be accurately evaluated. Further, there is a problem that the inside of the device needs to be made airtight with a seal or packing material or the like, and the influence of gas generated from the seal or packing material or the like must be considered.
【0008】また、半導体製造工場において、材料から
発生するガスのウェハに対する影響を観測するためにウ
ェハ暴露実験を行う必要があるが、上記各方法では材料
を収納する容器内にウェハも収納することができないた
め、そのような実験を行うことができなかった。Further, in a semiconductor manufacturing plant, it is necessary to carry out a wafer exposure experiment in order to observe the effect of gas generated from the material on the wafer. In each of the above methods, the wafer is stored in a container for storing the material. Could not perform such an experiment.
【0009】一方、材料を切断して容器内に収納するの
ではなく、クリーンルーム単位でガスを捕集し、実際的
な環境影響を把握するテストルーム法も知られている。
しかしながら、この方法では、実際の現場での測定が可
能であるが、コストがかかると共に、材料毎の評価が不
可能であるという問題があった。On the other hand, there is also known a test room method in which a material is not cut and stored in a container, but a gas is collected in a clean room unit, and a practical environmental influence is grasped.
However, in this method, although it is possible to perform the measurement on the actual site, there are problems that the cost is high and the evaluation for each material is impossible.
【0010】本発明は、上記のような従来技術の問題点
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
被評価物の切断等の加工が不要であり、低コストで、実
際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガス
を正確に評価することができるガス評価装置及びガス評
価方法を提供することにある。[0010] The present invention has been proposed to solve the problems of the prior art as described above.
The present invention provides a gas evaluation device and a gas evaluation method that do not require processing such as cutting of an object to be evaluated, are low-cost, and can accurately evaluate generated gas from a material in a state similar to an actual gas generation state. Is to do.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被評価物の表面に発生するガスを捕集して評価するガス
評価装置において、一端が開口し、内部にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を
供給する給気手段と、前記捕集室内の空気を排気する排
気手段と、前記給気手段によって供給される清浄空気の
流量と前記排気手段によって排気される空気の流量とを
調整する流量手段とを具備することを特徴としている。According to the first aspect of the present invention,
In a gas evaluation apparatus for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, a chamber having one end opened and a gas collection chamber formed therein, and a supply of clean air into the chamber. Air means, exhaust means for exhausting air in the collection chamber, and flow rate means for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means. It is characterized by:
【0012】請求項1記載の発明によれば、以下のよう
な作用が得られる。すなわち、チャンバの開口側を被評
価物の表面に設置し、チャンバの内部に清浄空気を供給
する。このとき、流量調整手段により、給気手段から供
給される清浄空気の流量が排気手段によって排気される
空気の流量より大であるように調整する。これにより、
清浄空気の一部はチャンバと被評価物の表面との間の隙
間から外部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ
内に侵入しない。According to the first aspect of the present invention, the following effects can be obtained. That is, the opening side of the chamber is set on the surface of the device to be evaluated, and clean air is supplied into the chamber. At this time, the flow rate adjusting means adjusts the flow rate of the clean air supplied from the air supply means to be larger than the flow rate of the air exhausted by the exhaust means. This allows
Part of the clean air leaks to the outside through a gap between the chamber and the surface of the device to be evaluated, whereby external air does not enter the chamber.
【0013】従って、チャンバを被評価物の表面に設置
することができ、被評価物の表面から発生するガスを捕
集することができる。そのため、実際にガスが発生する
状況と同様の状況で発生ガスの評価を行うことができ
る。また、実際にその被評価物が使用されている場所で
ガスを捕集することができる。Therefore, the chamber can be installed on the surface of the object to be evaluated, and the gas generated from the surface of the object to be evaluated can be collected. Therefore, the generated gas can be evaluated in the same situation as the situation where the gas is actually produced. Further, gas can be collected at a place where the evaluation object is actually used.
【0014】また、清浄空気が外部に漏れることにより
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。Further, since the clean air leaks to the outside, the outside air does not enter and the inside of the chamber does not need to be airtight. Therefore, a sealing material or a packing material for fixing the chamber and the object to be evaluated is required. No need to provide. Therefore, it is not affected by the gas generated from the sealing material or the packing material.
【0015】請求項2記載の発明は、被評価物の表面に
発生するガスを捕集して評価するガス評価装置におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されていることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a gas evaluation apparatus for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, wherein the cylindrical outer cylinder has an open end and an inner side of the outer cylinder. A chamber in which a gas collecting chamber is formed in the inner cylinder portion, the chamber including a cylindrical inner cylinder portion having an open end on the opening side of the outer cylinder portion; Air supply means for supplying clean air to a space formed between the portion and the inner cylinder portion,
Exhaust means for exhausting air in the collection chamber, and flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means, A vent is formed at an opening end of the tubular portion to vent the clean air from the space between the outer tubular portion and the inner tubular portion to the inside of the collection chamber.
【0016】請求項2記載の発明によれば、以下のよう
な作用が得られる。すなわち、外筒部及び内筒部の開口
側を被評価物の表面に設置し、外筒部と内筒部との間の
空間に清浄空気を供給する。このとき、流量調整手段に
より、給気手段から供給される清浄空気の流量が排気手
段によって排気される空気の流量より大であるように調
整する。そして、清浄空気は、上記空間から、内筒部の
開口側に形成された通気部を通って捕集室内部に流れ込
む。このとき、上記のように、供給される清浄空気の流
量が排気される空気の流量よりも大とするため、清浄空
気の一部は外筒部と被評価物の表面との間の隙間から外
部へ漏れ、これによって外部の空気がチャンバ内に侵入
しない。According to the second aspect of the present invention, the following effects can be obtained. That is, the opening sides of the outer tube and the inner tube are set on the surface of the device to be evaluated, and clean air is supplied to the space between the outer tube and the inner tube. At this time, the flow rate adjusting means adjusts the flow rate of the clean air supplied from the air supply means to be larger than the flow rate of the air exhausted by the exhaust means. Then, the clean air flows into the collection chamber from the space through the ventilation part formed on the opening side of the inner cylinder part. At this time, as described above, since the flow rate of the supplied clean air is larger than the flow rate of the exhausted air, a part of the clean air is supplied from a gap between the outer cylinder and the surface of the device to be evaluated. Leaks to the outside, so that no outside air enters the chamber.
【0017】そして、捕集室内部に流れ込んだ清浄空気
は、被評価物の表面近傍を通過する。このとき、被評価
物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、ガス
捕集室の容積があることから、拡散により被評価物から
ガスが発生し、排気手段によって内筒部内部の空気とし
て排気される。The clean air flowing into the collection chamber passes near the surface of the object to be evaluated. At this time, in addition to the moving flow of the clean air passing near the surface of the object to be evaluated, the gas is generated from the object to be evaluated by diffusion due to the volume of the gas collecting chamber, and the gas is generated inside the inner cylinder by the exhaust means. Exhausted as air.
【0018】一方、流量調整手段により、給気手段によ
る清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止させ、
一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して捕集
室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とがガス
の濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって清浄
空気を供給し、排気手段によって捕集室内部の空気を排
気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを捕集す
ることができる。On the other hand, the supply of clean air by the air supply unit and the exhaust by the exhaust unit are stopped by the flow rate adjusting unit.
When allowed to stand for a certain period of time, gas is generated from the evaluation object and diffuses into the space inside the collection chamber, and the gas phase inside the evaluation object and the evaluation object are in a gas concentration equilibrium state. Thereafter, the gas in the above concentration equilibrium state can be collected by supplying the clean air by the air supply means and exhausting the air in the collection chamber by the exhaust means.
【0019】このように、本発明によれば、清浄空気を
通気して移動流及び濃度拡散により被評価物からガスを
発生させて捕集する方法と、被評価物と気相との濃度平
衡状態でのガスを捕集する方法との両方の方法を採用す
ることができる。As described above, according to the present invention, a method for generating and collecting gas from a device to be evaluated by moving a flow and concentration diffusion by passing clean air, and a method for equilibrium concentration between a device to be evaluated and a gas phase are provided. Both a method of collecting gas in a state and a method of collecting gas in a state can be adopted.
【0020】また、本発明によれば、チャンバを被評価
物の表面に設置することができ、被評価物の表面から発
生するガスを捕集することができる。そのため、実際に
ガスが発生する状況と同様の状況で発生ガスの評価を行
うことができる。また、実際にその被評価物が使用され
ている場所でガスを捕集することができる。Further, according to the present invention, the chamber can be installed on the surface of the object to be evaluated, and the gas generated from the surface of the object to be evaluated can be collected. Therefore, the generated gas can be evaluated in the same situation as the situation where the gas is actually produced. Further, gas can be collected at a place where the evaluation object is actually used.
【0021】また、清浄空気が外部に漏れることにより
外部の空気が侵入せず、チャンバ内部の気密性が不要で
あるため、チャンバと被評価物とを固定するためのシー
ル材やパッキン材等を設ける必要がない。そのため、そ
れらシール材やパッキン材等から発生するガスの影響を
受けることがない。Further, since the clean air leaks to the outside, the outside air does not enter, and the inside of the chamber does not need to be airtight. Therefore, a sealing material or a packing material for fixing the chamber and the object to be evaluated is required. No need to provide. Therefore, it is not affected by the gas generated from the sealing material or the packing material.
【0022】請求項3記載の発明によるガス評価装置
は、請求項2記載の発明において、前記通気部が、前記
内筒部の開口端が前記外筒部の開口端よりも軸方向の内
側に位置することによって形成されていることを特徴と
している。According to a third aspect of the present invention, in the gas evaluation device according to the second aspect, the ventilation portion is arranged such that an opening end of the inner cylindrical portion is axially inside an opening end of the outer cylindrical portion. It is characterized by being formed by positioning.
【0023】請求項3記載の発明によれば、内筒部の開
口端が外筒部の開口端より内側に位置するため、チャン
バを被評価物の表面に設置した際に、外筒部のみが被評
価物の表面に接触し、内筒部は被評価物の表面に接触し
ない。すなわち、内筒部の開口端と被評価物の表面との
間に間隙が形成される。そのため、内筒部と外筒部との
間の空間から、この間隙を通って捕集室内部に清浄空気
が流れ込む。According to the third aspect of the present invention, since the open end of the inner cylindrical portion is located inside the open end of the outer cylindrical portion, when the chamber is set on the surface of the device to be evaluated, only the outer cylindrical portion is provided. Are in contact with the surface of the evaluation object, and the inner cylindrical portion does not contact the surface of the evaluation object. That is, a gap is formed between the opening end of the inner cylindrical portion and the surface of the device to be evaluated. Therefore, clean air flows into the collection chamber from the space between the inner cylinder and the outer cylinder through this gap.
【0024】請求項4記載の発明によるガス評価装置
は、請求項1乃至3のいずれか1項記載の発明におい
て、前記給気手段が給気管を有し、前記排気手段が排気
管を有し、前記流量調整手段が、前記給気管を流れる清
浄空気の流量を調整する給気バルブと、前記排気手段を
流れる空気の流量を調整する排気バルブとからなること
を特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the gas evaluation apparatus according to any one of the first to third aspects, the air supply means has an air supply pipe and the exhaust means has an exhaust pipe. The flow rate adjusting means includes an air supply valve for adjusting a flow rate of clean air flowing through the air supply pipe, and an exhaust valve for adjusting a flow rate of air flowing through the exhaust means.
【0025】請求項4記載の発明によれば、給気バルブ
と排気バルブとを制御することにより、清浄空気の流量
と排気される空気の流量とを調整し、外筒部と内筒部と
の圧力のバランスを制御することができる。また、給気
バルブと排気バルブとを全閉とすることにより、被評価
物と気相とのガスの濃度平衡状態におけるガスの捕集が
可能となる。According to the fourth aspect of the present invention, by controlling the air supply valve and the exhaust valve, the flow rate of the clean air and the flow rate of the exhausted air are adjusted, and the outer cylinder and the inner cylinder are adjusted. The pressure balance can be controlled. Further, by fully closing the air supply valve and the exhaust valve, it becomes possible to collect gas in a state where the gas concentration of the evaluation object and the gaseous phase is equilibrium.
【0026】請求項5記載の発明によるガス評価装置
は、請求項1乃至4のいずれか1項記載の発明におい
て、前記チャンバが、透明のガラス製であることを特徴
としている。請求項5記載の発明によれば、チャンバの
外側にヒータ等の加熱手段を設置して被評価物の表面を
加熱することができるため、従来のように被評価物の裏
面等から加熱する必要がない。According to a fifth aspect of the present invention, in the gas evaluating apparatus according to any one of the first to fourth aspects, the chamber is made of transparent glass. According to the fifth aspect of the present invention, since the surface of the device to be evaluated can be heated by installing a heating means such as a heater outside the chamber, it is necessary to heat from the back surface of the device to be evaluated as in the conventional case. There is no.
【0027】請求項6記載の発明によるガス評価装置
は、請求項1乃至5のいずれか1項において、前記捕集
室内に加熱手段を組み込んだことを特徴としている。請
求項7記載の発明によるガス評価装置は、請求項2乃至
5のいずれか1項記載の発明において、前記内筒部の表
面に、前記捕集室内の物質が付着しないようにコーティ
ングを施したことを特徴としている。請求項6及び7記
載の発明によれば、例えば発生したガスが凝縮してチャ
ンバ又は内筒部の表面等に付着するといったことを防止
することができる。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a gas evaluation apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein a heating means is incorporated in the collection chamber. According to a seventh aspect of the present invention, in the gas evaluation apparatus according to any one of the second to fifth aspects, a coating is applied to a surface of the inner cylindrical portion so that substances in the collection chamber do not adhere. It is characterized by: According to the inventions described in claims 6 and 7, it is possible to prevent, for example, generated gas from condensing and adhering to the surface of the chamber or the inner cylinder.
【0028】請求項8記載の発明によるガス評価装置
は、請求項1乃至7のいずれか1項において、前記チャ
ンバ、前記給気手段、前記排気手段、及び前記流量調整
手段を搭載した台車を具備し、前記台車は、前記チャン
バの開口側が自在に向きを変えることができるように該
チャンバを支持する支持手段と、前記チャンバを上下に
移動可能に支持する昇降手段とを備えたことを特徴とし
ている。According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a gas evaluation apparatus according to any one of the first to seventh aspects, further comprising a bogie on which the chamber, the air supply means, the exhaust means, and the flow rate adjustment means are mounted. The bogie has a support means for supporting the chamber so that the opening side of the chamber can freely change its direction, and an elevating means for supporting the chamber so as to be vertically movable. I have.
【0029】請求項8記載の発明によれば、台車を移動
させ、昇降手段によってチャンバを上下に移動し、支持
手段によってチャンバの向きを変えることにより、壁
面、天井面等、あらゆる方向及び高さの被評価物につい
て評価することができる。また、台車を自動で運転する
ことにより、複数箇所の評価を効率よく行うことができ
る。According to the eighth aspect of the present invention, the cart is moved, the chamber is moved up and down by the elevating means, and the direction of the chamber is changed by the supporting means, so that all directions and heights such as a wall surface, a ceiling surface and the like can be obtained. Can be evaluated. In addition, by automatically driving the cart, it is possible to efficiently evaluate a plurality of locations.
【0030】請求項9記載の発明は、請求項1乃至8の
いずれか1項記載の発明において、赤外線を熱源とし、
前記被評価物を加熱して該被評価物からのガス発生を促
進する被評価物加熱手段を具備することを特徴としてい
る。請求項10記載の発明は、請求項9記載の発明にお
いて、前記被評価物加熱手段が、赤外線ランプからなる
ことを特徴としている。請求項11記載の発明は、請求
項9記載の発明において、前記被評価物加熱手段が、輻
射パネルからなることを特徴としている。According to a ninth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, infrared rays are used as a heat source,
An evaluation object heating means for heating the evaluation object to promote gas generation from the evaluation object is provided. According to a tenth aspect of the present invention, in the ninth aspect of the present invention, the evaluation object heating means comprises an infrared lamp. An eleventh aspect of the present invention is characterized in that, in the ninth aspect of the present invention, the evaluation object heating means comprises a radiation panel.
【0031】請求項9、10、又は11記載の発明によ
れば、以下のような作用効果が得られる。すなわち、低
発ガス性の被評価物を用いる場合、または、従来の被評
価物で時間の経過によりガス発生量が減少してきた場合
であっても、捕集時間を短縮することができる。また、
赤外線を熱源とするため、被評価物の下部にホットプレ
ートを直接設置する等、直接熱エネルギーを入力する方
法のように、被評価物内部の物質の拡散に影響を与える
ことが無い。そのため、実際に被評価物が設置されてい
る状況を考慮して温度による脱ガス特性を検証する場
合、例えば、室内に加熱源がある状況で被評価物から発
生するガスを評価する場合等に、対応することができ
る。すなわち、実際に熱エネルギーが入力される場合と
同じ条件で、脱ガス特性を検証することが可能となる。According to the ninth, tenth, or eleventh aspect, the following operation and effect can be obtained. That is, even when a low-gas-generating substance to be evaluated is used, or when the amount of gas generated by a conventional substance to be evaluated decreases over time, the collection time can be shortened. Also,
Since infrared rays are used as a heat source, there is no influence on the diffusion of the substance inside the object to be evaluated unlike the method of directly inputting thermal energy, such as a method of directly installing a hot plate below the object to be evaluated. Therefore, when verifying the degassing characteristics due to temperature in consideration of the situation where the object to be evaluated is actually installed, for example, when evaluating the gas generated from the object to be evaluated in a situation where there is a heating source in the room, etc. , Can respond. That is, it is possible to verify the degassing characteristics under the same conditions as when thermal energy is actually input.
【0032】請求項12記載の発明は、請求項9乃至1
1のいずれか1項記載の発明において、前記被評価物加
熱手段が、前記チャンバ自体に組み込まれていることを
特徴としている。請求項13記載の発明は、請求項9乃
至11のいずれか1項記載の発明において、前記被評価
物加熱手段が、前記チャンバの内部に設置されているこ
とを特徴としている。The twelfth aspect of the present invention provides the ninth to the first aspects.
The invention according to any one of the first to fifth aspects, wherein the evaluation object heating means is incorporated in the chamber itself. According to a thirteenth aspect, in the invention according to any one of the ninth to eleventh aspects, the evaluation object heating means is provided inside the chamber.
【0033】請求項14記載の発明は、請求項9乃至1
1のいずれか1項記載の発明において、前記チャンバ
が、透明のガラス製であり、前記被評価物加熱手段が、
前記チャンバの外部に設置されていることを特徴として
いる。請求項12、13、又は14記載の発明によれ
ば、簡単な構成で上述した請求項9、10、又は11記
載の発明による作用効果を得ることができる。The invention according to claim 14 is the invention according to claims 9 to 1
In the invention according to any one of the first to third aspects, the chamber is made of transparent glass, and the device to be evaluated is heated by:
It is characterized by being installed outside the chamber. According to the twelfth, thirteenth, or fourteenth aspect, it is possible to obtain the operational effects of the ninth, tenth, or eleventh aspects with a simple configuration.
【0034】請求項15記載の発明は、請求項9乃至1
4のいずれか1項記載の発明において、前記排気手段か
ら排気される前記捕集室内の空気を冷却する冷却手段を
具備することを特徴としている。請求項15記載の発明
によれば、排気手段から排気された空気を冷却すること
により、温度が高いことによる捕集率の低下を防止する
ことができる。According to the fifteenth aspect, there is provided the ninth to the first aspects.
5. The invention according to claim 4, further comprising cooling means for cooling air in the collection chamber exhausted from the exhaust means. According to the fifteenth aspect, by cooling the air exhausted from the exhaust means, it is possible to prevent a decrease in the collection rate due to a high temperature.
【0035】請求項16記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチ
ャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手
段と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記
給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気
手段によって排気される空気の流量とを調整する流量調
整手段とを具備するガス評価装置を使用して、前記チャ
ンバの開口端側が前記被評価物の表面に接触するように
配置し、前記流量調整手段により、前記給気手段から供
給される清浄空気の流量が前記排気手段によって排気さ
れる空気の流量より大であるように調整することを特徴
としている。According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a gas evaluation method for collecting and evaluating a gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a chamber having an opening at one end and a gas collecting chamber formed therein. Air supply means for supplying clean air into the chamber, exhaust means for exhausting air in the collection chamber, flow rate of clean air supplied by the air supply means, and flow rate of air exhausted by the exhaust means. Using a gas evaluation device having a flow rate adjusting means for adjusting a flow rate, an opening end side of the chamber is disposed so as to contact a surface of the object to be evaluated, and the air supply means is provided by the flow rate adjusting means. It is characterized in that the flow rate of the clean air supplied from is adjusted so as to be larger than the flow rate of the air exhausted by the exhaust means.
【0036】請求項16記載の発明によれば、以下のよ
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によってチャンバ内部の空気として排気される。According to the sixteenth aspect, the following operation can be obtained. That is, the clean air sent into the collection chamber passes near the surface of the evaluation object. At this time, in addition to the moving flow of the clean air passing near the surface of the object to be evaluated, gas is generated from the object to be evaluated due to concentration diffusion, and the gas is exhausted as air inside the chamber by the exhaust means.
【0037】請求項17記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触
するように前記チャンバを配置し、前記流量調整手段に
より、前記給気手段から供給される清浄空気の流量が前
記排気手段によって排気される空気の流量より大である
ように調整し、前記給気手段によって前記外筒部と内筒
部との間に形成される空間に清浄空気を供給することに
より該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排気手
段によって前記捕集室内の空気を排気することを特徴と
している。According to a seventeenth aspect of the present invention, in the gas evaluation method for collecting and evaluating gas generated on the surface of the object to be evaluated, a cylindrical outer cylindrical portion having one open end and an inner side of the outer cylindrical portion are provided. A chamber in which a gas collecting chamber is formed in the inner cylinder portion, the chamber including a cylindrical inner cylinder portion having an open end on the opening side of the outer cylinder portion; Air supply means for supplying clean air to a space formed between the portion and the inner cylinder portion,
Exhaust means for exhausting air in the collection chamber, and flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means, At the open end of the cylindrical portion, using a gas evaluation device in which a ventilation portion that vents the clean air from the space between the outer cylinder portion and the inner cylinder portion to the inside of the collection chamber is formed. The chamber is arranged so that the opening end side of the cylindrical portion is in contact with the surface of the object to be evaluated, and the flow rate of the clean air supplied from the air supply means is reduced by the flow rate adjusting means. Is adjusted so as to be larger than the flow rate, and the clean air is fed into the collection chamber by supplying clean air to a space formed between the outer cylindrical portion and the inner cylindrical portion by the air supply means. Collecting by the exhaust means It is characterized by evacuating the air in the.
【0038】請求項17記載の発明によれば、以下のよ
うな作用が得られる。すなわち、捕集室内に送り込まれ
た清浄空気は、被評価物の表面近傍を通過する。このと
き、被評価物の表面近傍を通過する清浄空気の移動流に
加え、濃度拡散により被評価物からガスが発生し、排気
手段によって内筒部内部の空気として排気される。According to the seventeenth aspect, the following operation can be obtained. That is, the clean air sent into the collection chamber passes near the surface of the evaluation object. At this time, in addition to the moving flow of the clean air passing near the surface of the object to be evaluated, gas is generated from the object to be evaluated due to concentration diffusion, and the gas is exhausted by the exhaust means as air inside the inner cylinder.
【0039】請求項18記載の発明は、被評価物の表面
に発生するガスを捕集して評価するガス評価方法におい
て、一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側
に同軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開
口した筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕
集室が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との
間に形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、
前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手
段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段に
よって排気される空気の流量とを調整する流量調整手段
とを具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒
部との間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通
気する通気部が形成されているガス評価装置を使用し
て、前記流量調整手段によって前記給気手段による清浄
空気の供給及び前記排気手段による排気を停止させ、前
記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触するよ
うに前記チャンバを配置し、前記被評価物の表面から発
生するガスが前記捕集室内で拡散してこの捕集室内の気
相と前記被評価物とがガスの濃度平衡状態となるまで静
置し、その後前記給気手段によって清浄空気を供給する
ことにより該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記
排気手段によって前記捕集室内の空気を排気することを
特徴としている。According to a still further aspect of the present invention, there is provided a gas evaluation method for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a cylindrical outer cylindrical portion having an open end; A chamber in which a gas collecting chamber is formed in the inner cylinder portion, the chamber including a cylindrical inner cylinder portion having an open end on the opening side of the outer cylinder portion; Air supply means for supplying clean air to a space formed between the portion and the inner cylinder portion,
Exhaust means for exhausting air in the collection chamber, and flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means, At the opening end of the cylindrical portion, using a gas evaluation device in which a ventilation portion that vents the clean air from the space between the outer cylindrical portion and the inner cylindrical portion to the inside of the collection chamber is formed, The supply of the clean air by the air supply unit and the exhaust by the exhaust unit are stopped by the adjusting unit, and the chamber is arranged so that the opening end side of the outer cylindrical portion contacts the surface of the object to be evaluated. The gas generated from the surface of the object diffuses in the collection chamber, and the gas phase in the collection chamber and the object to be evaluated are allowed to stand until a gas concentration equilibrium state is established. By supplying the clean sky The fed into the collection chamber, and wherein evacuating the air in the collection chamber by the exhaust means.
【0040】請求項18記載の発明によれば、給気手段
による清浄空気の供給及び排気手段による排気を停止さ
せて一定時間静置すると、被評価物からガスが発生して
捕集室内部の空間に拡散し、内部の気相と被評価物とが
ガスの濃度平衡状態となる。この後、給気手段によって
清浄空気を供給し、排気手段によって内筒部の内部の空
気を排気することにより、上記濃度平衡状態でのガスを
捕集することができる。According to the eighteenth aspect of the invention, when the supply of the clean air by the air supply means and the exhaustion by the exhaust means are stopped and the apparatus is allowed to stand for a certain period of time, gas is generated from the object to be evaluated and The gas diffuses into the space, and the gas phase and the object to be evaluated are in a gas concentration equilibrium state. Thereafter, the gas in the above-mentioned concentration equilibrium state can be collected by supplying clean air by the air supply means and exhausting the air inside the inner cylinder by the exhaust means.
【0041】[0041]
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態を図面を参照して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0042】[1.構成]図1は、本発明の実施の形態
によるガス評価装置の構成を示す断面図である。同図に
示すように、本実施の形態によるガス評価装置は、略円
筒状の外筒部2と内筒部3の二重管からなるチャンバ1
で構成されている。これら外筒部2及び内筒部3は、耐
熱ガラスもしくは石英ガラス等から形成されており、そ
の下端部が開口している。また、外筒部2は、上面の中
央が突出した形状となっている。更に、内筒部3は、内
側に広い空間S1 を有すると共に、外筒部2との間に一
定の空間S2 を設けて配置されている。[1. Configuration] FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a gas evaluation device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the gas evaluation device according to the present embodiment is a chamber 1 comprising a double pipe of a substantially cylindrical outer cylinder 2 and an inner cylinder 3.
It is composed of The outer tube portion 2 and the inner tube portion 3 are made of heat-resistant glass or quartz glass, and have lower ends opened. The outer cylinder 2 has a shape in which the center of the upper surface protrudes. Further, the inner cylindrical portion 3 has a wide space S1 on the inner side, and is provided with a certain space S2 between the inner cylindrical portion 3 and the outer cylindrical portion 2.
【0043】上記チャンバ1は、その開口した一端が被
評価材料である建材4の表面に接するように設置される
ようになっており、外筒部2の下端部のみが建材4に接
触し、内筒部3の下端部は接触せず、建材4に対して所
定の間隙を有する構造となっている。このため、この間
隙を介して、空間S1 と空間S2 との間で空気が移動可
能となっている。また、チャンバ1は、図1に示すよう
に、シール材やパッキン材等を使用せずに建材4の表面
に配置されるようになっている。The chamber 1 is installed so that one open end thereof is in contact with the surface of the building material 4 which is the material to be evaluated, and only the lower end of the outer cylindrical portion 2 contacts the building material 4. The lower end of the inner cylindrical portion 3 does not contact, and has a predetermined gap with respect to the building material 4. Therefore, air can move between the space S1 and the space S2 through the gap. Further, as shown in FIG. 1, the chamber 1 is arranged on the surface of the building material 4 without using a sealing material or a packing material.
【0044】また、外筒部2の上述した突出部分の側面
には、給気バルブ5が取り付けられた給気管6が設けら
れており、この給気管6によって、活性炭等で処理した
清浄空気が上記空間S2 内に供給されるようになってい
る(矢印A)。更に、内筒部3の上部には、排気バルブ
7が取り付けられた排気管8が接続されており、この排
気管8によって、内筒部3内の空気が排気されて(矢印
B)、図示しない捕集材に供給されるようになってい
る。An air supply pipe 6 to which an air supply valve 5 is attached is provided on a side surface of the above-mentioned protruding portion of the outer cylindrical portion 2. The air supply pipe 6 allows clean air treated with activated carbon or the like to flow through the air supply pipe 6. The air is supplied into the space S2 (arrow A). Further, an exhaust pipe 8 to which an exhaust valve 7 is attached is connected to the upper part of the inner cylinder 3, and the air in the inner cylinder 3 is exhausted by the exhaust pipe 8 (arrow B), and is shown in the drawing. Not to be supplied to the collecting material.
【0045】このような構成により、給気管6から供給
される清浄空気は、給気量と排気量の差だけ外筒部2か
ら外部へ漏れ(矢印C)、排気量分が内筒部3と建材4
との間隙を通って内筒部3内に流れ込むようになってい
る(矢印D)。With this configuration, the clean air supplied from the air supply pipe 6 leaks from the outer cylinder 2 to the outside by the difference between the air supply amount and the exhaust amount (arrow C), and the amount of the exhaust air is reduced to the inner cylinder portion 3. And building materials 4
And flows into the inner cylindrical portion 3 through the gap (arrow D).
【0046】また、上記チャンバ1は、例えば図2に示
すような治具10a,10bによって支持する。すなわ
ち、チャンバ1をクリーンルーム内の壁面に配置する場
合は、図2(a)に示すようにチャンバ1の側面を治具
10aによって支持し、天井に配置する場合は、同図
(b)に示すようにチャンバ1の上部を治具10bによ
って支持する。The chamber 1 is supported by jigs 10a and 10b as shown in FIG. That is, when the chamber 1 is arranged on the wall surface in the clean room, the side surface of the chamber 1 is supported by the jig 10a as shown in FIG. 2A, and when it is arranged on the ceiling, it is shown in FIG. The upper part of the chamber 1 is supported by the jig 10b as described above.
【0047】または、図3に示すような装置を用いて、
自動運転等によりガスを捕集するようにしてもよい。す
なわち、図3に示す装置では、台車11上に、チャンバ
1、給気管6を介して清浄空気を供給するためのポンプ
12、及び排気管8から排気される空気を捕集する捕集
材13等が設置されており、それらがリフト14によっ
て上下に移動可能となっている。また、チャンバ1は、
その外周の一部が把持部材15によって把持されてお
り、その把持部材15が軸16を介して支持部材17に
より回転可能に支持されている。これにより、チャンバ
1が矢印E方向に回転し、クリーンルーム内の各方向に
向くことができるようになっている。Alternatively, using an apparatus as shown in FIG.
The gas may be collected by automatic operation or the like. That is, in the apparatus shown in FIG. 3, a pump 12 for supplying clean air via the chamber 1, the air supply pipe 6, and a collecting material 13 for collecting air exhausted from the exhaust pipe 8 are provided on the cart 11. And the like, which can be moved up and down by a lift 14. Also, chamber 1
A part of the outer periphery is held by a holding member 15, and the holding member 15 is rotatably supported by a support member 17 via a shaft 16. This allows the chamber 1 to rotate in the direction of the arrow E and be directed in each direction in the clean room.
【0048】[2.作用効果]次に、上述した構成を有す
る本実施の形態の作用効果について説明する。ここで
は、図2に示す治具10aもしくは10bによってチャ
ンバ1を支持するか、もしくは、図3に示す装置を移動
させるかにより、チャンバ1を評価対象の建材の表面に
設置する。[2. Operation and Effect] Next, the operation and effect of the present embodiment having the above-described configuration will be described. Here, the chamber 1 is installed on the surface of the building material to be evaluated depending on whether the chamber 1 is supported by the jig 10a or 10b shown in FIG. 2 or the apparatus shown in FIG. 3 is moved.
【0049】[ ダイナミックヘッドスペース法的な使用
の場合]まず、ダイナミックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図1を参照して説明する。この場合、
給気バルブ5及び排気バルブ7を、給気量Q0 と排気量
Q1 との関係がQ0 >Q1 であるように調整して開き、
清浄空気を通気させる。すなわち、給気量Q0 を排気量
Q1 より大とすることにより、矢印Cに示すように清浄
空気が外部へ漏れることによって、外部の空気がチャン
バ1内に侵入しないようにする。そして、矢印Aに示す
ように給気管6から清浄空気を供給し、空間S2 を介し
て矢印Dに示すように清浄空気を内筒部3内に供給し、
建材4から発生するガスを含む空間S1 内の空気を矢印
Bに示すように排気管8から排気させる。なお、このと
き、スタティックヘッドスペース法的な使用の場合と同
様に、ヒータ等によって建材4を加熱するようにしても
よい。この加熱の方法は、後述するスタティックヘッド
スペース法的な方法の場合と同様とする。[Case of Use with Dynamic Headspace Method] First, the case of use with the dynamic headspace method will be described with reference to FIG. in this case,
The intake valve 5 and the exhaust valve 7 are adjusted and opened so that the relationship between the supply amount Q0 and the exhaust amount Q1 satisfies Q0> Q1,
Vent clean air. That is, by setting the supply air amount Q0 to be larger than the exhaust air amount Q1, the clean air leaks to the outside as shown by the arrow C, thereby preventing the outside air from entering the chamber 1. Then, clean air is supplied from the air supply pipe 6 as shown by an arrow A, and clean air is supplied into the inner cylinder portion 3 as shown by an arrow D through the space S2.
The air in the space S1 containing the gas generated from the building material 4 is exhausted from the exhaust pipe 8 as shown by the arrow B. At this time, the building material 4 may be heated by a heater or the like as in the case of using the static headspace method. This heating method is the same as the static head space method described later.
【0050】そして、一定時間経過した後に、図示しな
い捕集材によってガスを捕集する。このとき、建材4の
表面近傍を通過する清浄空気の移動流に加え、濃度拡散
により建材4からガスが発生し、そのガスを含む内筒部
3内部の空気が排気管8から排気される。After a certain period of time, the gas is collected by a collecting material (not shown). At this time, in addition to the moving flow of the clean air passing near the surface of the building material 4, gas is generated from the building material 4 due to concentration diffusion, and the air inside the inner cylinder portion 3 containing the gas is exhausted from the exhaust pipe 8.
【0051】[スタティックヘッドスペース法的な使用
の場合]次に、スタティックヘッドスペース法的な使用
の場合について、図4を参照して説明する。まず、給気
バルブ5及び排気バルブ7を全て閉じて、チャンバ1を
建材4の上に設置する。そして、一定の時間静置する。
このとき、図4に示すように、輻射パネル等のヒータ1
8をチャンバ1の近辺に配置して放射熱によってチャン
バ1内を加熱してもよい。[Case of Use with Static Headspace Method] Next, a case of use with the static headspace method will be described with reference to FIG. First, the supply valve 5 and the exhaust valve 7 are all closed, and the chamber 1 is placed on the building material 4. Then, it is allowed to stand for a certain time.
At this time, as shown in FIG.
8 may be arranged near the chamber 1 to heat the inside of the chamber 1 by radiant heat.
【0052】この間、建材4の表面から揮発するガス
は、空間S1 内に拡散し、一定の時間が経過すると建材
4と空間S1 内の気相との間でガスの濃度平衡状態とな
る。その後、給気バルブ5及び排気バルブ7を開き、給
気管6から清浄空気を供給し、空間S2 を介して内筒部
3内に供給する。そして、空間S1 内の空気を排気管8
から排気させて、図示しない捕集材によって捕集する。
なお、給気管6からの給気量Q0 と排気管8からの排気
量Q1 との関係がQ0 >Q1 であるように、給気バルブ
5と排気バルブ7とを調整する。During this time, the gas volatilized from the surface of the building material 4 diffuses into the space S1, and after a certain period of time, the gas concentration in the building material 4 and the gas phase in the space S1 is in a state of equilibrium. Thereafter, the air supply valve 5 and the exhaust valve 7 are opened, and clean air is supplied from the air supply pipe 6 and supplied into the inner cylinder 3 through the space S2. The air in the space S1 is exhausted by the exhaust pipe 8.
From the air, and collected by a collecting material (not shown).
The supply valve 5 and the exhaust valve 7 are adjusted so that the relationship between the supply amount Q0 from the supply pipe 6 and the displacement Q1 from the exhaust pipe 8 satisfies Q0> Q1.
【0053】[実施の形態の効果]以上のように本実施
の形態によれば、チャンバ1を建材の表面に設置するだ
けでよいため、実際に建材を使用する現場での測定が可
能である。また、建材を切断等して加工せず、実際のガ
ス発生状況と同一の状況でガスを発生させることができ
るため、正確な評価を行うことができる。更に、内筒部
3の内部に広い空間S1 が形成されており、かつ、給気
バルブ5及び排気バルブ7を全閉にして清浄空気による
通気を行わないようにすることができるため、ダイナミ
ックヘッドスペース法的な使用のみならず、スタティッ
クヘッドスペース法的な使用も可能である。[Effects of the Embodiment] As described above, according to the present embodiment, it is only necessary to install the chamber 1 on the surface of the building material, and therefore, it is possible to perform the measurement at the site where the building material is actually used. . Further, since the building material can be generated in the same state as the actual gas generation state without processing by cutting or the like, accurate evaluation can be performed. Further, since a wide space S1 is formed inside the inner cylinder portion 3 and the air supply valve 5 and the exhaust valve 7 can be fully closed to prevent the ventilation with the clean air, the dynamic head Not only the space method but also the static headspace method can be used.
【0054】そのため、本実施の形態では、低沸点化合
物の高感度分析、及び高沸点化合物の高感度分析の双方
を容易に行うことができる。すなわち、分析するガスの
種類によって評価方法を変えることができる。更に、発
生したガスの捕集方法として、固体捕集法及び液体捕集
法の両方を採用することができる。例えば、固体捕集法
としては吸着剤として活性炭もしくはポーラスポリマー
等を使用し、液体捕集法としては純水等を使用する。Therefore, in the present embodiment, both high-sensitivity analysis of low-boiling compounds and high-sensitivity analysis of high-boiling compounds can be easily performed. That is, the evaluation method can be changed depending on the type of gas to be analyzed. Further, as a method for collecting the generated gas, both a solid collecting method and a liquid collecting method can be adopted. For example, activated carbon or a porous polymer is used as an adsorbent in the solid collecting method, and pure water or the like is used in the liquid collecting method.
【0055】また、チャンバ1内部の気密性が要求され
ないためにシール材もしくはパッキン材等を取り付ける
必要が無く、それらシール材、パッキン材等から発生す
るガスの影響を考慮する必要がない。なお、建材の形状
等に応じて、必要な場合は外筒部2の外側にシール材、
パッキン材等を装着することも可能である。Further, since airtightness inside the chamber 1 is not required, there is no need to attach a sealing material or a packing material, and it is not necessary to consider the influence of gas generated from the sealing material or the packing material. In addition, according to the shape of the building material, etc., if necessary, a sealing material
It is also possible to attach a packing material or the like.
【0056】また、チャンバ1がガラス製であるため、
建材4自体をその裏面から加熱するのではなく、チャン
バ1の外部から建材4の表面を加熱することができる。
更に、建材4上に設置する同一のチャンバ1の内筒部3
内の空間S1 にウェハを設置することにより、建材4か
ら発生するガスによるウェハの暴露実験を行うことがで
きる。Since the chamber 1 is made of glass,
Instead of heating the building material 4 itself from the back surface, the surface of the building material 4 can be heated from outside the chamber 1.
Furthermore, the inner cylinder 3 of the same chamber 1 installed on the building material 4
By placing the wafer in the space S1 in the interior, it is possible to perform an exposure experiment of the wafer with the gas generated from the building material 4.
【0057】また、本実施の形態では、内筒部3の内部
に試験体を設置することにより、従来の方法と同様な方
法でガスの評価実験を行うことができる。すなわち、ク
リーンルーム内の各種材料の一部を切断等して試験体と
して内筒部3内に設置し、上述したスタティックヘッド
スペース法的もしくはダイナミックヘッドスペース法的
に使用することによって、従来と同様のサンプリングが
可能となる。Further, in the present embodiment, a gas evaluation experiment can be performed by a method similar to the conventional method by installing a test body inside the inner cylindrical portion 3. That is, by cutting a part of various materials in the clean room, etc., and installing the same in the inner cylinder part 3 as a test body, and using the above-mentioned static head space method or dynamic head space method, the same as the conventional method is achieved. Sampling becomes possible.
【0058】[3.他の実施の形態]なお、本発明は上
述した実施の形態に限定されるものではなく、以下に示
すような各種態様も可能である。すなわち、チャンバ1
の形状は、図1に示すものに限らず、例えば図5に示す
チャンバ21のように立方体であってもよい。この場合
も、チャンバ21は外筒部22と内筒部23とからな
り、スタティックヘッドスペース法的に使用することが
可能な程度に内筒部23の内側に空間S3 が形成されて
いると共に、外筒部22と内筒部23との間に空間S4
が形成されている。[3. Other Embodiments] The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various embodiments as described below are possible. That is, chamber 1
Is not limited to the shape shown in FIG. 1 and may be a cube like a chamber 21 shown in FIG. 5, for example. Also in this case, the chamber 21 includes an outer cylinder 22 and an inner cylinder 23, and a space S3 is formed inside the inner cylinder 23 to such an extent that the chamber 21 can be used according to the static headspace method. A space S4 between the outer cylinder portion 22 and the inner cylinder portion 23
Are formed.
【0059】更に、図1及び図5において、内筒部3,
23の下端部は建材4から離れた形状となっているが、
外筒部2,22と同様に建材4に接触するようにし、そ
の下端部に複数の切欠部を設けて空間S2 またはS4 か
らの清浄空気がその切欠部を通過して空間S1 または空
間S3 に流れ込むような構成としてもよい。Further, in FIGS. 1 and 5, the inner cylindrical portion 3,
Although the lower end of 23 has a shape away from the building material 4,
It is made to contact the building material 4 in the same manner as the outer cylinders 2 and 22, and a plurality of notches are provided at the lower end thereof, and the clean air from the space S2 or S4 passes through the notch and enters the space S1 or S3. It is good also as a structure which flows in.
【0060】また、チャンバ1はガラス製に限らず、ス
テンレス等の金属製であってもよい。その場合、発生し
たガスの吸着等の影響を少なくするために、その内面に
対し、電解研磨、石英ライニング、石英ライニング及び
不活性化処理、フューズドシリカコーティング、もしく
はフューズドシリカ及び不活性膜コーティング等の処理
を施す。なお、このようにチャンバ1をガラス製ではな
く金属製とした場合に建材4を加熱する時は、図6に示
すように、建材4の裏面にヒータ19を設置する。The chamber 1 is not limited to glass, but may be metal such as stainless steel. In that case, in order to reduce the influence of adsorption of generated gas, etc., the inner surface is subjected to electrolytic polishing, quartz lining, quartz lining and passivation treatment, fused silica coating, or fused silica and inert film coating And so on. When the building material 4 is heated when the chamber 1 is made of metal instead of glass, a heater 19 is installed on the back surface of the building material 4 as shown in FIG.
【0061】また、例えば発生したガスが凝縮したもの
等、チャンバ1内の空気に含まれる物質が表面に付着す
るのを防止するために、図7もしくは図8に示すような
構成としてもよい。すなわち、図7に示すように、内筒
部3及び排気管8に沿って、チャンバ1内の空気が移動
する流路にヒータ30を組み込むようにしてもよい。あ
るいは、図8に示すように、内筒部3の表面に石英ライ
ニング、石英ライニング及び不活性化処理、ヒューズド
シリカコーティング、もしくはヒューズドシリカ及び不
活性膜コーティング等によるコーティング31を施すよ
うにしてもよい。In order to prevent a substance contained in the air in the chamber 1 such as a condensed gas generated from adhering to the surface, a structure as shown in FIG. 7 or FIG. 8 may be adopted. That is, as shown in FIG. 7, the heater 30 may be incorporated in the flow path in which the air in the chamber 1 moves along the inner cylinder portion 3 and the exhaust pipe 8. Alternatively, as shown in FIG. 8, a coating 31 such as a quartz lining, a quartz lining and a passivation treatment, a fused silica coating, or a fused silica and an inert film coating is applied to the surface of the inner cylindrical portion 3. Is also good.
【0062】更に、建材4の表面に電線が設置されてい
る場合、チャンバ1の形状を図9に示すような形状とす
る。ここで、図9(a)はチャンバ1の断面図であり、
(b)は正面図である。すなわち、外筒部2に、電線3
2の形状に対応した切欠部33が形成されている。ま
た、このとき、内筒部3と建材4との間は、電線32の
高さと同じかもしくはそれ以上の間隔が設けられている
ものとする。そして、評価の際には、上記切欠部13に
電線32がはまるようにチャンバ1を建材4の上に被せ
る。Further, when electric wires are installed on the surface of the building material 4, the shape of the chamber 1 is made as shown in FIG. Here, FIG. 9A is a sectional view of the chamber 1,
(B) is a front view. That is, the electric wire 3 is
A notch 33 corresponding to the shape 2 is formed. At this time, it is assumed that an interval equal to or greater than the height of the electric wire 32 is provided between the inner cylindrical portion 3 and the building material 4. Then, at the time of evaluation, the chamber 1 is put on the building material 4 so that the electric wire 32 fits into the cutout 13.
【0063】また、チャンバは、必ずしも外筒部と内筒
部の二重構造を用いた上記構成に限定されるものではな
く、給排気のバランスによってチャンバ内部を正圧に保
つことにより、外部からの空気の侵入を防止し、建材の
表面から発生するガスを捕集することができる構成であ
ればよい。更に、給気口及び排気口の位置は任意であっ
て、特に限定されるものではない。Further, the chamber is not necessarily limited to the above-described structure using the double structure of the outer cylinder and the inner cylinder, and the inside of the chamber is maintained at a positive pressure by the balance between supply and exhaust, so that the chamber can be protected from the outside. Any structure can be used as long as it can prevent the intrusion of air and collect gas generated from the surface of the building material. Further, the positions of the air supply port and the exhaust port are arbitrary, and are not particularly limited.
【0064】また、建材4を加熱する方法として、図1
0〜図12に示すような方法を採用してもよい。この場
合、熱源として、波長10-6〜10-4mの近赤外線域か
ら赤外線域の電磁波を用いる赤外線ランプ又は輻射パネ
ル等を使用する。なお、これらの図において、チャンバ
1は一重の場合を示しているが、上述した二重管からな
るチャンバ1にも採用することができる。As a method of heating the building material 4, FIG.
0 to 12 may be employed. In this case, as a heat source, an infrared lamp or a radiation panel using electromagnetic waves in the near infrared region to the infrared region having a wavelength of 10 @ -6 to 10 @ -4 m is used. In these figures, the case where the chamber 1 is single is shown, but the present invention can also be applied to the chamber 1 having the above-mentioned double tube.
【0065】また、図示していないが、各図におけるチ
ャンバ1には給気管が設けられており、N2 又はHe等
の不活性ガスあるいは活性炭等で処理した清浄空気が、
キャリアガスとして供給される。同様に、図示しない排
気管が設けられており、チャンバ1内の空気が排気され
て、捕集材を有する図示しない捕集部に供給されるよう
になっている。Although not shown, the chamber 1 in each figure is provided with an air supply pipe, and clean air treated with an inert gas such as N 2 or He or activated carbon is
It is supplied as a carrier gas. Similarly, an exhaust pipe (not shown) is provided, and the air in the chamber 1 is exhausted and supplied to a collecting section (not shown) having a collecting material.
【0066】図10に示す例では、チャンバ1自体に輻
射パネル等のヒータ40を組込むか又は張合せた構成と
なっている。同図(a)では、建材4の表面にチャンバ
1が配置されている。また、同図(b)では、建材4の
端部がチャンバ1の内壁に密着するように切断されてお
り、その建材4がチャンバ1の内部に配置されている。
更に、同図(c)では、適当に切断された建材4が、デ
シケータのようなチャンバ1の内部に配置されており、
建材4の切断面4aがアルミニウム箔等の被覆材41に
よって被覆されている。In the example shown in FIG. 10, a heater 40 such as a radiant panel is incorporated in or bonded to the chamber 1 itself. In FIG. 1A, a chamber 1 is arranged on the surface of a building material 4. In FIG. 2B, the end of the building material 4 is cut so as to be in close contact with the inner wall of the chamber 1, and the building material 4 is disposed inside the chamber 1.
Further, in FIG. 3C, the appropriately cut building material 4 is placed inside the chamber 1 such as a desiccator.
The cut surface 4a of the building material 4 is covered with a covering material 41 such as an aluminum foil.
【0067】また、図11に示す例では、チャンバ1の
内部に赤外線ランプ50が設置されている。この場合、
チャンバ1は、ガラス、ステンレス、又はアルミニウム
等、ガス分子が吸着しない材質からなる。また、図10
に示す例と同様に、図11(a)では建材4の表面にチ
ャンバ1が配置され、(b)ではチャンバ1の内壁に密
着するよう切断された建材4がチャンバ1内に配置さ
れ、(c)では適当に切断された建材4がチャンバ1の
内部に配置されている。なお、この場合、赤外線ランプ
50の代わりに輻射パネル等を設置してもよい。In the example shown in FIG. 11, an infrared lamp 50 is installed inside the chamber 1. in this case,
The chamber 1 is made of a material that does not adsorb gas molecules, such as glass, stainless steel, or aluminum. FIG.
11A, the chamber 1 is arranged on the surface of the building material 4 in FIG. 11A, and in FIG. 11B, the building material 4 cut so as to be in close contact with the inner wall of the chamber 1 is arranged in the chamber 1. In c), the appropriately cut building material 4 is placed inside the chamber 1. In this case, a radiation panel or the like may be provided instead of the infrared lamp 50.
【0068】更に、図12に示す例では、チャンバ1の
外部に赤外線ランプ50が設置されている。この場合、
チャンバ1は、耐熱ガラス又は石英ガラス等のガラス製
である。また、図10及び図11の例と同様に、図12
(a)では建材4の表面にチャンバ1が配置され、
(b)ではチャンバ1の内壁に密着するよう切断された
建材4がチャンバ1内に配置され、(c)では適当に切
断された建材4がチャンバ1の内部に配置されている。
なお、この場合も、赤外線ランプ50の代わりに輻射パ
ネル等を設置してもよい。Further, in the example shown in FIG. 12, an infrared lamp 50 is installed outside the chamber 1. in this case,
The chamber 1 is made of glass such as heat-resistant glass or quartz glass. Also, as in the example of FIGS. 10 and 11, FIG.
In (a), the chamber 1 is arranged on the surface of the building material 4,
In (b), the building material 4 cut so as to be in close contact with the inner wall of the chamber 1 is arranged in the chamber 1, and in (c), the appropriately cut building material 4 is arranged inside the chamber 1.
In this case, a radiation panel or the like may be provided instead of the infrared lamp 50.
【0069】また、これらの各場合において、図示しな
い捕集部に、配管等によって冷却機構を設けてもよい。
すなわち、図示しない排気管から排出されるチャンバ1
内の空気は、捕集部の捕集材によって捕集するまでの間
において、冷却機構によって常温付近まで冷却されるよ
うにする。このように、加熱されている空気を冷却する
ことにより、捕集材による捕集率が低くなるのを防止す
ることができる。なお、予め温度による捕集特性が分か
っている場合は、それに基づいて評価を行えばよいた
め、冷却機構を設けなくてもよい。In each of these cases, a cooling mechanism may be provided in the collecting section (not shown) by piping or the like.
That is, the chamber 1 discharged from an exhaust pipe (not shown)
The air inside is cooled by the cooling mechanism to near normal temperature until it is collected by the collection material of the collection unit. As described above, by cooling the heated air, it is possible to prevent the collection rate of the collection material from being lowered. In addition, when the trapping characteristics based on the temperature are known in advance, the evaluation may be performed based on the trapping characteristics. Therefore, the cooling mechanism may not be provided.
【0070】以上のような図10〜図12に示す構成に
より、以下のような効果が得られる。すなわち、低発ガ
ス性の建材を用いる場合、または、従来の建材で時間の
経過によりガス発生量が減少してきた場合であっても、
捕集時間を短縮することができる。また、赤外線を熱源
とするため、建材の下部にホットプレートを直接設置す
る等、直接熱エネルギーを入力する方法のように、建材
内部の物質の拡散に影響を与えることが無い。そのた
め、実際に建材が設置されている状況を考慮して温度に
よる脱ガス特性を検証する場合、例えば、室内に加熱源
がある状況で建材から発生するガスを評価する場合等
に、対応することができる。すなわち、実際に熱エネル
ギーが入力される場合と同じ条件で、脱ガス特性を検証
することが可能となる。With the configuration shown in FIGS. 10 to 12, the following effects can be obtained. In other words, when using a low-gas-generating building material, or even when the amount of gas generation has decreased over time with conventional building materials,
The collection time can be reduced. In addition, since infrared rays are used as a heat source, there is no influence on the diffusion of substances inside the building material unlike a method of directly inputting thermal energy, such as a hot plate being directly installed below the building material. Therefore, when verifying the degassing characteristics by temperature in consideration of the situation where building materials are actually installed, for example, when evaluating the gas generated from building materials in a situation where there is a heating source in the room, it is necessary to respond. Can be. That is, it is possible to verify the degassing characteristics under the same conditions as when thermal energy is actually input.
【0071】また、本発明は、クリーンルームにおける
材料の発生ガスの分析・評価に限らず、他の施設におけ
る有機物等の発生ガスの評価に使用してもよい。The present invention is not limited to the analysis and evaluation of the generated gas of the material in the clean room, but may be used for the evaluation of the generated gas such as organic substances in other facilities.
【0072】[0072]
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、材料
に直接配置することができるため材料の切断等の加工が
不要であり、低コストで、現場での測定が可能であり、
実際のガスの発生状況と同様の状況で材料からの発生ガ
スを正確に評価することができる。そのため、発生ガス
の少ない建材を選択することができ、かつ、そのガス発
生の追跡調査を現場測定によって容易に行うことができ
る。As described above, according to the present invention, processing such as cutting of a material is unnecessary because it can be directly arranged on a material, and low-cost, on-site measurement is possible.
The gas generated from the material can be accurately evaluated in the same situation as the actual gas generation situation. Therefore, it is possible to select a building material that generates a small amount of gas, and it is possible to easily carry out a follow-up survey of the gas generation by site measurement.
【0073】また、本発明によれば、チャンバを直接材
料の表面に配置するだけでよいため、その材料の単位面
積及び時間当たりで発生するガス量を容易に求めること
ができる。一般に、クリーンルームを設計する際に各材
料の表面積を算出するが、このとき、上記のように材料
の単位面積及び時間当たりで発生するガス量を把握する
ことができるため、クリーンルーム雰囲気中の化学物質
の濃度を予測することができ、クリーンルーム内に設置
するフィルタの設置計画を容易に行うことができる。Further, according to the present invention, since the chamber only needs to be disposed directly on the surface of the material, the amount of gas generated per unit area and time of the material can be easily obtained. Generally, when designing a clean room, the surface area of each material is calculated. At this time, the amount of gas generated per unit area and time of the material can be grasped as described above. Of the filter can be predicted, and the installation plan of the filter to be installed in the clean room can be easily performed.
【図1】本発明の第1の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a gas evaluation device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】同実施の形態においてチャンバ1を支持する治
具10a,10bの例を示す図である。FIG. 2 is a view showing an example of jigs 10a and 10b supporting a chamber 1 in the embodiment.
【図3】同実施の形態におけるガス評価装置の全体構成
例を示す概略側面図である。FIG. 3 is a schematic side view showing an example of the entire configuration of the gas evaluation device in the embodiment.
【図4】同実施の形態によるガス評価装置の一使用例を
示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of use of the gas evaluation device according to the embodiment.
【図5】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention.
【図6】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
使用例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of use of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention.
【図7】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention.
【図8】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention.
【図9】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置の
構成を示す図であり、(a)は断面図、(b)は正面図
である。FIGS. 9A and 9B are diagrams showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 9A is a sectional view and FIG. 9B is a front view.
【図10】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、(a)は建材4の表面にチャン
バ1を配置した図、(b)は建材4をチャンバ1内部に
配置した図、及び(c)は切断した建材4をチャンバ1
内部に配置した図である。10A and 10B are diagrams showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 10A is a diagram in which a chamber 1 is arranged on the surface of a building material 4, and FIG. And (c) shows the cut building material 4 in the chamber 1
It is the figure arranged inside.
【図11】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、(a)は建材4の表面にチャン
バ1を配置した図、(b)は建材4をチャンバ1内部に
配置した図、及び(c)は切断した建材4をチャンバ1
内部に配置した図である。11A and 11B are diagrams showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 11A is a diagram in which a chamber 1 is arranged on the surface of a building material 4, and FIG. And (c) shows the cut building material 4 in the chamber 1
It is the figure arranged inside.
【図12】本発明の他の実施の形態によるガス評価装置
の構成を示す図であり、(a)は建材4の表面にチャン
バ1を配置した図、(b)は建材4をチャンバ1内部に
配置した図、及び(c)は切断した建材4をチャンバ1
内部に配置した図である。12A and 12B are diagrams showing a configuration of a gas evaluation device according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 12A is a diagram in which a chamber 1 is arranged on the surface of a building material 4, and FIG. And (c) shows the cut building material 4 in the chamber 1
It is the figure arranged inside.
1…チャンバ 2…外筒部 3…内筒部 4…建材 5…給気バルブ 6…給気管 7…排気バルブ 8…排気管 10a、10b…治具 11…台車 12…ポンプ 13…捕集材 14…リフト 15…把持部材 16…軸 17…支持部材 40…ヒータ 50…赤外線ランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber 2 ... Outer cylinder part 3 ... Inner cylinder part 4 ... Building material 5 ... Air supply valve 6 ... Air supply pipe 7 ... Exhaust valve 8 ... Exhaust pipe 10a, 10b ... Jig 11 ... Truck 12 ... Pump 13 ... Collection material DESCRIPTION OF SYMBOLS 14 ... Lift 15 ... Grasping member 16 ... Shaft 17 ... Support member 40 ... Heater 50 ... Infrared lamp
Claims (18)
て評価するガス評価装置において、 一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチャン
バと、 前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手段と、 前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、 前記給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記
排気手段によって排気される空気の流量とを調整する流
量手段とを具備することを特徴とするガス評価装置。1. A gas evaluation apparatus for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a chamber having an open end and a gas collection chamber formed therein; Air supply means for supplying air; exhaust means for exhausting air in the collection chamber; flow rate for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means And a gas evaluation device.
て評価するガス評価装置において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、 前記外筒部と内筒部との間に形成される空間に清浄空気
を供給する給気手段と、 前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、 前記給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記
排気手段によって排気される空気の流量とを調整する流
量調整手段とを具備し、 前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部との間の空
間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気する通気部
が形成されていることを特徴とするガス評価装置。2. A gas evaluation apparatus for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a cylindrical outer cylinder having an open end; and a coaxial direction disposed inside the outer cylinder. A cylindrical inner cylindrical portion having an open end at the opening side of the outer cylindrical portion, and a chamber in which a gas collecting chamber is formed in the inner cylindrical portion; and the outer cylindrical portion and the inner cylindrical portion. An air supply unit for supplying clean air to a space formed between the air supply unit, an exhaust unit for exhausting air in the collection chamber, a flow rate of clean air supplied by the air supply unit, and exhaustion by the exhaust unit. Flow rate adjusting means for adjusting a flow rate of air to be supplied to the inside of the collection chamber from the space between the outer cylinder and the inner cylinder at the open end of the inner cylinder. A gas evaluation device, characterized in that a vent portion is formed.
記外筒部の開口端よりも軸方向の内側に位置することに
よって形成されていることを特徴とする請求項2記載の
ガス評価装置。3. The air vent according to claim 2, wherein the ventilation portion is formed such that an opening end of the inner cylinder portion is located axially inward of an opening end of the outer cylinder portion. Gas evaluation device.
手段は排気管を有し、前記流量調整手段は、前記給気管
を流れる清浄空気の流量を調整する給気バルブと、前記
排気手段を流れる空気の流量を調整する排気バルブとか
らなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項
記載のガス評価装置。4. The air supply means has an air supply pipe, the exhaust means has an exhaust pipe, and the flow rate adjustment means adjusts a flow rate of clean air flowing through the air supply pipe; 4. The gas evaluation device according to claim 1, further comprising an exhaust valve for adjusting a flow rate of air flowing through the exhaust unit.
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の
ガス評価装置。5. The gas evaluation device according to claim 1, wherein the chamber is made of transparent glass.
とを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載のガ
ス評価装置。6. The gas evaluation device according to claim 1, wherein a heating means is incorporated in the collection chamber.
質が付着しないようにコーティングを施したことを特徴
とする請求項2乃至5のいずれか1項記載のガス評価装
置。7. The gas evaluation device according to claim 2, wherein a coating is applied to a surface of the inner cylindrical portion so that a substance in the collection chamber does not adhere.
手段、及び前記流量調整手段を搭載した台車を具備し、 前記台車は、前記チャンバの開口側が自在に向きを変え
ることができるように該チャンバを支持する支持手段
と、前記チャンバを上下に移動可能に支持する昇降手段
とを備えたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか
1項記載のガス評価装置。8. A trolley equipped with the chamber, the air supply means, the exhaust means, and the flow rate adjusting means, wherein the trolley is configured such that an opening side of the chamber can freely change its direction. The gas evaluation apparatus according to claim 1, further comprising: a support unit configured to support the chamber, and a lifting unit configured to support the chamber so as to be movable up and down.
して該被評価物からのガス発生を促進する被評価物加熱
手段を具備することを特徴とする請求項1乃至8のいず
れか1項記載のガス評価装置。9. The apparatus according to claim 1, further comprising: an object heating means for heating the object to be evaluated by using infrared rays as a heat source to promote gas generation from the object to be evaluated. 2. The gas evaluation device according to claim 1.
プからなることを特徴とする請求項9記載のガス評価装
置。10. The gas evaluation apparatus according to claim 9, wherein said evaluation object heating means comprises an infrared lamp.
からなることを特徴とする請求項9記載のガス評価装
置。11. The gas evaluation apparatus according to claim 9, wherein said evaluation object heating means comprises a radiation panel.
バ自体に組み込まれていることを特徴とする請求項9乃
至11のいずれか1項記載のガス評価装置。12. The gas evaluation apparatus according to claim 9, wherein the evaluation object heating means is incorporated in the chamber itself.
バの内部に設置されていることを特徴とする請求項9乃
至11のいずれか1項記載のガス評価装置。13. The gas evaluation apparatus according to claim 9, wherein the evaluation object heating means is installed inside the chamber.
り、 前記被評価物加熱手段は、前記チャンバの外部に設置さ
れていることを特徴とする請求項9乃至11のいずれか
1項記載のガス評価装置。14. The apparatus according to claim 9, wherein the chamber is made of transparent glass, and the evaluation object heating means is provided outside the chamber. Gas evaluation device.
室内の空気を冷却する冷却手段を具備することを特徴と
する請求項9乃至14のいずれか1項記載のガス評価装
置。15. The gas evaluation device according to claim 9, further comprising a cooling unit configured to cool air in the collection chamber exhausted from the exhaust unit.
して評価するガス評価方法において、 一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチャン
バと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手段
と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給
気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手
段によって排気される空気の流量とを調整する流量調整
手段とを具備するガス評価装置を使用して、 前記チャンバの開口端側が前記被評価物の表面に接触す
るように配置し、前記流量調整手段により、前記給気手
段から供給される清浄空気の流量が前記排気手段によっ
て排気される空気の流量より大であるように調整するこ
とを特徴とするガス評価方法。16. A gas evaluation method for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a chamber having an open end and a gas collection chamber formed therein; Air supply means for supplying air, exhaust means for exhausting air in the collection chamber, flow rate for adjusting the flow rate of clean air supplied by the air supply means and the flow rate of air exhausted by the exhaust means Using a gas evaluation device including an adjustment unit, disposing the clean air supplied from the air supply unit by the flow rate adjustment unit by arranging the opening end side of the chamber to be in contact with the surface of the object to be evaluated. A gas flow rate adjusted by the exhaust means to be greater than a flow rate of air exhausted by the exhaust means.
して評価するガス評価方法において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との間に
形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、前記
捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手段に
よって供給される清浄空気の流量と前記排気手段によっ
て排気される空気の流量とを調整する流量調整手段とを
具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部と
の間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気す
る通気部が形成されているガス評価装置を使用して、 前記外筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触する
ように前記チャンバを配置し、前記流量調整手段によ
り、前記給気手段から供給される清浄空気の流量が前記
排気手段によって排気される空気の流量より大であるよ
うに調整し、前記給気手段によって前記外筒部と内筒部
との間に形成される空間に清浄空気を供給することによ
り該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排気手段
によって前記捕集室内の空気を排気することを特徴とす
るガス評価方法。17. A gas evaluation method for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a cylindrical outer cylindrical portion having one end opened; and a coaxial direction disposed inside the outer cylindrical portion. A cylindrical inner cylinder portion having an open end at the opening side of the outer cylinder portion, a chamber in which a gas collection chamber is formed in the inner cylinder portion, and the outer cylinder portion and the inner cylinder portion. An air supply unit for supplying clean air to a space formed between the air supply unit, an exhaust unit for exhausting air in the collection chamber, a flow rate of clean air supplied by the air supply unit, and exhaustion by the exhaust unit. Flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of air to be supplied to the inside of the collection chamber from the space between the outer cylinder and the inner cylinder at the open end of the inner cylinder. Using a gas evaluation device provided with a vent portion to be formed, the opening end side of the outer cylindrical portion is the object to be evaluated. Arranging the chamber so as to be in contact with the surface, and adjusting the flow rate adjusting means such that the flow rate of the clean air supplied from the air supply means is larger than the flow rate of the air exhausted by the exhaust means, The clean air is fed into the collection chamber by supplying clean air to a space formed between the outer cylinder and the inner cylinder by the air supply means, and the air in the collection chamber is supplied by the exhaust means. A gas evaluation method characterized by exhausting gas.
て評価するガス評価方法において、 一端が開口した筒状の外筒部と、この外筒部の内側に同
軸方向に配置され、前記外筒部の開口側の端部が開口し
た筒状の内筒部とを備え、前記内筒部内にガスの捕集室
が形成されたチャンバと、前記外筒部と内筒部との間に
形成される空間に清浄空気を供給する給気手段と、前記
捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手段に
よって供給される清浄空気の流量と前記排気手段によっ
て排気される空気の流量とを調整する流量調整手段とを
具備し、前記内筒部の開口端に、前記外筒部と内筒部と
の間の空間から前記捕集室内部に前記清浄空気を通気す
る通気部が形成されているガス評価装置を使用して、 前記流量調整手段によって前記給気手段による清浄空気
の供給及び前記排気手段による排気を停止させ、前記外
筒部の開口端側が前記被評価物の表面に接触するように
前記チャンバを配置し、前記被評価物の表面から発生す
るガスが前記捕集室内で拡散してこの捕集室内の気相と
前記被評価物とがガスの濃度平衡状態となるまで静置
し、その後前記給気手段によって清浄空気を供給するこ
とにより該清浄空気を前記捕集室内に送り込み、前記排
気手段によって前記捕集室内の空気を排気することを特
徴とするガス評価方法。18. A gas evaluation method for collecting and evaluating gas generated on the surface of an object to be evaluated, comprising: a cylindrical outer cylindrical portion having one end opened; and a coaxial direction disposed inside the outer cylindrical portion. A cylindrical inner cylinder portion having an open end at the opening side of the outer cylinder portion, a chamber in which a gas collection chamber is formed in the inner cylinder portion, and the outer cylinder portion and the inner cylinder portion. An air supply unit for supplying clean air to a space formed between the air supply unit, an exhaust unit for exhausting air in the collection chamber, a flow rate of clean air supplied by the air supply unit, and exhaustion by the exhaust unit. Flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of air to be supplied to the inside of the collection chamber from the space between the outer cylinder and the inner cylinder at the open end of the inner cylinder. Using a gas evaluation device provided with a ventilation part to be formed, the air supply means is controlled by the flow rate adjusting means. Supply of the clean air and exhaust by the exhaust means are stopped, and the chamber is arranged so that the opening end side of the outer cylindrical portion is in contact with the surface of the evaluation object, and the gas generated from the surface of the evaluation object Is diffused in the collection chamber, and the gas phase in the collection chamber and the object to be evaluated are allowed to stand until a gas concentration equilibrium state is reached, and then the clean air is supplied by the air supply means. A gas evaluation method, wherein air is sent into the collection chamber, and the air in the collection chamber is exhausted by the exhaust means.
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002162322A (en) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Daiwa House Ind Co Ltd | Device for measuring radiant quantity of hazardous chemical materials such as aldehyde, vco and the like at different spaces |
WO2003048738A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-12 | Gl Sciences Incorporated | Method for measuring gas generated by material |
WO2004051213A3 (en) * | 2002-11-22 | 2004-09-23 | Shinryo Eco Business Co Ltd | System and method for collecting chemical substance radiated from object under controlled environmental condition |
JP2006226745A (en) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Isuzu Motors Ltd | Voc collecting apparatus |
JP2006527694A (en) * | 2003-06-19 | 2006-12-07 | アイ エム エイ インダストリア マシーン オートマティック エス ピー エイ | Structure for sealing and isolating packaging equipment from the external environment |
JP2011027637A (en) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Shimizu Corp | Material evaluation method |
CN102374940A (en) * | 2011-09-15 | 2012-03-14 | 深圳市华测检测技术股份有限公司 | VOC (Volatile Organic Compound) sampling device |
JP2013057510A (en) * | 2011-09-06 | 2013-03-28 | Ishida Co Ltd | Article examination apparatus |
CN108614051A (en) * | 2018-07-04 | 2018-10-02 | 北京市劳动保护科学研究所 | A kind of device for accelerating building material surface polluted gas to distribute |
CN108918607A (en) * | 2018-05-15 | 2018-11-30 | 天津大学 | A kind of monitoring device on the spot of indoor building materials surface contamination gas emission intensity |
CN111735913A (en) * | 2020-07-07 | 2020-10-02 | 北京市劳动保护科学研究所 | In-situ detection device for building materials pollutants |
-
1999
- 1999-03-01 JP JP05317499A patent/JP3839988B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002162322A (en) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Daiwa House Ind Co Ltd | Device for measuring radiant quantity of hazardous chemical materials such as aldehyde, vco and the like at different spaces |
WO2003048738A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-12 | Gl Sciences Incorporated | Method for measuring gas generated by material |
WO2004051213A3 (en) * | 2002-11-22 | 2004-09-23 | Shinryo Eco Business Co Ltd | System and method for collecting chemical substance radiated from object under controlled environmental condition |
JP2006527694A (en) * | 2003-06-19 | 2006-12-07 | アイ エム エイ インダストリア マシーン オートマティック エス ピー エイ | Structure for sealing and isolating packaging equipment from the external environment |
JP2006226745A (en) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Isuzu Motors Ltd | Voc collecting apparatus |
JP2011027637A (en) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Shimizu Corp | Material evaluation method |
JP2013057510A (en) * | 2011-09-06 | 2013-03-28 | Ishida Co Ltd | Article examination apparatus |
CN102374940A (en) * | 2011-09-15 | 2012-03-14 | 深圳市华测检测技术股份有限公司 | VOC (Volatile Organic Compound) sampling device |
CN108918607A (en) * | 2018-05-15 | 2018-11-30 | 天津大学 | A kind of monitoring device on the spot of indoor building materials surface contamination gas emission intensity |
CN108918607B (en) * | 2018-05-15 | 2020-07-10 | 天津大学 | On-site monitoring device for emission intensity of pollution gas on indoor material surface |
CN108614051A (en) * | 2018-07-04 | 2018-10-02 | 北京市劳动保护科学研究所 | A kind of device for accelerating building material surface polluted gas to distribute |
CN108614051B (en) * | 2018-07-04 | 2024-05-24 | 北京市劳动保护科学研究所 | Device for accelerating emission of polluted gas on surface of building material |
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